KR20160128696A - 휘발성 가스 처리장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 유입부와 유출부를 갖는 하우징; 상기 하우징 내에 설치되고, 상기 유입부로부터 인입되는 미처리 가스의 휘발성 유해물질을 흡착시킬수 있게 형성된 필터유닛;
상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 상기 필터유닛에 가열 기체를 분사할 수 있게 형성된 분사유닛; 상기 필터유닛의 유입부 쪽 면을 따라 상기 분사유닛에 대응하여 이동할 수 있게 형성되고, 상기 가열 기체를 폐쇄적으로 흡입할 수 있게 형성된 흡입유닛; 및 상기 분사유닛을 따라 이동할 수 있게 형성되며, 상기 필터유닛의 영역 중 상기 분사유닛에 의해 가열된 영역을 통과한 처리 가스를 상기 분사유닛으로 공급할 수 있게 형성된 순환유닛;을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치를 제공하는 것이다.
상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 상기 필터유닛에 가열 기체를 분사할 수 있게 형성된 분사유닛; 상기 필터유닛의 유입부 쪽 면을 따라 상기 분사유닛에 대응하여 이동할 수 있게 형성되고, 상기 가열 기체를 폐쇄적으로 흡입할 수 있게 형성된 흡입유닛; 및 상기 분사유닛을 따라 이동할 수 있게 형성되며, 상기 필터유닛의 영역 중 상기 분사유닛에 의해 가열된 영역을 통과한 처리 가스를 상기 분사유닛으로 공급할 수 있게 형성된 순환유닛;을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치를 제공하는 것이다.
Description
본 발명은 휘발성 유해 가스를 정화하기 위한 처리장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체, LCD, 도장 공장과 같이 휘발성 가스, 보다 구체적으로는 휘발성 유해물질(VOC:Volatile Organic Compounds)을 사용하는 공장에는 이를 정화하기 위한 장치가 구비된다.
정화 장치는 대개 송풍팬과 흡착필터 등으로 구성된다. 구체적으로, 송풍팬은 휘발성의 유기화합물이 혼합된 VOC 혼합가스를 흡착필터를 향해 압송하고, 이 흡착필터는 VOC 혼합가스로부터 휘발성 유해물질을 흡착해냄으로써 혼합가스를 정화하도록 구성된다.
흡착필터에, 휘발성 유해물질이 과도하게 흡착되는 경우, 흡착능이 저하되는어 정화 효과도 떨어진다. 이와 같은 문제점을 해소하기 위해, 흡착필터로부터 휘발성 유해물질을 탈착하기 위한 탈착부를 구비한다.
탈착부는 휘발성 유해물질을 탈착하기 위해 일측에 고정된 상태에서 외부로부터 제공되는 공기를 가열하여 흡착필터로 분사한다. 분사된 가열 공기에 의해 휘발성 유해물질은 흡착필터로부터 탈착되어 흡입수단에 의해 외부로 배출됨으로써 흡착필터를 재생할 수 있다.
하지만, 상기와 같이 구성에 따른 정화 장치는 고정된 구조의 탈착부에 의해 가열 공기의 분사 영역이 한정된다. 또한, 외부 공기를 유입시켜 가열하는 공정에 의해 구조의 복잡성 및 비용성이 증가되는 문제점이 있어 이를 해소하기 위한 방안이 요구된다.
본 발명의 목적은, 흡착필터의 전 영역에 대한 탈착능을 향상하고, 내부 가스를 재활용하여 활용성을 향상시킬 수 있는 휘발성 가스 처리장치를 제공하는 것이다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 일 실시예와 관련된 휘발성 가스 처리장치는, 유입부와 유출부를 갖는 하우징; 상기 하우징 내에 설치되고, 상기 유입부로부터 인입되는 미처리 가스의 휘발성 유해물질을 흡착시킬수 있게 형성된 필터유닛; 상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 상기 필터유닛에 가열 기체를 분사할 수 있게 형성된 분사유닛; 상기 필터유닛의 유입부 쪽 면을 따라 상기 분사유닛에 대응하여 이동할 수 있게 형성되고, 상기 가열 기체를 폐쇄적으로 흡입할 수 있게 형성된 흡입유닛; 및 상기 분사유닛을 따라 이동할 수 있게 형성되며, 상기 필터유닛의 영역 중 상기 분사유닛에 의해 가열된 영역을 통과한 처리 가스를 상기 분사유닛으로 공급할 수 있게 형성된 순환유닛;을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 필터유닛의 양면에 각각 설치되어, 상기 필터유닛이 상기 분사유닛 및 상기 흡입유닛과의 접촉에 의해 발생되는 손상을 방지하기 위한 씰 가이드부를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 분사유닛 및 상기 흡입유닛을, 상기 필터유닛을 따라 이동시키기 위한 이송유닛을 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 이송유닛은, 상기 필터유닛과 수평되도록 상기 하우징 내부의 바닥면에 설치되는 수평 가이드부; 및 상기 수평 가이드부에 수직되도록 설치되어, 상기 수평 가이드부를 따라 이동되고, 자체적으로 승하강되도록 형성되는 수직 가이드부;를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 이송유닛은, 상기 분사유닛이 설치되는 제1 이송유닛; 및 상기 흡입유닛이 설치되는 제2 이송유닛을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 순환유닛은, 상기 분사유닛이 현 위치인 제1 위치에 위치하는 경우, 상기 분사유닛이 상기 제1 위치에 위치하기 전의 위치인 제2 위치에 위치하도록 상기 분사유닛에 결합될 수 있다.
