KR20160110048A - Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the thereof, epoxy resin composition and cured product - Google Patents

Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the thereof, epoxy resin composition and cured product Download PDF

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Abstract

Provided is an epoxy resin having excellent heat-resistance, dielectric properties, and adhesive properties, etc. The epoxy resin is an oxazolidone ring-containing epoxy resin which has an equivalent epoxy weight of 200-550 g/eq., obtainable from: (a) an epoxy resin containing 50 mass% or more of an epoxy resin (a1) represented by chemical formula (1); and (b) an isocyanate compound. In the chemical formula 1, X represents a cycloalkylidene group which has 5-8 ring atoms and at least one substituent group selected among an alkyl group having 1-4 carbon atoms, an aryl group having 6-10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6-10 carbons; each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1-8 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5-8 carbon atoms, an aryl group having 6-10 carbon atoms, or an aralkyl group having 6-10 carbon atoms; G represents a glycidyl group; and m indicates the number of repetitions and has an average value of 0-5.

Description

옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 그 제조 방법, 에폭시 수지 조성물, 및 경화물{OXAZOLIDONE RING-CONTAINING EPOXY RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE THEREOF, EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an epoxy resin containing an oxazolidone ring, a process for producing the epoxy resin, an epoxy resin composition, and a cured product of the epoxy resin composition,

본 발명은, 저유전 특성, 고내열성, 고접착성 등이 우수한 경화물을 부여하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 이 에폭시 수지의 제조 방법, 이 에폭시 수지를 필수 성분으로 하는 에폭시 수지 조성물, 및 이 에폭시 수지 조성물로부터 얻어지는 에폭시 수지 경화물, 프리프레그, 에폭시 수지 적층판에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin containing an oxazolidone ring which gives a cured product excellent in low dielectric properties, high heat resistance and high adhesiveness, a process for producing the epoxy resin, an epoxy resin composition comprising the epoxy resin as an essential component, An epoxy resin cured product obtained from the epoxy resin composition, a prepreg, and an epoxy resin laminate.

에폭시 수지는 접착성, 가요성, 내열성, 내약품성, 절연성, 경화 반응성이 우수한 점에서, 도료, 토목 접착, 주형, 전기 전자 재료, 필름 재료 등 다방면에 걸쳐 사용되고 있다. 특히 전기 전자 재료의 하나인 프린트 배선 기판 용도에서는 에폭시 수지에 난연성을 부여함으로써 널리 사용되고 있다.Epoxy resins are used in various fields such as paints, civil engineering adhesives, molds, electric / electronic materials, and film materials because of their excellent adhesiveness, flexibility, heat resistance, chemical resistance, insulation and curing reactivity. Particularly, in the use of printed wiring boards which are one of electric and electronic materials, they are widely used by imparting flame retardancy to epoxy resins.

프린트 배선 기판의 용도의 하나인 휴대형 기기나 그것을 연결하는 기지국 등의 인프라 기기는 최근 비약적 정보량의 증대에 수반하여, 고기능화의 요구가 항상 요구되고 있다. 휴대형 기기에 있어서는 소형화를 목적으로 고다층화나 미세 배선화가 진행되고 있으며, 기판을 얇게 하기 위해서 보다 저유전율의 재료가 요구되고, 미세 배선에 의해 접착면이 감소하는 점에서, 보다 고접착성의 재료가 요구되고 있다. 기지국용 기판에서는 고주파에 의한 신호의 감쇠를 억제하기 위해, 보다 저유전 정접의 재료가 요구되고 있다.BACKGROUND ART [0002] In recent years, there has been always a demand for an infrastructure device such as a portable device, which is one of uses of a printed wiring board, and a base station connecting thereto, along with an increase in the amount of remarkable information. In portable devices, a multi-layered or micro-wiring has been progressed for the purpose of miniaturization, a material having a lower dielectric constant is required in order to thin a substrate, and a bonding material is reduced by fine wiring, Is required. In order to suppress the attenuation of the signal due to the high frequency in the substrate for the base station, a material with lower dielectric loss tangent is required.

저유전율, 저유전 정접 및 고접착력과 같은 특성은, 프린트 배선 기판의 매트릭스 수지인 에폭시 수지의 구조에서 유래하는 바가 커, 새로운 에폭시 수지 혹은 그 변성 기술이 요구되고 있다.Properties such as low dielectric constant, low dielectric loss tangent and high adhesive strength are derived from the structure of epoxy resin which is a matrix resin of printed wiring board, and new epoxy resin or its modification technology is required.

에폭시 수지의 저유전율화에 대해서는, 특허문헌 1 은, 4,4'-[1,3-페닐렌비스(1-메틸에틸리덴)]비스[2,6-디메틸]페놀의 디글리시딜에테르화물이 개시되어 있다. 또, 특허문헌 2 에는, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상 (1.0 meq/g 이하) 의 에폭시 수지와 분자 내에 2 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지가 개시되어 있으며, 옥사졸리돈 고리에 의해 고분자화한 에폭시 수지는 저유전율, 저유전 정접이고, 유리 전이 온도도 높은 것이 개시되어 있다.Regarding the lowering of the dielectric constant of the epoxy resin, Patent Document 1 discloses a method for producing a low dielectric constant epoxy resin which comprises reacting diglycidyl of 4,4 '- [1,3-phenylene bis (1-methylethylidene)] bis [2,6- Ethers are disclosed. In Patent Document 2, the alcoholic hydroxyl equivalent is 1000 g / eq. (1.0 meq / g or less) and an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule, and an epoxy resin polymerized by an oxazolidone ring has a low dielectric constant, a low dielectric constant And the glass transition temperature is also high.

에폭시 수지와 이소시아네이트의 반응에 의한 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지에 대해서는 특허문헌 3 에도 개시되어 있으며, 원료 에폭시 수지로서, 비스페놀 A 등의 2 가 페놀류를 글리시딜화한 화합물, 트리스(글리시딜옥시페닐)알칸류나 아미노페놀 등을 글리시딜화한 화합물 등이나, 페놀 노볼락 등의 노볼락류를 글리시딜화한 화합물의 예시가 있다. 그러나, 어느 문헌에 개시된 에폭시 수지도 최근의 고기능화에 기초하는 유전 특성의 요구를 충분히 만족시키는 것은 아니며, 접착성도 불충분하였다.Patent Document 3 discloses an epoxy resin containing an oxazolidone ring by reaction between an epoxy resin and an isocyanate. As a raw epoxy resin, a compound obtained by glycidylating a divalent phenol such as bisphenol A, a tris (glycidyloxy Phenyl) alkanols, aminophenols, and the like, and compounds obtained by glycidylating novolacs such as phenol novolak. However, the epoxy resin disclosed in any of the literatures does not sufficiently satisfy the requirements of dielectric properties based on recent high-performance, and the adhesiveness is also insufficient.

일본 공개특허공보 평5-293929호Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-293929 일본 공개특허공보 평9-278867호Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-278867 일본 공개특허공보 평5-43655호Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-43655

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 저유전성, 고내열성, 고접착성이 우수한 성능을 갖고, 적층, 성형, 주형, 접착 등의 용도에 유용한 에폭시 수지, 그 에폭시 수지를 필수 성분으로 하는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물을 제공하는 것이다.Therefore, an object to be solved by the present invention is to provide an epoxy resin which is excellent in properties of low dielectric constant, high heat resistance and high adhesiveness, and which is useful for applications such as lamination, molding, molding and bonding, an epoxy resin containing the epoxy resin as an essential component A resin composition and a cured product thereof.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명자는 저유전율, 저유전 정접 재료에 대해 예의 검토한 결과, 에폭시 수지 중에서도 하기 식 (1) 의 에폭시 수지와 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지가 종래에 없는 저유전율, 저유전 정접과 높은 유리 전이 온도를 양립하고, 나아가서는 접착력도 양호한 것을 알아내어 본 발명을 완성하였다.In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have made extensive studies on a low dielectric constant and low dielectric loss tangent material. As a result, the present inventors have found that an epoxy resin containing an oxazolidin ring, which is obtained by reacting an epoxy resin of the following formula (1) with an isocyanate compound Low dielectric constant tangent and high glass transition temperature which are not available in the prior art, and that the adhesive force is also good, thereby completing the present invention.

즉, 본 발명은, 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 에폭시 당량이 200 ∼ 550 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지이다.That is, the present invention relates to a resin composition comprising an epoxy resin (a) having an epoxy equivalent of 200 to 550 g / eq. Obtained from an epoxy resin (a) containing 50% by mass or more of an epoxy resin (a1) represented by the following formula (1) and an isocyanate compound Is an epoxy resin containing an oxazolidone ring.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)(Wherein X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms and having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R represents independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G denotes a glycidyl group. Represents the repetition, and the average value is 0 to 5.)

상기 에폭시 수지 (a1) 의 알코올성 수산기 당량은 3000 g/eq. 이상인 것이 바람직하다.The alcoholic hydroxyl equivalent of the epoxy resin (a1) is 3000 g / eq. Or more.

상기 에폭시 수지 (a) 는, 상기 에폭시 수지 (a1) 이외의 에폭시 수지로서, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상인 에폭시 수지 (a2) 를 50 질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하다. 또, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량은 100 ∼ 500 g/eq. 인 것이 바람직하다.The epoxy resin (a) is an epoxy resin other than the epoxy resin (a1) and has an alcoholic hydroxyl equivalent of 1000 g / eq. By mass or more of the epoxy resin (a2) in an amount of 50% by mass or less. The epoxy equivalent of the epoxy resin (a) is preferably 100 to 500 g / eq. .

상기 이소시아네이트 화합물 (b) 은, 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 것이 바람직하고, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 것이 보다 바람직하다.The isocyanate compound (b) preferably has an average of at least 1.8 isocyanate groups in the molecule, and is preferably selected from tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, Trimethyl hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and the like.

상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 적외 흡수 스펙트럼에 의한 분석에서, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ox, 우레탄 결합 구조의 카르보닐기의 신축 진동 피크에서 유래하는 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ur 로 했을 때, 흡광도비 Ox/Ur 이 1.35 이상인 것이 바람직하다.In the epoxy resin containing an oxazolidone ring, the maximum value of the peak included in 1745 to 1760 cm -1 derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring in the analysis by the infrared absorption spectrum is represented by the absorbance Ox, the urethane bonding structure The absorbance ratio Ox / Ur is preferably 1.35 or more when the maximum value of the peak at 1730 to 1740 cm -1 derived from the stretching vibration peak of the carbonyl group of the carbonyl group is taken as the absorbance Ur.

상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 연화점은 50 ∼ 150 ℃ 인 것이 바람직하다.The softening point of the oxazolidone ring-containing epoxy resin is preferably 50 to 150 ° C.

또, 본 발명은, 상기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 촉매 존재하에서, 반응 온도 100 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 범위에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법이다.The present invention also provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin (a) containing 50 mass% or more of the epoxy resin (a1) represented by the above formula (1) and an isocyanate compound (b) By weight, based on the weight of the oxazolidone ring-containing epoxy resin.

상기 이소시아네이트 화합물 (b) 은, 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 것이 바람직하고, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 상기 촉매는 염기성 촉매인 것이 바람직하다.The isocyanate compound (b) preferably has an average of at least 1.8 isocyanate groups in the molecule, and is preferably selected from tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, Trimethyl hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and the like. The catalyst is preferably a basic catalyst.

상기 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 상기 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 0.02 몰 이상 0.5 몰 미만의 범위인 것이 바람직하고, 0.05 몰 이상 0.48 몰 이하의 범위인 것이 보다 바람직하고, 0.1 몰 이상 0.45 몰 이하의 범위인 것이 더욱 바람직하다.The isocyanate group of the isocyanate compound (b) is preferably in the range of 0.02 to 0.5 mole, more preferably in the range of 0.05 to 0.48 mole per mole of the epoxy group of the epoxy resin (a), more preferably in the range of 0.1 Mol or more and 0.45 mol or less.

또, 본 발명은, 상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 및 경화제를 필수로 하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물이다.Further, the present invention is an epoxy resin composition characterized by comprising the above-mentioned oxazolidone ring-containing epoxy resin and a curing agent.

상기 에폭시 수지 조성물 중의 상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 함유하는 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 상기 경화제의 활성 수소기는 0.2 ∼ 1.5 몰인 것이 바람직하다.The active hydrogen group of the curing agent is preferably 0.2 to 1.5 moles relative to 1 mole of the epoxy group of the whole epoxy resin containing the oxazolidone ring-containing epoxy resin in the epoxy resin composition.

또한 본 발명은, 상기 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물이다. 또, 본 발명은, 상기 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 프리프레그 및 에폭시 수지 적층판이다.Further, the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the above epoxy resin composition. Further, the present invention is a prepreg and an epoxy resin laminated board characterized by using the above epoxy resin composition.

본 발명의 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 수지 조성물 그리고 그 경화물은, 접착력을 유지하면서 유리 전이 온도가 높은 경화물 물성을 나타낸다. 또한, 이 그 에폭시 수지 경화물은 유전 특성이 우수하고, 저유전율, 저유전 정접이 요구되는 에폭시 수지 적층판에 있어서 양호한 특성을 발휘한다.The epoxy resin, the resin composition containing the same, and the cured product of the present invention exhibit a cured product having a high glass transition temperature while maintaining the adhesive strength. The epoxy resin cured product exhibits excellent characteristics in an epoxy resin laminated board which is excellent in dielectric properties and requires low dielectric constant and low dielectric loss tangent.

도 1 은 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 GPC 차트이다.
도 2 는 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 IR 차트이다.
도 3 은 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 13C-NMR 스펙트럼이다.
도 4 는 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 흡광도 스펙트럼이다.
도 5 는 비교예 2 에서 얻어진 비교 수지 2 의 흡광도 스펙트럼이다.
1 is a GPC chart of Resin 1 obtained in Example 1. Fig.
Fig. 2 is an IR chart of Resin 1 obtained in Example 1. Fig.
3 is a 13 C-NMR spectrum of Resin 1 obtained in Example 1. Fig.
4 is an absorbance spectrum of Resin 1 obtained in Example 1. Fig.
5 is an absorbance spectrum of Comparative Resin 2 obtained in Comparative Example 2. Fig.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻기 위해서 사용하는 에폭시 수지 (a) 는, 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 함유하는 것이며, 바람직하게는 50 질량% 이상 함유한다.The epoxy resin (a) used to obtain the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention contains the epoxy resin (a1) represented by the formula (1), and preferably contains 50 mass% or more.

상기 에폭시 수지 (a) 는, 에폭시 수지 (a1) 이외의 다른 에폭시 수지 (a2) 를 50 질량% 미만 함유할 수 있다. 에폭시 수지 (a2) 는, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상이 바람직하고, 에폭시 수지 (a2) 의 에폭시 당량은 100 ∼ 500 g/eq. 가 바람직하다.The epoxy resin (a) may contain less than 50% by mass of an epoxy resin (a2) other than the epoxy resin (a1). The epoxy resin (a2) has an alcoholic hydroxyl equivalent of 1000 g / eq. Or more, and the epoxy equivalent of the epoxy resin (a2) is preferably 100 to 500 g / eq. .

식 (1) 중, R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 탄화수소기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기, 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타낸다. 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 8 의 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, 헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기로는, 시클로헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 아르알킬기로는, 페닐기, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 나프틸기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. 바람직한 R 로는, 입수의 용이성 및 경화물로 했을 때의 내열성 등의 물성의 관점에서, 수소 원자, 1-페닐에틸기 또는 메틸기이다.In the formula (1), each R independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group of 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group of 5 to 8 carbon atoms, an aryl group of 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group of 6 to 10 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a tert-butyl group and a hexyl group. Examples of the hydrocarbon group include a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms Include a cyclohexyl group and the like. Examples of the aryl group or the aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group, a benzyl group, a phenethyl group, a 1-phenylethyl group, a naphthyl group and the like. , They may be the same or different. Preferable R is a hydrogen atom, a 1-phenylethyl group or a methyl group from the viewpoints of ease of acquisition and physical properties such as heat resistance in the case of a cured product.

식 (1) 중, R 의 치환 위치는, X 와 결합하는 탄소 원자에 대해, 오르토 위치, 메타 위치 중 어느 것이어도 되지만, 오르토 위치가 바람직하다.In the formula (1), the substitution position of R may be an ortho or meta position with respect to the carbon atom bonded to X, but an ortho position is preferable.

식 (1) 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기를 치환기로서 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. 이들 시클로알킬리덴기를 구성하는 시클로알칸 고리는, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 또는 시클로옥탄 고리 중 어느 것이고, 시클로펜탄 고리 또는 시클로헥산 고리가 바람직하다.In the formula (1), X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms and having at least one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms as a substituent. The cycloalkane ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring or a cyclooctane ring, and a cyclopentane ring or a cyclohexane ring is preferable.

또, 시클로알칸 고리에 결합하는 치환기는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기, 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기이고, 적어도 1 개 치환되어 있을 필요가 있다. 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 아르알킬기로는, 페닐기, 벤질기, 톨릴기, o-자일릴기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 복수 있는 경우에는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. 바람직한 치환기로는, 입수의 용이성 및 적층판에 있어서의 접착성 등의 물성의 관점에서, 메틸기나 페닐기이다.The substituent bonded to the cycloalkane ring is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and at least one substituent is required to be substituted. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and tert- Examples of the aryl group or aralkyl group of 1 to 10 include a phenyl group, a benzyl group, a tolyl group, an o-xylyl group, and the like, but the present invention is not limited thereto. A preferable substituent is a methyl group or a phenyl group from the viewpoints of ease of obtaining and physical properties such as adhesiveness in laminate.

