JP3067384B2 - Epoxy resin copper clad laminate - Google Patents
Epoxy resin copper clad laminateInfo
- Publication number
- JP3067384B2 JP3067384B2 JP9937992A JP9937992A JP3067384B2 JP 3067384 B2 JP3067384 B2 JP 3067384B2 JP 9937992 A JP9937992 A JP 9937992A JP 9937992 A JP9937992 A JP 9937992A JP 3067384 B2 JP3067384 B2 JP 3067384B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- group
- epoxy resin
- epoxy
- epoxy compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0326—Organic insulating material consisting of one material containing O
Landscapes
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はエポキシ樹脂銅張り積層
板に関し、さらに詳しくは低誘電性に優れたエポキシ樹
脂銅張り積層板に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin copper-clad laminate, and more particularly to an epoxy resin copper-clad laminate excellent in low dielectric properties.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、電気・電子用途に用いられるエポ
キシ樹脂組成物のなかで、プリント配線基板用の材料と
しては、主としてビスフェノール型エポキシ樹脂とジシ
アンジアミドの組み合わせが用いられている。近年、プ
リント配線基板の多層化に伴い、主に信号速度向上の目
的から樹脂の低誘電性が要求されてきている。この要求
に応えるための手段として従来のエポキシ樹脂組成物で
は、低誘電性の熱可塑性樹脂の添加が周知である。例え
ば反応性ポリブタジエン樹脂で変性する方法、ポリテト
ラフルオロエチレン樹脂の粉末を分散させる方法あるい
はアラミド繊維を基材に用いる方法等である。また基材
にこれまでのE−ガラスより誘電率の低いD−ガラスや
石英を用いた例も報告されている。2. Description of the Related Art Conventionally, among epoxy resin compositions used for electric and electronic applications, a combination of a bisphenol type epoxy resin and dicyandiamide is mainly used as a material for a printed wiring board. In recent years, with the increase in the number of layers in a printed wiring board, low dielectric properties of a resin have been demanded mainly for the purpose of improving the signal speed. As a means for meeting this demand, addition of a low-dielectric thermoplastic resin to a conventional epoxy resin composition is well known. For example, a method of modifying with a reactive polybutadiene resin, a method of dispersing a powder of a polytetrafluoroethylene resin, a method of using aramid fiber as a base material, and the like. In addition, there has been reported an example in which D-glass or quartz having a lower dielectric constant than conventional E-glass is used as a substrate.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来技
術においては、基本となるエポキシ樹脂の誘電率が高い
ため望ましい誘電率を達成するには組み合わせる熱可塑
性樹脂の占める割合が大きくなり、エポキシ樹脂の特長
である耐熱性、寸法安定性、耐薬品性等が損なわれてし
まう。また基材にアラミド繊維や石英を使用するとプリ
ント基板のドリル穴あけ加工時にドリルの摩耗が激しい
欠点があり、D−ガラスを用いた場合ではドリル加工性
の問題はないがプリント基板の製造コストが高くなる問
題が生じる。そこで、従来と全く同様の方法で低誘電性
のプリント基板が得られるような低誘電性のエポキシ樹
脂が切望されていた。本発明の目的は前記した問題を解
決しようとするものである。すなわち、エポキシ化合物
自体をより低誘電性のものとすることにより、耐熱性や
接着性に優れた低誘電性のエポキシ樹脂銅張り積層板を
得ようとするものである。However, in these prior arts, the ratio of the thermoplastic resin to be combined is large in order to achieve a desired dielectric constant because the basic epoxy resin has a high dielectric constant. Features such as heat resistance, dimensional stability, and chemical resistance are impaired. Also, when aramid fiber or quartz is used for the base material, there is a drawback that the drill is severely worn at the time of drilling a printed circuit board. When using D-glass, there is no problem of drillability, but the manufacturing cost of the printed circuit board is high. Problem arises. Therefore, a low-dielectric epoxy resin that can obtain a low-dielectric printed board in exactly the same manner as in the past has been desired. An object of the present invention is to solve the above-mentioned problem. That is, the epoxy compound itself is made to have a lower dielectric property, thereby obtaining a low dielectric epoxy resin copper-clad laminate excellent in heat resistance and adhesiveness.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、エポキシ
化合物の骨格構造について鋭意研究を続けた結果、下記
化2で表されるエポキシ化合物が優れた低誘電性を示す
ことを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち
本発明は下記化2Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on the skeletal structure of the epoxy compound, and as a result, have found that the epoxy compound represented by the following formula 2 has excellent low dielectric properties. The invention has been completed. That is, the present invention provides the following
【0005】[0005]
【化2】 (式中、nは、平均繰返し単位数を示し、1以上20以
下の数値をとる。R1 ,R2 ,R3 ,R4 は、それぞれ
独立に水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5
〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール
基、炭素数7〜20のアラルキル基のいずれかを表す。
但し、R1 ,R2 ,R3 ,R4 全てが水素原子ではな
い。P,Qは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数
1〜8のアルキル基、アルケニル基およびアルキニル
基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜1
4のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素
数1〜8のアルコキシ基、アルケニルオキシ基およびア
ルキニルオキシ基、炭素数6〜14のアリーロキシ基、
ニトロ基、シアノ基のいずれかを表し、iは、n=1の
ときのみ0以上4以下の整数値をとり、それ以外の場合
は0以上3以下の整数値をとる。jは、0以上4以下の
整数値をとる。iが2以上の場合、Pはそれぞれ同一で
あってもまた異なっていてもよく、jが2以上の場合、
同じくQはそれぞれ同一であってもまた異なっていても
よい。)で表されるエポキシ化合物と硬化剤からなるエ
ポキシ樹脂組成物を有機溶剤に溶解せしめ基材に含浸し
て得られるプリプレグと銅箔とを加熱成形してなること
を特徴とするエポキシ樹脂銅張り積層板に関する。また
本発明は上記化2で表されるエポキシ化合物とフェノー
ル性水酸基を2個以上有する化合物とを予め反応させて
得た付加物と硬化剤からなるエポキシ樹脂組成物を有機
溶剤に溶解せしめ基材に含浸して得られるプリプレグと
銅箔とを加熱成形してなることを特徴とするエポキシ樹
脂銅張り積層板に関する。上記化2で表されるエポキシ
化合物として好ましくは、nが1以上20以下であり、
R1 、R2 、R3 、R4 が全てメチル基であり、Pがそ
れぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基あるいは
炭素数6以上12以下のシクロアルキル基で、かつiが
2以上3以下の整数であり、jが0であるエポキシ化合
物を、またはnが1以上20以下であり、R1 、R2 、
R3 、R4 が全てメチル基であり、Pが炭素数4以上8
以下のアルキル基あるいは炭素数6以上12以下のシク
ロアルキル基で、かつiが1であり、jが0であるエポ
キシ化合物を用いることができる。上記化2中で、nの
値としては1以上20以下の数値が挙げられるが、エポ
キシ化合物の耐熱性と、操作性に関与する低粘度性との
バランスの上で、1以上5以下が好ましい。Embedded image (In the formula, n represents the average number of repeating units and takes a value of 1 or more and 20 or less. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. , Carbon number 5
Represents a cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms.
