KR102375986B1 - Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the thereof, epoxy resin composition and cured product - Google Patents

Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the thereof, epoxy resin composition and cured product Download PDF

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Abstract

(과제) 내열성, 유전 특성, 접착 특성 등이 우수한 에폭시 수지를 제공한다.
(해결 수단) 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는, 에폭시 당량이 200 ∼ 550 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.

Figure 112015108162974-pat00021

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)(Project) To provide an epoxy resin excellent in heat resistance, dielectric properties, adhesive properties, and the like.
(Solution) The epoxy equivalent obtained from the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) containing 50 mass % or more of the epoxy resin (a1) represented by following formula (1) 200-550 g/eq. Epoxy resin containing phosphorus oxazolidone ring.
Figure 112015108162974-pat00021

(Wherein, X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G is a glycidyl group. represents repetition, and the average value is 0 to 5.)

Description

옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 그 제조 방법, 에폭시 수지 조성물, 및 경화물{OXAZOLIDONE RING-CONTAINING EPOXY RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE THEREOF, EPOXY RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT}Oxazolidone ring-containing epoxy resin, its manufacturing method, epoxy resin composition, and cured product TECHNICAL FIELD

본 발명은, 저유전 특성, 고내열성, 고접착성 등이 우수한 경화물을 부여하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지, 이 에폭시 수지의 제조 방법, 이 에폭시 수지를 필수 성분으로 하는 에폭시 수지 조성물, 및 이 에폭시 수지 조성물로부터 얻어지는 에폭시 수지 경화물, 프리프레그, 에폭시 수지 적층판에 관한 것이다.The present invention provides an oxazolidone ring-containing epoxy resin that gives a cured product excellent in low dielectric properties, high heat resistance, high adhesion, etc., a method for producing the epoxy resin, an epoxy resin composition comprising the epoxy resin as an essential component, and It is related with the epoxy resin hardened|cured material obtained from this epoxy resin composition, a prepreg, and an epoxy resin laminated board.

에폭시 수지는 접착성, 가요성, 내열성, 내약품성, 절연성, 경화 반응성이 우수한 점에서, 도료, 토목 접착, 주형, 전기 전자 재료, 필름 재료 등 다방면에 걸쳐 사용되고 있다. 특히 전기 전자 재료의 하나인 프린트 배선 기판 용도에서는 에폭시 수지에 난연성을 부여함으로써 널리 사용되고 있다.Epoxy resins have excellent adhesion, flexibility, heat resistance, chemical resistance, insulation, and curing reactivity, and are therefore used in various fields, such as paints, civil bonding, molds, electrical and electronic materials, and film materials. In particular, it is widely used by providing flame retardance to an epoxy resin in the printed wiring board use which is one of electrical and electronic materials.

프린트 배선 기판의 용도의 하나인 휴대형 기기나 그것을 연결하는 기지국 등의 인프라 기기는 최근 비약적 정보량의 증대에 수반하여, 고기능화의 요구가 항상 요구되고 있다. 휴대형 기기에 있어서는 소형화를 목적으로 고다층화나 미세 배선화가 진행되고 있으며, 기판을 얇게 하기 위해서 보다 저유전율의 재료가 요구되고, 미세 배선에 의해 접착면이 감소하는 점에서, 보다 고접착성의 재료가 요구되고 있다. 기지국용 기판에서는 고주파에 의한 신호의 감쇠를 억제하기 위해, 보다 저유전 정접의 재료가 요구되고 있다.BACKGROUND ART In the recent years, with the rapid increase in the amount of information, a high-functionalization request is always required for portable devices, which are one of the uses of printed wiring boards, and infrastructure devices such as base stations to connect them. In portable devices, high multilayering and fine wiring are progressing for the purpose of miniaturization. In order to make the substrate thinner, a material with a lower dielectric constant is required, and since the adhesive surface is reduced by fine wiring, a more highly adhesive material is is being demanded In base station substrates, in order to suppress attenuation of signals due to high frequency, a material with a lower dielectric loss tangent is required.

저유전율, 저유전 정접 및 고접착력과 같은 특성은, 프린트 배선 기판의 매트릭스 수지인 에폭시 수지의 구조에서 유래하는 바가 커, 새로운 에폭시 수지 혹은 그 변성 기술이 요구되고 있다.Characteristics such as low dielectric constant, low dielectric loss tangent, and high adhesive strength are largely derived from the structure of the epoxy resin, which is the matrix resin of a printed wiring board, and a new epoxy resin or its modification technology is required.

에폭시 수지의 저유전율화에 대해서는, 특허문헌 1 은, 4,4'-[1,3-페닐렌비스(1-메틸에틸리덴)]비스[2,6-디메틸]페놀의 디글리시딜에테르화물이 개시되어 있다. 또, 특허문헌 2 에는, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상 (1.0 meq/g 이하) 의 에폭시 수지와 분자 내에 2 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지가 개시되어 있으며, 옥사졸리돈 고리에 의해 고분자화한 에폭시 수지는 저유전율, 저유전 정접이고, 유리 전이 온도도 높은 것이 개시되어 있다.Regarding the low dielectric constant of the epoxy resin, Patent Document 1 discloses 4,4'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bis[2,6-dimethyl]phenol diglycidyl Etherides are disclosed. Moreover, in patent document 2, alcoholic hydroxyl group equivalent is 1000 g/eq. An epoxy resin obtained by reacting the above (1.0 meq/g or less) epoxy resin with an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule is disclosed, and the epoxy resin polymerized by an oxazolidone ring has a low dielectric constant, low dielectric constant It is tangent, and it is disclosed that a glass transition temperature is also high.

에폭시 수지와 이소시아네이트의 반응에 의한 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지에 대해서는 특허문헌 3 에도 개시되어 있으며, 원료 에폭시 수지로서, 비스페놀 A 등의 2 가 페놀류를 글리시딜화한 화합물, 트리스(글리시딜옥시페닐)알칸류나 아미노페놀 등을 글리시딜화한 화합물 등이나, 페놀 노볼락 등의 노볼락류를 글리시딜화한 화합물의 예시가 있다. 그러나, 어느 문헌에 개시된 에폭시 수지도 최근의 고기능화에 기초하는 유전 특성의 요구를 충분히 만족시키는 것은 아니며, 접착성도 불충분하였다.Patent Document 3 also discloses an oxazolidone ring-containing epoxy resin by reaction of an epoxy resin and an isocyanate, and as a raw material epoxy resin, a compound obtained by glycidylating dihydric phenols such as bisphenol A, tris(glycidyloxy) Examples of compounds obtained by glycidylation of phenyl) alkanes, aminophenols, and the like, and compounds obtained by glycidylation of novolacs such as phenol novolac are exemplified. However, neither the epoxy resins disclosed in any of the literatures satisfactorily satisfies the requirements for dielectric properties based on recent high functionalization, and the adhesiveness was also insufficient.

일본 공개특허공보 평5-293929호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-293929 일본 공개특허공보 평9-278867호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 9-278867 일본 공개특허공보 평5-43655호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-43655

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 저유전성, 고내열성, 고접착성이 우수한 성능을 갖고, 적층, 성형, 주형, 접착 등의 용도에 유용한 에폭시 수지, 그 에폭시 수지를 필수 성분으로 하는 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물을 제공하는 것이다.Therefore, the problem to be solved by the present invention is an epoxy resin that has excellent performance in low dielectric properties, high heat resistance, and high adhesion, and is useful for lamination, molding, casting, bonding, etc., and an epoxy containing the epoxy resin as an essential component To provide a resin composition and a cured product thereof.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명자는 저유전율, 저유전 정접 재료에 대해 예의 검토한 결과, 에폭시 수지 중에서도 하기 식 (1) 의 에폭시 수지와 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지가 종래에 없는 저유전율, 저유전 정접과 높은 유리 전이 온도를 양립하고, 나아가서는 접착력도 양호한 것을 알아내어 본 발명을 완성하였다.In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied low-dielectric constant and low-dielectric dissipation tangent materials. Among epoxy resins, oxazolidone ring-containing epoxy resins obtained by reacting an epoxy resin of the following formula (1) with an isocyanate compound are The present invention was completed by discovering that a conventional low dielectric constant, a low dielectric loss tangent and a high glass transition temperature were compatible, and the adhesive force was also good.

즉, 본 발명은, 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지는 에폭시 당량이 200 ∼ 550 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지이다.That is, in this invention, the epoxy equivalent obtained from the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) containing 50 mass % or more of the epoxy resin (a1) represented by following formula (1) 200-550 g/eq. It is an epoxy resin containing phosphorus oxazolidone ring.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112015108162974-pat00001
Figure 112015108162974-pat00001

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)(Wherein, X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G is a glycidyl group. represents repetition, and the average value is 0 to 5.)

상기 에폭시 수지 (a1) 의 알코올성 수산기 당량은 3000 g/eq. 이상인 것이 바람직하다.The alcoholic hydroxyl equivalent of the said epoxy resin (a1) is 3000 g/eq. more preferably.

상기 에폭시 수지 (a) 는, 상기 에폭시 수지 (a1) 이외의 에폭시 수지로서, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상인 에폭시 수지 (a2) 를 50 질량% 이하로 함유하는 것이 바람직하다. 또, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량은 100 ∼ 500 g/eq. 인 것이 바람직하다.The said epoxy resin (a) is an epoxy resin other than the said epoxy resin (a1), Comprising: An alcoholic hydroxyl group equivalent is 1000 g/eq. It is preferable to contain the above epoxy resin (a2) in 50 mass % or less. Moreover, the epoxy equivalent of an epoxy resin (a) is 100-500 g/eq. It is preferable to be

상기 이소시아네이트 화합물 (b) 은, 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 것이 바람직하고, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 것이 보다 바람직하다.The isocyanate compound (b) preferably has an average of 1.8 or more isocyanate groups in the molecule, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, It is more preferable that it is 1 or more types chosen from trimethyl hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate.

상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 적외 흡수 스펙트럼에 의한 분석에서, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ox, 우레탄 결합 구조의 카르보닐기의 신축 진동 피크에서 유래하는 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ur 로 했을 때, 흡광도비 Ox/Ur 이 1.35 이상인 것이 바람직하다.The oxazolidone ring-containing epoxy resin has, in the analysis by infrared absorption spectrum, the maximum value of the peak contained in 1745 to 1760 cm -1 derived from stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring absorbance Ox, urethane bond structure When the absorbance Ur is the maximum value of the peak included in 1730-1740 cm -1 derived from the stretching vibration peak of the carbonyl group, the absorbance ratio Ox/Ur is preferably 1.35 or more.

상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 연화점은 50 ∼ 150 ℃ 인 것이 바람직하다.It is preferable that the softening point of the said oxazolidone ring containing epoxy resin is 50-150 degreeC.

또, 본 발명은, 상기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 촉매 존재하에서, 반응 온도 100 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 범위에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법이다.Moreover, in this invention, the epoxy resin (a) containing 50 mass % or more of the epoxy resin (a1) represented by said Formula (1), and an isocyanate compound (b) in catalyst presence, reaction temperature 100 degreeC or more and 250 degrees C or less It is a method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin, characterized in that it is reacted in the range of

상기 이소시아네이트 화합물 (b) 은, 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 것이 바람직하고, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 상기 촉매는 염기성 촉매인 것이 바람직하다.The isocyanate compound (b) preferably has an average of 1.8 or more isocyanate groups in the molecule, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, It is more preferable that it is 1 or more types chosen from trimethyl hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate. Moreover, it is preferable that the said catalyst is a basic catalyst.

상기 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 상기 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 0.02 몰 이상 0.5 몰 미만의 범위인 것이 바람직하고, 0.05 몰 이상 0.48 몰 이하의 범위인 것이 보다 바람직하고, 0.1 몰 이상 0.45 몰 이하의 범위인 것이 더욱 바람직하다.With respect to 1 mol of the epoxy group of the epoxy resin (a), the isocyanate group of the isocyanate compound (b) is preferably in the range of 0.02 mol or more and less than 0.5 mol, more preferably 0.05 mol or more and 0.48 mol or less, 0.1 It is more preferable that it is in the range of more than mol and not more than 0.45 mol.

또, 본 발명은, 상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 및 경화제를 필수로 하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물이다.Moreover, this invention is an epoxy resin composition containing the said oxazolidone ring containing epoxy resin and a hardening|curing agent as essential.

상기 에폭시 수지 조성물 중의 상기 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 함유하는 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 상기 경화제의 활성 수소기는 0.2 ∼ 1.5 몰인 것이 바람직하다.It is preferable that the active hydrogen group of the said hardening|curing agent is 0.2-1.5 mol with respect to 1 mol of the epoxy groups of all the epoxy resins containing the said oxazolidone ring containing epoxy resin in the said epoxy resin composition.

또한 본 발명은, 상기 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물이다. 또, 본 발명은, 상기 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 프리프레그 및 에폭시 수지 적층판이다.Moreover, this invention is the epoxy resin hardened|cured material formed by hardening|curing the said epoxy resin composition. Moreover, this invention uses the said epoxy resin composition, The prepreg and epoxy resin laminated board characterized by the above-mentioned.

본 발명의 에폭시 수지 및 그것을 함유하는 수지 조성물 그리고 그 경화물은, 접착력을 유지하면서 유리 전이 온도가 높은 경화물 물성을 나타낸다. 또한, 이 그 에폭시 수지 경화물은 유전 특성이 우수하고, 저유전율, 저유전 정접이 요구되는 에폭시 수지 적층판에 있어서 양호한 특성을 발휘한다.The epoxy resin of the present invention, a resin composition containing the same, and a cured product thereof exhibit physical properties of a cured product having a high glass transition temperature while maintaining adhesive strength. In addition, this cured epoxy resin product is excellent in dielectric properties and exhibits favorable properties in epoxy resin laminates requiring low dielectric constant and low dielectric loss tangent.

도 1 은 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 GPC 차트이다.
도 2 는 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 IR 차트이다.
도 3 은 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 13C-NMR 스펙트럼이다.
도 4 는 실시예 1 에서 얻어진 수지 1 의 흡광도 스펙트럼이다.
도 5 는 비교예 2 에서 얻어진 비교 수지 2 의 흡광도 스펙트럼이다.
1 is a GPC chart of Resin 1 obtained in Example 1. FIG.
2 is an IR chart of Resin 1 obtained in Example 1. FIG.
3 is a 13 C-NMR spectrum of Resin 1 obtained in Example 1. FIG.
4 is an absorbance spectrum of Resin 1 obtained in Example 1. FIG.
5 is an absorbance spectrum of Comparative Resin 2 obtained in Comparative Example 2. FIG.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻기 위해서 사용하는 에폭시 수지 (a) 는, 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 함유하는 것이며, 바람직하게는 50 질량% 이상 함유한다.The epoxy resin (a) used in order to obtain the oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention contains the epoxy resin (a1) represented by Formula (1), Preferably it contains 50 mass % or more.

상기 에폭시 수지 (a) 는, 에폭시 수지 (a1) 이외의 다른 에폭시 수지 (a2) 를 50 질량% 미만 함유할 수 있다. 에폭시 수지 (a2) 는, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상이 바람직하고, 에폭시 수지 (a2) 의 에폭시 당량은 100 ∼ 500 g/eq. 가 바람직하다.The said epoxy resin (a) can contain less than 50 mass % of other epoxy resins (a2) other than an epoxy resin (a1). The epoxy resin (a2) has an alcoholic hydroxyl equivalent of 1000 g/eq. The above is preferable, and the epoxy equivalent of an epoxy resin (a2) is 100-500 g/eq. is preferable

식 (1) 중, R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 탄화수소기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기, 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타낸다. 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 8 의 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, 헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기로는, 시클로헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 아르알킬기로는, 페닐기, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 나프틸기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. 바람직한 R 로는, 입수의 용이성 및 경화물로 했을 때의 내열성 등의 물성의 관점에서, 수소 원자, 1-페닐에틸기 또는 메틸기이다.In formula (1), R each independently represents a hydrogen atom, a C1-C8 hydrocarbon group, a C5-C8 cycloalkyl group, a C6-C10 aryl group, or a C6-C10 aralkyl group. For example, as a C1-C8 hydrocarbon group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, hexyl group, etc. are mentioned, A C5-C8 cycloalkyl group is a cyclohexyl group, and the aryl group or aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms includes, but is not limited to, a phenyl group, a benzyl group, a phenethyl group, a 1-phenylethyl group, and a naphthyl group. , may be the same as or different from each other. Preferred R is a hydrogen atom, a 1-phenylethyl group, or a methyl group from the viewpoint of physical properties such as ease of availability and heat resistance when a cured product is used.

식 (1) 중, R 의 치환 위치는, X 와 결합하는 탄소 원자에 대해, 오르토 위치, 메타 위치 중 어느 것이어도 되지만, 오르토 위치가 바람직하다.In Formula (1), although any of an ortho position and a meta position may be sufficient as the substitution position of R with respect to the carbon atom couple|bonded with X, an ortho position is preferable.

식 (1) 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기를 치환기로서 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. 이들 시클로알킬리덴기를 구성하는 시클로알칸 고리는, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 또는 시클로옥탄 고리 중 어느 것이고, 시클로펜탄 고리 또는 시클로헥산 고리가 바람직하다.In the formula (1), X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms having at least one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms as a substituent. The cycloalkane ring constituting these cycloalkylidene groups is any of a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, or a cyclooctane ring, and a cyclopentane ring or a cyclohexane ring is preferable.

또, 시클로알칸 고리에 결합하는 치환기는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기, 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기이고, 적어도 1 개 치환되어 있을 필요가 있다. 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 아르알킬기로는, 페닐기, 벤질기, 톨릴기, o-자일릴기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 복수 있는 경우에는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. 바람직한 치환기로는, 입수의 용이성 및 적층판에 있어서의 접착성 등의 물성의 관점에서, 메틸기나 페닐기이다.Moreover, the substituent couple|bonded with a cycloalkane ring is a C1-C4 alkyl group, a C6-C10 aryl group, or a C6-C10 aralkyl group, and it needs to be substituted by at least one. For example, as a C1-C4 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, etc. are mentioned, C6 Although phenyl group, a benzyl group, a tolyl group, o-xylyl group etc. are mentioned as -10 aryl group or aralkyl group, It is not limited to these, When there exists a plurality, each may be same or different. Preferable substituents are a methyl group and a phenyl group from the viewpoints of physical properties such as ease of availability and adhesiveness in a laminate.

