KR102366352B1 - Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the thereof, epoxy resin composition and cured product - Google Patents

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Abstract

(과제) 종래의 접착력을 유지하면서 내열성이 더욱 향상된 특성을 갖는 에폭시 수지를 제공한다.
(해결 수단) 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로서, 그 에폭시 수지 (a) 가 겔 퍼미에이션 크로마토그래피에서의 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 20 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하이고, 수 평균 분자량이 350 이상 700 이하인 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지인 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
(Project) To provide an epoxy resin having improved heat resistance while maintaining conventional adhesive strength.
(Solution) An oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained from an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b), wherein the epoxy resin (a) has a dinuclear content of 20 area% as measured by gel permeation chromatography It is characterized in that it is a novolak-type epoxy resin having a molecular weight distribution having a trinuclear content of 15 area% or more and 60 area% or less, a pentanuclear content content of 45 area% or less, and a number average molecular weight of 350 or more and 700 or less. Epoxy resin containing an oxazolidone ring.

Description

옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 그 제조 방법, 에폭시 수지 조성물 및 경화물{OXAZOLIDONE RING-CONTAINING EPOXY RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE THEREOF, EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT}Oxazolidone ring-containing epoxy resin, manufacturing method thereof, epoxy resin composition and cured product

본 발명은 저유전 특성, 고내열성, 저흡습성, 고접착성 등이 우수한 경화물을 부여하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 이 수지를 필수 성분으로 하는 에폭시 수지 조성물, 및 이 조성물로부터 얻어지는 에폭시 수지 경화물, 프리프레그, 적층판, 프린트 배선 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an oxazolidone ring-containing epoxy resin that gives a cured product excellent in low dielectric properties, high heat resistance, low moisture absorption, high adhesion, etc., an epoxy resin composition comprising the resin as an essential component, and an epoxy resin obtained from the composition It relates to hardened|cured material, a prepreg, a laminated board, and a printed wiring board.

에폭시 수지는 접착성, 가요성, 내열성, 내약품성, 절연성, 경화 반응성이 우수한 점에서, 도료, 토목 접착, 주형 (注型), 전기 전자 재료, 필름 재료 등 다방면에 걸쳐 사용되고 있다. 특히 전기 전자 재료의 하나인 프린트 배선 기판 용도에서는 에폭시 수지에 난연성을 부여함으로써 널리 사용되고 있다.Epoxy resins are excellent in adhesiveness, flexibility, heat resistance, chemical resistance, insulation, and curing reactivity, so they are used in various fields such as paints, civil bonding, molds, electrical and electronic materials, and film materials. In particular, it is widely used by providing flame retardance to an epoxy resin in the printed wiring board use which is one of electrical and electronic materials.

프린트 배선 기판 용도의 하나인 휴대형 기기나 그것을 연결하는 기지국 등의 인프라 기기는 최근의 비약적 정보량의 증대에 수반하여 고기능화의 요구가 항상 요구되고 있다. 휴대형 기기에 있어서는 소형화를 목적으로 고다층화나 미세 배선화가 진행되고 있으며, 기판을 얇게 하기 위해서 보다 저유전율의 재료가 요구되고, 미세 배선에 의해 접착면이 감소하는 점에서, 보다 고접착성의 재료가 요구되고 있다. 기지국용 기판에서는 고주파에 의한 신호의 감쇠를 억제하기 위해서 보다 저유전 정접의 재료가 요구되고 있다.BACKGROUND ART [0002] A portable device, which is one of the uses for printed wiring boards, and infrastructure devices such as a base station connecting them, are required to be highly functionalized with the recent rapid increase in the amount of information. In portable devices, high multilayering and fine wiring are progressing for the purpose of miniaturization. In order to make the substrate thinner, a material with a lower dielectric constant is required, and since the adhesive surface is reduced by fine wiring, a more highly adhesive material is is being demanded For base station substrates, materials with a lower dielectric loss tangent are required in order to suppress the attenuation of signals due to high frequencies.

저유전율, 저유전 정접 및 고접착력과 같은 특성은, 프린트 배선 기판의 매트릭스 수지인 에폭시 수지의 구조에서 유래하는 바가 커, 새로운 에폭시 수지 혹은 그 변성 기술이 요구되고 있다.Characteristics such as low dielectric constant, low dielectric loss tangent, and high adhesive strength are largely derived from the structure of the epoxy resin, which is the matrix resin of a printed wiring board, and a new epoxy resin or its modification technology is required.

에폭시 수지의 저유전율화에 대하여, 특허문헌 1 은 4,4'-[1,3-페닐렌비스(1-메틸에틸리덴)]비스[2,6-디메틸]페놀의 디글리시딜에테르화물을 개시하고 있다. 또, 특허문헌 2 에는 알코올성 수산기 당량이 1.0 meq/g 이하인 에폭시 수지와 분자 내에 2 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지가 개시되어 있고, 옥사졸리돈 고리에 의해 고분자화된 에폭시 수지는 저유전율, 저유전 정접이고, 유리 전이 온도도 높은 것이 개시되어 있다.Regarding the low dielectric constant of the epoxy resin, Patent Document 1 discloses 4,4'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bis[2,6-dimethyl]phenol diglycidyl ether Cargo is starting. Further, Patent Document 2 discloses an epoxy resin obtained by reacting an epoxy resin having an alcoholic hydroxyl equivalent weight of 1.0 meq/g or less with an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule, and an epoxy resin polymerized by an oxazolidone ring. has a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, and a high glass transition temperature is disclosed.

에폭시 수지와 이소시아네이트의 반응에 의한 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지에 대해서는 특허문헌 3 에도 개시되어 있으며, 원료 에폭시 수지로서 비스페놀 A 등의 2 가 페놀류를 글리시딜화한 화합물, 트리스(글리시딜옥시페닐)알칸류나 아미노페놀 등을 글리시딜화한 화합물 등이나, 페놀노볼락 등의 노볼락류를 글리시딜화한 화합물의 예시가 있다.Patent Document 3 also discloses an oxazolidone ring-containing epoxy resin by reaction of an epoxy resin and an isocyanate, and as a raw material epoxy resin, a compound obtained by glycidylation of dihydric phenols such as bisphenol A, tris(glycidyloxyphenyl) ) There are examples of compounds obtained by glycidylation of alkanes, aminophenols, and the like, and compounds obtained by glycidylation of novolacs such as phenol novolac.

그러나, 어느 문헌에 개시된 에폭시 수지도 최근의 고기능화에 기초하는 유전 특성의 요구를 충분히 만족시키는 것은 아니고, 접착성도 불충분하였다.However, neither the epoxy resins disclosed in any of the literatures satisfactorily satisfies the demand for dielectric properties based on recent high functionalization, and the adhesiveness was also insufficient.

일본 공개특허공보 평5-293929호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-293929 일본 공개특허공보 평9-278867호Japanese Patent Laid-Open No. 9-278867 일본 공개특허공보 평5-43655호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-43655

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 저유전성, 고내열성, 고접착성이 우수한 성능을 갖고, 적층, 성형, 주형, 접착 등의 용도에 유용한 에폭시 수지, 그 에폭시 수지를 필수 성분으로 하는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물을 제공하는 것이다.Therefore, the problem to be solved by the present invention is an epoxy resin that has excellent performance in low dielectric properties, high heat resistance, and high adhesion, and is useful for lamination, molding, casting, bonding, etc., and an epoxy containing the epoxy resin as an essential component To provide a resin composition and a cured product thereof.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명자는 저유전율, 저유전 정접 재료에 대하여 예의 검토한 결과, 에폭시 수지 중에서도 특정 분자량 분포를 갖는 에폭시 수지와 이소시아네이트 화합물을 이용하여 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지가 종래에 없는 저유전율, 저유전 정접과 높은 유리 전이 온도를 양립시키고, 나아가서는 접착력도 양호함을 알아내어 본 발명을 완성시켰다.In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied low-dielectric constant and low-dielectric dissipation tangent materials. Among epoxy resins, oxazolidone ring-containing epoxy resins obtained by using an epoxy resin having a specific molecular weight distribution and an isocyanate compound have been conventionally used. The present invention was completed by finding that the low dielectric constant, low dielectric dissipation tangent and high glass transition temperature that are not found in the present invention are compatible, and furthermore, the adhesive strength is also good.

즉, 본 발명은 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로서, 그 에폭시 수지 (a) 가 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 에 있어서의 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 20 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하이고, 수 평균 분자량이 350 이상 700 이하인 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지인 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지이다.That is, the present invention is an oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained from an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b), wherein the epoxy resin (a) is a dinuclear in gel permeation chromatography (GPC) measurement. Novolac-type epoxy resin having a molecular weight distribution having a content rate of 20 area% or less, a trinuclear content of 15 area% or more and 60 area% or less, a content of pentanuclear or more of 45 area% or less, and a number average molecular weight of 350 or more and 700 or less It is an oxazolidone ring-containing epoxy resin, characterized in that

여기서, GPC 측정 조건은 하기와 같다.Here, the GPC measurement conditions are as follows.

토소 주식회사 제조 GPC 측정 장치, HLC-8220GPC 를 사용하였다. 토소 주식회사 제조 칼럼, TSKgelG4000HXL, TSKgelG3000HXL, 및 TSKgelG2000HXL 를 직렬로 구비한 것을 사용하고, 칼럼 온도는 40 ℃ 로 하였다. 또, 용리액에는 테트라하이드로푸란 (THF) 을 이용하여 1 ㎖/분의 유속으로 하고, 검출기는 RI (시차 굴절계) 검출기를 사용하였다. 데이터 처리는, 토소 주식회사 제조 GPC-8020 모델 II 버젼 4.10 을 사용하였다. 측정 시료는 샘플 0.1 g 을 10 ㎖ 의 THF 에 용해시켜, 마이크로 필터로 여과한 것을 100 ㎕ 사용하였다. 얻어진 크로마토그램에 의해 2 핵체 함유율 및 3 핵체 함유율을 산출하고, 표준의 단분산 폴리스티렌 (토소 주식회사 제조, A-500, A-1000, A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40, F-80, F-128) 으로 구한 검량선에 의해 수 평균 분자량을 측정하였다.Tosoh Corporation GPC measuring apparatus and HLC-8220GPC were used. The column temperature was 40 degreeC using the thing equipped with the Tosoh Corporation column, TSKgelG4000HXL, TSKgelG3000HXL, and TSKgelG2000HXL in series. In addition, as the eluent, tetrahydrofuran (THF) was used at a flow rate of 1 ml/min, and an RI (differential refractometer) detector was used as the detector. For data processing, GPC-8020 Model II version 4.10 manufactured by Tosoh Corporation was used. As the measurement sample, 100 µL of a sample obtained by dissolving 0.1 g of a sample in 10 ml of THF and filtering with a microfilter was used. The dinuclear content and trinuclear content were calculated from the obtained chromatogram, and standard monodisperse polystyrenes (manufactured by Tosoh Corporation, A-500, A-1000, A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40, F-80, F-128), the number average molecular weight was measured by the calibration curve.

상기 노볼락형 에폭시 수지는, 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지가 바람직하다.As for the said novolak-type epoxy resin, the epoxy resin represented by following formula (1) is preferable.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112015107036614-pat00001
Figure 112015107036614-pat00001

(식 중 Ar 은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 비페닐 고리에서 선택되는 방향족기이며, 이들 방향족기는 방향족 고리로 치환하는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 가져도 된다. X 는 2 가의 지방족 고리형 탄화수소기 또는 하기 식 (1a) 혹은 하기 식 (1b) 로 나타내는 가교기 중 어느 것을 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 1 또는 2 를 나타내고, n 은 반복 단위로서 0 이상의 정수를 나타낸다.)(Wherein, Ar is an aromatic group selected from a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring, and these aromatic groups may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an aromatic ring. X is a divalent aliphatic hydrocarbon group or any of the crosslinking groups represented by the following formula (1a) or the following formula (1b), G represents a glycidyl group, m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 or more as a repeating unit.)

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112015107036614-pat00002
Figure 112015107036614-pat00002

(식 중 R1, R2, R3 및 R4 는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 탄화수소기를 나타내고, B 는 벤젠 고리, 비페닐 고리 또는 나프탈렌 고리로 이루어지는 방향족기 중 어느 것을 나타내고, 이들 방향족기는 방향족 고리로 치환하는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 가져도 된다)(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents any of an aromatic group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring, and these The aromatic group may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an aromatic ring)

상기 이소시아네이트 화합물 (b) 는, 분자 내에 평균으로 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the said isocyanate compound (b) has 1.8 or more isocyanate groups on average in a molecule|numerator.

상기 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 상기 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기를 0.02 몰 이상 0.6 몰 이하의 범위에서 반응시키는 것이 바람직하다.It is preferable to make the isocyanate group of the said isocyanate compound (b) react in 0.02 mol or more and 0.6 mol or less with respect to 1 mol of the epoxy groups of the said epoxy resin (a).

상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은 200 ∼ 500 g/eq. 인 것이 바람직하고, 연화점은 50 ∼ 150 ℃ 인 것이 바람직하다.The epoxy equivalent of the oxazolidone ring-containing epoxy resin is 200 to 500 g/eq. It is preferable that it is, and it is preferable that a softening point is 50-150 degreeC.

또 본 발명은, 상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지와 경화제를 필수 성분으로 하고, 그 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 포함하는 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여 그 경화제의 활성 수소기를 0.2 몰 이상 1.5 몰 이하의 범위로 배합하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물이다. 또한 본 발명은, 상기 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물이다. 또 본 발명은, 상기 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 프리프레그, 적층판 및 전자 회로 기판이다.Further, in the present invention, the oxazolidone ring-containing epoxy resin and the curing agent are essential components, and the active hydrogen groups of the curing agent are 0.2 mol or more with respect to 1 mol of the epoxy groups of all epoxy resins containing the oxazolidone ring-containing epoxy resin. It is an epoxy resin composition which mix|blends in the range of 1.5 mol or less, characterized by the above-mentioned. Moreover, this invention is the epoxy resin hardened|cured material formed by hardening|curing the said epoxy resin composition. Moreover, this invention uses the said epoxy resin composition, The prepreg, laminated board, and electronic circuit board characterized by the above-mentioned.

또 본 발명은, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법으로서, 그 에폭시 수지 (a) 가 상기 GPC 측정 조건의 GPC 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 15 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하이고, 수 평균 분자량이 350 이상 700 이하인 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지로, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기를 0.02 몰 이상 0.6 몰 이하의 범위로 하는 것을 특징으로 하는 상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법이다.Further, the present invention is a method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained from an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b), wherein the epoxy resin (a) has a dinuclear content in the GPC measurement under the GPC measurement conditions. A novolac-type epoxy resin having a molecular weight distribution of 15 area% or less, a trinuclear content of 15 area% or more and 60 area% or less, a pentanuclear content content of 45 area% or less, and a number average molecular weight of 350 or more and 700 or less, It is the manufacturing method of the said oxazolidone ring containing epoxy resin characterized by the range of 0.02 mol or more and 0.6 mol or less of the isocyanate group of an isocyanate compound (b) with respect to 1 mol of the epoxy groups of an epoxy resin (a).

상기 노볼락형 에폭시 수지는, 상기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지인 것이 바람직하고, 상기 이소시아네이트 화합물 (b) 는, 분자 내에 평균으로 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the said novolak-type epoxy resin is an epoxy resin represented by the said Formula (1), It is preferable that the said isocyanate compound (b) has 1.8 or more isocyanate groups on average in a molecule|numerator.

본 발명의 접착력을 유지하면서 유리 전이 온도가 높은 경화물 물성을 나타낸다. 또한 그 에폭시 수지 경화물은 유전 특성이 우수하고, 저유전율, 저유전 정접이 요구되는 적층판 및 전자 회로 기판에 있어서 양호한 특성을 발휘한다.While maintaining the adhesive strength of the present invention, it exhibits physical properties of a cured product having a high glass transition temperature. In addition, the cured epoxy resin product has excellent dielectric properties and exhibits good properties in laminates and electronic circuit boards requiring low dielectric constant and low dielectric loss tangent.

도 1 은 합성예 2 의 페놀노볼락형 에폭시 수지의 GPC 차트를 나타낸다.
도 2 는 범용형 페놀노볼락형 에폭시 수지인 YDPN-638 의 GPC 차트를 나타낸다.
도 3 은 실시예 1 의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 GPC 차트를 나타낸다.
도 4 는 실시예 1 의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 IR 차트를 나타낸다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The GPC chart of the phenol novolak-type epoxy resin of Synthesis Example 2 is shown.
2 shows a GPC chart of YDPN-638, which is a general-purpose phenol novolak-type epoxy resin.
3 shows a GPC chart of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of Example 1. FIG.
Fig. 4 shows an IR chart of the epoxy resin containing an oxazolidone ring of Example 1.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지에 사용하는 에폭시 수지 (a) 는, 바람직하게는 페놀류와 알데히드류 등의 가교제를 산성 촉매의 존재하에 축합하여 얻어지는 하기 식 (2) 로 나타내는 다관능의 노볼락 수지와 에피할로하이드린을 반응시켜 얻어지고, 식 (1) 로 나타내는 특정 분자량 분포를 갖는 다관능의 노볼락형 에폭시 수지이다.The epoxy resin (a) used for the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is preferably a polyfunctional furnace represented by the following formula (2) obtained by condensing a crosslinking agent such as phenols and aldehydes in the presence of an acidic catalyst It is a polyfunctional novolak-type epoxy resin which is obtained by making rock resin and epihalohydrin react, and has a specific molecular weight distribution represented by Formula (1).

