KR20170053590A - 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 - Google Patents
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- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 32
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 300
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 84
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 62
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 59
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 58
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 50
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 47
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 19
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-VVKOMZTBSA-N Dideuterium Chemical compound [2H][2H] UFHFLCQGNIYNRP-VVKOMZTBSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 12
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 10
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 9
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- JYNZIOFUHBJABQ-UHFFFAOYSA-N allyl-{6-[3-(4-bromo-phenyl)-benzofuran-6-yloxy]-hexyl-}-methyl-amin Chemical compound C=1OC2=CC(OCCCCCCN(C)CC=C)=CC=C2C=1C1=CC=C(Br)C=C1 JYNZIOFUHBJABQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 459
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 138
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 135
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 109
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 105
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 83
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 74
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 59
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 49
- -1 Ethylhexyl group Chemical group 0.000 description 46
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 40
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 35
- 101100030361 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-3 gene Proteins 0.000 description 34
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 34
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 34
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 33
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 25
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 18
- DDGPPAMADXTGTN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4,6-diphenyl-1,3,5-triazine Chemical compound N=1C(Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC=1C1=CC=CC=C1 DDGPPAMADXTGTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 11
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 9
- VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N sphos Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 8
- IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N bis(pinacolato)diboron Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- SSJXIUAHEKJCMH-PHDIDXHHSA-N (1r,2r)-cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound N[C@@H]1CCCC[C@H]1N SSJXIUAHEKJCMH-PHDIDXHHSA-N 0.000 description 5
- GGMDFPMASIXEIR-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3-chloro-5-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC(Cl)=CC(Br)=C1 GGMDFPMASIXEIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJICRIUYZZESMW-UHFFFAOYSA-N 2-bromodibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(Br)=CC=C3SC2=C1 IJICRIUYZZESMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- UJORPFQWUKFXIE-UHFFFAOYSA-N 2-[1-[(4-ethoxy-2,6-difluorophenyl)methyl]-5,6-dihydro-4h-cyclopenta[c]pyrazol-3-yl]-5-methoxy-n-pyridin-4-ylpyrimidin-4-amine Chemical compound FC1=CC(OCC)=CC(F)=C1CN1C(CCC2)=C2C(C=2N=C(NC=3C=CN=CC=3)C(OC)=CN=2)=N1 UJORPFQWUKFXIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 4
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- HNZUKQQNZRMNGS-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromophenyl)-4,6-diphenyl-1,3,5-triazine Chemical compound BrC1=CC=CC(C=2N=C(N=C(N=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HNZUKQQNZRMNGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AYHGAQGOMUQMTR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromophenyl)-4,6-diphenyl-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 AYHGAQGOMUQMTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004801 4-cyanophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(C#N)=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 3
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N oxalic acid Substances OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N xphos Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSAOVBUSKVZIBE-UHFFFAOYSA-N (9-phenylcarbazol-2-yl)boronic acid Chemical compound C=1C(B(O)O)=CC=C(C2=CC=CC=C22)C=1N2C1=CC=CC=C1 XSAOVBUSKVZIBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVAOYMNWVVRUPL-UHFFFAOYSA-N 11,11-dimethyl-5h-indeno[1,2-b]carbazole Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1C=C1C3=CC=CC=C3C(C)(C)C1=C2 MVAOYMNWVVRUPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPGIIKKUKINTGW-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-4,6-diphenylpyrimidine Chemical compound N=1C(Br)=NC(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 GPGIIKKUKINTGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMLDYQBWZHPGJA-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-9h-carbazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 IMLDYQBWZHPGJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydro-1,2-dioxine Chemical compound C1OOCC=C1 JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-M 4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000434 field desorption mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000004857 imidazopyridinyl group Chemical group N1C(=NC2=C1C=CC=N2)* 0.000 description 2
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- UEEXRMUCXBPYOV-UHFFFAOYSA-N iridium;2-phenylpyridine Chemical compound [Ir].C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 UEEXRMUCXBPYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004625 phenanthrolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- JGAVTCVHDMOQTJ-UHFFFAOYSA-N (4-carbazol-9-ylphenyl)boronic acid Chemical compound C1=CC(B(O)O)=CC=C1N1C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 JGAVTCVHDMOQTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWJQEUDGBZMPAX-UHFFFAOYSA-N (9-phenylcarbazol-3-yl)boronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC(B(O)O)=CC=C2N1C1=CC=CC=C1 JWJQEUDGBZMPAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- 0 *[n]1c2cc(-c3cc(-c(cc4c5ccccc55)ccc4[n]5[As])cc4c3OC3C=CC=CC43)ccc2c2ccccc12 Chemical compound *[n]1c2cc(-c3cc(-c(cc4c5ccccc55)ccc4[n]5[As])cc4c3OC3C=CC=CC43)ccc2c2ccccc12 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylbut-2-enedinitrile Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C#N)=C(C#N)C1=CC=CC=C1 VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWLCIOKUOGGKKK-UHFFFAOYSA-N 2,7-diphenyl-9h-carbazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C2C3=CC=C(C=4C=CC=CC=4)C=C3NC2=C1 NWLCIOKUOGGKKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRJISNQTZDMKQD-UHFFFAOYSA-N 2-bromodibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(Br)=CC=C3OC2=C1 CRJISNQTZDMKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- QNGVEVOZKYHNGL-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4,6-diphenylpyrimidine Chemical compound N=1C(Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 QNGVEVOZKYHNGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WONYVCKUEUULQN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylphenyl)aniline Chemical group CC1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1C WONYVCKUEUULQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTMODJXOTWYBOZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-phenylaniline Chemical group CC1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1 JTMODJXOTWYBOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAZFONAGXSBJMR-UHFFFAOYSA-N 5-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)benzene-1,3-dicarbonitrile Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C1=CC(C#N)=CC(C#N)=C1 FAZFONAGXSBJMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYZGAMBQUKTSIJ-UHFFFAOYSA-N 5h-[1]benzofuro[3,2-c]carbazole Chemical compound C1=CC=C2OC3=C4C5=CC=CC=C5NC4=CC=C3C2=C1 XYZGAMBQUKTSIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPHLAWPEXYBGTP-UHFFFAOYSA-N 5h-[1]benzothiolo[3,2-c]carbazole Chemical compound C1=CC=C2SC3=C4C5=CC=CC=C5NC4=CC=C3C2=C1 NPHLAWPEXYBGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSMRRZONCYIFNB-UHFFFAOYSA-N 6,11-dihydro-5h-benzo[b][1]benzazepine Chemical group C1CC2=CC=CC=C2NC2=CC=CC=C12 ZSMRRZONCYIFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- WTFUTSCZYYCBAY-SXBRIOAWSA-N 6-[(E)-C-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-N-hydroxycarbonimidoyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C/C(=N/O)/C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 WTFUTSCZYYCBAY-SXBRIOAWSA-N 0.000 description 1
- DFGKGUXTPFWHIX-UHFFFAOYSA-N 6-[2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]acetyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 DFGKGUXTPFWHIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 6-[5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-4,5-dihydro-1,2-oxazol-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC1CC(=NO1)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonohexylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCP(O)(O)=O WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAVZDBIKIOWDQF-UHFFFAOYSA-N 7,7-dimethyl-5h-indeno[2,1-b]carbazole Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1C=C1C(C)(C)C3=CC=CC=C3C1=C2 UAVZDBIKIOWDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000284156 Clerodendrum quadriloculare Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical group CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical group C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAPKZHDYMQZCB-UHFFFAOYSA-N N-[2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethyl]-2-oxo-3H-1,3-benzoxazole-6-carboxamide Chemical compound C1CN(CCN1CCNC(=O)C2=CC3=C(C=C2)NC(=O)O3)C4=CN=C(N=C4)NC5CC6=CC=CC=C6C5 NEAPKZHDYMQZCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-amine Chemical group C1=CC=C2C=C3C(N)=CC=CC3=CC2=C1 YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000006616 biphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- YMHQVDAATAEZLO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diamine Chemical compound NC1(N)CCCCC1 YMHQVDAATAEZLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000005265 dialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005266 diarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005331 diazinyl group Chemical group N1=NC(=CC=C1)* 0.000 description 1
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000597 dioxinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 125000005303 dithiazolyl group Chemical group S1SNC(=C1)* 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003838 furazanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005241 heteroarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N indane Chemical group C1=CC=C2CCCC2=C1 PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFWKNMBLIMXKDM-UHFFFAOYSA-N n-methylanthracen-1-amine Chemical group C1=CC=C2C=C3C(NC)=CC=CC3=CC2=C1 NFWKNMBLIMXKDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005184 naphthylamino group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)N* 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 239000007773 negative electrode material Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005247 tetrazinyl group Chemical group N1=NN=NC(=C1)* 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004305 thiazinyl group Chemical group S1NC(=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005033 thiopyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003960 triphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
본 출원은 유기 발광 소자의 수명, 효율, 전기 화학적 안정성 및 열적 안정성을 크게 향상시킬 수 있는 헤테로고리 화합물, 및 상기 헤테로고리 화합물이 유기 화합물층에 함유되어 있는 유기 발광 소자를 제공한다.