또한, 시클로알킬리덴기는, 1,1-시클로알킬리덴기이고, 상기 치환기는, 시클로알킬리덴기의 1 위치의 탄소에 결합한 벤젠 고리 또는 치환기 상호간에 작용하는 입체적인 반발 작용에 의해 시클로알칸 고리의 운동성을 제한하여 유전 특성의 향상과 동시에, 내열성도 향상시키는 것을 목적으로 하고 있다. 이 치환 위치는, 운동성을 제한할 수 있는 위치이면 어디에 결합해도 되지만, 시클로알킬리덴기의 1 위치에 가까운 탄소 원자에 결합하는 것이 바람직하다. 바람직한 치환기의 위치는, 시클로펜탄 고리에서는 2 위치 또는 5 위치의 탄소 원자이다. 시클로헥산 고리에서는 2 위치, 3 위치, 5 위치 또는 6 위치의 탄소 원자이고, 보다 바람직하게는 2 위치 또는 6 위치의 탄소 원자이다. 시클로헵탄 고리에서는, 2 위치, 3 위치, 6 위치 또는 7 위치의 탄소 원자이고, 보다 바람직하게는 2 위치 또는 7 위치의 탄소 원자이다. 시클로옥탄 고리에서는, 2 위치, 3 위치, 4 위치, 6 위치, 7 위치 또는 8 위치의 탄소 원자이고, 보다 바람직하게는 2 위치, 3 위치, 7 위치 또는 8 위치의 탄소 원자이고, 더욱 바람직하게는 2 위치 또는 8 위치의 탄소 원자이다. 단, 인접하는 벤젠 고리와의 입체 장해의 영향에 의해, 1 위치에 가장 가까운 탄소 원자로 치환하는 것이 곤란한 경우도 있으며, 그 경우, 치환기는 그 다음에 가까운 탄소 원자에 결합하는 것이 적합하다. 예를 들어, 시클로헥산 고리에서는, 2 위치 또는 6 위치의 탄소 원자가 1 위치에 가장 가깝지만, 입체 장해에 의해 치환이 곤란한 경우, 그 다음에 가까운 3 위치 또는 5 위치에 치환기가 결합하면 된다.Further, the cycloalkylidene group is a 1,1-cycloalkylidene group, and the substituent is a benzene ring bonded to the 1-position carbon of the cycloalkylidene group or the cycloalkane ring mobility due to a steric repulsion action between the substituents. It aims to improve dielectric properties by limiting and to improve heat resistance at the same time. The substitution position may be bonded anywhere as long as it is a position capable of restricting mobility, but bonding to a carbon atom close to the 1-position of the cycloalkylidene group is preferable. A preferred position of the substituent is a carbon atom at the 2-position or 5-position in the cyclopentane ring. In a cyclohexane ring, it is a 2-position, 3-position, 5-position, or 6-position carbon atom, More preferably, it is a 2-position or 6-position carbon atom. In a cycloheptane ring, it is a 2-position, 3-position, 6-position, or 7-position carbon atom, More preferably, it is a 2-position or 7-position carbon atom. In the cyclooctane ring, it is a carbon atom at the 2nd, 3rd, 4th, 6th, 7th or 8th position, more preferably a carbon atom at the 2nd, 3rd, 7th or 8th position, still more preferably is a carbon atom in the 2-position or 8-position. However, there are cases in which it is difficult to substitute the carbon atom closest to the 1-position due to the influence of steric hindrance with the adjacent benzene ring, and in that case, it is suitable for the substituent to be bonded to the next closest carbon atom. For example, in the cyclohexane ring, the carbon atom at the 2-position or 6-position is closest to the 1-position, but when substitution is difficult due to steric hindrance, a substituent may be bonded to the next nearest 3-position or 5-position.

또, 치환기의 수는, 상기 서술한 이유에 의해 적어도 1 개 필요하지만, 경화물로 했을 때의 내열성의 관점에서, 3 개 이상이 바람직하고, 3 개가 보다 바람직하다.Moreover, although at least 1 is needed for the reason mentioned above, the number of substituents is preferable from a viewpoint of the heat resistance when it is set as hardened|cured material, 3 or more are more preferable.

식 (1) 중, m 은 반복수이며, 그 평균값 (수평균) 은 0 ∼ 5 이고, 0 ∼ 3 이 바람직한 범위이고, 0 ∼ 1 이 보다 바람직한 범위이고, 0 ∼ 0.5 가 더욱 바람직한 범위이다. 그리고, 반복수 (정수) 는, 통상적으로 0 ∼ 5 의 정수의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 반복수가 0 ∼ 5 중 어느 하나의 정수인 단일 화합물이어도, m 이 0 ∼ 5 중 복수의 정수인 혼합물이어도 된다. 통상적인 다가 하이드록시 수지의 에피클로로하이드린 등에 의한 에폭시화에서는, 혼합물로서 얻어지므로, 혼합물이면 그대로 사용할 수 있다는 이점이 있다.In Formula (1), m is the number of repetitions, the average value (number average) is 0-5, 0-3 are a preferable range, 0-1 are more preferable ranges, and 0-0.5 are still more preferable ranges. And it is preferable that the repetition number (integer) exists in the range of the integer of normally 0-5. It may be a single compound whose repetition number is any integer of 0-5, or the mixture whose m is an integer of any one of 0-5 may be sufficient. In normal polyvalent hydroxy resin epoxidation with epichlorohydrin, etc., since it is obtained as a mixture, there exists an advantage that it can be used as it is if it is a mixture.

에폭시 수지 (a1) 의 알코올성 수산기 당량이 3000 g/eq. 이상인 것이 바람직하다. 그 때문에, 반복수 (정수) 는 0 ∼ 3 이 바람직하고, 0 ∼ 2 가 보다 바람직하고, 0 ∼ 1 이 더욱 바람직하다. 6 이상인 화합물을 함유하는 경우에는, 에폭시 수지 (a1) 중의 알코올성 수산기가 많아지고, 이것과 이소시아네이트가 반응함으로써 우레탄 결합이 생기기 때문에, 경화물의 유리 전이점을 저하시키는 점에서 바람직하지 않다. 또, 경화물 중의 수산기 농도가 증가하기 때문에 경화물의 유전율을 높이는 점에서도 바람직하지 않다. 또한, 알코올성 수산기 당량이 클수록 알코올성 수산기가 적은 것을 나타낸다. m 이 0 인 경우, 알코올성 수산기가 없어져, 알코올성 수산기 당량은 이론상 무한대가 되기 때문에, 상한값을 특별히 정할 필요는 없다.The alcoholic hydroxyl equivalent of the epoxy resin (a1) was 3000 g/eq. more preferably. Therefore, 0-3 are preferable, as for the number of repetitions (integer), 0-2 are more preferable, and 0-1 are still more preferable. Since the alcoholic hydroxyl group in an epoxy resin (a1) increases and a urethane bond arises when this and isocyanate react when 6 or more compound is contained, it is unpreferable from the point of reducing the glass transition point of hardened|cured material. Moreover, since the hydroxyl group density|concentration in hardened|cured material increases, it is also unpreferable from the point which raises the dielectric constant of hardened|cured material. Moreover, it shows that there are few alcoholic hydroxyl groups, so that alcoholic hydroxyl group equivalent is large. When m is 0, an alcoholic hydroxyl group disappears, and since the alcoholic hydroxyl group equivalent becomes infinite theoretically, it is not necessary to set an upper limit in particular.

에폭시 수지 (a1) 는, 하기 식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물과 에피할로하이드린을 수산화나트륨 등의 알칼리 존재하에서 반응시키는 방법이나, 식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물을 알릴에테르화물에 의해 알릴에테르화한 후에 과산화물 등의 산화제로 알릴기를 산화하여 에폭시화하는 방법 등의 공지된 방법으로 얻을 수 있다.The epoxy resin (a1) is a method in which a phenol compound represented by the following formula (2) and epihalohydrin are reacted in the presence of an alkali such as sodium hydroxide, or a phenol compound represented by the formula (2) is allyl etherified with an allyl ether. It can be obtained by a known method such as epoxidation by oxidizing the allyl group with an oxidizing agent such as peroxide after etherification.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112015108162974-pat00002
Figure 112015108162974-pat00002

(식 중, R 및 X 는 식 (1) 의 R 및 X 와 각각 동일한 의미이다)(wherein R and X have the same meaning as R and X in formula (1), respectively)

에폭시 수지 (a1) 의 에폭시 당량은, 100 g/eq. ∼ 500 g/eq. 가 바람직하고, 150 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 보다 바람직하다. 또, 알코올성 수산기 당량도 3000 g/eq. 이상이 바람직하고, 4000 g/eq. 이상이 보다 바람직하고, 5000 g/eq. 이상이 더욱 바람직하다.The epoxy equivalent of the epoxy resin (a1) is 100 g/eq. -500 g/eq. is preferred, 150 g/eq. -300 g/eq. is more preferable. Moreover, the alcoholic hydroxyl group equivalent is also 3000 g/eq. More preferably, 4000 g/eq. More preferably, 5000 g/eq. The above is more preferable.

식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물은, 일본 공개특허공보 평4-282334호나 일본 공개특허공보 2015-51935호에서 개시된 방법 등으로, 각각 상당하는 고리형 지방족 케톤류와 페놀류를 반응시킴으로써 얻어진다. 구체적인 페놀 화합물예로는 하기에 나타내는 바와 같은 페놀 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.The phenolic compound represented by Formula (2) is obtained by making corresponding cyclic aliphatic ketones and phenols react by the method etc. disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 4-282334 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-51935, respectively. Although a phenol compound etc. which are shown below are mentioned as a specific phenol compound example, It is not limited to these.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112015108162974-pat00003
Figure 112015108162974-pat00003

이들 예시한 페놀 화합물은, 시판품으로서도 입수 가능하고, 예를 들어, BisP-TMC, BisOC-TMC, BisP-MZ, BisP-3MZ, BisP-IPZ, BisCR-IPZ, Bis26X-IPZ, BisOCP-IPZ, BisP-nBZ, BisOEP-2HBP (이상, 상품명, 혼슈 화학 공업 제조) 등을 들 수 있다.These exemplified phenolic compounds are commercially available as well, for example, BisP-TMC, BisOC-TMC, BisP-MZ, BisP-3MZ, BisP-IPZ, BisCR-IPZ, Bis26X-IPZ, BisOCP-IPZ, BisP -nBZ, BisOEP-2HBP (above, a brand name, Honshu Chemical Industry make) etc. are mentioned.

식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 로는, 상기 식 (2) 로 나타내는 페놀 화합물류와 에피할로하이드린으로부터 얻어지는 에폭시 수지를 들 수 있다. 예를 들어, 4,4'-(2-메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3-메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(4-메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)디페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-페닐페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-페닐페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-디메틸페놀글리시딜에테르, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)-비스-tert-부틸페놀글리시딜에테르 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.As an epoxy resin (a1) represented by Formula (1), the epoxy resin obtained from the phenol compounds represented by the said Formula (2), and epihalohydrin is mentioned. For example, 4,4'-(2-methylcyclohexylidene)diphenol glycidyl ether, 4,4'-(3-methylcyclohexylidene)diphenol glycidyl ether, 4,4' -(4-methylcyclohexylidene)diphenol glycidyl ether, 4,4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)diphenol glycidyl ether, 4,4'-(3, 3,5-trimethylcyclohexylidene)-bis-phenylphenol glycidyl ether, 4,4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)-bis-phenylphenol glycidyl ether, 4, 4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)-bis-dimethylphenol glycidyl ether, 4,4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)-bis-tert-butyl Although phenol glycidyl ether etc. are mentioned, It is not limited to these, It may be used independently and may use 2 or more types together.

에폭시 수지 (a1) 로는, 입수의 용이성과 경화물의 물성의 양호성에서, 하기 식 (3) 으로 나타내는 페놀 화합물인 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)디페놀과 에피할로하이드린으로부터 얻어지는 하기 식 (4) 로 나타내는 에폭시 수지가 바람직하다.As the epoxy resin (a1), 4,4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)diphenol and epi which are phenolic compounds represented by the following formula (3) from the viewpoint of ease of availability and good physical properties of the cured product. The epoxy resin represented by the following formula (4) obtained from halohydrin is preferable.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112015108162974-pat00004
Figure 112015108162974-pat00004

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112015108162974-pat00005
Figure 112015108162974-pat00005

(식 중, m 은 식 (1) 의 m 과 동일한 의미이다)(wherein m has the same meaning as m in formula (1))

본 발명에 사용하는 에폭시 수지 (a) 로서, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 에폭시 수지 (a1) 이외의 에폭시 수지 (a2) 를 50 질량% 이하로 병용해도 된다. 에폭시 수지 (a2) 는, 식 (1) 로 나타내는 구조를 갖지 않는 것으로 이해된다. 본원 발명의 효과가 가장 발현되는 배합은, 에폭시 수지 (a1) 의 단독 사용 (100 질량%) 이다. 또, 에폭시 수지 (a1) 의 사용량이 50 질량% 미만에서는 본원 발명의 효과가 발현되지 않을 우려가 있다. 병용할 수 있는 에폭시 수지 (a2) 를 사용하는 목적은, 예를 들어, 용제 용해성의 추가적인 향상 등의 다른 특성의 부여를 위해서이다. 따라서 에폭시 수지 (a2) 의 사용량은 가능한 한 적은 것이 바람직하다.As an epoxy resin (a) used for this invention, unless the effect of this invention is impaired, you may use together epoxy resins (a2) other than an epoxy resin (a1) at 50 mass % or less. It is understood that the epoxy resin (a2) does not have a structure represented by Formula (1). The compounding in which the effect of this invention is expressed most is single use (100 mass %) of an epoxy resin (a1). Moreover, if the usage-amount of an epoxy resin (a1) is less than 50 mass %, there exists a possibility that the effect of this invention may not be expressed. The objective of using the epoxy resin (a2) which can be used together is for provision of other characteristics, such as the further improvement of solvent solubility, for example. Therefore, it is preferable that the usage-amount of an epoxy resin (a2) is as small as possible.

에폭시 수지 (a2) 중에 함유되는 알코올성 수산기는 이소시아네이트와 반응하여 우레탄 결합을 형성하므로, 경화물의 내열성을 저하시킬 우려가 있다. 그 때문에, 알코올성 수산기 당량은 1000 g/eq. 이상이 바람직하고, 3000 g/eq. 이상이 보다 바람직하고, 5000 g/eq. 이상이 더욱 바람직하다.Since the alcoholic hydroxyl group contained in the epoxy resin (a2) reacts with isocyanate and forms a urethane bond, there exists a possibility of reducing the heat resistance of hardened|cured material. Therefore, the alcoholic hydroxyl equivalent is 1000 g/eq. More preferably, 3000 g/eq. More preferably, 5000 g/eq. The above is more preferable.

또, 에폭시 수지 (a2) 의 에폭시 당량은 특별히 한정되지 않지만, 100 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 바람직하고, 170 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 보다 바람직하다.Moreover, although the epoxy equivalent of an epoxy resin (a2) is not specifically limited, 100 g/eq. -300 g/eq. is preferred, 170 g/eq. -300 g/eq. is more preferable.

사용할 수 있는 에폭시 수지 (a2) 로는, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 (등록상표) YD-127, 에포토트 YD-128, 에포토트 YD-8125, 에포토트 YD-825GS (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDF-170, 에포토트 YDF-1500, 에포토트 YDF-8170, 에포토트 YDF-870GS (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 테트라메틸비스페놀 F 형 에폭시 수지, 예를 들어 YSLV-80XY, YSLV-70XY (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비페놀형 에폭시 수지, 예를 들어 YX-4000 (상품명, 미츠비시 화학 주식회사 제조), ZX-1251 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDC-1312, ZX-1027 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 예를 들어 ZX-1201 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 예를 들어 ZX-1355 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 예를 들어 TX-0710 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피크론 (등록상표) EXA-1515 (상품명, 다이닛폰 화학 공업 주식회사 제조), 비스티오에테르형 에폭시 수지, 예를 들어 YSLV-120TE (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 레조르시놀형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1684 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDPN-638 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피코트 (등록상표) 152, 에피코트 154 (이상, 상품명, 미츠비시 화학 주식회사 제조), 에피크론 N-740, 에피크론 N-770, 에피크론 N-775 (이상, 상품명, DIC 주식회사 제조), 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 YDCN-700 시리즈 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 에피크론 N-660, 에피크론 N-665, 에피크론 N-670, 에피크론 N-673, 에피크론 N-695 (이상, 상품명, DIC 주식회사 제조), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (이상, 상품명, 닛폰 화약 주식회사 제조), 알킬 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1071T, ZX-1270, ZX-1342 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 스티렌화페놀 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1247, GK-5855, TX-1210 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, 예를 들어 에포토트 ZX-1142L (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), β나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-300 시리즈의 ESN-355, ESN-375 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), α나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 예를 들어 ESN-400 시리즈의 ESN-475V, ESN-485 (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지, 예를 들어 NC-3000, NC-3000H (이상, 상품명, 닛폰 화약 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜에테르 화합물, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜에테르, 예를 들어 에포토트 YH-434, 에포토트 YH-434GS (이상, 상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), N,N,N',N'-테트라글리시딜-1,3-벤젠디(메탄아민), 예를 들어 TETRAD-X (상품명, 미츠비시 가스 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜아민 화합물, 다이머산형 에폭시 수지, 예를 들어 YD-171 (상품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조) 등의 폴리글리시딜에스테르 화합물, 지방족 고리형 에폭시 수지, 예를 들어 셀록사이드 (등록상표) 2021 (상품명, 다이셀 화학 공업 주식회사 제조) 등의 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다.As an epoxy resin (a2) which can be used, a bisphenol A epoxy resin, for example, Epototte (trademark) YD-127, Epototte YD-128, Epototte YD-8125, Epototte YD-825GS. (above, brand name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), bisphenol F-type epoxy resin, for example, EPOTOT YDF-170, EPOTOT YDF-1500, EPOTOT YDF-8170, EPOTOT YDF-870GS (above, a brand name, the Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd. make), tetramethylbisphenol F-type epoxy resin, for example, YSLV-80XY, YSLV-70XY (above, a brand name, the Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd. make), a biphenol-type epoxy Resins such as YX-4000 (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), ZX-1251 (trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), hydroquinone-type epoxy resins such as EPOTOT YDC-1312, ZX- 1027 (above, trade name, manufactured by Nippon-Sumikin Chemical Co., Ltd.), bisphenol fluorene type epoxy resin such as ZX-1201 (trade name, manufactured by Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), naphthalenediol type epoxy resin such as ZX -1355 (trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), bisphenol S-type epoxy resin such as TX-0710 (trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epicron (registered trademark) EXA-1515 (trade name, Dainippon Chemical Industry Co., Ltd. product), bisthioether type epoxy resin, for example, YSLV-120TE (trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), resorcinol type epoxy resin such as Epotot ZX-1684 (trade name) , Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), phenol novolak-type epoxy resin, for example, EPOTOT YDPN-638 (above, trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), Epicoat (registered trademark) 152, Epicoat 154 (above, trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), Epicron N-740, Epicron N-770, Epicron N-775 (above, trade name, manufactured by DIC Corporation), cresol novolak type epoxy resin, for example, Epototte YDCN-700 series (trade name, manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), EPICRON N-660, EPICRON N-665, Epicron N-670, Epicron N-673, Epicron N-695 (above, trade name, manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (above, trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd.) manufacture), alkyl novolak-type epoxy resins, such as Epotot ZX-1071T, ZX-1270, ZX-1342 (above, trade names, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), styrenated phenol novolac-type epoxy resins; For example, EPOTOT ZX-1247, GK-5855, TX-1210 (above, trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), naphthol novolak type epoxy resin, such as EPOTOT ZX-1142L (trade name, Shin-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), β-naphthol aralkyl type epoxy resin, such as ESN-155, ESN-185V, ESN-175 (above, trade name, manufactured by Shin-Nippon Sumikin Chemical Co., Ltd.), dinaphthol aralkyl type Epoxy resins, for example ESN-355 of ESN-300 series, ESN-375 (above, trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), α naphthol aralkyl type epoxy resin, such as ESN-400 series of ESN- 475V, ESN-485 (above, trade name, manufactured by Nippon Chemicals Co., Ltd.), biphenyl aralkylphenol type epoxy resin, such as NC-3000, NC-3000H (above, trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Polyglycidyl ether compound, diaminodiphenylmethane tetraglycidyl ether, for example, Epototh YH-434, Epototh YH-434GS (above, trade names, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), N; Polyglycidylamine compounds such as N,N',N'-tetraglycidyl-1,3-benzenedi(methanamine), for example, TETRAD-X (trade name, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.); Immeric acid-type epoxy resins, for example, polyglycidyl ester compounds such as YD-171 (trade name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), aliphatic cyclic epoxy resins such as Celoxide (registered trademark) 2021 (trade name, Although alicyclic epoxy compounds, such as Daicel Chemical Industry Co., Ltd. make), are mentioned, It is not limited to these, These epoxy resins may be used independently and may use 2 or more types together.

