KR20170028016A - 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴 - Google Patents
네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170028016A KR20170028016A KR1020150124763A KR20150124763A KR20170028016A KR 20170028016 A KR20170028016 A KR 20170028016A KR 1020150124763 A KR1020150124763 A KR 1020150124763A KR 20150124763 A KR20150124763 A KR 20150124763A KR 20170028016 A KR20170028016 A KR 20170028016A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- meth
- acrylate
- pattern
- photosensitive resin
- mol
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150124763A KR20170028016A (ko) | 2015-09-03 | 2015-09-03 | 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴 |
CN201610797972.7A CN106502051A (zh) | 2015-09-03 | 2016-08-31 | 负型感光性树脂组合物及由其形成的光固化性图案 |
JP2016170849A JP2017049587A (ja) | 2015-09-03 | 2016-09-01 | ネガ型感光性樹脂組成物及びそれから形成される光硬化性パターン及び当該光硬化性パターンを備える画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150124763A KR20170028016A (ko) | 2015-09-03 | 2015-09-03 | 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170028016A true KR20170028016A (ko) | 2017-03-13 |
Family
ID=58278685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150124763A KR20170028016A (ko) | 2015-09-03 | 2015-09-03 | 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017049587A (zh) |
KR (1) | KR20170028016A (zh) |
CN (1) | CN106502051A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210150126A (ko) | 2020-06-03 | 2021-12-10 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 네가티브형 레지스트 중합체 및 이를 포함하는 네가티브형 레지스트 조성물 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102371945B1 (ko) * | 2017-11-03 | 2022-03-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101302508B1 (ko) | 2006-02-03 | 2013-09-02 | 주식회사 동진쎄미켐 | 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100996591B1 (ko) * | 2006-12-26 | 2010-11-25 | 주식회사 엘지화학 | 액정 디스플레이용 블랙 매트릭스 고감도 감광성 수지조성물 및 이를 이용하여 제조되는 블랙 매트릭스 |
WO2009063955A1 (ja) * | 2007-11-16 | 2009-05-22 | Fujifilm Corporation | スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、スペーサー、スペーサーの形成方法、及び液晶表示素子 |
KR101622991B1 (ko) * | 2007-12-28 | 2016-05-20 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 포토 스페이서 및 그 형성방법, 보호막, 착색 패턴, 표시장치용 기판, 및 표시장치 |
KR101344786B1 (ko) * | 2011-12-02 | 2013-12-26 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
JP6125833B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-05-10 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物及びその用途 |
JP6295950B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2018-03-20 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、保護膜又は絶縁膜、タッチパネル及びその製造方法 |
-
2015
- 2015-09-03 KR KR1020150124763A patent/KR20170028016A/ko unknown
-
2016
- 2016-08-31 CN CN201610797972.7A patent/CN106502051A/zh not_active Withdrawn
- 2016-09-01 JP JP2016170849A patent/JP2017049587A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101302508B1 (ko) | 2006-02-03 | 2013-09-02 | 주식회사 동진쎄미켐 | 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210150126A (ko) | 2020-06-03 | 2021-12-10 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 네가티브형 레지스트 중합체 및 이를 포함하는 네가티브형 레지스트 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017049587A (ja) | 2017-03-09 |
CN106502051A (zh) | 2017-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101592848B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR102041929B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 | |
KR101609234B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 | |
KR101813911B1 (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR20170018679A (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR20170085383A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이로 형성되는 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 | |
KR20120056938A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 절연막 및 그 전자부품 | |
KR20160029339A (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
CN105842988B (zh) | 感光性树脂组合物、感光性树脂组合物形成的光固化图案及具备光固化图案的图像显示装置 | |
CN105842987B (zh) | 感光性树脂组合物、感光性树脂组合物形成的光固化图案及具备光固化图案的图像显示装置 | |
KR20160091646A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 | |
KR20170028016A (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴 | |
KR101592849B1 (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR102015054B1 (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR102135064B1 (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
CN106483765B (zh) | 感光性树脂组合物及由其形成的光固化图案 | |
KR20170027501A (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 | |
KR20170003064A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 | |
KR20190075235A (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 절연 패턴 | |
KR101636178B1 (ko) | 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서 | |
KR102120973B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR102615683B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 | |
KR102005346B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 광경화 패턴 | |
KR20170107661A (ko) | 아크릴아미드 광중합성 단량체 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
KR20170031433A (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 |