KR20170076572A - 포커스 링의 온도 조절 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포커스 링의 온도 조절장치를 제공하며, 플라즈마로부터 포커스 링 위로 방출된 열이 포커스 링의 하부면을 접촉하는 제1열전도 정기선(pad), 제1열전도 정기선(pad)의 하부면을 접촉하는 절연링 및 절연링의 하부면을 접촉하는 제2열전도 정기선(pad)을 통하여 베이스 아래로 전달되어, 베이스에 설치된 냉각 시스템에 의해 냉각되며, 제어가능한 외부 열원을 발생하도록 접지 차폐 링에 배치된 가열기를 시동하여, 가열기로부터 열은 차폐링, 차폐링을 접촉하는 제3열전도 정기선(pad), 제3열전도 정기선(pad)을 접촉하는 절연링 및 제1열전도 정기선(pad)를 통하여 포커스 링으로 전달되어, 포커스 링에 제어가능한 온기(warming)를 실현한다. 제어가능한 열 힘과 함께 우수한 열 전도 경로를 제공함으로써, 본 발명은 에칭과 같은 공정에서 조정될 수 있도록 포커스 링의 작동 온도를 미세한 제어를 달성함으로써, 공정 수요를 만족시킬 수 있다.

Description

포커스 링의 온도 조절 장치 및 방법{A temperature adjusting apparatus and method for a focus ring}
본 발명은 반도체 소자의 제조 분야에 관한 것으로, 특히 포커스 링의 온도 조절 장치에 관한 것이다.
플라즈마 처리 장치는 적절한 에칭액 또는 증착 소스 가스를 포함하는 반응 가스를 진공 반응 챔버로 주입한 후, 진공 반응 챔버로 무선주파수 에너지를 입력하여 반응 가스를 활성화함으로써 플라즈마를 점화 및 유지한다. 이러한 방법은, 플라즈마를 통하여 기판 표면 위로 재료층이 에칭되거나, 기판 표면 위로 재료층이 증착되어, 반도체 기판을 처리한다.
도 1에서와 같이, 현재 사용되는 캐패시턴스 결합형 플라즈마 처리 장치(capacitance-coupling plasma processing apparatus)는 진공 반응 챔버(1)를 포함한다. 반응 챔버(1) 내 상부에 설치되는 가스 샤워 헤드(2)와 같은 가스 주입 수단은 상부 전극의 기능을 구현하여, 샤워 헤드를 접지 또는 무선주파수 포텐셜(potential)에 결합시킨다. 베이스(3)는 반응 챔버(1) 내 저면에 설치된다. 베이스(3)에 설치되는 정전 척(electrostatic chuck)은 공정 동안 기판(4)을 지지한다. 하부 전극은 베이스(3)에 설치된다. 하부 전극에 대해 무선 주파수 에너지가 적용됨으로써, 무선 주파수 전기장이 반응 챔버(1) 내에 형성되고, 플라즈마가 유도된 반응가스로부터 발생된다. 포커스 링(5)은 베이스(3)의 외부 가장자리를 감싸도록 설치된다. 반응 챔버(1) 내에 전체 무선 주파수 전기장의 분포를 조절함으로써, 특히, 기판(4)의 가장자리에 전기장의 분포를 조절함으로써, 포커스 링(5)은 플라즈마 균일성의 조절(regulation)을 달성한다.
전기적 효과를 제외하고, 포커스 링(5)의 온도는 또한 기판(4)의 가장자리에 폴리머의 증착에 영향을 주어, 최소 선폭(critical dimension)의 오차를 야기시킬 수 있다. 고 애스펙트 비(aspect ratio) 공정에 대한 에칭 기술의 요구와 함께, 반응 챔버(1) 내 온도의 급격한 상승을 초래하는 고출력(저주파수) 에칭 공정이 널리 사용되어, 기판(4) 및 포커스 링(5)에 많은 열이 가하게 된다. 기판(4)의 에칭 균일성을 보장하기 위하여, 베이스(3)의 온도를 유지하는 냉각 시스템의 냉각 매개질 파이프라인이 베이스(3) 내에 설치되고, 기판(4)은 정전 척 및 베이스(3)를 통하여 급속 열 제거를 직접 수행한다. 이와 함께, 포커스 링(5)이 양호한 열 전달 경로가 결여되면, 기판(4)과의 온도 차가 커질 수 있다. 이것은 기판(4)의 가장자리에 에칭 기술의 미스튜닝(mistuning)을 야기할 수 있다.
