KR20160131478A - 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터 - Google Patents

세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터 Download PDF

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KR20160131478A
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Abstract

본 발명은 기판 세정을 위한 가스 공급 배관에 연결되는 어댑터에 관한 것으로, 일측에 세정 가스 공급부와 연결 배관으로 연결되며 타측에 세정 가스를 기판으로 분사하는 연결 어댑터가 연결되는 어댑터 몸체와; 어댑터 몸체의 일측에 어댑터 몸체의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 연결 배관을 통해 공급되는 세정 가스를 가속시켜 분사하는 제1테이퍼 공간부와; 제1테이퍼 공간부와 연통되며 제1테이퍼 공간부를 따라 어댑터 몸체에 나사선형으로 형성되어 제1테이퍼 공간부에 의해 가속된 세정 가스를 회전시키는 다수개의 나선형 홈부와; 제1테이퍼 공간부와 연통되며 어댑터 몸체의 타측에 어댑터 몸체의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 제1테이퍼 공간부와 다수개의 나선형 홈부에 의해 가속되고 회전된 세정 가스가 연결 어댑터로 공급되도록 유도하는 제2테이퍼 공간부로 구성되는 것을 특징으로 한다.

Description

세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터{Adapter for increasing jetting velocity of gas for cleaning}
본 발명은 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터에 관한 것으로, 특히 기판으로 질소 가스를 공급하는 배관에 연결되어 기판으로 분사되는 질소 가스의 분사 속도를 개선시킬 수 있는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터에 관한 것이다.
반도체 소자나 LCD(liquid crystal display) 패널 제조 공정은 박막 제조나 포토리소그래피(photolithography) 공정 등의 다양한 제조 공정으로 이루어지며, 각 공정이 완료된 후 세정 공정을 실시한다. 세정 공정은 초순수를 이용한 습식 세정과 가스 상태의 불활성 가스를 이용한 건식 세정이 있다. 초순수를 이용한 습식 세정은 환경오염을 유발할 수 있는 반면에 건식 세정은 불활성 가스를 이용함으로써 환경 오염발생을 최소화할 수 있다. 이러한 건식 세정에 관련된 기술이 한국등록특허 제464663호(특허문헌 1)에 공개되어 있다.
한국등록특허 제751226호는 세정 장치에 관한 것으로, 냉각 장치와 가속 노즐로 이루어진다. 냉각 장치는 기체 상태의 가스를 증기 상태로 변화시키며, 가속 노즐은 냉각 장치로부터 제공되는 기체 상태의 가스를 가속시켜 웨이퍼의 표면으로 분사시킨다. 즉, 한국등록특허 제751226호의 세정 장치는 냉각 장치를 이용해 질소를 저온에서 증기로 만든 상태에서 가속 노즐로 의해 웨이퍼에 고압으로 분사되도록 함으로써 충돌 에너지 및 열교환 반응에 의해 웨이퍼를 세정할 수 있도록 한다.
한국등록특허 제751226호와 같은 종래의 세정 장치는 노즐만을 이용하여 질소 가스를 가속시킴으로써 질소 가스의 속도가 저하되어 세정 효과가 절감되고 세정 공정 시간의 증가됨에 의해 질소 가스의 소모량이 증가되는 문제점이 있다.
특허문헌 1: 한국등록특허 제464663호(등록일: 2004.12.22.)
본 발명의 목적은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기판으로 질소 가스를 공급하는 배관에 연결되어 기판으로 분사되는 질소 가스의 분사 속도를 개선시킬 수 있는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터를 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은 기판으로 분사되는 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 기판의 세정 공정의 신뢰성을 개선시킬 수 있는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 세정 공정 시간을 줄여 세정 공정의 생산성을 증가시킬 수 있는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 세정 공정 시간을 줄여 세정 제조 공정에 사용되는 질소 가스의 소모량을 줄일 수 있고, 질소 가스의 소모량을 줄임에 의해 제조 원가를 절감할 수 있는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터를 제공함에 있다.