또한, 시클로알킬리덴기는, 1,1-시클로알킬리덴기이고, 상기 치환기는, 시클로알킬리덴기의 1 위치의 탄소에 결합한 벤젠 고리 또는 치환기 상호간에 작용하는 입체적인 반발 작용에 의해 시클로알칸 고리의 운동성을 제한하여 유전 특성의 향상과 동시에, 내열성도 향상시키는 것을 목적으로 하고 있다. 이 치환 위치는, 운동성을 제한할 수 있는 위치이면 어디에 결합해도 되지만, 시클로알킬리덴기의 1 위치에 가까운 탄소 원자에 결합하는 것이 바람직하다. 바람직한 치환기의 위치는, 시클로펜탄 고리에서는 2 위치 또는 5 위치의 탄소 원자이다. 시클로헥산 고리에서는 2 위치, 3 위치, 5 위치 또는 6 위치의 탄소 원자이고, 보다 바람직하게는 2 위치 또는 6 위치의 탄소 원자이다. 시클로헵탄 고리에서는, 2 위치, 3 위치, 6 위치 또는 7 위치의 탄소 원자이고, 보다 바람직하게는 2 위치 또는 7 위치의 탄소 원자이다. 시클로옥탄 고리에서는, 2 위치, 3 위치, 4 위치, 6 위치, 7 위치 또는 8 위치의 탄소 원자이고, 보다 바람직하게는 2 위치, 3 위치, 7 위치 또는 8 위치의 탄소 원자이고, 더욱 바람직하게는 2 위치 또는 8 위치의 탄소 원자이다. 단, 인접하는 벤젠 고리와의 입체 장해의 영향에 의해, 1 위치에 가장 가까운 탄소 원자로 치환하는 것이 곤란한 경우도 있으며, 그 경우, 치환기는 그 다음에 가까운 탄소 원자에 결합하는 것이 적합하다. 예를 들어, 시클로헥산 고리에서는, 2 위치 또는 6 위치의 탄소 원자가 1 위치에 가장 가깝지만, 입체 장해에 의해 치환이 곤란한 경우, 그 다음에 가까운 3 위치 또는 5 위치에 치환기가 결합하면 된다.Further, the cycloalkylidene group is a 1,1-cycloalkylidene group, and the substituent is preferably a group having a cyclic alkylene ring moiety such as a benzene ring bonded to the carbon at the 1-position of the cycloalkylidene group, So as to improve the dielectric properties and improve the heat resistance. This substitution position may be bonded at any position as far as it can restrict motility, but it is preferable that the substitution position is bonded to a carbon atom close to the 1-position of the cycloalkylidene group. The position of a preferable substituent is a carbon atom at the 2-position or 5-position in the cyclopentane ring. Position, 3-position, 5-position or 6-position carbon atom in the cyclohexane ring, and more preferably 2-position or 6-position carbon atom in the cyclohexane ring. In the cycloheptane ring, the carbon atom at the 2-position, the 3-position, the 6-position, or the 7-position is more preferable the carbon atom at the 2- or 7-position. In the cyclooctane ring, the carbon atom at the 2-position, the 3-position, the 4-position, the 6-position, the 7-position or the 8-position is more preferable the carbon atom at the 2-, 3-, Is a carbon atom at the 2-position or the 8-position. However, depending on the influence of the steric hindrance with the adjacent benzene ring, it may be difficult to substitute with the carbon atom closest to the 1-position. In this case, it is preferable that the substituent is bonded to the carbon atom next to the substituent. For example, in the cyclohexane ring, the carbon atom at the 2-position or 6-position is closest to the 1-position, but when the substitution is difficult due to the steric hindrance, substituents may be bonded at the 3-position or 5-position next to the cyclo-hexane ring.

또, 치환기의 수는, 상기 서술한 이유에 의해 적어도 1 개 필요하지만, 경화물로 했을 때의 내열성의 관점에서, 3 개 이상이 바람직하고, 3 개가 보다 바람직하다.The number of substituents is required to be at least 1 for the above-described reasons, but is preferably 3 or more, and more preferably 3 from the viewpoint of heat resistance when formed into a cured product.

식 (1) 중, m 은 반복수이며, 그 평균값 (수평균) 은 0 ∼ 5 이고, 0 ∼ 3 이 바람직한 범위이고, 0 ∼ 1 이 보다 바람직한 범위이고, 0 ∼ 0.5 가 더욱 바람직한 범위이다. 그리고, 반복수 (정수) 는, 통상적으로 0 ∼ 5 의 정수의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 반복수가 0 ∼ 5 중 어느 하나의 정수인 단일 화합물이어도, m 이 0 ∼ 5 중 복수의 정수인 혼합물이어도 된다. 통상적인 다가 하이드록시 수지의 에피클로로하이드린 등에 의한 에폭시화에서는, 혼합물로서 얻어지므로, 혼합물이면 그대로 사용할 수 있다는 이점이 있다.In the formula (1), m is a repetition number, and the average value (number average) is 0 to 5, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 1, and still more preferably 0 to 0.5. It is preferable that the number of repetitions (integer) is usually in the range of 0 to 5. A single compound in which the number of repeats is any one of 0 to 5, or a mixture in which m is a multiple of 0 to 5 may be used. In the epoxidation of an ordinary polyhydric hydroxy resin with epichlorohydrin or the like, it is obtained as a mixture, so that it is advantageous that the mixture can be used as it is.

에폭시 수지 (a1) 의 알코올성 수산기 당량이 3000 g/eq. 이상인 것이 바람직하다. 그 때문에, 반복수 (정수) 는 0 ∼ 3 이 바람직하고, 0 ∼ 2 가 보다 바람직하고, 0 ∼ 1 이 더욱 바람직하다. 6 이상인 화합물을 함유하는 경우에는, 에폭시 수지 (a1) 중의 알코올성 수산기가 많아지고, 이것과 이소시아네이트가 반응함으로써 우레탄 결합이 생기기 때문에, 경화물의 유리 전이점을 저하시키는 점에서 바람직하지 않다. 또, 경화물 중의 수산기 농도가 증가하기 때문에 경화물의 유전율을 높이는 점에서도 바람직하지 않다. 또한, 알코올성 수산기 당량이 클수록 알코올성 수산기가 적은 것을 나타낸다. m 이 0 인 경우, 알코올성 수산기가 없어져, 알코올성 수산기 당량은 이론상 무한대가 되기 때문에, 상한값을 특별히 정할 필요는 없다.The alcoholic hydroxyl equivalent of the epoxy resin (a1) is 3000 g / eq. Or more. Therefore, the number of repeats (integer) is preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, still more preferably 0 to 1. 6 or more, the number of alcoholic hydroxyl groups in the epoxy resin (a1) is increased, and urethane bonds are formed by the reaction with the isocyanate, which is undesirable in that the glass transition point of the cured product is lowered. In addition, since the concentration of hydroxyl groups in the cured product increases, it is not preferable in terms of increasing the dielectric constant of the cured product. The larger the alcoholic hydroxyl group equivalent, the smaller the alcoholic hydroxyl group. When m is 0, the alcoholic hydroxyl group is lost and the alcoholic hydroxyl group equivalent is theoretically infinite, so that there is no need to set the upper limit value.

에폭시 수지 (a1) 는, 하기 식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물과 에피할로하이드린을 수산화나트륨 등의 알칼리 존재하에서 반응시키는 방법이나, 식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물을 알릴에테르화물에 의해 알릴에테르화한 후에 과산화물 등의 산화제로 알릴기를 산화하여 에폭시화하는 방법 등의 공지된 방법으로 얻을 수 있다.The epoxy resin (a1) can be obtained by a method in which a phenol compound represented by the following formula (2) and epihalohydrin are reacted in the presence of an alkali such as sodium hydroxide or a method in which a phenol compound represented by the formula (2) Followed by etherification, followed by epoxidation by oxidizing the allyl group with an oxidizing agent such as peroxide.

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 중, R 및 X 는 식 (1) 의 R 및 X 와 각각 동일한 의미이다)(Wherein R and X have the same meanings as R and X in the formula (1), respectively)

에폭시 수지 (a1) 의 에폭시 당량은, 100 g/eq. ∼ 500 g/eq. 가 바람직하고, 150 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 보다 바람직하다. 또, 알코올성 수산기 당량도 3000 g/eq. 이상이 바람직하고, 4000 g/eq. 이상이 보다 바람직하고, 5000 g/eq. 이상이 더욱 바람직하다.The epoxy equivalent of the epoxy resin (a1) is 100 g / eq. ~ 500 g / eq. And more preferably 150 g / eq. ~ 300 g / eq. Is more preferable. The alcoholic hydroxyl group equivalent was also 3000 g / eq. Or more, more preferably 4000 g / eq. Or more, more preferably 5000 g / eq. Or more.

식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물은, 일본 공개특허공보 평4-282334호나 일본 공개특허공보 2015-51935호에서 개시된 방법 등으로, 각각 상당하는 고리형 지방족 케톤류와 페놀류를 반응시킴으로써 얻어진다. 구체적인 페놀 화합물예로는 하기에 나타내는 바와 같은 페놀 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.The phenol compounds represented by the formula (2) are obtained by reacting corresponding cyclic aliphatic ketones and phenols with the methods disclosed in JP-A-4-282334 and JP-A-2015-51935. Examples of specific phenol compounds include phenolic compounds as shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

이들 예시한 페놀 화합물은, 시판품으로서도 입수 가능하고, 예를 들어, BisP-TMC, BisOC-TMC, BisP-MZ, BisP-3MZ, BisP-IPZ, BisCR-IPZ, Bis26X-IPZ, BisOCP-IPZ, BisP-nBZ, BisOEP-2HBP (이상, 상품명, 혼슈 화학 공업 제조) 등을 들 수 있다.These exemplified phenolic compounds are also available as commercial products and include, for example, BisP-TMC, BisOC-TMC, BisP-MZ, BisP-3MZ, BisP-IPZ, BisCR-IPZ, Bis26X-IPZ, BisOCP- -nBZ, and BisOEP-2HBP (all trade names, manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.).

식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 로는, 상기 식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물류와 에피할로하이드린으로부터 얻어지는 에폭시 수지를 들 수 있다. 예를 들어, 4,4'-(2-메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3-메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(4-메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-페닐페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-페닐페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-디메틸페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-tert-부틸페놀글리시딜에테르 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Examples of the epoxy resin (a1) represented by the formula (1) include an epoxy resin obtained from the phenol compounds represented by the formula (2) and epihalohydrin. For example, 4,4 '- (2-methylcyclohexylidene) diphenol glycidyl ether, 4,4' - (3-methylcyclohexylidene) diphenol glycidyl ether, 4,4 ' - (4-methylcyclohexylidene) diphenol glycidyl ether, 4,4 '- (3,3,5-trimethylcyclohexylidene) diphenol glycidyl ether, Trimethylcyclohexylidene) -bis-phenylphenol glycidyl ether, 4,4 '- (3,3,5-trimethylcyclohexylidene) -bis-phenylphenol glycidyl ether, 4, 4'- (3,3,5-trimethylcyclohexylidene) -bis-dimethylphenol glycidyl ether, 4,4 '- (3,3,5-trimethylcyclohexylidene) -bis-tert- butyl Phenol glycidyl ether, and the like, but not limited thereto, and they may be used alone or in combination of two or more.

에폭시 수지 (a1) 로는, 입수의 용이성과 경화물의 물성의 양호성에서, 하기 식 (3) 으로 나타내는 페놀 화합물인 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)디페놀과 에피할로하이드린으로부터 얻어지는 하기 식 (4) 로 나타내는 에폭시 수지가 바람직하다.As the epoxy resin (a1), 4,4 '- (3,3,5-trimethylcyclohexylidene) diphenol, which is a phenol compound represented by the following formula (3), and epi An epoxy resin represented by the following formula (4) obtained from halohydrin is preferable.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

(식 중, m 은 식 (1) 의 m 과 동일한 의미이다)(Wherein m has the same meaning as m in formula (1)),

본 발명에 사용하는 에폭시 수지 (a) 로서, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 에폭시 수지 (a1) 이외의 에폭시 수지 (a2) 를 50 질량% 이하로 병용해도 된다. 에폭시 수지 (a2) 는, 식 (1) 로 나타내는 구조를 갖지 않는 것으로 이해된다. 본원 발명의 효과가 가장 발현되는 배합은, 에폭시 수지 (a1) 의 단독 사용 (100 질량%) 이다. 또, 에폭시 수지 (a1) 의 사용량이 50 질량% 미만에서는 본원 발명의 효과가 발현되지 않을 우려가 있다. 병용할 수 있는 에폭시 수지 (a2) 를 사용하는 목적은, 예를 들어, 용제 용해성의 추가적인 향상 등의 다른 특성의 부여를 위해서이다. 따라서 에폭시 수지 (a2) 의 사용량은 가능한 한 적은 것이 바람직하다.As the epoxy resin (a) to be used in the present invention, an epoxy resin (a2) other than the epoxy resin (a1) may be used in an amount of 50 mass% or less insofar as the effect of the present invention is not impaired. It is understood that the epoxy resin (a2) does not have the structure represented by the formula (1). The combination in which the effect of the present invention is most expressed is the use (100% by mass) of the epoxy resin (a1) alone. If the amount of the epoxy resin (a1) is less than 50 mass%, the effect of the present invention may not be exhibited. The purpose of using the co-usable epoxy resin (a2) is for the purpose of imparting other properties such as, for example, further improvement in solvent solubility. Therefore, the use amount of the epoxy resin (a2) is preferably as small as possible.

에폭시 수지 (a2) 중에 함유되는 알코올성 수산기는 이소시아네이트와 반응하여 우레탄 결합을 형성하므로, 경화물의 내열성을 저하시킬 우려가 있다. 그 때문에, 알코올성 수산기 당량은 1000 g/eq. 이상이 바람직하고, 3000 g/eq. 이상이 보다 바람직하고, 5000 g/eq. 이상이 더욱 바람직하다.The alcoholic hydroxyl group contained in the epoxy resin (a2) reacts with the isocyanate to form a urethane bond, which may lower the heat resistance of the cured product. Therefore, the alcoholic hydroxyl equivalent is 1000 g / eq. Or more, more preferably 3000 g / eq. Or more, more preferably 5000 g / eq. Or more.

또, 에폭시 수지 (a2) 의 에폭시 당량은 특별히 한정되지 않지만, 100 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 바람직하고, 170 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 보다 바람직하다.The epoxy equivalent of the epoxy resin (a2) is not particularly limited, but is preferably 100 g / eq. ~ 300 g / eq. And more preferably 170 g / eq. ~ 300 g / eq. Is more preferable.