여기서, 상기 처리 가스를 상기 분사유닛으로 순환시키기 위해, 상기 순환유닛 및 상기 분사유닛을 연결하는 순환튜브를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 순환유닛은, 상기 처리 가스를 상기 순환튜브 따라 상기 분사유닛으로 강제로 이동시키기 위한 순환팬을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 분사유닛은, 상기 순환튜브를 통해 이동되는 상기 처리 가스를 가열하기 위한 가열부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 분사유닛은, 상기 필터유닛을 따라 이동하는 중 가장자리에 근접하는 경우 결합된 상기 순환유닛의 위치를 변경하기 위한 위치 변경부를 포함할 수 있다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 다른 실시예와 관련된 휘발성 가스 처리장치는, 하우징; 상기 하우징의 내부에 설치되어 외부에서 인입되는 미처리 가스로부터 휘발성 유해물질을 흡착시킬 수 있게 형성된 필터유닛; 및 상기 필터유닛을 따라 이동되도록 설치되며, 상기 필터유닛을 향해 가열 기체를 분사하는 분사유닛, 상기 가열 기체에 의해 상기 필터유닛에서 탈착되는 상기 휘발성 유해물질을 흡입하는 흡입유닛, 상기 필터유닛을 통과하는 처리 가스를 수집하여 상기 분사유닛으로 순환시키는 순환유닛을 구비하는 재생유닛;을 포함할 수 있다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예와 관련된 휘발성 가스 처리장치는, 유입부와 유출부를 갖는 하우징; 상기 하우징 내에 설치되고, 상기 유입부로부터 인입되는 미처리 가스의 휘발성 유해물질을 흡착시킬수 있게 형성된 필터유닛; 상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 외부로부터 공급되는 가열 기체를 상기 필터유닛에 분사할 수 있게 형성된 분사유닛; 및 상기 필터유닛의 양면에 설치되는 씰 가이드부;를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 필터유닛은, 연속되도록 배치되는 복수의 필터 셀을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 필터 셀은, 내부에 허니컴 구조의 제올라이트가 배치되고, 상기 씰 가이드부는, 상기 제올라이트와 이격되도록 상기 필터 셀의 테두리를 따라 결합될 수 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 관련된 휘발성 가스 처리장치에 의하면, 스택(Stack)타입이므로 단순형으로 설계가 가능하며 제작비용이나 운용 및 유지보수 측면에서 효율성이 향상된다.
일 예에 따르면, 필터유닛의 영역 중 미냉각 영역을 통과한 가스를 순환시킴으로써, 정화 가스의 품질을 높이고 장치를 효율적으로 구성할 수 있다.
일 예에 따르면, 씰 가이드부가 설치됨으로써 실링을 유지함과 동시에 필터유닛의 손상을 방지할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(100)의 전체 구조를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(100) 내부 구조를 정면에서 바라본 정면도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170) 및 순환유닛(210)의 결합 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 씰 가이드부(150)의 결합구조를 설명하기 분해 사시도이다.
도 5는, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170)과 순환유닛(210)의 동작 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170)에 결합된 순환유닛(210)의 위치가 변경되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(400)를 설명하기 위한 도면이다.
도 8은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 분사유닛(470)과 흡입유닛(490)의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 분사유닛(570)과 흡입유닛(590)의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(100) 내부 구조를 정면에서 바라본 정면도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170) 및 순환유닛(210)의 결합 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 씰 가이드부(150)의 결합구조를 설명하기 분해 사시도이다.
도 5는, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170)과 순환유닛(210)의 동작 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170)에 결합된 순환유닛(210)의 위치가 변경되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(400)를 설명하기 위한 도면이다.
도 8은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 분사유닛(470)과 흡입유닛(490)의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 분사유닛(570)과 흡입유닛(590)의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일·유사한 구성에 대해서는 동일·유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(100)의 전체 구조를 설명하기 위한 사시도이고, 도 2는, 본 발명의 일 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(100) 내부 구조를 정면에서 바라본 정면도이고, 도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170) 및 순환유닛(210)의 결합 구조를 설명하기 위한 도면이고, 도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 씰 가이드부(150)의 결합구조를 설명하기 분해 사시도이다.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 휘발성 가스 처리장치(100)는 하우징(110), 필터유닛(130), 씰 가이드부(150), 분사유닛(170), 흡입유닛(190), 순환유닛(210), 순환튜브(220), 실링부(230), 및 이송유닛(250)을 포함할 수 있다. 여기서, 분사유닛(170), 흡입유닛(190), 및 순환유닛(210)을 재생유닛으로 통칭할 수 있다.
하우징(110)은, 휘발성 가스 처리장치(100)의 외관을 형성한다. 하우징(110)은 대체로 박스형의 육면체로 형성될 수 있으나 본 발명은 이에 한정된 것은 아니며 하우징(110)의 형상은 공정 및 실험조건에 따라 최적의 형상이 적용될 수 있다.
하우징(110)은, 유입부(111), 유출부(113), 배출부(115)를 포함할 수 있다.