Description
본 출원은 2015년 11월 6일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2015-0155886호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 출원은 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자에 관한 것이다.
전계 발광 소자는 자체 발광형 표시 소자의 일종으로서, 시야각이 넓고, 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다.
유기 발광 소자는 2개의 전극 사이에 유기 박막을 배치시킨 구조를 가지고 있다. 이와 같은 구조의 유기 발광 소자에 전압이 인가되면, 2개의 전극으로부터 주입된 전자와 정공이 유기 박막에서 결합하여 쌍을 이룬 후 소멸하면서 빛을 발하게 된다. 상기 유기 박막은 필요에 따라 단층 또는 다층으로 구성될 수 있다.
유기 박막의 재료는 필요에 따라 발광 기능을 가질 수 있다. 예컨대, 유기 박막 재료로는 그 자체가 단독으로 발광층을 구성할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있고, 또는 호스트-도펀트계 발광층의 호스트 또는 도펀트 역할을 할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있다. 그 외에도, 유기 박막의 재료로서, 정공 주입, 정공 수송, 전자 차단, 정공 차단, 전자 수송, 전자 주입 등의 역할을 수행할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있다.
유기 발광 소자의 성능, 수명 또는 효율을 향상시키기 위하여, 유기 박막의 재료의 개발이 지속적으로 요구되고 있다.
유기 발광 소자에서 사용 가능한 물질에 요구되는 조건, 예컨대 적절한 에너지 준위, 전기 화학적 안정성 및 열적 안정성 등을 만족시킬 수 있으며, 치환기에 따라 유기 발광 소자에서 요구되는 다양한 역할을 할 수 있는 화학 구조를 갖는 화합물을 포함하는 유기 발광 소자에 대한 연구가 필요하다.
본 출원의 일 실시상태는, 하기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 내지 3에서,
Ar1 내지 Ar6은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
R1 내지 R9는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
m, n, o, p, q, r, s, t 및 u는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는, 양극, 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상이 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는, 상기 헤테로고리 화합물을 포함하는 유기물층은 하기 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자를 제공한다:
[화학식 4]
상기 화학식 4에서,
L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴렌기이고,
Ar7은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이며,
Ar8는 하기 화학식 6 또는 7로 표시되며,
[화학식 6]
[화학식 7]
Y1 내지 Y4는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 방향족 탄화수소 고리; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 방향족 헤테로고리이고,
R10 내지 R16은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
[화학식 5]
상기 화학식 5에서,
X1 내지 X3 중 적어도 하나는 N 이고, 나머지는 각각 독립적으로 N 또는 CR35이며,
R17, R18 및 R35는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R19 내지 R21, 및 R27 내지 R30은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R31 내지 R34는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 탄화수소 고리 또는 헤테로고리를 형성하며,
R22 내지 R26 중 적어도 하나는 -CN이고, 나머지는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 유기 발광 소자의 유기물층 재료로서 사용할 수 있다. 상기 헤테로고리 화합물은 유기 발광 소자에서 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 등의 재료로서 사용될 수 있다. 특히, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물은 유기 발광 소자의 전자 수송층, 정공 수송층 또는 발광층의 재료로서 사용될 수 있다. 또한, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물을 유기 발광 소자에 사용하는 경우 소자의 구동전압을 낮추고, 광효율을 향상시키며, 화합물의 열적 안정성에 의하여 소자의 수명 특성을 향상시킬 수 있다.
특히, 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는, 발광층의 호스트 물질로서 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 동시에 포함함으로써, 단일 화합물을 호스트 물질로서 적용한 유기 발광 소자보다 구동, 효율, 수명 모두 현저히 개선된 특성을 나타낼 수 있다.
도 1 내지 도 3은 각각 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 적층구조를 개략적으로 나타낸 도이다.
이하 본 출원에 대해서 자세히 설명한다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 한다. 보다 구체적으로, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물은 상기와 같은 코어 구조 및 치환기의 구조적 특징에 의하여 유기 발광 소자의 유기물층 재료로 사용될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1 내지 3의 R1 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 중수소일 수 있다.
본 출원에 있어서, 상기 화학식들의 치환기들을 보다 구체적으로 설명하면 하기와 같다.
본 명세서에 있어서, "치환 또는 비치환"이란 중수소; 할로겐기; -CN; C1 내지 C60의 알킬기; C2 내지 C60의 알케닐기; C2 내지 C60의 알키닐기; C3 내지 C60의 시클로알킬기; C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; C6 내지 C60의 아릴기; C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; C1 내지 C20의 알킬아민기; C6 내지 C60의 아릴아민기; 및 C2 내지 C60의 헤테로아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나, 상기 치환기 중 2 이상이 결합된 치환기로 치환 또는 비치환되거나, 상기 치환기 중에서 선택된 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환 또는 비치환된 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 비페닐기일 수 있다. 즉, 비페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수 있다. 상기 추가의 치환기들은 추가로 더 치환될 수도 있다. 상기 R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이다.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 상기 "치환 또는 비치환"이란 중수소, 할로겐기, -CN, SiRR'R", P(=O)RR', C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, C6 내지 C60의 아릴기, 및 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 것이며,
상기 R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 중수소, 할로겐기, -CN, C1 내지 C20의 알킬기, C6 내지 C60의 아릴기, 및 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 중수소, 할로겐, -CN, C1 내지 C20의 알킬기, C6 내지 C60의 아릴기, 및 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 중수소, 할로겐, -CN, C1 내지 C20의 알킬기, C6 내지 C60의 아릴기, 및 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, -CN, C1 내지 C20의 알킬기, C6 내지 C60의 아릴기, 및 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이다.