본 발명은 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터는 일측에 세정 가스 공급부와 연결 배관으로 연결되며 타측에 세정 가스를 기판으로 분사하는 연결 어댑터가 연결되는 어댑터 몸체와; 상기 어댑터 몸체의 일측에 어댑터 몸체의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 연결 배관을 통해 공급되는 세정 가스를 가속시켜 분사하는 제1테이퍼 공간부와; 상기 제1테이퍼 공간부와 연통되며 제1테이퍼 공간부를 따라 어댑터 몸체에 나사선형으로 형성되어 제1테이퍼 공간부에 의해 가속된 세정 가스를 회전시키는 다수개의 나선형 홈부와; 상기 제1테이퍼 공간부와 연통되며 상기 어댑터 몸체의 타측에 어댑터 몸체의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 제1테이퍼 공간부와 다수개의 나선형 홈부에 의해 가속되고 회전된 세정 가스가 연결 어댑터로 공급되도록 유도하는 제2테이퍼 공간부로 구성되며, 상기 제1테이퍼 공간부와 상기 제2테이퍼 공간부는 서로 반대 방향으로 테이퍼지도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터는 기판으로 질소 가스를 공급하는 배관에 연결되어 기판으로 분사되는 질소 가스의 분사 속도를 개선시킬 수 있는 이점이 있고, 기판으로 분사되는 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 기판의 세정 공정의 신뢰성을 개선시킬 수 있는 이점이 있다.
본 발명은 기판 세정을 위한 가스 공급 배관에 연결되는 어댑터는 또한, 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 세정 공정 시간을 줄여 세정 공정의 생산성을 증가시킬 수 있는 이점이 있고, 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 세정 공정 시간을 줄여 세정 제조 공정에 사용되는 질소 가스의 소모량을 줄일 수 있는 이점이 있으며, 질소 가스의 소모량을 줄임에 의해 제조 원가를 절감할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명은 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터가 적용된 가스공급부의 측면도,
도 2는 도 1에 도시된 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터의 단면도,
도 3은 도 1에 도시된 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터의 평면도,
도 4는 도 1에 도시된 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터의 배면도,
도 5는 도 2에 도시된 제1원통형 외주면의 전개도,
도 6은 도 1에 도시된 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터의 사시도.
이하, 본 발명의 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 1 및 도 2에서와 같이 본 발명의 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터(110)는 어댑터 몸체(111), 제1테이퍼 공간부(112), 다수개의 나선형 홈부(113) 및 제2테이퍼 공간부(114)로 구성된다.
어댑터 몸체(111)는 어댑터 몸체(111)는 일측에 세정 가스 공급부(10)와 연결 배관(11)으로 연결되며 타측에 세정 가스를 기판(20)으로 분사하는 연결 어댑터(120,130)가 연결되며, 제1테이퍼 공간부(112)는 어댑터 몸체(111)의 일측에 어댑터 몸체(111)의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 연결 배관(11)을 통해 공급되는 세정 가스를 가속시켜 분사한다. 다수개의 나선형 홈부(113)는 각각 제1테이퍼 공간부(112)와 연통되며 제1테이퍼 공간부(112)를 따라 어댑터 몸체(111)에 나사선형으로 형성되어 제1테이퍼 공간부(112)에 의해 가속된 세정 가스를 회전시킨다. 제2테이퍼 공간부(114)는 제1테이퍼 공간부(112)와 연통되며 어댑터 몸체(111)의 타측에 어댑터 몸체(111)의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 제1테이퍼 공간부(112)와 다수개의 나선형 홈부(113)에 의해 가속되고 회전된 세정 가스가 연결 어댑터(120,130)로 공급되도록 유도한다. 이러한 제1테이퍼 공간부(112)와 제2테이퍼 공간부(114)는 서로 반대 방향으로 테이퍼지도록 형성된다.
상기 구성을 갖는 본 발명의 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터(110)의 구성을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
어댑터 몸체(111)는 본 발명의 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터(110)를 전반적으로 지지하며, 도 1, 도 2 및 도 6에서와 같이 일측의 끝단에 세정 가스 공급부(10)에 연결 배관(11)과 연결되는 암플랜지(female flange:111a)가 형성되며, 타측의 끝단에 세정 가스를 기판(20)으로 분사하는 연결 어댑터(120,130)에 연결되는 수플랜지(male flange:111b)가 형성된다. 암플랜지(111a)는 실링부재(도시되지 않음)를 개재한 상태에서 연결 배관(11)이 수납되어 볼팅(bolting) 작업에 의해 연결되며, 볼팅 작업을 위해 암플랜지(111a)는 가장자리를 따라 다수개의 관통구(111c)가 등간격으로 이격되어 형성된다. 여기서, 볼팅 작업은 볼트(도시 않음)와 너트(도시되지 않음)를 이용해 암플랜지(111a)에 연결 배관(11)을 연결하는 작업을 나타낸다. 수플랜지(111b)는 연결 어댑터(120,130) 중 어느 하나의 수플랜지(131,121)와 볼팅 작업으로 연결되며, 볼팅 작업을 위해 볼트(도시되지 않음)을 삽입하기 위해 가장자리를 따라 다수개의 관통구(111d)가 등간격으로 이격되어 형성된다.