However, all of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are not hydrogen atoms. P and Q are each independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, and a carbon atom having 6 to 1 carbon atoms.
4, an aryl group having 4 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group and an alkynyloxy group, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms,
Represents either a nitro group or a cyano group, and i takes an integer value of 0 or more and 4 or less only when n = 1, and takes an integer value of 0 or more and 3 or less in other cases. j takes an integer value of 0 or more and 4 or less. When i is 2 or more, P may be the same or different, and when j is 2 or more,
Similarly, Q may be the same or different. Epoxy resin copper clad, characterized in that a prepreg obtained by dissolving an epoxy resin composition comprising an epoxy compound represented by the formula (1) and a curing agent in an organic solvent and impregnating the base material with a copper foil is molded by heating. It relates to a laminate. Further, the present invention provides an epoxy resin composition comprising a curing agent and an adduct obtained by previously reacting an epoxy compound represented by the above formula (2) with a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in an organic solvent. A copper prepreg obtained by impregnating a prepreg and a copper foil by heat molding. Preferably, n is 1 or more and 20 or less as the epoxy compound represented by the above formula 2,
R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are all methyl groups, P is each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms, and i is 2 or more. An epoxy compound in which j is 0 or an integer of 3 or less, or n is 1 or more and 20 or less, and R 1 , R 2 ,
R 3 and R 4 are all methyl groups, and P has 4 to 8 carbon atoms.
An epoxy compound having the following alkyl group or a cycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms, i is 1 and j is 0 can be used. In the above Chemical Formula 2, as the value of n, a numerical value of 1 or more and 20 or less can be mentioned, and from 1 to 5 or less is preferable on the balance between the heat resistance of the epoxy compound and the low viscosity relating to the operability. .
【0006】本発明に用いられるエポキシ化合物は、下
記化3The epoxy compound used in the present invention is represented by the following formula:
【化3】 (但し、式中のn,R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,P,Q,
iおよびjの定義は、前記の化2で表されるエポキシ化
合物における定義と同じである。)で表される化合物
に、適当な有機溶媒中、苛性ソーダ等のアルカリ存在下
でエピハロヒドリンを反応させる公知の方法で得ること
ができる。Embedded image (However, n, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , P, Q,
The definitions of i and j are the same as the definitions for the epoxy compound represented by the above formula (2). Can be obtained by a known method in which epihalohydrin is reacted with the compound represented by the formula (1) in a suitable organic solvent in the presence of an alkali such as caustic soda.
【0007】上記化3で表される化合物は、特開昭58
−121230号公報、同58−121231号公報、
同63−303939号公報等に示される方法の他に、
公知のいかなる方法で得られたものでも用いることがで
きる。上記化3で示される化合物の一般的な製法として
は、ジイソプロペニルベンゼン、ビス(α−ヒドロキシ
イソプロピル)ベンゼン、1-イソプロペニル−3−α−
ヒドロキシイソプロピルベンゼン、1−イソプロペニル
−2−α−ヒドロキシイソプロピルベンゼン、1−イソ
プロペニル−4−α−ヒドロキシイソプロピルベンゼン
およびそれらの芳香核置換誘導体に代表される化合物
と、フェノール類を、酸触媒存在下で反応することが例
示されるが、この限りではない。The compound represented by the above formula 3 is disclosed in
-121230, 58-121231,
In addition to the method disclosed in JP-A-63-303939 and the like,
Any known method can be used. As a general production method of the compound represented by the above formula 3, diisopropenylbenzene, bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 1-isopropenyl-3-α-
Compounds represented by hydroxyisopropylbenzene, 1-isopropenyl-2-α-hydroxyisopropylbenzene, 1-isopropenyl-4-α-hydroxyisopropylbenzene and their aromatic nucleus-substituted derivatives, and phenols in the presence of an acid catalyst The reaction is exemplified below, but is not limited thereto.
【0008】ここでフェノール類とは、フェノール性水
酸基を少なくとも1個有する化合物が該当し、例示する
とフェノールまたは、クレゾール、エチルフェノール、
n−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、n
−ブチルフェノール、イソブチルフェノール、t−ブチ
ルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノー
ル、キシレノール、メチルブチルフェノール、ジ−t−
ブチルフェノール、ジ−t−アミルフェノール等を代表
とするアルキルフェノールの各種o−、m−、p−異性
体、または、ビニルフェノール、アリルフェノール、プ
ロペニルフェノール、エチニルフェノール等を代表とす
るアルケニルあるいはアルキニルフェノールの各種o
−、m−、p−異性体、または、メトキシフェノール、
エトキシフェノール、アリロキシフェノール、プロパル
ギロキシフェノール等を代表とするアルコキシ、アルケ
ニルオキシあるいはアルキニルオキシフェノールの各種
o−、m−、p−異性体、または、シクロぺンチルフェ
ノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルク
レゾール等を代表とするシクロアルキルフェノール、ま
たは、クロロフェノール、ジクロロフェノール、ブロモ
フェノール、ジブロモフェノールに代表されるハロゲン
置換フェノール、あるいはニトロフェノール、シアノフ
ェノール、アリールフェノール、アラルキルフェノー
ル、等の置換フェノールが挙げられる。Here, the phenols correspond to compounds having at least one phenolic hydroxyl group, such as phenol, cresol, ethylphenol, and the like.
n-propylphenol, isopropylphenol, n
-Butylphenol, isobutylphenol, t-butylphenol, octylphenol, nonylphenol, xylenol, methylbutylphenol, di-t-
Various o-, m-, and p-isomers of alkylphenols represented by butylphenol, di-t-amylphenol and the like, or alkenyl or alkynylphenol represented by vinylphenol, allylphenol, propenylphenol, ethynylphenol and the like. Various o
-, M-, p-isomer or methoxyphenol,
Various o-, m- and p-isomers of alkoxy, alkenyloxy or alkynyloxyphenol represented by ethoxyphenol, allyloxyphenol, propargyloxyphenol, etc., or cyclopentylphenol, cyclohexylphenol, cyclohexylresole And halogen-substituted phenols such as chlorophenol, dichlorophenol, bromophenol and dibromophenol, and substituted phenols such as nitrophenol, cyanophenol, arylphenol and aralkylphenol.