상기 "치환"이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 할로겐은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 탄소수 1 내지 60의 직쇄 또는 분지쇄를 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 60, 구체적으로 1 내지 40, 더욱 구체적으로, 1 내지 20일 수 있다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-프로필기, 이소프로필기, 부틸기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 헥실기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 3,3-디메틸부틸기, 2-에틸부틸기, 헵틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥실메틸기, 옥틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-에틸-프로필기, 1,1-디메틸-프로필기, 이소헥실기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 탄소수 2 내지 60의 직쇄 또는 분지쇄를 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로, 2 내지 20일 수 있다. 구체적인 예로는 비닐기, 1-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 3-메틸-1-부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 알릴기, 1-페닐비닐-1-일기, 2-페닐비닐-1-일기, 2,2-디페닐비닐-1-일기, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일기, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일기, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알키닐기는 탄소수 2 내지 60의 직쇄 또는 분지쇄를 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 상기 알키닐기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로, 2 내지 20일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 시클로알킬기는 탄소수 3 내지 60의 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 다환이란 시클로알킬기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 시클로알킬기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 헤테로시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기 등일 수도 있다. 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 60, 구체적으로 3 내지 40, 더욱 구체적으로 5 내지 20일 수 있다. 구체적으로, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 3-메틸시클로펜틸기, 2,3-디메틸시클로펜틸기, 시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 3,4,5-트리메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로시클로알킬기는 헤테로 원자로서 O, S, Se, N 또는 Si를 포함하고, 탄소수 2 내지 60의 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 다환이란 헤테로시클로알킬기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 헤테로시클로알킬기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기 등일 수도 있다. 상기 헤테로시클로알킬기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로 3 내지 20일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 아릴기는 탄소수 6 내지 60의 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 다환이란 아릴기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 아릴기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 시클로알킬기, 헤테로시클로알킬기, 헤테로아릴기 등일 수도 있다. 상기 아릴기는 스피로기를 포함한다. 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 60, 구체적으로 6 내지 40, 더욱 구체적으로 6 내지 25일 수 있다. 상기 아릴기의 구체적인 예로는 페닐기, 비페닐기, 트리페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 크라이세닐기, 페난트레닐기, 페릴레닐기, 플루오란테닐기, 트리페닐레닐기, 페날레닐기, 파이레닐기, 테트라세닐기, 펜타세닐기, 플루오레닐기, 인데닐기, 아세나프틸레닐기, 벤조플루오레닐기, 스피로비플루오레닐기, 2,3-디히드로-1H-인데닐기, 이들의 축합고리기 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 스피로기는 스피로 구조를 포함하는 기로서, 탄소수 15 내지 60일 수 있다. 예컨대, 상기 스피로기는 플루오레닐기에 2,3-디히드로-1H-인덴기 또는 시클로헥산기가 스피로 결합된 구조를 포함할 수 있다. 구체적으로, 하기 스피로기는 하기 구조식의 기 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로아릴기는 헤테로 원자로서 S, O, Se, N 또는 Si를 포함하고, 탄소수 2 내지 60인 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 상기 다환이란 헤테로아릴기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 헤테로아릴기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 시클로알킬기, 헤테로시클로알킬기, 아릴기 등일 수도 있다. 상기 헤테로아릴기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로 3 내지 25일 수 있다. 상기 헤테로아릴기의 구체적인 예로는 피리딜기, 피롤릴기, 피리미딜기, 피리다지닐기, 푸라닐기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 옥사졸릴기, 이속사졸릴기, 티아졸릴기, 이소티아졸릴기, 트리아졸릴기, 푸라자닐기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기, 디티아졸릴기, 테트라졸릴기, 파이라닐기, 티오파이라닐기, 디아지닐기, 옥사지닐기, 티아지닐기, 디옥시닐기, 트리아지닐기, 테트라지닐기, 퀴놀릴기, 이소퀴놀릴기, 퀴나졸리닐기, 이소퀴나졸리닐기, 퀴노졸리릴기, 나프티리딜기, 아크리디닐기, 페난트리디닐기, 이미다조피리디닐기, 디아자나프탈레닐기, 트리아자인덴기, 인돌릴기, 인돌리지닐기, 벤조티아졸릴기, 벤즈옥사졸릴기, 벤즈이미다졸릴기, 벤조티오펜기, 벤조푸란기, 디벤조티오펜기, 디벤조푸란기, 카바졸릴기, 벤조카바졸릴기, 디벤조카바졸릴기, 페나지닐기, 디벤조실롤기, 스피로비(디벤조실롤), 디히드로페나지닐기, 페녹사지닐기, 페난트리딜기, 이미다조피리디닐기, 티에닐기, 인돌로[2,3-a]카바졸릴기, 인돌로[2,3-b]카바졸릴기, 인돌리닐기, 10,11-디히드로-디벤조[b,f]아제핀기, 9,10-디히드로아크리디닐기, 페난트라지닐기, 페노티아티아지닐기, 프탈라지닐기, 나프틸리디닐기, 페난트롤리닐기, 벤조[c][1,2,5]티아디아졸릴기, 5,10-디히드로디벤조[b,e][1,4]아자실리닐, 피라졸로[1,5-c]퀴나졸리닐기, 피리도[1,2-b]인다졸릴기, 피리도[1,2-a]이미다조[1,2-e]인돌리닐기, 5,11-디히드로인데노[1,2-b]카바졸릴기 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 아민기는 모노알킬아민기; 모노아릴아민기; 모노헤테로아릴아민기; -NH2; 디알킬아민기; 디아릴아민기; 디헤테로아릴아민기; 알킬아릴아민기; 알킬헤테로아릴아민기; 및 아릴헤테로아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으며, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 1 내지 30인 것이 바람직하다. 상기 아민기의 구체적인 예로는 메틸아민기, 디메틸아민기, 에틸아민기, 디에틸아민기, 페닐아민기, 나프틸아민기, 비페닐아민기, 디비페닐아민기, 안트라세닐아민기, 9-메틸-안트라세닐아민기, 디페닐아민기, 페닐나프틸아민기, 디톨릴아민기, 페닐톨릴아민기, 트리페닐아민기, 비페닐나프틸아민기, 페닐비페닐아민기, 비페닐플루오레닐아민기, 페닐트리페닐레닐아민기, 비페닐트리페닐레닐아민기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아릴렌기는 아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것, 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기의 설명이 적용될 수 있다. 또한, 헤테로아릴렌기는 헤테로아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것, 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로아릴기의 설명이 적용될 수 있다.
본 출원에 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나의 구조에 다양한 치환기를 도입함으로써 도입된 치환기의 고유 특성을 갖는 화합물을 합성할 수 있다. 예컨대, 유기 발광 소자 제조시 사용되는 정공 주입층 물질, 정공 수송용 물질, 발광층 물질 및 전자 수송층 물질에 주로 사용되는 치환기를 상기 코어 구조에 도입함으로써 각 유기물층에서 요구하는 조건들을 충족시키는 물질을 합성할 수 있다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나의 구조에 다양한 치환기를 도입함으로써 에너지 밴드갭을 미세하게 조절이 가능하게 하며, 한편으로 유기물 사이에서의 계면에서의 특성을 향상되게 하며 물질의 용도를 다양하게 할 수 있다.
한편, 상기 헤테로고리 화합물은 유리 전이 온도(Tg)가 높아 열적 안정성이 우수하다. 이러한 열적 안정성의 증가는 소자에 구동 안정성을 제공하는 중요한 요인이 된다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 다단계 화학반응으로 제조할 수 있다. 일부 중간체 화합물이 먼저 제조되고, 그 중간체 화합물들로부터 화학식 1 내지 3 중 어느 하나의 화합물이 제조될 수 있다. 보다 구체적으로, 본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 후술하는 제조예를 기초로 제조될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태는, 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 다른 실시상태는, 양극, 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자를 제공한다.
상기 화학식 6 및 7에서, *는 상기 화학식 4의 L2와 연결되는 위치를 나타낸 것이다.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 6은 하기 구조식 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
상기 구조식에서 X1 내지 X6은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NR, S, O 또는 CR'R" 이고,
R8 내지 R14는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
m은 0 내지 8의 정수이고, n, o, p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 0 내지 6의 정수이다.
본 출원의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 7은 하기 구조식 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
상기 구조식에서 X7 및 X8은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NR, S, O 또는 CR'R" 이고,
R15 내지 R18은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
t는 0 내지 7의 정수이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 4의 R10 내지 R15은 각각 독립적으로 수소 또는 중수소일 수 있다.
본 출원에 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 5의 X1 내지 X3 중 어느 하나가 N일 수 있고, X1 내지 X3 중 어느 두 개가 N일 수 있으며, X1 내지 X3가 모두 N일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 5의 R17 및 R18은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 5의 R19 내지 R21은 각각 독립적으로 수소 또는 중수소일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 5의 R22 내지 R26 중 어느 하나는 -CN이고, 나머지는 각각 독립적으로 수소 또는 중수소일 수 있다.
본 출원에 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는, 전술한 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 발광층의 호스트 물질로서 포함할 수 있다. 이 때, 상기 발광층의 도펀트 물질은 당 기술분야에 알려진 재료를 이용할 수 있다.