열 전도 층인 절연링(6)은 일반적으로 포커스 링(5)의 열을 베이스(3)로 전달하도록 포커스 링(5)의 아래에 설치된다. 그러나, 상이한 공정은 포커스 링(5)의 상이한 작동 온도를 필요로 한다. 종래 기술은 단지 포커스 링(5)의 열 전달 성능을 향상시키는 방법 또는 그 온도를 유지시키는 방법에 관한 것이고, 추가로 포커스 링(5)의 작동 온도를 제어 및 조절하는 것에 대해서는 없다. 추가로, 포커스 링(5)은 무선 주파수 고온 영역 내에 위치되며, 가열기와 같은 온도 조절 장치가 포커스 링(5)에 직접적으로 설치되면, 선로 배치가 복잡해질 뿐만 아니라, 고 주파스 전력을 필터링하는 필터가 설치되어야 하며, 그렇지 않으면, 무선 주파수 간섭이 발생할 수 있어 전체 장치의 공정 효과에 영향을 주게 된다.
본 발명은 포커스 링의 온도 조절 장치를 제공한다. 제어 가능한 열 힘(heating power)과 함께 우수한 열 전도 경로를 제공함으로써, 포커스 링의 작동 온도의 미세 제어가 달성될 수 있으며, 작동 온도가 에칭과 같은 공정에서 조정가능하여 공정 수요를 만족할 수 있다.
상술한 목적을 위하여, 본 발명은 포커스 링의 조절 장치를 제공하며, 이 장치는 플라즈마 처리 장치에 설치된다.
상기 플라즈마 처리 장치는 내부에는 기판을 처리하는 플라즈마가 형성되며 진공상태인 반응챔버; 상기 반응챔버 내부 저면에 배치되는 기판을 지지하는 베이스; 상기 기판의 외부 가장자리를 둘러싸도록 설치되는 포커스링; 상기 포커스링 아래에 설치되는 절연링을 포함하며, 상기 절연링은 상기 베이스의 주변 단부에 위치된다.
상기 온도 조절장치는 상기 베이스의 말단에 상기 외부 단부의 가장자리 및 상기 절연링의 가장자리를 감싸는 접지 차폐링에 설치되는 가열기; 상기 차폐 링 및 절연 링이 서로 접하는 부분에 설치되는 열전도 정기선(pad)을 포함하며, 상기 가열기로부터 열은 상기 차폐 링, 상기 열전도 정기선(pad) 및 상기 절연 링을 통하여 상기 포커스 링으로 전달되어, 상기 포커스 링의 온도를 조절한다.
바람직하게, 상기 차폐 링 및 상기 절연 링이 서로 접하는 부분에 제3열전도 정기선(pad)이 설치되고, 상기 온도 조절 장치는 상기 포커스 링 및 상기 절연 링이 서로 접하는 부분에 설치되는 제1열전도 정기선(pad)을 더 포함하며, 상기 차폐 링, 제3열전도 정기선(pad), 상기 절연 링 및 상기 제1열전도 정기선(pad)을 통하여 상기 포커스 링으로 열이 전달되어, 상기 포커스 링의 온도를 조절한다.
바람직하게, 상기 온도 조절 장치는 상기 절연 링 및 상기 베이스가 서로 접하는 부분에 설치되는 제2열전도 정기선(pad)을 더 포함한다.
상기 플라즈마로부터 상기 포커스 링으로 방출되는 열은 상기 제1열전도 정기선(pad), 상기 절연 링 및 제2열전도 정기선(pad)을 통하여 상기 베이스에 전달되며, 상기 열은 상기 베이스에 냉각 시스템으로부터 제거된다.
바람직하게, 상기 제1열전도 정기선(pad), 상기 제2열전도 정기선(pad) 및 상기 제3열전도 정기선(pad)은 엘라스틱 실리카겔 재료로 형성된다.