병용할 수 있는 에폭시 수지 (a2) 중, 보다 유전율을 저하시키는 목적에서는 지방족 치환기를 함유하는 에폭시 수지가 바람직하고, 내열성을 보다 향상시키는 목적에서는 다관능성인 페놀 노볼락형 에폭시 수지와 크레졸 노볼락형 에폭시 수지가 바람직하고, 점도를 저하시키는 목적에서는 비스페놀 A 형 에폭시 수지와 비스페놀 F 형 에폭시 수지가 각각 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Among the epoxy resins (a2) that can be used in combination, epoxy resins containing aliphatic substituents are preferable for the purpose of further lowering the dielectric constant, and polyfunctional phenol novolac-type epoxy resins and cresol novolac-type epoxy resins for the purpose of further improving heat resistance An epoxy resin is preferable, and although a bisphenol A epoxy resin and a bisphenol F epoxy resin are preferable for the objective of reducing a viscosity, respectively, it is not limited to these.

본 발명에 사용하는 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량은, 100 g/eq. ∼ 500 g/eq. 가 바람직하고, 150 g/eq. ∼ 300 g/eq. 가 보다 바람직하다. 복수의 에폭시 수지를 병용하는 경우에는, 혼합 후에 측정을 실시함으로써 구해진다. 또, 각각의 에폭시 당량이 이미 알려진 경우에는 계산에 의해 구해도 된다.The epoxy equivalent of the epoxy resin (a) used for this invention is 100 g/eq. -500 g/eq. is preferred, 150 g/eq. -300 g/eq. is more preferable. When using a some epoxy resin together, it calculates|requires by measuring after mixing. Moreover, when each epoxy equivalent is already known, you may obtain|require by calculation.

에폭시 수지 (a) 중에 함유되는 알코올성 수산기는 이소시아네이트와 반응하여 우레탄 결합을 형성하므로, 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물의 내열성을 저하시킨다. 그 때문에, 에폭시 수지 (a) 중의 알코올성 수산기 당량은 1000 g/eq. 이상이 바람직하고, 3000 g/eq. 이상이 보다 바람직하고, 5000 g/eq. 이상이 더욱 바람직하다. 복수의 에폭시 수지를 병용하는 경우에는, 혼합 후에 측정을 실시함으로써 구해진다. 또, 각각의 알코올성 수산기 당량이 이미 알려진 경우에는 계산에 의해 구해도 된다.Since the alcoholic hydroxyl group contained in the epoxy resin (a) reacts with isocyanate to form a urethane bond, the heat resistance of the epoxy resin hardened|cured material obtained by hardening an epoxy resin composition is reduced. Therefore, the alcoholic hydroxyl group equivalent in an epoxy resin (a) is 1000 g/eq. More preferably, 3000 g/eq. More preferably, 5000 g/eq. The above is more preferable. When using a some epoxy resin together, it calculates|requires by measuring after mixing. Moreover, when each alcoholic hydroxyl group equivalent is already known, you may calculate|require by calculation.

에폭시 수지 (a) 의 알코올성 수산기는, 페놀 화합물과 에피할로하이드린의 반응에 수반하여 발생한 알코올성 수산기이다. 에피할로하이드린이 에피클로로하이드린인 경우, 이들 알코올성 수산기는, 페놀 화합물이 에피클로로하이드린의 α 위치에 부가됨으로써 발생하는 2-클로로-3-하이드록시프로필기에서 유래하는 알코올성 수산기 (α), 페놀 화합물이 에피클로로하이드린의 β 위치에 부가됨으로써 발생하는 1-클로로메틸-2-하이드록시에틸기에서 유래하는 알코올성 수산기 (β), 에폭시 수지에 페놀 화합물이 부가됨으로써 발생하는 2 급 알코올성 수산기 (γ), 에폭시 수지의 에폭시기가 가수분해됨으로써 발생하는 α글리콜 (δ) 이다. 본 발명에서의 알코올성 수산기는 (α), (β), (γ) 및 (δ) 모두를 가리키므로, 알코올성 수산기 당량은, (α), (β), (γ) 및 (δ) 모두가 측정 대상이다.The alcoholic hydroxyl group of an epoxy resin (a) is an alcoholic hydroxyl group generated with reaction of a phenol compound and epihalohydrin. When the epihalohydrin is epichlorohydrin, these alcoholic hydroxyl groups are an alcoholic hydroxyl group derived from the 2-chloro-3-hydroxypropyl group (α ), an alcoholic hydroxyl group derived from 1-chloromethyl-2-hydroxyethyl group generated by the addition of a phenol compound to the beta position of epichlorohydrin (β), a secondary alcoholic hydroxyl group generated by adding a phenol compound to an epoxy resin (γ) and α glycol (δ) generated by hydrolysis of the epoxy group of the epoxy resin. Since the alcoholic hydroxyl group in the present invention refers to all of (α), (β), (γ) and (δ), the alcoholic hydroxyl group equivalent is (α), (β), (γ) and (δ) all object to be measured.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 제조하기 위해서는, 에폭시 수지 (a) 와 함께, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 사용한다. 이 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응에 의해, 원하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻을 수 있다. 이 이소시아네이트 화합물 (b) 은, 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기 (-N=C=O) 를 갖는 이소시아네이트 화합물이면 되고, 공지 관용의 이소시아네이트 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 트랜스시클로헥산1,4-디이소시아네이트, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 메탄디이소시아네이트, 부탄-1,1-디이소시아네이트, 에탄-1,2-디이소시아네이트, 부탄-1,2-디이소시아네이트, 트랜스비닐렌디이소시아네이트, 프로판-1,3-디이소시아네이트, 부탄-1,4-디이소시아네이트, 2-부텐-1,4-디이소시아네이트, 2-메틸부텐-1,4-디이소시아네이트, 2-메틸부탄-1,4-디이소시아네이트, 펜탄-1,5-디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄-1,5-디이소시아네이트, 헥산-1,6-디이소시아네이트, 헵탄-1,7-디이소시아네이트, 옥탄-1,8-디이소시아네이트, 노난-1,9-디이소시아네이트, 데칸-1,10-디이소시아네이트, 디메틸실란디이소시아네이트, 디페닐실란디이소시아네이트, ω,ω'-1,3-디메틸벤젠디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸벤젠디이소시아네이트, ω,ω'-1,3-디메틸시클로헥산디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸시클로헥산디이소시아네이트, ω,ω'-1,4-디메틸나프탈렌디이소시아네이트, ω,ω'-1,5-디메틸나프탈렌디이소시아네이트, 시클로헥산-1,3-디이소시아네이트, 시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,4-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,5-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-2,6-디이소시아네이트, 1-메틸벤젠-3,5-디이소시아네이트, 디페닐에테르-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐에테르-2,4'-디이소시아네이트, 나프탈렌-1,4-디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 비페닐-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메틸비스페닐-4,4'-디이소시아네이트, 2,3'-디메톡시비스페닐-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 3,3'-디메톡시디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디메톡시디페닐메탄-3,3'-디이소시아네이트, 디페닐술파이트-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐술폰-4,4'-디이소시아네이트 등의 2 관능 이소시아네이트 화합물이나, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(4-페닐이소시아네이트티오포스페이트)-3,3',4,4'-디페닐메탄테트라이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트 화합물이나, 상기 이소시아네이트 화합물의 2 량체나 3 량체 등의 중합체나, 알코올이나 페놀 등의 블록제에 의해 마스크된 블록형 이소시아네이트나, 비스우레탄 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 이소시아네이트 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.In order to manufacture the oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention, an isocyanate compound (b) is used with an epoxy resin (a). A desired oxazolidone ring containing epoxy resin can be obtained by reaction of this epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b). This isocyanate compound (b) should just be an isocyanate compound which has an average of 1.8 or more isocyanate groups (-N=C=O) in a molecule|numerator, and a well-known and usual isocyanate compound can be used. Specifically, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane isocyanate, xylylene diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexamethylene Diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, transcyclohexane 1,4-diisocyanate, 4 , 4-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate -4-isocyanate methyl octane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, methane diisocyanate, butane-1,1-diisocyanate, ethane-1,2-diisocyanate, butane-1, 2-diisocyanate, transvinylene diisocyanate, propane-1,3-diisocyanate, butane-1,4-diisocyanate, 2-butene-1,4-diisocyanate, 2-methylbutene-1,4-diisocyanate , 2-methylbutane-1,4-diisocyanate, pentane-1,5-diisocyanate, 2,2-dimethylpentane-1,5-diisocyanate, hexane-1,6-diisocyanate, heptane-1,7 -diisocyanate, octane-1,8-diisocyanate, nonane-1,9-diisocyanate, decane-1,10-diisocyanate, dimethylsilane diisocyanate, diphenylsilane diisocyanate, ω,ω'-1,3 -dimethylbenzene diisocyanate, ω,ω'-1,4-dimethylbenzenediisocyanate, ω,ω'-1,3-dimethylcyclohexanediisocyanate, ω,ω'-1,4-dimethylcyclohexanediisocyanate, ω,ω'-1,4-dimethylnaphthalene diisocyanate, ω,ω'-1,5-dimethylnaphthalene diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, dicyclo Hexylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate Anate, 1-methylbenzene-2,4-diisocyanate, 1-methylbenzene-2,5-diisocyanate, 1-methylbenzene-2,6-diisocyanate, 1-methylbenzene-3,5-diisocyanate , diphenyl ether-4,4'-diisocyanate, diphenyl ether-2,4'-diisocyanate, naphthalene-1,4-diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, biphenyl-4,4' -diisocyanate, 3,3'-dimethylbisphenyl-4,4'-diisocyanate, 2,3'-dimethoxybisphenyl-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate , 3,3'-dimethoxydiphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 4,4'-dimethoxydiphenylmethane-3,3'-diisocyanate, diphenylsulfite-4,4'-di Bifunctional isocyanate compounds such as isocyanate and diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris(4-phenylisocyanatethiophosphate)-3,3',4; Polyfunctional isocyanate compounds such as 4'-diphenylmethane tetraisocyanate, polymers such as dimers and trimers of the isocyanate compound, block-type isocyanates masked with a blocking agent such as alcohol or phenol, bisurethane compounds, etc. , but is not limited thereto. These isocyanate compounds may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

이들 이소시아네이트 화합물 중, 바람직하게는 2 관능 이소시아네이트 화합물 또는 3 관능 이소시아네이트 화합물이고, 더욱 바람직하게는 2 관능 이소시아네이트 화합물이다. 이소시아네이트 화합물의 관능기수가 많으면 저장 안정성이 저하될 우려가 있고, 적으면 내열성이나 유전 특성이 향상되지 않을 우려가 있다. 2 관능 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 트랜스시클로헥산-1,4-디이소시아네이트, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 테트라메틸자일렌디이소시아네이트를 들 수 있고, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트가 바람직하다.Among these isocyanate compounds, Preferably it is a bifunctional isocyanate compound or a trifunctional isocyanate compound, More preferably, it is a bifunctional isocyanate compound. When there are many functional groups of an isocyanate compound, there exists a possibility that storage stability may fall, and when there are few, there exists a possibility that heat resistance or dielectric property may not improve. Examples of the bifunctional isocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and 1,3-bis(isocyanato). Methyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, transcyclohexane- 1,4-diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate, and tetramethylxylene diisocyanate are mentioned, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4, 4-diphenylmethane diisocyanate, 1, 3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate are preferable.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응은 공지된 방법으로 실시할 수 있다. 구체적인 반응 방법으로는, (1) 에폭시 수지 (a) 를 용융하고, 건조 가스 퍼지나 계 내를 감압으로 하는 등의 방법으로 에폭시 수지 중의 수분을 제거한 후, 이소시아네이트 화합물 (b) 과 촉매를 첨가하여 반응을 실시하는 방법, 또는 (2) 에폭시 수지 (a) 와 촉매를 미리 혼합해 두고, 건조 가스 퍼지나 계 내를 감압으로 하는 등의 방법으로 에폭시 수지 중의 수분을 제거한 후, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 첨가하여 반응을 실시하는 방법 등이 있다. 어느 방법에서도, 수지 점도가 높아 교반이 어려운 경우 등 필요하면, 비반응성의 용제를 사용할 수도 있다.Reaction of an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b) can be performed by a well-known method. As a specific reaction method, (1) melt the epoxy resin (a), remove moisture in the epoxy resin by a method such as a dry gas purge or reduce the pressure in the system, and then add the isocyanate compound (b) and a catalyst After the water in the epoxy resin is removed by a method of reacting or (2) mixing the epoxy resin (a) and the catalyst in advance, purging a dry gas or reducing the pressure in the system, the isocyanate compound (b) There is a method of carrying out the reaction by adding In either method, if necessary, such as when the resin viscosity is high and stirring is difficult , a non-reactive solvent can also be used.

옥사졸리돈 고리를 형성하는 반응 기구는, 하기 반응식 (5) 로 나타낸다. 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 은 촉매를 첨가함으로써, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 반응하여 옥사졸리돈 고리를 형성한다.The reaction mechanism for forming the oxazolidone ring is represented by the following Reaction Formula (5). By adding a catalyst to the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), the epoxy group of the epoxy resin (a) and the isocyanate group of the isocyanate compound (b) react to form an oxazolidone ring.

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112015108162974-pat00006
Figure 112015108162974-pat00006

또, 에폭시 수지 (a) 가 알코올성 수산기를 함유하는 경우, 하기 반응식 (6) 으로 나타내는 바와 같이, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기는 알코올성 수산기와 부가 반응하여 우레탄 결합을 형성한다.Moreover, when an epoxy resin (a) contains an alcoholic hydroxyl group, as shown by following reaction formula (6), the isocyanate group of an isocyanate compound (b) addition-reacts with an alcoholic hydroxyl group, and forms a urethane bond.

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112015108162974-pat00007
Figure 112015108162974-pat00007

또, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 원료의 주입량으로부터 하기 계산식 (7) 에 따라 예측할 수 있다. 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 바람직한 에폭시 당량은 200 ∼ 600 g/eq. 이다. 그 범위 내에서 수지 중의 옥사졸리돈 고리의 함유량을 조정하는 것은, 사용하는 이소시아네이트 화합물 (b) 의 NCO 농도를 조정함으로써 가능하다.In addition, the epoxy equivalent of an oxazolidone ring containing epoxy resin can be estimated according to the following formula (7) from the injection amount of a raw material. The preferred epoxy equivalent of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is 200 to 600 g/eq. am. Adjusting the content of the oxazolidone ring in the resin within the range is possible by adjusting the NCO concentration of the isocyanate compound (b) to be used.

Figure 112015108162974-pat00008
Figure 112015108162974-pat00008

No : 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량 (g/eq.)No: Epoxy equivalent of oxazolidone ring-containing epoxy resin (g/eq.)

Ne : 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량 (g/eq.)Ne: Epoxy equivalent of epoxy resin (a) (g/eq.)

Ni : 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 당량 (g/eq.)Ni: equivalent of isocyanate group of isocyanate compound (b) (g/eq.)

Me : 에폭시 수지 (a) 의 주입량 (g)Me: Injection amount (g) of epoxy resin (a)

Mi : 이소시아네이트 화합물 (b) 의 주입량 (g)Mi: Injection amount of isocyanate compound (b) (g)

예를 들어, 에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량이 218 g/eq., 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 당량이 125 g/eq. 인 경우, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량이 200 ∼ 600 g/eq. 의 범위가 되는 주입량은, 계산식 (7) 로부터 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 질량부에 있어서의 주입비 Me/Mi 는 3.3 이상이다.For example, the epoxy equivalent of the epoxy resin (a) is 218 g/eq., and the equivalent of the isocyanate group of the isocyanate compound (b) is 125 g/eq. When , the epoxy equivalent of the oxazolidone ring-containing epoxy resin is 200 to 600 g/eq. From the formula (7), the injection ratio Me/Mi in the mass part of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) is 3.3 or more.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응은, 촉매를 첨가하여 실시하는 것이 바람직하다. 촉매의 첨가 온도는, 실온 ∼ 150 ℃ 의 범위에서 실시하는 것이 바람직하고, 실온 ∼ 100 ℃ 의 범위가 보다 바람직하다.It is preferable to add a catalyst and to perform reaction of an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b). It is preferable to implement in the range of room temperature - 150 degreeC, and, as for the addition temperature of a catalyst, the range of room temperature - 100 degreeC is more preferable.