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112015107036614-pat00003
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(식 중 Ar, X, m, 및 n 은, 식 (1) 의 Ar, X, m, 및 n 과 각각 동일한 의미이다)(Wherein, Ar, X, m, and n have the same meaning as Ar, X, m, and n in Formula (1), respectively)

식 (1) 및 식 (2) 에 있어서, Ar 은 치환기를 가져도 되는 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 비페닐 고리로 이루어지는 기 중 어느 것에서 선택되는 방향족기이다. 이들 방향족기가 치환기를 갖는 경우에는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 헥실기, 시클로헥실기 등을 들 수 있지만 이들에 한정되지 않고, 복수 있는 경우에는 각각 동일하거나 상이해도 된다. 바람직한 치환기로는, 입수의 용이성 및 적층판에 있어서의 접착성 등의 물성의 관점에서 메틸기가 있다.In Formulas (1) and (2), Ar is an aromatic group selected from any group consisting of a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring which may have a substituent. When these aromatic groups have a substituent, they are a C1-C6 alkyl group, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, Although a hexyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned, It is not limited to these, When there exist two or more, each may be same or different. As a preferable substituent, there exists a methyl group from a viewpoint of physical properties, such as easy availability and adhesiveness in a laminated board.

X 는 2 가의 지방족 고리형 탄화수소기 또는 식 (1a) 혹은 식 (1b) 로 나타내는 가교기 중 어느 것이다. 2 가의 지방족 고리형 탄화수소기의 탄소수는 5 ∼ 15 가 바람직하고, 5 ∼ 10 이 보다 바람직하다. R1, R2, R3 및 R4 는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 탄화수소기를 나타내고, B 는 벤젠 고리, 비페닐 고리 또는 나프탈렌 고리로 이루어지는 방향족기를 나타낸다. 또한, B 를 구성하는 이들 고리는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로 치환되어 있어도 된다.X is either a divalent aliphatic hydrocarbon group or a crosslinking group represented by formula (1a) or formula (1b). 5-15 are preferable and, as for carbon number of a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group, 5-10 are more preferable. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents an aromatic group comprising a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. In addition, these rings constituting B may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

m 은 1 또는 2 이며, 원료 페놀류의 수산기의 수를 나타낸다. n 은 반복 단위로서 0 이상의 정수를 나타내고, 그 평균값은 0.5 ∼ 4 가 바람직한 범위이며, 1 ∼ 3.5 가 보다 바람직한 범위이고, 1.5 ∼ 3 이 더욱 바람직한 범위이다.m is 1 or 2, and represents the number of hydroxyl groups of raw material phenols. n represents an integer of 0 or more as a repeating unit, and, as for the average value, 0.5-4 are preferable ranges, 1-3.5 are more preferable ranges, and 1.5-3 are still more preferable ranges.

식 (2) 로 나타내는 노볼락 수지를 얻기 위해서 사용되는 페놀류로는, 페놀, 크레졸, 에틸페놀, 부틸페놀, 스티렌화 페놀, 쿠밀페놀, 나프톨, 카테콜, 레조르시놀, 나프탈렌디올 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니고, 이들 페놀류는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 이들 페놀류 중 바람직하게는 페놀이나 알킬페놀 등의 모노페놀류이다. 알킬페놀인 경우의 알킬기로는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기가 적합하다.As phenols used in order to obtain the novolak resin represented by Formula (2), phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, styrenated phenol, cumylphenol, naphthol, catechol, resorcinol, naphthalenediol, etc. are mentioned. However, it is not limited to these, These phenols may be used independently and may use 2 or more types together. Among these phenols, monophenols such as phenol and alkylphenol are preferable. As an alkyl group in the case of an alkylphenol, a C1-C6 alkyl group is suitable.

노볼락 수지를 얻기 위한 가교제로는, 하기 식 (3) 으로 나타내는 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 부틸알데히드, 아밀알데히드, 벤즈알데히드 등의 알데히드류나, 하기 식 (4) 로 나타내는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세토페논 등의 케톤류나, 하기 식 (5) 로 나타내는 p-자일릴렌글리콜, p-자일릴렌글리콜디메틸에테르, p-자일릴렌디클로라이드, 4,4'-디메톡시메틸비페닐, 4,4'-디클로로메틸비페닐, 디메톡시메틸나프탈렌류, 디클로로메틸나프탈렌류 등의 가교제나, 하기 식 (6) 으로 나타내는 디비닐벤젠류, 디비닐비페닐류, 디비닐나프탈렌류 등의 가교제나, 시클로펜타디엔이나 디시클로펜타디엔 등의 시클로알킬디엔류를 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니고, 이들 가교제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 식 (1) 및 식 (2) 의 X 는, 시클로알킬디엔류를 사용한 경우에는 2 가의 지방족 고리형 탄화수소기가 되고, 식 (3) 또는 식 (4) 의 가교제를 사용한 경우에는 식 (1a) 로 나타내는 가교기가 되고, 식 (5) 또는 식 (6) 의 가교제를 사용한 경우에는 식 (1b) 로 나타내는 가교기가 된다. 이들 가교제 중에서는 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, 아세톤, p-자일릴렌디클로라이드, 4,4'-디클로로메틸비페닐이 바람직하고, 포름알데히드가 특히 바람직하다. 포름알데히드를 반응에 사용할 때의 바람직한 형태로는, 포르말린 수용액, 파라포름알데히드, 트리옥산 등을 들 수 있다.As a crosslinking agent for obtaining a novolak resin, aldehydes, such as formaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde, butylaldehyde, amylaldehyde, benzaldehyde, which are represented by following formula (3), and acetone and methyl ethyl ketone represented by following formula (4) , methyl isobutyl ketone, ketones such as acetophenone, p-xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether, p-xylylene dichloride, 4,4'-dimethoxymethyl Crosslinking agents such as phenyl, 4,4'-dichloromethylbiphenyl, dimethoxymethylnaphthalene and dichloromethylnaphthalene, divinylbenzenes, divinylbiphenyls, divinylnaphthalenes represented by the following formula (6), and the like and cycloalkyl dienes such as cyclopentadiene and dicyclopentadiene, but are not limited thereto, and these crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more. X in formulas (1) and (2) is a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group when cycloalkyldiene is used, and when a crosslinking agent of formula (3) or (4) is used, it is represented by formula (1a) It becomes a crosslinking group shown, and when the crosslinking agent of Formula (5) or Formula (6) is used, it becomes a crosslinking group represented by Formula (1b). Among these crosslinking agents, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, acetone, p-xylylene dichloride, and 4,4'-dichloromethylbiphenyl are preferable, and formaldehyde is particularly preferable. As a preferable form when formaldehyde is used for reaction, formalin aqueous solution, paraformaldehyde, trioxane, etc. are mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112015107036614-pat00004
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(식 중 R1 및 R2 는 식 (1a) 의 R1 및 R2 와, R3, R4 및 B 는 식 (1a) 의 R3, R4 및 B 와 각각 동일한 의미이며, Y 는 독립적으로 수산기, 알콕시기, 또는 할로겐 원자를 나타낸다)(Wherein, R 1 and R 2 are R 1 and R 2 of Formula (1a), and R 3 , R 4 and B have the same meaning as R 3 , R 4 and B of Formula (1a), respectively, and Y is independently represents a hydroxyl group, an alkoxy group, or a halogen atom)

노볼락 수지를 얻기 위해서 사용되는 산성 촉매로는, 염산, 인산, 황산, 질산, 톨루엔술폰산 등의 프로톤산, 3 불화붕소, 염화알루미늄, 염화주석, 염화아연, 염화철 등의 루이스산, 옥살산, 모노클로르아세트산 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니고, 이들 산성 촉매는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 이들 산성 촉매 중에서는 인산, 톨루엔술폰산, 옥살산이 바람직하다.Examples of the acidic catalyst used to obtain the novolak resin include protonic acids such as hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, nitric acid and toluenesulfonic acid, boron trifluoride, aluminum chloride, tin chloride, zinc chloride, and Lewis acids such as iron chloride, oxalic acid, mono Although chloroacetic acid etc. are mentioned, It is not limited to these, These acidic catalysts may be used independently and may use 2 or more types together. Among these acidic catalysts, phosphoric acid, toluenesulfonic acid, and oxalic acid are preferable.

또한, 관용되고 있는 노볼락형 에폭시 수지로는, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 (등록상표) YDPN-638 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피코트 (등록상표) 152, 에피코트 154 (미츠비시 화학 주식회사 제조), 에피크론 (등록상표) N-740, 에피크론 N-770, 에피크론 N-775 (DIC 주식회사 제조), 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDCN-700 시리즈 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피크론 N-660, 에피크론 N-665, 에피크론 N-670, 에피크론 N-673, 에피크론 N-695 (DIC 주식회사 제조), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (닛폰 화약 주식회사 제조), 알킬노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1071T, ZX-1270, ZX-1342 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 스티렌화 페놀노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1247, GK-5855, TX-1210 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 나프톨노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1142L (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), β나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-300 시리즈의 ESN-355, ESN-375 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), α나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-400 시리즈의 ESN-475V, ESN-485 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지, 예를 들어 NC-3000, NC-3000H (닛폰 화약 주식회사 제조) 등을 들 수 있지만, 이들 관용의 노볼락형 에폭시 수지는, 본 발명에서 사용하는 노볼락형 에폭시 수지에 있어서와 같은 특정 분자량 분포를 갖고 있지 않다.Moreover, as a novolak-type epoxy resin commonly used, a phenol novolak-type epoxy resin, for example, Epottot (trademark) YDPN-638 (made by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epicoat (registered trademark) 152 , Epicoat 154 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), Epicron (registered trademark) N-740, Epicron N-770, Epicron N-775 (manufactured by DIC Corporation), cresol novolac-type epoxy resins, such as Epicron T YDCN-700 series (manufactured by Nippon-Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epichron N-660, Epichron N-665, Epichron N-670, Epichron N-673, Epichron N-695 (manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), alkyl novolak-type epoxy resins such as EPOTOT ZX-1071T, ZX-1270, ZX-1342 (manufactured by Nippon Chemicals Co., Ltd.) ), a styrenated phenol novolak-type epoxy resin, such as Epototte ZX-1247, GK-5855, TX-1210 (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), a naphthol novolak-type epoxy resin such as Epoto toe ZX-1142L (manufactured by Nippon-Sumikin Chemical Co., Ltd.), β-naphthol aralkyl type epoxy resin, such as ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (manufactured by Nippon-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), dinaphthol aralkyl A type epoxy resin, for example, ESN-355 of ESN-300 series, ESN-375 (made by Shin-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), alpha naphthol aralkyl type epoxy resin, for example, ESN-475V of ESN-400 series, ESN -485 (manufactured by Nippon Chemicals Co., Ltd.) and biphenyl aralkylphenol-type epoxy resins such as NC-3000 and NC-3000H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) The resin does not have a specific molecular weight distribution as in the novolak-type epoxy resin used in the present invention.

본 발명에서 사용하는 노볼락형 에폭시 수지는, 그 원료인 노볼락 수지로서 특정 분자량 분포를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 노볼락 수지는, 페놀류와 알데히드류의 몰비를 조정하는 것과, 얻어진 노볼락 수지로부터 저분자량 성분을 제거하는 방법에 의해 얻을 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2002-194041호나 일본 공개특허공보 2007-126683호에 나타내는 바와 같은 제조 방법을 이용하여, 이러한 노볼락 수지를 얻어도 된다. 여기서, 특정 분자량 분포란, GPC 에 있어서의 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 20 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하인 것을 말한다. 또, 수 평균 분자량이 350 ∼ 700 인 것이 바람직하다.As the novolac resin used in the present invention, it is preferable to use a novolac resin having a specific molecular weight distribution as the raw material, and the novolak resin is obtained by adjusting the molar ratio of phenols and aldehydes, and It can be obtained by the method of removing a low molecular weight component from rock rock resin. Moreover, you may obtain such a novolak resin using the manufacturing method as shown in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-194041 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-126683. Here, the specific molecular weight distribution means that the dinuclear content is 20 area% or less, the trinuclear content is 15 area% or more and 60 area% or less, and the pentanuclear or more content is 45 area% or less in the measurement in GPC. Moreover, it is preferable that number average molecular weights are 350-700.

페놀류와 가교제의 몰비는, 가교제 1 몰에 대한 페놀류의 몰비 (페놀류/가교제) 로 나타내고, 그 몰비가 1 이상인 비율로 제조되지만, 몰비가 큰 경우에는 2 핵체, 3 핵체가 많이 생성되고, 반대로 몰비가 작은 경우에는 5 핵체 이상의 고분자량체가 많이 생성되고, 2 핵체, 3 핵체는 적어진다. 여기서, 식 (2) 로 나타내는 노볼락 수지나 식 (1) 로 나타내는 노볼락형 에폭시 수지에 있어서, 2 핵체, 3 핵체 등의 핵이란, 분자 중에 존재하는 Ar 의 수를 의미한다. 즉, i 핵체란, 식 (1) 및 식 (2) 에 있어서, n = i-2 의 구조식의 화합물이다. 또, 2 핵체, 3 핵체 등의 비율은, 에폭시화하기 전의 노볼락 수지류 중의 비율과도 관계되지만, 에폭시화의 조건에 따라서도 변화되므로, 노볼락형 에폭시 수지에 대하여 상기 범위가 되도록 한다. 그 때문에, 페놀류와 가교제의 몰비 (페놀류/가교제) 는, 바람직하게는 3 이상 6 이하, 보다 바람직하게는 4 이상 5 이하이다.The molar ratio of phenols and crosslinking agent is expressed by the molar ratio of phenols to 1 mole of crosslinking agent (phenols/crosslinking agent), and the molar ratio is prepared in a ratio of 1 or more. When is small, many high molecular weight substances of pentanuclear or higher are produced, and the number of dinuclear and trinuclear is decreased. Here, in the novolac resin represented by Formula (2) or the novolac-type epoxy resin represented by Formula (1), nuclei, such as a dinuclear body and a trinuclear body, mean the number of Ar present in a molecule|numerator. That is, the i-nuclear body is a compound of the structural formula of n=i-2 in Formulas (1) and (2). The ratio of the dinuclear body, the trinuclear body, etc. is related to the ratio in the novolac resins before epoxidation, but also changes depending on the conditions of the epoxidation, so it should be within the above range for the novolac-type epoxy resin. Therefore, the molar ratio of phenols and crosslinking agent (phenols/crosslinking agent) becomes like this. Preferably it is 3 or more and 6 or less, More preferably, it is 4 or more and 5 or less.

이와 같이 페놀류와 가교제의 몰비를 조정하여 얻어진 노볼락 수지류에 대하여 저분자량 성분을 감소 또는 제거함으로써, 특정 분자량 분포를 갖는 노볼락 수지를 얻을 수 있다. 이 경우, 저분자량 성분, 특히 2 핵체를 감소 또는 제거하는 방법으로는, 각종 용매의 용해성 차이를 이용하는 방법, 알칼리 수용액에 용해시키는 방법, 그 밖의 공지된 분리 방법 등을 들 수 있다.As described above, by adjusting the molar ratio of the phenols and the crosslinking agent to the novolac resins obtained by reducing or removing low molecular weight components, a novolac resin having a specific molecular weight distribution can be obtained. In this case, as a method of reducing or removing a low molecular weight component, especially a dinuclear body, the method of using the solubility difference of various solvent, the method of dissolving in aqueous alkali solution, other well-known separation methods, etc. are mentioned.

특정 분자량 분포를 갖는 노볼락 수지에 공지된 에폭시화의 수법을 이용하여, 본 발명에서 사용하는 특정 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 또는 시판되는 노볼락형 에폭시 수지로부터 저분자량 성분, 특히 2 핵체 성분을 각종 방법에 의해 감소 또는 제거함으로써도 특정 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지를 얻을 수 있다.A novolac-type epoxy resin having a specific molecular weight distribution used in the present invention can be obtained by using a known epoxidation method for a novolac resin having a specific molecular weight distribution. Alternatively, a novolak-type epoxy resin having a specific molecular weight distribution can be obtained by reducing or removing a low molecular weight component, particularly a dinuclear component, by various methods from a commercially available novolak-type epoxy resin.

본 발명에서 사용하는 노볼락형 에폭시 수지는, GPC 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 15 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 5 핵체 이상의 함유율이 45 면적% 이하이고, 수 평균 분자량이 350 이상 700 이하인 분자량 분포를 갖는 것이다. 이로써, 유전성, 내열성, 접착성이 우수한 원하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 또한, 전체 면적은 2 핵체 이상의 면적의 합계이다.The novolac-type epoxy resin used in the present invention has a dinuclear content of 15 area% or less in GPC measurement, a trinuclear content of 15 area% or more and 60 area% or less, and a pentanuclear content of 45 area% or less, , having a molecular weight distribution having a number average molecular weight of 350 or more and 700 or less. Thereby, a desired oxazolidone ring-containing epoxy resin excellent in dielectric properties, heat resistance and adhesiveness can be obtained. In addition, the total area is the sum total of the areas of a dinuclear body or more.