상기 호스트 물질 내 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물: 상기 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물의 1 : 10 내지 10 : 1일 수 있고, 1 : 8 내지 8 : 1일 수 있고, 1 : 5 내지 5 : 1 일 수 있으며, 1 : 2 내지 2 : 1일 수 있고, 1 : 1일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 호스트 물질은 둘 이상의 화합물이 단순 혼합되어 있는 형태이며, 유기 발광 소자의 유기물층 형성 전에 파우더 상태의 재료를 혼합할 수도 있고, 적정 온도 이상에서 액상 상태로 되어있는 화합물을 혼합할 수 있다. 상기 호스트 물질은 각 재료의 녹는점 이하에서는 고체 상태이며, 온도를 조정하면 액상으로 유지할 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는 전술한 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 이용하여 한 층 이상의 유기물층을 형성하는 것을 제외하고는, 통상의 유기 발광 소자의 제조방법 및 재료에 의하여 제조될 수 있다.
상기 헤테로고리 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅, 딥 코팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
상기 화학식 1 내지 3으로로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 전자 수송층, 정공 저지층, 발광층의 재료 등으로 사용될 수 있다. 한 예로서, 상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 전자 수송층, 정공 수송층 또는 발광층의 재료로서 사용될 수 있다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 발광층의 재료로서 사용될 수 있다. 한 예로서, 상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 발광층의 인광 호스트의 재료로서 사용될 수 있다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 유기물층은, 필요에 따라 다른 물질을 추가로 포함할 수 있다.
상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 전하 생성층의 재료로서 사용될 수 있다.
상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 전자 수송층, 정공 저지층, 발광층의 재료 등으로 사용될 수 있다. 한 예로서, 상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 전자 수송층, 정공 수송층 또는 발광층의 재료로서 사용될 수 있다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 발광층의 재료로서 사용될 수 있다. 한 예로서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자에서 발광층의 인광 호스트의 재료로서 사용될 수 있다.
도 1 내지 3에 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 전극과 유기물층의 적층 순서를 예시하였다. 그러나, 이들 도면에 의하여 본 출원의 범위가 한정될 것을 의도한 것은 아니며, 당 기술분야에 알려져 있는 유기 발광 소자의 구조가 본 출원에도 적용될 수 있다.
도 1에 따르면, 기판(100) 상에 양극(200), 유기물층(300) 및 음극(400)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자가 도시된다. 그러나, 이와 같은 구조에만 한정되는 것은 아니고, 도 2와 같이, 기판 상에 음극, 유기물층 및 양극이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자가 구현될 수도 있다.
도 3은 유기물층이 다층인 경우를 예시한 것이다. 도 3에 따른 유기 발광 소자는 정공 주입층(301), 정공 수송층(302), 발광층(303), 정공 저지층(304), 전자 수송층(305) 및 전자 주입층(306)을 포함한다. 그러나, 이와 같은 적층 구조에 의하여 본 출원의 범위가 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 발광층을 제외한 나머지 층은 생략될 수도 있고, 필요한 다른 기능층이 더 추가될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자에 있어서, 상기 화학식 1 내지 5의 화합물 이외의 재료를 하기에 예시하지만, 이들은 예시를 위한 것일 뿐 본 출원의 범위를 한정하기 위한 것은 아니며, 당 기술분야에 공지된 재료들로 대체될 수 있다.
양극 재료로는 비교적 일함수가 큰 재료들을 이용할 수 있으며, 투명 전도성 산화물, 금속 또는 전도성 고분자 등을 사용할 수 있다. 상기 양극 재료의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO : Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
음극 재료로는 비교적 일함수가 낮은 재료들을 이용할 수 있으며, 금속, 금속 산화물 또는 전도성 고분자 등을 사용할 수 있다. 상기 음극 재료의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
정공 주입 재료로는 공지된 정공 주입 재료를 이용할 수도 있는데, 예를 들면, 미국 특허 제4,356,429호에 개시된 구리프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물 또는 문헌 [Advanced Material, 6, p.677 (1994)]에 기재되어 있는 스타버스트형 아민 유도체류, 예컨대 트리스(4-카바조일-9-일페닐)아민(TCTA), 4,4',4"-트리[페닐(m-톨릴)아미노]트리페닐아민(m-MTDATA), 1,3,5-트리스[4-(3-메틸페닐페닐아미노)페닐]벤젠(m-MTDAPB), 용해성이 있는 전도성 고분자인 폴리아닐린/도데실벤젠술폰산(Polyaniline/Dodecylbenzenesulfonic acid) 또는 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(4-스티렌술포네이트)(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/Poly(4-styrenesulfonate)), 폴리아닐린/캠퍼술폰산(Polyaniline/Camphor sulfonic acid) 또는 폴리아닐린/폴리(4-스티렌술포네이트)(Polyaniline/Poly(4-styrene-sulfonate))등을 사용할 수 있다.
정공 수송 재료로는 피라졸린 유도체, 아릴아민계 유도체, 스틸벤 유도체, 트리페닐디아민 유도체 등이 사용될 수 있으며, 저분자 또는 고분자 재료가 사용될 수도 있다.
전자 수송 재료로는 옥사디아졸 유도체, 안트라퀴노디메탄 및 이의 유도체, 벤조퀴논 및 이의 유도체, 나프토퀴논 및 이의 유도체, 안트라퀴논 및 이의 유도체, 테트라시아노안트라퀴노디메탄 및 이의 유도체, 플루오레논 유도체, 디페닐디시아노에틸렌 및 이의 유도체, 디페노퀴논 유도체, 8-히드록시퀴놀린 및 이의 유도체의 금속 착체 등이 사용될 수 있으며, 저분자 물질 뿐만 아니라 고분자 물질이 사용될 수도 있다.
전자 주입 재료로는 예를 들어, LiF가 당업계 대표적으로 사용되나, 본 출원이 이에 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 유기 태양 전지, 유기 감광체, 유기 트랜지스터 등을 비롯한 유기 전자 소자에서도 유기 발광 소자에 적용되는 것과 유사한 원리로 작용할 수 있다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명하지만, 이들은 본 출원을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 출원 범위를 한정하기 위한 것은 아니다.
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실시예
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합성예
1] 화합물 H의 제조
화합물 H의 제조
화합물 2-브로모다이벤조퓨란 30g(121.41mmol), 테트라하이드로퓨란 300ml를 넣고 -78℃ 냉각 후, 1.8M LDA용액 88ml를 천천히 적가하였다. -78℃ 1시간 유지 후, 고체 아이오딘(I2) 33.9g(133.55mmol)을 첨가하고 실온으로 4시간 교반하였다. 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거한 후 메탄올로 여과하여 목적 화합물 H 23.1g(51%)을 얻었다.
[
제조예
1-1] 화합물 1-1의 제조
화합물 1-1-1의 제조
화합물 H 20g(53.62mmol), (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 15.4g (53.62mmol), Pd(PPh3)4 3.1g(2.68mmol), K2CO3 14.82g(107.24mmol), 1,4-다이옥산 300ml 및 물 60ml를 넣고 120℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 1-1-1 7.5g(40%)을 얻었다.
화합물 1-1의 제조
화합물 1-1-1 5g(10.24mmol), (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 5.88g(20.48mmol), Pd(PPh3)4 0.59g(0.51mmol), K2CO3 4.25g(30.72mmol) 및 CsF 3.1g(20.48mmol)을 톨루엔/EtOH/H2O 60/10/10ml에 넣고 100℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 1-1 4.1g(65%)을 얻었다.
상기 제조예 1-1 중 화합물 1-1-1의 제조에서 (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 대신 하기 표 1의 중간체를 사용한 것을 제외하고 제조예 1-1의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 A을 합성하였다.
