KR20170021676A - 그라운드 가스켓의 제조방법 - Google Patents

그라운드 가스켓의 제조방법 Download PDF

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KR20170021676A
KR20170021676A KR1020150116331A KR20150116331A KR20170021676A KR 20170021676 A KR20170021676 A KR 20170021676A KR 1020150116331 A KR1020150116331 A KR 1020150116331A KR 20150116331 A KR20150116331 A KR 20150116331A KR 20170021676 A KR20170021676 A KR 20170021676A
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Abstract

본 발명은 복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 패턴이 형성된 심재 상에 도금층을 형성하는 단계;를 포함하는, 그라운드 가스켓의 제조방법을 제공한다.

Description

그라운드 가스켓의 제조방법{Method for manufacturing ground gasket}
본 발명은 그라운드 가스켓의 제조방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 전자 디바이스에서 발생하는 누설전류를 외부로 흐르게 하여 전자기적 결함과 전자파 장해를 최소화하는 그라운드 가스켓의 제조방법에 관한 것이다.
종래의 그라운드 가스켓은 다각형의 실리콘 고무에 은(Ag)이나 니켈(Ni) 등의 전도성 금속 분말을 넣어서 압출하여 제조하였으나, 금속 분말을 많이 넣을 경우, 가스켓의 탄성이 저하되어 피접촉물과의 밀착성이 저하되고, 반대로, 금속 분말을 적게 넣을 경우에는 전기전도도가 저하되는 문제점이 있다.
또한, 금속 박막이 코팅된 폴리머 필름으로 스폰지 등 탄성소재의 표면을 감싼 구조의 가스켓이 개발되었으나 소형제품의 제조가 어렵고, 내열성 부족으로 PCB에 솔더링이 불가하다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 내열성, 유연성, 고탄성을 가지는 실리콘 고무 표면에 직접 금속 도금이 될 수 있는 그라운드 가스켓의 제조방법에 대한 것이다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 관점에 따르면, 그라운드 가스켓의 제조방법이 제공된다. 상기 그라운드 가스켓의 제조방법은 복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 패턴이 형성된 심재 상에 도금층을 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 패턴을 형성하는 단계는, 하나의 레이저 광원으로부터 방출된 레이저 광이 프리즘(prism)을 통과하면서 굴절되어 형성된 상기 복수개의 레이저 광들의 간섭에 의해서 상기 심재의 표면에 요철(凹凸)구조를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 패턴을 형성하는 단계는, 상기 심재의 표면 상에 입사되는 서로 다른 파장 대역을 갖는 상기 복수개의 레이저 광의 입사각이 변함에 따라 상기 패턴의 형상이 다르게 형성되는 단계를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 패턴을 형성하는 단계 이후에, 상기 패턴이 형성된 심재 상에 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl)이 혼합된 용액에 소정의 시간동안 침지시켜 민감화(Sensitization) 처리를 수행하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 민감화 처리를 수행하는 단계 이후에, 상기 민감화 처리가 완료된 상기 심재를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4)이 혼합된 용액에 소정의 시간동안 침지시켜 활성화 처리를 수행하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 도금층을 형성하는 단계는 상기 패턴이 형성된 심재 상에 1차 무전해 구리 도금 및 2차 무전해 주석 도금을 순차적으로 수행하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 1차 무전해 구리 도금을 수행하는 단계는 상기 패턴이 형성된 심재를 구리염, 착화제, 환원제 및 pH 조정제가 첨가된 혼합용액에 소정의 시간동안 침지시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 2차 무전해 주석 도금을 수행하는 단계는 상기 패턴이 형성된 심재를 주석염, 착화제, 산화방지제 및 pH 조정제가 첨가된 혼합용액에 소정의 시간동안 침지시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 있어서, 상기 도금층을 형성하는 단계 이후에, 상기 도금층이 형성된 상기 심재를 건조하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 관점에 따르면, 그라운드 가스켓의 제조방법이 제공된다. 