2 핵체 함유율이 20 면적% 이하이고, 15 면적% 이하가 바람직하고, 5 면적% 이상 12 면적% 이하가 보다 바람직하다. 2 핵체 함유율이 20 면적% 를 초과하면, 내열성이 서서히 저하된다. 2 핵체가 지나치게 적으면, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로서의 수지 점도가 높아져 버릴 우려가 있다. 3 핵체 함유율은, 15 면적% 이상 60 면적% 이하이고, 15 면적% 이상 50 면적% 이하가 보다 바람직하고, 15 면적% 이상 35 면적% 이하가 더욱 바람직하다. 3 핵체의 함유율이 15 면적% 미만에서는, 옥사졸리돈 고리 함유량을 높게 할 수 없고, 또 내열성이 열등할 우려가 있으며, 60 면적% 를 초과하는 경우에는 접착성이 열등할 우려가 있다. 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하이고, 40 면적% 이하가 보다 바람직하고, 30 면적% 이하가 더욱 바람직하다. 5 핵체 이상의 함유율이 45 면적% 이하이면 접착성을 저하시키지 않고 보다 내열성이 높은 경화물을 얻을 수 있다. 5 핵체의 함유율이 지나치게 많으면, 옥사졸리돈 고리 함유량을 높게 할 수 없고, 유전 특성의 향상 효과가 발휘되지 않을 뿐만 아니라 제조시의 겔화가 진행되어 목적으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지가 얻어지지 않을 우려가 있다. 또한, 4 핵체의 함유율에 관해서는 특별히 규정하는 것은 아니지만, 3 핵체와 4 핵체의 함유율의 합계가 15 면적% 이상 85 면적% 이하인 것이 바람직하고, 30 면적% 이상 70 면적% 이하인 것이 보다 바람직하고, 40 면적% 이상 60 면적% 가 더욱 바람직하다. 이 범위로 함으로써, 이소시아네이트 변성시켰을 때의 분자량 증가를 억제할 수 있기 때문에 옥사졸리돈 고리 함유 비율을 향상시킬 수 있게 된다. 3 핵체와 4 핵체의 효과를 비교하면, 3 핵체는 보다 접착성을 향상시키고, 4 핵체는 보다 내열성을 향상시킨다. 이로써 유전특성, 내열성, 접착성 등의 수지 물성이 개선된다.A dinuclear body content rate is 20 area% or less, 15 area% or less is preferable, and 5 area% or more and 12 area% or less are more preferable. When the dinuclear content exceeds 20 area %, heat resistance will fall gradually. When there are too few dinuclear bodies, there exists a possibility that the resin viscosity as an oxazolidone ring containing epoxy resin may become high. The trinuclear content is 15 area% or more and 60 area% or less, more preferably 15 area% or more and 50 area% or less, and still more preferably 15 area% or more and 35 area% or less. If the trinuclear content is less than 15 area%, the oxazolidone ring content cannot be made high, and there is a fear that the heat resistance may be inferior. The content rate of pentanuclear or more is 45 area% or less, 40 area% or less is more preferable, 30 area% or less is still more preferable. If the content rate of pentanuclear or more is 45 area% or less, the hardened|cured material with higher heat resistance can be obtained without reducing adhesiveness. If the content of the pentanuclear body is too large, the content of the oxazolidone ring cannot be increased, the effect of improving the dielectric properties is not exhibited, and gelation during manufacture proceeds, so that the target epoxy resin containing an oxazolidone ring cannot be obtained. there is a fear that it will not In addition, although the content rate of a tetranuclear body is not specifically prescribed|regulated, it is preferable that the total content of a trinuclear body and a tetranuclear body is 15 area% or more and 85 area% or less, It is more preferable that it is 30 area% or more and 70 area% or less, 40 area% or more and 60 area% are more preferable. By setting it as this range, since molecular weight increase at the time of making it isocyanate modification|denaturation can be suppressed, it becomes possible to improve the oxazolidone ring content rate. Comparing the effects of the trinuclear body and the tetranuclear body, the trinuclear body improves adhesion more, and the tetranuclear body improves heat resistance more. As a result, the physical properties of the resin such as dielectric properties, heat resistance, and adhesion are improved.

수 평균 분자량은 350 이상 700 이하이고, 380 이상 600 이하가 보다 바람직하다. 수 평균 분자량이 700 을 초과하는 경우에는, 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 점도가 높아져, 작업성이나 기재 함침성에 악영향을 미칠 우려가 있다. 한편, 수 평균 분자량이 350 미만이 되면, 내열성이 현저하게 열등할 우려가 있다.They are 350 or more and 700 or less, and, as for a number average molecular weight, 380 or more and 600 or less are more preferable. When the number average molecular weight exceeds 700, the viscosity of the obtained oxazolidone ring-containing epoxy resin becomes high, and there is a risk of adversely affecting workability and impregnating properties of the substrate. On the other hand, when a number average molecular weight will be less than 350, there exists a possibility that heat resistance may be remarkably inferior.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 제조하려면, 에폭시 수지 (a) 와 함께, 이소시아네이트 화합물 (b) 를 사용한다. 이 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응에 의해, 원하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 이 이소시아네이트 화합물 (b) 는, 분자 내에 이소시아네이트기 (-N=C=O) 를 복수 갖는 이소시아네이트 화합물이면 되고 공지 관용의 이소시아네이트 화합물을 사용할 수 있다.In order to manufacture the oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention, an isocyanate compound (b) is used with an epoxy resin (a). A desired oxazolidone ring containing epoxy resin can be obtained by reaction of this epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b). As this isocyanate compound (b), what is necessary is just an isocyanate compound which has two or more isocyanate groups (-N=C=O) in a molecule|numerator, and a well-known and usual isocyanate compound can be used.

구체적으로는 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 트랜스시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 메탄디이소시아네이트, 부탄-1,1-디이소시아네이트, 에탄-1,2-디이소시아네이트, 부탄-1,2-디이소시아네이트, 트랜스비닐렌디이소시아네이트, 프로판-1,3-디이소시아네이트, 부탄-1,4-디이소시아네이트, 2-부텐-1,4-디이소시아네이트, 2-메틸부텐-1,4-디이소시아네이트, 2-메틸부탄-1,4-디이소시아네이트, 펜탄-1,5-디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄-1,5-디이소시아네이트, 헥산-1,6-디이소시아네이트, 헵탄-1,7-디이소시아네이트, 옥탄-1,8-디이소시아네이트, 노난-1,9-디이소시아네이트, 데칸-1,10-디이소시아네이트, 디메틸실란디이소시아네이트, 디페닐실란디이소시아네이트, ω,ω'-1,3-디메틸벤젠디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸벤젠디이소시아네이트, ω,ω'-1,3-디메틸시클로헥산디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸시클로헥산디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸나프탈렌디이소시아네이트, ω,ω'-1,5-디메틸나프탈렌디이소시아네이트, 시클로헥산-1,3-디이소시아네이트, 시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,4-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,5-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,6-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-3,5-디이소시아네이트, 디페닐에테르-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐에테르-2,4'-디이소시아네이트, 나프탈렌-1,4-디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸비스페닐-4,4'-디이소시아네이트, 2,3'-디메톡시비스페닐-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디메톡시디페닐메탄-3,3'-디이소시아네이트, 디페닐술파이트-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐술폰-4,4'-디이소시아네이트 등의 2 관능 이소시아네이트 화합물이나, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(4-페닐이소시아네이트티오포스페이트)-3,3',4,4'-디페닐메탄테트라이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트 화합물이나, 상기 이소시아네이트 화합물의 2 량체나 3 량체 등의 중합체나, 알코올이나 페놀 등의 블록제에 의해 마스크된 블록형 이소시아네이트나, 비스우레탄 화합물 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 이소시아네이트 화합물은 1 종류 혹은 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specifically, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexamethylene Diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, transcyclohexane-1,4-diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, undecane triisocyanate, 1,8-di Isocyanate-4-isocyanatemethyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, methane diisocyanate, butane-1,1-diisocyanate, ethane-1,2-diisocyanate, butane-1 ,2-diisocyanate, transvinylene diisocyanate, propane-1,3-diisocyanate, butane-1,4-diisocyanate, 2-butene-1,4-diisocyanate, 2-methylbutene-1,4-di Isocyanate, 2-methylbutane-1,4-diisocyanate, pentane-1,5-diisocyanate, 2,2-dimethylpentane-1,5-diisocyanate, hexane-1,6-diisocyanate, heptane-1, 7-diisocyanate, octane-1,8-diisocyanate, nonane-1,9-diisocyanate, decane-1,10-diisocyanate, dimethylsilane diisocyanate, diphenylsilane diisocyanate, ω,ω'-1, 3-dimethylbenzene diisocyanate, ω,ω′-1,4-dimethylbenzenediisocyanate, ω,ω′-1,3-dimethylcyclohexanediisocyanate, ω,ω′-1,4-dimethylcyclohexanediisocyanate , ω,ω'-1,4-dimethylnaphthalene diisocyanate, ω,ω'-1,5-dimethylnaphthalene diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, dish Chlohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-phenylenediisocyanate, 1,4-phenylenediiso Cyanate, 1-methylbenzene-2,4-diisocyanate, 1-methylbenzene-2,5-diisocyanate, 1-methylbenzene-2,6-diisocyanate, 1-methylbenzene-3,5-diisocyanate , diphenyl ether-4,4'-diisocyanate, diphenyl ether-2,4'-diisocyanate, naphthalene-1,4-diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, biphenyl-4,4' -diisocyanate, 3,3'-dimethylbisphenyl-4,4'-diisocyanate, 2,3'-dimethoxybisphenyl-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate , 3,3'-dimethoxydiphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 4,4'-dimethoxydiphenylmethane-3,3'-diisocyanate, diphenylsulfite-4,4'-di Bifunctional isocyanate compounds such as isocyanate and diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris(4-phenylisocyanatethiophosphate)-3,3',4; Polyfunctional isocyanate compounds such as 4'-diphenylmethane tetraisocyanate, polymers such as dimers and trimers of the isocyanate compound, block-type isocyanates masked with a blocking agent such as alcohol or phenol, bisurethane compounds, etc. can be mentioned, but is not limited thereto. You may use these isocyanate compounds 1 type or in combination of 2 or more types.

이들 이소시아네이트 화합물 중, 바람직하게는 2 관능 이소시아네이트 화합물 또는 3 관능 이소시아네이트 화합물이고, 더욱 바람직하게는 2 관능 이소시아네이트 화합물이다. 이소시아네이트 화합물의 관능기수가 많으면 저장 안정성이 저하될 우려가 있고, 적으면 내열성이나 유전 특성이 향상되지 않을 우려가 있다. 2 관능 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 트랜스시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트가 바람직하다.Among these isocyanate compounds, Preferably it is a bifunctional isocyanate compound or a trifunctional isocyanate compound, More preferably, it is a bifunctional isocyanate compound. When there are many functional groups of an isocyanate compound, there exists a possibility that storage stability may fall, and when there are few, there exists a possibility that heat resistance or dielectric property may not improve. Examples of the bifunctional isocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and 1,3-bis(isocyanato). Methyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, transcyclohexane- 1,4-diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate and tetramethylxylene diisocyanate are preferable.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응은 공지된 방법으로 실시할 수 있다. 구체적인 반응 방법으로는, (1) 에폭시 수지 (a) 를 용융하고, 건조 가스 퍼지나 계 내를 감압으로 하는 등의 방법으로 에폭시 수지 중의 수분을 제거한 후, 이소시아네이트 화합물 (b) 와 촉매를 첨가하여 반응을 실시하는 방법, 또 (2) 에폭시 수지 (a) 와 촉매를 미리 혼합해 두고, 건조 가스 퍼지나 계 내를 감압으로 하는 등의 방법으로 에폭시 수지 중의 수분을 제거한 후, 상기 이소시아네이트 화합물 (b) 를 첨가하여 반응을 실시하는 방법 등이 있다. 어느 방법에서도, 수지 점도가 높아 교반이 어려운 경우 등 필요하면, 비반응성의 용제를 사용할 수도 있다.Reaction of an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b) can be performed by a well-known method. As a specific reaction method, (1) melt the epoxy resin (a), remove moisture in the epoxy resin by a method such as dry gas purge or reduce the pressure in the system, and then add the isocyanate compound (b) and a catalyst After the water in the epoxy resin is removed by a method for performing the reaction, (2) mixing the epoxy resin (a) and the catalyst in advance, purging a dry gas or reducing the pressure in the system, the isocyanate compound (b) ) to carry out the reaction by adding . In either method, if necessary, such as when the resin viscosity is high and stirring is difficult , a non-reactive solvent can also be used.

옥사졸리돈 고리를 형성하는 반응 기구는 하기 반응식 (7) 로 나타낸다. 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 는 촉매를 첨가함으로써, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 반응하여 옥사졸리돈 고리를 형성한다.The reaction mechanism for forming the oxazolidone ring is represented by the following reaction formula (7). The epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) react with the epoxy group of the epoxy resin (a) and the isocyanate group of the isocyanate compound (b) by adding a catalyst to form an oxazolidone ring.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112015107036614-pat00005
Figure 112015107036614-pat00005

에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 당량에 대하여, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기를 0.02 당량 이상 0.6 당량 이하의 범위에서 반응시키는 것이 바람직하다. 이소시아네이트기의 비율이 낮으면 유전 특성이나 내열성의 향상 효과가 얻어지지 않을 우려가 있다. 또, 이소시아네이트기의 비율이 많으면, 반응시에 증점이 격렬하여 원하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지가 얻어지지 않을 우려가 있다. 또, 용제 용해성이 악화되어 적층판 용도로 사용할 수 없게 될 우려가 있다. 0.1 당량 이상 0.5 당량 이하의 범위가 보다 바람직하고, 0.2 당량 이상 0.4 당량 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 여기서, 에폭시기 1 당량과 이소시아네이트기 1 당량은, 에폭시기 1 몰과 이소시아네이트기 1 몰과 동일하다.It is preferable to make the isocyanate group of an isocyanate compound (b) react in 0.02 equivalent or more and 0.6 equivalent or less with respect to 1 equivalent of the epoxy group of an epoxy resin (a). When the ratio of isocyanate groups is low, there exists a possibility that the improvement effect of a dielectric characteristic or heat resistance may not be acquired. Moreover, when there are many ratios of an isocyanate group, there exists a possibility that a desired oxazolidone ring containing epoxy resin may not be obtained because thickening is intense at the time of reaction. Moreover, there exists a possibility that solvent solubility may deteriorate and it may become impossible to use for a laminated board use. The range of 0.1 equivalent or more and 0.5 equivalent or less is more preferable, and the range of 0.2 equivalent or more and 0.4 equivalent or less is still more preferable. Here, 1 equivalent of an epoxy group and 1 equivalent of an isocyanate group are the same as 1 mole of an epoxy group and 1 mole of an isocyanate group.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응은, 촉매를 첨가하여 실시하는 것이 바람직하다. 촉매의 첨가 온도는, 실온 ∼ 150 ℃ 의 범위에서 실시하는 것이 바람직하고, 실온 ∼ 100 ℃ 의 범위가 보다 바람직하다.It is preferable to add a catalyst and to perform reaction of an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b). It is preferable to implement in the range of room temperature - 150 degreeC, and, as for the addition temperature of a catalyst, the range of room temperature - 100 degreeC is more preferable.

반응 온도는, 100 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 범위가 바람직하고, 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하의 범위가 보다 바람직하고, 120 ℃ 이상 160 ℃ 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 반응 온도가 낮으면 옥사졸리돈 고리 형성이 충분히 이루어지지 않고, 이소시아네이트기의 3 량화 반응에 의한 이소시아누레이트 고리를 형성할 우려가 있다. 또, 반응 온도가 높으면 국소적인 고분자량화가 일어나고, 불용해성의 겔 성분의 생성이 많아질 우려가 있다. 그 때문에, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 속도를 조정할 필요가 있다. 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 속도가 빠르면 발열에 대하여 냉각이 늦어져 바람직한 반응 온도를 유지할 수 없게 될 우려가 있다. 또, 첨가 속도가 느리면 생산성이 저하될 우려가 있다.The reaction temperature is preferably in the range of 100°C or more and 250°C or less, more preferably in the range of 100°C or more and 200°C or less, and still more preferably in the range of 120°C or more and 160°C or less. When the reaction temperature is low, the oxazolidone ring is not sufficiently formed, and there is a risk of forming an isocyanurate ring by the trimerization of the isocyanate group. In addition, when the reaction temperature is high, local high molecular weight occurs and there is a fear that the production of insoluble gel components increases. Therefore, it is necessary to adjust the addition rate of the isocyanate compound (b). When the addition rate of the isocyanate compound (b) is high, cooling may be delayed due to heat generation, and there is a fear that the desired reaction temperature cannot be maintained. Moreover, when an addition rate is slow, there exists a possibility that productivity may fall.

반응 시간은 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 종료로부터 15 분 ∼ 10 시간의 범위가 바람직하고, 30 분 ∼ 8 시간이 보다 바람직하고, 1 시간 ∼ 5 시간이 더욱 바람직하다. 이것은, 반응 시간이 짧으면 이소시아네이트기가 생성물에 많이 잔류할 우려가 있다. 또, 반응 시간이 길면 생산성이 저하될 우려가 있다.The reaction time is preferably in the range of 15 minutes to 10 hours from completion of the addition of the isocyanate compound (b), more preferably 30 minutes to 8 hours, and still more preferably 1 hour to 5 hours. As for this, when reaction time is short, there exists a possibility that many isocyanate groups may remain in a product. Moreover, when reaction time is long, there exists a possibility that productivity may fall.