유입부(111)는, 외부에서 발생되는 휘발성 유해물질을 포함하는 미처리 가스(G1)를 하우징(110) 내부로 유입시킨다. 유입부(111)는, 하우징(110)의 일면에 형성되어 타면을 향해 미처리 가스(G1)를 분사할 수 있다. 이를 위해, 유입부(111)는 송풍팬과 같은 송풍 수단을 포함할 수 있다.
유출부(113)는, 상기 미처리 가스(G1)가 후술하는 필터유닛(130)을 통과하여 휘발성 유해물질이 제거된 처리 가스(G2)로 변환되는 경우, 이를 외부로 배출한다. 유출부(113)는, 하우징(110)의 양측면 중 유입부(111)의 반대면에 설치될 수 있다. 또한, 유출부(113)는 추가 필터로 구성되어 처리 가스(G2)를 한번 더 필터링하여 외부로 배출시킬 수 있다.
배출부(115)는, 후술하는 흡입유닛(190)과 연통되어 흡입유닛(190)으로부터 흡입되는 휘발성 유해물질을 외부로 배출한다. 이를 위해, 배출부(115)는 휘발성 유해물질을 흡입하기 위한 흡입수단으로 흡입팬이 설치될 수 있다.
필터유닛(130)은, 유입부(111)로부터 인입되는 미처리 가스(G1)의 휘발성 유해물질을 흡착하기 위해 하우징(110)의 내부에 설치된다. 구체적으로 필터유닛(130)은, 복수의 필터 셀(131)이 결합되어 하우징(110)의 단면적에 대응되는 형상으로 형성된다. 따라서, 하우징(110)의 중공부는, 필터유닛(130)의 설치에 의해, 유입부(111)가 위치하는 영역인 제1 중공부(A1), 유출부(113)가 위치하는 제2 중공부(A2)로 구획될 수 있다.
필터 셀(131)은 내부에 허니컴 구조로 형성되는 제올라이트(133)로 이루어진다. 따라서, 제올라이트(133)의 표면과 필터 셀(131)의 테두리(135) 사이에는 셀 단차(CH)만큼의 높이차를 가질 수 있다.
씰 가이드부(150)는, 필터유닛(130)이 후술하는 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)과의 접촉에 의해 발생되는 손상을 방지한다. 구체적으로, 씰 가이드부(150)는 가는 철로 구성되는 한 쌍의 망체로 형성될 수 있다. 이러한 씰 가이드부(150)는 필터유닛(130)의 양면에 각각 설치된다. 따라서, 씰 가이드부(150)는, 도 2 및 도 3에서처럼 필터유닛(130)의 외면에서 흡입유닛(190), 분사유닛(170), 및 순환유닛(210)의 실링부(230)와 접촉한다. 이를 통해, 씰 가이드부(150)는 미처리 가스(G1) 또는 처리 가스(G2)의 이동성을 유지한 채로, 각 실링부(230)가 필터유닛(130)과 직접적으로 접촉되는 것을 방지할 수 있다. 본 실시예에서는 도시하지 않았으나, 필터유닛(130)의 손상을 방지하기 위해 유리 섬유(Glass Fiber)가 필터유닛(130)의 양면에 설치될 수도 있다.
또한, 씰 가이드부(150)는 도 4에서처럼 복수로 구성되어 각각이 필터 셀(131)의 테두리(135)에 끼움되도록 형성된다. 상술한 바와 같이 필터유닛(130)은 제올라이트(133)와 테두리(135)에 셀 단차(CH)가 형성됨으로써, 씰 가이드부(150)가 테두리(135) 내부에 설치될 수 있다. 이러한 경우, 씰 가이드부(150)에 의해 셀 단차(CH)가 없어지므로, 필터 셀(131)간의 표면 높이가 동일해진다.
분사유닛(170)은, 필터유닛(130)에 가열 기체(HG)를 분사하기 위해, 필터유닛(130)의 유출부(113) 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성된다. 구체적으로, 분사유닛(170)은, 제2 중공부(A2)에서 필터유닛(130)을 향하도록 배치된다. 또한, 분사유닛(170)은 필터유닛(130)을 통과한 처리 가스(G2)가 후술하는 순환유닛(210)에 의해 제공되는 경우, 이를 가열한 가열 기체(HG)를 필터유닛(130)을 향해 분사한다. 따라서, 분사유닛(170)이 가열 기체(HG)를 분사하는 경우, 필터유닛(130)에 흡착된 휘발성 유해물질을 탈착 시킬 수 있다.
이러한 분사유닛(170)은, 분사 헤드부(171), 가열부(173), 위치 변경부(175)를 포함할 수 있다.
분사 헤드부(171)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 가열 기체(HG)를 필터유닛(130)에 분사하기 위해, 필터유닛(130)을 향하는 일측이 개구로 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 분사 헤드부(171)의 형상이 직육면체로 형성되었으나, 본 발명은 이에 한정된 것은 아니며 공정 및 실험조건에 따라 다면체 및 원통형으로 형성될 수 있다.
가열부(173)는, 순환유닛(210)에서 공급되는 처리 가스(G2)를 가열한다. 이러한 가열부(173)는 전기 히터로 구성될 수 있으며, 후술하는 순환튜브(220)와 연결되는 분사 헤드부(171)의 일측에 형성될 수 있다.
위치 변경부(175)는, 분사 헤드부(171)에 결합되는 순환유닛(210)의 위치를 변경시킨다. 이러한 위치 변경부(175)는, 도 3에 도시된 바와 같이 회전 결합부(175a) 및 회전 가이드부(175b)를 포함할 수 있다.
회전 결합부(175a)는, 순환유닛(210)과 분사 헤드부(171)를 서로 결합시킨다. 이를 위해, 회전 결합부(175a)의 일측은 분사 헤드부(171)에 결합되고, 타측은 순환유닛(210)에 결합될 수 있다.
회전 가이드부(175b)는, 회전 결합부(175a)를 이동시킨다. 이러한 회전 가이드부(175b)는, 분사 헤드부(171)의 중심축에 대응되는 둘레를 따라 형성된다. 구체적으로, 회전 가이드는(175b) 회전 결합부(175a)의 일단과 결합되어 위치 변경에 관한 위치 변경 신호가 수신되는 경우, 결합된 회전 결합부(175a)를 이동시킬 수 있다. 본 실시예에서는 상세히 도시되지 않았으나, 회전 가이드부(175b)는 회전 결합부(175a)의 일단과 결합되는 가이드 결합부 및 가이드 결합부를 이동시키는 구동부를 포함할 수 있다. 위치 변경부(175)에 대한 동작 설명은 도 6에서 보다 상세히 후술하도록 한다.
흡입유닛(190)은, 필터유닛(130)으로부터 탈착되는 휘발성 유해물질을 흡입하기 위해, 필터유닛(130)의 유입부(111) 쪽 면을 따라 분사유닛(170)에 대응하여 이동할 수 있도록 형성된다. 구체적으로, 흡입유닛(190)은 제1 중공부(A1)에 설치되어 분사유닛(170)과 서로 대향되도록 배치되어, 분사유닛(170)과 동일하게 이동된다.
이러한, 흡입유닛(190)은 흡입 헤드부(191) 및 흡입관(193)을 포함할 수 있다.
흡입 헤드부(191)는, 도 2에 도시된 바와 같이 분사 헤드부(171)를 향해 일측이 개구된 상태로 형성되어, 필터유닛(130)에서 탈착되는 휘발성 유해물질을 흡입할 수 있다. 여기서, 흡입 헤드부(191)는 분사 헤드부(171)와 동일한 형태로 구성될 수 있다.
흡입관(193)은, 흡입 헤드부(191)에서 수집되는 휘발성 유해물질을 외부로 이동시키기 위한 튜브로 형성될 수 있다. 이러한 흡입관(193)은 하우징(110) 내부의 일측에 설치되어 흡입팬으로 흡입 헤드부(191)에 흡입력을 전가하는 흡입 구동부와 연결될 수 있다.
순환유닛(210)은, 필터유닛(130)의 영역 중 분사유닛(170)에 의해 가열된 영역을 통과한 처리 가스(G2)를 분사유닛(170)으로 공급한다. 구체적으로, 순환유닛(210)은 분사유닛(170)과 연결되어 분사유닛(170)의 이동에 따라 동일하게 이동된다.
이러한 순환유닛(210)은, 순환 헤드부 및 순환팬을 포함할 수 있다.
순환 헤드부(211)는, 필터유닛(130)을 향하는 일측이 개구로 형성되고, 회전 결합부(175a)를 통해 분사 헤드부(171)와 결합된다. 즉, 상술한 분사 헤드부(171), 흡입 헤드부(191), 및 순환 헤드부(211)는 설치 위치만을 달리하며 동일한 형상으로 형성될 수 있다.
순환팬(213)은, 필터유닛(130)을 통과한 처리 가스(G2)를 분사유닛(170)으로 강제로 이동시키기 위한 수단으로, 순환 헤드부(211)의 내부에 설치될 수 있다.
순환튜브(220)는, 순환 헤드부(211)와 분사 헤드부(171)를 연통시키기 위해 일단은 순환 헤드부(211)에, 타단을 분사 헤드부(171)에 결합될 수 있다. 따라서, 순환 헤드부(211)를 통해 수집되는 처리 가스(G2)는 순환팬(213)에 의해 순환튜브(211)를 따라 분사 헤드부(171)로 이동될 수 있다.
실링부(230)는, 분사 헤드부(171), 흡입 헤드부(191), 순환 헤드부(211)의 개구 측 테두리를 따라 필터유닛(130) 방향으로 연장되게 형성된다. 따라서, 분사 헤드부(171), 흡입 헤드부(191), 및 순환 헤드부(211)는 필터유닛(130)과 소정 간격 이격되어 있으나, 각각의 실링부(230)는 필터유닛(130)과 접촉된다. 이를 통해, 각 헤드부의 내부 공간은 필터유닛(130)과 접촉된 상태로 폐쇄 공간을 형성한다. 이 때, 실링부(230)는 고무와 같은 탄성체의 재질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 실링부(230)에 의하면, 분사유닛(170)이 가열 기체(HG)를 분사하는 영역, 흡입유닛(190)의 흡입 영역, 순환유닛(210)의 처리 가스(G2) 수집 영역이 특정될 수 있다.
이송유닛(250)은, 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)을, 필터유닛(130)을 따라 이동시킨다. 따라서, 이송유닛(250)은 분사유닛(170)이 설치되는 제1 이송유닛(250-1)과 흡입유닛(190)이 설치되는 제2 이송유닛(250-2)으로 구성될 수 있다. 제1 이송유닛(250-1) 및 제2 이송유닛(250-2)은 서로 동일한 구조로 가짐으로써, 후술하는 이송유닛(250)의 세부구성은 단일 구성을 대상으로 설명하도록 한다.
이러한, 이송유닛(250)은 수평 가이드부(251), 수직 가이드부(253), 및 이송 결합부(255)를 포함할 수 있다.
수평 가이드부(251)는, 수직 가이드부(253)를 하우징(110)의 바닥면을 따라 이동시킨다. 이를 위해, 수평 가이드부(251)는 하우징(110) 내부의 바닥면을 따라 필터유닛(130)과 수평되도록 설치될 수 있다. 즉, 수평 가이드부(251)는, 하우징(110) 내부에 바닥면에 설치되는 가이드 레일로 구성될 수 있다.
수직 가이드부(253)는, 수평 가이드부(251)를 따라 이동되고, 자체적으로 승하강되도록 구동될 수 있다. 따라서, 수직 가이드부(253)는 수평 가이드부(251)에서 높이방향으로 연장되도록 형성되며, 전체 높이는 필터유닛(130)과 동일한 높이를 가질 수 있다. 또한, 수직 가이드부(253)는 본 실시예에서는 상세히 도시되지 않았으나, 그 내부에 승강 구동부를 포함할 수 있다. 승강 구동부는 밸트 구동 방식 또는 공압 구동 방식의 구동기로서, 수직 가이드부(253)를 따라 상하로 이동될 수 있다.
이송 결합부(255)는, 일측은 수직 가이드부(253)에 결합되고 타측은 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)에 각각 결합되어, 수직 가이드부(253)의 구동에 따라 승하강될 수 있다. 구체적으로 도 2에서와 같이, 이송 결합부(255)는, 제1 이송유닛(250-1)에서는 분사유닛(170)과 수직 가이드부(253)를 서로 연결한다. 또한, 제2 이송유닛(250-2)에서는 흡입유닛(190)과 수직 가이드부(253)를 서로 연결한다. 따라서, 이송 결합부(255)는 수직 가이드부(253)의 구동력에 의해 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)을 상하로 이동시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 본 실시예에서는 도시되지 않았으나, 이송 결합부(255)는 복수로 구성되어 순환유닛(210)과도 연결될 수 있다. 이러한 경우, 순환유닛(210)은 분사유닛(170)과 결합되지 않고, 이송 결합부(255)를 통해 개별적으로 이동될 수 있다. 이 때, 순환유닛(210)은 위치 변경이 가능해야하므로, 순환유닛(210)과 결합되는 이송 결합부(255)는 회전되도록 구성될 수 있다. 여기서, 이송 결합부(255)의 회전은, 순환 헤드부가 분사 헤드부(171)의 둘레를 따라 이동될 수 있는 회전 반경을 가질 수 있다.
이와 같은 구성을 같은 휘발성 가스 처리장치(100)에 의하면, 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)이 필터유닛(130)을 따라 이동하면서, 필터유닛(130)에 흡착된 휘발성 유해가스를 제거한다. 특히, 순환유닛(210)은 분사유닛(170)에 의해 가열된 필터유닛(130)의 영역을 통과하는 처리 가스(G2)를 분사유닛(170)에 공급할 수 있다.
이상은, 휘발성 가스 처리장치(100)의 구성에 대하여 설명하였다. 도 4에서는 분사유닛(170)의 이동에 따른 순환유닛(210)의 동작 방법을 설명하도록 한다.
도 5는, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170)과 순환유닛(210)의 동작 방법을 설명하기 위한 도면이다.
먼저, (a)에 도시된 바와 같이, 최초 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)은 필터유닛(130)의 영역 중, 제1 영역(P1) 배치된다. 이 때, 분사유닛(170)의 위치는 제1 위치가 된다. 이러한 경우, 분사유닛(170)은 가열 기체(HG)를 제1 영역(P1)에 분사하고, 흡입유닛(190)은 해당 가열 기체(HG)에 의해 제1 영역(P1)에서 탈착되는 휘발성 유해물질을 흡입할 수 있다.
제1 영역(P1)에 대한 탈착 작업이 완료되면, 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)은 각각의 이송유닛(250)을 통해 동일하게 이동된다. (b)에서의 경우, 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)이 제1 영역(P1)의 탈착 작업을 완료한 뒤, 이송유닛(250)을 통해 하강하여 필터유닛(130)의 제2 영역(P2)으로 같이 이동할 수 있다. 이 때 분사유닛(170)의 위치는 제2 위치가 된다. 이렇게 이동되는 경우, 분사유닛(170) 및 흡입유닛(190)은 (a)에서와 동일하게 제2 영역(P2)에 대한 탈착 작업을 실시한다.
이와 동시에, 분사유닛(170)과 결합된 순환유닛(210)은 분사유닛(170)의 이전 위치인 제1 위치, 즉 필터유닛(130)의 제1 영역(P1)에 위치하게 된다. 제1 영역(P1)은 방금 전 분사유닛(170)에 의해 가열 기체(HG)가 분사된 영역이므로, 해당 영역은 가열된 상태로 미처리 가스(G1)가 통과하여 처리 가스(G2)로 변환되는 영역이다. 따라서, 순환유닛(210)은 제1 영역(P1)에서 통과되는 가열된 처리 가스(G2)를 수집하여 분사유닛(170)으로 순환시킨다.