상기 그라운드 가스켓의 제조방법은, 복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계; 상기 패턴이 형성된 심재를 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl)이 혼합된 용액에 침지시켜 민감화 처리를 수행하는 단계; 상기 민감화 처리가 완료된 상기 심재를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4)이 혼합된 용액에 침지시켜 활성화 처리를 수행하는 단계; 상기 패턴이 형성된 심재 상에 구리 도금층을 형성하는 단계; 상기 구리 도금층이 형성된 심재 상에 주석 도금층을 형성하는 단계; 및 상기 주석 도금층이 형성된 심재를 건조하는 단계;를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 관점에 따르면, 전자 디바이스의 제조방법이 제공된다. 상기 전자 디바이스의 제조방법은 인쇄회로기판을 준비하는 단계; 및 상기 인쇄회로기판 상에 상술한 상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 의해 구현된, 상기 그라운드 가스켓을 솔더링하고, 리플로우 공정을 수행하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 유연성과 고탄성을 가지는 심재의 표면에 직접 금속 도금이 가능하며, 높은 접지 성능을 가질 뿐만 아니라 전기 전도성이 우수하고, 리플로우 처리시 발생하는 고온에서도 물성 변화가 없고, 솔더링이 용이하게 이루어질 수 있는 그라운드 가스켓의 제조방법 및 상기 그라운드 가스켓의 제조방법으로 구현된 그라운드 가스켓을 구비하는 전자 디바이스의 제조방법을 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 가스켓의 제조방법으로 구현된 그라운드 가스켓의 구조를 개략적으로 도해하는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 가스켓의 제조방법을 개략적으로 도해하는 공정순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 레이저 식각 공정의 유무에 따른 무전해 구리와 주석 도금 샘플의 사진이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 샘플의 제조단계별 주사전자현미경 사진이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있는 것으로, 이하의 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.
일반적으로, 그라운드 가스켓은 각종 전자기기의 인쇄회로기판(PCB)에 장착하여 전기적 노이즈를 접지시켜 제거해주는 EMI(전자파장해) 대응 부품으로서, 전기전도성, 유연성, 고탄성을 필수로 가져야 한다.
기존의 그라운드 가스켓은 스폰지 같은 탄성체의 표면을 전도성 섬유나 금속 박막이 코팅된 폴리머 필름으로 감싸서 제조하거나, 탄성체 제조시 전도성 금속 분말을 혼합하여 제조한다. 상기 그라운드 가스켓의 경우 PCB에 장착할 때, 표면이 매끈하지 못하여 진공흡착이 필요한 표면자동실장 기술을 활용하지 못하거나, 솔더링 온도에서 폴리머 필름이 손상되거나, 탄성복원력이 떨어지는 문제점이 있다.
폴리머같은 비전도체의 도금은 표면을 화학적 에칭하여 미세한 요철을 형성하고, Pd 등의 전도성 촉매로 활성화 처리후 도금을 하는 것이 일반적이다. 화학적 에칭으로 형성된 미세한 요철(凹凸)은 촉매 흡착과 도금층 부착력과 밀접한 관련성이 있으나, 실리콘 고무는 화학적 에칭으로 미세 요철을 형성할 수 없어 표면에 도금한 실제적인 예는 없다.
이를 해결하기 위해 본 발명은, 내열성 실리콘 고무의 표면에 직접 도금을 하여 기존 제품의 단점을 극복할 수 있는 그라운드 가스켓을 제조하는 방법이다. 즉, 고온에서 견디는 탄성체 소재로 많이 사용하는 실리콘 고무와 같이 화학적 식각이 어려운 기재를 레이저를 이용한 물리적 식각방법을 통해 심재의 표면에 직접 도금이 가능한 그라운드 가스켓의 제조방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 가스켓의 제조방법으로 구현된 그라운드 가스켓의 구조를 개략적으로 도해하는 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 그라운드 가스켓의 제조방법을 개략적으로 도해하는 공정순서도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 제조방법으로 구현된 그라운드 가스켓(100)은 심재(10)와 도금층(20)을 포함한다. 먼저, 심재(10)는 예를 들어, 고온에서 견딜 수 있는 탄성체 소재로 많이 사용하는 실리콘 고무와 같이 화학적 식각이 어려운 재료들을 사용할 수 있다. 이러한 심재(10)의 형태는 원형, 사각형, 다각형 등 전자 디바이스와 접합되는 부분의 형태에 따라서 접합이 용이한 크기 및 형태로 다양하게 변경되어 설계될 수 있다. 또한, 심재(10)의 재료는 단일물질로 이루어질 수 있으나, 심재(10)의 가공형태에 따라 복수개의 이종 재료들이 복합적으로 이루어질 수도 있다.