【0009】該フェノールのなかでも、低誘電率化のた
めにより好ましいものとして、2,6−キシレノール、
2−ブチル−5−メチルフェノール、2−ブチル−4−
メチルフェノール、2,4−ジブチルフェノール、2,
4−ジ(t−アミル)フェノール、2−シクロヘキシル
−5−メチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、
2−(t−アミル)フェノール、2−シクロヘキシルフ
ェノール等を例示することができる。Among the phenols, 2,6-xylenol, more preferred for lowering the dielectric constant,
2-butyl-5-methylphenol, 2-butyl-4-
Methylphenol, 2,4-dibutylphenol, 2,
4-di (t-amyl) phenol, 2-cyclohexyl-5-methylphenol, 2-t-butylphenol,
Examples thereof include 2- (t-amyl) phenol and 2-cyclohexylphenol.
【0010】本発明にて用いられる硬化剤としては、公
知のものが使用可能であり、例えば、フェノールノボラ
ック、クレゾールノボラック、1,1,1−トリスヒド
ロキシフェニルエタン等の多価フェノール類、芳香族ア
ミン、脂肪族アミン等のアミン系硬化剤、酸無水物、ジ
シアンジアミド、ヒドラジド化合物等が挙げられる。好
ましくは、ジシアンジアミドあるいは多価フェノール類
である。またその配合量についてはエポキシ基に対して
0.3〜1.2当量が好ましい。As the curing agent used in the present invention, known curing agents can be used, for example, polyhydric phenols such as phenol novolak, cresol novolak, 1,1,1-trishydroxyphenylethane, and aromatic compounds. Examples include amine-based curing agents such as amines and aliphatic amines, acid anhydrides, dicyandiamide, and hydrazide compounds. Preferred are dicyandiamide and polyhydric phenols. The amount is preferably 0.3 to 1.2 equivalents to the epoxy group.
【0011】本発明に用いられるフェノール性水酸基を
2個以上有する化合物としては公知のものが使用可能で
あり、例えば、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノ
ン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビフェノー
ル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,
4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、テトラブロモ
ビスフェノールA、ポリビニルフェノール等が挙げられ
る。As the compound having two or more phenolic hydroxyl groups used in the present invention, known compounds can be used. For example, catechol, resorcin, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol F, biphenol, 4,4'-dihydroxy Diphenyl sulfone, 4,
4'-dihydroxydiphenyl ether, tetrabromobisphenol A, polyvinyl phenol and the like.
【0012】エポキシ化合物とフェノール性水酸基を2
個以上有する化合物との反応は公知の方法で行えば良
い。例えば、上記の成分をトリフェニルフォスフィンま
たはイミダゾール等の塩基性触媒の存在下で反応させる
ことができる。An epoxy compound and a phenolic hydroxyl group are
The reaction with a compound having two or more compounds may be performed by a known method. For example, the above components can be reacted in the presence of a basic catalyst such as triphenylphosphine or imidazole.
【0013】また、本発明の効果を損なわない程度に、
従来公知の二官能エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂あ
るいは官能基を有する熱可塑性樹脂等を併用することも
可能である。具体的には、ビスフェノールAのグリシジ
ルエーテル、テトラブロモビスフェノールAのグリシジ
ルエーテル、フェノールノボラックのグリシジルエーテ
ル、クレゾールノボラックのグリシジルエーテル、ブロ
モ化フェノールノボラックのグリシジルエーテル、グリ
シジル修飾ポリブタジエン、無水マレイン酸修飾ポリエ
チレン等である。これらの樹脂はエポキシ樹脂組成物中
に混合されていても良いし、エポキシ化合物またはエポ
キシ化合物とフェノール性水酸基を2個以上有する化合
物との混合物と予め反応させておいて用いることもでき
る。Further, to the extent that the effects of the present invention are not impaired,
It is also possible to use a conventionally known bifunctional epoxy resin, polyfunctional epoxy resin, or a thermoplastic resin having a functional group in combination. Specifically, glycidyl ether of bisphenol A, glycidyl ether of tetrabromobisphenol A, glycidyl ether of phenol novolak, glycidyl ether of cresol novolak, glycidyl ether of brominated phenol novolak, glycidyl-modified polybutadiene, maleic anhydride-modified polyethylene, etc. is there. These resins may be mixed in the epoxy resin composition, or may be used after previously reacting with an epoxy compound or a mixture of an epoxy compound and a compound having two or more phenolic hydroxyl groups.
【0014】本発明では、使途により組成物中に硬化促
進剤、難燃剤、表面処理剤等の公知の添加剤を加えても
良い。硬化促進剤としてはイミダゾール類、三級アミン
類、リン系化合物を、難燃剤としては三酸化アンチモ
ン、赤リン等を、さらに表面処理剤としてはシランカッ
プリング剤を挙げることができる。充填剤としてはシリ
カ、アルミナ、タルク、クレー、ガラス繊維等を挙げる
ことができる。In the present invention, known additives such as a curing accelerator, a flame retardant and a surface treating agent may be added to the composition depending on the use. Examples of the curing accelerator include imidazoles, tertiary amines and phosphorus compounds, examples of the flame retardant include antimony trioxide and red phosphorus, and examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent. Examples of the filler include silica, alumina, talc, clay, and glass fiber.
【0015】本発明の銅張り積層板の作成は公知の方法
に従って行うことができる。すなわち上記エポキシ樹脂
組成物を有機溶剤に溶解した樹脂ワニスを基材に含浸さ
せ、熱処理してプリプレグとした後にプリプレグと銅箔
とを積層加熱成形して銅張り積層板とする方法である。The preparation of the copper-clad laminate of the present invention can be carried out according to a known method. That is, this is a method in which a resin varnish obtained by dissolving the epoxy resin composition in an organic solvent is impregnated into a base material, heat-treated to form a prepreg, and then a prepreg and a copper foil are laminated and heat-molded to form a copper-clad laminate.
【0016】使用される有機溶剤はとくに限定されず、
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエン、キ
シレン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等の中から単独であるいは二種以上
の混合溶媒として選択される。The organic solvent used is not particularly limited.
For example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, toluene, xylene, N, N-dimethylformamide, dioxane,
It is selected alone or as a mixed solvent of two or more from tetrahydrofuran and the like.
