CN104858195A - 一种喷淋装置和清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种喷淋装置和清洗设备。该喷淋装置包括工作单元、供应单元和驱动单元,工作单元用于旋转喷淋清洗剂,以对待清洗基板进行清洗;供应单元用于为工作单元提供清洗剂;驱动单元用于为工作单元提供旋转的动力。该喷淋装置通过设置能旋转喷淋的工作单元,使该喷淋装置在喷淋时,清洗剂的喷射压力均匀,从而使待清洗基板表面受清洗剂喷淋的冲击力均匀,进而避免了喷淋压力不均匀产生的不良。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体地,涉及一种喷淋装置和清洗设备。
背景技术
液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)因其体积小、功耗低、无辐射等特点已成为目前平板显示器中的主流产品。液晶显示面板是液晶显示器中的关键组件。
在液晶显示面板的制备过程中,通常会涉及对形成一定膜层的显示基板进行清洗的工艺,如在低温多晶硅(LTPS)液晶显示面板的制备过程中,在显示基板完成各个湿法刻蚀工艺步骤后,都会对显示基板进行高压喷淋清洗。
在对显示基板的高压喷淋清洗过程中所采用的高压喷淋装置通常固定设置在喷淋腔室内,由于高压喷淋喷射的压力比一般喷淋的压力大,往往会得到非常好的清洗效果,特别是在清洗已经含有图案的玻璃基板的时候,由于基板表面存在大量沟道,孔等设计,我们必须借助高压喷淋的方式来去除这些区域的异物,这样可以达到更好的清洗效果。
但是在传统高压喷淋装置的实际应用中,我们发现其在带来很好清洗效果的同时也给我们带来了很多问题。由于是高压喷淋,高压水流在喷射到基板表面后往往不能达到均匀的压力喷射。这样在已经有膜层存在的基板表面,由于喷淋压力不均匀的问题,会导致显示基板出现各种不良,造成最终制备形成的显示面板点亮时的线状阴影(Line Mura)现象。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题,提供一种喷淋装置和清洗设备。该喷淋装置通过设置能旋转喷淋的工作单元,使该喷淋装置在喷淋时,清洗剂的喷射压力均匀,从而使待清洗基板表面受清洗剂喷淋的冲击力均匀,进而避免了喷淋压力不均匀产生的不良。
本发明提供一种喷淋装置,包括工作单元、供应单元和驱动单元,所述工作单元用于旋转喷淋清洗剂,以对待清洗基板进行清洗;所述供应单元用于为所述工作单元提供所述清洗剂;所述驱动单元用于为所述工作单元提供旋转的动力。
优选地,所述工作单元包括喷淋部和旋转轴,所述喷淋部用于在所述旋转轴的带动下旋转,并向所述待清洗基板喷淋所述清洗剂;所述旋转轴用于在所述驱动单元的带动下旋转。
优选地,所述喷淋部包括喷淋腔和设置在所述喷淋腔外壁上的喷嘴,所述喷嘴与所述喷淋腔的内部连通;所述旋转轴贯穿所述喷淋腔,且与所述喷淋腔的相对两腔壁连接。
优选地,所述旋转轴与所述供应单元连接,所述旋转轴为空心的,所述旋转轴的对应位于所述喷淋腔内的部分段上开设有第一开口;所述供应单元用于将所述清洗剂供应给所述旋转轴,所述旋转轴能通过所述第一开口将所述清洗剂供应至所述喷淋腔中。
优选地,所述喷淋腔的内壁上设置有螺旋状的凹槽。
优选地,所述喷嘴包括多个,多个所述喷嘴在所述喷淋腔外壁上呈螺旋状分布,且所述喷嘴的分布位置与所述凹槽相对应;
或者,多个所述喷嘴在所述喷淋腔外壁上均匀分布。
优选地,所述供应单元包括容置腔和供应泵,所述容置腔与所述供应泵之间通过管道连通,所述供应泵能通过所述管道将所述清洗剂供应至所述容置腔内;