이렇게, 순환유닛(210)에서 제공되는 처리 가스(G2)는 분사유닛(170)을 통해 제2 영역(P2)으로 다시 분사된다. 즉, 외부에서 가열 기체(HG)가 공급되는 것이 아니라 하우징(110) 내부의 처리 가스(G2)를 재순환하여 가열 기체(HG)로 이용하는 것이다. 이 때, 순환유닛(210)에서 제공되는 처리 가스(G2)는 소정의 가열 온도를 가진다. 따라서, 분사유닛(170)의 가열부(173)의 가열 온도 및 가열 시간을 단축하여 소비 전력을 감소할 수 있다.
또한, 제1 영역(P1)은 아직 냉각이 이루어지지 않은 미냉각 영역이므로 해당 영역의 필터유닛(130)은 활성화되지 않은 상태이다. 따라서, 제1 영역(P1)을 통과하는 미처리 가스(G1)는 휘발성 유해물질의 흡착이 제대로 이루어지지 않은 상태의 처리 가스(G2)가 될 수 있다. 이러한 경우, 본 발명의 순환유닛(210)에 의하면 휘발성 유해물질이 포함된 처리 가스(G2)를 필터유닛(130)에 분사하고, 흡입유닛(190)에 의해 배출된다. 결론적으로, 휘발성 유해물질을 포함한 처리 가스(G2)를 재활용하고 배출함으로써 휘발성 가스 처리장치의 정화능을 보다 향상할 수 있다.
이상은, 순환유닛(210)의 처리 가스(G2) 공급 방법에 관하여 설명하였다. 도 6에서는 순환유닛(210)의 위치 변경에 관하여 설명하도록 한다.
도 6은, 본 발명의 일 실시예에 따른 분사유닛(170)에 결합된 순환유닛(210)의 위치가 변경되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도시된 바와 같이, 분사유닛(170)은 이송유닛(250)에 의해, 필터유닛(130)의 면을 따라 이동된다. 이 때, 순환유닛(210)은 분사유닛(170)에 결합된 상태이므로, 분사유닛(170)의 이동에 따라 이동된다.
분사유닛(170)이 이동되는 중, 필터유닛(130)의 가장자리(116)에 접근하게 되면 순환유닛(210)은 분사유닛(170)의 위치 변경부(175)에 의해 위치가 변경되게 된다. 구체적으로, 분사유닛(170)이 이송유닛(250)에 의해 이동되는 중, 필터유닛(130)의 가장자리(116)에 접근하면 제어부의 제어에 의해 순환유닛(210)이 위치를 변경하게 된다. 여기서, 제어부는 휘발성 가스 처리장치(100)의 구성들을 전기적으로 제어하기 위한 수단이다.
분사유닛(170)이 필터유닛(130)의 가장자리(116)에 접근하고 있음을 알리기 위한 방법으로는, 필터유닛(130)의 높이 정보 및 길이 정보와 분사유닛(170)의 위치 정보를 참조할 수 있다. 또한, 분사유닛(170)이 소정 패턴에 의해 이동되는 경우, 해당 패턴 정보를 참조할 수 있다. 이 때, 패턴 정보에는 이동 시간 정보가 포함될 수 있다. 뿐만 아니라, 순환유닛(210)의 일측에 거리 감지 센서 또는 화상 센서가 구비되어 이를 통해 수집되는 주변의 감지 정보를 참조하여 분사유닛(170)이 필터유닛(130)의 가장자리(116)에 접근하고 있음을 인지할 수 있다.
따라서, 제어부는 상술한 감지 방법들에 의해 분사유닛(170)이 필터유닛(130)의 가장자리(116)에 접근함을 판단한 경우, 분사유닛(170)의 위치 변경부(175)를 구동하여 순환유닛(210)의 위치를 변경시킬 수 있다.
예를 들어, 도 6에서처럼 최초 순환유닛(210)이 분사유닛(170)의 상부에 결합된 상태에서, 이송유닛(250)이 분사유닛(170)을 필터유닛(130)의 상부 가장자리(116)로 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 제어부는 해당 접근 정보를 수신하여 순환유닛(210)을, 기존 분사유닛(170)의 상부에서 분사유닛(170)의 측면으로 이동 시킬 수 있다. 또한, 해당 위치 변경 상태에서 분사유닛(170)이 필터유닛(130)의 가장자리(116)에 대한 가열 기체(HG) 분사가 완료되면, 제어부는 해당 영역에 순환유닛(210)이 위치하도록 이송유닛(250) 및 위치 변경부(175)를 제어할 수 있다.
이러한 순환유닛(210)의 위치 변경에 의하면 분사유닛(170)은 사각지대없이 필터유닛(130)의 전체 면에 대한 가열 기체(HG)의 분사를 실시할 수 있다.
이상은 순환유닛(210)의 위치 변경에 대한 일 예를 설명하였다. 도 6에서는 본 발명의 다른 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(100)에 대하여 설명하도록 한다.
도 7은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 휘발성 가스 처리장치(400)를 설명하기 위한 도면이고, 도 8은, 본 발명의 다른 실시예에 따른 분사유닛(370)과 흡입유닛(390)의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도시된 바와 같이, 휘발성 가스 처리장치(400)는, 도 1 내지 도 6의 휘발성 가스 처리장치(도 1, 100)와 대체적으로 동일하나, 순환유닛(도 1, 210) 제외되고 분사유닛(470)이 하우징 외부의 기체 공급 수단(420)과 연결된다는 점에서 차이가 있다.
구체적으로, 분사유닛(470) 및 흡입유닛(490)은 도 1 내지 도 6에서와 같이, 이송유닛(350)에 의해 씰 가이드부(450)가 설치된 필터유닛(430)의 양면을 따라 이동된다. 이 때, 분사유닛(470)은 외부의 기체 공급 수단(420)과 연결된다.
기체 공급 수단(420)은, 외부에서의 기체를 수집하여 이를 가열하고, 가열된 기체를 분사유닛(470)에 제공한다. 따라서, 분사유닛(470)은 제공받은 가열 기체를 필터유닛(430)에 분사하면 됨으로써, 가열부(도 3, 173)를 별도로 구비하지 않을 수 있다.
본 실시예는 단독으로 적용될 수도 있으나 도 1 내지 도 6의 실시예와 결합되어 적용될 수도 있다. 다시말해, 도 1 내지 도 6의 휘발성 가스 처리장치(도 1, 100)에 도 6의 기체 공급 수단(420)이 추가로 더 적용될 수도 있다.
도 9는, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 분사유닛(570)과 흡입유닛(590)의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도시된 바와 같이, 휘발성 가스 처리장치(500)는 도 8 및 도 9의 휘발성 가스 처리장치(도 8, 400)와 대체로 동일하나 기체 공급 수단(도 8, 420)을 통하지 않고 분사유닛(570)에서 자체적으로 가열 기체(HG)를 생성한다는 점에서 차이가 있다.
이를 위해 분사유닛(570)은, 분사 헤드부(571)에 구비되는 개구부(572), 분사팬(573), 가열부(574)를 포함할 수 있다.
개구부(572)는, 분사 헤드부(571)의 일측에 설치되어 처리 가스(G2)를 분사 헤드부(571)의 내부로 인입시킬 수 있는 통로로 구성될 수 있다. 따라서, 필터유닛(530)을 통과한 처리 가스(G2)는 개구부(572)를 통해 분사 헤드부(571)의 내부로 인입될 수 있다.
분사팬(573)은, 분사 헤드부(571)의 개구부(572) 측에 설치되어 외부의 처리 가스(G2)를 분사 헤드부(571) 내부로 강제 이동시킬 수 있다. 분사팬(573)은 처리 가스(G2)를 분사 헤드부(571)의 내부로 보다 용이하게 인입시키기 위한 수단이므로, 공정 및 실험 상황에 따라 선택적으로 설치될 수 있다.
히터(574)는, 분사 헤드부(571) 내부로 인입되는 처리 가스(G2)를 가열하여 가열 기체(HG)로 전환시킬 수 있다. 이러한 히터(574)는 전기 히터로 구성될 수 있다.
상술한 구성을 갖는 분사유닛(570)의 동작 방법은 아래와 같다.
최초, 미처리 가스(G1)가 필터유닛(530)을 통과하여 휘발성 유해물질이 제거된 처리 가스(G2)로 변환된다. 이렇게 변환된 처리 가스(G2)는, 분사유닛(570)의 개구부(572)를 통해 분사 헤드부(571)의 내부로 인입된다. 이 때, 처리 가스(G2)는 분사 헤드부(571)에 설치되는 분사팬(573)의 흡입력에 의해 인입될 수 있으며, 분사유닛(570)과 대칭되도록 설치된 흡입유닛(590)의 흡입력에 의해 인입될 수도 있다.
분사 헤드부(571) 내부로 인입된 처리 가스(G2)는 히터에 의해 가열되어 가열 기체(HG)로 변환된다. 변환된 가열 기체(HG)는 흡입유닛(590)의 흡입력 또는 분사팬(573)의 분사력에 의해 필터유닛(530) 방향으로 이동된다. 가열 기체(HG)가 필터유닛(530)을 통과해 흡입유닛(590)으로 이동되는 경우, 필터유닛(530)에 흡착된 휘발성 유해물질이 탈착되어 가열 기체(HG)와 함께 흡입유닛(590)으로 이동된다. 따라서, 흡입유닛(590)으로 이동된 가열 기체 및 휘발성 유해물질은 흡입관을 따라 외부로 배출될 수 있다.
이와 같은 구성을 같은 휘발성 가스 처리장치(500)에 의하면, 가열 기체를 생성하기 위해 추가적인 구성이 필요치 않게 되므로 장비를 단순하게 구성할 수 있고 비용을 절감할 수 있다.
상기와 같은 휘발성 가스 처리장치는 위에서 설명된 실시예들의 구성과 작동 방식에 한정되는 것이 아니다. 상기 실시예들은 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 구성될 수도 있다.