사용할 수 있는 촉매로는, 구체적으로는 염화리튬, 부톡시리튬 등의 리튬 화합물류, 3 불화붕소의 착염류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄요오디드, 테트라에틸암모늄요오디드 등의 4 급 암모늄염류, 디메틸아미노에탈, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질디메틸아민, N-메틸모르폴린 등의 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 등의 포스핀류, 아밀트리페닐포스포늄브로마이드, 디알릴디페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오디드, 테트라부틸포스포늄아세테이트·아세트산 착물, 테트라부틸포스포늄아세테이트, 테트라부틸포스포늄클로라이드, 테트라부틸포스포늄브로마이드, 테트라부틸요오드이드 등의 포스포늄염류, 트리페닐안티몬 및 요오드의 조합, 2-페닐이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류 등, 수산화나트륨 등의 알칼리 금속 산화물류 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 촉매는 1 종류 또는 2 종류 이상 병용해도 된다. 또, 분할하여 몇 차례로 나누어 사용해도 된다.Specific examples of the catalyst that can be used include lithium compounds such as lithium chloride and lithium butoxy, complex salts of boron trifluoride, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, Quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium iodide, tertiary amines such as dimethylaminoethal, triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine, and N-methylmorpholine; triphenylphosphine, tris(2,6) -Phosphines such as dimethoxyphenyl) phosphine, amyltriphenylphosphonium bromide, diallyldiphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide, tetra Phosphonium salts such as butylphosphonium acetate/acetic acid complex, tetrabutylphosphonium acetate, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, and tetrabutyliodide, a combination of triphenylantimony and iodine, 2-phenylimidazole , 2-methylimidazole and imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, and alkali metal oxides such as sodium hydroxide. Or you may use together 2 or more types. Moreover, you may divide and divide and use it several times.

촉매량은 특별히 한정되지 않지만, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 합계 질량에 대하여, 0.001 질량% 이상 5 질량% 이하로 사용하면 되고, 0.005 질량% 이상 1 질량% 이하가 바람직하고, 0.005 질량% 이상 0.5 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 촉매량이 많으면 경우에 따라서는 에폭시기의 자기 중합 반응이 진행되기 때문에, 수지 점도가 높아질 우려가 있다. 또, 이소시아네이트의 자기 중합 반응이 촉진되어 옥사졸리돈 고리의 생성이 억제될 우려가 있다. 또한, 생성 수지 중에 불순물로서 잔류하여, 각종 용도, 특히 적층판이나 봉지재의 재료로서 사용한 경우에, 절연성의 저하나 내습성의 저하를 초래할 우려가 있다. 촉매량이 적으면 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻기 위한 효율의 저하를 초래할 우려가 있다.Although the amount of catalyst is not particularly limited, with respect to the total mass of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), 0.001 mass% or more and 5 mass% or less may be used, preferably 0.005 mass% or more and 1 mass% or less, 0.005 Mass % or more and 0.5 mass % or less are more preferable, and 0.001 mass % or more and 0.2 mass % or less are still more preferable. When there is much catalyst amount, since self-polymerization reaction of an epoxy group advances in some cases, there exists a possibility that resin viscosity may become high. Moreover, there exists a possibility that the self-polymerization reaction of an isocyanate may be accelerated|stimulated, and generation|occurrence|production of an oxazolidone ring may be suppressed. Moreover, it remains as an impurity in the produced resin, and when it uses as a material for various uses, especially a laminated board or a sealing material, there exists a possibility of causing the fall of insulation or moisture resistance. When there is little catalyst amount, there exists a possibility of causing the fall of the efficiency for obtaining an oxazolidone ring containing epoxy resin.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응을 실시할 때, 필요에 따라 그 밖의 각종 에폭시 수지를 본 발명의 작용 효과에 영향이 없는 범위에서 병용할 수도 있다. 병용할 수 있는 에폭시 수지로는, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YD-127, 에포토트 YD-128, 에포토트 YD-8125, 에포토트 YD-825GS (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDF-170, 에포토트 YDF-1500, 에포토트 YDF-8170, 에포토트 YDF-870GS (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 테트라메틸비스페놀 F 형 에폭시 수지, 예를 들어 YSLV-80XY, YSLV-70XY (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비페놀형 에폭시 수지, 예를 들어 YX-4000 (미츠비시 화학 주식회사 제조), ZX-1251 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDC-1312, ZX-1027 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 예를 들어 ZX-1201 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 예를 들어 ZX-1355 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 예를 들어 TX-0710 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피크론 EXA-1515 (다이닛폰 화학 공업 주식회사 제조), 비스티오에테르형 에폭시 수지, 예를 들어 YSLV-120TE (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 레조르시놀형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1684 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜에테르 화합물, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜에테르, 예를 들어 에포토트 YH-434, 에포토트 YH-434GS (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-벤젠디(메탄아민), 예를 들어 TETRAD-X (미츠비시 가스 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜아민 화합물, 다이머산형 에폭시 수지, 예를 들어 YD-171 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜에스테르 화합물, 지방족 고리형 에폭시 수지, 예를 들어 셀록사이드 (등록상표) 2021 (다이셀 화학 공업 주식회사 제조) 등의 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다. 이러한 병용할 수 있는 에폭시 수지 중에서는, 비페놀형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 비스티오에테르형 에폭시 수지, 레조르시놀형 에폭시 수지 등의 2 관능 에폭시 수지가 바람직하다. 2 관능 에폭시 수지를 소량 병용함으로써, 본 발명의 효과를 저해시키지 않고 이소시아네이트 화합물 (b) 의 사용량의 증가가 가능해져 보다 유전 특성을 향상시킬 수 있다. 사용할 수 있는 양은 35 질량% 이하가 바람직하고, 20 질량% 이하가 보다 바람직하다.When performing reaction of an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b), you can also use together other various epoxy resins as needed in the range which does not affect the effect of this invention. As an epoxy resin which can be used together, a bisphenol A epoxy resin, for example, Epototte YD-127, Epototte YD-128, Epototte YD-8125, Epototte YD-825GS (Shin-Nitetsu Sumikin) Chemical Co., Ltd.), bisphenol F-type epoxy resin, for example, EPOTOT YDF-170, EPOTOT YDF-1500, EPOTOT YDF-8170, EPOTOT YDF-870GS (made by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.) , tetramethylbisphenol F-type epoxy resin, for example YSLV-80XY, YSLV-70XY (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), biphenol-type epoxy resin such as YX-4000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), ZX- 1251 (manufactured by Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), a hydroquinone type epoxy resin, such as EPOTOT YDC-1312, ZX-1027 (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), a bisphenol fluorene type epoxy resin, such as ZX-1201 (manufactured by Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), naphthalenediol type epoxy resin such as ZX-1355 (manufactured by Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), bisphenol S type epoxy resin such as TX-0710 (Shin-Nippon Chemical Co., Ltd.) Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epicron EXA-1515 (Dainippon Chemical Industry Co., Ltd.), bisthioether type epoxy resin, such as YSLV-120TE (made by Shin-Nippon Chemical Co., Ltd.), resorcinol type epoxy resin, For example, polyglycidyl ether compounds, such as Epototh ZX-1684 (made by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), diamino diphenylmethane tetraglycidyl ether, For example, Epototte YH-434, Epoto YH-434GS (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), N,N,N',N'-tetraglycidyl-1,3-benzenedi(methanamine), such as TETRAD-X (Mitsubishi Gas Chemicals) Polyglycidylamine compounds, such as a polyglycidylamine compound (manufactured by Co., Ltd.), dimer acid type epoxy resins, for example, polyglycidyl ester compounds such as YD-171 (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.); Aliphatic cyclic epoxy resins, for example, alicyclic epoxy compounds such as Celoxide (registered trademark) 2021 (manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), etc. are mentioned, but are not limited thereto, and these epoxy resins may be used alone may be used, and two or more types may be used in combination. Among the epoxy resins that can be used in combination, 2 such as a biphenol type epoxy resin, a hydroquinone type epoxy resin, a bisphenol fluorene type epoxy resin, a naphthalenediol type epoxy resin, a bisthioether type epoxy resin, and a resorcinol type epoxy resin A functional epoxy resin is preferred. By using together a small amount of a bifunctional epoxy resin, the increase in the usage-amount of an isocyanate compound (b) becomes possible without impairing the effect of this invention, and a dielectric characteristic can be improved more. 35 mass % or less is preferable and, as for the quantity which can be used, 20 mass % or less is more preferable.

또, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응을 실시할 때, 본 발명의 작용 효과에 영향이 없는 범위에서, 추가로 각종 에폭시 수지 변성제를 사용함으로써 분자량 (에폭시 당량) 등을 조정할 수도 있다. 사용할 수 있는 양은, 에폭시 수지 (a) 100 질량부에 대하여, 30 질량부 이하가 바람직하고, 20 질량부 이하가 보다 바람직하고, 10 질량부 이하가 더욱 바람직하다.In addition, when carrying out the reaction of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), the molecular weight (epoxy equivalent), etc. can be adjusted by further using various epoxy resin modifiers within a range that does not affect the effect of the present invention. there is. 30 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of epoxy resins (a), as for the quantity which can be used, 20 mass parts or less are more preferable, and its 10 mass parts or less are still more preferable.

사용할 수 있는 에폭시 수지 변성제로는, 구체적으로는 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 테트라부틸비스페놀 A, 비스페놀 Z, 비스페놀 TMC, 하이드로퀴논, 메틸하이드로퀴논, 디메틸하이드로퀴논, 디부틸하이드로퀴논, 레조르신, 메틸레조르신, 비페놀, 테트라메틸비페놀, 디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시디페닐에테르, 디하이드록시스틸벤류, 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지, 비스페놀 A 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔페놀 수지, 페놀아르알킬 수지, 나프톨노볼락 수지, 스티렌화 페놀노볼락 수지, 테르펜페놀 수지, 중질유 변성 페놀 수지 등의 다양한 페놀류나, 다양한 페놀류와, 하이드록시벤즈알데히드, 크로톤알데히드, 글리옥살 등의 다양한 알데히드류의 축합 반응으로 얻어지는 다가 페놀 수지나, 아닐린, 페닐렌디아민, 톨루이딘, 자일리딘, 디에틸톨루엔디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐에탄, 디아미노디페닐프로판, 디아미노디페닐케톤, 디아미노디페닐술파이드, 디아미노디페닐술폰, 비스(아미노페닐)플루오렌, 디아미노디에틸디메틸디페닐메탄, 디아미노디페닐에테르, 디아미노벤즈아닐리드, 디아미노비페닐, 디메틸디아미노비페닐, 비페닐테트라아민, 비스아미노페닐안트라센, 비스아미노페녹시벤젠, 비스아미노페녹시페닐에테르, 비스아미노페녹시비페닐, 비스아미노페녹시페닐술폰, 비스아미노페녹시페닐프로판, 디아미노나프탈렌 등의 아민 화합물을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 에폭시 수지 변성제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the epoxy resin modifier that can be used include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, tetrabutylbisphenol A, bisphenol Z, bisphenol TMC, hydroquinone, methylhydroquinone, dimethylhydroquinone, dibutylhydroquinone, resorcin , methylresorcin, biphenol, tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene, dihydroxydiphenyl ether, dihydroxystilbenes, phenol novolac resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolak resin, dicyclopenta Various phenols such as diene phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol novolak resin, styrenated phenol novolak resin, terpene phenol resin, heavy oil modified phenol resin, various phenols, hydroxybenzaldehyde, crotonaldehyde, glyoxal, etc. Polyhydric phenol resins obtained by condensation reaction of various aldehydes, aniline, phenylenediamine, toluidine, xylidine, diethyltoluenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylethane, diaminodiphenylpropane, diaminodi Phenyl ketone, diaminodiphenyl sulfide, diaminodiphenyl sulfone, bis(aminophenyl)fluorene, diaminodiethyldimethyldiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, diaminobenzanilide, diaminobiphenyl, dimethyl Diaminobiphenyl, biphenyltetraamine, bisaminophenylanthracene, bisaminophenoxybenzene, bisaminophenoxyphenyl ether, bisaminophenoxybiphenyl, bisaminophenoxyphenylsulfone, bisaminophenoxyphenylpropane, diamino Although amine compounds, such as naphthalene, are mentioned, It is not limited to these, These epoxy resin modifiers may be used independently and may use 2 or more types together.

또, 필요에 따라 비반응성 용제를 사용해도 된다. 구체적으로는 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸, 디메틸부탄, 펜텐, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등의 각종 탄화수소, 에틸에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 에틸페닐에테르, 아밀페닐에테르, 에틸벤질에테르, 디옥산, 메틸푸란, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 메틸에틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 비반응성 용제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 혼합하여 사용해도 된다.Moreover, you may use a non-reactive solvent as needed. Specifically, various hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, decane, dimethylbutane, pentene, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, ethyl ether, isopropyl ether, butyl ether, diisoamyl Ethers such as ether, methylphenyl ether, ethylphenyl ether, amylphenyl ether, ethylbenzyl ether, dioxane, methylfuran, tetrahydrofuran, methylcellosolve, methylcellosolve acetate, ethylcellosolve, cellosolve acetate , ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, etc., but are not limited thereto, and these non-reactive solvents can be used alone You may use it, and you may use it in mixture of 2 or more types.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 에폭시 수지의 구조에 있어서 옥사졸리돈 고리를 함유한다. 옥사졸리돈 고리의 존재는, IR 측정으로 확인할 수 있다. 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크가 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 나타난다.The oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention contains an oxazolidone ring in the structure of the epoxy resin. The presence of the oxazolidone ring can be confirmed by IR measurement. When analyzed by the total reflection measurement method (ATR method), a peak derived from stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring appears at 1745 to 1760 cm -1 .

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 200 g/eq. 이상 500 g/eq. 이하의 범위가 바람직하고, 250 g/eq. 이상 400 g/eq. 이하의 범위가 보다 바람직하고, 250 g/eq. 이상 350 g/eq. 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 에폭시 당량이 낮으면, 옥사졸리돈 고리의 함유량이 적어지고, 또 경화물 중의 수산기 농도가 높아지기 때문에, 유전율이 높아질 우려가 있다. 또, 에폭시 당량이 높으면, 옥사졸리돈 고리의 함유량이 필요 이상으로 많아져, 유전 특성의 향상 효과보다 용제 용해성의 악화나 수지 점도의 증대와 같은 악영향이 많아질 우려가 있다. 또, 경화물의 가교 밀도가 낮아지는 점에서 땜납 리플로우의 온도에 있어서 탄성률이 저하되는 등 사용상에 문제가 될 우려가 있다.The epoxy equivalent of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is 200 g/eq. more than 500 g/eq. The following ranges are preferred, 250 g/eq. more than 400 g/eq. The following ranges are more preferable, 250 g/eq. more than 350 g/eq. The following ranges are more preferable. When the epoxy equivalent is low, the content of the oxazolidone ring decreases and the concentration of hydroxyl groups in the cured product increases, so that there is a fear that the dielectric constant becomes high. Moreover, when an epoxy equivalent is high, content of an oxazolidone ring increases more than necessary, and there exists a possibility that adverse effects, such as deterioration of solvent solubility and increase of resin viscosity, may increase rather than the improvement effect of a dielectric property. Moreover, since the crosslinking density of a hardened|cured material becomes low, there exists a possibility that it may become a problem in use, such as an elasticity modulus falling at the temperature of solder reflow.

또, 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 연화점은, 프리프레그나 필름 재료에 사용하는 경우에는 50 ℃ ∼ 150 ℃ 가 바람직하고, 65 ℃ ∼ 135 ℃ 가 보다 바람직하고, 70 ℃ ∼ 110 ℃ 가 더욱 바람직하다. 연화점이 낮으면 수지 바니시를 유리 클로스 함침시킨 후, 오븐 중에서 가열 건조시킬 때에 점도가 낮기 때문에 수지의 부착량이 적어질 우려가 있다. 또, 연화점이 높으면 수지 점도가 높아져, 프리프레그에 대한 함침성의 악화나, 용제 용해성의 악화나, 가열 건조시킬 때에 희석 용매가 휘발되지 않고 수지 중에 잔존하는 점에서 적층판을 제조할 때에 보이드가 발생하는 등 사용상에 문제가 될 우려가 있다.Further, the softening point of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is preferably 50°C to 150°C, more preferably 65°C to 135°C, and more preferably 70°C to 110°C when used for a prepreg or film material. more preferably. When the softening point is low, the resin varnish is impregnated with glass cloth and then dried by heating in an oven, since the viscosity is low, there is a fear that the adhesion amount of the resin decreases. In addition, when the softening point is high, the resin viscosity increases, and the impregnation property to the prepreg deteriorates, the solvent solubility deteriorates, and the dilution solvent does not volatilize when heated and dried and remains in the resin. There is a possibility that it may cause problems in use.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는 경화제를 배합함으로써, 경화성의 에폭시 수지 조성물로 할 수 있다. 경화제로는, 각종 페놀 수지류, 산 무수물류, 아민류, 하이드라지드류, 산성 폴리에스테르류 등의 통상적으로 사용되는 에폭시 수지용 경화제를 사용할 수 있고, 이들 경화제는 1 종류만 사용해도 되고, 2 종류 이상 사용해도 된다. 이들 중, 디시안디아미드 또는 페놀계 경화제가 특히 바람직하다.The oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention can be set as a curable epoxy resin composition by mix|blending a hardening|curing agent. As the curing agent, commonly used curing agents for epoxy resins such as various phenol resins, acid anhydrides, amines, hydrazides, and acidic polyesters can be used. You may use more than one. Of these, dicyandiamide or a phenol-based curing agent is particularly preferable.