사용할 수 있는 에폭시 수지 (a2) 로는, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 (등록상표) YD-127, 에포토트 YD-128, 에포토트 YD-8125, 에포토트 YD-825GS (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDF-170, 에포토트 YDF-1500, 에포토트 YDF-8170, 에포토트 YDF-870GS (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 테트라메틸비스페놀 F 형 에폭시 수지, 예를 들어 YSLV-80XY, YSLV-70XY (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비페놀형 에폭시 수지, 예를 들어 YX-4000 (상품명, 미츠비시 화학 주식회사 제조), ZX-1251 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDC-1312, ZX-1027 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 예를 들어 ZX-1201 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 예를 들어 ZX-1355 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 예를 들어 TX-0710 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피크론 (등록상표) EXA-1515 (상품명, 다이닛폰 화학 공업 주식회사 제조), 비스티오에테르형 에폭시 수지, 예를 들어 YSLV-120TE (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 레조르시놀형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1684 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDPN-638 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피코트 (등록상표) 152, 에피코트 154 (이상, 상품명, 미츠비시 화학 주식회사 제조), 에피크론 N-740, 에피크론 N-770, 에피크론 N-775 (이상, 상품명, DIC 주식회사 제조), 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDCN-700 시리즈 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피크론 N-660, 에피크론 N-665, 에피크론 N-670, 에피크론 N-673, 에피크론 N-695 (이상, 상품명, DIC 주식회사 제조), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (이상, 상품명, 닛폰 화약 주식회사 제조), 알킬 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1071T, ZX-1270, ZX-1342 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 스티렌화페놀 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1247, GK-5855, TX-1210 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1142L (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), β나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-300 시리즈의 ESN-355, ESN-375 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), α나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-400 시리즈의 ESN-475V, ESN-485 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지, 예를 들어 NC-3000, NC-3000H (이상, 상품명, 닛폰 화약 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜에테르 화합물, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜에테르, 예를 들어 에포토트 YH-434, 에포토트 YH-434GS (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-벤젠디(메탄아민), 예를 들어 TETRAD-X (상품명, 미츠비시 가스 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜아민 화합물, 다이머산형 에폭시 수지, 예를 들어 YD-171 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜에스테르 화합물, 지방족 고리형 에폭시 수지, 예를 들어 셀록사이드 (등록상표) 2021 (상품명, 다이셀 화학 공업 주식회사 제조) 등의 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다.Examples of usable epoxy resin (a2) include epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins such as EOTOTT 速 YD-127, EOTOTT YD-128, EOTOTT YD-8125, EOTOT YD-825GS (Manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), Bisphenol F type epoxy resin such as Eptot YDF-170, Eptot YDF-1500, Eptot YDF-8170, Eptot YDF-870GS (Trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), tetramethyl bisphenol F type epoxy resin such as YSLV-80XY and YSLV-70XY A resin such as YX-4000 (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), ZX-1251 (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), hydroquinone type epoxy resin such as EOTOTT YDC- 1027 (trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), bisphenol- For example, ZX-1355 (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), bisphenol S type epoxy resin (for example, ZX- Epoxy resin, for example, TX-0710 (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epichron (registered trademark) EXA-1515 (trade name, manufactured by Dainippon Chemical Industry Co., Ltd.) For example, Epotho ZX-1684 (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), phenol novolak type epoxy resin, (Trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epikote (registered trademark) 152, Epikote 154 (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epikote (registered trademark) (Trade name, manufactured by DIC Corporation), cresol novolak type epoxy resin such as Ephotron YDCN-700 series (trade name, available from Shin-Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.) Epiclon N-670, Epiclon N-670, Epiclon N-670, Epiclon N-673 and Epiclon N-695 (all trade names, manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020 and EOCN-102S , EOCN-104S (trade name, manufactured by Nippon Yakusho Co., Ltd.), alkyl novolak type epoxy resin such as Epitot ZX-1071T, ZX-1270 and ZX-1342 (trade name, available from Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., (Trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), naphthol novolak type epoxy resin, Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), styrenated phenol novolak type epoxy resin such as Ecotot ZX-1247, GK- For example, Epotot ZX-1142L (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), β-naphthol aralkyl type epoxy resin (For example, ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (trade names, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), dinaphthol aralkyl type epoxy resins such as ESN- ESN-475V, ESN-485 (trade name, available from Shinnets Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.) (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.) Polyglycidyl ether compounds such as biphenylaralkylphenol type epoxy resins such as NC-3000 and NC-3000H (trade names, manufactured by Nippon Yakusho Co., Ltd.), diaminodiphenylmethane tetraglycidyl N, N ', N'-tetraglycidyl-1,3 (trifluoromethyl) benzoic acid, such as EOTOTO YH-434, EOTOTO YH-434GS (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., -Benzene di (methane amine), such as TETRAD-X (trade name, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) Polyglycidyl ester compounds such as dimer acid type epoxy resins such as YD-171 (trade name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), aliphatic cyclic epoxy resins such as Celloxide (registered trademark) 2021 (Trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like. However, the epoxy resin is not limited to these, and these epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

병용할 수 있는 에폭시 수지 (a2) 중, 보다 유전율을 저하시키는 목적에서는 지방족 치환기를 함유하는 에폭시 수지가 바람직하고, 내열성을 보다 향상시키는 목적에서는 다관능성인 페놀 노볼락형 에폭시 수지와 크레졸 노볼락형 에폭시 수지가 바람직하고, 점도를 저하시키는 목적에서는 비스페놀 A 형 에폭시 수지와 비스페놀 F 형 에폭시 수지가 각각 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Of the epoxy resin (a2) that can be used in combination, an epoxy resin containing an aliphatic substituent is preferable for the purpose of lowering the dielectric constant. For the purpose of further improving the heat resistance, a polyfunctional phenol novolak type epoxy resin and a cresol novolak type epoxy resin Epoxy resins are preferable, and bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins are preferable for the purpose of lowering the viscosity, but the present invention is not limited thereto.

본 발명에 사용하는 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량은, 100 g/eq. ∼ 500 g/eq. 가 바람직하고, 150 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 보다 바람직하다. 복수의 에폭시 수지를 병용하는 경우에는, 혼합 후에 측정을 실시함으로써 구해진다. 또, 각각의 에폭시 당량이 이미 알려진 경우에는 계산에 의해 구해도 된다.The epoxy equivalent of the epoxy resin (a) used in the present invention is preferably 100 g / eq. ~ 500 g / eq. And more preferably 150 g / eq. ~ 300 g / eq. Is more preferable. When a plurality of epoxy resins are used in combination, measurement is carried out after mixing. When the respective epoxy equivalents are already known, they may be obtained by calculation.

에폭시 수지 (a) 중에 함유되는 알코올성 수산기는 이소시아네이트와 반응하여 우레탄 결합을 형성하므로, 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물의 내열성을 저하시킨다. 그 때문에, 에폭시 수지 (a) 중의 알코올성 수산기 당량은 1000 g/eq. 이상이 바람직하고, 3000 g/eq. 이상이 보다 바람직하고, 5000 g/eq. 이상이 더욱 바람직하다. 복수의 에폭시 수지를 병용하는 경우에는, 혼합 후에 측정을 실시함으로써 구해진다. 또, 각각의 알코올성 수산기 당량이 이미 알려진 경우에는 계산에 의해 구해도 된다.The alcoholic hydroxyl group contained in the epoxy resin (a) reacts with the isocyanate to form a urethane bond, so that the heat resistance of the epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition is lowered. Therefore, the alcoholic hydroxyl group equivalent in the epoxy resin (a) is 1000 g / eq. Or more, more preferably 3000 g / eq. Or more, more preferably 5000 g / eq. Or more. When a plurality of epoxy resins are used in combination, measurement is carried out after mixing. When the respective alcoholic hydroxyl group equivalents are already known, they may be obtained by calculation.

에폭시 수지 (a) 의 알코올성 수산기는, 페놀 화합물과 에피할로하이드린의 반응에 수반하여 발생한 알코올성 수산기이다. 에피할로하이드린이 에피클로로하이드린인 경우, 이들 알코올성 수산기는, 페놀 화합물이 에피클로로하이드린의 α 위치에 부가됨으로써 발생하는 2-클로로-3-하이드록시프로필기에서 유래하는 알코올성 수산기 (α), 페놀 화합물이 에피클로로하이드린의 β 위치에 부가됨으로써 발생하는 1-클로로메틸-2-하이드록시에틸기에서 유래하는 알코올성 수산기 (β), 에폭시 수지에 페놀 화합물이 부가됨으로써 발생하는 2 급 알코올성 수산기 (γ), 에폭시 수지의 에폭시기가 가수분해됨으로써 발생하는 α글리콜 (δ) 이다. 본 발명에서의 알코올성 수산기는 (α), (β), (γ) 및 (δ) 모두를 가리키므로, 알코올성 수산기 당량은, (α), (β), (γ) 및 (δ) 모두가 측정 대상이다.The alcoholic hydroxyl group of the epoxy resin (a) is an alcoholic hydroxyl group generated by the reaction of a phenolic compound and epihalohydrin. When the epihalohydrin is epichlorohydrin, the alcoholic hydroxyl group is an alcoholic hydroxyl group derived from a 2-chloro-3-hydroxypropyl group (a group derived from the addition of a phenol compound to the alpha position of epichlorohydrin ), An alcoholic hydroxyl group (?) Derived from a 1-chloromethyl-2-hydroxyethyl group resulting from the addition of a phenol compound to the? -Position of epichlorohydrin, a secondary alcoholic hydroxyl group (?), and? -glycol (?) generated by hydrolysis of an epoxy group of an epoxy resin. Since the alcoholic hydroxyl group in the present invention refers to both of (?), (?), (?) And (?), The alcoholic hydroxyl group equivalent is such that all of?,?,? It is an object of measurement.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 제조하기 위해서는, 에폭시 수지 (a) 와 함께, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 사용한다. 이 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응에 의해, 원하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 이 이소시아네이트 화합물 (b) 은, 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기 (-N=C=O) 를 갖는 이소시아네이트 화합물이면 되고, 공지 관용의 이소시아네이트 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 트랜스시클로헥산1,4-디이소시아네이트, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 메탄디이소시아네이트, 부탄-1,1-디이소시아네이트, 에탄-1,2-디이소시아네이트, 부탄-1,2-디이소시아네이트, 트랜스비닐렌디이소시아네이트, 프로판-1,3-디이소시아네이트, 부탄-1,4-디이소시아네이트, 2-부텐-1,4-디이소시아네이트, 2-메틸부텐-1,4-디이소시아네이트, 2-메틸부탄-1,4-디이소시아네이트, 펜탄-1,5-디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄-1,5-디이소시아네이트, 헥산-1,6-디이소시아네이트, 헵탄-1,7-디이소시아네이트, 옥탄-1,8-디이소시아네이트, 노난-1,9-디이소시아네이트, 데칸-1,10-디이소시아네이트, 디메틸실란디이소시아네이트, 디페닐실란디이소시아네이트, ω,ω'-1,3-디메틸벤젠디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸벤젠디이소시아네이트, ω,ω'-1,3-디메틸시클로헥산디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸시클로헥산디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸나프탈렌디이소시아네이트, ω,ω'-1,5-디메틸나프탈렌디이소시아네이트, 시클로헥산-1,3-디이소시아네이트, 시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,4-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,5-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,6-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-3,5-디이소시아네이트, 디페닐에테르-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐에테르-2,4'-디이소시아네이트, 나프탈렌-1,4-디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸비스페닐-4,4'-디이소시아네이트, 2,3'-디메톡시비스페닐-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디메톡시디페닐메탄-3,3'-디이소시아네이트, 디페닐술파이트-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐술폰-4,4'-디이소시아네이트 등의 2 관능 이소시아네이트 화합물이나, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(4-페닐이소시아네이트티오포스페이트)-3,3',4,4'-디페닐메탄테트라이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트 화합물이나, 상기 이소시아네이트 화합물의 2 량체나 3 량체 등의 중합체나, 알코올이나 페놀 등의 블록제에 의해 마스크된 블록형 이소시아네이트나, 비스우레탄 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 이소시아네이트 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.To prepare the epoxy resin containing an oxazolidin ring of the present invention, an isocyanate compound (b) is used together with the epoxy resin (a). By the reaction of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), a desired oxazolidone ring-containing epoxy resin can be obtained. The isocyanate compound (b) may be any isocyanate compound having an average of not less than 1.8 isocyanate groups (-N = C = O) in the molecule, and may be an isocyanate compound for known purpose. Specific examples include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane isocyanate, xylylene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, Diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylenediisocyanate, transcyclohexane 1,4-diisocyanate, 4 , 4-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) thiophosphate, tetramethyl xylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate -4-isocyanatomethyloctane, 1,3,6-hexamethylene Diisocyanate, butane-1,2-diisocyanate, trans-vinylene diisocyanate, propane-1,3-diisocyanate, propane-1,1-diisocyanate, Butene-1,4-diisocyanate, 2-methylbutene-1,4-diisocyanate, 2-methylbutane-1,4-diisocyanate, pentane- 1,5-diisocyanate, 2,2-dimethylpentane-1,5-diisocyanate, hexane-1,6-diisocyanate, heptane-1,7-diisocyanate, Ω'-1,3-dimethylbenzene diisocyanate, ω, ω'-1,4-diisocyanate, decane-1,10-diisocyanate, dimethylsilane diisocyanate, diphenylsilane diisocyanate, Dimethylbenzene diisocyanate,?,? '- 1,3-dimethylcyclohexane diisocyanate,?,?' - 1,4- Dimethylcyclohexane diisocyanate,?,? '- 1,4-dimethylnaphthalene diisocyanate,?,?' - 1,5-dimethylnaphthalene diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, cyclohexane- Diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-phenylenediisocyanate, 1,4-phenylenediisocyanate, 1-methylbenzene-2,4-diisocyanate, 2,5-diisocyanate, 1-methylbenzene-2,6-diisocyanate, 1-methylbenzene-3,5-diisocyanate, diphenylether-4,4'-diisocyanate, diphenylether- Diisocyanate, naphthalene-1,4-diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, biphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'-dimethylbisphenyl-4,4'-diisocyanate , 2,3'-dimethoxybisphenyl-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 3,3'-dimethoxydiphenylmethane- Diisocyanate, 4,4'-dimethoxydiphenylmethane-3,3'-diisocyanate, diphenylsulfate-4,4'-diisocyanate, diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate, etc. And a polyfunctional isocyanate compound such as polymethylene polyphenyl isocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (4-phenylisocyanate thiophosphate) -3,3 ', 4,4'-diphenylmethane tetraisocyanate, Or a block such as a polymer such as a dimer or a trimer of the isocyanate compound or a blocking agent such as an alcohol or a phenol, or a bis urethane compound, but the present invention is not limited thereto. These isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

이들 이소시아네이트 화합물 중, 바람직하게는 2 관능 이소시아네이트 화합물 또는 3 관능 이소시아네이트 화합물이고, 더욱 바람직하게는 2 관능 이소시아네이트 화합물이다. 이소시아네이트 화합물의 관능기수가 많으면 저장 안정성이 저하될 우려가 있고, 적으면 내열성이나 유전 특성이 향상되지 않을 우려가 있다. 2 관능 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 트랜스시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트를 들 수 있고, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트가 바람직하다.Of these isocyanate compounds, bifunctional isocyanate compounds or trifunctional isocyanate compounds are preferable, and bifunctional isocyanate compounds are more preferable. If the number of functional groups of the isocyanate compound is large, there is a fear that the storage stability is lowered, and if it is small, heat resistance and dielectric properties may not be improved. Examples of the bifunctional isocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanato Methyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolylidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylenediisocyanate, transcyclohexane- 1,4-diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate and tetramethyl xylene diisocyanate, and 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4-diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, Trimethylhexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate are preferable.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응은 공지된 방법으로 실시할 수 있다. 구체적인 반응 방법으로는, (1) 에폭시 수지 (a) 를 용융하고, 건조 가스 퍼지나 계 내를 감압으로 하는 등의 방법으로 에폭시 수지 중의 수분을 제거한 후, 이소시아네이트 화합물 (b) 과 촉매를 첨가하여 반응을 실시하는 방법, 또는 (2) 에폭시 수지 (a) 와 촉매를 미리 혼합해 두고, 건조 가스 퍼지나 계 내를 감압으로 하는 등의 방법으로 에폭시 수지 중의 수분을 제거한 후, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 첨가하여 반응을 실시하는 방법 등이 있다. 어느 방법에서도, 수지 점도가 높아 교반이 어려운 경우 등 필요하면, 비반응성의 용제를 사용할 수도 있다.The reaction of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) can be carried out by a known method. Specific reaction methods include: (1) removing the moisture in the epoxy resin by melting the epoxy resin (a), purging with a dry gas or reducing the pressure in the system; adding an isocyanate compound (b) and a catalyst Or (2) after the epoxy resin (a) and the catalyst are mixed in advance and the moisture in the epoxy resin is removed by a method such as dry gas purge or depressurization in the system, the isocyanate compound (b) And then the reaction is carried out. In either method , a non-reactive solvent may be used if necessary, for example , when the resin viscosity is high and stirring is difficult.

옥사졸리돈 고리를 형성하는 반응 기구는, 하기 반응식 (5) 로 나타낸다. 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 은 촉매를 첨가함으로써, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 반응하여 옥사졸리돈 고리를 형성한다.The reaction mechanism for forming the oxazolidone ring is represented by the following reaction formula (5). The epoxy group of the epoxy resin (a) and the isocyanate group of the isocyanate compound (b) react with each other to form an oxazolidone ring by adding a catalyst to the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b).

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

또, 에폭시 수지 (a) 가 알코올성 수산기를 함유하는 경우, 하기 반응식 (6) 으로 나타내는 바와 같이, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 알코올성 수산기와 부가 반응하여 우레탄 결합을 형성한다.When the epoxy resin (a) contains an alcoholic hydroxyl group, the isocyanate group of the isocyanate compound (b) undergoes an addition reaction with an alcoholic hydroxyl group to form a urethane bond, as shown in the following reaction formula (6).

[화학식 7](7)

Figure pat00007
Figure pat00007

또, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 원료의 주입량으로부터 하기 계산식 (7) 에 따라 예측할 수 있다. 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 바람직한 에폭시 당량은 200 ∼ 600 g/eq. 이다. 그 범위 내에서 수지 중의 옥사졸리돈 고리의 함유량을 조정하는 것은, 사용하는 이소시아네이트 화합물 (b) 의 NCO 농도를 조정함으로써 가능하다.The epoxy equivalence of the oxazolidone ring-containing epoxy resin can be estimated from the injection amount of the starting material according to the following formula (7). The epoxy equivalent weight of the oxazolidin ring-containing epoxy resin of the present invention is preferably 200 to 600 g / eq. to be. The content of the oxazolidone ring in the resin within the range can be adjusted by adjusting the NCO concentration of the isocyanate compound (b) to be used.

Figure pat00008
Figure pat00008

No : 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량 (g/eq.)No: epoxy equivalent of epoxy resin containing oxazolidone ring (g / eq.)

Ne : 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량 (g/eq.)Ne: Epoxy equivalent (g / eq.) Of epoxy resin (a)

Ni : 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 당량 (g/eq.)Ni: equivalent of isocyanate group of isocyanate compound (b) (g / eq.)