반응 온도는, 100 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 범위가 바람직하고, 100 ℃ 이상 200 ℃ 이하의 범위가 보다 바람직하고, 120 ℃ 이상 160 ℃ 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 반응 온도가 낮으면 옥사졸리돈 고리 형성이 충분히 이루어지지 않고, 이소시아네이트기의 3 량화 반응에 의한 이소시아누레이트 고리를 형성할 우려가 있다. 또, 반응 온도가 높으면 국소적인 고분자량화가 일어나고, 불용해성의 겔 성분의 생성이 많아질 우려가 있다. 그 때문에, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 속도를 조정할 필요가 있다. 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 속도가 빠르면 발열에 대해 냉각이 늦어져 바람직한 반응 온도를 유지할 수 없게 될 우려가 있다. 또, 첨가 속도가 느리면 생산성이 현저하게 저하될 우려가 있다.The reaction temperature is preferably in the range of 100°C or more and 250°C or less, more preferably in the range of 100°C or more and 200°C or less, and still more preferably in the range of 120°C or more and 160°C or less. When the reaction temperature is low, the oxazolidone ring is not sufficiently formed, and there is a risk of forming an isocyanurate ring by the trimerization of the isocyanate group. In addition, when the reaction temperature is high, local high molecular weight occurs and there is a fear that the production of insoluble gel components increases. Therefore, it is necessary to adjust the addition rate of the isocyanate compound (b). When the addition rate of the isocyanate compound (b) is fast, cooling becomes slow due to heat generation, and there is a fear that the desired reaction temperature cannot be maintained. Moreover, when an addition rate is slow, there exists a possibility that productivity may fall remarkably.

반응 시간은 이소시아네이트 화합물 (b) 의 첨가 종료로부터 15 분간 ∼ 10 시간의 범위가 바람직하고, 30 분간 ∼ 8 시간이 보다 바람직하고, 1 시간 ∼ 5 시간이 더욱 바람직하다. 이것은, 반응 시간이 짧으면 이소시아네이트기가 생성물에 많이 잔류할 우려가 있다. 또, 반응 시간이 길면 생산성이 현저하게 저하될 우려가 있다.The reaction time is preferably in the range of from 15 minutes to 10 hours from completion of addition of the isocyanate compound (b), more preferably 30 minutes to 8 hours, still more preferably 1 hour to 5 hours. As for this, when reaction time is short, there exists a possibility that many isocyanate groups may remain in a product. Moreover, when reaction time is long, there exists a possibility that productivity may fall remarkably.

사용할 수 있는 촉매로는, 구체적으로는, 염화리튬, 부톡시리튬 등의 리튬 화합물류, 3 불화붕소의 착염류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄요오디드, 테트라에틸암모늄요오디드 등의 4 급 암모늄염류, 디메틸아미노에탈, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질디메틸아민, N-메틸모르폴린 등의 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 등의 포스핀류, 아밀트리페닐포스포늄브로마이드, 디알릴디페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오디드, 테트라부틸포스포늄아세테이트·아세트산 착물, 테트라부틸포스포늄아세테이트, 테트라부틸포스포늄클로라이드, 테트라부틸포스포늄브로마이드, 테트라부틸요오드이드 등의 포스포늄염류, 트리페닐안티몬 및 요오드의 조합, 2-페닐이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류 등, 수산화나트륨 등의 알칼리 금속 산화물류 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 촉매는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다. 또, 분할하여 몇 차례로 나누어 사용해도 된다.Specific examples of the catalyst that can be used include lithium compounds such as lithium chloride and butoxylithium, complex salts of boron trifluoride, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, and tetramethylammonium iodide. , quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium iodide, tertiary amines such as dimethylaminoether, triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine, N-methylmorpholine, triphenylphosphine, tris(2, phosphines such as 6-dimethoxyphenyl) phosphine, amyltriphenylphosphonium bromide, diallyldiphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide, Phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium acetate/acetic acid complex, tetrabutylphosphonium acetate, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide and tetrabutyliodide, a combination of triphenylantimony and iodine, 2-phenylimida Although imidazoles, such as sol, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, etc., alkali metal oxides, such as sodium hydroxide, are mentioned, It is not limited to these, These catalysts are It may be used independently and may use 2 or more types together. Moreover, you may divide and divide and use it several times.

촉매의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 촉매 중에서 바람직한 염기 촉매는 반응 활성, 반응의 선택성에 있어서 테트라메틸암모늄요오디드이다. 반응 활성이 낮은 촉매에서는 반응 시간이 길어져 생산성의 저하를 초래할 우려가 있고, 반응의 선택성이 낮은 촉매에서는 에폭시기끼리의 중합 반응이 진행되어 목적으로 하고 있는 물성을 얻지 못할 우려가 있다.Although the kind of catalyst is not specifically limited, Among the catalysts, a preferable base catalyst is tetramethylammonium iodide in reaction activity and reaction selectivity. In a catalyst with low reaction activity, there is a fear that the reaction time is prolonged and a decrease in productivity is caused.

촉매량은 특별히 한정되지 않지만, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 합계 질량에 대하여, 0.001 질량% 이상 5 질량% 이하에서 사용하면 되고, 0.005 질량% 이상 1 질량% 이하가 바람직하고, 0.005 질량% 이상 0.5 질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 촉매량이 많으면 경우에 따라서는 에폭시기의 자기 중합 반응이 진행되기 때문에, 수지 점도가 높아질 우려가 있다. 또, 이소시아네이트의 자기 중합 반응이 촉진되어, 옥사졸리돈 고리의 생성이 억제될 우려가 있다. 또한, 생성 수지 중에 불순물로서 잔류하여, 각종 용도, 특히 적층판이나 봉지재 (封止材) 의 재료로서 사용한 경우에, 절연성의 저하나 내습성의 저하를 초래할 우려가 있다. 촉매량이 적으면 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 얻기 위한 효율의 저하를 초래할 우려가 있다.Although the amount of catalyst is not particularly limited, it may be used at 0.001 mass % or more and 5 mass % or less with respect to the total mass of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), preferably 0.005 mass % or more and 1 mass % or less, 0.005 Mass % or more and 0.5 mass % or less are more preferable, and 0.001 mass % or more and 0.2 mass % or less are still more preferable. When there is a large amount of catalyst, in some cases, since self-polymerization reaction of an epoxy group advances, there exists a possibility that resin viscosity may become high. Moreover, there exists a possibility that the self-polymerization reaction of an isocyanate is accelerated|stimulated and the production|generation of an oxazolidone ring may be suppressed. Moreover, it remains as an impurity in the produced resin, and when it uses as a material of various uses, especially a laminated board or a sealing material, there exists a possibility of causing the fall of insulation and moisture resistance. When there is little catalyst amount, there exists a possibility of causing the fall of the efficiency for obtaining an oxazolidone ring containing epoxy resin.

또, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응을 실시할 때, 본 발명의 작용 효과에 영향이 없는 범위에서, 추가로 각종 에폭시 수지 변성제를 사용함으로써 분자량 (에폭시 당량) 등을 조정할 수도 있다. 사용할 수 있는 양은, 에폭시 수지 (a) 100 질량부에 대하여, 30 질량부 이하가 바람직하고, 20 질량부 이하가 보다 바람직하고, 10 질량부 이하가 더욱 바람직하다.In addition, when carrying out the reaction of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), the molecular weight (epoxy equivalent), etc. can be adjusted by further using various epoxy resin modifiers within a range that does not affect the effect of the present invention. there is. 30 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of epoxy resins (a), as for the quantity which can be used, 20 mass parts or less are more preferable, and its 10 mass parts or less are still more preferable.

사용할 수 있는 에폭시 수지 변성제로는, 구체적으로는, 비스페놀 A, 디메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 A, 테트라부틸비스페놀 A, 비스페놀 F, 디메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 F, 비스페놀 S, 디메틸비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 S, 비스페놀 B, 비스페놀 C, 비스페놀 E, 비스페놀 P, 비스페놀 AF, 비스페놀 AP, 비스페놀플루오렌, 비스크레졸플루오렌, 비스페놀 Z, 테트라메틸비스페놀 Z, 비스페놀 TMC, 하이드로퀴논, 메틸하이드로퀴논, 디메틸하이드로퀴논, 디부틸하이드로퀴논, 레조르신, 메틸레조르신, 비페놀, 테트라메틸비페놀, 디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시디페닐에테르, 디하이드록시벤조페논, 디하이드록시디페닐술파이드, 디하이드록시스틸벤류, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 비스페놀 A 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔페놀 수지, 페놀아르알킬 수지, 나프톨 노볼락 수지, 스티렌화페놀 노볼락 수지, 테르펜페놀 수지, 중질유 변성 페놀 수지 등의 여러 가지 페놀류나, 여러 가지 페놀류와, 하이드록시벤즈알데히드, 크로톤알데히드, 글리옥살 등의 여러 가지 알데히드류의 축합 반응으로 얻어지는 다가 페놀 수지나, 아닐린, 페닐렌디아민, 톨루이딘, 자일리딘, 디에틸톨루엔디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐에탄, 디아미노디페닐프로판, 디아미노디페닐케톤, 디아미노디페닐술파이드, 디아미노디페닐술폰, 비스(아미노페닐)플루오렌, 디아미노디에틸디메틸디페닐메탄, 디아미노디페닐에테르, 디아미노벤즈아닐리드, 디아미노비페닐, 디메틸디아미노비페닐, 비페닐테트라아민, 비스아미노페닐안트라센, 비스아미노페녹시벤젠, 비스아미노페녹시페닐에테르, 비스아미노페녹시비페닐, 비스아미노페녹시페닐술폰, 비스아미노페녹시페닐프로판, 디아미노나프탈렌 등의 아민 화합물을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 에폭시 수지 변성제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the epoxy resin modifier that can be used include bisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol A, tetrabutylbisphenol A, bisphenol F, dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol F, bisphenol S, dimethylbisphenol S, and tetramethylbisphenol A. Methylbisphenol S, bisphenol B, bisphenol C, bisphenol E, bisphenol P, bisphenol AF, bisphenol AP, bisphenolfluorene, biscresolfluorene, bisphenol Z, tetramethylbisphenol Z, bisphenol TMC, hydroquinone, methylhydroquinone, dimethyl Hydroquinone, dibutylhydroquinone, resorcinol, methylresorcin, biphenol, tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene, dihydroxydiphenyl ether, dihydroxybenzophenone, dihydroxydiphenylsulfide, dihydroxydiphenylsulfide Hydroxystilbenes, phenol novolac resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolac resin, dicyclopentadienephenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol novolac resin, styrenated phenol novolak resin, terpene phenol resin, heavy oil Various phenols such as modified phenol resins, polyhydric phenol resins obtained by condensation reaction of various phenols with various aldehydes such as hydroxybenzaldehyde, crotonaldehyde, glyoxal, aniline, phenylenediamine, toluidine, and xylidine , diethyltoluenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylethane, diaminodiphenylpropane, diaminodiphenylketone, diaminodiphenylsulfide, diaminodiphenylsulfone, bis(aminophenyl)fluorene , diaminodiethyldimethyldiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, diaminobenzanilide, diaminobiphenyl, dimethyldiaminobiphenyl, biphenyltetraamine, bisaminophenylanthracene, bisaminophenoxybenzene, bisamino and amine compounds such as phenoxyphenyl ether, bisaminophenoxybiphenyl, bisaminophenoxyphenylsulfone, bisaminophenoxyphenylpropane, and diaminonaphthalene, but are not limited thereto, and these epoxy resin modifiers alone may be used, or two or more types may be used in combination.

또, 필요에 따라 비반응성 용제를 사용해도 된다. 구체적으로는, 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸, 디메틸부탄, 펜텐, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등의 각종 탄화수소, 에틸에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 에틸페닐에테르, 아밀페닐에테르, 에틸벤질에테르, 디옥산, 메틸푸란, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 메틸에틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들 비반응성 용제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 혼합하여 사용해도 된다.Moreover, you may use a non-reactive solvent as needed. Specifically, various hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, decane, dimethylbutane, pentene, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, ethyl ether, isopropyl ether, butyl ether, diiso Ethers such as amyl ether, methyl phenyl ether, ethyl phenyl ether, amyl phenyl ether, ethyl benzyl ether, dioxane, methyl furan, tetrahydrofuran, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, cellosolve acetate, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, etc., but are not limited thereto, and these non-reactive solvents include You may use individually and may mix and use 2 or more types.

옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 적외 분광 광도계의 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때의 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 범위의 흡광도 스펙트럼을 도 4 (실시예 1) 및 도 5 (비교예 2) 에 나타낸다.The absorbance spectrum in the range of 1650 to 1800 cm -1 when the oxazolidone ring-containing epoxy resin is analyzed by the total reflection measurement method (ATR method) of the infrared spectrophotometer is shown in Figs. 4 (Example 1) and Fig. 5 (Comparative Example 2) is shown in

도 4 의 흡광도 스펙트럼 중, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 A 가 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 나타난다. 우레탄 결합의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 B 가 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 나타난다.In the absorbance spectrum of Fig. 4, the peak A derived from stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring appears at 1745 to 1760 cm -1 . The peak B derived from stretching vibration of the carbonyl group of the urethane bond appears at 1730-1740 cm -1 .

도 5 의 흡광도 스펙트럼 중, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 A 가 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 나타난다. 우레탄 결합의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 피크 B 는 옥사졸리돈 고리의 피크와 중첩되어, 명확한 피크 톱을 나타내지 않으므로, 1730 ∼ 1740 ㎝-1 의 범위 내에서 흡광도의 최대값을 우레탄 결합의 흡수로 한다.In the absorbance spectrum of Fig. 5, the peak A derived from stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring appears at 1745 to 1760 cm -1 . The peak B derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the urethane bond overlaps the peak of the oxazolidone ring and does not show a clear peak top. do.

옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ox 로 나타낸다. 우레탄 결합의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ur 로 한다. 이 때, 옥사졸리돈 고리와 우레탄 결합의 존재 비율을 흡광도비 Ox/Ur 로 나타냈다.The maximum value of the peak included in 1745 to 1760 cm -1 derived from stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring is expressed as absorbance Ox. Let absorbance Ur be the maximum value of the peak contained in 1730-1740 cm< -1 > derived from expansion-contraction vibration of the carbonyl group of a urethane bond. At this time, the ratio of the presence of the oxazolidone ring and the urethane bond was expressed as the absorbance ratio Ox/Ur.

에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 반응에 의해 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 제조하는 경우, 에폭시 수지 (a) 중에 함유되는 알코올성 수산기와 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기가 반응하면, 반응식 (5) 의 옥사졸리돈 고리를 형성하는 반응이 아니라, 반응식 (6) 에 의해 우레탄 결합을 형성하는 반응이 일어난다. 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 중에 함유되는 우레탄 결합의 농도가 높아지면, 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 얻어지는 에폭시 수지 경화물의 내열성을 저하시킬 우려가 있다. 그 때문에 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 중에 함유되는 옥사졸리돈 고리와 우레탄 결합의 비율을 흡광도비 Ox/Ur 로 규정한다. 흡광도비 Ox/Ur 은 1.35 이상이 바람직하고, 2.0 이상이 보다 바람직하다. 흡광도비 Ox/Ur 은 1.35 미만인 경우, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 경화물의 내열성을 저하시킬 우려가 있다.When an oxazolidone ring-containing epoxy resin is produced by the reaction of the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b), the alcoholic hydroxyl group contained in the epoxy resin (a) reacts with the isocyanate group of the isocyanate compound (b), the reaction formula Not the reaction to form the oxazolidone ring of (5), but the reaction to form a urethane bond by reaction formula (6) takes place. When the density|concentration of the urethane bond contained in an oxazolidone ring containing epoxy resin becomes high, there exists a possibility of reducing the heat resistance of the epoxy resin hardened|cured material obtained by hardening|curing an epoxy resin composition. Therefore, the ratio between the oxazolidone ring and the urethane bond contained in the oxazolidone ring-containing epoxy resin is defined as the absorbance ratio Ox/Ur. 1.35 or more are preferable and, as for the absorbance ratio Ox/Ur, 2.0 or more are more preferable. When the absorbance ratio Ox/Ur is less than 1.35, there is a fear that the heat resistance of the cured epoxy resin containing an oxazolidone ring is reduced.

또, 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 연화점은, 프리프레그나 필름 재료에 사용하는 경우에는 50 ℃ ∼ 150 ℃ 가 바람직하고, 65 ℃ ∼ 135 ℃ 가 보다 바람직하고, 70 ℃ ∼ 110 ℃ 가 더욱 바람직하다. 연화점이 낮으면 수지 바니시를 유리 크로스 함침한 후, 오븐 중에서 가열 건조시킬 때에 점도가 낮기 때문에 수지의 부착량이 적어질 우려가 있다. 연화점이 높으면 수지 점도가 높아져, 프리프레그에 대한 함침성의 악화나, 용제 용해성의 악화나, 가열 건조시킬 때에 희석 용매가 휘발되지 않고 수지 중에 잔존하는 점에서 적층판을 제조할 때에 보이드가 발생하는 등, 사용상에 큰 문제가 될 우려가 있다.Further, the softening point of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is preferably 50°C to 150°C, more preferably 65°C to 135°C, and more preferably 70°C to 110°C when used for a prepreg or film material. more preferably. When a softening point is low, since a viscosity is low when making it heat-dry in oven after glass cross impregnation with a resin varnish, there exists a possibility that the adhesion amount of resin may decrease. When the softening point is high, the resin viscosity increases, the impregnation property to the prepreg deteriorates, the solvent solubility deteriorates, and the dilution solvent remains in the resin without volatilization during heating and drying. There is a possibility that it may become a big problem in use.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 200 g/eq. 이상 550 g/eq. 이하의 범위이고, 215 g/eq. 이상 500 g/eq. 이하의 범위가 바람직하고, 230 g/eq. 이상 450 g/eq. 이하의 범위가 보다 바람직하고, 250 g/eq. 이상 350 g/eq. 이하의 범위가 더욱 바람직하다. 에폭시 당량이 낮으면, 옥사졸리돈 고리의 함유량이 적어지고, 또 경화물 중의 수산기 농도가 높아지기 때문에, 유전율이 높아질 우려가 있다. 또, 에폭시 당량이 높으면, 옥사졸리돈 고리의 함유량이 필요 이상으로 많아져, 유전 특성의 향상 효과보다 용제 용해성의 악화나 수지 점도의 증대와 같은 악영향이 많아질 우려가 있다. 또, 경화물의 가교 밀도가 낮아지는 점에서 땜납 리플로우 온도에 있어서 탄성률이 저하되는 등, 사용상에 큰 문제가 될 우려가 있다.The epoxy equivalent of the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention is 200 g/eq. more than 550 g/eq. 215 g/eq. more than 500 g/eq. The following ranges are preferred, 230 g/eq. more than 450 g/eq. The following ranges are more preferable, 250 g/eq. more than 350 g/eq. The following ranges are more preferable. When the epoxy equivalent is low, the content of the oxazolidone ring decreases and the concentration of hydroxyl groups in the cured product increases, so that there is a fear that the dielectric constant becomes high. Moreover, when an epoxy equivalent is high, content of an oxazolidone ring increases more than necessary, and there exists a possibility that adverse effects, such as deterioration of solvent solubility and increase of resin viscosity, may increase rather than the improvement effect of a dielectric property. Moreover, since the crosslinking density of hardened|cured material becomes low, there exists a possibility that it may become a big problem on use, such as an elasticity modulus falling in solder reflow temperature.