所述容置腔设置在所述旋转轴的一端,所述旋转轴贯穿所述容置腔,且与所述容置腔的相对两侧壁活动连接,所述旋转轴的对应位于所述容置腔内的部分段上开设有第二开口;所述容置腔能将内部容置的所述清洗剂通过所述第二开口供应至所述旋转轴。
优选地,所述驱动单元包括驱动马达和变频控制器,所述驱动马达用于带动所述旋转轴转动;所述变频控制器与所述驱动马达连接,用于控制所述驱动马达的旋转速度。
优选地,所述驱动单元还包括磁传动机构,所述磁传动机构设置在所述供应单元和所述驱动马达之间;
所述磁传动机构包括相对应设置的第一传动部和第二传动部,所述第一传动部与所述旋转轴的端部连接,所述第二传动部与所述驱动马达连接,所述第一传动部和所述第二传动部之间存在磁力,所述第二传动部能在所述磁力的作用下将所述驱动马达输出的旋转动力传递至所述第一传动部,以使所述第一传动部带动所述旋转轴旋转。
优选地,还包括喷淋室,所述喷淋部设置在所述喷淋室内,所述旋转轴贯穿所述喷淋室,且与所述喷淋室的相对两侧壁活动连接,所述供应单元和所述驱动单元设置在所述喷淋室外。
优选地,所述待清洗基板用于设置在所述喷淋室的底部,且能沿一个方向移动,所述工作单元位于所述待清洗基板的上方;所述工作单元的旋转速度与所述待清洗基板的移动速度相同。
本发明还提供一种清洗设备,包括上述喷淋装置。
本发明的有益效果:本发明所提供的喷淋装置,通过设置能旋转喷淋的工作单元,使该喷淋装置在喷淋时,清洗剂的喷射压力均匀,从而使待清洗基板表面受清洗剂喷淋的冲击力均匀,进而避免了喷淋压力不均匀产生的不良。
本发明所提供的清洗设备,通过采用上述喷淋装置,提高了经该清洗设备清洗的基板的良率。
附图说明
图1为本发明实施例1中喷淋装置的结构示意图;
图2为图1中工作单元的结构示意图;
图3为图1中供应单元的结构示意图。
其中的附图标记说明:
1.工作单元;10.喷淋部;11.喷淋腔;111.凹槽;12.喷嘴;13.旋转轴;131.第一开口;132.第二开口;2.供应单元;21.容置腔;22.供应泵;23.管道;3.驱动单元;31.驱动马达;4.喷淋室;5.第一传动部;6.第二传动部;7.待清洗基板。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种喷淋装置和清洗设备作进一步详细描述。
实施例1:
本实施例提供一种喷淋装置,如图1-图3所示,包括工作单元1、供应单元2和驱动单元3,工作单元1用于旋转喷淋清洗剂,以对待清洗基板7进行清洗;供应单元2用于为工作单元1提供清洗剂;驱动单元3用于为工作单元1提供旋转的动力。
通过设置能旋转喷淋的工作单元1,使该喷淋装置在喷淋时,清洗剂的喷射压力均匀,从而使待清洗基板7表面受清洗剂喷淋的冲击力均匀,进而避免了喷淋压力不均匀产生的不良。
本实施例中,工作单元1包括喷淋部10和旋转轴13,喷淋部10用于在旋转轴13的带动下旋转,并向待清洗基板7喷淋清洗剂;旋转轴13用于在驱动单元的带动下旋转。旋转轴13的设置,能使喷淋部10在旋转的同时进行喷淋,从而使喷淋部10的喷淋压力更加均匀。
其中,喷淋部10包括喷淋腔11和设置在喷淋腔11外壁上的喷嘴12,喷嘴12与喷淋腔11的内部连通;旋转轴13贯穿喷淋腔11,且与喷淋腔11的相对两腔壁连接。如此设置,能使旋转轴13带动喷淋腔11转动。本实施例中,喷淋腔11为圆柱形筒,旋转轴13位于圆柱形筒的轴线上,且与圆柱形筒的上下底面固定连接,这样,旋转轴13旋转时就能带动圆柱形筒绕其轴线旋转,从而使喷淋腔11的喷淋压力更加均匀。
本实施例中,旋转轴13与供应单元2连接,旋转轴13为空心的,旋转轴13的对应位于喷淋腔11内的部分段上开设有第一开口131;供应单元2用于将清洗剂供应给旋转轴13,旋转轴13能通过第一开口131将清洗剂供应至喷淋腔11中。第一开口131的设置,能使供应单元2将清洗剂供应至喷淋腔11内,以便喷淋腔11向待清洗基板7喷淋清洗剂。