Me : 에폭시 수지 (a) 의 주입량 (g)Me: injection amount (g) of epoxy resin (a)

Mi : 이소시아네이트 화합물 (b) 의 주입량 (g)Mi: injection amount (g) of isocyanate compound (b)

예를 들어, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량이 218 g/eq., 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 당량이 125 g/eq. 인 경우, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량이 200 ∼ 600 g/eq. 의 범위가 되는 주입량은, 계산식 (7) 로부터 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 질량부에 있어서의 주입비 Me/Mi 는 3.3 이상이다.For example, the epoxy equivalent of the epoxy resin (a) is 218 g / eq., The equivalent of the isocyanate group of the isocyanate compound (b) is 125 g / eq. , The epoxy equivalent of the oxazolidone ring-containing epoxy resin is 200 to 600 g / eq. The injection ratio Me / Mi in the mass portion of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) is 3.3 or more from the calculation formula (7).

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응은, 촉매를 첨가하여 실시하는 것이 바람직하다. 촉매의 첨가 온도는, 실온 ∼ 150 ℃ 의 범위에서 실시하는 것이 바람직하고, 실온 ∼ 100 ℃ 의 범위가 보다 바람직하다.The reaction between the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) is preferably carried out by adding a catalyst. The addition temperature of the catalyst is preferably in the range of room temperature to 150 ° C, more preferably in the range of room temperature to 100 ° C.

반응 온도는, 100 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 범위가 바람직하고, 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하의 범위가 보다 바람직하고, 120 ℃ 이상 160 ℃ 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 반응 온도가 낮으면 옥사졸리돈 고리 형성이 충분히 이루어지지 않고, 이소시아네이트기의 3 량화 반응에 의한 이소시아누레이트 고리를 형성할 우려가 있다. 또, 반응 온도가 높으면 국소적인 고분자량화가 일어나고, 불용해성의 겔 성분의 생성이 많아질 우려가 있다. 그 때문에, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 속도를 조정할 필요가 있다. 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 속도가 빠르면 발열에 대해 냉각이 늦어져 바람직한 반응 온도를 유지할 수 없게 될 우려가 있다. 또, 첨가 속도가 느리면 생산성이 현저하게 저하될 우려가 있다.The reaction temperature is preferably in the range of 100 占 폚 to 250 占 폚, more preferably in the range of 100 占 폚 to 200 占 폚, and still more preferably in the range of 120 占 폚 to 160 占 폚. When the reaction temperature is low, oxazolidone ring formation is not sufficiently carried out, and isocyanurate ring due to trimerization reaction of isocyanate group may be formed. In addition, if the reaction temperature is high, localized high molecular weight may occur and generation of an insoluble gel component may increase. Therefore, it is necessary to adjust the addition rate of the isocyanate compound (b). If the addition rate of the isocyanate compound (b) is high, the cooling may be delayed with respect to heat generation, and the desired reaction temperature may not be maintained. In addition, if the addition rate is low, the productivity may be remarkably lowered.

반응 시간은 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 종료로부터 15 분간 ∼ 10 시간의 범위가 바람직하고, 30 분간 ∼ 8 시간이 보다 바람직하고, 1 시간 ∼ 5 시간이 더욱 바람직하다. 이것은, 반응 시간이 짧으면 이소시아네이트기가 생성물에 많이 잔류할 우려가 있다. 또, 반응 시간이 길면 생산성이 현저하게 저하될 우려가 있다.The reaction time is preferably from 15 minutes to 10 hours, more preferably from 30 minutes to 8 hours, even more preferably from 1 hour to 5 hours from the completion of addition of the isocyanate compound (b). This is because if the reaction time is short, there is a possibility that a large amount of an isocyanate group remains in the product. In addition, if the reaction time is long, there is a possibility that productivity is significantly lowered.

사용할 수 있는 촉매로는, 구체적으로는, 염화리튬, 부톡시리튬 등의 리튬 화합물류, 3 불화붕소의 착염류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄요오디드, 테트라에틸암모늄요오디드 등의 4 급 암모늄염류, 디메틸아미노에탈, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질디메틸아민, N-메틸모르폴린 등의 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 등의 포스핀류, 아밀트리페닐포스포늄브로마이드, 디알릴디페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오디드, 테트라부틸포스포늄아세테이트·아세트산 착물, 테트라부틸포스포늄아세테이트, 테트라부틸포스포늄클로라이드, 테트라부틸포스포늄브로마이드, 테트라부틸요오드이드 등의 포스포늄염류, 트리페닐안티몬 및 요오드의 조합, 2-페닐이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류 등, 수산화나트륨 등의 알칼리 금속 산화물류 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 촉매는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다. 또, 분할하여 몇 차례로 나누어 사용해도 된다.Specific examples of usable catalysts include lithium compounds such as lithium chloride and butoxy lithium, complex salts of boron trifluoride, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetramethylammonium iodide , Quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium iodide, tertiary amines such as dimethylaminoethane, triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine and N-methylmorpholine, triphenylphosphine, tris (2, 6-dimethoxyphenyl) phosphine; amines such as amyltriphenylphosphonium bromide, diallyldiphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide, Tetrabutylphosphonium acetate-acetic acid complex, tetrabutylphosphonium acetate, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphorus Phosphonium salts such as sodium bromide and tetrabutyl iodide, a combination of triphenylantimony and iodine, imidazoles such as 2-phenylimidazole, 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole And alkali metal oxide such as sodium hydroxide. However, the present invention is not limited thereto. These catalysts may be used alone or in combination of two or more. Alternatively, it may be divided and used several times.

촉매의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 촉매 중에서 바람직한 염기 촉매는 반응 활성, 반응의 선택성에 있어서 테트라메틸암모늄요오디드이다. 반응 활성이 낮은 촉매에서는 반응 시간이 길어져 생산성의 저하를 초래할 우려가 있고, 반응의 선택성이 낮은 촉매에서는 에폭시기끼리의 중합 반응이 진행되어 목적으로 하고 있는 물성을 얻지 못할 우려가 있다.The kind of the catalyst is not particularly limited, but a preferred base catalyst in the catalyst is tetramethylammonium iodide in the reaction activity and the selectivity of the reaction. In the case of a catalyst having a low reaction activity, the reaction time may be prolonged and the productivity may be lowered. On the other hand, in the catalyst having low selectivity for the reaction, the polymerization reaction between the epoxy groups proceeds and the intended properties may not be obtained.

촉매량은 특별히 한정되지 않지만, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 합계 질량에 대하여, 0.001 질량% 이상 5 질량% 이하에서 사용하면 되고, 0.005 질량% 이상 1 질량% 이하가 바람직하고, 0.005 질량% 이상 0.5 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 촉매량이 많으면 경우에 따라서는 에폭시기의 자기 중합 반응이 진행되기 때문에, 수지 점도가 높아질 우려가 있다. 또, 이소시아네이트의 자기 중합 반응이 촉진되어, 옥사졸리돈 고리의 생성이 억제될 우려가 있다. 또한, 생성 수지 중에 불순물로서 잔류하여, 각종 용도, 특히 적층판이나 봉지재 (封止材) 의 재료로서 사용한 경우에, 절연성의 저하나 내습성의 저하를 초래할 우려가 있다. 촉매량이 적으면 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻기 위한 효율의 저하를 초래할 우려가 있다.The amount of the catalyst is not particularly limited, but is preferably 0.001 mass% or more and 5 mass% or less based on the total mass of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), more preferably 0.005 mass% or more and 1 mass% More preferably not less than 0.5% by mass, and still more preferably not less than 0.001% by mass and not more than 0.2% by mass. If the amount of the catalyst is large, the autocopolymerization reaction of the epoxy group proceeds in some cases, which may increase the resin viscosity. Further, the self-polymerization reaction of the isocyanate is promoted, which may inhibit the formation of the oxazolidone ring. In addition, when used as a material for various applications, particularly as a laminate or a sealing material, the resulting resin remains as an impurity, which may result in deterioration of insulating properties and deterioration of moisture resistance. If the amount of the catalyst is small, there is a fear that the efficiency for obtaining an oxazolidone ring-containing epoxy resin is lowered.

또, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응을 실시할 때, 본 발명의 작용 효과에 영향이 없는 범위에서, 추가로 각종 에폭시 수지 변성제를 사용함으로써 분자량 (에폭시 당량) 등을 조정할 수도 있다. 사용할 수 있는 양은, 에폭시 수지 (a) 100 질량부에 대하여, 30 질량부 이하가 바람직하고, 20 질량부 이하가 보다 바람직하고, 10 질량부 이하가 더욱 바람직하다.When the reaction between the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) is carried out, the molecular weight (epoxy equivalence) and the like can be adjusted by using various epoxy resin modifiers in addition to the effect of the present invention have. The amount that can be used is preferably 30 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, and further preferably 10 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the epoxy resin (a).

사용할 수 있는 에폭시 수지 변성제로는, 구체적으로는, 비스페놀 A, 디메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 A, 테트라부틸비스페놀 A, 비스페놀 F, 디메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 F, 비스페놀 S, 디메틸비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 S, 비스페놀 B, 비스페놀 C, 비스페놀 E, 비스페놀 P, 비스페놀 AF, 비스페놀 AP, 비스페놀플루오렌, 비스크레졸플루오렌, 비스페놀 Z, 테트라메틸비스페놀 Z, 비스페놀 TMC, 하이드로퀴논, 메틸하이드로퀴논, 디메틸하이드로퀴논, 디부틸하이드로퀴논, 레조르신, 메틸레조르신, 비페놀, 테트라메틸비페놀, 디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시디페닐에테르, 디하이드록시벤조페논, 디하이드록시디페닐술파이드, 디하이드록시스틸벤류, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 비스페놀 A 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔페놀 수지, 페놀아르알킬 수지, 나프톨 노볼락 수지, 스티렌화페놀 노볼락 수지, 테르펜페놀 수지, 중질유 변성 페놀 수지 등의 여러 가지 페놀류나, 여러 가지 페놀류와, 하이드록시벤즈알데히드, 크로톤알데히드, 글리옥살 등의 여러 가지 알데히드류의 축합 반응으로 얻어지는 다가 페놀 수지나, 아닐린, 페닐렌디아민, 톨루이딘, 자일리딘, 디에틸톨루엔디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐에탄, 디아미노디페닐프로판, 디아미노디페닐케톤, 디아미노디페닐술파이드, 디아미노디페닐술폰, 비스(아미노페닐)플루오렌, 디아미노디에틸디메틸디페닐메탄, 디아미노디페닐에테르, 디아미노벤즈아닐리드, 디아미노비페닐, 디메틸디아미노비페닐, 비페닐테트라아민, 비스아미노페닐안트라센, 비스아미노페녹시벤젠, 비스아미노페녹시페닐에테르, 비스아미노페녹시비페닐, 비스아미노페녹시페닐술폰, 비스아미노페녹시페닐프로판, 디아미노나프탈렌 등의 아민 화합물을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 에폭시 수지 변성제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Specific examples of epoxy resin modifiers that can be used include bisphenol A, dimethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol A, tetrabutyl bisphenol A, bisphenol F, dimethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol F, bisphenol S, dimethyl bisphenol S, tetra Bisphenol C, bisphenol E, bisphenol P, bisphenol AF, bisphenol AP, bisphenol fluorene, biscresol fluorene, bisphenol Z, tetramethyl bisphenol Z, bisphenol TMC, hydroquinone, methyl hydroquinone, dimethyl There may be mentioned hydroquinone, dibutyl hydroquinone, resorcin, methylresorcin, biphenol, tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene, dihydroxydiphenyl ether, dihydroxybenzophenone, dihydroxydiphenyl sulfide, di Phenol novolac resins, cresol novolak resins, bisphenol A novolak resins, dicyclopentadiene resins, Various phenols such as phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol novolak resin, styrenated phenol novolac resin, terpene phenol resin, and heavy oil-modified phenol resin, and various phenols and various phenols such as hydroxybenzaldehyde, crotonaldehyde, glyoxal The polyhydric phenol resin obtained by the condensation reaction of various aldehydes of the aldehyde group or the aldehyde group obtained by condensation reaction of various aldehydes of the aldehyde group such as aniline, phenylenediamine, toluidine, xylidine, diethyltoluenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylpropane, (Aminophenyl) fluorene, diaminodiethyldimethyldiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, diaminobenzanilide, diaminobiphenyl, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylsulfone, , Dimethyldiaminobiphenyl, biphenyltetramine, bisaminophenyl anthracene, bisaminophenoxybenzene, bisaminophenoxyphenyl ether , Bisaminophenoxybiphenyl, bisaminophenoxyphenylsulfone, bisaminophenoxyphenylpropane, diaminonaphthalene, and the like, but not limited thereto, and these epoxy resin modifiers may be used alone , Or two or more types may be used in combination.

또, 필요에 따라 비반응성 용제를 사용해도 된다. 구체적으로는, 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸, 디메틸부탄, 펜텐, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등의 각종 탄화수소, 에틸에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 에틸페닐에테르, 아밀페닐에테르, 에틸벤질에테르, 디옥산, 메틸푸란, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 메틸에틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 비반응성 용제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 혼합하여 사용해도 된다.If necessary, a non-reactive solvent may be used. Specific examples thereof include various hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, decane, dimethylbutane, pentene, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene and ethylbenzene, ethylether, isopropylether, But are not limited to, ethers such as methyl ethyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, amyl ether, methylphenyl ether, ethyl phenyl ether, amyl phenyl ether, ethyl benzyl ether, dioxane, methylfuran and tetrahydrofuran, methyl cellosolve, But are not limited to, acetone, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dimethyl formamide, and dimethyl sulfoxide. They may be used alone or in combination of two or more.

옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 적외 분광 광도계의 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때의 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 범위의 흡광도 스펙트럼을 도 4 (실시예 1) 및 도 5 (비교예 2) 에 나타낸다.4 (Example 1) and Fig. 5 (Comparative Example 2) show the absorbance spectrum in the range of 1650 to 1800 cm < -1 > when the epoxy resin containing an oxazolidone ring was analyzed by the total reflection measurement method (ATR method) of an infrared spectrophotometer. Respectively.

도 4 의 흡광도 스펙트럼 중, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 A 가 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 나타난다. 우레탄 결합의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 B 가 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 나타난다.In the absorbance spectrum of FIG. 4, a peak A originating from the stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring appears at 1745 to 1760 cm -1 . The peak B derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the urethane bond appears at 1730 to 1740 cm -1 .

도 5 의 흡광도 스펙트럼 중, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 A 가 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 나타난다. 우레탄 결합의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 B 는 옥사졸리돈 고리의 피크와 중첩되어, 명확한 피크 톱을 나타내지 않으므로, 1730 ∼ 1740 ㎝-1 의 범위 내에서 흡광도의 최대값을 우레탄 결합의 흡수로 한다.In the absorbance spectrum of FIG. 5, a peak A originating from the stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring appears at 1745 to 1760 cm -1 . Peak B derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the urethane bond overlaps with the peak of the oxazolidone ring and does not show a definite peak top so that the maximum value of the absorbance within the range of 1730 to 1740 cm -1 is absorbed by the urethane bond do.

옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ox 로 나타낸다. 우레탄 결합의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ur 로 한다. 이 때, 옥사졸리돈 고리와 우레탄 결합의 존재 비율을 흡광도비 Ox/Ur 로 나타냈다.The maximum value of the peak included at 1745 to 1760 cm -1 derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring is represented by the absorbance Ox. The maximum value of the peak included at 1730 to 1740 cm -1 derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the urethane bond is taken as the absorbance Ur. At this time, the ratio of the oxazolidone ring to the urethane bond was expressed by the absorbance ratio Ox / Ur.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응에 의해 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 제조하는 경우, 에폭시 수지 (a) 중에 함유되는 알코올성 수산기와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기가 반응하면, 반응식 (5) 의 옥사졸리돈 고리를 형성하는 반응이 아니라, 반응식 (6) 에 의해 우레탄 결합을 형성하는 반응이 일어난다. 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 중에 함유되는 우레탄 결합의 농도가 높아지면, 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 에폭시 수지 경화물의 내열성을 저하시킬 우려가 있다. 그 때문에 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 중에 함유되는 옥사졸리돈 고리와 우레탄 결합의 비율을 흡광도비 Ox/Ur 로 규정한다. 흡광도비 Ox/Ur 은 1.35 이상이 바람직하고, 2.0 이상이 보다 바람직하다. 흡광도비 Ox/Ur 은 1.35 미만인 경우, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 경화물의 내열성을 저하시킬 우려가 있다.When an epoxy resin containing an oxazolidone ring is produced by the reaction of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), when the alcoholic hydroxyl group contained in the epoxy resin (a) reacts with the isocyanate group of the isocyanate compound (b) The reaction to form a urethane bond by the reaction formula (6) occurs instead of the reaction to form the oxazolidone ring of the compound (5). When the concentration of the urethane bond contained in the epoxy resin containing an oxazolidone ring is increased, there is a fear that the heat resistance of the epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition is lowered. Therefore, the ratio of the oxazolidone ring contained in the oxazolidone ring-containing epoxy resin to the urethane bond is defined as the absorbance ratio Ox / Ur. The absorbance ratio Ox / Ur is preferably 1.35 or more, more preferably 2.0 or more. If the absorbance ratio Ox / Ur is less than 1.35, the heat resistance of the cured epoxy resin containing oxazolidone ring may be lowered.

또, 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 연화점은, 프리프레그나 필름 재료에 사용하는 경우에는 50 ℃ ∼ 150 ℃ 가 바람직하고, 65 ℃ ∼ 135 ℃ 가 보다 바람직하고, 70 ℃ ∼ 110 ℃ 가 더욱 바람직하다. 연화점이 낮으면 수지 바니시를 유리 크로스 함침한 후, 오븐 중에서 가열 건조시킬 때에 점도가 낮기 때문에 수지의 부착량이 적어질 우려가 있다. 연화점이 높으면 수지 점도가 높아져, 프리프레그에 대한 함침성의 악화나, 용제 용해성의 악화나, 가열 건조시킬 때에 희석 용매가 휘발되지 않고 수지 중에 잔존하는 점에서 적층판을 제조할 때에 보이드가 발생하는 등, 사용상에 큰 문제가 될 우려가 있다.The softening point of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is preferably 50 ° C to 150 ° C, more preferably 65 ° C to 135 ° C, more preferably 70 ° C to 110 ° C, More preferable. When the softening point is low, since the resin varnish is impregnated with glass cloth and then heated and dried in an oven, the viscosity is low, so that the adhesion amount of the resin may be reduced. When the softening point is high, the resin viscosity is increased, voids are generated when the laminated plate is produced from the point that the impregnation property to the prepreg deteriorates, the solvent solubility deteriorates, the diluting solvent remains in the resin when heated and dried, There is a fear that it becomes a big problem in use.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 200 g/eq. 이상 550 g/eq. 이하의 범위이고, 215 g/eq. 이상 500 g/eq. 이하의 범위가 바람직하고, 230 g/eq. 이상 450 g/eq. 이하의 범위가 보다 바람직하고, 250 g/eq. 이상 350 g/eq. 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 에폭시 당량이 낮으면, 옥사졸리돈 고리의 함유량이 적어지고, 또 경화물 중의 수산기 농도가 높아지기 때문에, 유전율이 높아질 우려가 있다. 또, 에폭시 당량이 높으면, 옥사졸리돈 고리의 함유량이 필요 이상으로 많아져, 유전 특성의 향상 효과보다 용제 용해성의 악화나 수지 점도의 증대와 같은 악영향이 많아질 우려가 있다. 또, 경화물의 가교 밀도가 낮아지는 점에서 땜납 리플로우 온도에 있어서 탄성률이 저하되는 등, 사용상에 큰 문제가 될 우려가 있다.The epoxy equivalent of the oxazolidin ring-containing epoxy resin of the present invention is 200 g / eq. More than 550 g / eq. Or less, and 215 g / eq. More than 500 g / eq. Is preferably in the range of 230 g / eq. More than 450 g / eq. More preferably less than 250 g / eq. More than 350 g / eq. And the following range is more preferable. When the epoxy equivalent is low, the content of the oxazolidone ring is reduced and the hydroxyl group concentration in the cured product becomes high, which may increase the dielectric constant. On the other hand, if the epoxy equivalent is high, the content of the oxazolidone ring is increased more than necessary, and there is a possibility that adverse effects such as deterioration of solvent solubility and increase of resin viscosity are more likely than improvement of dielectric property. Further, since the cross-linking density of the cured product is lowered, the elastic modulus at the solder reflow temperature is lowered, which may cause a problem in use.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 경화제를 배합함으로써, 경화성의 에폭시 수지 조성물로 할 수 있다. 경화제로는, 각종 페놀 수지류, 산 무수물류, 아민류, 하이드라지드류, 산성 폴리에스테르류 등의 통상적으로 사용되는 에폭시 수지용 경화제를 사용할 수 있다. 이들 경화제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다. 이들 중, 디시안디아미드 또는 페놀계 경화제가 특히 바람직하다.The oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention can be made into a curable epoxy resin composition by blending a curing agent. As the curing agent, conventionally used epoxy resin curing agents such as various phenol resins, acid anhydrides, amines, hydrazides, acidic polyesters and the like can be used. These curing agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, dicyandiamide or a phenolic curing agent is particularly preferable.

에폭시 수지 조성물에 있어서, 경화제의 사용량은, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 함유하는 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제의 활성 수소기를 0.2 몰 이상 1.5 몰 이하의 범위로 한다. 에폭시기 1 몰에 대하여 활성 수소기가 0.2 몰 미만 또는 1.5 몰을 초과하는 경우에는, 경화가 불완전해져 양호한 경화 물성이 얻어지지 않을 우려가 있다. 바람직한 범위는 0.3 몰 이상 1.5 몰 이하이고, 보다 바람직한 범위는 0.5 몰 이상 1.5 몰 이하이고, 더욱 바람직한 범위는 0.8 몰 이상 1.2 몰 이하이다. 예를 들어, 페놀계 경화제나 아민계 경화제를 사용한 경우에는 에폭시기에 대하여 활성 수소기를 거의 등몰 배합하고, 산 무수물계 경화제를 사용한 경우에는 에폭시기 1 몰에 대하여 산 무수물기를 0.5 ∼ 1.2 몰, 바람직하게는 0.6 ∼ 1.0 몰 배합한다.In the epoxy resin composition, the amount of the curing agent to be used is in the range of 0.2 to 1.5 moles of the active hydrogen group of the curing agent relative to 1 mole of the epoxy group of the whole epoxy resin containing the oxazolidone ring-containing epoxy resin. When the active hydrogen group is less than 0.2 mol or more than 1.5 mol per 1 mol of the epoxy group, the curing is incomplete and there is a possibility that good curing properties are not obtained. The preferable range is 0.3 mol or more and 1.5 mol or less, more preferably 0.5 mol or more and 1.5 mol or less, and still more preferably 0.8 mol or more and 1.2 mol or less. For example, when a phenol-based curing agent or an amine-based curing agent is used, the active hydrogen group is almost equimolarly added to the epoxy group, and when an acid anhydride-based curing agent is used, the acid anhydride group is used in an amount of 0.5 to 1.2 moles, 0.6 to 1.0 moles.

본 발명에서 말하는 활성 수소기란, 에폭시기와 반응성의 활성 수소를 갖는 관능기 (가수분해 등에 의해 활성 수소를 발생시키는 잠재성 활성 수소를 갖는 관능기나, 동등한 경화 작용을 나타내는 관능기를 포함한다) 이고, 구체적으로는, 산 무수물기나 카르복실기나 아미노기나 페놀성 수산기 등을 들 수 있다. 또한, 활성 수소기에 관해, 카르복실기 (-COOH) 나 페놀성 수산기 (-OH) 는 1 몰과, 아미노기 (-NH2) 는 2 몰로 계산된다. 또, 활성 수소기가 명확하지 않은 경우에는, 측정에 의해 활성 수소 당량을 구할 수 있다. 예를 들어, 에폭시 당량이 이미 알려진 페닐글리시딜에테르 등의 모노에폭시 수지와 활성 수소 당량이 아직 알려지지 않은 경화제를 반응시켜, 소비한 모노에폭시 수지의 양을 측정함으로써, 사용한 경화제의 활성 수소 당량을 구할 수 있다.The active hydrogen group in the present invention is a functional group having an active hydrogen reactive with an epoxy group (including a functional group having a latent active hydrogen which generates active hydrogen by hydrolysis or the like, or a functional group exhibiting an equivalent curing action) Include an acid anhydride group, a carboxyl group, an amino group, and a phenolic hydroxyl group. With respect to the active hydrogen group, 1 mole of the carboxyl group (-COOH) and the phenolic hydroxyl group (-OH) and 2 moles of the amino group (-NH 2 ) are calculated. When the active hydrogen group is not clear, the active hydrogen equivalent can be obtained by measurement. For example, by reacting a monoepoxy resin, such as phenyl glycidyl ether, whose epoxy equivalent is already known, with a curing agent whose active hydrogen equivalent is not yet known, and measuring the amount of monoepoxy resin consumed, the active hydrogen equivalent of the curing agent Can be obtained.

페놀 수지계 경화제로는, 구체예에는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 C, 비스페놀 K, 비스페놀 Z, 비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 Z, 디하이드록시디페닐술파이드, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀) 등의 비스페놀류, 또, 카테콜, 레조르신, 메틸레조르신, 하이드로퀴논, 모노메틸하이드로퀴논, 디메틸하이드로퀴논, 트리메틸하이드로퀴논, 모노-tert-부틸하이드로퀴논, 디-tert-부틸하이드로퀴논 등 디하이드록시벤젠류, 디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시메틸나프탈렌, 디하이드록시메틸나프탈렌, 트리하이드록시나프탈렌 등의 하이드록시나프탈렌류, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 레지톱 (등록상표) TPM-100 (제품명, 군에이 화학 공업 주식회사 제조) 등의 트리스하이드록시페닐메탄형 노볼락 수지, 나프톨 노볼락 수지 등의 페놀류 및/또는 나프톨류와 알데히드류의 축합물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 자일릴렌글리콜의 축합물, 예를 들어, SN-160, SN-395, SN-485 (이상, 제품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 페놀류 및/또는 나프톨류와 이소프로페닐아세토페논의 축합물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 디시클로펜타디엔의 반응물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 비페닐계 축합제의 축합물 등의 페놀 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the phenol resin-based curing agent include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol C, bisphenol K, bisphenol Z, bisphenol S, tetramethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, tetramethyl bisphenol Z, Bisphenols such as 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), and also bisphenols such as catechol, resorcin, methylresorcin, hydroquinone, monomethylhydroquinone, Dihydroxynaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzene, dihydroxybenzene, dihydroxybenzene, (Trade name) manufactured by Nippon Kayaku Kogyo Kogyo Co., Ltd.) such as phenol novolak resin, cresol novolak resin, and Regist (registered trademark) TPM-100 Condensates of naphthols and aldehydes, condensation products of phenols and / or naphthols and xylylene glycol, such as SN-160, SN (methylenebisphenol), naphthol -395, SN-485 (product name, manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), condensates of phenols and / or naphthols with isopropenyl acetophenone, reaction products of phenols and / or naphthols with dicyclopentadiene, Phenol compounds such as condensates of phenols and / or naphthols with biphenyl condensation agents, and the like.

이 경우, 페놀류로는, 페놀, 크레졸, 자일레놀, 부틸페놀, 아밀페놀, 노닐페놀, 부틸메틸페놀, 트리메틸페놀, 페닐페놀 등을 들 수 있고, 나프톨류로는, 1-나프톨, 2-나프톨 등을 들 수 있다. 알데히드류로는, 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 부틸알데히드, 발레르알데히드, 카프론알데히드, 벤즈알데히드, 클로르알데히드, 브롬알데히드, 글리옥살, 말론알데히드, 숙신알데히드, 글루타르알데히드, 아디프알데히드, 피멜알데히드, 세바크알데히드, 아크롤레인, 크로톤알데히드, 살리실알데히드, 프탈알데히드, 하이드록시벤즈알데히드 등이 예시된다. 비페닐계 축합제로서, 비스(메틸올)비페닐, 비스(메톡시메틸)비페닐, 비스(에톡시메틸)비페닐, 비스(클로로메틸)비페닐 등을 들 수 있다.Examples of the phenols include phenol, cresol, xylenol, butylphenol, amylphenol, nonylphenol, butylmethylphenol, trimethylphenol and phenylphenol. Naphthols include 1-naphthol, 2- Naphthol, and the like. Examples of the aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde, butylaldehyde, valeraldehyde, capronaldehyde, benzaldehyde, chloraldehyde, bromaldehyde, glyoxal, malonaldehyde, succinaldehyde, glutaraldehyde, Aldehyde, sebacaldehyde, acrolein, crotonaldehyde, salicylaldehyde, phthalaldehyde, hydroxybenzaldehyde and the like. Examples of the biphenyl-based condensing agent include bis (methylol) biphenyl, bis (methoxymethyl) biphenyl, bis (ethoxymethyl) biphenyl and bis (chloromethyl) biphenyl.

산 무수물계 경화제로는, 구체적으로는, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산, 무수피로멜리트산, 무수프탈산, 무수트리멜리트산, 메틸나드산 등을 들 수 있다.Specific examples of the acid anhydride-based curing agent include methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, anhydrous pyromellitic acid, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, and methylnadic acid.

아민계 경화제로는, 구체적으로는, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 메타자일렌디아민, 이소포론디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디아미노디페닐에테르, 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 디시안디아미드, 다이머산 등의 산류와 폴리아민류의 축합물인 폴리아미드아민 등의 아민계 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the amine-based curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, meta-xylylenediamine, isophoronediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenyl ether, benzyldimethylamine , 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, dicyandiamide, dimer acid and the like, and amine compounds such as polyamide amine which is a condensate of polyamines.

그 밖의 경화제로서 구체적으로는, 트리페닐포스핀 등의 포스핀 화합물, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등의 포스포늄염, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-에틸-4메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 이미다졸류와 트리멜리트산, 이소시아누르산, 붕소 등의 염인 이미다졸염류, 트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염류, 디아자비시클로 화합물, 디아자비시클로 화합물과 페놀류나 페놀 노볼락 수지류 등의 염류, 3 불화붕소와 아민류나 에테르 화합물 등의 착화합물, 방향족 포스포늄, 또는 요오드늄염 등을 들 수 있다.Specific examples of other curing agents include phosphine compounds such as triphenylphosphine, phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium bromide, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl- Imidazoles such as imidazoles, imidazole salts such as trimellitic acid, isocyanuric acid, boron and the like, imidazoles such as imidazole, Diazabicyclo compounds and salts such as phenols and phenol novolak resins, complexes such as boron trifluoride and amines and ether compounds, aromatic phosphonium salts, or iodonium salts such as iodonium salts And the like.

또, 필요에 따라, 에폭시 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 이외의 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 에폭시 수지의 구체적인 예로는, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 테트라메틸비스페놀 F 형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비스티오에테르형 에폭시 수지, 레조르시놀형 에폭시 수지, 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지, 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 스티렌화페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 알킬 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, β-나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지, α-나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 알킬렌글리콜형 에폭시 수지, 지방족 고리형 에폭시 수지, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜아민, 아미노페놀형 에폭시 수지, 인 함유 에폭시 수지, 우레탄 변성 에폭시 수지, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.If necessary, an epoxy resin other than the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention may be used within a range that does not impair the physical properties of the epoxy resin composition. Specific examples of epoxy resins that can be used include epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetramethyl bisphenol F type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol fluorene type epoxy resin, A phenol novolak type epoxy resin, a styrenated phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, Novolak type epoxy resins, novolak type epoxy resins, alkyl novolak type epoxy resins, bisphenol novolak type epoxy resins, naphthol novolak type epoxy resins,? -Naphthol aralkyl type epoxy resins, dinaphthol aralkyl type epoxy resins, Epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resin, An epoxy group-containing epoxy resin, an epoxy group-containing epoxy resin, a pentadiene type epoxy resin, an alkylene glycol type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, diaminodiphenylmethane tetraglycidylamine, Containing epoxy resin, but are not limited thereto. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제의 예로는, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자-비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 제 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리페닐포스핀트리페닐보란 등의 포스핀류, 옥틸산주석 등의 금속 화합물을 들 수 있다. 경화 촉진제는 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 에폭시 수지 성분 100 질량부에 대하여 0.02 질량부 ∼ 5 질량부가 필요에 따라 사용된다. 경화 촉진제를 사용함으로써, 경화 온도를 낮추고, 경화 시간을 단축할 수 있다.If necessary, a curing accelerator may be used in the epoxy resin composition. Examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) Tertiary amines such as 8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine and triphenylphosphine triphenylborane, Tin and the like. The curing accelerator is used in an amount of 0.02 parts by mass to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin component in the epoxy resin composition of the present invention. By using the curing accelerator, the curing temperature can be lowered and the curing time can be shortened.

에폭시 수지 조성물에는, 점도 조정용으로서 유기 용제도 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 유기 용제로는, 특별히 규정하는 것은 아니지만, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있고, 이들 용제 중, 단독 또는 복수 종류를 혼합한 것을 에폭시 수지 농도로서 20 질량% ∼ 90 질량% 의 범위에서 배합할 수 있다.Organic solvents may also be used in the epoxy resin composition for viscosity adjustment. Examples of the organic solvent that can be used include amides such as N, N-dimethylformamide, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol and ethanol And aromatic hydrocarbons such as alcohols, benzene and toluene. These solvents may be used alone or in combination of two or more thereof in an amount of 20% by mass to 90% by mass as an epoxy resin concentration.

또, 필요에 따라, 에폭시 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 희석제를 사용할 수 있다. 희석제는 반응성 희석제가 바람직하지만, 비반응성 희석제여도 상관없다. 반응성 희석제로는, 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르 등의 단관능, 레조르시놀글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 등의 2 관능, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르 등의 다관능 글리시딜에테르류를 들 수 있다. 비반응성 희석제로는, 벤질알코올, 부틸디글리콜, 파인 오일 등을 들 수 있다.If necessary, a diluent may be used within a range that does not impair the physical properties of the epoxy resin composition. The diluent is preferably a reactive diluent, but may be a non-reactive diluent. Examples of the reactive diluent include monofunctional, resorcinol glycidyl ether such as allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether and phenyl glycidyl ether, neopentyl glycol glycidyl ether, 1,6- And hexanediol diglycidyl ether; and polyfunctional glycidyl ethers such as glycerol polyglycidyl ether, trimethylol propane polyglycidyl ether, and pentaerythritol polyglycidyl ether. Examples of the non-reactive diluent include benzyl alcohol, butyl diglycol, and pine oil.

에폭시 수지 조성물은, 특성을 저해하지 않는 범위에서 다른 열경화성 수지, 열가소성 수지를 배합해도 된다. 예를 들어, 페놀 수지, 아크릴 수지, 석유 수지, 인덴 수지, 쿠마론인덴 수지, 페녹시 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리페닐렌술파이드 수지, 폴리비닐포르말 수지 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.The epoxy resin composition may be blended with other thermosetting resin or thermoplastic resin to the extent that the properties are not impaired. Examples of the resin include phenol resin, acrylic resin, petroleum resin, indene resin, coumarone resin, phenoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin , A polyphenylene ether resin, a modified polyphenylene ether resin, a polyether sulfone resin, a polysulfone resin, a polyether ether ketone resin, a polyphenylene sulfide resin, a polyvinyl formal resin and the like. It is not.

에폭시 수지 조성물에는, 얻어지는 경화물의 난연성의 향상을 목적으로, 관용 공지된 각종 난연제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 난연제로는, 예를 들어, 할로겐계 난연제, 인계 난연제, 질소계 난연제, 실리콘계 난연제, 무기계 난연제, 유기 금속염계 난연제 등을 들 수 있다. 환경에 대한 관점에서, 할로겐을 함유하지 않는 난연제가 바람직하고, 특히 인계 난연제가 바람직하다. 이들 난연제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.For the purpose of improving the flame retardancy of the resulting cured product, various publicly known flame retardants may be used in the epoxy resin composition. Examples of the flame retardant that can be used include halogen-based flame retardants, phosphorus-based flame retardants, nitrogen-based flame retardants, silicone-based flame retardants, inorganic flame retardants, and organometallic salt-based flame retardants. From the viewpoint of the environment, a halogen-free flame retardant is preferable, and a phosphorus flame retardant is particularly preferable. These flame retardants may be used alone or in combination of two or more.

인계 난연제는, 무기 인계 화합물, 유기 인계 화합물 모두 사용할 수 있다. 무기 인계 화합물로는, 예를 들어, 적린, 인산일암모늄, 인산이암모늄, 인산삼암모늄, 폴리인산암모늄 등의 인산암모늄류, 인산아미드 등의 무기계 함질소 인 화합물을 들 수 있다. 유기 인계 화합물로는, 예를 들어, 지방족 인산에스테르, 인산에스테르 화합물, 축합 인산에스테르류, 포스폰산 화합물, 포스핀산 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 포스포란 화합물, 유기계 함질소 인 화합물 등의 범용 유기 인계 화합물이나, 포스핀산의 금속염 외에, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(2,5-디하이드로옥시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(2,7-디하이드로옥시나프틸)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 등의 고리형 유기 인 화합물이나, 그것들을 에폭시 수지나 페놀 수지 등의 화합물과 반응시킨 유도체인 인 함유 에폭시 수지나 인 함유 경화제 등을 들 수 있다.As the phosphorus flame retardant, both an inorganic phosphorus compound and an organic phosphorus compound can be used. Examples of the inorganic phosphorus compound include inorganic phosphorus compounds such as ammonium phosphate, ammonium phosphate, ammonium phosphate, ammonium phosphate, ammonium triphosphate and ammonium polyphosphate, and inorganic nitrogenous compounds such as phosphoric acid amide. Examples of the organic phosphorus compound include organic phosphorus compounds such as aliphatic phosphate esters, phosphoric acid ester compounds, condensed phosphoric acid esters, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, 10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) Cyclic organophosphorus compounds such as 10-phosphaphenanthrene-10-oxide and 10- (2,7-dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene- Phosphorus-containing epoxy resins and phosphorus-containing curing agents, which are derivatives obtained by reacting them with a compound such as an epoxy resin or a phenol resin.

난연제의 배합량으로는, 인계 난연제의 종류, 에폭시 수지 조성물의 성분, 원하는 난연성의 정도에 따라 적절히 선택된다. 예를 들어, 에폭시 수지 조성물 중의 유기 성분 (유기 용제를 제외한다) 중의 인 함유량은, 바람직하게는 0.2 질량% 이상 4 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.4 질량% 이상 3.5 질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.6 질량% 이상 3 질량% 이하이다. 인 함유량이 적으면 난연성의 확보가 어려워질 우려가 있고, 지나치게 많으면 내열성에 악영향을 미칠 우려가 있다. 또 인계 난연제를 사용하는 경우에는, 수산화마그네슘 등의 난연 보조제를 병용해도 된다.The blending amount of the flame retardant is appropriately selected according to the kind of the phosphorus-based flame retardant, the component of the epoxy resin composition, and the degree of desired flame retardancy. For example, the content of phosphorus in the organic component (excluding the organic solvent) in the epoxy resin composition is preferably 0.2 mass% or more and 4 mass% or less, more preferably 0.4 mass% or more and 3.5 mass% or less, And preferably not less than 0.6 mass% and not more than 3 mass%. When the phosphorus content is low, there is a fear that the flame retardancy can not be ensured, and if it is too much, the heat resistance may be adversely affected. When a phosphorus flame retardant is used, a flame retardant auxiliary such as magnesium hydroxide may be used in combination.

에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 충전재를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 용융 실리카, 결정 실리카, 알루미나, 질화규소, 수산화알루미늄, 베마이트, 수산화마그네슘, 탤크, 마이카, 탄산칼슘, 규산칼슘, 수산화칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산바륨, 질화붕소, 탄소, 탄소 섬유, 유리 섬유, 알루미나 섬유, 실리카 알루미나 섬유, 탄화규소 섬유, 폴리에스테르 섬유, 셀룰로오스 섬유, 아라미드 섬유, 세라믹 섬유, 미립자 고무, 열가소성 엘라스토머, 안료 등을 들 수 있다. 일반적으로 충전재를 사용하는 이유로는 내충격성의 향상 효과를 들 수 있다. 또, 수산화알루미늄, 베마이트, 수산화마그네슘 등의 금속 수산화물을 사용한 경우에는, 난연 보조제로서 작용하여 난연성이 향상되는 효과가 있다. 이들 충전재의 배합량은 에폭시 수지 조성물 전체에 대하여, 1 질량% ∼ 150 질량% 가 바람직하고, 10 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하다. 배합량이 많으면, 적층판 용도로서 필요한 접착성이 저하될 우려가 있고, 또한 경화물이 물러, 충분한 기계 물성을 얻지 못하게 될 우려가 있다. 또 배합량이 적으면, 경화물의 내충격성의 향상 등, 충전제의 배합 효과가 나타나지 않을 우려가 있다.A filler may be optionally added to the epoxy resin composition. Specific examples of the filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, boehmite, magnesium hydroxide, talc, mica, calcium carbonate, calcium silicate, calcium hydroxide, magnesium carbonate, barium carbonate, barium sulfate, A fiber, a glass fiber, an alumina fiber, a silica alumina fiber, a silicon carbide fiber, a polyester fiber, a cellulose fiber, an aramid fiber, a ceramic fiber, a particulate rubber, a thermoplastic elastomer and a pigment. Generally, the reason for using the filler is to improve the impact resistance. In addition, when a metal hydroxide such as aluminum hydroxide, boehmite, or magnesium hydroxide is used, it acts as a flame retardant adjuvant and has an effect of improving the flame retardancy. The blending amount of these fillers is preferably 1% by mass to 150% by mass, and more preferably 10% by mass to 70% by mass, based on the whole epoxy resin composition. If the blending amount is large, there is a fear that the adhesiveness required for laminated board applications is lowered, and further, the cured product is discarded and sufficient mechanical properties may not be obtained. If the compounding amount is too small, there is a possibility that the effect of compounding the filler may not be exhibited, such as the improvement of the impact resistance of the cured product.

에폭시 수지 조성물을 판상 기판 등으로 하는 경우, 그 치수 안정성, 굽힘 강도 등의 점에서 섬유상의 것이 바람직한 충전재로서 들 수 있다. 보다 바람직하게는 유리 섬유를 망목상으로 짠 유리 섬유 기판을 들 수 있다.When the epoxy resin composition is a plate-like substrate or the like, fibrous fillers can be mentioned as the filler in terms of dimensional stability and bending strength. More preferably, a glass fiber substrate in which glass fibers are woven in the form of a mesh is exemplified.

에폭시 수지 조성물은, 추가로 필요에 따라 실란 커플링제, 산화 방지제, 이형제, 소포제, 유화제, 요변성 부여제, 평활제, 난연제, 안료 등의 핵종 첨가제를 배합할 수 있다. 이들 첨가제는 에폭시 수지 조성물에 대하여, 0.01 질량% ∼ 20 질량% 의 범위가 바람직하다.The epoxy resin composition may further contain a nuclide additive such as a silane coupling agent, an antioxidant, a releasing agent, a defoaming agent, an emulsifier, a thixotropic agent, a smoothing agent, a flame retardant, and a pigment. These additives are preferably in the range of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the epoxy resin composition.

에폭시 수지 조성물은 섬유상 기재에 함침시킴으로써 프린트 배선판 등에서 사용되는 프리프레그를 제조할 수 있다. 섬유상 기재로는 유리 등의 무기 섬유나, 폴리에스테르 수지 등, 폴리아민 수지, 폴리아크릴 수지, 폴리이미드 수지, 방향족 폴리아미드 수지 등의 유기질 섬유의 직포 또는 부직포를 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 에폭시 수지 조성물로부터 프리프레그를 제조하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 에폭시 수지 조성물을 용제로 점도 조정하여 제조한 수지 바니시에 침지시켜 함침한 후, 가열 건조시켜 수지 성분을 반경화 (B 스테이지화) 하여 얻어지는 것이고, 예를 들어, 100 ℃ ∼ 200 ℃ 에서 1 분간 ∼ 40 분간 가열 건조시킬 수 있다. 여기서, 프리프레그 중의 수지량은, 수지분 30 질량% ∼ 80 질량% 로 하는 것이 바람직하다.The epoxy resin composition can impregnate the fibrous substrate to produce a prepreg for use in a printed wiring board or the like. As the fibrous substrate, inorganic fibers such as glass, woven or nonwoven fabric of organic fibers such as polyester resin, polyamine resin, polyacrylic resin, polyimide resin, and aromatic polyamide resin can be used, but the present invention is not limited thereto . The method for preparing the prepreg from the epoxy resin composition is not particularly limited and includes, for example, impregnating and impregnating a resin varnish prepared by adjusting the viscosity of an epoxy resin composition with a solvent, (B stage), and can be heated and dried, for example, at 100 ° C to 200 ° C for 1 minute to 40 minutes. Here, the resin amount in the prepreg is preferably 30% by mass to 80% by mass of the resin component.

또, 프리프레그를 경화시키기 위해서는, 일반적으로 프린트 배선판을 제조할 때에 사용되는 적층판의 경화 방법을 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 프리프레그를 사용하여 적층판을 형성하는 경우, 프리프레그를 1 장 또는 복수장 적층하고, 편측 또는 양측에 금속박을 배치하여 적층물을 구성하고, 이 적층물을 가열·가압하여 적층 일체화한다. 여기서 금속박으로는, 구리, 알루미늄, 놋쇠, 니켈 등의 단독, 합금, 복합된 금속박을 사용할 수 있다. 그리고, 제조한 적층물을 가압 가열함으로써 프리프레그를 경화시켜 적층판을 얻을 수 있다. 그 때, 가열 온도를 160 ℃ ∼ 220 ℃, 가압 압력을 50 N/㎠ ∼ 500 N/㎠, 가열 가압 시간을 40 분간 ∼ 240 분간으로 하는 것이 바람직하고, 목적으로 하는 경화물을 얻을 수 있다. 가열 온도가 낮으면 경화 반응이 충분히 진행되지 않고, 높으면 에폭시 수지 조성물의 분해가 시작될 우려가 있다. 또, 가압 압력이 낮으면 얻어지는 적층판의 내부에 기포가 잔류하여, 전기적 특성이 저하되는 경우가 있고, 높으면 경화되기 전에 수지가 흘러 버려, 원하는 두께의 경화물이 얻어지지 않을 우려가 있다. 또한, 가열 가압 시간이 짧으면 충분히 경화 반응이 진행되지 않을 우려가 있고, 길면 프리프레그 중의 에폭시 수지 조성물의 열분해가 일어날 우려가 있어 바람직하지 않다.In order to harden the prepreg, a curing method of a laminated board generally used for producing a printed wiring board can be used, but the present invention is not limited thereto. For example, when a laminate is formed using a prepreg, a laminate is formed by laminating one prepreg or a plurality of prepregs and arranging a metal foil on one side or both sides of the prepreg, and heating and pressing the laminate to form a laminate do. As the metal foil, copper, aluminum, brass, nickel, etc. alone, an alloy, and a composite metal foil can be used. Then, the produced laminate is heated under pressure to cure the prepreg to obtain a laminate. At this time, it is preferable to set the heating temperature at 160 ° C to 220 ° C, the pressing pressure at 50 N / cm 2 to 500 N / cm 2, and the heating and pressurizing time at 40 minutes to 240 minutes to obtain the objective cured product. If the heating temperature is low, the curing reaction does not sufficiently proceed, and if the heating temperature is too high, decomposition of the epoxy resin composition may start. If the pressing pressure is low, bubbles may remain in the laminate to be obtained and electrical properties may be deteriorated. If the pressing pressure is high, the resin may flow before being cured, and a cured product having a desired thickness may not be obtained. If the heating and pressurizing time is short, there is a fear that the curing reaction will not proceed sufficiently, and if it is long, thermal decomposition of the epoxy resin composition in the prepreg may occur, which is not preferable.

에폭시 수지 조성물을 경화시킴으로써 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있다. 경화물을 얻기 위한 방법으로는, 공지된 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법을 취할 수 있으며, 본 발명의 에폭시 수지 조성물 고유의 방법은 필요하지 않고, 주형, 주입, 포팅, 딥핑, 드립 코팅, 트랜스퍼 성형, 압축 성형 등이나 수지 시트, 수지 부착 동박, 프리프레그 등의 형태로 하여 적층하고 가열 가압 경화시킴으로써 적층판으로 하는 등의 방법이 바람직하게 사용된다. 그 때의 경화 온도는 통상적으로 100 ℃ ∼ 300 ℃ 의 범위이고, 경화 시간은 통상적으로 1 시간 ∼ 5 시간 정도이다.An epoxy resin cured product can be obtained by curing the epoxy resin composition. As a method for obtaining the cured product, the same method as the known epoxy resin composition can be adopted. The method unique to the epoxy resin composition of the present invention is not required, and a mold, injection, potting, dipping, drip coating, Compression molding, etc., a resin sheet, a resin-coated copper foil, a prepreg, or the like, and heating and curing the mixture to form a laminated board. The curing temperature at that time is usually in the range of 100 占 폚 to 300 占 폚, and the curing time is usually about 1 hour to 5 hours.

본 발명의 에폭시 수지 경화물은, 적층물, 성형물, 접착물, 도막, 필름 등의 형태를 취할 수 있다.The epoxy resin cured product of the present invention can take the form of a laminate, a molded product, an adhesive, a coating film, and a film.

에폭시 수지 조성물을 제조하여, 가열 경화에 의해 적층판의 에폭시 수지 경화물을 평가한 결과, 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 종래 공지된 에폭시 수지와 비교하여 저유전 특성이고, 또한 저점도이고 작업성이 양호할 뿐만 아니라, 높은 내열성과 높은 접착성을 겸비하는 것이 가능하고, 또한 용제 용해성도 개량할 수 있었다.Epoxy resin composition was prepared and the epoxy resin cured product of the laminate was evaluated by heat curing. As a result, it was found that the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention had a low dielectric property and a low viscosity And not only the workability was good but also the high heat resistance and the high adhesion were able to be obtained and the solvent solubility was also improved.

실시예Example

실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 특별히 언급이 없는 한 「부」 는 질량부를 나타내고, 「%」 는 질량% 를 나타낸다. 측정 방법은 각각 이하의 방법에 의해 측정하였다.The present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise stated, " part " represents the mass part, and "% " The measurement methods were respectively measured by the following methods.

·에폭시 당량 : JIS K7236 규격에 준하였다.Epoxy equivalent: It is in conformity with JIS K7236 standard.

·점도 : JIS K7233 규격, 단일 원통 회전 점도계법에 준하였다.· Viscosity: It was conformed to JIS K7233 standard, single cylinder rotational viscometer method.

·연화점 : JIS K7234 규격, 환구법 (環球法) 에 준거하여 측정하였다. 구체적으로는, 자동 연화점 장치 (주식회사 메이텍 제조, ASP-MG4) 를 사용하였다.Softening point: Measured according to JIS K7234 standard, ring method (ring system). Specifically, an automatic softening point device (ASP-MG4, manufactured by Meitec Co., Ltd.) was used.

·용제 용해성 : 메틸에틸케톤으로 불휘발분 50 % 로 희석했을 때의 상태를 육안으로 판단하였다. 완전히 용해되어 투명한 것을 ○, 백탁 또는 분리된 것을 ×, 살짝 탁해진 것을 △ 를 하였다.Solvent Solubility: The state when diluted with methyl ethyl ketone to a non-volatile content of 50% was visually determined. The completely dissolved and transparent ones were marked with o, the whitened or separated ones were marked with x, and the lightly browned was marked with △.