본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 경화제를 배합함으로써, 경화성의 에폭시 수지 조성물로 할 수 있다. 경화제로는, 각종 페놀 수지류, 산 무수물류, 아민류, 하이드라지드류, 산성 폴리에스테르류 등의 통상적으로 사용되는 에폭시 수지용 경화제를 사용할 수 있다. 이들 경화제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 병용해도 된다. 이들 중, 디시안디아미드 또는 페놀계 경화제가 특히 바람직하다.The oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention can be made into a curable epoxy resin composition by mix|blending a hardening|curing agent. As the curing agent, commonly used curing agents for epoxy resins, such as various phenol resins, acid anhydrides, amines, hydrazides, and acidic polyesters, can be used. These hardening|curing agents may be used independently and may use 2 or more types together. Of these, dicyandiamide or a phenol-based curing agent is particularly preferable.

에폭시 수지 조성물에 있어서, 경화제의 사용량은, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 함유하는 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제의 활성 수소기를 0.2 몰 이상 1.5 몰 이하의 범위로 한다. 에폭시기 1 몰에 대하여 활성 수소기가 0.2 몰 미만 또는 1.5 몰을 초과하는 경우에는, 경화가 불완전해져 양호한 경화 물성이 얻어지지 않을 우려가 있다. 바람직한 범위는 0.3 몰 이상 1.5 몰 이하이고, 보다 바람직한 범위는 0.5 몰 이상 1.5 몰 이하이고, 더욱 바람직한 범위는 0.8 몰 이상 1.2 몰 이하이다. 예를 들어, 페놀계 경화제나 아민계 경화제를 사용한 경우에는 에폭시기에 대하여 활성 수소기를 거의 등몰 배합하고, 산 무수물계 경화제를 사용한 경우에는 에폭시기 1 몰에 대하여 산 무수물기를 0.5 ∼ 1.2 몰, 바람직하게는 0.6 ∼ 1.0 몰 배합한다.In the epoxy resin composition, the amount of the curing agent to be used is in the range of 0.2 mol or more and 1.5 mol or less of the active hydrogen groups of the curing agent with respect to 1 mol of the epoxy groups of all epoxy resins containing the oxazolidone ring-containing epoxy resin. When the active hydrogen groups are less than 0.2 mol or more than 1.5 mol with respect to 1 mol of the epoxy group, curing may be incomplete and good cured physical properties may not be obtained. A preferable range is 0.3 mol or more and 1.5 mol or less, A more preferable range is 0.5 mol or more and 1.5 mol or less, A more preferable range is 0.8 mol or more and 1.2 mol or less. For example, when a phenol-based curing agent or an amine-based curing agent is used, an active hydrogen group is blended in substantially equimolar amounts with respect to the epoxy group, and when an acid anhydride-based curing agent is used, 0.5 to 1.2 moles of an acid anhydride group with respect to 1 mole of the epoxy group, preferably 0.6-1.0 mol is mix|blended.

본 발명에서 말하는 활성 수소기란, 에폭시기와 반응성의 활성 수소를 갖는 관능기 (가수분해 등에 의해 활성 수소를 발생시키는 잠재성 활성 수소를 갖는 관능기나, 동등한 경화 작용을 나타내는 관능기를 포함한다) 이고, 구체적으로는, 산 무수물기나 카르복실기나 아미노기나 페놀성 수산기 등을 들 수 있다. 또한, 활성 수소기에 관해, 카르복실기 (-COOH) 나 페놀성 수산기 (-OH) 는 1 몰과, 아미노기 (-NH2) 는 2 몰로 계산된다. 또, 활성 수소기가 명확하지 않은 경우에는, 측정에 의해 활성 수소 당량을 구할 수 있다. 예를 들어, 에폭시 당량이 이미 알려진 페닐글리시딜에테르 등의 모노에폭시 수지와 활성 수소 당량이 아직 알려지지 않은 경화제를 반응시켜, 소비한 모노에폭시 수지의 양을 측정함으로써, 사용한 경화제의 활성 수소 당량을 구할 수 있다.The active hydrogen group as used in the present invention is a functional group having active hydrogen reactive with an epoxy group (including a functional group having a latent active hydrogen generating active hydrogen by hydrolysis, etc., and a functional group exhibiting an equivalent curing action), specifically of an acid anhydride group, a carboxyl group, an amino group, a phenolic hydroxyl group, etc. are mentioned. In addition, regarding an active hydrogen group, a carboxyl group (-COOH) and a phenolic hydroxyl group (-OH) are calculated by 1 mole, and an amino group (-NH2) is calculated by 2 moles. Moreover, when an active hydrogen group is not clear, an active hydrogen equivalent can be calculated|required by measurement. For example, by reacting a monoepoxy resin such as phenyl glycidyl ether with a known epoxy equivalent and a curing agent with an unknown active hydrogen equivalent, and measuring the amount of monoepoxy resin consumed, the active hydrogen equivalent of the used curing agent is determined can be saved

페놀 수지계 경화제로는, 구체예에는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 C, 비스페놀 K, 비스페놀 Z, 비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 Z, 디하이드록시디페닐술파이드, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀) 등의 비스페놀류, 또, 카테콜, 레조르신, 메틸레조르신, 하이드로퀴논, 모노메틸하이드로퀴논, 디메틸하이드로퀴논, 트리메틸하이드로퀴논, 모노-tert-부틸하이드로퀴논, 디-tert-부틸하이드로퀴논 등 디하이드록시벤젠류, 디하이드록시나프탈렌, 디하이드록시메틸나프탈렌, 디하이드록시메틸나프탈렌, 트리하이드록시나프탈렌 등의 하이드록시나프탈렌류, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 레지톱 (등록상표) TPM-100 (제품명, 군에이 화학 공업 주식회사 제조) 등의 트리스하이드록시페닐메탄형 노볼락 수지, 나프톨 노볼락 수지 등의 페놀류 및/또는 나프톨류와 알데히드류의 축합물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 자일릴렌글리콜의 축합물, 예를 들어, SN-160, SN-395, SN-485 (이상, 제품명, 신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조), 페놀류 및/또는 나프톨류와 이소프로페닐아세토페논의 축합물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 디시클로펜타디엔의 반응물, 페놀류 및/또는 나프톨류와 비페닐계 축합제의 축합물 등의 페놀 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the phenol resin curing agent include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol C, bisphenol K, bisphenol Z, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, tetramethylbisphenol Z, dihydride Bisphenols such as hydroxydiphenyl sulfide and 4,4'-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol); catechol, resorcinol, methylresorcin, hydroquinone, monomethylhydroquinone; Dihydroxybenzenes such as dimethylhydroquinone, trimethylhydroquinone, mono-tert-butylhydroquinone, di-tert-butylhydroquinone, dihydroxynaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene, trihydroxy Hydroxynaphthalenes such as naphthalene, phenol novolac resin, cresol novolac resin, RegTop (registered trademark) TPM-100 (product name, manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.) Trishydroxyphenylmethane type novolac resin, naphthol Condensates of phenols and/or naphthols and aldehydes such as novolac resins, condensates of phenols and/or naphthols and xylylene glycol, for example, SN-160, SN-395, SN-485 (above, Product name, manufactured by Shin-Nitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd.), a condensate of phenols and/or naphthols and isopropenylacetophenone, a reaction product of phenols and/or naphthols and dicyclopentadiene, phenols and/or naphthols and biphenyl Phenolic compounds, such as a condensate of a system condensing agent, etc. are mentioned.

이 경우, 페놀류로는, 페놀, 크레졸, 자일레놀, 부틸페놀, 아밀페놀, 노닐페놀, 부틸메틸페놀, 트리메틸페놀, 페닐페놀 등을 들 수 있고, 나프톨류로는, 1-나프톨, 2-나프톨 등을 들 수 있다. 알데히드류로는, 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 부틸알데히드, 발레르알데히드, 카프론알데히드, 벤즈알데히드, 클로르알데히드, 브롬알데히드, 글리옥살, 말론알데히드, 숙신알데히드, 글루타르알데히드, 아디프알데히드, 피멜알데히드, 세바크알데히드, 아크롤레인, 크로톤알데히드, 살리실알데히드, 프탈알데히드, 하이드록시벤즈알데히드 등이 예시된다. 비페닐계 축합제로서, 비스(메틸올)비페닐, 비스(메톡시메틸)비페닐, 비스(에톡시메틸)비페닐, 비스(클로로메틸)비페닐 등을 들 수 있다.In this case, as phenols, phenol, cresol, xylenol, butylphenol, amylphenol, nonylphenol, butylmethylphenol, trimethylphenol, phenylphenol, etc. are mentioned, As naphthols, 1-naphthol, 2- Naphthol etc. are mentioned. Aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propylaldehyde, butyraldehyde, valeraldehyde, capronaldehyde, benzaldehyde, chloraldehyde, bromaldehyde, glyoxal, malonaldehyde, succinaldehyde, glutaraldehyde, adipaldehyde, pimel. Aldehydes, sebacaldehyde, acrolein, crotonaldehyde, salicylaldehyde, phthalaldehyde, hydroxybenzaldehyde and the like are exemplified. Examples of the biphenyl-based condensing agent include bis(methylol)biphenyl, bis(methoxymethyl)biphenyl, bis(ethoxymethyl)biphenyl, and bis(chloromethyl)biphenyl.

산 무수물계 경화제로는, 구체적으로는, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산, 무수피로멜리트산, 무수프탈산, 무수트리멜리트산, 메틸나드산 등을 들 수 있다.Specific examples of the acid anhydride curing agent include methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, and methylnadic acid.

아민계 경화제로는, 구체적으로는, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 메타자일렌디아민, 이소포론디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디아미노디페닐에테르, 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 디시안디아미드, 다이머산 등의 산류와 폴리아민류의 축합물인 폴리아미드아민 등의 아민계 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the amine curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, metaxylenediamine, isophoronediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylether, and benzyldimethylamine. and amine compounds such as polyamideamine, which is a condensate of polyamines with acids such as , 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, dicyandiamide, dimer acid, and the like.

그 밖의 경화제로서 구체적으로는, 트리페닐포스핀 등의 포스핀 화합물, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등의 포스포늄염, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-에틸-4메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 이미다졸류와 트리멜리트산, 이소시아누르산, 붕소 등의 염인 이미다졸염류, 트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염류, 디아자비시클로 화합물, 디아자비시클로 화합물과 페놀류나 페놀 노볼락 수지류 등의 염류, 3 불화붕소와 아민류나 에테르 화합물 등의 착화합물, 방향족 포스포늄, 또는 요오드늄염 등을 들 수 있다.Specific examples of the other curing agent include phosphine compounds such as triphenylphosphine, phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium bromide, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-ethyl-4methyl. imidazoles such as midazole, 2-undecylimidazole and 1-cyanoethyl-2-methylimidazole; imidazole salts that are salts of imidazoles and trimellitic acid, isocyanuric acid, boron and the like; Quaternary ammonium salts such as trimethylammonium chloride, diazabicyclo compounds, diazabicyclo compounds and salts such as phenols and phenol novolac resins, complex compounds such as boron trifluoride and amines and ether compounds, aromatic phosphonium or iodonium salts and the like.

또, 필요에 따라, 에폭시 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 이외의 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 에폭시 수지의 구체적인 예로는, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 테트라메틸비스페놀 F 형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비스티오에테르형 에폭시 수지, 레조르시놀형 에폭시 수지, 비페닐아르알킬페놀형 에폭시 수지, 나프탈렌디올형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 스티렌화페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 알킬 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, β-나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 디나프톨아르알킬형 에폭시 수지, α-나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지, 트리스페닐메탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 알킬렌글리콜형 에폭시 수지, 지방족 고리형 에폭시 수지, 디아미노디페닐메탄테트라글리시딜아민, 아미노페놀형 에폭시 수지, 인 함유 에폭시 수지, 우레탄 변성 에폭시 수지, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또, 이들 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Moreover, as needed, epoxy resins other than the oxazolidone ring containing epoxy resin of this invention can be used in the range which does not impair the physical property of an epoxy resin composition. Specific examples of the epoxy resin that can be used include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetramethylbisphenol F type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol fluorene type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisthioether type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, biphenyl aralkylphenol type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, styrenated phenol novolak type epoxy resin, cresol Novolak type epoxy resin, alkyl novolak type epoxy resin, bisphenol novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, β-naphthol aralkyl type epoxy resin, dinaphthol aralkyl type epoxy resin, α-naphthol aralkyl type Epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resin, trisphenylmethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, alkylene glycol type epoxy resin, aliphatic cyclic type epoxy resin, diaminodiphenylmethane tetraglycidylamine, amino Although a phenol type epoxy resin, phosphorus containing epoxy resin, a urethane-modified epoxy resin, and an oxazolidone ring containing epoxy resin are mentioned, It is not limited to these. Moreover, these epoxy resins may be used independently and may use 2 or more types together.

에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제의 예로는, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자-비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 제 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리페닐포스핀트리페닐보란 등의 포스핀류, 옥틸산주석 등의 금속 화합물을 들 수 있다. 경화 촉진제는 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 에폭시 수지 성분 100 질량부에 대하여 0.02 질량부 ∼ 5 질량부가 필요에 따라 사용된다. 경화 촉진제를 사용함으로써, 경화 온도를 낮추고, 경화 시간을 단축할 수 있다.A hardening accelerator can be used for an epoxy resin composition as needed. Examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-(dimethylaminomethyl)phenol, 1, Tertiary amines such as 8-diaza-bicyclo(5,4,0)undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, and triphenylphosphine triphenylborane, octylic acid and metal compounds such as tin. 0.02 mass part - 5 mass parts of hardening accelerators are used as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resin components in the epoxy resin composition of this invention. By using a hardening accelerator, hardening temperature can be lowered|hung and hardening time can be shortened.

에폭시 수지 조성물에는, 점도 조정용으로서 유기 용제도 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 유기 용제로는, 특별히 규정하는 것은 아니지만, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있고, 이들 용제 중, 단독 또는 복수 종류를 혼합한 것을 에폭시 수지 농도로서 20 질량% ∼ 90 질량% 의 범위에서 배합할 수 있다.An organic solvent can also be used for the epoxy resin composition for viscosity adjustment. The organic solvent that can be used is not particularly limited, but amides such as N,N-dimethylformamide, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, etc. Aromatic hydrocarbons, such as alcohol, benzene, and toluene, etc. are mentioned, Among these solvents, single or a mixture of several types can be mix|blended in the range of 20 mass % - 90 mass % as an epoxy resin density|concentration.

또, 필요에 따라, 에폭시 수지 조성물의 물성을 저해하지 않는 범위에서 희석제를 사용할 수 있다. 희석제는 반응성 희석제가 바람직하지만, 비반응성 희석제여도 상관없다. 반응성 희석제로는, 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르 등의 단관능, 레조르시놀글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 등의 2 관능, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르 등의 다관능 글리시딜에테르류를 들 수 있다. 비반응성 희석제로는, 벤질알코올, 부틸디글리콜, 파인 오일 등을 들 수 있다.Moreover, as needed, a diluent can be used in the range which does not impair the physical property of an epoxy resin composition. The diluent is preferably a reactive diluent, but may be a non-reactive diluent. Examples of the reactive diluent include monofunctional such as allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, resorcinol glycidyl ether, neopentyl glycol glycidyl ether, 1,6- Bifunctional, such as hexanediol diglycidyl ether, polyfunctional glycidyl ethers, such as glycerol polyglycidyl ether, trimethylol propane polyglycidyl ether, and pentaerythritol polyglycidyl ether, are mentioned. Examples of the non-reactive diluent include benzyl alcohol, butyldiglycol, and pine oil.

에폭시 수지 조성물은, 특성을 저해하지 않는 범위에서 다른 열경화성 수지, 열가소성 수지를 배합해도 된다. 예를 들어, 페놀 수지, 아크릴 수지, 석유 수지, 인덴 수지, 쿠마론인덴 수지, 페녹시 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리페닐렌술파이드 수지, 폴리비닐포르말 수지 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.The epoxy resin composition may mix|blend another thermosetting resin and a thermoplastic resin in the range which does not impair a characteristic. For example, phenol resin, acrylic resin, petroleum resin, indene resin, coumarone indene resin, phenoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin , polyphenylene ether resin, modified polyphenylene ether resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyether ether ketone resin, polyphenylene sulfide resin, polyvinyl formal resin, etc., but are limited to these it is not

에폭시 수지 조성물에는, 얻어지는 경화물의 난연성의 향상을 목적으로, 관용 공지된 각종 난연제를 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 난연제로는, 예를 들어, 할로겐계 난연제, 인계 난연제, 질소계 난연제, 실리콘계 난연제, 무기계 난연제, 유기 금속염계 난연제 등을 들 수 있다. 환경에 대한 관점에서, 할로겐을 함유하지 않는 난연제가 바람직하고, 특히 인계 난연제가 바람직하다. 이들 난연제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Various commonly known flame retardants can be used for the epoxy resin composition for the purpose of improving the flame retardancy of the obtained cured product. Examples of the usable flame retardant include a halogen-based flame retardant, a phosphorus-based flame retardant, a nitrogen-based flame retardant, a silicone-based flame retardant, an inorganic flame retardant, and an organometallic salt-based flame retardant. From the viewpoint of the environment, a halogen-free flame retardant is preferable, and a phosphorus-based flame retardant is particularly preferable. These flame retardants may be used independently and may use 2 or more types together.