또한, 도금층(20)은 심재(10)의 외주면을 감싸는 형태로 접합되어 있으며, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 철(Fe), 주석(Sn), 아연(Zn) 및 니켈(Ni) 등과 같은 전기전도성이 우수한 금속이 도금 또는 코팅될 수 있다. 또는, 상술한 금속재료들 중 선택된 1종 이상의 합금층을 포함할 수도 있다. 여기서, 도금층(20)의 두께는 수 ㎛ 내외의 얇은 박막으로 가공할 수 있으나, 전자기적 결함과 전자파 장해를 최소화할 수 있는 두께로 설계되어야 한다.
도 2를 참조하면, 그라운드 가스켓의 제조방법은 유연성과 고탄성을 가지는 심재의 표면 상에 패턴을 형성하는 단계(S100), 이후에 순차적으로 민감화 처리를 수행하는 단계(S200), 활성화 처리를 수행하는 단계(S300), 1차 무전해 구리 도금을 수행하는 단계(S400), 2차 무전해 주석 도금을 수행하는 단계(S500) 및 건조 공정을 수행하는 단계(S600)를 포함할 수 있다.
좀 더 구체적으로, 도 1을 다시 참조하여 그라운드 가스켓의 제조방법을 살펴보면, 유연성과 고탄성을 가지는 심재(10)를 준비할 수 있다. 준비된 심재(10)의 적어도 일부 상에 복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 패턴(P)을 형성할 수 있다.
레이저 광을 간섭시키면 파동의 간섭원리에 의해 에너지가 최대인 부분이 주기적으로 나타나며, 예를 들어, 2-beam 간섭으로는 선 형상, 3-beam 간섭으로는 육각형 구조의 주기가 마이크로미터인 점 형상을 얻을 수 있어, 심재(10)의 표면에 미세한 요철을 형성시킬 수 있다. 이 때, 사용하는 레이저 광원의 스펙(spec.)은 약 355㎚, 에너지 290mJ, 펄스 유지시간 6㎱을 이용할 수 있다. 상기 레이저 광원의 스펙은 사용되는 심재(10)의 종류, 형성하고자 하는 패턴(P)의 형상 및 형태에 따라 다양하게 설계 변경될 수 있다.
한편, 일반적으로 레이저 간섭을 이용한 미세 패터닝을 하기 위한 광학 장치는 복잡하며, 패터닝 가공 크기가 제한되고, Beam path가 길어 Beam의 안정성이 떨어지는 단점이 있으나, 본 발명에 적용되는 레이저 간섭은 프리즘을 이용함으로써 별도의 다른 복잡한 장치가 필요 없는 구조가 간단하며, 미세 패턴을 형성할 수 있는 장점이 있다.
또한, 레이저 광의 간섭을 이용한 물리적 식각 방법은 마스크 등이 불필요하고, 타 방법(화학적 식각)에 비해 간단하며, 대면적 가공이 가능한 장점이 있다. 또, 레이저 간섭을 이용한 식각 방법은 심재(10)의 표면 구조를 주기적으로 배열된 기하학적인 형상, 화학적 조성 및 결정화도 등이 잘 제어된 표면 구조를 갖도록 가공함으로써 새로운 표면 특성의 구현이 가능하다. 또, 심재(10)의 표면을 레이저 광의 간섭을 이용하여 패턴(P) 형성 후 심재(10) 표면의 젖음성이 향상됨에 따라 전도성이 우수한 금속으로 도금시 부착력이 향상되는 효과가 있다.
여기서, 패턴(P)은 하나의 레이저 광원으로부터 방출된 레이저 광을 프리즘(prism)을 이용하여 분산시킴으로써 형성된 복수개의 레이저 광들의 간섭에 의해서 심재(10)의 표면 중 일부에 요철(凹凸)구조를 형성할 수 있다. 또, 심재(10)의 표면 상에 입사되는 서로 다른 파장을 갖는 복수개의 레이저 광들의 입사각이 변화함에 따라 패턴(P)의 형상이 다르게 형성될 수 있다. 형성하고자 하는 패턴(P)의 형상에 따라 레이저 광원들의 숫자와 심재(10)의 표면에 입사되는 입사각을 조절할 수 있도록 다양한 형태(굴절률, 면수 등)의 프리즘을 사용할 수 있다.