【0017】樹脂ワニスを含浸させる基材はガラス繊
維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維等の無機繊維、
有機繊維からなる織布、もしくは不織布またはマット、
紙等でありこれらを単独あるいは組み合わせて用いるこ
とができる。プリプレグの熱処理条件は使用する溶剤、
添加触媒、各種添加剤の種類や使用量に応じて適宜選択
されるが通常80℃〜220℃の温度で3分〜30分の
条件で行なわれる。The base material to be impregnated with the resin varnish is made of inorganic fiber such as glass fiber, polyester fiber, polyamide fiber, etc.
Woven or non-woven fabric or mat made of organic fibers,
Paper and the like can be used alone or in combination. The heat treatment conditions for the prepreg are the solvent used,
It is appropriately selected according to the type and amount of the added catalyst and various additives, but is usually performed at a temperature of 80 ° C to 220 ° C for 3 minutes to 30 minutes.
【0018】加熱成形条件は150℃〜300℃の温度
で10kg/cm2 〜100kg/cm2 の成形圧で2
0分〜300分の熱プレス成形が例示される。The heat molding conditions 2 at a molding pressure of 10kg / cm 2 ~100kg / cm 2 at a temperature of 0.99 ° C. to 300 ° C.
Hot press molding for 0 to 300 minutes is exemplified.
【0019】[0019]
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。例中、エポキシ当量と
は、エポキシ基1個あたりのエポキシ樹脂の分子量で定
義される。OH当量は、OH基1個あたりのOH化合物
の分子量で定義される。また、加水分解性塩素とは、エ
ポキシ樹脂をジオキサンに溶解し、水酸化カリウムのア
ルコール溶液を加え、還流状態で30分加熱したときに脱
離する塩素イオンを硝酸銀水溶液で逆滴定し、該化合物
中の重量百分率で表したものである。EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, the epoxy equivalent is defined as the molecular weight of the epoxy resin per epoxy group. The OH equivalent is defined by the molecular weight of the OH compound per OH group. The hydrolyzable chlorine is obtained by dissolving an epoxy resin in dioxane, adding an alcohol solution of potassium hydroxide, and back-titrating chloride ions released when heated at reflux for 30 minutes with an aqueous silver nitrate solution. It is expressed as a percentage by weight in the table.
【0020】合成例1 本例は、本発明にて用いられるエポキシ化合物の原料と
なる、4,4’−〔1,3−フェニレンビス(1−メチ
ルエチリデン)〕ビス〔2,6−ジメチル〕フェノール
の製法に関するものである。温度計、攪拌装置、還流冷
却装置を付けた3リットル4つ口丸底フラスコに、2,
6−キシレノール488.0g(4.0mol)、ビス
(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン51.0g
(0.26mol)、濃塩酸800gを仕込み、60℃
に昇温して1時間保持する。ビス(α−ヒドロキシイソ
プロピル)ベンゼン51.0g(0.26mol)をさ
らに仕込み、60℃で1時間保持した後、再度ビス(α
−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン53.2g(0.
28mol)を仕込み、60℃で7時間保持して反応を
完結させる。反応後、トルエンで希釈して濃塩酸層を除
き、温重曹水で中和し、さらに温水で有機層を洗浄した
後、減圧下で濃縮して、ガラス状固体を得る。トルエン
/n−ヘプタンで再結晶して結晶を冷トルエンで洗浄
し、減圧乾燥することにより、白色結晶249.8gを
得る(収率78%)。融点は、129.5−131.5
℃であり、プロトン核磁気共鳴吸収スペクトル測定の結
果、δ7.24−7.00(4H,m),6.77(4
H,s),4.47(2H,s),2.17(12H,
s),1.59(12H,s)のシグナルが検出され
た。さらに赤外吸収スペクトル、ゲルパーミエイション
クロマトグラフィー、質量分析により、目的物であるこ
とを確認した。Synthesis Example 1 In this example, 4,4 '-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bis [2,6-dimethyl] is used as a raw material of the epoxy compound used in the present invention. It relates to a method for producing phenol. In a 3 liter four-necked round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser,
48-8.0 g (4.0 mol) of 6-xylenol, 51.0 g of bis (α-hydroxyisopropyl) benzene
(0.26 mol), 800 g of concentrated hydrochloric acid,
And hold for 1 hour. 51.0 g (0.26 mol) of bis (α-hydroxyisopropyl) benzene was further charged, and kept at 60 ° C. for 1 hour.
-Hydroxyisopropyl) benzene 53.2 g (0.
28 mol) and kept at 60 ° C. for 7 hours to complete the reaction. After the reaction, the mixture is diluted with toluene to remove the concentrated hydrochloric acid layer, neutralized with warm sodium bicarbonate water, washed with warm water, and then concentrated under reduced pressure to obtain a glassy solid. The crystals were recrystallized from toluene / n-heptane, washed with cold toluene, and dried under reduced pressure to obtain 249.8 g of white crystals (78% yield). Melting point: 129.5-131.5
° C, and as a result of proton nuclear magnetic resonance absorption spectrum measurement, δ7.24-7.00 (4H, m), 6.77 (4
H, s), 4.47 (2H, s), 2.17 (12H,
s) and 1.59 (12H, s). Further, the product was confirmed to be the target product by infrared absorption spectrum, gel permeation chromatography, and mass spectrometry.
【0021】合成例2 本例は、本発明にて用いられるエポキシ化合物の原料と
なる、4,4’−〔1,3−フェニレンビス(1−メチ
ルエチリデン)〕ビス〔2−t−ブチル−5−メチル〕
フェノールの製法に関するものである。温度計、攪拌装
置、還流冷却装置を付けた5リットル4つ口丸底フラス
コに、2−t−ブチル−5−メチルフェノール123
1.5g(7.5mol)、ビス(α−ヒドロキシイソ
プロピル)ベンゼン291.5g(1.5mol)、濃
塩酸1500g、さらにトルエン1000gを仕込み、
30℃で30時間反応させる。反応後、濃塩酸層を除い
た後、10%苛性ソーダ水溶液で中和し、イオン交換水
で洗浄する。減圧濃縮により溶媒を除去後、得られたガ
ラス状固体をトルエンで再結晶する。結晶をろ別した
後、冷トルエンで洗浄し、減圧乾燥することにより、目
的物229.3gを得る(収率47.1%)。融点は、
180.9−196.5℃であり、実施例1と同様にプ
ロトン核磁気共鳴吸収スペクトル、赤外吸収スペクト
ル、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー、質量分
析により、目的物であることを確認した。Synthesis Example 2 In this example, 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bis [2-t-butyl-, which is a raw material of the epoxy compound used in the present invention, is used. 5-methyl]
It relates to a method for producing phenol. In a 5 liter four-necked round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 2-t-butyl-5-methylphenol 123 was added.