제1테이퍼 공간부(112)와 제2테이퍼 공간부(114)는 도 2, 도 3 및 도 4에서와 같이 각각 서로 원형 연결단부(110a)를 공유하도록 형성된다. 예를 들어, 제1테이퍼 공간부(112)는 도 2 및 도 3에서와 같이 원형 연결단부(110a), 원형 인렛(inlet)단부(112a) 및 제1원통형 외주면(112b)으로 이루어진다. 원형 연결단부(110a)는 제1테이퍼 공간부(112)와 제2테이퍼 공간부(114)가 서로 공유하도록 제1테이퍼 공간부(112)의 타측 끝단에 형성되며, 원형 인렛(inlet)단부(112a)는 제1테이퍼 공간부(112)의 일측 끝단에 형성된다. 제1원통형 외주면(112b)은 원형 인렛단부(112a)와 원형 연결단부(110a) 사이에 위치되어 원형 인렛단부(112a)와 원형 연결단부(110a)와 연결되도록 형성되어 원형 연결단부(110a)와 원형 인렛(inlet)단부(112a)와 함께 제1테이퍼 공간부(112)를 형성한다.
제2테이퍼 공간부(114)는 도 2 및 도 4에서와 같이 원형 연결단부(110a), 원형 아웃렛(outlet)단부(114a) 및 제2원통형 외주면(114b)으로 이루어진다. 원형 연결단부(110a)는 제1테이퍼 공간부(112)와 제2테이퍼 공간부(114)가 서로 공유하도록 제2테이퍼 공간부(114)의 일측 끝단에 형성되며, 원형 아웃렛(outlet)단부(114a)는 제2테이퍼 공간부(114)의 타측 끝단에 형성된다. 제2원통형 외주면(114b)은 원형 아웃렛단부(114a)와 원형 연결단부(110a) 사이에 위치되어 원형 아웃렛단부(114a)와 원형 연결단부(110a)와 연결되도록 형성되어 원형 아웃렛단부(114a)와 원형 연결단부(110a)와 함께 제2테이퍼 공간부(114)를 형성한다.
제1테이퍼 공간부(112)와 제2테이퍼 공간부(114)에 각각 구비되는 제1원통형 외주면(112b)과 제2원통형 외주면(114b)은 각각 도 2 내지 도 4에서와 같이 원형 인렛단부(112a)나 원형 아웃렛단부(112a)의 직경(D2,D3)이 원형 연결단부(110a)의 직경(D1)보다 크도록 형성되어 원형 연결단부(110a)에서 원형 인렛단부(112a)나 원형 아웃렛단부(112a)으로 테이퍼지도록 형성된다.
즉, 제1원통형 외주면(112b)은 원형 인렛단부(112a)에서 원형 연결단부(110a)로 갈수록 직경(D2->D1)이 좁아지도록 테이퍼지게 형성되어 세정 가스의 압력을 증가시킴에 의해 분사 속도를 증가시켜 제1테이퍼 공간부(112)에서 제2테이퍼 공간부(114)로 분사시킨다. 이러한 제1원통형 외주면(112b)의 테이퍼 각도(A1)은 도 2에서와 같이 원형 연결단부(110a)를 기준으로 원형 연결단부(110a)에서 원형 인렛단부(112a)로 1.5 내지 4.5도(degree) 테이퍼지도록 형성되며, 바람직하게는 3도로 설정하여 제조한다.
제2원통형 외주면(114b)은 원형 연결단부(110a)에서 원형 아웃렛단부(112a)으로 갈수록 직경(D1->D3)이 넓어지도록 테이퍼지게 형성되어 제1테이퍼 공간부(112)에 의해 분사 속도가 증가된 세정 가스가 연결 어댑터(120,130)에 의해 역류되지 않은 상태에서 연결 어댑터(120,130)로 세정 가스가 공급되도록 한다. 제2원통형 외주면(114b)의 테이퍼 각도(A2)은 도 2에서와 같이 원형 연결단부(110a)를 기준으로 원형 연결단부(110a)에서 원형 아웃렛(114a)로 5.5 내지 9.5도(degree: 실시예 7도) 테이퍼지도록 형성된다.