바람직하게, 상기 차폐 링은 상부 차폐부와, 하부 차폐부를 포함하며, 상기 가열기는 상기 상부 차폐부 내에 설치된다.
상기 상부 차폐부 및 상기 하부 차폐부는 서로 이격되어, 상기 가열기에서 제공되는 열이 상기 하부 차폐부로 전달되는 것을 방지한다.
상기 상부 차폐부 및 상기 하부 차폐부는 전극을 통하여 전기적으로 연결된다.
바람직하게, 상기 상부 차폐부는 수평 연장단(horizontal extension sement) 및 수직 연장단(vertical extension segment)를 포함하며, 상기 수평 연장단은 상기 절연 링의 주변 단부에 위치되며, 상기 수직 연장단은 상기 절연 링의 외부 가장자리를 감싼다.
상기 하부 차폐부는 상기 베이스의 가장자리를 감싼다.
바람직하게, 갭은 상기 차폐 링을 상기 상부 차폐부 및 상기 하부 차폐부로 분할하며, 상기 하부 차폐부의 상부면과 하부면은 양극산화되거나 갭을 절연매체로 채운다.
바람직하게, 상기 온도조절 장치는 상기 포커스 링의 온도를 감지하는 온도 센싱 프로브를 포함한다.
필터는 전기적 신호를 발생하는 상기 온도 감지 프로브와 연결되는 무선 주파수를 차폐한다.
또는, 광학 신호를 발생시키는 상기 온도 센싱 프로브는 광 섬유를 통하여 비무선 주파수 영역으로 유도하여 샘플링 처리한다.
바람직하게, 상기 플라즈마 처리 장치는 상기 포커스 링의 가장자리를 감싸며, 상기 포커스 링에 의해 차폐되지 않는 상기 절연 링 부분 및 상기 차폐 링을 커버하는 커버링이 설치된다.
본 발명은 또한 포커스 링의 온도 조절 방법을 제공하며, 다음을 포함한다.
플라즈마 처리 장치의 포커스 링에 독립적 또는 협력으로 냉각을 실현하는 냉각 절차 및 제어가능한 온기(warming) 절차를 실행한다.
플라즈마로부터 포커스 링으로 방출된 열은 포커스 링의 하부면을 접하는 제1열전도 정기선(pad), 제1열전도 정기선(pad)의 하부면을 접하는 절연 링 및 절연링의 하부면을 접하는 제2열전도 정기선(pad)을 통하여 제2열전도 정기선(pad)를 접하는 베이스의 아래로 전달되며, 베이스에 설치된 냉각 시스템에 의해 냉각된다.
접지 차폐 링에 설치한 가열기를 작동하여 제어 가능한 외부 열원을 발생시키며, 가열기로부터 열은 차폐 링, 차폐 링과 접하는 제3열전도 정기선(pad), 제3열전도 정기선(pad)을 접하는 절연 링 및 제1열전도 정기선(pad)을 통하여 포커스 링으로 전달되며, 포커스 링에 제어 가능한 온기(warming)를 실행한다.
같은 이점이 있다. 본 발명에서, 포커스 링의 온도 제어는 냉각 모드의 독립적인 구현 또는 제어 가능한 가열 모드와 함께 냉각 모드의 협력 구현에 의해 구현된다. 냉각 모드에서, 플라즈마로부터 포커스 링에 방출된 열은 두 층의 실리카겔 열 전도 정기선(pad) 및 그들 사이에 배치되는 세라믹 절연 링을 통하여 온도 제어 알루미늄 베이스 상으로 안내된다. 제어 가능한 가열 모드에서, 열을 발생하는 가열기는 접지된 차폐 링에 배치되며, 상부 및 하부로 분할된 접지된 차폐 링은 열을 차단하고, 상부 및 하부는 접지된 전기 전도 기능을 구현하도록 전극으로 전기적으로 연결되어 무선 주파수 간섭을 피할 수 있다. 실리카 젤 열 전달 정기선(pad)의 우수한 열 전도 성능과 함께, 포커스 링의 온도의 큰 진폭 조절이 실현되어, 플라즈마 처리 기술이 개선된다.