에폭시 수지 조성물에 있어서 경화제의 사용량은, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 함유하는 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제의 활성 수소기를 0.2 몰 이상 1.5 몰 이하의 범위이다. 에폭시기 1 몰에 대하여 활성 수소기가 0.2 몰 미만 또는 1.5 몰을 초과하는 경우에는, 경화가 불완전해져 양호한 경화 물성이 얻어지지 않을 우려가 있다. 바람직한 범위는 0.3 몰 이상 1.5 몰 이하이고, 보다 바람직한 범위는 0.5 몰 이상 1.5 몰 이하이고, 더욱 바람직한 범위는 0.8 몰 이상 1.2 몰 이하이다. 예를 들어, 페놀계 경화제나 아민계 경화제를 사용한 경우에는 에폭시기에 대하여 활성 수소기를 거의 등몰 배합하고, 산 무수물계 경화제를 사용한 경우에는 에폭시기 1 몰에 대하여 산 무수물기를 0.5 ∼ 1.2 몰, 바람직하게는 0.6 ∼ 1.0 몰 배합한다.The amount of the curing agent used in the epoxy resin composition is in the range of 0.2 mol or more and 1.5 mol or less of the active hydrogen groups of the curing agent with respect to 1 mol of the epoxy groups of all epoxy resins containing the oxazolidone ring-containing epoxy resin. When the active hydrogen groups are less than 0.2 mol or more than 1.5 mol with respect to 1 mol of the epoxy group, curing may be incomplete and good cured physical properties may not be obtained. A preferable range is 0.3 mol or more and 1.5 mol or less, A more preferable range is 0.5 mol or more and 1.5 mol or less, A more preferable range is 0.8 mol or more and 1.2 mol or less. For example, when a phenol-based curing agent or an amine-based curing agent is used, an active hydrogen group is blended in substantially equimolar amounts with respect to the epoxy group, and when an acid anhydride-based curing agent is used, 0.5 to 1.2 moles of an acid anhydride group with respect to 1 mole of the epoxy group, preferably 0.6-1.0 mol is mix|blended.

본 발명에서 말하는 활성 수소기란, 에폭시기와 반응성의 활성 수소를 갖는 관능기 (가수분해 등에 의해 활성 수소를 발생시키는 잠재성 활성 수소를 갖는 관능기나, 동등한 경화 작용을 나타내는 관능기를 포함한다) 이고, 구체적으로는 산 무수물기나 카르복실기나 아미노기나 페놀성 수산기 등을 들 수 있다. 또한, 활성 수소기에 관해, 1 몰의 카르복실기나 페놀성 수산기는 1 몰과, 아미노기 (NH2) 는 2 몰로 계산된다. 또, 활성 수소기가 명확하지 않은 경우에는, 측정에 의해 활성 수소 당량을 구할 수 있다. 예를 들어, 에폭시 당량이 이미 알려진 페닐글리시딜에테르 등의 모노에폭시 수지와 활성 수소 당량이 아직 알려지지 않은 경화제를 반응시켜, 소비한 모노에폭시 수지의 양을 측정함으로써, 사용한 경화제의 활성 수소 당량을 구할 수 있다.The active hydrogen group as used in the present invention is a functional group having active hydrogen reactive with an epoxy group (including a functional group having a latent active hydrogen generating active hydrogen by hydrolysis, etc., and a functional group exhibiting an equivalent curing action), specifically is an acid anhydride group, a carboxyl group, an amino group, a phenolic hydroxyl group, or the like. In addition, regarding an active hydrogen group, 1 mol of a carboxyl group or phenolic hydroxyl group is calculated by 1 mol, and an amino group (NH2) is calculated by 2 mol. Moreover, when an active hydrogen group is not clear, an active hydrogen equivalent can be calculated|required by measurement. For example, by reacting a monoepoxy resin such as phenyl glycidyl ether with a known epoxy equivalent and a curing agent with an unknown active hydrogen equivalent, and measuring the amount of monoepoxy resin consumed, the active hydrogen equivalent of the used curing agent is determined can be saved

페놀 수지계 경화제로는, 구체예에는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 C, 비스페놀 K, 비스페놀 Z, 비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 Z, 디하이드록시디페닐술파이드, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀) 등의 비스페놀류, 또 카테콜, 레조르신, 메틸레조르신, 하이드로퀴논, 모노메틸하이드로퀴논, 디메틸하이드로퀴논, 트리메틸하이드로퀴논, 모노-tert-부틸하이드로퀴논, 디-tert-부틸하이드로퀴논 등 디하이드록시벤젠류, 디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시메틸나프탈렌, 디하이드록시메틸나프탈렌, 트리하이드록시나프탈렌 등의 하이드록시나프탈렌류, 쇼우놀 (등록상표) BRG-555 (쇼와 전공 주식회사 제조) 등의 페놀노볼락 수지, DC-5 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조) 등의 크레졸노볼락 수지, 레지톱 (등록상표) TPM-100 (군에이 화학 공업 주식회사 제조) 등의 트리스하이드록시페닐메탄형 노볼락 수지, 나프톨노볼락 수지 등의 페놀류 및/또는 나프톨류와 알데히드류의 축합물, SN-160, SN-395, SN-485 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조) 등의 페놀류 및/또는 나프톨류와 자일렌글리콜의 축합물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 이소프로페닐아세토페논의 축합물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 디시클로펜타디엔의 반응물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 비페닐계 가교제의 축합물 등의 페놀 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the phenol resin curing agent include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol C, bisphenol K, bisphenol Z, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, tetramethylbisphenol Z, dihydride Bisphenols such as hydroxydiphenyl sulfide and 4,4'-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), catechol, resorcin, methylresorcin, hydroquinone, monomethylhydroquinone, dimethyl Dihydroxybenzenes such as hydroquinone, trimethylhydroquinone, mono-tert-butylhydroquinone, di-tert-butylhydroquinone, dihydroxynaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, trihydroxynaphthalene Hydroxynaphthalenes such as hydroxynaphthalene, Shounol (registered trademark), phenol novolac resin such as BRG-555 (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.), cresol novolak resin such as DC-5 (manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), resin Trishydroxyphenylmethane type novolac resin such as TOP (registered trademark) TPM-100 (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), phenols such as naphthol novolak resin and/or condensate of naphthols and aldehydes, SN-160 , SN-395, SN-485 (manufactured by New Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.) and/or condensates of naphthols and xylene glycol, condensates of phenols and/or naphthols and isopropenylacetophenone, phenols and/or phenol compounds such as a reaction product of naphthols and dicyclopentadiene, and a condensate of phenols and/or naphthols and a biphenyl-based crosslinking agent.

이 경우, 페놀류로는, 페놀, 크레졸, 자일레놀, 부틸페놀, 아밀페놀, 노닐페놀, 부틸메틸페놀, 트리메틸페놀, 페닐페놀 등을 들 수 있고, 나프톨류로는, 1-나프톨, 2-나프톨 등을 들 수 있다. 알데히드류로는, 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 부틸알데히드, 발레르알데히드, 카프론알데히드, 벤즈알데히드, 클로르알데히드, 브롬알데히드, 글리옥살, 말론알데히드, 숙신알데히드, 글루타르알데히드, 아디프알데히드, 피멜알데히드, 세바크알데히드, 아크롤레인, 크로톤알데히드, 살리실알데히드, 프탈알데히드, 하이드록시벤즈알데히드 등이 예시된다. 비페닐계 가교제로서, 비스(메틸올)비페닐, 비스(메톡시메틸)비페닐, 비스(에톡시메틸)비페닐, 비스(클로로메틸)비페닐 등을 들 수 있다.In this case, as phenols, phenol, cresol, xylenol, butylphenol, amylphenol, nonylphenol, butylmethylphenol, trimethylphenol, phenylphenol, etc. are mentioned, As naphthols, 1-naphthol, 2- Naphthol etc. are mentioned. Aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde, butyraldehyde, valeraldehyde, capronaldehyde, benzaldehyde, chloraldehyde, bromaldehyde, glyoxal, malonaldehyde, succinaldehyde, glutaraldehyde, adipaldehyde, pimel. Aldehydes, sebacaldehyde, acrolein, crotonaldehyde, salicylaldehyde, phthalaldehyde, hydroxybenzaldehyde and the like are exemplified. Examples of the biphenyl-based crosslinking agent include bis(methylol)biphenyl, bis(methoxymethyl)biphenyl, bis(ethoxymethyl)biphenyl, and bis(chloromethyl)biphenyl.

산 무수물계 경화제로는, 구체적으로는 메틸테트라하이드로무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산, 무수피로멜리트산, 무수프탈산, 무수트리멜리트산, 메틸나드산 등을 들 수 있다.Specific examples of the acid anhydride curing agent include methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, and methylnadic acid.

아민계 경화제로는, 구체적으로는 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 메타자일렌디아민, 이소포론디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디아미노디페닐에테르, 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 디시안디아미드, 다이머산 등의 산류와 폴리아민류의 축합물인 폴리아미드아민 등의 아민계 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the amine curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, metaxylenediamine, isophoronediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylether, benzyldimethylamine, and amine compounds such as polyamideamine which is a condensate of polyamines with acids such as 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, dicyandiamide and dimer acid.

그 밖의 경화제로서, 구체적으로는 트리페닐포스핀 등의 포스핀 화합물, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등의 포스포늄염, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 이미다졸류와 트리멜리트산, 이소시아누르산, 붕소 등의 염인 이미다졸염류, 트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염류, 디아자비시클로 화합물, 디아자비시클로 화합물과 페놀류나 페놀노볼락 수지류 등의 염류, 3 불화붕소와 아민류나 에테르 화합물 등의 착화합물, 방향족 포스포늄, 또는 요오드늄염 등을 들 수 있다.Specific examples of the other curing agent include phosphine compounds such as triphenylphosphine, phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium bromide, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-ethyl-4-methyl imidazoles such as imidazole, 2-undecylimidazole, and 1-cyanoethyl-2-methylimidazole; imidazole salts which are salts of imidazole and trimellitic acid, isocyanuric acid, boron, etc. , quaternary ammonium salts such as trimethylammonium chloride, diazabicyclo compounds, diazabicyclo compounds and salts such as phenols and phenol novolac resins, complex compounds such as boron trifluoride and amines and ether compounds, aromatic phosphonium, or iodine nium salt etc. are mentioned.

또, 필요에 따라, 에폭시 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 이외의 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 에폭시 수지의 구체적인 예로는, 상기 서술한 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 테트라메틸비스페놀 F 형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비스티오에테르형 에폭시 수지, 레조르시놀형 에폭시 수지, 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지, 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 스티렌화 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 알킬노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀노볼락형 에폭시 수지, 나프톨노볼락형 에폭시 수지, β-나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지, α-나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 알킬렌글리콜형 에폭시 수지, 지방족 고리형 에폭시 수지, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜아민, 아미노페놀형 에폭시 수지, 인 함유 에폭시 수지, 우레탄 변성 에폭시 수지, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 또, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Moreover, as needed, epoxy resins other than the oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention can be used in the range which does not impair the physical property of an epoxy resin composition. Specific examples of the epoxy resin that can be used include the above-mentioned bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetramethylbisphenol F type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol fluorene type epoxy resin Resin, bisphenol S type epoxy resin, bisthioether type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, biphenyl aralkylphenol type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, styrenated phenol novolak type epoxy resin Resin, cresol novolak type epoxy resin, alkyl novolak type epoxy resin, bisphenol novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, β-naphthol aralkyl type epoxy resin, dinaphthol aralkyl type epoxy resin, α-naphthol Aralkyl type epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, alkylene glycol type epoxy resin, aliphatic cyclic type epoxy resin, diaminodiphenylmethanetetraglycidyl Although an amine, an aminophenol type epoxy resin, phosphorus containing epoxy resin, a urethane-modified epoxy resin, and an oxazolidone ring containing epoxy resin are mentioned, it is not limited to these. Moreover, these epoxy resins may be used independently and may use 2 or more types together.

에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제의 예로는, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자-비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 제 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리페닐포스핀트리페닐보란 등의 포스핀류, 옥틸산주석 등의 금속 화합물을 들 수 있다. 경화 촉진제는 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 에폭시 수지 성분 100 질량부에 대하여 0.02 질량부 ∼ 5 질량부가 필요에 따라 사용된다. 경화 촉진제를 사용함으로써, 경화 온도를 낮추거나, 경화 시간을 단축시킬 수 있다.A hardening accelerator can be used for an epoxy resin composition as needed. Examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-(dimethylaminomethyl)phenol, 1, Tertiary amines such as 8-diaza-bicyclo(5,4,0)undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, and triphenylphosphine triphenylborane, octylic acid and metal compounds such as tin. 0.02 mass part - 5 mass parts of hardening accelerators are used as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resin components in the epoxy resin composition of this invention. By using a curing accelerator, the curing temperature can be lowered or the curing time can be shortened.

에폭시 수지 조성물에는, 점도 조정용으로서 유기 용제도 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 유기 용제로는, 특별히 규정하는 것은 아니지만, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있고, 이들 용제 중, 단독 또는 복수 종류를 혼합한 것을 에폭시 수지 농도로서 20 질량% ∼ 90 질량% 의 범위로 배합할 수 있다.An organic solvent can also be used for the epoxy resin composition for viscosity adjustment. The organic solvent that can be used is not particularly limited, but amides such as N,N-dimethylformamide, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, etc. Aromatic hydrocarbons, such as alcohol, benzene, and toluene, etc. are mentioned, Among these solvents, single or a mixture of several types can be mix|blended in the range of 20 mass % - 90 mass % as an epoxy resin density|concentration.

또, 필요에 따라, 에폭시 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 희석제를 사용할 수 있다. 희석제는 반응성 희석제가 바람직하지만, 비반응성 희석제이어도 상관없다. 반응성 희석제로는, 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르 등의 단관능, 레조르시놀글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 등의 2 관능, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르 등의 다관능 글리시딜에테르류를 들 수 있다. 비반응성 희석제로는, 벤질알코올, 부틸디글리콜, 파인 오일 등을 들 수 있다.Moreover, as needed, a diluent can be used in the range which does not impair the physical property of an epoxy resin composition. The diluent is preferably a reactive diluent, but may be a non-reactive diluent. Examples of the reactive diluent include monofunctional such as allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, resorcinol glycidyl ether, neopentyl glycol glycidyl ether, 1,6- Bifunctional, such as hexanediol diglycidyl ether, polyfunctional glycidyl ethers, such as glycerol polyglycidyl ether, trimethylol propane polyglycidyl ether, and pentaerythritol polyglycidyl ether, are mentioned. Examples of the non-reactive diluent include benzyl alcohol, butyldiglycol, and pine oil.

에폭시 수지 조성물은 특성을 저해하지 않는 범위에서 다른 열경화성 수지, 열가소성 수지를 배합해도 된다. 예를 들어, 페놀 수지, 아크릴 수지, 석유 수지, 인덴 수지, 쿠마론인덴 수지, 페녹시 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리페닐렌술파이드 수지, 폴리비닐포르말 수지 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다.The epoxy resin composition may mix|blend another thermosetting resin and a thermoplastic resin in the range which does not impair a characteristic. For example, phenol resin, acrylic resin, petroleum resin, indene resin, coumarone indene resin, phenoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin , polyphenylene ether resin, modified polyphenylene ether resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyether ether ketone resin, polyphenylene sulfide resin, polyvinyl formal resin, etc., but are limited to these not.

에폭시 수지 조성물에는, 얻어지는 경화물의 난연성 향상을 목적으로, 공지된 각종 난연제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 난연제로는, 예를 들어 할로겐계 난연제, 인계 난연제, 질소계 난연제, 실리콘계 난연제, 무기계 난연제, 유기 금속염계 난연제 등을 들 수 있다. 환경에 대한 관점에서, 할로겐을 함유하지 않는 난연제가 바람직하고, 특히 인계 난연제가 바람직하다. 이들 난연제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Various well-known flame retardants can be used for the purpose of the flame retardance improvement of the hardened|cured material obtained for an epoxy resin composition. Examples of the usable flame retardant include a halogen-based flame retardant, a phosphorus-based flame retardant, a nitrogen-based flame retardant, a silicone-based flame retardant, an inorganic flame retardant, and an organometallic salt-based flame retardant. From the viewpoint of the environment, a halogen-free flame retardant is preferable, and a phosphorus-based flame retardant is particularly preferable. These flame retardants may be used independently and may use 2 or more types together.

인계 난연제는 무기 인계 화합물, 유기 인계 화합물 모두 사용할 수 있다. 무기 인계 화합물로는, 예를 들어 적린, 인산일암모늄, 인산이암모늄, 인산삼암모늄, 폴리인산암모늄 등의 인산암모늄류, 인산아미드 등의 무기계 함질소 인 화합물을 들 수 있다. 유기 인계 화합물로는, 예를 들어 지방족 인산에스테르, 인산에스테르 화합물, 축합 인산에스테르류, 포스폰산 화합물, 포스핀산 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 포스포란 화합물, 유기계 함질소 인 화합물 등의 범용 유기 인계 화합물이나, 포스핀산의 금속염 외에, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(2,5-디하이드로옥시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(2,7-디하이드로옥시나프틸)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 등의 고리형 유기 인 화합물이나, 그것들을 에폭시 수지나 페놀 수지 등의 화합물과 반응시킨 유도체인 인 함유 에폭시 수지나 인 함유 경화제 등을 들 수 있다.As the phosphorus-based flame retardant, both inorganic phosphorus-based compounds and organic phosphorus-based compounds may be used. Examples of the inorganic phosphorus compound include ammonium phosphates such as red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate, and inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as amide phosphate. Examples of the organophosphorus compound include general purpose organophosphorus compounds such as aliphatic phosphate esters, phosphate ester compounds, condensed phosphate esters, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, and organic nitrogen-containing phosphorus compounds. In addition to metal salts of phosphinic acid, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-(2,5-dihydrooxyphenyl)-10H-9-oxa-10 - cyclic organophosphorus compounds such as phosphaphenanthrene-10-oxide and 10-(2,7-dihydrooxynaphthyl)-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide; and phosphorus-containing epoxy resins, phosphorus-containing curing agents, and the like, which are derivatives obtained by reacting with a compound such as an epoxy resin or a phenol resin.