세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 제1테이퍼 공간부(112)와 제2테이퍼 공간부(114)에 각각 구비되는 제1원통형 외주면(112b)의 중심축(CL1)의 길이(L1)와 제2원통형 외주면(114b)의 중심축(CL2)의 길이(L2)의 비는 도 2에서와 같이 1.70 내지 1.40 : 1이 되도록 설정해 제조한다. 예를 들어, 제1원통형 외주면(112b)의 중심축(CL1)의 길이(L1)와 제2원통형 외주면(114b)의 중심축(CL2)의 길이(L2)의 비를 1.51: 1로 설정하는 경우에 제1원통형 외주면(112b)의 중심축(CL1)의 길이(L1)는 105.7㎜로 설정하며, 제2원통형 외주면(114b)의 중심축(CL2)의 길이(L2)는 70㎜로 설정하여 제조함으로써 세정 가스의 분사 속도의 증가를 개선시킨다.
다수개의 나선형 홈부(113)는 각각 도 5에서와 같이 제1테이퍼 공간부(112)에 구비되는 제1원통형 외주면(112b)의 중심축(CL1)의 길이(L1)당 1 회전되도록 제1원통형 외주면(112b)을 따라 어댑터 몸체(111)에 형성된다. 이러한 다수개의 나선형 홈부(113)는 각각 도 3에서와 같이 서로 제1테이퍼 공간부(112)의 원형 인렛단부(112a)와 원형 연결단부(110a)의 각각 중심 즉, 중심축(CL1)을 기준으로 각도(A3)가 서로 40 내지 120도(degree)로 이격되도록 형성된다. 예를 들어, 원형 인렛단부(112a)의 직경(D2)이 40㎜인 경우에 다수개의 나선형 홈부(113)는 도 3에서와 같이 6개가 형성되며, 각각은 서로 제1원통형 외주면(112b)의 중심축(CL1)을 기준으로 60도 간격으로 이격되도록 한다. 원형 인렛단부(112a)의 직경(D2)이 25㎜인 경우에 다수개의 나선형 홈부(113)는 4개가 형성되며, 각각은 서로 제1원통형 외주면(112b)의 중심축(CL1)을 기준으로 90도 간격으로 이격되도록 한다. 여기서, 도 5는 제1테이퍼 공간부(112)를 펴쳐서 1 개의 나선형 홈부(113)를 표시한 개략도이다.
다수개의 나선형 홈부(113)는 각각 도 2 및 도 3에서와 같이 단면이 50 내지 86도(degree)로 벌어지는 'V'자형으로 형성되며, 깊이(T)는 1 내지 5㎜가 되도록 형성된다. 예를 들어, 다수개의 나선형 홈부(113)는 각각 50 내지 86도(degree)로 벌어지는 'V'자형으로 제1원통형 외주면(112b)을 통해 어댑터 몸체(110)을 파고 들어 홈이 생기도록 제조한다. 이러한 다수개의 나선형 홈부(113)는 제1테이퍼 공간부(112)에 의해 분사 속도가 증가된 세정 가스의 분사 속도를 더욱 증가시킴과 아울러 안정적으로 제2테이퍼 공간부(114)로 이동시킨다. 제2테이퍼 공간부(114)로 이동된 세정 가스는 어댑터 몸체(110)의 수플랜지(111b)에 연결되는 연결 어댑터(120,130)로 안정적으로 분사 속도를 증가시켜 이동시킨다. 연결 어댑터(120,130) 중 연결 어댑터(120)에 어댑터 몸체(110)의 수플랜지(111b)가 연결되며, 연결 어댑터(130)는 연결 어댑터(120)에 볼팅 작업을 통해 연결되어 연결 어댑터(120)를 통해 공급되는 세정 가스를 도 1에서와 같이 기판(20)으로 분사하여 기판(20)을 세정한다. 여기서, 기판(20)은 반도체 소자를 제조하기 위한 웨이퍼나 LCD(liquid crystal display) 패널 등과 같은 평판 패널이 사용되며, 세정 가스로서 질소 가스(N2)가 사용된다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터는 기판으로 질소 가스를 공급하는 배관에 연결되어 기판으로 분사되는 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 기판의 세정 공정의 신뢰성을 개선시킬 수 있고, 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 세정 공정 시간을 줄여 세정 공정의 생산성을 증가시킬 수 있으며, 질소 가스의 분사 속도를 개선시킴으로써 세정 공정 시간을 줄여 세정 제조 공정에 사용되는 질소 가스의 소모량을 줄일 수 있으며, 질소 가스의 소모량을 줄임에 의해 제조 원가를 절감할 수 있다.