1.5 g (7.5 mol), 291.5 g (1.5 mol) of bis (α-hydroxyisopropyl) benzene, 1500 g of concentrated hydrochloric acid, and 1000 g of toluene were charged.
React at 30 ° C. for 30 hours. After the reaction, after removing the concentrated hydrochloric acid layer, the mixture is neutralized with a 10% aqueous sodium hydroxide solution and washed with ion-exchanged water. After removing the solvent by concentration under reduced pressure, the obtained glassy solid is recrystallized with toluene. After filtering off the crystals, the crystals are washed with cold toluene and dried under reduced pressure to obtain 229.3 g of the desired product (yield: 47.1%). The melting point is
180.9-196.5 ° C. The proton nuclear magnetic resonance absorption spectrum, infrared absorption spectrum, gel permeation chromatography, and mass spectrometry confirmed that the product was the desired product in the same manner as in Example 1.
【0022】合成例3 本例は、本発明のエポキシ化合物の原料となる、o−ク
レゾールが1,3−α, α, α’,α’−テトラメチル
キシリレンで結合した構造を有するo−クレゾールオリ
ゴマーの製法に関する。o−クレゾール108.1g
(1.00mol)、1,3−ビス(α−ヒドロキシイ
ソプロピル)ベンゼン128.2g(0.66mo
l)、トルエン150g、p−トルエンスルホン酸1水
和物5.2g(0.03mol)を、還流冷却器を取付
けた分離管、温度計、攪拌装置を取付けた1リットルの
反応器に仕込み、溶解せしめた後、120℃に昇温し
て、共沸する水を除去しながら8時間保温する。反応後
放冷し、トルエンで希釈し、次いで水洗した後、溶媒を
減圧留去することにより、o−クレゾールオリゴマー1
49.4gを得る。実施例1と同様にプロトン核磁気共
鳴吸収スペクトル、赤外吸収スペクトル、ゲルパーミエ
イションクロマトグラフィー、質量分析により、目的物
であることを確認した。さらに液体クロマトグラフィー
による検量線法で平均のnを求めた結果、1.36であ
った。またOH当量は245g/eqであった。Synthesis Example 3 In this example, an o-cresol having a structure in which o-cresol, which is a raw material of the epoxy compound of the present invention, is bonded with 1,3-α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene is used. The present invention relates to a method for producing a cresol oligomer. o-cresol 108.1 g
(1.00 mol), 128.2 g of 1,3-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene (0.66 mol)
l), 150 g of toluene and 5.2 g (0.03 mol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate were charged into a 1-liter reactor equipped with a separation tube equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirrer. After dissolving, the temperature is raised to 120 ° C., and the temperature is kept for 8 hours while removing azeotropic water. After the reaction, the mixture was allowed to cool, diluted with toluene, washed with water, and then the solvent was distilled off under reduced pressure.
49.4 g are obtained. In the same manner as in Example 1, it was confirmed that the target compound was obtained by proton nuclear magnetic resonance absorption spectrum, infrared absorption spectrum, gel permeation chromatography, and mass spectrometry. Furthermore, the average n was determined by a calibration curve method using liquid chromatography, and as a result, it was 1.36. The OH equivalent was 245 g / eq.
【0023】合成例4 本合成例は、合成例1で得られた原料からのエポキシ化
合物の製法に関するものである。合成例1で得られた
4,4’−〔1,3−フェニレンビス(1−メチルエチ
リデン)〕ビス〔2,6−ジメチル〕フェノール10
0.7g(0.25mol)、エピクロロヒドリン32
3.8g(3.5mol)、ジメチルスルホキシド16
1.9gを、温度計、攪拌装置、分離管付きコンデンサ
ーを付けた1リットル4つ口平底フラスコに仕込み、4
8℃、41torrの条件下で48.6%苛性ソーダ水
溶液41.2g(0.5mol)を5時間かけて滴下す
る。この間、温度は48℃に保ちながら、共沸するエピ
クロロヒドリンと水を冷却液化し、有機層を反応系内に
戻しながら反応させた。反応終了後は、未反応のエピク
ロロヒドリンを減圧濃縮により除去し、副生塩とジメチ
ルスルホキシドを含むエポキシ化物をメチルイソブチル
ケトンに溶解させ、副生塩とジメチルスルホキシドを温
水洗浄により除去した。減圧下で溶媒を除くことにより
により、エポキシ化合物125.3gを得た。このよう
にして得られたエポキシ化合物のエポキシ当量および加
水分解性塩素は、それぞれ268.5g/eq、100
ppmであった。赤外吸収スペクトル測定の結果、フェ
ノール性OHの吸収3200−3500cm-1は消失
し、エポキシドの吸収1220、910cm-1の吸収を
有することが確認された。Synthesis Example 4 This synthesis example relates to a method for producing an epoxy compound from the raw materials obtained in Synthesis Example 1. 4,4 '-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bis [2,6-dimethyl] phenol 10 obtained in Synthesis Example 1
0.7 g (0.25 mol), epichlorohydrin 32
3.8 g (3.5 mol), dimethyl sulfoxide 16
1.9 g was charged into a 1-liter four-necked flat-bottomed flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser with a separation tube.
Under a condition of 8 ° C. and 41 torr, 41.2 g (0.5 mol) of a 48.6% aqueous sodium hydroxide solution is added dropwise over 5 hours. During this time, while keeping the temperature at 48 ° C., the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer into the reaction system. After completion of the reaction, unreacted epichlorohydrin was removed by concentration under reduced pressure, an epoxidized product containing by-product salt and dimethyl sulfoxide was dissolved in methyl isobutyl ketone, and the by-product salt and dimethyl sulfoxide were removed by washing with warm water. The solvent was removed under reduced pressure to obtain 125.3 g of an epoxy compound. The epoxy equivalent and hydrolyzable chlorine of the epoxy compound thus obtained were 268.5 g / eq and 100, respectively.
ppm. As a result of infrared absorption spectrum measurement, it was confirmed that the absorption of phenolic OH at 3200 to 3500 cm -1 disappeared and the epoxide had absorptions of 1220 and 910 cm -1 .