도 1은 종래의 플라즈마 처리 장치의 개략적인 구성을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 포커스의 온도 조절 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
본 발명은 캐패시턴스 결합형 플라즈마 처리 장치에 적용되는 포커스 링의 온도 조절 장치를 제공한다. 도 2 및 도 3에서와 같이, 대체로 내부가 진공 환경을 갖는 플라즈마 처리 장치는 반응 챔버(10)를 포함하며, 진공 챔버 내 상부에는 반응 가스 원과 연결되는 가스 샤워 헤드(20)와 같은 가스 주입 수단이 설치되며, 주입 수단은 접지된 상부 전극이 배치된다. 기판(40)을 지지하는 베이스(30)는 반응 챔버(10) 내 저면에 배치된다. 베이스(30)는 알루미늄으로 제조될 수 있다. 냉각 매개질 파이프라인은 베이스(30) 내측에 설치되어 냉각 시스템과 연결된다. 하부 전극은 무선 주파수력을 적용하기 위하여 베이스(30)에 설치된다. 무선 주파수 전기장은 상부 전극 및 하부 전극 사이에 형성되어 반응 챔버(10)로 유입된 반응 가스로부터 공정에 필요한 플라즈마를 발생시킨다.
포커스 링(50)은 플라즈마의 균일성을 제어하기 위하여 처리될 기판(40)의 외부 가장자리를 감싸도록 설치된다. 본 발명에 따른 온도 조절 장치는 포커스 링(50) 아래에 배치된 절연 링(60)을 포함한다. 절연링(60)은 베이스(30)의 주변 단부에 배치된다. 절연링(60)은 세라믹 재질로 제조될 수 있다. 절연 링(60)을 통하여, 플라즈마로부터 포커스 링(50)으로 방출된 열은 반응 챔버(10) 내 전기장 분포에 영향을 주지 않고 베이스(30) 아래로 전달된다.
제1열전도 정기선(pad)(91)은 포커스 링(50)과 절연링(60)이 서로 접하는 부분에 설치되며, 제2열전도 정기선(pad)(92)은 절연링(60)과 베이스(30)가 서로 접하는 부분에 설치된다. 제1열전도 정기선(pad, 91) 및 제2열전도 정기선(pad, 92)은 엘라스틱 실리카겔 재료로 형성될 수 있고, 그 상하 구성품의 접촉면에 안정적으로 부착될 수 있다. 포커스 링(50)의 열은 제1열전도 정기선(pad, 91), 절연링(60) 및 제2열전도 정기선(pad, 92)을 통하여 베이스(30)로 전달되며, 열은 베이스(30)에 배치된 냉각 시스템에 의해 제거된다.
한편, 본 발명에 따른 온도 조절 장치는 접지된 차폐 링(70)에 배치되는 가열기(73)를 더 포함한다. 가열기(73)가 시동될 때, 열은 포커스 링(50)의 온도를 조절하도록 형성된다. 제3열전도 정기선(pad, 93)은 접지된 차폐링(70)과 절연링(60)이 서로 접촉하는 부분에 설치된다. 제3열전도 정기선(pad, 93)은 엘라스틱 실리카겔 재료로 형성될 수 있다. 가열기의 열은 차폐링(70), 제3열전도 정기선(pad, 93), 절연링(60) 및 제1열전도 정기선(pad, 91)을 통하여 포커스 링(50)으로 전달된다. 차폐링(70)은 절연링(60)의 외부 가장자리를 감싸도록 배치되어 플라즈마가 주로 기판(40) 상에 한정되어 발산하는 것을 방지한다. 가열기(73)가 접지된 차폐링(70) 내에 피복되므로, 무선주파수 간섭을 효과적으로 피할 수 있다.
차폐링(70)은 상부 차폐부(71) 및 하부 차폐부(72)를 포함하며, 가열기(73)는 상부 차폐부(71)에 배치된다. 일례로서, 상부 차폐부(71)의 수평 연장단은 절연링(60) 가장자리의 단부에 위치되고, 수직 연장단은 절연링(60)의 외부 가장자리를 감싸며, 하부 차폐부(72)는 절연링(60) 아래의 베이스(30) 가장자리의 단부 외측을 감싼다. 상부 차폐부(71) 및 하부 차폐부(72)의 메인 바디는 서로 이격되어 단열을 구현하며, 상부 차폐부(71) 및 하부 차폐부(72)는 전극(74)에 의해 전기적으로 연결되어 차폐링(70)의 접지 및 전기 전도 기능을 실현한다. 차폐 링(70)의 갭, 하부 차폐부의 상면 및 하부면이 양극산화되거나 가열기로부터 열이 아래로 손실되지 않도록 갭이 절연 요소로 채워진다.