본 발명은 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터는 반도체나 LCD 패널의 제조 산업 분야에 적용할 수 있다.
10: 세정 가스 공급부 11: 연결 배관
20: 기판 110: 어댑터
111: 어댑터 몸체 112: 제1테이퍼 공간부
113: 나선형 홈부 114: 제2테이퍼 공간부
120,130: 연결 어댑터

Claims (9)

  1. 일측에 세정 가스 공급부와 연결 배관으로 연결되며 타측에 세정 가스를 기판으로 분사하는 연결 어댑터가 연결되는 어댑터 몸체와;
    상기 어댑터 몸체의 일측에 어댑터 몸체의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 연결 배관을 통해 공급되는 세정 가스를 가속시켜 분사하는 제1테이퍼 공간부와;
    상기 제1테이퍼 공간부와 연통되며 제1테이퍼 공간부를 따라 어댑터 몸체에 나사선형으로 형성되어 제1테이퍼 공간부에 의해 가속된 세정 가스를 회전시키는 다수개의 나선형 홈부와;
    상기 제1테이퍼 공간부와 연통되며 상기 어댑터 몸체의 타측에 어댑터 몸체의 길이방향으로 테이퍼(taper)지도록 형성되어 제1테이퍼 공간부와 다수개의 나선형 홈부에 의해 가속되고 회전된 세정 가스가 연결 어댑터로 공급되도록 유도하는 제2테이퍼 공간부로 구성되며,
    상기 제1테이퍼 공간부와 상기 제2테이퍼 공간부는 서로 반대 방향으로 테이퍼지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 어댑터 몸체는 일측의 끝단에 세정 가스 공급부에 연결 배관과 연결되는 암플랜지가 형성되며, 타측의 끝단에 세정 가스를 기판으로 분사하는 연결 어댑터에 연결되는 수플랜지가 형성되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1테이퍼 공간부와 상기 제2테이퍼 공간부는 각각 서로 원형 연결단부를 공유하도록 형성되고, 상기 제1테이퍼 공간부는 일측 끝단에 원형 인렛(inlet)단부가 형성되고 타측 끝단에 상기 원형 연결단부가 형성되며 원형 인렛단부와 원형 연결단부 사이에 위치되어 원형 인렛단부와 원형 연결단부와 연결되도록 제1원통형 외주면이 형성되며, 상기 제2테이퍼 공간부는 일측 끝단에 상기 원형 연결단부가 형성되고 타측 끝단에 원형 아웃렛(outlet)단부가 형성되며 원형 아웃렛단부와 원형 연결단부 사이에 위치되어 원형 아웃렛단부와 원형 연결단부와 연결되도록 제2원통형 외주면이 형성되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1원통형 외주면과 상기 제2원통형 외주면은 각각 원형 인렛단부나 원형 아웃렛단부의 직경이 원형 연결단부의 직경보다 크도록 형성되어 원형 연결단부에서 원형 인렛단부나 원형 아웃렛단부로 테이퍼지도록 형성되며,
    상기 제1원통형 외주면은 원형 연결단부를 기준으로 원형 연결단부에서 원형 인렛단부로 1.5 내지 4.5도(degree) 테이퍼지도록 형성되며, 상기 제2원통형 외주면은 원형 연결단부를 기준으로 원형 연결단부에서 원형 아웃렛단부로 5.5 내지 9.5도(degree) 테이퍼지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1원통형 외주면의 중심축의 길이와 상기 제2원통형 외주면의 중심축의 길이의 비는 1.70 내지 1.40 : 1이 되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 다수개의 나선형 홈부는 각각 제1테이퍼 공간부의 제1원통형 외주면의 중심축의 길이당 1 회전되도록 제1원통형 외주면을 따라 어댑터 몸체에 형성되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 다수개의 나선형 홈부는 각각 서로 제1테이퍼 공간부의 원형 인렛단부와 원형 연결단부의 각각 중심을 기준으로 서로 40 내지 120도(degree) 이격되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 다수개의 나선형 홈부는 각각 단면이 50 내지 86도(degree)로 벌어지는 'V'자형으로 형성되며, 깊이는 1 내지 5㎜인 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 세정 가스는 질소 가스가 사용되는 것을 특징으로 하는 세정 가스의 분사 속도를 증가시키기 위한 어댑터.
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