인계 난연제는, 무기 인계 화합물, 유기 인계 화합물 모두 사용할 수 있다. 무기 인계 화합물로는, 예를 들어, 적린, 인산일암모늄, 인산이암모늄, 인산삼암모늄, 폴리인산암모늄 등의 인산암모늄류, 인산아미드 등의 무기계 함질소 인 화합물을 들 수 있다. 유기 인계 화합물로는, 예를 들어, 지방족 인산에스테르, 인산에스테르 화합물, 축합 인산에스테르류, 포스폰산 화합물, 포스핀산 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 포스포란 화합물, 유기계 함질소 인 화합물 등의 범용 유기 인계 화합물이나, 포스핀산의 금속염 외에, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(2,5-디하이드로옥시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(2,7-디하이드로옥시나프틸)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 등의 고리형 유기 인 화합물이나, 그것들을 에폭시 수지나 페놀 수지 등의 화합물과 반응시킨 유도체인 인 함유 에폭시 수지나 인 함유 경화제 등을 들 수 있다.As the phosphorus-based flame retardant, both inorganic phosphorus compounds and organic phosphorus compounds can be used. Examples of the inorganic phosphorus compound include ammonium phosphates such as red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate and ammonium polyphosphate, and inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as amide phosphate. Examples of the organophosphorus compound include general purpose organophosphorus compounds such as aliphatic phosphoric acid esters, phosphoric acid ester compounds, condensed phosphoric acid esters, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, and organic nitrogen-containing phosphorus compounds. In addition to compounds and metal salts of phosphinic acid, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-(2,5-dihydrooxyphenyl)-10H-9-oxa- cyclic organophosphorus compounds such as 10-phosphaphenanthrene-10-oxide and 10-(2,7-dihydrooxynaphthyl)-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide; and phosphorus-containing epoxy resins and phosphorus-containing curing agents, which are derivatives obtained by reacting them with compounds such as epoxy resins and phenol resins.

난연제의 배합량으로는, 인계 난연제의 종류, 에폭시 수지 조성물의 성분, 원하는 난연성의 정도에 따라 적절히 선택된다. 예를 들어, 에폭시 수지 조성물 중의 유기 성분 (유기 용제를 제외한다) 중의 인 함유량은, 바람직하게는 0.2 질량% 이상 4 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.4 질량% 이상 3.5 질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.6 질량% 이상 3 질량% 이하이다. 인 함유량이 적으면 난연성의 확보가 어려워질 우려가 있고, 지나치게 많으면 내열성에 악영향을 미칠 우려가 있다. 또 인계 난연제를 사용하는 경우에는, 수산화마그네슘 등의 난연 보조제를 병용해도 된다.The compounding amount of the flame retardant is appropriately selected depending on the type of the phosphorus-based flame retardant, the component of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, the phosphorus content in the organic component (excluding the organic solvent) in the epoxy resin composition is preferably 0.2 mass% or more and 4 mass% or less, more preferably 0.4 mass% or more and 3.5 mass% or less, and further Preferably they are 0.6 mass % or more and 3 mass % or less. When there is little phosphorus content, there exists a possibility that ensuring a flame retardance may become difficult, and when too large, there exists a possibility of exerting a bad influence on heat resistance. Moreover, when using a phosphorus-type flame retardant, you may use together flame-retardant auxiliary agents, such as magnesium hydroxide.

에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 충전재를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 용융 실리카, 결정 실리카, 알루미나, 질화규소, 수산화알루미늄, 베마이트, 수산화마그네슘, 탤크, 마이카, 탄산칼슘, 규산칼슘, 수산화칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산바륨, 질화붕소, 탄소, 탄소 섬유, 유리 섬유, 알루미나 섬유, 실리카 알루미나 섬유, 탄화규소 섬유, 폴리에스테르 섬유, 셀룰로오스 섬유, 아라미드 섬유, 세라믹 섬유, 미립자 고무, 열가소성 엘라스토머, 안료 등을 들 수 있다. 일반적으로 충전재를 사용하는 이유로는 내충격성의 향상 효과를 들 수 있다. 또, 수산화알루미늄, 베마이트, 수산화마그네슘 등의 금속 수산화물을 사용한 경우에는, 난연 보조제로서 작용하여 난연성이 향상되는 효과가 있다. 이들 충전재의 배합량은 에폭시 수지 조성물 전체에 대하여, 1 질량% ∼ 150 질량% 가 바람직하고, 10 질량% ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하다. 배합량이 많으면, 적층판 용도로서 필요한 접착성이 저하될 우려가 있고, 또한 경화물이 물러, 충분한 기계 물성을 얻지 못하게 될 우려가 있다. 또 배합량이 적으면, 경화물의 내충격성의 향상 등, 충전제의 배합 효과가 나타나지 않을 우려가 있다.A filler can be used for an epoxy resin composition as needed. Specifically, fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, boehmite, magnesium hydroxide, talc, mica, calcium carbonate, calcium silicate, calcium hydroxide, magnesium carbonate, barium carbonate, barium sulfate, boron nitride, carbon, carbon and fiber, glass fiber, alumina fiber, silica alumina fiber, silicon carbide fiber, polyester fiber, cellulose fiber, aramid fiber, ceramic fiber, particulate rubber, thermoplastic elastomer, pigment, and the like. Generally, the reason for using a filler is the effect of improving impact resistance. In addition, when a metal hydroxide such as aluminum hydroxide, boehmite, or magnesium hydroxide is used, it acts as a flame retardant auxiliary agent to improve the flame retardancy. 1 mass % - 150 mass % are preferable with respect to the whole epoxy resin composition, and, as for the compounding quantity of these fillers, 10 mass % - 70 mass % are more preferable. When there is much compounding quantity, there exists a possibility that the adhesiveness required for a laminated board use may fall, and there exists a possibility that hardened|cured material may become brittle, and there exists a possibility that sufficient mechanical properties may not be acquired. Moreover, when there is little compounding quantity, there exists a possibility that the compounding effect of a filler, such as the improvement of the impact resistance of hardened|cured material, may not appear.

에폭시 수지 조성물을 판상 기판 등으로 하는 경우, 그 치수 안정성, 굽힘 강도 등의 점에서 섬유상의 것이 바람직한 충전재로서 들 수 있다. 보다 바람직하게는 유리 섬유를 망목상으로 짠 유리 섬유 기판을 들 수 있다.When using an epoxy resin composition as a plate-shaped board|substrate etc., a fibrous thing is mentioned as a preferable filler from points, such as the dimensional stability and bending strength. More preferably, the glass fiber board|substrate which woven glass fiber into the mesh form is mentioned.

에폭시 수지 조성물은, 추가로 필요에 따라 실란 커플링제, 산화 방지제, 이형제, 소포제, 유화제, 요변성 부여제, 평활제, 난연제, 안료 등의 핵종 첨가제를 배합할 수 있다. 이들 첨가제는 에폭시 수지 조성물에 대하여, 0.01 질량% ∼ 20 질량% 의 범위가 바람직하다.The epoxy resin composition can further mix|blend nuclide additives, such as a silane coupling agent, antioxidant, a mold release agent, an antifoamer, an emulsifier, a thixotropic agent, a smoothing agent, a flame retardant, and a pigment. These additives have a preferable range of 0.01 mass % - 20 mass % with respect to an epoxy resin composition.

에폭시 수지 조성물은 섬유상 기재에 함침시킴으로써 프린트 배선판 등에서 사용되는 프리프레그를 제조할 수 있다. 섬유상 기재로는 유리 등의 무기 섬유나, 폴리에스테르 수지 등, 폴리아민 수지, 폴리아크릴 수지, 폴리이미드 수지, 방향족 폴리아미드 수지 등의 유기질 섬유의 직포 또는 부직포를 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 에폭시 수지 조성물로부터 프리프레그를 제조하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 에폭시 수지 조성물을 용제로 점도 조정하여 제조한 수지 바니시에 침지시켜 함침한 후, 가열 건조시켜 수지 성분을 반경화 (B 스테이지화) 하여 얻어지는 것이고, 예를 들어, 100 ℃ ∼ 200 ℃ 에서 1 분간 ∼ 40 분간 가열 건조시킬 수 있다. 여기서, 프리프레그 중의 수지량은, 수지분 30 질량% ∼ 80 질량% 로 하는 것이 바람직하다.The epoxy resin composition can manufacture a prepreg used in a printed wiring board etc. by impregnating a fibrous base material. As the fibrous substrate, inorganic fibers such as glass, polyester resins, etc., and organic fibers such as polyamine resins, polyacrylic resins, polyimide resins, and aromatic polyamide resins can be used as woven or nonwoven fabrics, but are not limited thereto. . The method for producing a prepreg from the epoxy resin composition is not particularly limited, and for example, the epoxy resin composition is immersed in a resin varnish prepared by adjusting the viscosity with a solvent to be impregnated, and then heat-dried to reduce the resin component to a radius. It is obtained by making it (B-staging), for example, it can heat-dry at 100 degreeC - 200 degreeC for 1 minute - 40 minutes. Here, it is preferable that the amount of resin in a prepreg shall be 30 mass % - 80 mass % of resin content.

또, 프리프레그를 경화시키기 위해서는, 일반적으로 프린트 배선판을 제조할 때에 사용되는 적층판의 경화 방법을 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 프리프레그를 사용하여 적층판을 형성하는 경우, 프리프레그를 1 장 또는 복수장 적층하고, 편측 또는 양측에 금속박을 배치하여 적층물을 구성하고, 이 적층물을 가열·가압하여 적층 일체화한다. 여기서 금속박으로는, 구리, 알루미늄, 놋쇠, 니켈 등의 단독, 합금, 복합된 금속박을 사용할 수 있다. 그리고, 제조한 적층물을 가압 가열함으로써 프리프레그를 경화시켜 적층판을 얻을 수 있다. 그 때, 가열 온도를 160 ℃ ∼ 220 ℃, 가압 압력을 50 N/㎠ ∼ 500 N/㎠, 가열 가압 시간을 40 분간 ∼ 240 분간으로 하는 것이 바람직하고, 목적으로 하는 경화물을 얻을 수 있다. 가열 온도가 낮으면 경화 반응이 충분히 진행되지 않고, 높으면 에폭시 수지 조성물의 분해가 시작될 우려가 있다. 또, 가압 압력이 낮으면 얻어지는 적층판의 내부에 기포가 잔류하여, 전기적 특성이 저하되는 경우가 있고, 높으면 경화되기 전에 수지가 흘러 버려, 원하는 두께의 경화물이 얻어지지 않을 우려가 있다. 또한, 가열 가압 시간이 짧으면 충분히 경화 반응이 진행되지 않을 우려가 있고, 길면 프리프레그 중의 에폭시 수지 조성물의 열분해가 일어날 우려가 있어 바람직하지 않다.Moreover, in order to harden a prepreg, although the hardening method of the laminated board generally used when manufacturing a printed wiring board can be used, it is not limited to this. For example, when a laminate is formed using a prepreg, one or a plurality of prepregs are laminated, a metal foil is arranged on one side or both sides to form a laminate, and the laminate is heated and pressurized to integrate the laminate. do. Here, as metal foil, single, alloy, composite metal foils, such as copper, aluminum, brass, and nickel, can be used. And the prepreg can be hardened by pressurizing and heating the manufactured laminated body, and a laminated board can be obtained. In that case, the heating temperature is preferably 160°C to 220°C, the pressurization pressure is 50 N/cm 2 to 500 N/cm 2 , and the heat press time is preferably 40 minutes to 240 minutes, and the target cured product can be obtained. When the heating temperature is low, the curing reaction does not proceed sufficiently, and when the heating temperature is high, there is a fear that decomposition of the epoxy resin composition starts. Moreover, when the pressurization pressure is low, air bubbles remain inside the obtained laminated board, and electrical properties may fall, and when it is high, there exists a possibility that resin flows out before hardening and the hardened|cured material of a desired thickness may not be obtained. Moreover, when the heating and pressurization time is short, there is a fear that the curing reaction may not proceed sufficiently, and when the heating and pressurization time is long, there is a fear that thermal decomposition of the epoxy resin composition in the prepreg may occur, which is not preferable.

에폭시 수지 조성물을 경화시킴으로써 에폭시 수지 경화물을 얻을 수 있다. 경화물을 얻기 위한 방법으로는, 공지된 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법을 취할 수 있으며, 본 발명의 에폭시 수지 조성물 고유의 방법은 필요하지 않고, 주형, 주입, 포팅, 딥핑, 드립 코팅, 트랜스퍼 성형, 압축 성형 등이나 수지 시트, 수지 부착 동박, 프리프레그 등의 형태로 하여 적층하고 가열 가압 경화시킴으로써 적층판으로 하는 등의 방법이 바람직하게 사용된다. 그 때의 경화 온도는 통상적으로 100 ℃ ∼ 300 ℃ 의 범위이고, 경화 시간은 통상적으로 1 시간 ∼ 5 시간 정도이다.A cured epoxy resin product can be obtained by curing the epoxy resin composition. As a method for obtaining a cured product, the same method as that of a known epoxy resin composition can be taken, and the method unique to the epoxy resin composition of the present invention is not required, and casting, pouring, potting, dipping, drip coating, transfer molding, Compression molding or the like, or a method such as forming a resin sheet, copper foil with resin, prepreg, or the like and laminating it and curing it by heating and pressurization to obtain a laminated sheet is preferably used. The curing temperature in that case is normally in the range of 100 degreeC - 300 degreeC, and hardening time is about 1 hour - about 5 hours normally.

본 발명의 에폭시 수지 경화물은, 적층물, 성형물, 접착물, 도막, 필름 등의 형태를 취할 수 있다.The cured epoxy resin product of the present invention may take the form of a laminate, a molded product, an adhesive, a coating film, a film, or the like.

에폭시 수지 조성물을 제조하여, 가열 경화에 의해 적층판의 에폭시 수지 경화물을 평가한 결과, 본 발명의 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지는, 종래 공지된 에폭시 수지와 비교하여 저유전 특성이고, 또한 저점도이고 작업성이 양호할 뿐만 아니라, 높은 내열성과 높은 접착성을 겸비하는 것이 가능하고, 또한 용제 용해성도 개량할 수 있었다.As a result of preparing an epoxy resin composition and evaluating the cured epoxy resin product of the laminate by heat curing, the oxazolidone ring-containing epoxy resin of the present invention has a low dielectric property compared with a conventionally known epoxy resin, and has a low viscosity It was possible not only to have good workability, but also to have high heat resistance and high adhesiveness, and it was also possible to improve solvent solubility.

실시예Example

실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 특별히 언급이 없는 한 「부」 는 질량부를 나타내고, 「%」 는 질량% 를 나타낸다. 측정 방법은 각각 이하의 방법에 의해 측정하였다.The present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, "part" represents parts by mass, and "%" represents mass %. The measurement method was measured by the following methods, respectively.

·에폭시 당량 : JIS K7236 규격에 준하였다.· Epoxy equivalent: according to JIS K7236 standard.

·점도 : JIS K7233 규격, 단일 원통 회전 점도계법에 준하였다.· Viscosity: according to JIS K7233 standard, single cylinder rotational viscometer method.

·연화점 : JIS K7234 규격, 환구법 (環球法) 에 준거하여 측정하였다. 구체적으로는, 자동 연화점 장치 (주식회사 메이텍 제조, ASP-MG4) 를 사용하였다.- Softening point: It was measured based on JISK7234 standard, the round-ball method. Specifically, an automatic softening point device (manufactured by Meitek Co., Ltd., ASP-MG4) was used.

·용제 용해성 : 메틸에틸케톤으로 불휘발분 50 % 로 희석했을 때의 상태를 육안으로 판단하였다. 완전히 용해되어 투명한 것을 ○, 백탁 또는 분리된 것을 ×, 살짝 탁해진 것을 △ 를 하였다.- Solvent solubility: The state when it diluted to 50% of non-volatile matter with methyl ethyl ketone was judged visually. A completely dissolved and transparent thing was denoted by ○, a cloudy or separated thing was denoted by ×, and a slightly cloudy thing was denoted by Δ.

·흡광도비 Ox/Ur : 푸리에 변환형 적외 분광 광도계 (PerkinEler Precisely 제조, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X) 의 전반사 측정법 (ATR 법) 에 의해 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 흡광도를 측정하여, 1745 ∼ 1760 ㎝-1 의 범위 내에서 흡광도의 최대값을 Ox 로 하고, 1730 ∼ 1740 ㎝-1 의 범위 내에서 흡광도의 최대값을 Ur 로 하고, 흡광도비 Ox/Ur 을 계산에 의해 구하였다.Absorbance ratio Ox/Ur: 1745 to 1760 by measuring the absorbance of 1650 to 1800 cm -1 by the total reflection measurement method (ATR method) of a Fourier transform infrared spectrophotometer (manufactured by PerkinEler Precisely, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X) The maximum value of absorbance within the range of cm -1 was defined as Ox, and the maximum value of absorbance within the range of 1730-1740 cm -1 was defined as Ur, and the absorbance ratio Ox/Ur was calculated by calculation.

·동박 박리 강도 및 층간 접착력 : JIS C6481 에 준하여 측정하고, 층간 접착력은 7 층째와 8 층째 사이에서 박리하여 측정하였다.- Copper foil peeling strength and interlayer adhesive force: Measured according to JIS C6481, and interlayer adhesive force was measured by peeling between the 7th and 8th layers.

·유리 전이 온도 (DSC 법) : IPC-TM-650 2.4.25.c 에 준하여 시차 주사 열량 측정 장치 (주식회사 히타치 하이텍 사이언스 제조, EXSTAR6000 DSC6200) 로 20 ℃/분의 승온 조건에서 측정을 실시했을 때의 DSC·Tgm (유리 상태와 고무 상태의 접선에 대해 변이 곡선의 중간 온도) 으로 나타냈다.・Glass transition temperature (DSC method): When measurement was performed under a temperature rise condition of 20°C/min with a differential scanning calorimetry device (Exstar6000 DSC6200, manufactured by Hitachi Hitech Science, Inc.) in accordance with IPC-TM-650 2.4.25.c was expressed as the DSC·Tgm (intermediate temperature of the transition curve for the tangent between the glass state and the rubber state).