100, 400: 휘발성 가스 처리장치 220: 순환튜브
110: 하우징 230: 실링부
111: 유입부 250, 350: 이송유닛
113: 유출부 250-1: 제1 이송유닛
115: 배출부 250-2: 제2 이송유닛
116: 가장자리 251: 수평 가이드부
130, 430: 필터유닛 253: 수직 가이드부
150, 450: 씰 가이드부 255: 이송 결합부
170, 470: 분사유닛 420: 기체 공급 수단
171: 분사 헤드부 A1: 제1 중공부
173: 가열부 A2: 제2 중공부
175: 위치 변경부 G1: 미처리 가스
175a: 회전 결합부 G2: 처리 가스
175b: 회전 가이드부 HG: 가열 기체
190, 490: 흡입유닛 P1: 제1 영역
191: 흡입 헤드부 P2: 제2 영역
193: 흡입관
210: 순환유닛
211: 순환 헤드부
213: 순환팬
110: 하우징 230: 실링부
111: 유입부 250, 350: 이송유닛
113: 유출부 250-1: 제1 이송유닛
115: 배출부 250-2: 제2 이송유닛
116: 가장자리 251: 수평 가이드부
130, 430: 필터유닛 253: 수직 가이드부
150, 450: 씰 가이드부 255: 이송 결합부
170, 470: 분사유닛 420: 기체 공급 수단
171: 분사 헤드부 A1: 제1 중공부
173: 가열부 A2: 제2 중공부
175: 위치 변경부 G1: 미처리 가스
175a: 회전 결합부 G2: 처리 가스
175b: 회전 가이드부 HG: 가열 기체
190, 490: 흡입유닛 P1: 제1 영역
191: 흡입 헤드부 P2: 제2 영역
193: 흡입관
210: 순환유닛
211: 순환 헤드부
213: 순환팬
Claims (14)
- 유입부와 유출부를 갖는 하우징;
상기 하우징 내에 설치되고, 상기 유입부로부터 인입되는 미처리 가스의 휘발성 유해물질을 흡착시킬수 있게 형성된 필터유닛;
상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 상기 필터유닛에 가열 기체를 분사할 수 있게 형성된 분사유닛;
상기 필터유닛의 유입부 쪽 면을 따라 상기 분사유닛에 대응하여 이동할 수 있게 형성되고, 상기 가열 기체를 폐쇄적으로 흡입할 수 있게 형성된 흡입유닛; 및
상기 분사유닛을 따라 이동할 수 있게 형성되며, 상기 필터유닛의 영역 중 상기 분사유닛에 의해 가열된 영역을 통과한 처리 가스를 상기 분사유닛으로 공급할 수 있게 형성된 순환유닛;을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제1항에 있어서,
상기 필터유닛의 양면에 각각 설치되어, 상기 필터유닛이 상기 분사유닛 및 상기 흡입유닛과의 접촉에 의해 발생되는 손상을 방지하기 위한 씰 가이드부를 더 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제1항에 있어서,
상기 분사유닛 및 상기 흡입유닛을 상기 필터유닛을 따라 이동시키기 위한 이송유닛을 더 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제3항에 있어서,
상기 이송유닛은,
상기 필터유닛과 수평되도록 상기 하우징 내부의 바닥면에 설치되는 수평 가이드부; 및
상기 수평 가이드부에 수직되도록 설치되어, 상기 수평 가이드부를 따라 이동되고, 자체적으로 승하강되도록 형성되는 수직 가이드부;를 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제4항에 있어서,
상기 이송유닛은,
상기 분사유닛이 설치되는 제1 이송유닛; 및
상기 흡입유닛이 설치되는 제2 이송유닛을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제1항에 있어서,
상기 순환유닛은,
상기 분사유닛이 현 위치인 제1 위치에 위치하는 경우, 상기 분사유닛이 상기 제1 위치에 위치하기 전의 위치인 제2 위치에 위치하도록 상기 분사유닛에 결합되는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제1항에 있어서,
상기 처리 가스를 상기 분사유닛으로 순환시키기 위해, 상기 순환유닛 및 상기 분사유닛을 연결하는 순환튜브를 더 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제7항에 있어서,
상기 순환유닛은,
상기 처리 가스를 상기 순환튜브 따라 상기 분사유닛으로 강제로 이동시키기 위한 순환팬을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제7항에 있어서,
상기 분사유닛은,
상기 순환튜브를 통해 이동되는 상기 처리 가스를 가열하기 위한 가열부를 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제1항에 있어서,
상기 분사유닛은,
상기 필터유닛을 따라 이동하는 중 가장자리에 근접하는 경우 결합된 상기 순환유닛의 위치를 변경하기 위한 위치 변경부를 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 하우징;
상기 하우징의 내부에 설치되어 외부에서 인입되는 미처리 가스로부터 휘발성 유해물질을 흡착시킬 수 있게 형성된 필터유닛; 및
상기 필터유닛을 따라 이동되도록 설치되며, 상기 필터유닛을 향해 가열 기체를 분사하는 분사유닛, 상기 가열 기체에 의해 상기 필터유닛에서 탈착되는 상기 휘발성 유해물질을 흡입하는 흡입유닛, 상기 필터유닛을 통과하는 처리 가스를 수집하여 상기 분사부로 순환시키는 순환유닛을 구비하는 재생유닛;을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 유입부와 유출부를 갖는 하우징;
상기 하우징 내에 설치되고, 상기 유입부로부터 인입되는 미처리 가스의 휘발성 유해물질을 흡착시킬수 있게 형성된 필터유닛;
상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 외부로부터 공급되는 가열 기체를 상기 필터유닛에 분사할 수 있게 형성된 분사유닛; 및
상기 필터유닛의 양면에 설치되는 씰 가이드부;를 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제12항에 있어서,
상기 필터유닛은,
연속되도록 배치되는 복수의 필터 셀을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치.
- 제13항에 있어서,
상기 필터 셀은,
내부에 허니컴 구조의 제올라이트가 배치되고,
상기 씰 가이드부는,
상기 제올라이트와 이격되도록 상기 필터 셀의 테두리를 따라 결합되는, 휘발성 가스 처리장치.
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