[표 1]
[
제조예
2-1] 화합물 2-1의 제조
화합물 2-1-1의 제조
화합물 H 30g(61.40mmol), (9-페닐-9H카바졸-3-일)보로닉에시드 17.63g (61.40mmol), Pd(PPh3)4 3.1g(3.55mmol), K2CO3 25.46g(184.2mmol), 1,4-다이옥산 300ml 및 물 60ml를 넣고 120℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 2-1-1 17.9g(60%)을 얻었다.
화합물 2-1의 제조
화합물 2-1-1 7g(14.33mmol), (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 8.23g(28.66mmol), Pd(PPh3)4 0.83g(0.72mmol), K2CO3 5.94g(42.99mmol) 및 CsF 3.1g(20.48mmol)을 톨루엔/EtOH/H2O 80/16/16ml에 넣고 100℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 2-1 6.5g(70%)을 얻었다.
상기 제조예 2-1 중 화합물 2-1-1의 제조에서 (9-페닐-9H카바졸-3-일)보로닉에시드 대신 하기 표 2의 중간체 A를 사용하고 화합물 2-1의 제조에서 (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 대신 하기 표 2의 중간체 B를 사용한 것을 제외하고 제조예 2-1의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 A을 합성하였다.
[표 2]
[
제조예
3-1] 화합물 3-1의 제조
화합물 3-1-1의 제조
화합물 H 20g(53.62mmol), (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 15.4g (53.62mmol), Pd(PPh3)4 3.1g(2.68mmol), K2CO3 14.82g(107.24mmol) 및 1,4-다이옥산 300ml, 물 60ml를 넣고 120℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 3-1-1 7.5g(40%)을 얻었다.
화합물 3-1의 제조
화합물 3-1-1 8g(16.38mmol), (9-페닐-9H카바졸-3-일)보로닉에시드 9.4g(32.76mmol), Pd(PPh3)4 0.94g(0.82mmol), K2CO3 6.79g(49.14mmol) 및 CsF 4.9g(32.76mmol)을 톨루엔/EtOH/H2O 60/10/10ml에 넣고 100℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 3-1 6.9g(65%)을 얻었다.
상기 제조예 3-1 중 화합물 3-1-1의 제조에서 (9-페닐-9H카바졸-2-일)보로닉에시드 대신 하기 표 3의 중간체 A를 사용하고 화합물 3-1의 제조에서 (9-페닐-9H카바졸-3-일)보로닉에시드 대신 하기 표 2의 중간체 B를 사용한 것을 제외하고 제조예 2-1의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 A을 합성하였다.
[표 3]
[
제조예
4-1] 화합물 4-11의 제조
화합물 4-11-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 9H-카바졸 2.6g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmmol) 및 K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-11-2 4.7g(85%)을 얻었다.
화합물 4-11-1의 제조
화합물 4-11-2 5g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-11-1 3.9g(70%)을 얻었다.
화합물 4-11의 제조
화합물 4-11-1 7.5g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-11 7.7g(70%)을 얻었다.
[
제조예
4-2] 화합물 4-12의 제조
4-11-1 7.5g(19.0mmol), 2-([1,1'-bi페닐]-3-일)-4-클로로-6-페닐-1,3,5-트리아진 6.5g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-12 8.7g(70%)을 얻었다.
[
제조예
4-3] 화합물 4-28의 제조
화합물 4-11-1 7.5g(19.0mmol), 2-(3-브로모페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-28 8.7g(70%)을 얻었다.
[
제조예
4-4] 화합물 4-36의 제조
화합물 4-11-1 7.5g(19.0mmol), 2-(4-브로모페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-36 8.7g(70%)을 얻었다.
[
제조예
4-5] 화합물 4-39의 제조
화합물 4-39-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 2-페닐-9H-카바졸 3.8g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmol), K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-39-2 5.7g(85%)을 얻었다.
화합물 4-39-1의 제조
화합물 4-39-2 6.1g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-39-1 4.7g(70%)을 얻었다.
화합물 4-39의 제조
화합물 4-39-1 8.9g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-39 8.7g(70%)을 얻었다.
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4-6] 화합물 4-40의 제조
화합물 4-39-1 8.9g(19.0mmol), 2-([1,1'-비페닐]-3-일)-4-브로모-6-페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mM)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-40 9.7g(70%)을 얻었다.
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4-7] 화합물 4-41의 제조
화합물 4-39-1 8.9g(19.0mmol), 2-([1,1'-비페닐]-4-일)-4-브로모-6-페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mM), K2CO3 5.2g(38.0mM)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-41 9g(65%)을 얻었다.
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4-8] 화합물 4-42의 제조
화합물 4-39-1 8.9g(19.0mmol), 2-(3-브로모페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20 mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-42 9.7g(70%)을 얻었다.
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4-9] 화합물 4-43의 제조
화합물 4-39-1 8.9g(19.0mmol), 2-(4-브로모페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-43 9.7g(70%)을 얻었다.
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4-10] 화합물 4-47의 제조
화합물 4-47-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 2,7-디페닐-9H-카바졸 5.0g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmol) 및 K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-47-2 6.7g(85%)을 얻었다.
화합물 4-47-1의 제조
화합물 4-47-2 7.2g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-47-1 (60%)을 얻었다.
화합물 4-47의 제조
화합물 4-47-1 10.4g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mM), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-47 9.7g(70%)을 얻었다.
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4-11] 화합물 4-66의 제조
화합물 4-66-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 7,7-디메틸-5,7-디하이드로인데노[2,1-b]카바졸 4.5g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmol) 및 K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-66-2 7.3g(85%)을 얻었다.
화합물 4-66-1의 제조
화합물 4-66-2 6.7g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-66-1 5.1g(70%)을 얻었다.
화합물 4-66의 제조
화합물 4-66-1 9.7g(19.0mmol), 2-브로모-4,6-디페닐피리미딘 5.9g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20 mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-66 9.3g(70%)을 얻었다.
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4-12] 화합물 4-68의 제조
화합물 4-66-1 9.7g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-68 9.3g(70%)을 얻었다.
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4-13] 화합물 4-71의 제조
화합물 4-66-1 9.7g(19.0mmol), 2-(3-브로모페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-71 10.3g(70%)을 얻었다.
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4-14] 화합물 4-74의 제조
화합물 4-66-1 9.7g(19.0mmol), 2-(4-브로모페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.4g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-74 10.3g(70%)을 얻었다.
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4-15] 화합물 4-79의 제조
화합물 4-79-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 11,11-디메틸-5,11-디하이드로인데노[1,2-b]카바졸 4.5g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmol) 및 K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-79-2 5.9g(80%)을 얻었다.
화합물 4-79-1의 제조
화합물 4-79-2 6.7g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-79-1 5.1g(70%)을 얻었다.
화합물 4-79의 제조
화합물 4-79-1 9.7g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-79 9.3g(70%)을 얻었다.
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4-16] 화합물 4-83의 제조
화합물 4-83-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 5-페닐-5,7-디하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 5.3g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmol) 및 K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-디옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-83-2 6.9g(85%)을 얻었다.
화합물 4-83-1의 제조
화합물 4-83-2 7.4g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-83-1 5.6g(70%)을 얻었다.
화합물 4-83의 제조
화합물 4-83-1 10.6g(19.0mmol), 2-브로모-4,6-디페닐피리미딘 5.9g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-83 9.3g(70%)을 얻었다.
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4-17] 화합물 4-85의 제조
화합물 4-83-1 10.6g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mM), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol), K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-85 9.3g(70%)을 얻었다.
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4-18] 화합물 4-99의 제조
화합물 4-99-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mmol), 5H-벤조[4,5]티에노[3,2-c]카바졸 4.3g(15.8mmol), CuI 3.0g(15.8mmol), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mmol), K3PO4 3.3g(31.6mmol)를 1,4-디옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-99-2 7.2g(85%)을 얻었다.
화합물 4-99-1의 제조
화합물 4-99-2 6.5g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-99-1 5.0g(70%)을 얻었다.
화합물 4-99의 제조
화합물 4-99-1 9.5g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-99 8.9g(70%)을 얻었다.