플라즈마 장치에는 포커스 링(50)의 외부 가장자리를 감싸고, 포커스 링에 의해 차폐되지 않은 절연링(60) 부분 및 차폐링(70)과 같은 소자를 커버하는 커버링(80)이 설치되어, 플라즈마의 활성 요소로부터 커버링(80) 아래 소자에 대한 침식을 방지한다.
포커스 링(50)의 열 온도를 정밀하게 제어하기 위하여, 온도 센싱 프로브(미도시)가 포커스 링(50)의 온도를 탐지할 수 있다. 탐지후 전기적 신호를 발생하는 온도 센싱 프로브에 무선 주파수를 차폐할 수 있는 필터가 필요하다. 또는, 광학 신호에 기반하는 온도 센싱 프로브가 탐지된 다른 온도에 대하여 상이한 스펙트럼 또는 파장의 광학 신호를 방출하는데 사용될 수 있으며, 광학 신호는 추가 샘플링 처리를 위해 비무선 주파수 영역으로 광섬유를 통해 유도된다.
본 발명에 따른 포커스 링의 온도 조절방법은, 플라즈마로부터 포커스 링(50)위로 방출된 열은 주로 제1열전도 정기선(pad, 91), 절연링(60) 및 제2열전도 정기선(pad, 92)을 통하여 베이스(30)로 전달되어 냉각되고, 이러한 열 전도 냉각 경로에 기반하여, 포커스 링(50)의 온도가 낮아지고, 냉각된 포커스 링(50)이 제1온도에 있다고 가정한다.
제1온도가 특정 공정에서 포커스 링(50)에 대해 규정된 제2온도보다 낮으면, 종래 기술은 포커스 링(50)의 온도를 더 조절하는 수단이 없다. 그러나, 본 발명에서는 차폐링(70)에 가열기(73)가 시동됨으로써, 제어가능한 외부 열원이 포커스 링(50)에 제공된다. 가열기로부터 열은 차폐링(70), 제3열전도 정기선(pad, 93), 절연링(60) 및 제1열전도 정기선(pad, 91)을 통하여 포커스 링으로 전달되어, 포커스 링(50)을 따뜻하게 한다. 가열기(73)의 힘을 조절함으로써, 가열기에 의해 포커스 링(50)에 제공된 열은 포커스 링(50)이 필요한 제2온도에 도달할 때까지 제어되어, 포커스 링(50)의 작동 온도의 제어 및 조절을 실현하며, 그에 따라 만족하는 공정 수요를 만족시킨다.
본 발명의 내용이 상기 바람직한 실시예를 통해 상세하게 설명되었지만, 상기 설명은 본 발명의 제한으로 간주되어서는 안됨을 이해해야 한다. 상기 내용을 열람한 후에, 본 발명에 대한 다양한 수정 및 변경이 당업자에게는 자명할 것이다. 따라서, 본 발명의 보호 범주는 첨부된 청구범위에 의해 한정되어야 한다.