이후에, 패턴(P)이 형성된 심재(10) 상에 도금층(20)을 형성하기 이전에, 심재(10)를 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl) 혼합용액에 상온에서 약 1분 동안 침지시켜 민감화 처리를 수행할 수 있다. 여기서, 민감화(Sensitization) 처리는 예를 들어, 주석 민감화 용액 속에 존재하는 주석 입자를 캐리어 기판에 흡착시키는 단계로서, 흡착하는 주석 입자의 크기는 팔라듐 촉매의 크기를 결정할 수 있으며, 또 촉매화 공정으로 이해될 수도 있다. 이후에, 민감화 처리가 완료된 심재(10)를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4) 혼합용액에 상온에서 약 1분 동안 침지시켜 활성화 처리를 수행할 수 있다. 여기서, 상기 민감화 처리와 활성화 처리는 심재(10)의 표면을 도금하기 위해서 전처리하는 과정이다.
또한, 활성화 처리까지 완료된 심재(10) 상에 도전성을 향상하기 위해서 1차 무전해 구리 도금을 수행할 수 있다. 이 때, 상기 1차 무전해 구리 도금은 패턴(P)이 형성된 심재(10)를 황산구리오수화물(CuSO4·5H2O), 에틸렌다이아민테트라아세트산(EDTA), 수산화나트륨(NaOH) 및 포름알데히드(HCHO)가 첨가된 혼합용액에 약 60℃의 온도에서 약 10분 동안 침지시켜 구리 도금층(22)을 형성할 수 있다. 여기서, 무전해 도금 방법에 대한 구체적인 구조나 기술은 이미 널리 공지된 것으로 상세한 설명은 생략한다.
한편, 구리 도금층(22) 상에 전자 디바이스의 인쇄회로기판(PCB)과의 솔더링을 향상시키기 위해서, 2차 무전해 주석 도금을 수행함으로써 구리 도금층(22) 상에 주석 도금층(24)를 형성할 수 있다. 여기서, 2차 무전해 주석 도금 방법에 대한 구체적인 구조나 기술은 이미 널리 공지된 것으로 상세한 설명은 생략한다.
한편, 도금층(20)을 형성하는 단계 이후에, 도금층(20)이 형성된 심재(10)를 건조함으로써 내열성, 유연성, 고탄성을 가지는 실리콘 고무 표면에 직접 금속 드금이 되도록 레이저 식각 공정을 포함한 그라운드 가스켓(100)을 구현할 수 있다.
한편, 여기에 도시하지는 않았지만, 그라운드 가스켓(100)은 인쇄회로기판(PCB) 상에 솔더링하고, 리플로우 공정을 거쳐 접합됨으로써 전기적 노이즈를 제거해주며, 접지력이 우수한 전자 디바이스를 구현할 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위해서 금속 접합 방법의 실험예를 제공한다. 다만, 하기의 실험예들은 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 본 발명이 아래의 실험예들에 의해서 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실험예에 의한 샘플로서, 실리콘 고무 심재(10)를 준비했다. 실리콘 고무 심재(10)의 표면 상에 복수개의 레이저 광을 이용하여 패턴(P)을 형성하였다. 이후에 상온에서 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl) 혼합용액에 상온에서 약 1분간 침지시키고, 연속해서, 상온에서 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4) 혼합용액에 약 1분간 침지시켜 민감화 처리와 활성화 처리를 연속적으로 수행했으며, 이후에 약 60℃의 황산구리오수화물(CuSO4·5H2O), 에틸렌다이아민테트라아세트산(EDTA), 수산화나트륨(NaOH) 및 포름알데히드(HCHO)가 첨가된 혼합용액에 약 10분간 침지시켜 실리콘 고무 심재의 표면 상에 구리 도금층을 형성함으로써 그라운드 가스켓 샘플을 제조하였다.
한편, 이와 비교하기 위해서, 상기 실험예에 사용한 것과 동일한 심재 상에 레이저 식각 공정을 하지 않았다. 이후에 실험예와 동일한 방법으로 제조하였다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 식각 공정의 유무에 따른 무전해 구리 도금 샘플의 사진이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 샘플의 제조단계별 주사전자현미경 사진이다.