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4-19] 화합물 4-164의 제조
화합물 4-164-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5g(19.0mmol), (4-(9H-카바졸-9-일)페닐)보론산 5.5g(19.0mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-164-2 8.9g(70%)을 얻었다.
화합물 4-164-1의 제조
화합물 4-164-2 6.09g(14.3mmol)과 THF 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mmol)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mmol)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적 화합물 4-164-1 4.7g(70%)을 얻었다.
화합물 4-164의 제조
화합물 4-164-1 8.9g(19.0mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 6.1g(22.8mmol), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mmol) 및 K2CO3 5.2g(38.0mmol)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 4-164 9.0g(72%)을 얻었다.
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5-1] 화합물 5-87의 제조
화합물 5-87-3의 제조
화합물 9H-카바졸 8.9g(52.93mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 22.1g(105.8mmol), 소듐 하이드라이드 1.9g(79.40mmol) 및 DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-87-3 13.2g(70%)을 얻었다.
화합물 5-87-2의 제조
화합물 5-87-3 14.3g(40.18mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 13.26g (52.24mmol), PdCl2(dppf) 0.8g(1.205mmol), KOAc 11.8g(120.5mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-87-2 12.7g(78%)을 얻었다.
화합물 5-87-1의 제조
화합물 5-87-2 14g(34.6mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 11.2g (41.5mmol), Pd(PPh3)4 2g(1.7mmol), K2CO3 14.3g(103.8mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-87-1 14.1g(80%)을 얻었다.
화합물 5-87의 제조
화합물 5-87-1 4.9g(9.582mmol), (2-사이아노페닐)보로닉에시드 2.1g(14.37 mmol), Pd2(dba)3 0.61g(0.67mmol) 및 K3PO4 6.1g(28.7mmol), Xphos 0.91g(1.91mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1 로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-87 4.0g(73%)을 얻었다.
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제조예
5-2] 화합물 5-99의 제조
화합물 5-99-1의 제조
화합물 5-203-2 18g(34.6mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 11.2g(41.5mmol), Pd(PPh3)4 2g(1.7mmol), K2CO3 14.3g(103.8mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-99-1 16 g (77%)을 얻었다.
화합물 5-99의 제조
화합물 5-99-1 6g(9.58mmol), (2-사이아노페닐)보로닉에시드 2.1g(14.37mmol), Pd2(dba)3 0.61g(67mmol), K3PO4 6.1g(28.7mmol), Xphos 0.91g(1.91mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-99 4.1 g (73%)을 얻었다.
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제조예
5-3] 화합물 5-203의 제조
화합물 5-203-3의 제조
화합물 7,7-디메틸-5,7-디하이드로인데노[2,1-b]카바졸 15g(52.93mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 22.1g(105.8mmol), 소듐 하이드라이드 1.9g(79.4mmol) 및 DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-203-3 19g(76%)을 얻었다.
화합물 5-203-2의 제조
화합물 5-203-3 19g(40.18mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 13.26g(52.24mmol), PdCl2(dppf) 0.8g(1.21mmol), KOAc 11.8g(120.5mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-203-2 18g(76%)을 얻었다.
화합물 5-203-1의 제조
화합물 5-203-2 18g(34.6mmol), 2-클로로-4,6-디페닐피리미딘 11.0g(41.5mmol), Pd(PPh3)4 2g(1.7mmol) 및 K2CO3 14.3g(103.8mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-203-1 15g(78%)을 얻었다.
화합물 5-203의 제조
화합물 5-203-1 5g(7.98mmol), (3-사이아노페닐)보로닉에시드 1.5g(10.38mmol), Pd2(dba)3 0.36g(39mmol), K3PO4 5.2g(23.9mmol), Sphos 0.33g(79mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-203 3.4g(61%)을 얻었다.
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5-4] 화합물 5-260의 제조
화합물 5-99-1 5g(7.98mmol), (3-사이아노페닐)보로닉에시드 1.5g(10.38mmol), Pd2(dba)3 0.36g(39mmol), K3PO4 5.2g(23.9mmol), Sphos 0.33g(79mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소치환 하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-260 3.5g(64%)을 얻었다.
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제조예
5-5] 화합물 5-262의 제조
화합물 5-262-3의 제조
화합물 11,11-디메틸-5,11-디하이드로인데노[1,2-b]카바졸 15g(53mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 24.3g(106.01mmol), 소듐 하이드라이드 3.1g(79.54mmol) 및 DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-262-3 17g(71%)을 얻었다.
화합물 5-262-2의 제조
화합물 5-262-3 17g(40.25mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 15.2g(60.81mmol), PdCl2(dppf) 1.4g(2.01mmol) 및 KOAc 11.8g(120.7mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-262-2 16g(72%)을 얻었다.
화합물 5-262-1의 제조
화합물 5-262-2 16g(34.68mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 19.4g (52.02mmol), Pd(PPh3)4 2.6g(1.7mmol), K2CO3 14.3g(109.8mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-262-1 16g(75%)을 얻었다.
화합물 5-262의 제조
화합물 5-262-1 6g(9.64mmol), (3-사이아노페닐)보로닉에시드 2.1g(14.42mmol), Pd2(dba)3 0.44g(48mmol), K3PO4 6.1g(28.9mmol), Sphos 0.39g(94mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-262 4.6g(77%)을 얻었다.
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5-6] 화합물 5-264의 제조
화합물 5-264-3의 제조
화합물 11,11-디메틸-5,11-디하이드로인데노[1,2-b]카바졸 15g (53mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 24.3g(106.01mmol), 소듐 하이드라이드 3.1g(79.54mmol) 및 DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-264-3 19g(78%)을 얻었다.
화합물 5-264-2의 제조
화합물 5-264-3 19g(40.25mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 15.2g(60.81mmol), PdCl2(dppf) 1.4g(2.01mmol), KOAc 11.8g(120.7mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-264-2 18 g (73%)을 얻었다.
화합물 5-264-1의 제조
화합물 5-264-2 18g(34.68mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 19.4g(52.02mmol), Pd(PPh3)4 2.6g (1.7mmol), K2CO3 14.3g(109.8mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-264-1 16 g (74%)을 얻었다.
화합물 5-264의 제조
화합물 5-264-1 6g(9.64mmol), (3-사이아노페닐)보로닉에시드 2.1g(14.42mmol), Pd2(dba)3 0.44g(48mmol), K3PO4 6.1g(28.9mmol), Sphos 0.39g(94mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-264 4.6g(75%)을 얻었다.
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5-7] 화합물 5-267의 제조
화합물 5-267-3의 제조
화합물 5H-벤조[4,5]티에노[3,2-c]카바졸 15g(54.94mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 22.9g(109.89mmol) 및 소듐 하이드라이드 3.2g(82.41mmol), DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-267-3 17g(76%)을 얻었다.
화합물 5-267-2의 제조
화합물 5-267-3 17g(41.12mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 15.6g(61.68mmol), PdCl2(dppf) 1.5g(2.056mmol), KOAc 12.08g (123.3mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-267-2 19 g (76%)을 얻었다.
화합물 5-267-1의 제조
화합물 5-267-2 17.7g(34.68mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 19.4g(52.02mmol), Pd(PPh3)4 2.6g (1.7mmol), K2CO3 14.3g(109.8mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-267-1 15.8 g (74%)을 얻었다.
화합물 5-267의 제조
화합물 5-267-1 5.9g(9.64mmol), (3-사이아노페닐)보로닉에시드 2.1g(14.42mmol), Pd2(dba)3 0.44g(48mmol), K3PO4 6.1g(28.9mmol), Sphos 0.39g(94mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-267 4.9g(75%)을 얻었다.
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5-8] 화합물 5-271의 제조
화합물 5-271-3의 제조
화합물 5H-벤조퓨로[3,2-c]카바졸 15g(58.36mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 24.3g(116.73mmol), 소듐 하이드라이드 3.5g(87.54mmol), DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-271-3 18g(73%)을 얻었다.