10 : 반응챔버 20 : 가스 샤워 헤드
30 : 베이스 40 : 기판
50 : 포커스 링 60 : 절연링
70 : 가열기 71 : 상부 차폐부
72 : 하부 차폐부 80 : 커버링
91 : 제1열전도 정기선 92 : 제2열전도 정기선
93 : 제3열전도 정기선

Claims (9)

  1. 플라즈마 처리 장치에 설치되는 포커스 링의 온도 조절장치로서,
    상기 플라즈마 처리 장치는 내부에는 기판(40)을 처리하는 플라즈마가 형성되며 진공상태인 반응챔버(10); 상기 반응챔버(10) 내부 저면에 배치되는 기판(40)을 지지하는 베이스(30); 상기 기판(40)의 외부 가장자리를 둘러싸도록 설치되는 포커스 링(50); 상기 포커스 링(50) 아래에 설치되는 절연링(60)을 포함하되,
    상기 절연링(60)은 상기 베이스(30)의 주변 단부에 위치되며,
    상기 온도 조절장치는 상기 베이스(30)의 말단에 상기 단부의 외부 가장자리 및 상기 절연링(60)의 가장자리를 감싸는 접지 차폐링(70)에 설치되는 가열기(73); 상기 차폐링(70) 및 절연링(60)이 서로 접하는 부분에 설치되는 열전도 정기선(pad)(93)를 포함하며,
    상기 가열기로부터 열은 상기 차폐링(70), 상기 열전도 정기선(pad, 93) 및 상기 절연링(60)을 통하여 상기 포커스 링(50)으로 전달되어, 상기 포커스 링(50)의 온도를 조절하는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 차폐 링(70) 및 상기 절연 링(60)이 서로 접하는 부분에 제3열전도 정기선(pad)이 설치되고,
    상기 포커스 링(50) 및 상기 절연 링(60)이 서로 접하는 부분에 설치되는 제1열전도 정기선(pad, 91)을 더 포함하며,
    상기 차폐 링(70), 제3열전도 정기선(pad, 93), 상기 절연 링(60) 및 상기 제1열전도 정기선(pad, 91)을 통하여 상기 포커스 링(50)으로 열이 전달되어, 상기 포커스 링(50)의 온도를 조절하는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 절연 링(60) 및 상기 베이스(30)가 서로 접하는 부분에 설치되는 제2열전도 정기선(pad, 92)를 더 포함하며;
    상기 플라즈마로부터 상기 포커스 링(50)으로 방출되는 열은 상기 제1열전도 정기선(pad, 91), 상기 절연 링(60) 및 제2열전도 정기선(pad, 92)을 통하여 상기 베이스(30)에 전달되며, 상기 열은 상기 베이스(30)에 냉각 시스템으로부터 제거되는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제1열전도 정기선(pad, 91), 상기 제2열전도 정기선(pad, 92) 및 상기 제3열전도 정기선(pad, 93)는 엘라스틱 실리카겔 재료로 형성되는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 차폐 링(70)은 상부 차폐부(71)와, 하부 차폐부(72)를 포함하며,
    상기 가열기(73)는 상기 상부 차폐부(71) 내에 설치되고,
    상기 상부 차폐부(71) 및 상기 하부 차폐부(72)는 서로 이격되어, 상기 가열기(73)에서 제공되는 열이 상기 하부 차폐부(72)로 전달되는 것을 방지하며,
    상기 상부 차폐부(71) 및 상기 하부 차폐부(72)는 전극(74)을 통하여 전기적으로 연결되는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 상부 차폐부(71)는 수평 연장단(horizontal extension sement) 및 수직 연장단(vertical extension segment)를 포함하며, 상기 수평 연장단은 상기 절연 링(60)의 주변 단부에 위치되며, 상기 수직 연장단은 상기 절연 링(60)의 외부 가장자리를 감싸며,
    상기 하부 차폐부(72)는 상기 베이스(30)의 가장자리를 감싸는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    갭은 상기 차폐 링(70)을 상기 상부 차폐부(71) 및 상기 하부 차폐부(72)로 분할하며,
    상기 하부 차폐부의 상부면과 하부면은 양극산화되거나 갭을 절연 요소로 채우는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  8. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 온도조절 장치는 상기 포커스 링(50)의 온도를 감지하는 온도 센싱 프로브;
    전기적 신호를 발생하는 상기 온도 감지 프로브와 연결되는 무선 주파수를 차폐하는 필터;를 더 포함하며,
    또는, 광학 신호를 발생시키는 상기 온도 센싱 프로브는 광 섬유를 통하여 비무선 주파수 영역으로 유도하여 샘플링 처리하는 포커스 링의 온도 조절 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리 장치는 상기 포커스 링의 외부 가장자리를 감싸며, 상기 포커스 링에 의해 차폐되지 않는 상기 절연 링 부분 및 상기 차폐 링을 커버하는 커버링(80)이 설치되는 포커스 링의 온도 조절 장치.
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