【0024】合成例5 本合成例は、合成例2で得られた原料からのエポキシ化
合物の製法に関するものである。合成例2で得られた
4,4’−〔1,3−フェニレンビス(1−メチルエチ
リデン)〕ビス〔2−t−ブチル−5−メチル〕フェノ
ール121.7g(0.25mol)、エピクロロヒド
リン323.8g(3.5mol)、ジメチルスルホキ
シド161.9gを、温度計、攪拌装置、分離管付きコ
ンデンサーを付けた1リットル4つ口平底フラスコに仕
込み、70℃93torrの条件下で48.6%苛性ソ
ーダ水溶液41.2g(0.5mol)を5時間かけて
滴下する。この間、温度は70℃に保ちながら、共沸す
るエピクロロヒドリンと水を冷却液化し、有機層を反応
系内に戻しながら反応させた。反応終了後は、合成例4
と同様の後処理を行ない、エポキシ化合物143.2g
を得た。このようにして得られたエポキシ化合物のエポ
キシ当量および加水分解性塩素は、それぞれ314g/
eq、170ppmであった。赤外吸収スペクトル測定
の結果、フェノール性OHの吸収3200−3500c
m-1は消失し、エポキシドの吸収1260、900cm
-1の吸収を有することが確認された。Synthesis Example 5 This synthesis example relates to a method for producing an epoxy compound from the raw materials obtained in Synthesis Example 2. 121.7 g (0.25 mol) of 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bis [2-t-butyl-5-methyl] phenol obtained in Synthesis Example 2, epichloro 323.8 g (3.5 mol) of hydrin and 161.9 g of dimethylsulfoxide were charged into a 1-liter four-necked flat-bottomed flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser equipped with a separation tube. 41.2 g (0.5 mol) of a 6% aqueous sodium hydroxide solution is added dropwise over 5 hours. During this time, while maintaining the temperature at 70 ° C., the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer into the reaction system. After completion of the reaction, Synthesis Example 4
After the same post-treatment as above, 143.2 g of epoxy compound
I got The epoxy equivalent and hydrolyzable chlorine of the epoxy compound thus obtained were each 314 g /
eq was 170 ppm. As a result of infrared absorption spectrum measurement, absorption of phenolic OH 3200-3500c
m -1 disappears, epoxide absorption 1260, 900 cm
It was confirmed to have an absorption of -1 .
【0025】合成例6 本合成例は、合成例3で得られた原料からのエポキシ化
合物の製法に関するものである。合成例3で得られたo
−クレゾールオリゴマー100.0g(0.21mo
l)、エピクロロヒドリン270.0g(2.94mo
l)、ジメチルスルホキシド134.9gを温度計、攪
拌装置、分離管付きコンデンサーを付けた1リットル4
つ口平底フラスコに仕込み、48℃、41torrの条
件下で48.6%苛性ソーダ水溶液34.6g(0.4
2mol)を5時間かけて滴下する。この間、温度は4
8℃に保ちながら、共沸するエピクロロヒドリンと水を
冷却液化し、有機層を反応系内に戻しながら反応させ
た。反応終了後は、合成例4と同様の後処理を行ない、
エポキシ化合物115.5gを得た。このようにして得
られたエポキシ化合物のエポキシ当量および加水分解性
塩素は、それぞれ345g/eq、240ppmであっ
た。赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノール性OH
の吸収3200−3500cm-1は消失し、エポキシド
の吸収1240、910cm-1の吸収を有することが確
認された。Synthesis Example 6 This synthesis example relates to a method for producing an epoxy compound from the raw materials obtained in Synthesis Example 3. O obtained in Synthesis Example 3
Cresol oligomer 100.0 g (0.21 mo
l), 270.0 g of epichlorohydrin (2.94 mo)
l), 134.9 g of dimethyl sulfoxide was added to a liter having a thermometer, a stirrer, and a condenser equipped with a separation tube.
34.6 g (0.4%) of a 48.6% aqueous solution of sodium hydroxide at 48 ° C. and 41 torr.
2 mol) is added dropwise over 5 hours. During this time, the temperature was 4
While maintaining the temperature at 8 ° C., the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and reacted while returning the organic layer into the reaction system. After completion of the reaction, the same post-treatment as in Synthesis Example 4 was performed.
115.5 g of an epoxy compound was obtained. The epoxy equivalent and hydrolyzable chlorine of the epoxy compound thus obtained were 345 g / eq and 240 ppm, respectively. As a result of infrared absorption spectrum measurement, phenolic OH
3200-3500 cm -1 disappeared, and it was confirmed to have epoxide absorption of 1240 and 910 cm -1 .
【0026】合成例7 本合成例は、合成例5で得られたエポキシ化合物とテト
ラブロモビスフェノールAとの付加反応により、末端エ
ポキシ樹脂を得る方法に関するものである。合成例5で
得られたエポキシ化合物50.0g(0.0774mo
l)、テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエ
ーテル(住友化学工業(株)製 商品名:ESB−40
0、エポキシ当量403g/eq)20.39g(0.
0253mol)を温度計、冷却管および撹拌装置を付
けた300ml4つ口丸底フラスコに仕込み、110℃
で加熱溶融させた後、テトラブロモビスフェノールA1
0.25g(0.0188mol)を加えて溶解させ
る。2−エチル−4−メチルイミダゾール11.3mg
(0.1mmol)をメチルエチルケトン2.0gに溶
解した液を加えた後、溶媒を除去しながら140℃に昇
温し、53時間保持し、反応物を冷却して取り出すこと
により目的の付加物82.5gを得る。得られた付加物
のエポキシ当量は、515.1g/eq.であった。Synthesis Example 7 This synthesis example relates to a method for obtaining an epoxy resin terminal by an addition reaction between the epoxy compound obtained in Synthesis Example 5 and tetrabromobisphenol A. 50.0 g (0.0774 mol) of the epoxy compound obtained in Synthesis Example 5
l), diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (trade name: ESB-40, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
0, epoxy equivalent 403 g / eq) 20.39 g (0.
0253 mol) was charged into a 300 ml four-necked round-bottomed flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer.
After heating and melting with tetrabromobisphenol A1
0.25 g (0.0188 mol) is added and dissolved. 11.3 mg of 2-ethyl-4-methylimidazole
(0.1 mmol) in 2.0 g of methyl ethyl ketone was added, the temperature was raised to 140 ° C. while removing the solvent, the temperature was maintained for 53 hours, and the reaction product was cooled and taken out to obtain the desired adduct 82. 0.5 g are obtained. The epoxy equivalent of the obtained adduct was 515.1 g / eq. Met.