화합물 5-271-2의 제조
화합물 5-271-2 18g(42.6mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 15.6g(63.90mmol), PdCl2(dppf) 1.5g(2.130mmol) 및 KOAc 12.08g(127.9mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-271-2 17g(78%)을 얻었다.
화합물 5-271-1의 제조
화합물 5-271-2 17g(36.51mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 19.4g(73.02mmol), Pd(PPh3)4 2.6g(1.7mmol), K2CO3 14.3g(106.0mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-271-1 18g(71%)을 얻었다.
화합물 5-271의 제조
화합물 5-271-1 6g(8.34mmol), (3-사이아노페닐)보로닉에시드 1.8g(12.52mmol), Pd2(dba)3 0.38g(0.41mmol), K3PO4 5.3g(25.1mmol), Sphos 0.34g (0.83mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-271 4.6g(72%)을 얻었다.
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5-9] 화합물 5-416의 제조
화합물 5-99-1 5g(7.98mmol), (4-사이아노페닐)보로닉에시드 1.5g(10.38mmol), Pd2(dba)3 0.36g(39mmol), K3PO4 5.2g(23.9mmol), Sphos 0.33g(79mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-416 4.1g(73%)을 얻었다.
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제조예
5-10] 화합물 5-421의 제조
화합물 5-421-3의 제조
화합물 12H-벤조[4,5]티에노[2,3-a]카바졸 15g(54.94mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 22.9g(109.89mmol) 및 소듐 하이드라이드 3.2g(82.41mmol), DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-421-3 17g(76%)을 얻었다.
화합물 5-421-2의 제조
화합물 5-421-3 17g(41.12mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 15.6g(61.68mmol), PdCl2(dppf) 1.5g(2.056mmol), KOAc 12.08g (123.3mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-421-2 19 g (76%)을 얻었다.
화합물 5-421-1의 제조
화합물 5-421-2 19g(35.36mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 14.1g (53.04mmol), Pd(PPh3)4 2g(1.7mmol), K2CO3 14.3g(106.0mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-421-1 15g (77%)을 얻었다.
화합물 5-421의 제조
화합물 5-421-1 5g(8.13mmol), (4-사이아노페닐)보로닉에시드 1.7g(12.19m mol), Pd2(dba)3 0.36g(0.40mmol), K3PO4 5.8g(24.39mmol) 및 Sphos 0.33g(0.79mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-421 4.5g(78%)을 얻었다.
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제조예
5-11] 화합물 5-422의 제조
화합물 5-422의 제조
화합물 5-267-1 5g(8.13mmol), (4-사이아노페닐)보로닉에시드 1.7g(12.19mmol), Pd2(dba)3 0.36g(0.40mmol), K3PO4 5.8g(24.39mmol), Sphos 0.33g(0.79mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-422 4.3g(72%)을 얻었다.
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5-12] 화합물 5-450의 제조
화합물 5-450-3의 제조
화합물 2-페닐-9H-카바졸 12.8g(52.89mmol), 1-브로모-3-클로로-5-플루오로벤젠 22.1g(105.8mmol), 소듐 하이드라이드 1.9g(79.40mmol) 및 DMF 200mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔과 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-450-3 17.2g(74%)을 얻었다.
화합물 5-450-2의 제조
화합물 5-450-3 17.3g(40.09mmol), 비스(피나콜라토)다이보론 13.26g (52.24mmol), PdCl2(dppf) 0.8g(1.205mmol), KOAc 11.8g(120.5mmol) 및 1,4-다이옥산 150mL를 넣고 120℃에서 5시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하여 목적 화합물 5-450-2 14.8(74%)을 얻었다.
화합물 5-450-1의 제조
화합물 5-450-2 11.7g(24.53mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 7.9g(29.48mmol), Pd(PPh3)4 1.4g(1.2mmol), K2CO3 10.1g(73.7mmol), 톨루엔 120mL, 에탄올 20mL 및 물 20mL를 넣고 120℃에서 8시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 디클로로메탄과 메탄올로 재결정하여 목적 화합물 5-450-1 10g (70%)을 얻었다.
화합물 5-450의 제조
화합물 5-450-1 5.6g(9.582mmol), 3,5-디시아노페닐보론산 피나콜 에스테르 3.7g(14.37mmol), Pd2(dba)3 0.61g(0.67mmol), K3PO4 6.1g(28.7mmol), Xphos 0.91g(1.91mmol), 톨루엔 60mL 및 물 10mL를 넣고 질소 치환하였다. 환류하여 12시간 반응하고 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 유기층을 무수 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거한 후 디클로로메탄과 헥산을 1:1로 컬럼 정제하여 목적 화합물 5-450 3.8g(58%)을 얻었다.
[비교
제조예
1] Ref 5의 제조
화합물 Ref-5-1의 제조
화합물 H 30g(61.40mmol), (9-페닐-9H카바졸-3-일)보로닉에시드 17.63g (61.40mmol), Pd(PPh3)4 3.1g(3.55mmol), K2CO3 25.46g(184.2mmol) 및 1,4-다이옥산 300ml, 물 60ml를 넣고 120℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 목적 화합물 Ref-5-1 17.9g(60%)을 얻었다.
화합물 Ref 5의 제조
화합물 Ref-5-1 6g(12.28mmol), (9-페닐-9H카바졸-3-일)보로닉에시드 7.08g(24.57mmol), Pd(PPh3)4 0.71g(0.61mmol), K2CO3 5.09g(36.84mmol) CsF 3.7g(24.57mmol) 및 톨루엔 60ml, 에탄올 10ml, 물 10ml를 넣고 100℃에서 12시간 반응시켰다. 실온으로 식힌 후 증류수와 디클로로메탄을 사용하여 추출하였다. 이후 디클로로메탄에 녹여 실리카겔, 셀라이트 및 프로리실을 사용하여 필터하고 용매를 제거하고 컬럼크로마토그래피를 이용해 비교예 Ref 5 1g(63%)을 얻었다.
상기 제조예들과 같은 방법으로 화합물을 제조하고, 그 합성확인결과를 하기 표 4 내지 표 7에 나타내었다. 표 4은 NMR 값이고, 표 5는 FD-질량분석계(FD-MS: Field desorption mass spectrometry)의 측정값이다.
[표 4]
[표 5]
[표 6]
[표 7]
<
실험예
>
1) 유기 발광 소자의 제작
1500Å의 두께로 ITO가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 아세톤, 메탄올, 이소프로필 알코올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 UV 세정기에서 UV를 이용하여 5분간 UVO 처리하였다. 이후 기판을 플라즈마 세정기(PT)로 이송시킨 후, 진공상태에서 ITO 일함수 및 잔막 제거를 위해 플라즈마 처리를 하여, 유기 증착용 열증착 장비로 이송하였다.
상기와 같이 준비된 ITO 상에 정공 주입층으로 2-TNATA(4,4',4"-Tris[2-naphthyl(phenyl)amino]triphenylamine)을 형성하였고, 정공 수송층으로 NPB(N,N'-Di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine)을 형성하였다. 정공 수송층 상에 발광층을 열 진공 증착하여 400Å로 형성하였다. 발광층은 호스트인 하기 표에 기재된 화합물에 인광 도펀트로 Ir(ppy)3(tris(2-phenylpyridine)iridium)을 7% 도핑하여 사용하였다. 이후 정공 저지층으로 BCP를 60Å 증착하였으며, 그 위에 전자 수송층으로 Alq3를 200Å 두께로 증착하였다. 마지막으로 전자 수송층 위에 리튬 플루오라이드(lithium fluoride: LiF)를 10Å 두께로 증착하여 전자 주입층을 형성한 후, 전자 주입층 위에 알루미늄(Al) 음극을 1,200Å의 두께로 증착하여 음극을 형성함으로써 유기 전계 발광 소자를 제조하였다.
한편, OLED 소자 제작에 필요한 모든 유기 화합물은 재료 별로 각각 10-6~10-8torr 하에서 진공 승화 정제하여 OLED 제작에 사용하였다.