난연제의 배합량으로는, 인계 난연제의 종류, 에폭시 수지 조성물의 성분, 원하는 난연성의 정도에 따라 적절히 선택된다. 예를 들어, 에폭시 수지 조성물 중의 유기 성분 (유기 용제를 제외한다) 중의 인 함유량은, 바람직하게는 0.2 질량% 이상 4 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.4 질량% 이상 3.5 질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.6 질량% 이상 3 질량% 이하이다. 인 함유량이 적으면 난연성의 확보가 어려워질 우려가 있고, 지나치게 많으면 내열성에 악영향을 미칠 우려가 있다. 또 인계 난연제를 사용하는 경우에는, 수산화마그네슘 등의 난연 보조제를 병용해도 된다.The compounding amount of the flame retardant is appropriately selected according to the type of the phosphorus-based flame retardant, the component of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, the phosphorus content in the organic component (excluding the organic solvent) in the epoxy resin composition is preferably 0.2 mass% or more and 4 mass% or less, more preferably 0.4 mass% or more and 3.5 mass% or less, and further Preferably they are 0.6 mass % or more and 3 mass % or less. When there is little phosphorus content, there exists a possibility that ensuring a flame retardance may become difficult, and when too large, there exists a possibility of exerting a bad influence on heat resistance. Moreover, when using a phosphorus-type flame retardant, you may use together flame-retardant auxiliary agents, such as magnesium hydroxide.

에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 충전재를 사용할 수 있다. 구체적으로는 용융 실리카, 결정 실리카, 알루미나, 질화규소, 수산화알루미늄, 베마이트, 수산화마그네슘, 탤크, 마이카, 탄산칼슘, 규산칼슘, 수산화칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산바륨, 질화붕소, 탄소, 탄소 섬유, 유리 섬유, 알루미나 섬유, 실리카 알루미나 섬유, 탄화규소 섬유, 폴리에스테르 섬유, 셀룰로오스 섬유, 아라미드 섬유, 세라믹 섬유, 미립자 고무, 열가소성 엘라스토머, 안료 등을 들 수 있다. 일반적으로 충전재를 사용하는 이유로는 내충격성의 향상 효과를 들 수 있다. 또, 수산화알루미늄, 베마이트, 수산화마그네슘 등의 금속 수산화물을 사용한 경우에는, 난연 보조제로서 작용하여 난연성이 향상되는 효과가 있다. 이들 충전재의 배합량은 에폭시 수지 조성물 전체에 대하여, 1 질량% ∼ 150 질량% 가 바람직하고, 10 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하다. 배합량이 많으면, 적층판 용도로서 필요한 접착성이 저하될 우려가 있고, 또한 경화물이 물러, 충분한 기계 물성을 얻지 못하게 될 우려가 있다. 또 배합량이 적으면, 경화물의 내충격성의 향상 등 충전제의 배합 효과가 나타나지 않을 우려가 있다.A filler can be used for an epoxy resin composition as needed. Specifically, fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, boehmite, magnesium hydroxide, talc, mica, calcium carbonate, calcium silicate, calcium hydroxide, magnesium carbonate, barium carbonate, barium sulfate, boron nitride, carbon, carbon fiber , glass fiber, alumina fiber, silica alumina fiber, silicon carbide fiber, polyester fiber, cellulose fiber, aramid fiber, ceramic fiber, particulate rubber, thermoplastic elastomer, pigment, and the like. Generally, the reason for using a filler is the effect of improving impact resistance. In addition, when a metal hydroxide such as aluminum hydroxide, boehmite, or magnesium hydroxide is used, it acts as a flame retardant auxiliary agent to improve the flame retardancy. 1 mass % - 150 mass % are preferable with respect to the whole epoxy resin composition, and, as for the compounding quantity of these fillers, 10 mass % - 70 mass % are more preferable. When there is much compounding quantity, there exists a possibility that the adhesiveness required for a laminated board use may fall, and there exists a possibility that hardened|cured material may become brittle, and there exists a possibility that sufficient mechanical properties may not be acquired. Moreover, when there is little compounding quantity, there exists a possibility that the compounding effect of a filler, such as an improvement of the impact resistance of hardened|cured material, may not appear.

에폭시 수지 조성물을 판상 기판 등으로 하는 경우, 그 치수 안정성, 굽힘 강도 등의 점에서 섬유상인 것을 바람직한 충전재로서 들 수 있다. 보다 바람직하게는 유리 섬유를 망목상으로 짠 유리 섬유 기판을 들 수 있다.When making an epoxy resin composition into a plate-shaped board|substrate etc., a fibrous thing is mentioned as a preferable filler from points, such as the dimensional stability and bending strength. More preferably, the glass fiber board|substrate which woven glass fiber into the mesh form is mentioned.

에폭시 수지 조성물은, 추가로 필요에 따라 실란 커플링제, 산화 방지제, 이형제, 소포제, 유화제, 요변성 부여제, 평활제, 난연제, 안료 등의 핵종 첨가제를 배합할 수 있다. 이들 첨가제는 에폭시 수지 조성물에 대하여, 0.01 질량% ∼ 20 질량% 의 범위가 바람직하다.The epoxy resin composition can further mix|blend nuclide additives, such as a silane coupling agent, antioxidant, a mold release agent, an antifoamer, an emulsifier, a thixotropic agent, a smoothing agent, a flame retardant, and a pigment. These additives have a preferable range of 0.01 mass % - 20 mass % with respect to an epoxy resin composition.

에폭시 수지 조성물은 섬유상 기재에 함침시킴으로써 프린트 배선판 등에서 사용되는 프리프레그를 제조할 수 있다. 섬유상 기재로는 유리 등의 무기 섬유나, 폴리에스테르 수지 등, 폴리아민 수지, 폴리아크릴 수지, 폴리이미드 수지, 방향족 폴리아미드 수지 등의 유기질 섬유의 직포 또는 부직포를 사용할 수 있지만 이것에 한정되는 것은 아니다. 에폭시 수지 조성물로부터 프리프레그를 제조하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 에폭시 수지 조성물을 용제로 점도 조정하여 제조한 수지 바니시에 침지시켜 함침시킨 후, 가열 건조시켜 수지 성분을 반경화 (B 스테이지화) 하여 얻어지는 것이고, 예를 들어 100 ∼ 200 ℃ 에서 1 ∼ 40 분간 가열 건조시킬 수 있다. 여기서, 프리프레그 중의 수지량은, 수지분 30 ∼ 80 질량% 로 하는 것이 바람직하다.The epoxy resin composition can manufacture a prepreg used in a printed wiring board etc. by impregnating a fibrous base material. As the fibrous substrate, inorganic fibers such as glass, polyester resins, etc., polyamine resins, polyacrylic resins, polyimide resins, aromatic polyamide resins, woven or nonwoven fabrics of organic fibers can be used, but the present invention is not limited thereto. The method for producing a prepreg from the epoxy resin composition is not particularly limited, and for example, the epoxy resin composition is immersed in a resin varnish prepared by adjusting the viscosity with a solvent to be impregnated, and then heat-dried to semi-cur the resin component. It is obtained by carrying out (B-staging), for example, it can heat-dry at 100-200 degreeC for 1 to 40 minutes. Here, it is preferable to make the resin amount in a prepreg into 30-80 mass % of resin content.

또, 프리프레그를 경화시키기 위해서는, 일반적으로 프린트 배선판을 제조할 때에 사용되는 적층판의 경화 방법을 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 프리프레그를 사용하여 적층판을 형성하는 경우, 프리프레그를 1 장 또는 복수장 적층하고, 편측 또는 양측에 금속박을 배치하여 적층물을 구성하고, 이 적층물을 가열·가압하여 적층 일체화한다. 여기서 금속박으로는, 구리, 알루미늄, 놋쇠, 니켈 등의 단독, 합금, 복합된 금속박을 사용할 수 있다. 그리고, 제조한 적층물을 가압 가열함으로써 프리프레그를 경화시켜 적층판을 얻을 수 있다. 그 때, 가열 온도를 160 ∼ 220 ℃, 가압 압력을 50 ∼ 500 N/㎠, 가열 가압 시간을 40 ∼ 240 분간으로 하는 것이 바람직하고, 목적으로 하는 경화물을 얻을 수 있다. 가열 온도가 낮으면 경화 반응이 충분히 진행되지 않고, 높으면 에폭시 수지 조성물의 분해가 시작될 우려가 있다. 또, 가압 압력이 낮으면 얻어지는 적층판의 내부에 기포가 잔류하여, 전기적 특성이 저하되는 경우가 있고, 높으면 경화되기 전에 수지가 흘러 버려, 원하는 두께의 경화물이 얻어지지 않을 우려가 있다. 또한, 가열 가압 시간이 짧으면 충분히 경화 반응이 진행되지 않을 우려가 있고, 길면 프리프레그 중의 에폭시 수지 조성물의 열분해가 일어날 우려가 있어 바람직하지 않다.Moreover, in order to harden a prepreg, although the hardening method of the laminated board generally used when manufacturing a printed wiring board can be used, it is not limited to this. For example, when a laminate is formed using a prepreg, one or a plurality of prepregs are laminated, a metal foil is arranged on one side or both sides to form a laminate, and the laminate is heated and pressurized to integrate the laminate. do. Here, as metal foil, single, alloy, composite metal foils, such as copper, aluminum, brass, and nickel, can be used. And the prepreg can be hardened by pressurizing and heating the manufactured laminated body, and a laminated board can be obtained. In that case, it is preferable to make heating temperature into 160-220 degreeC, pressurization pressure 50-500 N/cm<2>, and to make heat press time into 40 to 240 minutes, and the target hardened|cured material can be obtained. When the heating temperature is low, the curing reaction does not proceed sufficiently, and when the heating temperature is high, there is a fear that decomposition of the epoxy resin composition starts. Moreover, when the pressurization pressure is low, air bubbles remain inside the obtained laminated board, and electrical properties may fall, and when it is high, there exists a possibility that resin flows out before hardening and the hardened|cured material of a desired thickness may not be obtained. Moreover, when the heating and pressurization time is short, there is a fear that the curing reaction may not proceed sufficiently, and when the heating and pressurization time is long, there is a fear that thermal decomposition of the epoxy resin composition in the prepreg may occur, which is not preferable.

에폭시 수지 조성물은, 공지된 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법으로 경화시킴으로써 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있다. 경화물을 얻기 위한 방법으로는, 공지된 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법을 취할 수 있으며, 주형, 주입, 포팅, 딥핑, 드립 코팅, 트랜스퍼 성형, 압축 성형 등이나 수지 시트, 수지 부착 동박, 프리프레그 등의 형태로 하여 적층하고 가열 가압 경화시킴으로써 적층판으로 하는 등의 방법이 바람직하게 사용된다. 그 때의 경화 온도는 통상적으로 100 ℃ ∼ 300 ℃ 의 범위이고, 경화 시간은 통상적으로 1 시간 ∼ 5 시간 정도이다.An epoxy resin composition can be obtained by hardening an epoxy resin composition by the method similar to a well-known epoxy resin composition. As a method for obtaining a cured product, the same method as that of a known epoxy resin composition can be taken, and casting, pouring, potting, dipping, drip coating, transfer molding, compression molding, etc., resin sheet, resin coated copper foil, prepreg, etc. A method such as laminating in the form of a laminated plate and curing by heating and pressurization to obtain a laminated plate is preferably used. The curing temperature in that case is normally in the range of 100 degreeC - 300 degreeC, and hardening time is about 1 hour - about 5 hours normally.

본 발명의 에폭시 수지 경화물은, 적층물, 성형물, 접착물, 도막, 필름 등의 형태를 취할 수 있다.The cured epoxy resin product of the present invention may take the form of a laminate, a molded product, an adhesive, a coating film, a film, or the like.

에폭시 수지 조성물을 제조하여, 가열 경화에 의해 적층판의 에폭시 수지 경화물을 평가한 결과, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 를 반응시킨 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 종래 공지된 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지와 비교하여 저점도로 작업성이 양호할 뿐만 아니라, 높은 내열성과 높은 접착성을 겸비하는 것이 가능하고, 나아가서는 저유전 특성도 개량할 수 있었다.As a result of preparing an epoxy resin composition and evaluating the cured epoxy resin product of the laminate by heat curing, the oxazolidone ring-containing epoxy resin in which the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) were reacted is a conventionally known oxazolyl Compared with the don ring-containing epoxy resin, it is possible to have not only good workability with low viscosity, but also high heat resistance and high adhesiveness, and furthermore, it was possible to improve the low dielectric properties.

실시예Example

실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 특별히 언급이 없는 한 「부」 는 질량부를 나타내고, 「%」 는 질량% 를 나타낸다. 또, 측정 방법은 각각 이하의 방법에 의해 측정하였다.The present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, "part" represents parts by mass, and "%" represents mass %. In addition, the measuring method was measured by the following methods, respectively.

에폭시 당량 : JIS K7236 규격에 준하였다.Epoxy equivalent: according to JIS K7236 standard.

점도 : JIS K7233 규격, 단일 원통 회전 점도계법에 준하였다.Viscosity: According to JIS K7233 standard, single cylinder rotational viscometer method.

연화점 : JIS K7234 규격, 환구법 (環球法) 에 준거하여 측정하였다. 구체적으로는 자동 연화점 장치 (주식회사 메이텍 제조, ASP-MG4) 를 사용하였다.Softening point: It was measured based on JISK7234 standard, the round-ball method. Specifically, an automatic softening point device (manufactured by Maytech Co., Ltd., ASP-MG4) was used.

2 핵체 함유율, 3 핵체 함유율, 4 핵체 함유율, 5 핵체 이상 함유율, 수 평균 분자량 (Mn), 질량 평균 분자량 (Mw), 및 분산도 (Mw/Mn) : GPC 를 이용하여 분자량 분포를 측정하고, 2 핵체 함유율, 3 핵체 함유율, 4 핵체 함유율, 5 핵체 이상 함유율은 피크의 면적% 로부터 수 평균 분자량, 중량 평균 분자량, 분산도는 표준의 단분산 폴리스티렌 (토소 주식회사 제조, A-500, A-1000, A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40, F-80, F-128) 으로부터 구한 검량선으로 환산하였다. 구체적으로는 본체 (토소 주식회사 제조, HLC-8220GPC) 에 칼럼 (토소 주식회사 제조, TSKgelG4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL) 을 직렬로 구비한 것을 사용하고, 칼럼 온도는 40 ℃ 로 하였다. 또, 용리액에는 THF 를 이용하여, 1 ㎖/분의 유속으로 하고, 검출기는 RI (시차 굴절계) 검출기를 사용하였다. 데이터 처리는, 토소 주식회사 제조 GPC-8020 모델 II 버젼 4.10 을 사용하였다. 측정 시료는 샘플 0.1 g 을 10 ㎖ 의 THF 에 용해시켜, 마이크로 필터로 여과한 것을 100 ㎕ 사용하였다.Dinuclear content, trinuclear content, tetranuclear content, pentanuclear or more content, number average molecular weight (Mn), mass average molecular weight (Mw), and dispersion degree (Mw/Mn): Measure molecular weight distribution using GPC, Dinuclear content, trinuclear content, tetranuclear content, pentanuclear content content, number average molecular weight, weight average molecular weight, and dispersion degree are standard monodisperse polystyrene (Toso Corporation, A-500, A-1000 from the area % of the peak) , A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40, F-80, F-128) were converted into a calibration curve. Specifically, a main body (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) equipped with a column (TSKgelG4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL, manufactured by Toso Corporation) in series was used, and the column temperature was set to 40°C. In addition, THF was used as an eluent, and it was set as the flow rate of 1 ml/min, and the RI (differential refractometer) detector was used as a detector. For data processing, GPC-8020 Model II version 4.10 manufactured by Tosoh Corporation was used. As the measurement sample, 100 µL of a sample obtained by dissolving 0.1 g of a sample in 10 ml of THF and filtering with a microfilter was used.

동박 박리 강도 및 층간 접착력 : JIS C6481 에 준하여 측정하고, 층간 접착력은 7 층째와 8 층째 사이에서 박리하여 측정하였다.Copper foil peel strength and interlayer adhesive force: Measured according to JIS C6481, and interlayer adhesive force was measured by peeling between the 7th and 8th layers.

유리 전이 온도 (DSC 법) : IPC-TM-650 2.4.25.c 에 준하여 시차 주사 열량 측정 장치 (주식회사 히타치 하이텍 사이언스 제조, EXSTAR6000 DSC6200) 로 20 ℃/분의 승온 조건에서 측정을 실시했을 때의 DSC·Tgm (유리 상태와 고무 상태의 접선에 대하여 변이 곡선의 중간 온도) 의 온도로 나타내었다.Glass transition temperature (DSC method): In accordance with IPC-TM-650 2.4.25.c, when the measurement was performed under a temperature increase condition of 20°C/min with a differential scanning calorimetry apparatus (Hitachi Hi-Tech Sciences, Ltd., EXSTAR6000 DSC6200) DSC·Tgm (the intermediate temperature of the transition curve with respect to the tangent between the glass state and the rubber state) was expressed as a temperature.