도 3의 (a)는 본 발명의 실시예에 의한 샘플로서, 구리와 주석을 도금한 결과를 보면, 구리 도금층이 샘플 전체에 걸쳐 고르게 형성된 것을 확인할 수 있으며, 반면에, 도 3의 (b)는 비교예에 의한 샘플로서, 구리 도금층이 형성되지 않고, 심재(10)의 표면이 그대로 드러나 있는 것을 확인할 수 있다.
도 4의 (a), (b) 및 (c)는 본 발명의 실시예에 의한 샘플의 심재 표면, 레이저 식각 공정 후 심재의 표면 및 구리 도금 후 샘플의 표면을 주사전자현미경(SEM)으로 분석한 결과이다.
도 4의 (a), (b) 및 (c)를 참조하면, 매끈한 심재의 표면에 복수개의 레이저 광을 이용하여 패턴을 형성하고, 상기 패턴의 형상에 따라 구리 도금층이 전면에 고르게 형성된 것을 알 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예와 같이 내열성, 유연성, 고탄성을 가지는 실리콘 고무 표면에 복수개의 레이저 광들의 간섭을 이용하여 패턴을 형성함으로써 실리콘 고무 표면 상에 직접 금속 도금이 가능한 그라운드 가스켓을 구현하게 되면, 화학적 식각과 같은 복잡하고, 고가의 공정을 수행하지 않아도 쉽게 제조가 가능하게 되어, 제조비용을 절감할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
10 : 심재
20 : 도금층
22 : 구리 도금층
24 : 주석 도금층
100 : 그라운드 가스켓

Claims (10)

  1. 복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 패턴이 형성된 심재 상에 도금층을 형성하는 단계;
    를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 패턴을 형성하는 단계는,
    하나의 레이저 광원으로부터 방출된 레이저 광을 프리즘(prism)을 이용하여 굴절시킴으로써 형성된 상기 복수개의 레이저 광들의 간섭에 의해서 상기 심재의 표면에 요철(凹凸)구조를 형성하는 단계를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 패턴을 형성하는 단계는,
    상기 심재의 표면 상에 입사되는 서로 다른 파장 대역을 갖는 상기 복수개의 레이저 광의 입사각이 변함에 따라 상기 패턴의 형상이 다르게 형성되는 단계를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 패턴을 형성하는 단계 이후에,
    상기 패턴이 형성된 심재 상에 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl)이 혼합된 용액에 소정의 시간동안 침지시켜 민감화(Sensitization) 처리를 수행하는 단계를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 민감화 처리를 수행하는 단계 이후에,
    상기 민감화 처리가 완료된 상기 심재를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4)이 혼합된 용액에 소정의 시간동안 침지시켜 활성화(Activation) 처리를 수행하는 단계를 더 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 도금층을 형성하는 단계는
    상기 패턴이 형성된 심재 상에 1차 무전해 구리 도금 및 2차 무전해 주석 도금을 순차적으로 수행하는 단계를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 1차 무전해 구리 도금을 수행하는 단계는 상기 패턴이 형성된 심재를 황산구리오수화물(CuSO4·5H2O), 에틸렌다이아민테트라아세트산(EDTA), 수산화나트륨(NaOH) 및 포름알데히드(HCHO)가 첨가된 혼합용액에 소정의 시간동안 침지시키는 단계를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 도금층을 형성하는 단계 이후에,
    상기 도금층이 형성된 상기 심재를 건조하는 단계를 더 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  9. 복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계;
    상기 패턴이 형성된 심재를 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl)이 혼합된 용액에 침지시켜 민감화 처리를 수행하는 단계;
    상기 민감화 처리가 완료된 상기 심재를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4)이 혼합된 용액에 침지시켜 활성화 처리를 수행하는 단계;
    상기 패턴이 형성된 심재 상에 구리 도금층을 형성하는 단계;
    상기 구리 도금층이 형성된 심재 상에 주석 도금층을 형성하는 단계; 및
    상기 주석 도금층이 형성된 심재를 건조하는 단계;
    를 포함하는,
    그라운드 가스켓의 제조방법.
  10. 인쇄회로기판을 준비하는 단계; 및
    상기 인쇄회로기판 상에 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 의한 상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 의해 구현된, 상기 그라운드 가스켓을 솔더링하고, 리플로우 공정을 수행하는 단계;
    를 포함하는,
    전자 디바이스의 제조방법.
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