2) 유기
전계
발광 소자의 구동 전압 및 발광 효율
상기와 같이 제작된 유기 전계 발광 소자에 대하여 맥사이어스사의 M7000으로 전계 발광(EL)특성을 측정하였으며, 그 측정 결과를 가지고 맥사이언스사에서 제조된 수명장비측정장비(M6000)를 통해 기준 휘도가 6,000cd/m2 일 때, T90을 측정하였다. 본 발명의 유기 전계 발광 소자의 특성은 하기 표 8, 표9와 같다.
[표 8]
본원발명과 비교예 1 내지 6의 유기 발광 소자 평가 결과를 비교해보면, Ref 1,2,3의 경우 디벤조퓨란 2번 위치에 카바졸-N으로 치환된 경우 전자를 주는 그룹인 질소의 영향으로 para 위치의 디벤조퓨란의 산소가 활성화되어 공명화가 약해져 분자의 안정성이 저하되기 때문에 수명 특성이 나쁜 것으로 판단된다. Ref 4의 경우는 디벤조퓨란 4번 위치에 전자를 잡아당기는 헤테로 아릴기가 치환된 경우 전자를 주는 디벤조퓨란기의 산소 원자가 LUMO를 따라 주입된 전자를 불안정화 시키는 영향으로 수명이 저하되는 것으로 판단된다. Ref 5의 경우는 본원발명과 유사한 분자 구조를 가지고 있으나 카바졸 3번 위치로 디벤조퓨란의 2,4번 위치에 동시에 치환된 경우 앞의 Ref 1,2,3과 같은 이유로 수명 특성이 저하되는 것으로 판단된다.
[표 9]
상기 결과와 같이, 특히, 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는, 발광층의 호스트 물질로서 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 화합물; 및 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 동시에 포함함으로써, 단일 화합물을 호스트 물질로서 적용한 유기 발광 소자보다 구동, 효율, 수명 모두 현저히 개선된 특성을 나타낼 수 있다. 그러나, 비교예 7 ~ 16의 경우는 두가지 호스트로 발광층을 구성하여도 정공과 전자의 균형이 맞지 않아 실시예보다 특히 수명 특성이 많이 떨어진다.
본 발명의 유기 발광 소자는 호스트와 인광 도판트를 사용하는 발광층을 포함하고, 상기 호스트는 두 가지 이상의 화합물이 혼합된 호스트 화합물(p-n type)로 구성됨으로써, 종래의 단일 화합물로 이루어진 호스트 화합물을 포함하는 유기 발광 소자보다 우수한 수명 특성을 갖는 효과가 있다.
특히, 본 발명의 p-n type 호스트 경우 호스트의 비율을 조절하여 발광 특성을 증가시킬 수 있는 장점이 있는데, 이것은 정공 이동도가 좋은 P 호스트와, 전자 이동도가 좋은 n 호스트의 적절한 조합으로 이룰수 있는 결과이다.
100: 기판
200: 양극
300: 유기물층
301: 정공 주입층
302: 정공 수송층
303: 발광층
304: 정공 저지층
305: 전자 수송층
306: 전자 주입층
400: 음극
200: 양극
300: 유기물층
301: 정공 주입층
302: 정공 수송층
303: 발광층
304: 정공 저지층
305: 전자 수송층
306: 전자 주입층
400: 음극
Claims (11)
- 하기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 헤테로고리 화합물:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 내지 3에서,
Ar1 내지 Ar6은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
R1 내지 R9는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
m, n, o, p, q, r, s, t 및 u는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1 내지 3의 R1 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 중수소인 것을 특징으로 하는 헤테로고리 화합물.
- 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1 내지 3은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 헤테로고리 화합물:
- 양극, 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하고, 상기 유기물층 중 1층 이상이 청구항 1 내지 3 중 어느 하나의 항에 따른 헤테로고리 화합물을 포함하는 유기 발광 소자.
- 청구항 4에 있어서, 상기 유기물층은 정공 저지층, 전자 주입층 및 전자 수송층 중 적어도 한 층을 포함하고, 상기 정공 저지층, 전자 주입층 및 전자 수송층 중 적어도 한 층이 상기 헤테로고리 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
- 청구항 4에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층이 상기 헤테로고리 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
- 청구항 4에 있어서, 상기 유기물층은 정공 주입층, 정공 수송층, 및 정공 주입 및 정공 수송을 동시에 하는 층 중 1층 이상의 층을 포함하고, 상기 층 중 하나의 층이 상기 헤테로고리 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
- 청구항 4에 있어서, 상기 헤테로고리 화합물을 포함하는 유기물층은 하기 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자:
[화학식 4]
상기 화학식 4에서,
L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴렌기이고,
Ar7은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이며,
Ar8는 하기 화학식 6 또는 7로 표시되며,
[화학식 6]
[화학식 7]
Y1 내지 Y4는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 방향족 탄화수소 고리; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 방향족 헤테로고리이고,
R10 내지 R16은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이고,
[화학식 5]
상기 화학식 5에서,
X1 내지 X3 중 적어도 하나는 N 이고, 나머지는 각각 독립적으로 N 또는 CR35이며,
R17, R18 및 R35는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R19 내지 R21, 및 R27 내지 R30은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R31 내지 R34는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 탄화수소 고리 또는 헤테로고리를 형성하며,
R22 내지 R26 중 적어도 하나는 -CN이고, 나머지는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 알키닐기; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; 및 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기, 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기로 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리를 형성하며,
R, R' 및 R"는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; -CN; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C3 내지 C60의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이다. - 청구항 8에 있어서, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자:
- 청구항 8에 있어서, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자:
- 청구항 8에 있어서, 상기 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 4 또는 5로 표시되는 화합물을 발광층의 호스트 물질로서 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20150155886 | 2015-11-06 | ||
| KR1020150155886 | 2015-11-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170053590A true KR20170053590A (ko) | 2017-05-16 |
| KR101830709B1 KR101830709B1 (ko) | 2018-02-21 |
Family
ID=58662588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020160147449A KR101830709B1 (ko) | 2015-11-06 | 2016-11-07 | 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101830709B1 (ko) |
| TW (1) | TWI713625B (ko) |
| WO (1) | WO2017078494A1 (ko) |
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| CN113227084A (zh) * | 2018-12-26 | 2021-08-06 | Lt素材株式会社 | 化合物、组成物、有机光电装置以及显示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN108976212A (zh) * | 2017-06-02 | 2018-12-11 | 北京鼎材科技有限公司 | 芴衍生物及其在有机发光材料中的应用 |
| CN109385266B (zh) * | 2017-08-04 | 2021-10-26 | 北京绿人科技有限责任公司 | 用于形成有机电致发光材料的组合物及其应用和有机电致发光器件及其制备方法 |
| JP7077398B2 (ja) * | 2017-08-25 | 2022-05-30 | サイノラ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | トリアジンを含む有機分子、特に光電子デバイスに用いる有機分子 |
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| EP3700997B1 (en) * | 2017-10-25 | 2021-12-08 | Cynora Gmbh | Organic molecules, in particular for use in optoelectronic devices |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2016
- 2016-11-07 KR KR1020160147449A patent/KR101830709B1/ko active IP Right Grant
- 2016-11-07 TW TW105136109A patent/TWI713625B/zh active
- 2016-11-07 WO PCT/KR2016/012728 patent/WO2017078494A1/ko active Application Filing
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| WO2019143112A1 (ko) * | 2018-01-16 | 2019-07-25 | 주식회사 두산 | 유기 전계 발광 소자 |
| WO2019146946A1 (ko) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 주식회사 엘지화학 | 유기발광소자 |
| WO2020060286A1 (ko) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 |
| CN113227084A (zh) * | 2018-12-26 | 2021-08-06 | Lt素材株式会社 | 化合物、组成物、有机光电装置以及显示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI713625B (zh) | 2020-12-21 |
| TW201722939A (zh) | 2017-07-01 |
| KR101830709B1 (ko) | 2018-02-21 |
| WO2017078494A1 (ko) | 2017-05-11 |
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