·흡광도비 Ox/Ur : 푸리에 변환형 적외 분광 광도계 (PerkinEler Precisely 제조, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X) 의 전반사 측정법 (ATR 법) 에 의해 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 흡광도를 측정하여, 1745 ∼ 1760 ㎝-1 의 범위 내에서 흡광도의 최대값을 Ox 로 하고, 1730 ∼ 1740 ㎝-1 의 범위 내에서 흡광도의 최대값을 Ur 로 하고, 흡광도비 Ox/Ur 을 계산에 의해 구하였다.Absorbance ratio Ox / Ur: The absorbance at 1650 to 1800 cm -1 was measured by a total internal reflection measurement method (ATR method) of a Fourier transform infrared spectrophotometer (Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X manufactured by PerkinEler Precisely) Cm < -1 > and the maximum value of the absorbance in the range of 1730 to 1740 cm < -1 >

·동박 박리 강도 및 층간 접착력 : JIS C6481 에 준하여 측정하고, 층간 접착력은 7 층째와 8 층째 사이에서 박리하여 측정하였다.Copper Peel Strength and Interlaminar Adhesion: Measured according to JIS C6481, and the interlaminar adhesive strength was measured by peeling between the 7th layer and the 8th layer.

·유리 전이 온도 (DSC 법) : IPC-TM-650 2.4.25.c 에 준하여 시차 주사 열량 측정 장치 (주식회사 히타치 하이텍 사이언스 제조, EXSTAR6000 DSC6200) 로 20 ℃/분의 승온 조건에서 측정을 실시했을 때의 DSC·Tgm (유리 상태와 고무 상태의 접선에 대해 변이 곡선의 중간 온도) 으로 나타냈다.Glass transition temperature (DSC method): When measurement was carried out at 20 ° C / min temperature elevation with a differential scanning calorimeter (EXSTAR 6000 DSC6200, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) according to IPC-TM-650 2.4.25.c (The middle temperature of the transition curve with respect to the tangent line between the glassy state and the rubbery state).

·유리 전이 온도 (TMA 법) : IPC-TM-650 2.4.24.1 에 준하여 열기계 분석 장치 (주식회사 히타치 하이텍 사이언스 제조, EXSTAR6000 TMA/SS120U) 로 10 ℃/분의 승온 조건에서 측정을 실시했을 때의 TMA 외삽값의 온도로 나타냈다.Glass Transition Temperature (TMA Method): The glass transition temperature (TMA method) was measured using a thermomechanical analyzer (EXSTAR6000 TMA / SS120U, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) in accordance with IPC-TM-650 2.4.24.1 TMA extrapolated values.

·비유전율 및 유전 정접 : IPC-TM-650 2.5.5.9 에 준하여 머티리얼 애널라이저 (AGILENT Technologies 사 제조) 를 사용하여, 용량법에 의해 주파수 1 ㎓ 에 있어서의 유전율 및 유전 정접을 구함으로써 평가하였다.Specific dielectric constant and dielectric loss tangent: The dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 1 GHz were evaluated by a capacitance method using a material analyzer (AGILENT Technologies) according to IPC-TM-650 2.5.5.9.

·연소성 : UL94 (Underwriters Laboratories Inc. 의 안전 인증 규격) 에 준하여, 수직법에 의해 평가하였다.· Flammability: According to UL 94 (Safety Certification Standard of Underwriters Laboratories Inc.), it was evaluated by the vertical method.

·GPC : 본체 (토소 주식회사 제조, HLC-8220GPC) 에 칼럼 (토소 주식회사 제조, TSKgel (등록상표) G4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL) 을 직렬로 구비한 것을 사용하고, 칼럼 온도는 40 ℃ 로 하였다. 또, 용리액에는 테트라하이드로푸란을 사용하고, 1 ㎖/min 의 유속으로 하고, 검출기는 RI (시차 굴절계) 검출기를 사용하였다. 표준의 단분산 폴리스티렌으로부터 구한 검량선으로부터 환산하였다.GPC: Columns (TSKgel (registered trademark) G4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL, manufactured by Toso Co., Ltd.) in series were used in the main body (HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation) and the column temperature was 40 占 폚. Further, tetrahydrofuran was used as the eluent, the flow rate was 1 ml / min, and the detector was an RI (differential refractometer) detector. From the calibration curve obtained from standard monodisperse polystyrene.

·IR : 푸리에 변환형 적외 분광 광도계 (PerkinEler Precisely 제조, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X) 의 전반사 측정법 (ATR 법) 에 의해 파수 650 ∼ 4000 ㎝-1 의 흡광도를 측정하였다.IR: The absorbance at a wave number of 650 to 4000 cm -1 was measured by a total internal reflection measurement method (ATR method) of a Fourier transform infrared spectrophotometer (Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X manufactured by PerkinEler Precisely).

·NMR : 푸리에 변환 핵자기 공명 장치 (JEOL 제조, JNM-ECA400) 에 의해 CDCL3 을 용매로 하여 13C 의 액체 측정을 실시하였다.NMR: A liquid measurement of 13 C was carried out using CDCL 3 as a solvent by a Fourier transform nuclear magnetic resonance apparatus (manufactured by JEOL, JNM-ECA400).

합성예 1Synthesis Example 1

유리제 세퍼러블 플라스크에, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)디페놀 (혼슈 화학 공업 주식회사 제조, BisP-TMC) 을 100 부, 에피클로로하이드린을 358 부, 이온 교환수를 4 부 주입하고, 교반하면서 50 ℃ 까지 승온시켰다. 균일하게 용해 후, 49 % 수산화나트륨 수용액을 5.3 부 주입하고, 3 시간 반응을 실시하였다. 다음으로, 64 ℃ 까지 승온시킨 후, 물의 환류가 일어날 정도까지 감압화하고, 49 % 수산화나트륨 수용액 48 부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 이 적하 중에 환류 유출된 물과 에피클로로하이드린을 분리조에서 분리하여 에피클로로하이드린은 반응 용기로 되돌리고, 물은 계 외로 제거하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 온도를 70 ℃ 까지 높여 탈수를 실시하고, 온도를 135 ℃ 로 하여 잔존하는 에피클로로하이드린을 회수하였다. 상압으로 되돌리고, 메틸이소부틸케톤 (MIBK) 을 204 부 첨가하여 용해시켰다. 이온 교환수를 127 부 첨가하고, 교반 정치 (靜置) 하여 부생한 식염을 물에 용해시켜 제거하였다. 다음으로 49 % 수산화나트륨 수용액을 2.9 부 주입하고, 80 ℃ 에서 90 분간 교반 반응시켜 정제 반응을 실시하였다. MIBK 를 추가, 수세를 몇 차례 실시하여 이온성 불순물을 제거하였다. 용제를 회수하여, 상기 식 (4) 로 나타내는 에폭시 수지 (에폭시 수지 A) 를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 A 는, 에폭시 당량 219 g/eq., 알코올성 수산기 당량 5510 g/eq. 이고, m (평균값) 은 0.04 이다.100 parts of 4,4 '- (3,3,5-trimethylcyclohexylidene) diphenol (Bisp-TMC, manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.), 358 parts of epichlorohydrin, Four parts of exchanged water were injected, and the temperature was raised to 50 캜 with stirring. After uniformly dissolving, 5.3 parts of a 49% sodium hydroxide aqueous solution was injected and the reaction was carried out for 3 hours. Next, the temperature was raised to 64 DEG C, the pressure was reduced to such an extent that reflux of water occurred, and 48 parts of a 49% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 3 hours. Then, water and epichlorohydrin, Separately, epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and water was removed out of the system and reacted. After completion of the reaction, the temperature was raised to 70 캜 and dehydration was carried out, and the temperature was raised to 135 캜 to recover the remaining epichlorohydrin. The pressure was returned to normal pressure, and 204 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) was added and dissolved. 127 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was allowed to stand to dissolve the by-produced salt in water. Next, 2.9 parts of a 49% sodium hydroxide aqueous solution was injected, and the mixture was reacted at 80 DEG C for 90 minutes with stirring to carry out a purification reaction. MIBK was added and washed several times to remove ionic impurities. The solvent was recovered to obtain an epoxy resin (epoxy resin A) represented by the above formula (4). The resulting epoxy resin A had an epoxy equivalent of 219 g / eq., An alcoholic hydroxyl equivalent of 5510 g / eq. , And m (mean value) is 0.04.

합성예 2Synthesis Example 2

합성예 1 과 동일한 장치에, 페놀 282 부, 98 % 황산 14.8 부를 주입하고, 80 ℃ 까지 승온시켰다. 동 온도에서 1 시간 교반 후, 60 ℃ 에서 4-메틸시클로헥사논 33.6 부, n-도데실메르캅탄 6 부를 투입하고 65 ℃, 1.3 ㎪ 로 물을 제거하면서 4-메틸시클로헥사논 잔존량을 당초 투입량의 50 % 가 될 때까지 반응시켰다. 질소 가스로 상압까지 복압 후, 실온까지 냉각시키고, 그대로 3 일간 정치시켰다. 그 후, 고화된 반응 생성물에 톨루엔, 이온 교환수를 첨가하여 용해시키고, 수산화나트륨으로 중화 후, 이온 교환수로 세정하였다. 얻어진 유기층을 그대로 냉각시키고, 석출된 결정을 여과 분리하여 건조시켰다. 얻어진 결정을 메탄올물로 재결정 후, 여과 분리하여 건조시켰다. 이 조작을 2 회 반복하여, 4,4'-(4-메틸시클로헥실리덴)디페놀을 얻었다.282 parts of phenol and 14.8 parts of 98% sulfuric acid were charged into the same apparatus as in Synthesis Example 1, and the temperature was raised to 80 占 폚. After stirring at the same temperature for 1 hour, 33.6 parts of 4-methylcyclohexanone and 6 parts of n-dodecylmercaptan were added at 60 DEG C, and water was removed at 65 DEG C and 1.3 DEG C to remove remaining 4-methylcyclohexanone The reaction was allowed to be 50% of the input. After pressurizing to normal pressure with nitrogen gas, the mixture was cooled to room temperature and allowed to stand for 3 days. Thereafter, toluene and ion-exchanged water were added to the solidified reaction product to dissolve it, neutralized with sodium hydroxide, and washed with ion-exchanged water. The obtained organic layer was cooled as it was, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried. The obtained crystals were recrystallized from methanol water, separated by filtration and dried. This operation was repeated twice to obtain 4,4 '- (4-methylcyclohexylidene) diphenol.

이어서, BisP-TMC 100 부를 얻어진 4,4'-(4-메틸시클로헥실리덴)디페놀 91 부로 바꾼 것 이외에는, 합성예 1 과 동일한 장치를 사용하여 동일한 조작을 실시하여, 하기 식 (8) 로 나타내는 에폭시 수지 (에폭시 수지 B) 를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 B 는, 에폭시 당량 206 g/eq., 알코올성 수산기 당량 5480 g/eq. 이고, m 은 0.05 이다.Subsequently, the same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that 100 parts of BisP-TMC was changed to 91 parts of 4,4 '- (4-methylcyclohexylidene) diphenol thus obtained, (Epoxy resin B) was obtained. The obtained epoxy resin B had an epoxy equivalent of 206 g / eq., An alcoholic hydroxyl equivalent of 5480 g / eq. And m is 0.05.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pat00009
Figure pat00009

합성예 3Synthesis Example 3

BisP-TMC 100 부를 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀 (혼슈 화학 공업 주식회사 제조, Bis-Z) 86.5 부로 바꾼 것 이외에는, 합성예 1 과 동일한 장치를 사용하여 동일한 조작을 실시하여, 하기 식 (9) 로 나타내는 에폭시 수지 (에폭시 수지 F) 를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 F 는, 에폭시 당량 200 g/eq., 알코올성 수산기 당량 5500 g/eq. 이고, m 은 0.06 이다.The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that 100 parts of BisP-TMC was changed to 86.5 parts of 4,4'-cyclohexylidenebisphenol (Bis-Z, manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) 9) (epoxy resin F). The obtained epoxy resin F had an epoxy equivalent of 200 g / eq., An alcoholic hydroxyl equivalent of 5500 g / eq. And m is 0.06.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pat00010
Figure pat00010

실시예 및 비교예에서 사용한 약호의 설명은 이하와 같다.The abbreviations used in Examples and Comparative Examples are as follows.

(에폭시 수지)(Epoxy resin)

에폭시 수지 A : 합성예 1 에서 얻어진 에폭시 수지Epoxy resin A: The epoxy resin obtained in Synthesis Example 1

에폭시 수지 B : 합성예 2 에서 얻어진 에폭시 수지Epoxy resin B: Epoxy resin obtained in Synthesis Example 2

에폭시 수지 C : 비스페놀 A 형 액상 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 YD-128, 에폭시 당량 186 g/eq., 알코올성 수산기 당량 2000 g/eq.)Epoxy resin C: bisphenol A type liquid epoxy resin (Epotot YD-128, epoxy equivalent 186 g / eq., Alcoholic hydroxyl equivalent 2,000 g / eq., Manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.)

에폭시 수지 D : 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 (고쿠토 화학 주식회사 제조, KDCP-130, 에폭시 당량 254 g/eq., 알코올성 수산기 당량 2500 g/eq.)Epoxy Resin D: dicyclopentadiene type epoxy resin (KDCP-130, epoxy equivalent 254 g / eq., Alcoholic hydroxyl equivalent 2500 g / eq. Manufactured by Gokuto Chemical Co., Ltd.)

에폭시 수지 E : 스티렌화페놀 노볼락형 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, TX-1210, 에폭시 당량 257 g/eq., 알코올성 수산기 당량 2800 g/eq.)Epoxy resin E: styrenated phenol novolac epoxy resin (TX-1210, epoxy equivalent 257 g / eq., Alcoholic hydroxyl equivalent 2800 g / eq., Manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.)

에폭시 수지 F : 합성예 3 에서 얻어진 에폭시 수지Epoxy resin F: Epoxy resin obtained in Synthesis Example 3

(이소시아네이트)(Isocyanate)

이소시아네이트 A : 디페닐메탄디이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 (등록상표) PH, NCO 농도 34 %)Isocyanate A: diphenylmethane diisocyanate (Kosonate (registered trademark) PH, NCO concentration 34%, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)

이소시아네이트 B : 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 (80 %) 와 2,6-톨릴렌디이소시아네이트 (20 %) 의 혼합물 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 T-80, NO 농도 48 %)Isocyanate B: A mixture of a mixture of 2,4-tolylene diisocyanate (80%) and 2,6-tolylene diisocyanate (20%) (Cosmonate T-80 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., NO concentration: 48%

이소시아네이트 C : 시클로헥산-1,3-디일비스메틸렌디이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 타케네이트 (등록상표) 600, NCO 농도 43 %)Isocyanate C: Cyclohexane-1,3-diylbis methylene diisocyanate (Takenate (registered trademark) 600, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., NCO concentration: 43%

(촉매)(catalyst)

촉매 A : 테트라메틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst A: Tetramethylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 B : n-부틸트리페닐포스포늄·브로마이드 (닛폰 화학 공업 주식회사 제조, 히시코린 (등록상표) BTPPBr)Catalyst B: n-Butyltriphenylphosphonium bromide (HISCOLIN (registered trademark) BTPPBr manufactured by Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.)

촉매 C : 테트라부틸암모늄브로마이드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst C: Tetrabutylammonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 D : 테트라부틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst D: tetrabutylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 E : 테트라에틸암모늄브로마이드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst E: tetraethylammonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 F : 테트라에틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst F: tetraethylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 G : 트리에틸아민 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst G: Triethylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 H : 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst H: Tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 I : N,N'-디메틸피페라진 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst I: N, N'-dimethylpiperazine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

(경화제)(Hardener)

PN : 페놀 노볼락 수지 (쇼와 전공 주식회사 제조, 쇼우놀 (등록상표) BRG-557, 연화점 80 ℃)PN: Phenol novolac resin (Shonol (registered trademark) BRG-557, manufactured by Showa Denko K.K., softening point 80 ° C)

DICY : 디시안디아미드 (닛폰 카바이트 주식회사 제조)DICY: Dicyandiamide (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.)