유리 전이 온도 (TMA 법) : IPC-TM-650 2.4.24.1 에 준하여 열기계 분석 장치 (주식회사 히타치 하이텍 사이언스 제조, EXSTAR6000 TMA/SS120U) 로 10 ℃/분의 승온 조건에서 측정을 실시했을 때의 TMA 외삽값의 온도로 나타내었다.Glass transition temperature (TMA method): TMA when measured at a temperature increase condition of 10°C/min with a thermomechanical analyzer (manufactured by Hitachi HiTek Science, EXSTAR6000 TMA/SS120U) in accordance with IPC-TM-650 2.4.24.1 It is expressed as an extrapolated temperature.

비유전율 및 유전 정접 : IPC-TM-650 2.5.5.9 에 준하여 머티리얼 애널라이저 (AGILENT Technologies 사 제조) 를 이용하여, 용량법에 의해 주파수 1 ㎓ 에 있어서의 비유전율 및 유전 정접을 구함으로써 평가하였다.Relative permittivity and dielectric loss tangent: In accordance with IPC-TM-650 2.5.5.9, using a material analyzer (manufactured by AGILENT Technologies), it was evaluated by determining the relative dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 1 GHz by the capacitance method.

난연성 : UL94 (Underwriters Laboratories Inc. 의 안전 인증 규격) 에 준하여, 수직법에 의해 평가하였다.Flame retardancy: In accordance with UL94 (Safety certification standard of Underwriters Laboratories Inc.), the vertical method evaluated.

IR : 푸리에 변환형 적외 분광 광도계 (PerkinEler Precisely 제조, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X) 의 전반사 측정법 (ATR 법) 에 의해 파수 650 ∼ 4000 ㎝-1 의 흡광도를 측정하였다.IR: The absorbance at a wave number of 650 to 4000 cm -1 was measured by a total reflection measurement method (ATR method) of a Fourier transform infrared spectrophotometer (manufactured by PerkinEler Precisely, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X).

합성예 1 (페놀노볼락 수지의 합성) Synthesis Example 1 (Synthesis of phenol novolak resin)

유리제 세퍼러블 플라스크에, 페놀을 2500 부, 옥살산 이수화물을 7.5 부 주입하여, 질소 가스를 주입하면서 교반을 실시하고, 가열을 실시하여 승온시켰다. 다음으로, 80 ℃ 에서 교반하면서, 37.4 % 포르말린 474.1 부를 30 분에 걸쳐 적하하여 반응시켰다. 추가로 반응 온도를 92 ℃ 로 유지하여 3 시간 반응을 실시하였다. 승온을 실시하고, 반응 생성수를 계 밖으로 제거하면서 110 ℃ 까지 승온시켰다. 잔존 페놀을 160 ℃ 에서 감압하 회수를 실시하고, 추가로 온도를 250 ℃ 로 올려 2 핵체의 일부를 회수하여, 페놀노볼락 수지를 얻었다. 얻어진 페놀노볼락 수지의 2 핵체 함유율 및 3 핵체 함유율은 GPC 에 의한 측정에서 각각 10 면적% 및 38 면적% 였다.To the glass separable flask, 2500 parts of phenol and 7.5 parts of oxalic acid dihydrate were injected|pouring, it stirred, injecting|pouring nitrogen gas, it heated and made it temperature up. Next, while stirring at 80 degreeC, 474.1 parts of 37.4% formalin were dripped over 30 minutes, and it was made to react. Furthermore, the reaction temperature was maintained at 92 degreeC, and reaction was performed for 3 hours. The temperature was raised and the temperature was raised to 110°C while removing the reaction product water out of the system. The residual phenol was recovered under reduced pressure at 160°C, and the temperature was further raised to 250°C to recover a part of the dinuclear to obtain a phenol novolak resin. The dinuclear content and the trinuclear content of the obtained phenol novolak resin were 10 area% and 38 area%, respectively, as measured by GPC.

합성예 2 (페놀노볼락형 에폭시 수지의 합성) Synthesis Example 2 (Synthesis of phenol novolak type epoxy resin)

합성예 1 과 동일한 장치에, 합성예 1 에서 얻어진 페놀노볼락 수지를 666 부, 에피클로로하이드린을 2110 부, 이온 교환수를 17 부 주입하여, 교반하면서 50 ℃ 까지 승온시켰다. 균일하게 용해 후, 49 % 수산화나트륨 수용액을 14.2 부 주입하여 3 시간 반응을 실시하였다. 다음으로, 64 ℃ 까지 승온시킨 후, 물의 환류가 일어날 정도까지 감압화하고, 49 % 수산화나트륨 수용액 457.7 부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 이 적하 중에 환류 유출 (留出) 된 물과 에피클로로하이드린을 분리조에서 분리하여 에피클로로하이드린은 반응 용기로 되돌리고, 물은 계 밖으로 제거하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 온도를 70 ℃ 까지 높여 탈수를 실시하고, 온도를 135 ℃ 로 하여 잔존하는 에피클로로하이드린을 회수하였다. 상압으로 되돌리고, 메틸이소부틸케톤 (MIBK) 을 1232 부 첨가하여 용해시켰다. 이온 교환수를 1200 부 첨가하고, 교반 정치 (靜置) 하여 부생한 식염을 물에 용해시켜 제거하였다. 다음으로 49 % 수산화나트륨 수용액을 37.4 부 주입하고, 80 ℃ 에서 90 분간 교반 반응시켜 정제 반응을 실시하였다. MIBK 를 추가, 수세를 몇 차례 실시하여 이온성 불순물을 제거하였다. 용제를 회수하여, 페놀노볼락형 에폭시 수지를 얻었다. 얻어진 페놀노볼락형 에폭시 수지의 2 핵체 함유율 10 면적%, 3 핵체 함유율 35 면적%, 3 핵체 및 4 핵체 함유율의 합계가 52 면적%, 5 핵체 이상 함유율 38 면적%, 수 평균 분자량 635, 중량 평균 분자량 884, 분산도 1.39, 에폭시 당량 174 g/eq. 였다.Into the same apparatus as in Synthesis Example 1, 666 parts of the phenol novolak resin obtained in Synthesis Example 1, 2110 parts of epichlorohydrin, and 17 parts of ion-exchanged water were injected, and the temperature was raised to 50°C while stirring. After uniformly dissolving, 14.2 parts of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was injected, and reaction was performed for 3 hours. Next, after raising the temperature to 64°C, the pressure was reduced to such a degree that reflux of water occurred, 457.7 parts of 49% aqueous sodium hydroxide solution were added dropwise over 3 hours, and the water and epichlorohydrin which flowed out under reflux during this dropping were added dropwise. was separated from the separation tank, epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and water was removed out of the system to react. After completion of the reaction, the temperature was raised to 70°C to perform dehydration, and the temperature was adjusted to 135°C to recover the remaining epichlorohydrin. It returned to normal pressure, and 1232 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) were added and dissolved. 1200 parts of ion-exchanged water was added, and it was stirred and left still, and the salt produced by it was dissolved in water and removed. Next, 37.4 parts of 49% sodium hydroxide aqueous solution was injected, and it was made to react with stirring at 80 degreeC for 90 minutes, and purification reaction was performed. MIBK was added and washed several times to remove ionic impurities. The solvent was collect|recovered and the phenol novolak-type epoxy resin was obtained. The obtained phenol novolak-type epoxy resin had a dinuclear content of 10 area%, a trinuclear content of 35 area%, a total of trinuclear and tetranuclear content of 52 area%, a pentanuclear or more content of 38 area%, a number average molecular weight of 635, and a weight average. Molecular weight 884, dispersion 1.39, epoxy equivalent 174 g/eq. it was

GPC 측정 차트를 도 1 에 나타낸다. 도면 중, A 로 나타내는 피크가 2 핵체를 나타내고, B 로 나타내는 피크가 3 핵체를 나타내고, C 로 나타내는 피크군이 5 핵체 이상을 나타낸다. 가로축에 용출 시간을 나타내고, 왼쪽 세로축에 신호 강도를 나타내고, 오른쪽 세로축에 수 평균 분자량 M 을 상용 로그 (log) 로 나타낸다. 사용한 표준 물질의 수 평균 분자량의 측정값을 흑색 원으로 플롯하여 검량선으로 하였다.A GPC measurement chart is shown in FIG. 1 . In the figure, the peak represented by A represents a dinuclear body, the peak represented by B represents a trinuclear body, and the peak group represented by C represents a pentanuclear body or more. The abscissa shows the elution time, the left ordinate shows the signal intensity, and the right ordinate shows the number average molecular weight M as a commercial log (log). The measured value of the number average molecular weight of the standard substance used was plotted by the black circle, and it was set as the calibration curve.

합성예 3 (혼합형 에폭시 수지의 합성) Synthesis Example 3 (Synthesis of mixed epoxy resin)

합성예 1 과 동일한 장치에, 합성예 2 에서 얻어진 페놀노볼락형 에폭시 수지를 90 부, 비스페놀 F 형 액상 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 YDF-1500, 에폭시 당량 168 g/eq., 점도 2500 mPa·s) 를 10 부 주입하여, 50 ℃ 까지 교반하면서 승온시키고, 균일하게 용해시켜 혼합형의 에폭시 수지로 하였다. 얻어진 혼합형의 에폭시 수지에 대하여 분자량 분포를 측정한 결과, 2 핵체 함유율 18 면적%, 3 핵체 함유율 32 면적%, 3 핵체 및 4 핵체 함유율의 합계가 48 면적%, 5 핵체 이상 함유율 34 면적%, 수 평균 분자량 597, 중량 평균 분자량 824, 분산도 1.38, 에폭시 당량 173 g/eq. 였다.In the same apparatus as in Synthesis Example 1, 90 parts of the phenol novolac-type epoxy resin obtained in Synthesis Example 2 was added, and a bisphenol F-type liquid epoxy resin (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., EPOTOT YDF-1500, epoxy equivalent 168 g/ eq., viscosity of 2500 mPa·s) was injected in 10 parts, the temperature was raised while stirring to 50°C, and the mixture was uniformly dissolved to obtain a mixed epoxy resin. As a result of measuring the molecular weight distribution of the obtained mixed-type epoxy resin, the total of the dinuclear content 18 area%, trinuclear content 32 area%, trinuclear and tetranuclear content 48 area%, pentanuclear or more content 34 area%, number average molecular weight 597, weight average molecular weight 824, dispersion degree 1.38, epoxy equivalent 173 g/eq. it was

실시예 및 비교예에서 사용한 약호의 설명은 이하와 같다.The description of the symbol used in the Example and the comparative example is as follows.

(에폭시 수지) (epoxy resin)

에폭시 수지 A : 합성예 2 에서 얻어진 페놀노볼락형 에폭시 수지 Epoxy resin A: phenol novolac type epoxy resin obtained in Synthesis Example 2

에폭시 수지 B : 합성예 3 에서 얻어진 혼합형의 에폭시 수지 Epoxy resin B: Mixed epoxy resin obtained in Synthesis Example 3

에폭시 수지 C : 범용형 페놀노볼락형 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 YDPN-638, 2 핵체 함유율 22 면적%, 3 핵체 함유율 15 면적%, 3 핵체 및 4 핵체 함유율의 합계가 25 면적%, 5 핵체 이상 함유율 53 면적%, 수 평균 분자량 528, 중량 평균 분자량 1127, 분산도 2.13, 에폭시 당량 176 g/eq. GPC 측정 차트를 도 2 에 나타낸다. A, B 및 C 는 도 1 의 설명과 동일하다)Epoxy resin C: general-purpose type phenol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Tetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., Epototte YDPN-638, dunclear content of 22 area%, trinuclear content of 15 area%, trinuclear and tetranuclear content of 15 area%) is 25 area%, pentanuclear or more content 53 area%, number average molecular weight 528, weight average molecular weight 1127, dispersion degree 2.13, epoxy equivalent 176 g/eq. The GPC measurement chart is shown in Fig. 2. A, B and C are same as in 1)

에폭시 수지 D : 비스페놀 A 형 액상 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 YD-8125, 에폭시 당량 174 g/eq., 점도 4100 mPa·s) Epoxy resin D: bisphenol A liquid epoxy resin (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., EPOTOT YD-8125, epoxy equivalent 174 g/eq., viscosity 4100 mPa·s)

에폭시 수지 E : 오르토크레졸노볼락형 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 YDCN-703, 에폭시 당량 202 g/eq., 연화점 ℃) Epoxy resin E: orthocresol novolak type epoxy resin (manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., EPOTOT YDCN-703, epoxy equivalent 202 g/eq., softening point °C)

에폭시 수지 F : 인 함유 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 TX-1320A, 에폭시 당량 763 g/eq., 인 함유량 5.0 %)Epoxy resin F: phosphorus-containing epoxy resin (manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., EPOTOT TX-1320A, epoxy equivalent 763 g/eq., phosphorus content 5.0%)

(이소시아네이트) (isocyanate)

이소시아네이트 A : 디페닐메탄디이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 PH, NCO 농도 34 %)Isocyanate A: diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd., Cosmonate PH, NCO concentration 34%)

이소시아네이트 B : 폴리메틸렌폴리페닐폴리이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 M-50, NCO 농도 34 %) Isocyanate B: Polymethylene polyphenyl polyisocyanate (manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd., Cosmonate M-50, NCO concentration 34%)

이소시아네이트 C : 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 (80 %) 와 2,6-톨릴렌디이소시아네이트 (20 %) 의 혼합물 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 T-80, NO 농도 48 %)Isocyanate C: A mixture of 2,4-tolylene diisocyanate (80%) and 2,6-tolylene diisocyanate (20%) (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., Cosmonate T-80, NO concentration 48%)

이소시아네이트 D : 시클로헥산-1,3-디일비스메틸렌디이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 타케네이트 600, NCO 농도 43 %)Isocyanate D: cyclohexane-1,3-diylbismethylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., Takenate 600, NCO concentration 43%)

(촉매)(catalyst)

촉매 A : 테트라메틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst A: tetramethylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 B : n-부틸트리페닐포스포늄·브로마이드 (닛폰 화학 공업 주식회사 제조, 히시코린 (등록상표) BTPPBr)Catalyst B: n-butyltriphenylphosphonium bromide (manufactured by Nippon Chemical Industries, Ltd., Hisikorin (registered trademark) BTPPBr)

(경화제)(hardener)

PN : 페놀노볼락 수지 (쇼와 전공 주식회사 제조, 쇼우놀 BRG-557, 연화점 80 ℃)PN: Phenol novolak resin (manufactured by Showa Denko Co., Ltd., Shounol BRG-557, softening point 80 ° C.)

DICY : 디시안디아미드 (닛폰 카바이트 주식회사 제조)DICY: dicyandiamide (manufactured by Nippon Carbite Co., Ltd.)

(경화 촉진제)(curing accelerator)

2E4MZ : 2-에틸-4-메틸이미다졸 (시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 큐어졸 2E4MZ)2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole (Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., Curesol 2E4MZ)

(난연제)(flame retardant)

PX-200 : 방향족 축합 인산에스테르 (다이하치 화학 공업 주식회사 제조, PX-200, 인 함유량 9.0 %)PX-200: Aromatic condensed phosphate ester (manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd., PX-200, phosphorus content 9.0%)

실시예 1Example 1

합성예 1 과 동일한 장치에, 에폭시 수지 (a) 로서 에폭시 수지 A 를 100 부, 촉매 A 를 0.17 부 주입하고, 질소 가스를 투입하면서 승온시키고, 120 ℃ 에서 30 분간 온도를 유지하여 계 내의 수분을 제거하였다. 다음으로, 130 ℃ ∼ 140 ℃ 의 온도를 유지하면서, 이소시아네이트 화합물 (b) 로서 이소시아네이트 A 14.4 부 (이소시아네이트기 b/ 에폭시기 a 의 당량비 [(b)/(a)]= 0.20) 를 50 % 톨루엔 용액으로 하여, 3 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 종료 후, 동 온도를 유지하면서 추가로 60 분간 교반을 계속하였다. 반응 종료 후, 150 ℃, 1.33 ㎪, 30 분의 회수 조건에서 용제를 제거하여, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 (수지 1) 를 얻었다. 얻어진 수지 1 에 대하여 에폭시 당량, 연화점을 측정하였다. 측정 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 도 3 에 GPC 차트를, 도 4 에 IR 차트를 각각 나타낸다.In the same apparatus as in Synthesis Example 1, 100 parts of epoxy resin A and 0.17 parts of catalyst A as the epoxy resin (a) were injected, the temperature was raised while introducing nitrogen gas, and the temperature was maintained at 120 ° C. for 30 minutes to remove moisture in the system. removed. Next, while maintaining the temperature of 130°C to 140°C, 14.4 parts of isocyanate A (equivalent ratio of isocyanate group b/epoxy group a [(b)/(a)] = 0.20) as isocyanate compound (b) is added to 50% toluene solution , and was added dropwise over 3 hours. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for an additional 60 minutes while maintaining the same temperature. After completion of the reaction, the solvent was removed at 150°C, 1.33 kPa, and 30 minutes of recovery conditions to obtain an oxazolidone ring-containing epoxy resin (resin 1). Epoxy equivalent and softening point were measured with respect to the obtained resin 1. Table 1 shows the measurement results. Moreover, a GPC chart is shown in FIG. 3, and an IR chart is shown in FIG. 4, respectively.

실시예 2 ∼ 실시예 7Examples 2 to 7

표 1 에 나타내는 각 원료의 주입량 (부) 에 따라, 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 합성하였다. 실시예 1 과 동일하게 얻어진 수지의 에폭시 당량, 연화점을 측정하여, 측정 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 실시예 2, 실시예 4, 실시예 6 및 실시예 7 의 이소시아네이트의 적하 시간은, 적하 속도를 실시예 1 과 거의 동일하게 하기 위해 3 시간에서 6 시간으로 변경하였다. 이들 실시예 2 ∼ 7 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 수지 2 ∼ 7 로 하였다.According to the injection amount (part) of each raw material shown in Table 1, an oxazolidone ring-containing epoxy resin was synthesized in the same operation using the same apparatus as in Example 1. The epoxy equivalent and softening point of the resin obtained similarly to Example 1 were measured, and the measurement result is shown in Table 1. In addition, the dripping time of the isocyanate of Example 2, Example 4, Example 6, and Example 7 was changed from 3 hours to 6 hours in order to make the dripping rate substantially the same as Example 1. The oxazolidone ring containing epoxy resins obtained in these Examples 2-7 were used as Resins 2-7.

비교예 1 ∼ 비교예 7Comparative Example 1 to Comparative Example 7

표 2 에 나타내는 각 원료의 주입량 (부) 에 따라, 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 합성하였다. 실시예 1 과 동일하게 얻어진 비교 수지의 에폭시 당량, 연화점을 측정하여, 측정 결과를 표 2 에 나타낸다. 또한, 비교예 4 의 이소시아네이트의 적하 시간은, 적하 속도를 실시예 1 과 거의 동일하게 하기 위해 3 시간에서 6 시간으로 변경하였다. 또, 비교예 1, 비교예 6 및 비교예 7 은, 적하 시간 도중에 겔화가 일어나 반응을 중지하였다. 이들 비교예에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 비교 수지 2 ∼ 5 로 하였다.According to the injection amounts (parts) of each raw material shown in Table 2, an oxazolidone ring-containing epoxy resin was synthesized in the same manner as in Example 1 using the same apparatus. The epoxy equivalent and softening point of the comparative resin obtained similarly to Example 1 were measured, and the measurement result is shown in Table 2. In addition, the dripping time of the isocyanate of Comparative Example 4 was changed from 3 hours to 6 hours in order to make the dripping rate substantially the same as that of Example 1. Moreover, in Comparative Example 1, Comparative Example 6, and Comparative Example 7, gelation occurred during the dropping time, and the reaction was stopped. The oxazolidone ring-containing epoxy resins obtained in these comparative examples were referred to as Comparative Resins 2 to 5.

표 1 및 표 2 중의 「당량비[(b)/(a)]」는 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 당량에 대한 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 당량비를, 「-」은 사용하지 않는 것을, 「×」는 측정 불가를 각각 나타낸다."Equivalent ratio [(b)/(a)]" in Tables 1 and 2 means that the equivalent ratio of the isocyanate group of the isocyanate compound (b) to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (a) is not used, and "-" is not used. , &quot;X&quot; indicates that measurement is impossible.

Figure 112015107036614-pat00006
Figure 112015107036614-pat00006

Figure 112015107036614-pat00007
Figure 112015107036614-pat00007

실시예 8 Example 8

실시예 1 에서 얻어진 수지 1 을 100 부, 경화제로서 PN 을 41.0 부, 경화 촉진제로서 2E4MZ 를 0.01 부로 배합하고, MEK, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, N,N-디메틸포름아미드로 조정한 혼합 용제에 용해시켜 에폭시 수지 조성물 바니시를 얻었다.100 parts of Resin 1 obtained in Example 1, 41.0 parts of PN as a curing agent, and 0.01 parts of 2E4MZ as a curing accelerator were blended, and dissolved in a mixed solvent prepared with MEK, propylene glycol monomethyl ether and N,N-dimethylformamide. to obtain an epoxy resin composition varnish.

얻어진 에폭시 수지 조성물 바니시를 유리 클로스 (닛토 방적 주식회사 제조, WEA 7628 XS13, 두께 0.18 ㎜) 에 함침시켰다. 함침된 유리 클로스를 150 ℃ 의 열풍 순환 오븐 중에서 11 분간 건조시켜 프리프레그를 얻었다. 얻어진 프리프레그 8 장과, 상하에 동박 (미츠이 금속 광업 주식회사 제조, 3EC-III, 두께 35 ㎛) 을 중첩하고, 130 ℃ × 15 분 + 190 ℃ × 80 분의 온도 조건에서 2 ㎫ 의 진공 프레스를 실시하여, 두께 1.6 ㎜ 의 적층판을 얻었다. 적층판의 동박 박리 강도, 층간 접착력, 유리 전이 온도 DSC (Tg·DSC), 유리 전이 온도 TMA (Tg·TMA) 의 결과를 표 3 에 나타낸다.The obtained epoxy resin composition varnish was impregnated with glass cloth (made by Nitto Spinning Co., Ltd., WEA 7628 XS13, thickness 0.18mm). The impregnated glass cloth was dried in a hot air circulation oven at 150°C for 11 minutes to obtain a prepreg. The obtained prepreg 8 sheets and copper foil (manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., 3EC-III, thickness 35 µm) were superposed on top and bottom, and a vacuum press of 2 MPa was performed at a temperature of 130 ° C. × 15 minutes + 190 ° C. × 80 minutes. It carried out and obtained the laminated board of thickness 1.6mm. Table 3 shows the results of the copper foil peel strength of the laminate, the interlayer adhesive force, the glass transition temperature DSC (Tg·DSC), and the glass transition temperature TMA (Tg·TMA).

또, 얻어진 프리프레그를 풀고, 체로 100 메시 패스의 분말상의 프리프레그 파우더로 하였다. 얻어진 프리프레그 파우더를 불소 수지제의 형 (型) 에 넣고, 130 ℃ × 15 분 + 190 ℃ × 80 분의 온도 조건에서 2 ㎫ 의 진공 프레스를 실시하여, 가로세로 50 ㎜ × 두께 2 ㎜ 의 시험편을 얻었다. 시험편의 비유전율 및 유전 정접의 결과를 표 3 에 나타내었다.Moreover, the obtained prepreg was unwound, and it was set as the powdery prepreg powder of 100 mesh pass through a sieve. The obtained prepreg powder was put in a mold made of a fluororesin, vacuum pressed at 2 MPa under the temperature conditions of 130° C. × 15 minutes + 190° C. × 80 minutes, and a test piece having a width of 50 mm and a thickness of 2 mm got Table 3 shows the results of the relative permittivity and dielectric loss tangent of the specimen.

실시예 9 ∼ 실시예 17Examples 9 to 17

실시예 1 ∼ 실시예 7 에서 얻어진 수지 1 ∼ 수지 7, PN, DICY, 및 2E4MZ 를 표 3 의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 8 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작을 실시하여 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 8 과 동일한 시험을 실시하여, 그 결과를 표 3 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Resins 1 to 7, PN, DICY, and 2E4MZ obtained in Examples 1 to 7 were blended in the amount (parts) shown in Table 3, and using the same apparatus as in Example 8, the same operation was carried out to obtain a laminate and A test piece was obtained. The test similar to Example 8 was implemented, and the result is shown in Table 3. In addition, "-" in a table|surface shows that it is not used.

비교예 8 ∼ 비교예 14Comparative Example 8 to Comparative Example 14

비교예 2 ∼ 비교예 5 에서 얻어진 비교 수지 2 ∼ 비교 수지 5, 에폭시 수지 E, PN, DICY, 및 2E4MZ 를 표 4 의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 8 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작을 실시하여 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 8 과 동일한 시험을 실시하여, 그 결과를 표 4 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Comparative Resins 2 to 5, epoxy resins E, PN, DICY, and 2E4MZ obtained in Comparative Examples 2 to 5 were blended in the amount (parts) shown in Table 4, using the same apparatus as in Example 8, and the same operation was performed to obtain a laminate and a test piece. The test similar to Example 8 was implemented, and the result is shown in Table 4. In addition, "-" in a table|surface shows that it is not used.

Figure 112015107036614-pat00008
Figure 112015107036614-pat00008

Figure 112015107036614-pat00009
Figure 112015107036614-pat00009

실시예 18 ∼ 실시예 20 및 비교예 15 ∼ 비교예 17 Examples 18 to 20 and Comparative Examples 15 to 17

수지 1, 수지 2, 비교 수지 2, 비교 수지 3, 에폭시 수지 F, PN, 2E4MZ, 및 PX-200 을 표 5 의 처방의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 8 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 8 과 동일한 시험을 실시하여, 그 결과를 표 5 에 나타낸다. 또, 난연성 측정용 시험편은 적층판의 양면을 에칭하여 얻었다. 또한, 표 중의 「-」은 사용하지 않은 것을 나타낸다.Resin 1, Resin 2, Comparative Resin 2, Comparative Resin 3, Epoxy Resin F, PN, 2E4MZ, and PX-200 were blended in the amount (parts) of the formulation shown in Table 5, using the same apparatus as in Example 8, A laminate and a test piece were obtained by the same operation. The test similar to Example 8 was implemented, and the result is shown in Table 5. Moreover, the test piece for flame retardance measurement was obtained by etching both surfaces of a laminated board. In addition, "-" in a table|surface shows what is not used.

Figure 112015107036614-pat00010
Figure 112015107036614-pat00010

이들 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 및 그 조성물은, 저점도로 작업성이 양호할 뿐만 아니라, 높은 내열성과 높은 접착성을 겸비하는 것이 가능하고, 나아가서는 유전 특성도 개량할 수 있었다.As is clear from these results, the oxazolidone ring-containing epoxy resins and compositions thereof of Examples have low viscosity and good workability, and can have high heat resistance and high adhesion, and further improve dielectric properties. Could.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 그 조성물 및 경화물은 내열성, 접착성, 유전 특성이 우수하여, 작금의 고기능화 요구에 대응한 전자 회로 기판 재료 등 각종 고기능 재료 용도의 에폭시 수지로서 이용할 수 있다.The oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention, its composition and cured product are excellent in heat resistance, adhesiveness and dielectric properties, and can be used as an epoxy resin for various high-performance materials such as electronic circuit board materials in response to the current high-functionalization demand. there is.

Claims (14)

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로서, 그 에폭시 수지 (a) 가 겔 퍼미에이션 크로마토그래피에서의 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 20 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 3 핵체와 4 핵체의 함유율의 합계가 15 면적% 이상 85 면적% 이하이고, 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하이며, 수 평균 분자량이 350 이상 700 이하인 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지인 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.An oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained from an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b), wherein the epoxy resin (a) has a dinuclear content of 20 area% or less as measured by gel permeation chromatography, 3 The nucleoid content is 15 area% or more and 60 area% or less, the sum of the trinuclear and tetranuclear content is 15 area% or more and 85 area% or less, the pentanuclear or more content is 45 area% or less, and the number average molecular weight is 350 or more. An oxazolidone ring-containing epoxy resin, characterized in that it is a novolak-type epoxy resin having a molecular weight distribution of 700 or less. 제 1 항에 있어서,
노볼락형 에폭시 수지가 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
[화학식 1]
Figure 112015107036614-pat00011

(식 중 Ar 은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 비페닐 고리에서 선택되는 방향족기이며, 이들 방향족기는 방향족 고리로 치환하는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 가져도 된다. X 는 2 가의 지방족 고리형 탄화수소기 또는 하기 식 (1a) 혹은 하기 식 (1b) 로 나타내는 가교기 중 어느 것을 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 1 또는 2 를 나타내고, n 은 반복 단위로서 0 이상의 정수를 나타낸다.)
[화학식 2]
Figure 112015107036614-pat00012

(식 중 R1, R2, R3 및 R4 는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 탄화수소기를 나타내고, B 는 벤젠 고리, 비페닐 고리 또는 나프탈렌 고리에서 선택되는 방향족기이며, 이들 방향족기는 방향족 고리로 치환하는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 가져도 된다)
The method of claim 1,
The oxazolidone ring containing epoxy resin whose novolak-type epoxy resin is an epoxy resin represented by following formula (1).
[Formula 1]
Figure 112015107036614-pat00011

(Wherein, Ar is an aromatic group selected from a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring, and these aromatic groups may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an aromatic ring. X is a divalent aliphatic hydrocarbon group or any of the crosslinking groups represented by the following formula (1a) or (1b), and G represents a glycidyl group. m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 or more as a repeating unit.)
[Formula 2]
Figure 112015107036614-pat00012

(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B is an aromatic group selected from a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring, and these aromatic groups You may have a C1-C6 alkyl group substituted with an aromatic ring)
제 1 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 가 분자 내에 평균으로 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
An oxazolidone ring-containing epoxy resin in which the isocyanate compound (b) has an average of 1.8 or more isocyanate groups in the molecule.
제 1 항에 있어서,
에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기를 0.02 몰 이상 0.6 몰 이하의 범위에서 반응시켜 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
The oxazolidone ring containing epoxy resin obtained by making the isocyanate group of an isocyanate compound (b) react in 0.02 mol or more and 0.6 mol or less with respect to 1 mol of the epoxy groups of an epoxy resin (a).
제 1 항에 있어서,
에폭시 당량이 200 ∼ 500 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
Epoxy equivalent of 200 to 500 g/eq. Epoxy resin containing phosphorus oxazolidone ring.
제 1 항에 있어서,
연화점이 50 ∼ 150 ℃ 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
An oxazolidone ring-containing epoxy resin having a softening point of 50 to 150°C.
제 1 항에 기재된 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법으로서, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 를 반응시키는 것, 그 에폭시 수지 (a) 가 겔 퍼미에이션 크로마토그래피에서의 측정에 있어서 2 핵체 함유율이 20 면적% 이하이고, 3 핵체 함유율이 15 면적% 이상 60 면적% 이하이며, 3 핵체와 4 핵체의 함유율의 합계가 15 면적% 이상 85 면적% 이하이고, 5 핵체 이상의 함유율은 45 면적% 이하이며, 수 평균 분자량이 350 이상 700 이하인 분자량 분포를 갖는 노볼락형 에폭시 수지로, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기를 0.02 몰 이상 0.6 몰 이하의 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.In the method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin according to claim 1, in which an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b) are reacted, the epoxy resin (a) is measured by gel permeation chromatography The dinuclear content is 20 area% or less, the trinuclear content is 15 area% or more and 60 area% or less, the sum of the trinuclear and tetranuclear content is 15 area% or more and 85 area% or less, and the pentanuclear or more content is 45 It is an area % or less, and a number average molecular weight is a novolak-type epoxy resin which has a molecular weight distribution of 350 or more and 700 or less, It is 0.02 mol or more and 0.6 mol or less of the isocyanate group of an isocyanate compound (b) with respect to 1 mol of epoxy groups of an epoxy resin (a). A method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin, characterized in that it is used in the range of. 제 7 항에 있어서,
노볼락형 에폭시 수지가 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
[화학식 3]
Figure 112015107036614-pat00013

(식 중 Ar 은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 또는 비페닐 고리에서 선택되는 방향족기이며, 이들 방향족기는 방향족 고리로 치환하는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 가져도 된다. X 는 2 가의 지방족 고리형 탄화수소기 또는 하기 식 (1a) 혹은 하기 식 (1b) 로 나타내는 가교기 중 어느 것을 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 1 또는 2 를 나타내고, n 은 반복 단위로서 0 이상의 정수를 나타낸다.)
[화학식 4]
Figure 112015107036614-pat00014

(식 중 R1, R2, R3 및 R4 는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 탄화수소기를 나타내고, B 는 벤젠 고리, 비페닐 고리 또는 나프탈렌 고리로 이루어지는 방향족기 중 어느 것을 나타내고, 이들 방향족기는 방향족 고리로 치환하는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 가져도 된다)
8. The method of claim 7,
The manufacturing method of the oxazolidone ring containing epoxy resin whose novolak-type epoxy resin is an epoxy resin represented by following formula (1).
[Formula 3]
Figure 112015107036614-pat00013

(Wherein, Ar is an aromatic group selected from a benzene ring, a naphthalene ring, or a biphenyl ring, and these aromatic groups may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an aromatic ring. X is a divalent aliphatic hydrocarbon group or any of the crosslinking groups represented by the following formula (1a) or (1b), and G represents a glycidyl group. m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 or more as a repeating unit.)
[Formula 4]
Figure 112015107036614-pat00014

(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and B represents any of an aromatic group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring, and these The aromatic group may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with an aromatic ring)
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 가 분자 내에 평균으로 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
9. The method according to claim 7 or 8,
A method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin in which the isocyanate compound (b) has an average of 1.8 or more isocyanate groups in the molecule.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지와 경화제를 필수 성분으로 하고, 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여 그 경화제의 활성 수소기를 0.2 몰 이상 1.5 몰 이하의 범위로 배합하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.An oxazolidone ring-containing epoxy resin according to any one of claims 1 to 6 and a curing agent as essential components, and the amount of active hydrogen groups in the curing agent is 0.2 mol or more and 1.5 mol or less with respect to 1 mol of the epoxy groups of all epoxy resins. Epoxy resin composition characterized in that it is blended in the range. 제 10 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물.An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 10. 제 10 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용한 것을 특징으로 하는 프리프레그.The prepreg characterized by using the epoxy resin composition of Claim 10. 제 10 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용한 것을 특징으로 하는 적층판.The laminated board characterized by using the epoxy resin composition of Claim 10. 제 10 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어진 것을 특징으로 하는 프린트 배선 기판.It was obtained using the epoxy resin composition of Claim 10, The printed wiring board characterized by the above-mentioned.
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