本实施例中,喷淋腔11的内壁上设置有螺旋状的凹槽111。凹槽111的设置能使清洗剂在旋转的喷淋腔11内部规则流动(即清洗剂在喷淋腔11内部呈螺旋状流动),从而减少清洗剂在喷淋腔11内部流动的阻力,使喷淋腔11内部流动的清洗剂对喷淋腔11的腔壁的压力更加均匀,进而使喷出的清洗剂的压力更加均匀。
本实施例中,喷嘴12包括多个,多个喷嘴12在喷淋腔11外壁上呈螺旋状分布,且喷嘴12的分布位置与凹槽111相对应。如此设置,能使从喷淋腔11流到喷嘴12的清洗剂的压力更加均匀,从而使从喷嘴12喷出的清洗剂的压力也更加均匀,进而使对待清洗基板7的喷淋压力更加均匀。
需要说明的是,多个喷嘴12也可以在喷淋腔11的外壁上均匀分布。即喷嘴12不呈螺旋状分布,由于旋转的喷淋腔11内部的清洗剂对喷淋腔11的腔壁的压力均匀,所以即使喷嘴12均匀分布,也能使喷嘴12内喷出的清洗剂压力均匀。
本实施例中,供应单元2包括容置腔21和供应泵22,容置腔21与供应泵22之间通过管道23连通,供应泵22能通过管道23将清洗剂供应至容置腔21内。容置腔21设置在旋转轴13的一端,旋转轴13贯穿容置腔21,且与容置腔21的相对两侧壁活动连接,旋转轴13的对应位于容置腔21内的部分段上开设有第二开口132;容置腔21能将内部容置的清洗剂通过第二开口132供应至旋转轴13。其中,旋转轴13与容置腔21的相对两侧壁之间通过轴承连接,旋转轴13能通过与轴承的连接自由旋转。供应泵22可以采用涡轮增压泵,涡轮增压泵能够提供所需压力的清洗剂,并通过旋转轴13将清洗剂传送到喷嘴12。
本实施例中,驱动单元3包括驱动马达31和变频控制器(图1-3中未示出),驱动马达31用于带动旋转轴13转动;变频控制器与驱动马达31连接,用于控制驱动马达31的旋转速度。通过变频控制器可以调整驱动马达31的转速,从而对旋转轴13的旋转速度进行调整,以使旋转轴13能够按照需要的转速旋转。
本实施例中,驱动单元3还包括磁传动机构,磁传动机构设置在供应单元2和驱动马达31之间;磁传动机构包括相对应设置的第一传动部5和第二传动部6,第一传动部5与旋转轴13的端部连接,第二传动部6与驱动马达31连接,第一传动部5和第二传动部6之间存在磁力,第二传动部6能在磁力的作用下将驱动马达31输出的旋转动力传递至第一传动部5,以使第一传动部5带动旋转轴13旋转。其中,第一传动部5和第二传动部6分别采用一个磁传动轮。磁传动机构的设置既不影响旋转动力的正常传送,而且能够将供应单元2和驱动单元3分开管控,有利于防止旋转轴13内的清洗剂发生泄漏,从而避免清洗剂对驱动马达31造成污染。
喷淋装置还包括喷淋室4,喷淋部10设置在喷淋室4内,旋转轴13贯穿喷淋室4,且与喷淋室4的相对两侧壁活动连接,供应单元2和驱动单元3设置在喷淋室4外。其中,旋转轴13与喷淋室4的相对两侧壁之间通过轴承连接,旋转轴13能通过与轴承的连接自由旋转。
本实施例中,待清洗基板7用于设置在喷淋室4的底部,且能沿一个方向移动,工作单元1位于待清洗基板7的上方;工作单元1的旋转速度与待清洗基板7的移动速度相同。如此设置,能够确保工作单元1对待清洗基板7上各个位置的旋转喷淋压力保持均匀,同时还能确保将待清洗基板7清洗得更加干净。
实施例1的有益效果:实施例1中所提供的喷淋装置,通过设置能旋转喷淋的工作单元,使该喷淋装置在喷淋时,清洗剂的喷射压力均匀,从而使待清洗基板表面受清洗剂喷淋的冲击力均匀,进而避免了喷淋压力不均匀产生的不良。
实施例2:
本实施例提供一种清洗设备,包括实施例1中的喷淋装置。该清洗设备适用于在显示产品的生产过程中对成品或半成品的显示基板或者其它板状产品进行高压清洗,该清洗设备还可以用于其它的一些需要高压清洗的领域,如高压清洗汽车等。该清洗设备能使清洗剂的高压喷淋更加均匀,从而达到更好的清洗效果。
通过采用实施例1中的喷淋装置,提高了经该清洗设备清洗的基板的良率。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (12)
1.一种喷淋装置,其特征在于,包括工作单元、供应单元和驱动单元,所述工作单元用于旋转喷淋清洗剂,以对待清洗基板进行清洗;所述供应单元用于为所述工作单元提供所述清洗剂;所述驱动单元用于为所述工作单元提供旋转的动力。
2.根据权利要求1所述的喷淋装置,其特征在于,所述工作单元包括喷淋部和旋转轴,所述喷淋部用于在所述旋转轴的带动下旋转,并向所述待清洗基板喷淋所述清洗剂;所述旋转轴用于在所述驱动单元的带动下旋转。
3.根据权利要求2所述的喷淋装置,其特征在于,所述喷淋部包括喷淋腔和设置在所述喷淋腔外壁上的喷嘴,所述喷嘴与所述喷淋腔的内部连通;所述旋转轴贯穿所述喷淋腔,且与所述喷淋腔的相对两腔壁连接。
4.根据权利要求3所述的喷淋装置,其特征在于,所述旋转轴与所述供应单元连接,所述旋转轴为空心的,所述旋转轴的对应位于所述喷淋腔内的部分段上开设有第一开口;所述供应单元用于将所述清洗剂供应给所述旋转轴,所述旋转轴能通过所述第一开口将所述清洗剂供应至所述喷淋腔中。
5.根据权利要求3或4所述的喷淋装置,其特征在于,所述喷淋腔的内壁上设置有螺旋状的凹槽。
6.根据权利要求5所述的喷淋装置,其特征在于,所述喷嘴包括多个,多个所述喷嘴在所述喷淋腔外壁上呈螺旋状分布,且所述喷嘴的分布位置与所述凹槽相对应;
或者,多个所述喷嘴在所述喷淋腔外壁上均匀分布。
7.根据权利要求4所述的喷淋装置,其特征在于,所述供应单元包括容置腔和供应泵,所述容置腔与所述供应泵之间通过管道连通,所述供应泵能通过所述管道将所述清洗剂供应至所述容置腔内;
所述容置腔设置在所述旋转轴的一端,所述旋转轴贯穿所述容置腔,且与所述容置腔的相对两侧壁活动连接,所述旋转轴的对应位于所述容置腔内的部分段上开设有第二开口;所述容置腔能将内部容置的所述清洗剂通过所述第二开口供应至所述旋转轴。
8.根据权利要求7所述的喷淋装置,其特征在于,所述驱动单元包括驱动马达和变频控制器,所述驱动马达用于带动所述旋转轴转动;所述变频控制器与所述驱动马达连接,用于控制所述驱动马达的旋转速度。
9.根据权利要求8所述的喷淋装置,其特征在于,所述驱动单元还包括磁传动机构,所述磁传动机构设置在所述供应单元和所述驱动马达之间;
所述磁传动机构包括相对应设置的第一传动部和第二传动部,所述第一传动部与所述旋转轴的端部连接,所述第二传动部与所述驱动马达连接,所述第一传动部和所述第二传动部之间存在磁力,所述第二传动部能在所述磁力的作用下将所述驱动马达输出的旋转动力传递至所述第一传动部,以使所述第一传动部带动所述旋转轴旋转。
10.根据权利要求3所述的喷淋装置,其特征在于,还包括喷淋室,所述喷淋部设置在所述喷淋室内,所述旋转轴贯穿所述喷淋室,且与所述喷淋室的相对两侧壁活动连接,所述供应单元和所述驱动单元设置在所述喷淋室外。
11.根据权利要求10所述的喷淋装置,其特征在于,所述待清洗基板用于设置在所述喷淋室的底部,且能沿一个方向移动,所述工作单元位于所述待清洗基板的上方;所述工作单元的旋转速度与所述待清洗基板的移动速度相同。
12.一种清洗设备,其特征在于,包括权利要求1-11任意一项所述的喷淋装置。
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