(경화 촉진제)(Hardening accelerator)

2E4MZ : 2-에틸-4-메틸이미다졸 (시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 큐어졸 (등록상표) 2E4MZ)2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole (Curezol (registered trademark) 2E4MZ, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)

(난연제)(Flame retardant)

PX-200 : 방향족 축합 인산에스테르 (다이하치 화학 공업 주식회사 제조, PX-200, 인 함유량 9.0 %)PX-200: aromatic condensed phosphoric acid ester (PX-200, manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd., phosphorus content: 9.0%)

실시예 1Example 1

합성예 1 과 동일한 장치에, 에폭시 수지 (a) 로서 에폭시 수지 A 를 100 부, 촉매로서 촉매 A 를 0.11 부 주입하고, 질소 가스를 투입하면서 승온시키고, 120 ℃ 에서 30 분간 온도를 유지하여 계 내의 수분을 제거하였다. 다음으로, 130 ℃ ∼ 140 ℃ 의 반응 온도를 유지하면서, 이소시아네이트 화합물 (b) 로서 이소시아네이트 A 를 11.5 부 (에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대한 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 몰비[(b)/(a)]= 0.20) 를 50 % 톨루엔 용액으로 하여, 3 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 종료 후, 동 온도를 유지하면서 추가로 60 분간 교반을 계속하였다. 반응 종료 후, 150 ℃, 1.33 ㎪, 30 분의 회수 조건에서 용제를 제거하여, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 (수지 1) 를 얻었다. 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로, 에폭시 당량, 연화점, 용제 용해성, 흡광도비를 측정하였다. 측정 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 도 1 에 GPC 차트를 나타낸다. (동 도면에서, 가로축에 용출 시간 (분) 을 나타내고, 왼쪽 세로축에 신호 강도 (㎷) 를 나타낸다. 오른쪽 세로축에 수평균 분자량 M 을 상용 대수 (對數) (log) 로 나타낸다. 사용한 표준 물질의 수평균 분자량의 측정값을 흰색 원으로 플롯하여 검량선으로 하였다.) 도 2 에 IR 차트를 나타낸다. (동 도면에서, 가로축에 파수 (㎝-1) 를 나타내고, 세로축에 투과율 (%T) 을 나타낸다) 도 3 에 13C-NMR 스펙트럼 NMR 차트를 나타낸다. 도 4 에 적외 분광 광도계의 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때의 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 범위의 흡광도 스펙트럼을 나타낸다.100 parts of the epoxy resin A as the epoxy resin (a) and 0.11 part of the catalyst A as a catalyst were injected into the same apparatus as in Synthesis Example 1, and the temperature was raised while nitrogen gas was supplied. The temperature was maintained at 120 캜 for 30 minutes, The moisture was removed. Next, 11.5 parts of isocyanate A as the isocyanate compound (b) (the molar ratio of the isocyanate group of the isocyanate compound (b) to the 1 mole of the epoxy group of the epoxy resin (a) b) / (a)] = 0.20) as a 50% toluene solution over 3 hours. After completion of the dropwise addition, stirring was further continued for 60 minutes while maintaining the same temperature. After completion of the reaction, the solvent was removed under the conditions of recovery at 150 DEG C, 1.33 DEG C, and 30 minutes to obtain an oxazolidone ring-containing epoxy resin (Resin 1). The epoxy equivalent, the softening point, the solvent solubility, and the absorbance ratio of the obtained oxazolidone ring-containing epoxy resin were measured. The measurement results are shown in Table 1. Fig. 1 shows a GPC chart. (The elution time (min) is indicated on the abscissa and the signal intensity (㎷) is shown on the left ordinate), and the number average molecular weight M is represented by a logarithm (log) The measured value of the average molecular weight was plotted as a white circle to be a calibration curve.) An IR chart is shown in Fig. (In the figure, the abscissa shows the number of waves (cm -1 ) and the ordinate shows the transmittance (% T).) FIG. 3 shows a 13 C-NMR spectrum NMR chart. 4 shows the absorbance spectrum in the range of 1650 to 1800 cm -1 when analyzed by the total reflection measurement method (ATR method) of an infrared spectrophotometer.

실시예 2 ∼ 18Examples 2 to 18

표 1 또는 표 2 에 나타내는 각 원료의 주입량 (부) 에 따라, 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 합성하였다. 또한, 반응 온도는 표 1 또는 표 2 에 나타내는 반응 온도 ±5 ℃ 의 온도 범위를 유지하고, 이소시아네이트 화합물의 적하는 표 1 또는 표 2 에 나타내는 적하 시간으로 실시하였다. 실시예 1 과 동일하게, 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량, 연화점, 용제 용해성, 흡광도비를 측정하고, 측정 결과를 표 1 또는 표 2 에 나타낸다.An epoxy resin containing an oxazolidone ring was synthesized by the same operation using the same apparatus as in Example 1, in accordance with the injection amount (parts) of each raw material shown in Table 1 or Table 2. The reaction temperature was maintained at the reaction temperature of ± 5 ° C. shown in Table 1 or Table 2, and the dropping time shown in Table 1 or Table 2 of the isocyanate compound was carried out. The epoxy equivalent, softening point, solvent solubility, and absorbance ratio of the resulting epoxy resin containing oxazolidone ring were measured in the same manner as in Example 1, and the measurement results are shown in Table 1 or Table 2.

비교예 1 ∼ 5Comparative Examples 1 to 5

표 3 에 나타내는 각 원료의 주입량 (부) 에 따라, 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 합성하였다. 또한, 반응 온도는 표 3 에 나타내는 반응 온도 ±5 ℃ 의 온도 범위를 유지하고, 이소시아네이트 화합물의 적하는 표 3 에 나타내는 적하 시간으로 실시하였다. 실시예 1 과 동일하게, 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량, 연화점, 용제 용해성, 흡광도비를 측정하고, 측정 결과를 표 3 에 나타낸다. 또, 비교예 2 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지에 대해, 도 5 에 적외 분광 광도계의 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때의 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 범위의 흡광도 스펙트럼을 나타낸다.An epoxy resin containing an oxazolidone ring was synthesized by the same operation using the same apparatus as in Example 1, in accordance with the injection amount (parts) of each raw material shown in Table 3. The reaction temperature was maintained at the temperature range of the reaction temperature ± 5 ° C. shown in Table 3, and the dropping time shown in Table 3 was applied to the isocyanate compound. The epoxy equivalent, softening point, solvent solubility and absorbance ratio of the obtained epoxy resin containing an oxazolidone ring were measured in the same manner as in Example 1, and the measurement results are shown in Table 3. 5 shows the absorbance spectrum in the range of 1650 to 1800 cm -1 when analyzed by the total reflection measurement method (ATR method) of an infrared spectrophotometer with respect to the epoxy resin containing an oxazolidone ring obtained in Comparative Example 2. FIG.

실시예 1 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 수지 1 로 하고, 이하 동일하게 수지 2 ∼ 18 로 하였다. 비교예 1 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 비교 수지 1 로 하고, 이하 동일하게 비교 수지 2 ∼ 5 로 하였다.The oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained in Example 1 was used as Resin 1, and Resins 2 to 18 were used in the same manner as Resin 1. The oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained in Comparative Example 1 was used as comparative resin 1, and comparative resins 2 to 5 were used as follows.

Figure pat00011
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Figure pat00012
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Figure pat00013
Figure pat00013

실시예 19Example 19

에폭시 수지로서 실시예 1 의 수지 1 을 100 부, 경화제로서 PN 을 35.6 부, 경화 촉진제로서 2E4MZ 를 0.01 부 배합하고, MEK, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, N,N-디메틸포름아미드로 조정한 혼합 용제에 용해시켜 에폭시 수지 조성물 바니시를 얻었다.100 parts of the resin 1 of Example 1 as an epoxy resin, 35.6 parts of PN as a curing agent, and 0.01 parts of 2E4MZ as a curing accelerator were mixed and mixed with a mixed solvent prepared by MEK, propylene glycol monomethyl ether and N, N-dimethylformamide To obtain an epoxy resin composition varnish.

얻어진 에폭시 수지 조성물 바니시를 유리 크로스 (닛토 방적 주식회사 제조, WEA 116E106S136, 두께 0.1 ㎜) 에 함침하였다. 함침한 유리 크로스를 150 ℃ 의 열풍 순환 오븐 중에서 11 분간 건조시켜 프리프레그를 얻었다. 얻어진 프리프레그 8 장과, 상하에 동박 (미츠이 금속 광업 주식회사 제조, 3EC-III, 두께 35 ㎛) 을 중첩하고, 130 ℃ × 15 분 + 190 ℃ × 80 분의 온도 조건에서 2 ㎫ 의 진공 프레스를 실시하여, 1 ㎜ 두께의 적층판을 얻었다. 적층판의 동박 박리 강도, 층간 접착력, 유리 전이 온도 (DSC 법) (Tg·DSC), 유리 전이 온도 (TMA 법) (Tg·TMA) 의 결과를 표 4 에 나타냈다.The obtained epoxy resin composition varnish was impregnated with glass cloth (WEA 116E106S136, thickness: 0.1 mm, manufactured by Nitto Denki Co., Ltd.). The impregnated glass cloth was dried in a hot air circulating oven at 150 캜 for 11 minutes to obtain a prepreg. 8 prepregs and a copper foil (3EC-III, thickness: 35 탆, manufactured by Mitsui Mining & Metals Mfg. Co., Ltd.) were laminated on the upper and lower sides and subjected to a vacuum press at 2 MPa at a temperature condition of 130 캜 x 15 minutes + 190 캜 x 80 minutes To obtain a laminate having a thickness of 1 mm. The results of the copper foil peel strength, interlaminar adhesive strength, glass transition temperature (DSC method) (Tg · DSC) and glass transition temperature (TMA) (Tg · TMA) of the laminated board are shown in Table 4.

또, 얻어진 프리프레그를 풀고, 체로 100 메시 패스의 분말상의 프리프레그 파우더로 하였다. 얻어진 프리프레그 파우더를 불소 수지제의 형 (型) 에 넣고, 130 ℃ × 15 분 + 190 ℃ × 80 분의 온도 조건에서 2 ㎫ 의 진공 프레스를 실시하여, 가로세로 50 ㎜ × 2 ㎜ 두께의 시험편을 얻었다. 시험편의 비유전율 및 유전 정접의 결과를 표 4 에 나타냈다.The obtained prepreg was loosened and sieved to prepare a 100-mesh-pass powdery prepreg powder. The obtained prepreg powder was placed in a mold made of a fluororesin and subjected to a vacuum press at 2 MPa at a temperature condition of 130 DEG C x 15 minutes + 190 DEG C x 80 minutes to prepare a test piece having a size of 50 mm x 2 mm ≪ / RTI > Table 4 shows the results of the relative dielectric constant and dielectric tangent of the test pieces.

실시예 20 ∼ 실시예 36Examples 20 to 36

실시예 2 ∼ 실시예 18 의 수지 2 ∼ 수지 18, PN, 및 2E4MZ 를 표 4 또는 표 5 의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작을 실시하여, 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 4 또는 표 5 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.The resin 2 to resin 18, PN, and 2E4MZ of Examples 2 to 18 were compounded in the amounts shown in Table 4 or 5 (parts), and the same operation as in Example 19 was carried out, And a test piece. The same test as in Example 19 was carried out, and the results are shown in Table 4 or Table 5. In the table, " - " indicates that it is not used.

비교예 6 ∼ 비교예 13Comparative Examples 6 to 13

비교예 1 ∼ 비교예 5 의 비교 수지 1 ∼ 비교 수지 5, 에폭시 수지 A, 에폭시 수지 D, 에폭시 수지 E, PN, 및 2E4MZ 를 표 6 의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작을 실시하여, 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 6 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.The comparative resin 1 to comparative resin 5, epoxy resin A, epoxy resin D, epoxy resin E, PN, and 2E4MZ of Comparative Examples 1 to 5 were compounded in the compounding amounts (parts) shown in Table 6, The same operation was carried out to obtain a laminate and a test piece. The same test as in Example 19 was conducted, and the results are shown in Table 6. In the table, " - " indicates that it is not used.

Figure pat00014
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Figure pat00015
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Figure pat00016
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실시예 37 ∼ 실시예 41 및 비교예 14 ∼ 비교예 16Examples 37 to 41 and Comparative Examples 14 to 16

수지 1, 수지 5, 수지 6, 수지 17, 수지 18, 비교 수지 1, 비교 수지 2, 비교 수지 4, DICY, 및 2E4MZ 를 표 7 의 처방의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 7 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Resin 1, Resin 5, Resin 6, Resin 17, Resin 18, Resin 1, Resin 2, Resin 4, DICY and 2E4MZ were compounded in the formulations (parts) shown in Table 7, Using the apparatus, a laminate and a test piece were obtained by the same operation. The same test as in Example 19 was conducted, and the results are shown in Table 7. [ In the table, " - " indicates that it is not used.

Figure pat00017
Figure pat00017

실시예 42 ∼ 실시예 44 및 비교예 17 ∼ 비교예 19Examples 42 to 44 and Comparative Examples 17 to 19

수지 5, 수지 6, 수지 17, 비교 수지 1, 비교 수지 2, 비교 수지 4, PN, 2E4MZ, 및 PX-200 을 표 8 의 처방의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 적층판 및 시험편을 얻은 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 8 에 나타낸다. 또, 난연성 측정용 시험편은 적층판의 양면을 에칭하여 얻었다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Resin 5, Resin 6, Resin 17, Comparative Resin 1, Comparative Resin 2, Comparative Resin 4, PN, 2E4MZ and PX-200 were compounded in the compounding amount (parts) of the prescription in Table 8, Using the same procedure, the same test as in Example 19 in which a laminated plate and a test piece were obtained was carried out. The test piece for flame retardancy measurement was obtained by etching both surfaces of the laminate. In the table, " - " indicates that it is not used.

Figure pat00018
Figure pat00018

본 발명은, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 을 필수로서 반응시켜 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로서, 내열성, 접착성, 유전 특성이 우수한 전자 회로 기판용의 에폭시 수지로서 이용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used as an epoxy resin for an electronic circuit board which is excellent in heat resistance, adhesiveness and dielectric properties, as an oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained by reacting an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b) .

Claims (18)

하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 에폭시 당량이 200 ∼ 550 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
[화학식 1]
Figure pat00019

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)
An epoxy equivalent of 200 to 550 g / eq. Obtained from an epoxy resin (a) containing 50 mass% or more of an epoxy resin (a1) represented by the following formula (1) and an isocyanate compound (b) An epoxy resin containing an oxazolidone ring.
[Chemical Formula 1]
Figure pat00019

(Wherein X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms and having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R represents independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G denotes a glycidyl group. Represents the repetition, and the average value is 0 to 5.)
제 1 항에 있어서,
에폭시 수지 (a1) 의 알코올성 수산기 당량이 3000 g/eq. 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method according to claim 1,
The alcoholic hydroxyl equivalent of the epoxy resin (a1) is 3000 g / eq. Or more epoxy resin containing an oxazolidone ring.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
에폭시 수지 (a1) 와 함께, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상인 다른 에폭시 수지 (a2) 를 에폭시 수지 (a) 중에 50 ∼ 0 질량% 함유하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
3. The method according to claim 1 or 2,
When the epoxy resin (a1) has an alcoholic hydroxyl equivalent of 1000 g / eq. Of an epoxy resin (a2) in an amount of 50 to 0 mass% in the epoxy resin (a).
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량이 100 ∼ 500 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The epoxy equivalent of the epoxy resin (a) is 100 to 500 g / eq. An epoxy resin containing an oxazolidone ring.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the isocyanate compound (b) has an average number of isocyanate groups of 1.8 or more in the molecule.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the isocyanate compound (b) is at least one selected from the group consisting of tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate. An epoxy resin containing an oxazolidone ring having a molecular weight greater than or equal to 100,000.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
적외 흡수 스펙트럼에 의한 분석에서, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ox, 우레탄 결합 구조의 카르보닐기의 신축 진동 피크에서 유래하는 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ur 로 하여, 흡광도비 Ox/Ur 이 1.35 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
In the analysis by the infrared absorption spectrum, the maximum value of the peak included in 1745 to 1760 cm -1 derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring is represented by the absorbance Ox, 1730 derived from the stretching vibration peak of the carbonyl group of the urethane bonding structure To 1740 cm -1 as the maximum absorbance Ur and the absorbance ratio Ox / Ur is 1.35 or more.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
연화점이 50 ∼ 150 ℃ 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
And an epoxy resin having an oxazolidone ring having a softening point of 50 to 150 ° C.
하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 촉매 존재하에서, 반응 온도 100 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 범위에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
[화학식 2]
Figure pat00020

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)
(A) containing 50% by mass or more of an epoxy resin (a1) represented by the following formula (1) and an isocyanate compound (b) in the presence of a catalyst at a reaction temperature of 100 ° C or more and 250 ° C or less ≪ / RTI > wherein the epoxy resin comprises an oxazoline ring.
(2)
Figure pat00020

(Wherein X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms and having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R represents independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G denotes a glycidyl group. Represents the repetition, and the average value is 0 to 5.)
제 9 항에 있어서,
상기 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 상기 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기가 0.02 몰 이상 0.5 몰 미만의 범위인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
10. The method of claim 9,
Wherein an isocyanate group of the isocyanate compound (b) is in a range of 0.02 mol or more and less than 0.5 mol based on 1 mol of the epoxy group of the epoxy resin (a).
제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein the isocyanate compound (b) has an average number of isocyanate groups of 1.8 or more in the molecule.
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
12. The method according to any one of claims 9 to 11,
Wherein the isocyanate compound (b) is at least one selected from the group consisting of tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate. Method for preparing epoxy resin containing oxazolidone ring having a number of species or more.
제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
촉매가 염기성 촉매인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
13. The method according to any one of claims 9 to 12,
A process for producing an epoxy resin containing an oxazolidone ring, wherein the catalyst is a basic catalyst.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 및 경화제를 필수로 하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.An epoxy resin composition characterized by containing an oxazolidone ring-containing epoxy resin according to any one of claims 1 to 8 and a curing agent. 제 14 항에 있어서,
에폭시 수지 조성물 중의 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제의 활성 수소기가 0.2 ∼ 1.5 몰인 에폭시 수지 조성물.
15. The method of claim 14,
Wherein the active hydrogen group of the curing agent is 0.2 to 1.5 moles per mole of the epoxy group of the whole epoxy resin in the epoxy resin composition.
제 14 항 또는 제 15 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물.An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 14 or 15. 제 14 항 또는 제 15 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 프리프레그.A prepreg characterized by using the epoxy resin composition according to claim 14 or 15. 제 14 항 또는 제 15 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 적층판.An epoxy resin laminate characterized by using the epoxy resin composition according to claim 14 or 15.
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