·유리 전이 온도 (TMA 법) : IPC-TM-650 2.4.24.1 에 준하여 열기계 분석 장치 (주식회사 히타치 하이텍 사이언스 제조, EXSTAR6000 TMA/SS120U) 로 10 ℃/분의 승온 조건에서 측정을 실시했을 때의 TMA 외삽값의 온도로 나타냈다.・Glass transition temperature (TMA method): When the measurement was carried out under a temperature increase condition of 10°C/min with a thermomechanical analyzer (manufactured by Hitachi Hitech Science, EXSTAR6000 TMA/SS120U) in accordance with IPC-TM-650 2.4.24.1 It was expressed as the temperature of the TMA extrapolated value.

·비유전율 및 유전 정접 : IPC-TM-650 2.5.5.9 에 준하여 머티리얼 애널라이저 (AGILENT Technologies 사 제조) 를 사용하여, 용량법에 의해 주파수 1 ㎓ 에 있어서의 유전율 및 유전 정접을 구함으로써 평가하였다.- Specific permittivity and dielectric loss tangent: In accordance with IPC-TM-650 2.5.5.9, using a material analyzer (manufactured by AGILENT Technologies), it was evaluated by determining the dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 1 GHz by the capacitance method.

·연소성 : UL94 (Underwriters Laboratories Inc. 의 안전 인증 규격) 에 준하여, 수직법에 의해 평가하였다.- Flammability: In accordance with UL94 (Safety certification standard of Underwriters Laboratories Inc.), the vertical method evaluated.

·GPC : 본체 (토소 주식회사 제조, HLC-8220GPC) 에 칼럼 (토소 주식회사 제조, TSKgel (등록상표) G4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL) 을 직렬로 구비한 것을 사용하고, 칼럼 온도는 40 ℃ 로 하였다. 또, 용리액에는 테트라하이드로푸란을 사용하고, 1 ㎖/min 의 유속으로 하고, 검출기는 RI (시차 굴절계) 검출기를 사용하였다. 표준의 단분산 폴리스티렌으로부터 구한 검량선으로부터 환산하였다.-GPC: A body (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) having a column (manufactured by Tosoh Corporation, TSKgel (registered trademark) G4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL) in series was used, and the column temperature was set to 40°C. In addition, tetrahydrofuran was used as an eluent, it was set as the flow rate of 1 ml/min, and the detector used the RI (differential refractometer) detector. It converted from the calibration curve calculated|required from standard monodisperse polystyrene.

·IR : 푸리에 변환형 적외 분광 광도계 (PerkinEler Precisely 제조, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X) 의 전반사 측정법 (ATR 법) 에 의해 파수 650 ∼ 4000 ㎝-1 의 흡광도를 측정하였다.-IR: The absorbance of wave number 650-4000 cm -1 was measured by the total reflection measurement method (ATR method) of a Fourier transform infrared spectrophotometer (The PerkinEler Precisely make, Spectrum One FT-IR Spectrometer 1760X).

·NMR : 푸리에 변환 핵자기 공명 장치 (JEOL 제조, JNM-ECA400) 에 의해 CDCL3 을 용매로 하여 13C 의 액체 측정을 실시하였다.-NMR: The 13C liquid was measured using CDCL3 as a solvent with a Fourier transform nuclear magnetic resonance apparatus (made by JEOL, JNM-ECA400).

합성예 1Synthesis Example 1

유리제 세퍼러블 플라스크에, 4,4'-(3,3,5-트리메틸시클로헥실리덴)디페놀 (혼슈 화학 공업 주식회사 제조, BisP-TMC) 을 100 부, 에피클로로하이드린을 358 부, 이온 교환수를 4 부 주입하고, 교반하면서 50 ℃ 까지 승온시켰다. 균일하게 용해 후, 49 % 수산화나트륨 수용액을 5.3 부 주입하고, 3 시간 반응을 실시하였다. 다음으로, 64 ℃ 까지 승온시킨 후, 물의 환류가 일어날 정도까지 감압화하고, 49 % 수산화나트륨 수용액 48 부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 이 적하 중에 환류 유출된 물과 에피클로로하이드린을 분리조에서 분리하여 에피클로로하이드린은 반응 용기로 되돌리고, 물은 계 외로 제거하여 반응시켰다. 반응 종료 후, 온도를 70 ℃ 까지 높여 탈수를 실시하고, 온도를 135 ℃ 로 하여 잔존하는 에피클로로하이드린을 회수하였다. 상압으로 되돌리고, 메틸이소부틸케톤 (MIBK) 을 204 부 첨가하여 용해시켰다. 이온 교환수를 127 부 첨가하고, 교반 정치 (靜置) 하여 부생한 식염을 물에 용해시켜 제거하였다. 다음으로 49 % 수산화나트륨 수용액을 2.9 부 주입하고, 80 ℃ 에서 90 분간 교반 반응시켜 정제 반응을 실시하였다. MIBK 를 추가, 수세를 몇 차례 실시하여 이온성 불순물을 제거하였다. 용제를 회수하여, 상기 식 (4) 로 나타내는 에폭시 수지 (에폭시 수지 A) 를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 A 는, 에폭시 당량 219 g/eq., 알코올성 수산기 당량 5510 g/eq. 이고, m (평균값) 은 0.04 이다.In a glass separable flask, 100 parts of 4,4'-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)diphenol (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., BisP-TMC), 358 parts of epichlorohydrin, and ions 4 parts of exchange water were injected|threw-in, and it heated up to 50 degreeC, stirring. After uniformly melt|dissolving, 5.3 parts of 49% sodium hydroxide aqueous solution were injected|thrown-in, and reaction was performed for 3 hours. Next, after raising the temperature to 64°C, the pressure was reduced to the extent that reflux of water occurred, and 48 parts of a 49% aqueous sodium hydroxide solution were added dropwise over 3 hours, and the water and epichlorohydrin discharged under reflux during this dropwise addition were separated in a separation tank. After separation, epichlorohydrin was returned to the reaction vessel, and water was removed from the system to react. After completion of the reaction, the temperature was raised to 70°C to perform dehydration, and the temperature was adjusted to 135°C to recover the remaining epichlorohydrin. It returned to normal pressure, and 204 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) were added and dissolved. 127 parts of ion-exchange water was added, it stirred and left still, and the salt produced by it was dissolved in water and removed. Next, 2.9 parts of 49% sodium hydroxide aqueous solution was poured in, and it was made to react with stirring at 80 degreeC for 90 minutes, and purification reaction was performed. MIBK was added and washed several times to remove ionic impurities. The solvent was collect|recovered and the epoxy resin (epoxy resin A) represented by the said Formula (4) was obtained. The obtained epoxy resin A had an epoxy equivalent of 219 g/eq. and an alcoholic hydroxyl group equivalent of 5510 g/eq. , and m (average value) is 0.04.

합성예 2Synthesis Example 2

합성예 1 과 동일한 장치에, 페놀 282 부, 98 % 황산 14.8 부를 주입하고, 80 ℃ 까지 승온시켰다. 동 온도에서 1 시간 교반 후, 60 ℃ 에서 4-메틸시클로헥사논 33.6 부, n-도데실메르캅탄 6 부를 투입하고 65 ℃, 1.3 ㎪ 로 물을 제거하면서 4-메틸시클로헥사논 잔존량을 당초 투입량의 50 % 가 될 때까지 반응시켰다. 질소 가스로 상압까지 복압 후, 실온까지 냉각시키고, 그대로 3 일간 정치시켰다. 그 후, 고화된 반응 생성물에 톨루엔, 이온 교환수를 첨가하여 용해시키고, 수산화나트륨으로 중화 후, 이온 교환수로 세정하였다. 얻어진 유기층을 그대로 냉각시키고, 석출된 결정을 여과 분리하여 건조시켰다. 얻어진 결정을 메탄올물로 재결정 후, 여과 분리하여 건조시켰다. 이 조작을 2 회 반복하여, 4,4'-(4-메틸시클로헥실리덴)디페놀을 얻었다.282 parts of phenol and 14.8 parts of 98% sulfuric acid were poured into the apparatus similar to the synthesis example 1, and it heated up to 80 degreeC. After stirring for 1 hour at the same temperature, 33.6 parts of 4-methylcyclohexanone and 6 parts of n-dodecylmercaptan were added at 60°C, and the residual amount of 4-methylcyclohexanone was initially adjusted while removing water at 65°C and 1.3 kPa. It was made to react until it became 50% of the input amount. After returning the pressure to normal pressure with nitrogen gas, it was cooled to room temperature and left still for 3 days. Thereafter, toluene and ion-exchanged water were added to the solidified reaction product for dissolution, neutralized with sodium hydroxide, and washed with ion-exchanged water. The obtained organic layer was cooled as it was, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried. The obtained crystals were recrystallized from methanol, filtered, and dried. This operation was repeated twice to obtain 4,4'-(4-methylcyclohexylidene)diphenol.

이어서, BisP-TMC 100 부를 얻어진 4,4'-(4-메틸시클로헥실리덴)디페놀 91 부로 바꾼 것 이외에는, 합성예 1 과 동일한 장치를 사용하여 동일한 조작을 실시하여, 하기 식 (8) 로 나타내는 에폭시 수지 (에폭시 수지 B) 를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 B 는, 에폭시 당량 206 g/eq., 알코올성 수산기 당량 5480 g/eq. 이고, m 은 0.05 이다.Next, the same operation was performed using the same apparatus as in Synthesis Example 1, except that 100 parts of BisP-TMC was replaced with 91 parts of the obtained 4,4'-(4-methylcyclohexylidene)diphenol, the following formula (8) An epoxy resin (epoxy resin B) represented by was obtained. The obtained epoxy resin B had an epoxy equivalent of 206 g/eq. and an alcoholic hydroxyl group equivalent of 5480 g/eq. , and m is 0.05.

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112015108162974-pat00009
Figure 112015108162974-pat00009

합성예 3Synthesis Example 3

BisP-TMC 100 부를 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀 (혼슈 화학 공업 주식회사 제조, Bis-Z) 86.5 부로 바꾼 것 이외에는, 합성예 1 과 동일한 장치를 사용하여 동일한 조작을 실시하여, 하기 식 (9) 로 나타내는 에폭시 수지 (에폭시 수지 F) 를 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 F 는, 에폭시 당량 200 g/eq., 알코올성 수산기 당량 5500 g/eq. 이고, m 은 0.06 이다.Except for replacing 100 parts of BisP-TMC with 86.5 parts of 4,4'-cyclohexylidenebisphenol (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., Bis-Z), the same operation was carried out using the same apparatus as in Synthesis Example 1, and the following formula ( An epoxy resin (epoxy resin F) represented by 9) was obtained. The obtained epoxy resin F had an epoxy equivalent of 200 g/eq. and an alcoholic hydroxyl equivalent of 5500 g/eq. , and m is 0.06.

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112015108162974-pat00010
Figure 112015108162974-pat00010

실시예 및 비교예에서 사용한 약호의 설명은 이하와 같다.The description of the symbol used in the Example and the comparative example is as follows.

(에폭시 수지)(epoxy resin)

에폭시 수지 A : 합성예 1 에서 얻어진 에폭시 수지Epoxy resin A: Epoxy resin obtained in Synthesis Example 1

에폭시 수지 B : 합성예 2 에서 얻어진 에폭시 수지Epoxy resin B: Epoxy resin obtained in Synthesis Example 2

에폭시 수지 C : 비스페놀 A 형 액상 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, 에포토트 YD-128, 에폭시 당량 186 g/eq., 알코올성 수산기 당량 2000 g/eq.)Epoxy resin C: bisphenol A liquid epoxy resin (manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., EPOTOT YD-128, epoxy equivalent 186 g/eq., alcoholic hydroxyl group equivalent 2000 g/eq.)

에폭시 수지 D : 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 (고쿠토 화학 주식회사 제조, KDCP-130, 에폭시 당량 254 g/eq., 알코올성 수산기 당량 2500 g/eq.)Epoxy resin D: dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by Kokuto Chemical Co., Ltd., KDCP-130, epoxy equivalent of 254 g/eq., alcoholic hydroxyl equivalent of 2500 g/eq.)

에폭시 수지 E : 스티렌화페놀 노볼락형 에폭시 수지 (신닛테츠 스미킨 화학 주식회사 제조, TX-1210, 에폭시 당량 257 g/eq., 알코올성 수산기 당량 2800 g/eq.)Epoxy resin E: Styrenated phenol novolac-type epoxy resin (manufactured by Shin-Nittetsu Sumikin Chemical Co., Ltd., TX-1210, epoxy equivalent 257 g/eq., alcoholic hydroxyl equivalent 2800 g/eq.)

에폭시 수지 F : 합성예 3 에서 얻어진 에폭시 수지Epoxy resin F: Epoxy resin obtained in Synthesis Example 3

(이소시아네이트)(isocyanate)

이소시아네이트 A : 디페닐메탄디이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 (등록상표) PH, NCO 농도 34 %)Isocyanate A: diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd., Cosmonate (registered trademark) PH, NCO concentration 34%)

이소시아네이트 B : 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 (80 %) 와 2,6-톨릴렌디이소시아네이트 (20 %) 의 혼합물 (미츠이 화학 주식회사 제조, 코스모네이트 T-80, NO 농도 48 %)Isocyanate B: A mixture of 2,4-tolylene diisocyanate (80%) and 2,6-tolylene diisocyanate (20%) (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., Cosmonate T-80, NO concentration 48%)

이소시아네이트 C : 시클로헥산-1,3-디일비스메틸렌디이소시아네이트 (미츠이 화학 주식회사 제조, 타케네이트 (등록상표) 600, NCO 농도 43 %)Isocyanate C: Cyclohexane-1,3-diylbismethylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., Takenate (trademark) 600, NCO concentration 43%)

(촉매)(catalyst)

촉매 A : 테트라메틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst A: tetramethylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 B : n-부틸트리페닐포스포늄·브로마이드 (닛폰 화학 공업 주식회사 제조, 히시코린 (등록상표) BTPPBr)Catalyst B: n-butyltriphenylphosphonium bromide (manufactured by Nippon Chemical Industries, Ltd., Hisikorin (registered trademark) BTPPBr)

촉매 C : 테트라부틸암모늄브로마이드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst C: tetrabutylammonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 D : 테트라부틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst D: tetrabutylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 E : 테트라에틸암모늄브로마이드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst E: tetraethylammonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 F : 테트라에틸암모늄요오디드 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst F: tetraethylammonium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 G : 트리에틸아민 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst G: triethylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 H : 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst H: tris(2,6-dimethoxyphenyl)phosphine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

촉매 I : N,N'-디메틸피페라진 (도쿄 화성 공업 주식회사 제조, 시약)Catalyst I: N,N'-dimethylpiperazine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., reagent)

(경화제)(hardener)

PN : 페놀 노볼락 수지 (쇼와 전공 주식회사 제조, 쇼우놀 (등록상표) BRG-557, 연화점 80 ℃)PN: Phenolic novolac resin (manufactured by Showa Denko Co., Ltd., Shounol (registered trademark) BRG-557, softening point 80°C)

DICY : 디시안디아미드 (닛폰 카바이트 주식회사 제조)DICY: dicyandiamide (manufactured by Nippon Carbite Co., Ltd.)

(경화 촉진제)(curing accelerator)

2E4MZ : 2-에틸-4-메틸이미다졸 (시코쿠 화성 공업 주식회사 제조, 큐어졸 (등록상표) 2E4MZ)2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., Curesol (registered trademark) 2E4MZ)

(난연제)(flame retardant)

PX-200 : 방향족 축합 인산에스테르 (다이하치 화학 공업 주식회사 제조, PX-200, 인 함유량 9.0 %)PX-200: Aromatic condensed phosphate ester (manufactured by Daihachi Chemical Industries, Ltd., PX-200, phosphorus content 9.0%)

실시예 1Example 1

합성예 1 과 동일한 장치에, 에폭시 수지 (a) 로서 에폭시 수지 A 를 100 부, 촉매로서 촉매 A 를 0.11 부 주입하고, 질소 가스를 투입하면서 승온시키고, 120 ℃ 에서 30 분간 온도를 유지하여 계 내의 수분을 제거하였다. 다음으로, 130 ℃ ∼ 140 ℃ 의 반응 온도를 유지하면서, 이소시아네이트 화합물 (b) 로서 이소시아네이트 A 를 11.5 부 (에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대한 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기의 몰비[(b)/(a)]= 0.20) 를 50 % 톨루엔 용액으로 하여, 3 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 종료 후, 동 온도를 유지하면서 추가로 60 분간 교반을 계속하였다. 반응 종료 후, 150 ℃, 1.33 ㎪, 30 분의 회수 조건에서 용제를 제거하여, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 (수지 1) 를 얻었다. 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로, 에폭시 당량, 연화점, 용제 용해성, 흡광도비를 측정하였다. 측정 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 도 1 에 GPC 차트를 나타낸다. (동 도면에서, 가로축에 용출 시간 (분) 을 나타내고, 왼쪽 세로축에 신호 강도 (㎷) 를 나타낸다. 오른쪽 세로축에 수평균 분자량 M 을 상용 대수 (對數) (log) 로 나타낸다. 사용한 표준 물질의 수평균 분자량의 측정값을 흰색 원으로 플롯하여 검량선으로 하였다.) 도 2 에 IR 차트를 나타낸다. (동 도면에서, 가로축에 파수 (㎝-1) 를 나타내고, 세로축에 투과율 (%T) 을 나타낸다) 도 3 에 13C-NMR 스펙트럼 NMR 차트를 나타낸다. 도 4 에 적외 분광 광도계의 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때의 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 범위의 흡광도 스펙트럼을 나타낸다.In the same apparatus as in Synthesis Example 1, 100 parts of epoxy resin A as an epoxy resin (a) and 0.11 parts of catalyst A as a catalyst were injected, and the temperature was increased while introducing nitrogen gas, and the temperature was maintained at 120 ° C. Moisture was removed. Next, while maintaining the reaction temperature of 130°C to 140°C, 11.5 parts of isocyanate A as the isocyanate compound (b) (molar ratio of the isocyanate group of the isocyanate compound (b) to 1 mol of the epoxy group of the epoxy resin (a) [( b)/(a)] = 0.20) was added dropwise over 3 hours as a 50% toluene solution. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for an additional 60 minutes while maintaining the same temperature. After completion of the reaction, the solvent was removed at 150°C, 1.33 kPa, and 30 minutes of recovery conditions to obtain an oxazolidone ring-containing epoxy resin (resin 1). With the obtained oxazolidone ring-containing epoxy resin, the epoxy equivalent, softening point, solvent solubility, and absorbance ratio were measured. Table 1 shows the measurement results. Moreover, a GPC chart is shown in FIG. (In the figure, the abscissa represents the elution time (minutes), and the left vertical axis represents the signal intensity (mV). The right vertical axis represents the number average molecular weight M as a common logarithm (log). Number of standard substances used The measured value of the average molecular weight was plotted as a white circle as a calibration curve.) An IR chart is shown in FIG. 2 . (In the figure, the horizontal axis indicates the wave number (cm −1 ), and the vertical axis indicates the transmittance (%T)) FIG. 3 shows a 13 C-NMR spectrum NMR chart. The absorbance spectrum in the range of 1650-1800 cm< -1 > at the time of analyzing by the total reflection measurement method (ATR method) of an infrared spectrophotometer in FIG. 4 is shown.

실시예 2 ∼ 18Examples 2 to 18

표 1 또는 표 2 에 나타내는 각 원료의 주입량 (부) 에 따라, 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 합성하였다. 또한, 반응 온도는 표 1 또는 표 2 에 나타내는 반응 온도 ±5 ℃ 의 온도 범위를 유지하고, 이소시아네이트 화합물의 적하는 표 1 또는 표 2 에 나타내는 적하 시간으로 실시하였다. 실시예 1 과 동일하게, 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량, 연화점, 용제 용해성, 흡광도비를 측정하고, 측정 결과를 표 1 또는 표 2 에 나타낸다.According to the injection amounts (parts) of each raw material shown in Table 1 or Table 2, an oxazolidone ring-containing epoxy resin was synthesized by the same operation as in Example 1 using the same apparatus. In addition, reaction temperature maintained the temperature range of reaction temperature +/-5 degreeC shown in Table 1 or Table 2, and the isocyanate compound was dripped at the dripping time shown in Table 1 or Table 2. Similarly to Example 1, the epoxy equivalent, softening point, solvent solubility, and absorbance ratio of the obtained oxazolidone ring containing epoxy resin were measured, and a measurement result is shown in Table 1 or Table 2.

비교예 1 ∼ 5Comparative Examples 1 to 5

표 3 에 나타내는 각 원료의 주입량 (부) 에 따라, 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 합성하였다. 또한, 반응 온도는 표 3 에 나타내는 반응 온도 ±5 ℃ 의 온도 범위를 유지하고, 이소시아네이트 화합물의 적하는 표 3 에 나타내는 적하 시간으로 실시하였다. 실시예 1 과 동일하게, 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량, 연화점, 용제 용해성, 흡광도비를 측정하고, 측정 결과를 표 3 에 나타낸다. 또, 비교예 2 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지에 대해, 도 5 에 적외 분광 광도계의 전반사 측정법 (ATR 법) 으로 분석했을 때의 1650 ∼ 1800 ㎝-1 의 범위의 흡광도 스펙트럼을 나타낸다.According to the injection amount (part) of each raw material shown in Table 3, an oxazolidone ring-containing epoxy resin was synthesized by the same operation as in Example 1 using the same apparatus. In addition, reaction temperature maintained the temperature range of reaction temperature +/-5 degreeC shown in Table 3, and the isocyanate compound was dripped at the dripping time shown in Table 3. Similarly to Example 1, the epoxy equivalent, softening point, solvent solubility, and absorbance ratio of the obtained oxazolidone ring containing epoxy resin were measured, and the measurement result is shown in Table 3. Moreover, about the oxazolidone ring containing epoxy resin obtained in Comparative Example 2, the absorbance spectrum in the range of 1650-1800 cm -1 when analyzed by the total reflection measurement method (ATR method) of an infrared spectrophotometer in FIG. 5 is shown.

실시예 1 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 수지 1 로 하고, 이하 동일하게 수지 2 ∼ 18 로 하였다. 비교예 1 에서 얻어진 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지를 비교 수지 1 로 하고, 이하 동일하게 비교 수지 2 ∼ 5 로 하였다.The oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained in Example 1 was referred to as Resin 1, and was referred to as Resins 2 to 18 in the same manner below. The oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained in Comparative Example 1 was referred to as Comparative Resin 1, and was referred to as Comparative Resins 2 to 5 in the same manner below.

Figure 112015108162974-pat00011
Figure 112015108162974-pat00011

Figure 112015108162974-pat00012
Figure 112015108162974-pat00012

Figure 112015108162974-pat00013
Figure 112015108162974-pat00013

실시예 19Example 19

에폭시 수지로서 실시예 1 의 수지 1 을 100 부, 경화제로서 PN 을 35.6 부, 경화 촉진제로서 2E4MZ 를 0.01 부 배합하고, MEK, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, N,N-디메틸포름아미드로 조정한 혼합 용제에 용해시켜 에폭시 수지 조성물 바니시를 얻었다.A mixed solvent prepared by blending 100 parts of Resin 1 of Example 1 as an epoxy resin, 35.6 parts of PN as a curing agent, and 0.01 parts of 2E4MZ as a curing accelerator, and adjusted with MEK, propylene glycol monomethyl ether, and N,N-dimethylformamide to obtain an epoxy resin composition varnish.

얻어진 에폭시 수지 조성물 바니시를 유리 크로스 (닛토 방적 주식회사 제조, WEA 116E106S136, 두께 0.1 ㎜) 에 함침하였다. 함침한 유리 크로스를 150 ℃ 의 열풍 순환 오븐 중에서 11 분간 건조시켜 프리프레그를 얻었다. 얻어진 프리프레그 8 장과, 상하에 동박 (미츠이 금속 광업 주식회사 제조, 3EC-III, 두께 35 ㎛) 을 중첩하고, 130 ℃ × 15 분 + 190 ℃ × 80 분의 온도 조건에서 2 ㎫ 의 진공 프레스를 실시하여, 1 ㎜ 두께의 적층판을 얻었다. 적층판의 동박 박리 강도, 층간 접착력, 유리 전이 온도 (DSC 법) (Tg·DSC), 유리 전이 온도 (TMA 법) (Tg·TMA) 의 결과를 표 4 에 나타냈다.The obtained epoxy resin composition varnish was impregnated in the glass cloth (The Nitto Spinning Co., Ltd. make, WEA116E106S136, thickness 0.1mm). The impregnated glass cloth was dried for 11 minutes in 150 degreeC hot-air circulation oven, and the prepreg was obtained. 8 sheets of obtained prepreg and copper foil (manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., 3EC-III, thickness 35 µm) were superimposed on top and bottom, and a vacuum press of 2 MPa was performed at a temperature of 130 ° C. × 15 minutes + 190 ° C. × 80 minutes. It carried out and obtained the laminated board of 1 mm thickness. Table 4 shows the results of the copper foil peel strength of the laminate, the interlayer adhesion, the glass transition temperature (DSC method) (Tg·DSC), and the glass transition temperature (TMA method) (Tg·TMA).

또, 얻어진 프리프레그를 풀고, 체로 100 메시 패스의 분말상의 프리프레그 파우더로 하였다. 얻어진 프리프레그 파우더를 불소 수지제의 형 (型) 에 넣고, 130 ℃ × 15 분 + 190 ℃ × 80 분의 온도 조건에서 2 ㎫ 의 진공 프레스를 실시하여, 가로세로 50 ㎜ × 2 ㎜ 두께의 시험편을 얻었다. 시험편의 비유전율 및 유전 정접의 결과를 표 4 에 나타냈다.Moreover, the obtained prepreg was unwound, and it was set as the powdery prepreg powder of 100 mesh pass through a sieve. The obtained prepreg powder was put in a mold made of a fluororesin, vacuum pressed at 2 MPa under a temperature condition of 130° C. × 15 minutes + 190° C. × 80 minutes, and a test piece with a thickness of 50 mm × 2 mm got Table 4 shows the results of the relative dielectric constant and dielectric loss tangent of the test piece.

실시예 20 ∼ 실시예 36Examples 20 to 36

실시예 2 ∼ 실시예 18 의 수지 2 ∼ 수지 18, PN, 및 2E4MZ 를 표 4 또는 표 5 의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작을 실시하여, 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 4 또는 표 5 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Examples 2 to 18 Resins 2 to 18, PN, and 2E4MZ were blended in the compounding amounts (parts) of Table 4 or Table 5, using the same apparatus as in Example 19, the same operation was performed, and the laminate was and test pieces were obtained. The test similar to Example 19 was implemented, and the result is shown in Table 4 or Table 5. In addition, "-" in a table|surface shows that it is not used.

비교예 6 ∼ 비교예 13Comparative Example 6 to Comparative Example 13

비교예 1 ∼ 비교예 5 의 비교 수지 1 ∼ 비교 수지 5, 에폭시 수지 A, 에폭시 수지 D, 에폭시 수지 E, PN, 및 2E4MZ 를 표 6 의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작을 실시하여, 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 6 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Comparative resins 1 to 5 of Comparative Examples 1 to 5, Epoxy resin A, Epoxy resin D, Epoxy resin E, PN, and 2E4MZ were blended in the amounts (parts) shown in Table 6, and the same apparatus as in Example 19 Using , the same operation was performed to obtain a laminate and a test piece. The same test as in Example 19 was implemented, and the result is shown in Table 6. In addition, "-" in a table|surface represents that it is not used.

Figure 112015108162974-pat00014
Figure 112015108162974-pat00014

Figure 112015108162974-pat00015
Figure 112015108162974-pat00015

Figure 112015108162974-pat00016
Figure 112015108162974-pat00016

실시예 37 ∼ 실시예 41 및 비교예 14 ∼ 비교예 16Examples 37 to 41 and Comparative Examples 14 to 16

수지 1, 수지 5, 수지 6, 수지 17, 수지 18, 비교 수지 1, 비교 수지 2, 비교 수지 4, DICY, 및 2E4MZ 를 표 7 의 처방의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 적층판 및 시험편을 얻었다. 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 7 에 나타낸다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Resin 1, Resin 5, Resin 6, Resin 17, Resin 18, Comparative Resin 1, Comparative Resin 2, Comparative Resin 4, DICY, and 2E4MZ were blended in the amount (parts) of the formulation shown in Table 7, and the same as in Example 19. Using the apparatus, a laminated plate and a test piece were obtained by the same operation. The test similar to Example 19 was implemented, and the result is shown in Table 7. In addition, "-" in a table|surface shows that it is not used.

Figure 112015108162974-pat00017
Figure 112015108162974-pat00017

실시예 42 ∼ 실시예 44 및 비교예 17 ∼ 비교예 19Examples 42 to 44 and Comparative Examples 17 to 19

수지 5, 수지 6, 수지 17, 비교 수지 1, 비교 수지 2, 비교 수지 4, PN, 2E4MZ, 및 PX-200 을 표 8 의 처방의 배합량 (부) 으로 배합하고, 실시예 19 와 동일한 장치를 사용하여, 동일한 조작으로, 적층판 및 시험편을 얻은 실시예 19 와 동일한 시험을 실시하고, 그 결과를 표 8 에 나타낸다. 또, 난연성 측정용 시험편은 적층판의 양면을 에칭하여 얻었다. 또한, 표 중의 「-」 은 사용하지 않는 것을 나타낸다.Resin 5, Resin 6, Resin 17, Comparative Resin 1, Comparative Resin 2, Comparative Resin 4, PN, 2E4MZ, and PX-200 were blended in the amounts (parts) of the formulation shown in Table 8, and the same apparatus as in Example 19 was used. Using and the same operation, the same test as Example 19 which obtained the laminated board and the test piece was done, and the result is shown in Table 8. Moreover, the test piece for a flame retardance measurement was obtained by etching both surfaces of a laminated board. In addition, "-" in a table|surface represents that it is not used.

Figure 112015108162974-pat00018
Figure 112015108162974-pat00018

본 발명은, 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 을 필수로서 반응시켜 얻어지는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지로서, 내열성, 접착성, 유전 특성이 우수한 전자 회로 기판용의 에폭시 수지로서 이용할 수 있다.The present invention is an oxazolidone ring-containing epoxy resin obtained by essentially reacting an epoxy resin (a) and an isocyanate compound (b), and can be used as an epoxy resin for electronic circuit boards excellent in heat resistance, adhesiveness and dielectric properties. .

Claims (18)

알코올성 수산기 당량이 3000 g/eq. 이상인 하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와 이소시아네이트 화합물 (b) 로부터 얻어지고, 에폭시 당량이 200 ∼ 550 g/eq. 이며, 적외 흡수 스펙트럼에 의한 분석에서, 옥사졸리돈 고리의 카르보닐기의 신축 진동에서 유래하는 1745 ∼ 1760 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ox, 우레탄 결합 구조의 카르보닐기의 신축 진동 피크에서 유래하는 1730 ∼ 1740 ㎝-1 에 포함되는 피크의 최대값을 흡광도 Ur 로 할 때, 흡광도비 Ox/Ur 이 1.35 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
[화학식 1]
Figure 112021110055964-pat00019

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)
Alcoholic hydroxyl equivalent of 3000 g/eq. It is obtained from the epoxy resin (a) and the isocyanate compound (b) containing 50 mass % or more of the epoxy resin (a1) represented by the above following formula (1), and an epoxy equivalent is 200-550 g/eq. and, in the analysis by the infrared absorption spectrum, the maximum value of the peak included in 1745 to 1760 cm -1 derived from the stretching vibration of the carbonyl group of the oxazolidone ring is derived from the absorbance Ox, the stretching vibration peak of the carbonyl group of the urethane bond structure An oxazolidone ring-containing epoxy resin having an absorbance ratio Ox/Ur of 1.35 or more, when the maximum value of the peak included in 1730-1740 cm -1 is taken as absorbance Ur.
[Formula 1]
Figure 112021110055964-pat00019

(Wherein, X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G is a glycidyl group. represents repetition, and the average value is 0 to 5.)
제 1 항에 있어서,
에폭시 수지 (a1) 와 함께, 알코올성 수산기 당량이 1000 g/eq. 이상인 다른 에폭시 수지 (a2) 를 에폭시 수지 (a) 중에 50 ∼ 0 질량% 함유하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
Together with the epoxy resin (a1), the alcoholic hydroxyl equivalent was 1000 g/eq. The oxazolidone ring containing epoxy resin which contains 50-0 mass % of other epoxy resins (a2) above in an epoxy resin (a).
제 1 항에 있어서,
에폭시 수지 (a) 의 에폭시 당량이 100 ∼ 500 g/eq. 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
The epoxy equivalent of the epoxy resin (a) is 100-500 g/eq. Epoxy resin containing phosphorus oxazolidone ring.
제 1 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
Isocyanate compound (b) An oxazolidone ring-containing epoxy resin having an average of 1.8 or more isocyanate groups in the molecule.
제 1 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
Isocyanate compound (b) 1 selected from tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate Epoxy resins containing more than one species of oxazolidone ring.
제 1 항에 있어서,
연화점이 50 ∼ 150 ℃ 인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지.
The method of claim 1,
An oxazolidone ring-containing epoxy resin having a softening point of 50 to 150°C.
하기 식 (1) 로 나타내는 에폭시 수지 (a1) 를 50 질량% 이상 함유하는 에폭시 수지 (a) 와, 이소시아네이트 화합물 (b) 을 에폭시 수지 (a) 의 에폭시기 1 몰에 대하여, 이소시아네이트 화합물 (b) 의 이소시아네이트기를 0.02 몰 이상 0.45 몰 미만의 범위에서 사용하고, 촉매 존재하에서, 계 내의 수분을 제거한 후에, 반응 온도 100 ℃ 이상 160 ℃ 이하의 범위에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
[화학식 2]
Figure 112021110055964-pat00020

(식 중, X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 및 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기에서 선택되는 치환기를 적어도 1 개 갖는 고리 원자수 5 ∼ 8 의 시클로알킬리덴기를 나타낸다. R 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 5 ∼ 8 의 시클로알킬기, 탄소수 6 ∼ 10 의 아릴기 또는 탄소수 6 ∼ 10 의 아르알킬기를 나타내고, G 는 글리시딜기를 나타낸다. m 은 반복을 나타내고, 평균값은 0 ∼ 5 이다.)
The epoxy resin (a) containing 50 mass % or more of the epoxy resin (a1) represented by following formula (1), and the isocyanate compound (b) with respect to 1 mol of the epoxy groups of the epoxy resin (a) of the isocyanate compound (b) An oxazolidone ring-containing epoxy resin, characterized in that an isocyanate group is used in the range of 0.02 mol or more and less than 0.45 mol, and the moisture in the system is removed in the presence of a catalyst, and then reacted at a reaction temperature of 100°C or more and 160°C or less manufacturing method.
[Formula 2]
Figure 112021110055964-pat00020

(Wherein, X represents a cycloalkylidene group having 5 to 8 ring atoms having at least one substituent selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and G is a glycidyl group. represents repetition, and the average value is 0 to 5.)
제 7 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이 분자 내에 평균 1.8 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Isocyanate compound (b) A method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin having an average of 1.8 or more isocyanate groups in the molecule.
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
이소시아네이트 화합물 (b) 이, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트에서 선택되는 1 종 이상인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
9. The method according to claim 7 or 8,
Isocyanate compound (b) 1 selected from tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate A method for producing an epoxy resin containing more than one species of oxazolidone ring.
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
촉매가 염기성 촉매인 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지의 제조 방법.
9. The method according to claim 7 or 8,
A method for producing an oxazolidone ring-containing epoxy resin in which the catalyst is a basic catalyst.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 옥사졸리돈 고리 함유 에폭시 수지 및 경화제를 필수로 하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.An epoxy resin composition comprising the oxazolidone ring-containing epoxy resin according to any one of claims 1 to 6 and a curing agent as essential. 제 11 항에 있어서,
에폭시 수지 조성물 중의 전체 에폭시 수지의 에폭시기 1 몰에 대하여, 경화제의 활성 수소기가 0.2 ∼ 1.5 몰인 에폭시 수지 조성물.
12. The method of claim 11,
The epoxy resin composition in which the active hydrogen groups of a hardening|curing agent are 0.2-1.5 mol with respect to 1 mol of the epoxy groups of all the epoxy resins in an epoxy resin composition.
제 11 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 에폭시 수지 경화물.An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 11 . 제 11 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 프리프레그.The prepreg characterized by using the epoxy resin composition of Claim 11. 제 11 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 적층판.The epoxy resin laminated board characterized by using the epoxy resin composition of Claim 11. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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