【0027】実施例1〜4 合成例4〜7で得られたエポキシ化合物とジシアンジア
ミドおよび2−エチル−4−メチルイミダゾールを表1
に示す割合で配合しメチルエチルケトンとエチレングリ
コールモノメチルエーテルの混合溶媒に溶解して均一な
樹脂ワニスとした。該ワニスをガラスクロス(商品名:
KS1600S962LP、鐘紡(株)製)に含浸し、
150℃の熱風乾燥器で5〜10分処理してプリプレグ
を得た。該プリプレグ5枚と銅箔(TTAI処理 35
μm厚、古河サーキットホイル(株)製)を重ね合わ
せ、170℃×50kg/cm2 ×120分の条件にて
熱プレス成形して1mm厚の銅張り積層板を得た。つい
で、さらに硬化を進めるため180℃の熱風乾燥器中で
5時間処理して評価用の試料とした。積層板の銅箔引き
剥し強さ、半田耐熱性、煮沸吸水率はJIS−C−64
81に準じて測定した。ガラス転移温度(Tg)は
(株)島津製作所製熱分析装置DT−30を用いて熱膨
張曲線の変曲点から求めた。室温の誘電率および誘電正
接は横河ヒューレットパッカード(株)製、4275A
Multi−Frequency LCR mete
rを用い、誘電率の値はサンプルの静電容量から算出し
た。測定結果を表1に示す。Examples 1-4 The epoxy compounds obtained in Synthesis Examples 4-7, dicyandiamide and 2-ethyl-4-methylimidazole are shown in Table 1.
And dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether to obtain a uniform resin varnish. Apply the varnish to a glass cloth (trade name:
KS1600S962LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd.)
The prepreg was obtained by treating with a hot air drier at 150 ° C. for 5 to 10 minutes. Five prepregs and copper foil (TTAI treatment 35
μm-thick Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) were stacked and hot-pressed at 170 ° C. × 50 kg / cm 2 × 120 minutes to obtain a 1 mm-thick copper-clad laminate. Then, in order to further promote curing, the sample was treated in a hot air drier at 180 ° C. for 5 hours to obtain a sample for evaluation. The copper foil peeling strength, solder heat resistance and boiling water absorption of the laminate are JIS-C-64.
81 was measured. The glass transition temperature (Tg) was determined from the inflection point of the thermal expansion curve using a thermal analyzer DT-30 manufactured by Shimadzu Corporation. The dielectric constant and dielectric loss tangent at room temperature are 4275A manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.
Multi-Frequency LCR mete
Using r, the value of the dielectric constant was calculated from the capacitance of the sample. Table 1 shows the measurement results.
【0028】比較例1 エポキシ樹脂としてブロモ化エポキシ樹脂(住友化学工
業(株)製 商品名:スミエポキシESB−500、エ
ポキシ当量472g/eq)およびクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂(住友化学工業(株)製 商品名:ス
ミエポキシESCN−220、エポキシ当量215g/
eq)を用い、ジシアンジアミドおよび2−エチル−4
−メチルイミダゾールを表1に示す割合で配合し、メチ
ルエチルケトンとエチレングリコールモノメチルエーテ
ルの混合溶媒に溶解して均一な樹脂ワニスとした。該ワ
ニスをガラスクロス(KS−1600S962LP、鐘
紡(株)製)に含浸し、150℃の熱風乾燥器で5〜1
0分処理してプリプレグを得た。該プリプレグ5枚と銅
箔(TTAI処理35μm厚、古河サーキットホイル
(株)製)を重ね合わせ、170℃×50kg/cm2
×120分の条件で熱プレス成形して1mm厚の銅張り
積層板を得た。積層板の物性を実施例1〜4と同様に測
定し結果を表1に示す。Comparative Example 1 As a epoxy resin, a brominated epoxy resin (trade name: Sumiepoxy ESB-500, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent: 472 g / eq) and a cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Name: Sumiepoxy ESCN-220, epoxy equivalent 215 g /
eq) using dicyandiamide and 2-ethyl-4
-Methylimidazole was blended in the ratio shown in Table 1 and dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether to obtain a uniform resin varnish. The varnish was impregnated in a glass cloth (KS-1600S962LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd.), and dried in a hot air dryer at 150 ° C. for 5 to 1 hour.
The prepreg was obtained by treating for 0 minutes. Five prepregs and a copper foil (35 μm thick with TTAI treatment, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) were superposed, and 170 ° C. × 50 kg / cm 2.
Hot press molding was performed under the conditions of × 120 minutes to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 1 mm. The physical properties of the laminate were measured in the same manner as in Examples 1 to 4, and the results are shown in Table 1.
【0029】[0029]
【表1】 [Table 1]
【0030】[0030]
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂銅張り積層板は従
来のものに比べ低誘電率であり、かつ耐熱性と耐水性に
も優れるため特に高速演算処理用の多層プリント配線板
に好適である。The epoxy resin copper-clad laminate of the present invention has a lower dielectric constant than conventional ones and is excellent in heat resistance and water resistance, so that it is particularly suitable for a multilayer printed wiring board for high-speed arithmetic processing. .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C09D 163/00 C09D 163/00 (72)発明者 遠藤 康博 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株 式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 15/08 C08G 59/62 C08J 5/24 CFC ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C09D 163/00 C09D 163/00 (72) Inventor Yasuhiro Endo 6 Kitahara, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Within Sumitomo Chemical Co., Ltd. (58) Survey Field (Int.Cl. 7 , DB name) B32B 15/08 C08G 59/62 C08J 5/24 CFC
Claims (4)
下の数値をとる。R1 ,R2 ,R3 ,R4 は、それぞれ
独立に水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5
〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール
基、炭素数7〜20のアラルキル基のいずれかを表す。
但し、R1 ,R2 ,R3 ,R4 全てが水素原子ではな
い。P,Qは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数
1〜8のアルキル基、アルケニル基およびアルキニル
基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜1
4のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素
数1〜8のアルコキシ基、アルケニルオキシ基およびア
ルキニルオキシ基、炭素数6〜14のアリーロキシ基、
ニトロ基、シアノ基のいずれかを表し、iは、n=1の
ときのみ0以上4以下の整数値をとり、それ以外の場合
は0以上3以下の整数値をとる。jは、0以上4以下の
整数値をとる。iが2以上の場合、Pはそれぞれ同一で
あってもまた異なっていてもよく、jが2以上の場合、
同じくQはそれぞれ同一であってもまた異なっていても
よい。)で表されるエポキシ化合物と硬化剤からなるエ
ポキシ樹脂組成物を有機溶剤に溶解せしめ基材に含浸し
て得られるプリプレグと銅箔とを加熱成形してなること
を特徴とするエポキシ樹脂銅張り積層板。(1) General formula (1) (In the formula, n represents the average number of repeating units and takes a value of 1 or more and 20 or less. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. , Carbon number 5
Represents a cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms.
However, all of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are not hydrogen atoms. P and Q are each independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, and a carbon atom having 6 to 1 carbon atoms.
4, an aryl group having 4 to 6 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group and an alkynyloxy group, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms,
Represents either a nitro group or a cyano group, and i takes an integer value of 0 or more and 4 or less only when n = 1, and takes an integer value of 0 or more and 3 or less in other cases. j takes an integer value of 0 or more and 4 or less. When i is 2 or more, P may be the same or different, and when j is 2 or more,
Similarly, Q may be the same or different. Epoxy resin copper clad, characterized in that a prepreg obtained by dissolving an epoxy resin composition comprising an epoxy compound represented by the formula (1) and a curing agent in an organic solvent and impregnating the base material with a copper foil is molded by heating. Laminated board.
以下であり、R1 ,R2 ,R3 ,R4 が全てメチル基で
あり、Pがそれぞれ独立に、炭素数1以上8以下のアル
キル基あるいは炭素数6以上12以下のシクロアルキル
基で、かつiが2以上3以下の整数であり、jが0であ
るエポキシ化合物と硬化剤からなるエポキシ樹脂組成物
を用いる請求項1記載のエポキシ樹脂銅張り積層板。2. In the above general formula 1, n is 1 or more and 20 or more.
Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are all methyl groups, and P is each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms, The epoxy resin copper-clad laminate according to claim 1, wherein an epoxy resin composition comprising an epoxy compound in which i is an integer of 2 to 3 and j is 0 and a curing agent is used.
以下であり、R1 ,R2 ,R3 ,R4 が全てメチル基で
あり、Pが炭素数4以上8以下のアルキル基あるいは炭
素数6以上12以下のシクロアルキル基で、かつiが1
であり、jが0であるエポキシ化合物と硬化剤からなる
エポキシ樹脂組成物を用いる請求項1記載のエポキシ樹
脂銅張り積層板。3. In the general formula 1, n is 1 or more and 20 or more.
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are all methyl groups, P is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms, and i is 1
The epoxy resin copper-clad laminate according to claim 1, wherein an epoxy resin composition comprising an epoxy compound wherein j is 0 and a curing agent is used.
合物とフェノール性水酸基を2個以上有する化合物とを
予め反応させて得た付加物と硬化剤からなるエポキシ樹
脂組成物を有機溶剤に溶解せしめ基材に含浸して得られ
るプリプレグと銅箔とを加熱成形してなることを特徴と
するエポキシ樹脂銅張り積層板。4. An epoxy resin composition comprising a curing agent and an adduct obtained by previously reacting the epoxy compound according to claim 1, 2, or 3 with a compound having two or more phenolic hydroxyl groups, in an organic solvent. An epoxy resin copper-clad laminate obtained by heat-forming a prepreg obtained by melting and impregnating a substrate and a copper foil.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9937992A JP3067384B2 (en) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | Epoxy resin copper clad laminate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9937992A JP3067384B2 (en) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | Epoxy resin copper clad laminate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05293929A JPH05293929A (en) | 1993-11-09 |
JP3067384B2 true JP3067384B2 (en) | 2000-07-17 |
Family
ID=14245894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9937992A Expired - Fee Related JP3067384B2 (en) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | Epoxy resin copper clad laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3067384B2 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002037859A (en) * | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor and resin-sealed semiconductor device |
KR102375986B1 (en) | 2015-03-13 | 2022-03-17 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the thereof, epoxy resin composition and cured product |
JP6670045B2 (en) | 2015-03-13 | 2020-03-18 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Oxazolidone ring-containing epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product |
JP6770793B2 (en) | 2015-08-19 | 2020-10-21 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Flame-retardant epoxy resin composition and its cured product |
JP6878076B2 (en) | 2017-03-24 | 2021-05-26 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Oxazoridone ring-containing epoxy resin composition, its production method, curable resin composition, and cured product |
JP7296781B2 (en) | 2019-05-21 | 2023-06-23 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Oxazolidone ring-containing epoxy resin, method for producing the same, epoxy resin composition and cured product thereof |
-
1992
- 1992-04-20 JP JP9937992A patent/JP3067384B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05293929A (en) | 1993-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5245496B2 (en) | Epoxy resin composition and cured product thereof | |
EP2409979A1 (en) | Process for production of phosphorus-atom-containing phenol, novel phosphorus-atom-containing phenol, curable resin composition, cured product thereof, printed circuit board, and semiconductor sealing material | |
EP1948735B1 (en) | Flame retardant prepregs and laminates for printed circuit boards | |
EP0699670B1 (en) | Aryl ester compound, its production process, epoxy resin composition using said compound, and copper-clad laminate using the epoxy resin composition | |
JP7368551B2 (en) | Method for producing epoxy resin composition and method for using biphenylaralkyl phenolic resin | |
WO2022124252A1 (en) | Polyhydric hydroxy resin, epoxy resin, and their production methods, and epoxy resin composition and cured product thereof | |
EP0133600B1 (en) | Epoxy resin and composition | |
JP3067384B2 (en) | Epoxy resin copper clad laminate | |
JP3230025B2 (en) | Episulfide compound, thermosetting resin composition containing the same | |
JP3306924B2 (en) | Epoxy compound and composition thereof | |
JPH06246871A (en) | Copper plated epoxy resin laminated plate | |
JP3178058B2 (en) | Epoxy compound and composition thereof | |
JPH0834832A (en) | Thermosetting resin composition and copper-clad laminate | |
JPH06172242A (en) | Polyhydroxy compound, thermosetting compound derived therefrom and composition thereof | |
JP3147531B2 (en) | Epoxy resin copper clad laminate | |
JP3331661B2 (en) | Cyanate compound and composition thereof | |
JP3374317B2 (en) | Epoxy resin composition and copper-clad laminate | |
JPH08169937A (en) | Epoxy resin composition and copper-clad laminate | |
EP0590463B1 (en) | Halogen containing epoxy resin composition and copper-clad laminate | |
WO2021246339A1 (en) | Epoxy resin composition and cured product thereof | |
JP3200124B2 (en) | Flame retardant epoxy resin composition | |
JPH05125149A (en) | Epoxy resin composition for laminated sheet | |
JP3147532B2 (en) | Flame-retardant epoxy resin copper-clad laminate | |
JPH0749466B2 (en) | Epoxy resin composition for laminated board | |
JPH05301320A (en) | Epoxy resin copper-plated laminate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080519 Year of fee payment: 8 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090519 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |