JPH06246871A - Copper plated epoxy resin laminated plate - Google Patents

Copper plated epoxy resin laminated plate

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Publication number
JPH06246871A
JPH06246871A JP3975493A JP3975493A JPH06246871A JP H06246871 A JPH06246871 A JP H06246871A JP 3975493 A JP3975493 A JP 3975493A JP 3975493 A JP3975493 A JP 3975493A JP H06246871 A JPH06246871 A JP H06246871A
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JP
Japan
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epoxy resin
group
formula
copper
carbon atoms
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Application number
JP3975493A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Ueda
陽一 上田
Yasuhiro Endo
康博 遠藤
Mitsuhiro Shibata
充弘 柴田
Shinichiro Kitayama
慎一郎 北山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a copper plated laminated epoxy plate superior in low dielectric, by a method wherein a prepreg to be obtained through a resin composition having epoxy resin represented by a formula I, a glycidyl etherification product of a halogen containing bisphenol compound respresented by a formula II and a curing agent for its components and a copper foil are laminate-molded. CONSTITUTION:A resin composition having epoxy resin represented by a formula I (in the formula, n represents mean repeating number, taking the numerical value of at least 0.2 and not exceeding 20. M, Q represent respectively independently halogen atom; 1-8C alkyl group or alkenyl group; 5-12C cycloalkyl group.), a glycidyl etherification product of a halogen containing bisphenol compound represented by a formula II (in the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group and Y, Y' represent a halogen atom.) and a resin curing agent for its component is infiltrated into a based and a prepreg is obtained. The same and a copper foil are laminate-molded and a copper plated epoxy resin laminated plate is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はエポキシ樹脂銅張り積層
板に関し、さらに詳しくは低誘電性に優れたエポキシ樹
脂銅張り積層板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin copper clad laminate, and more particularly to an epoxy resin copper clad laminate excellent in low dielectric property.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子用途に用いられるエポキシ樹
脂のうち銅張り積層板(プリント配線基板)の材料とし
ては、従来主としてビスフェノール型エポキシ樹脂とジ
シアンジアミドの組み合わせが用いられている。近年、
銅張積層板の多層化に伴い、主に信号速度向上の目的か
ら樹脂の低誘電性が要求されてきているが、それに対し
て従来のエポキシ樹脂に低誘電性の熱可塑性樹脂を組み
合わせる方法が考案されている。例えば反応性ポリブタ
ジエン樹脂で変性する方法、ポリテトラフルオロエチレ
ン樹脂の粉末を分散させる方法、アラミド繊維を基材に
用いる方法等である。また基材にこれまでのE−ガラス
より誘電率の低いD−ガラスや石英を用いた例も報告さ
れている。
2. Description of the Related Art Among epoxy resins used for electric and electronic applications, as a material for a copper-clad laminate (printed wiring board), a combination of a bisphenol type epoxy resin and dicyandiamide has been mainly used. recent years,
With the increase in the number of copper-clad laminates, low dielectric properties of resins have been demanded mainly for the purpose of improving the signal speed. On the other hand, a method of combining a conventional epoxy resin with a low dielectric thermoplastic resin has been proposed. Invented. For example, a method of modifying with a reactive polybutadiene resin, a method of dispersing a powder of polytetrafluoroethylene resin, a method of using aramid fiber as a base material, and the like. In addition, there have been reported examples of using D-glass or quartz having a lower dielectric constant than conventional E-glass as a base material.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
技術においては、基本となるエポキシ樹脂の誘電率が高
いため望ましい誘電率を達成するには組み合わせる熱可
塑性樹脂の占める割合が大きくなり、エポキシ樹脂の特
長である耐熱性、寸法安定性、耐薬品性等が損なわれて
しまう。また基材にアラミド繊維や石英を使用すると銅
張積層板のドリル穴あけ加工時にドリルの摩耗が激しい
欠点があり、D−ガラスを用いた場合ではドリル加工性
の問題はないがプリント基板の製造コストが高くなる問
題が生じる。そこでそれ自体で低誘電性の銅張り積層板
が得られるような低誘電性のエポキシ樹脂が切望されて
いた。本発明の目的は、耐熱性に優れ、かつ低誘電性で
あるエポキシ樹脂組成物を用いて成形した銅張り積層板
を提供することである。
However, in these conventional techniques, since the basic epoxy resin has a high dielectric constant, the proportion of the thermoplastic resin to be combined in order to achieve the desired dielectric constant becomes large. The heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, etc., which are the characteristics of, are impaired. Further, when aramid fiber or quartz is used as the base material, there is a drawback that the wear of the drill is severe at the time of drilling the copper clad laminate, and when D-glass is used, there is no problem of the drill workability, but the manufacturing cost of the printed circuit board. Raises the problem. Therefore, a low-dielectric epoxy resin that can obtain a low-dielectric copper-clad laminate by itself has been desired. An object of the present invention is to provide a copper-clad laminate formed by using an epoxy resin composition having excellent heat resistance and low dielectric constant.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、エポキシ
樹脂の骨格構造と得られる積層板の諸特性について鋭意
研究を続けた結果、特定の組成物が優れた耐熱性と低誘
電性を兼ね備えていることを見出し、本発明を完成させ
るに至った。すなわち、本発明は次のとおりである。
(1)(A)下記一般式(1)
Means for Solving the Problems As a result of continuous studies on the skeleton structure of an epoxy resin and various properties of a laminate to be obtained, the present inventors have found that a specific composition has excellent heat resistance and low dielectric property. The inventors have found that they also have the above, and have completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
(1) (A) The following general formula (1)

【0005】[0005]

【化3】 (式中、nは平均繰り返し数を示し0.2以上20以下
の数値をとる。M、Qはそれぞれ独立に、ハロゲン原
子;炭素数1〜8のアルキル基、アルケニル基およびア
ルキニル基;炭素数5〜12のシクロアルキル基;炭素
数6〜14のアリール基;炭素数7〜20のアラルキル
基;炭素数1〜8のアルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基;ニトロ基;シアノ基の何れか
を表し、iは0以上4以下の整数値をとり、jは0以上
3以下の整数値をとる。)で表されるエポキシ樹脂と、
(B)エポキシ樹脂硬化剤とを必須成分とする樹脂組成
物を有機溶剤に溶解し、基材に含浸させて得られるプリ
プレグと銅箔とを積層成形してなるエポキシ樹脂銅張り
積層板。
[Chemical 3] (In the formula, n represents an average number of repetitions and takes a value of 0.2 or more and 20 or less. M and Q are each independently a halogen atom; an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group; A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 14 carbon atoms; an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group, an alkynyloxy group; a nitro group; a cyano group , I is an integer value of 0 or more and 4 or less, and j is an integer value of 0 or more and 3 or less).
(B) An epoxy resin copper-clad laminate obtained by laminating a prepreg obtained by dissolving a resin composition containing an epoxy resin curing agent as an essential component in an organic solvent and impregnating the base material with a copper foil.

【0006】(2)(A)上記(1)記載のエポキシ樹
脂と、(B)下記一般式(2)
(2) (A) The epoxy resin described in (1) above, and (B) the following general formula (2)

【化4】 (式中、Rは水素原子あるいはメチル基を表し、2つの
Rは互いに同一であっても異なっていてもよい。Y、
Y’はハロゲン原子であり、両者は互いに同一であって
も異なっていてもよい。r、sはそれぞれ独立に1以上
4以下の整数である。)で表される含ハロゲンビスフェ
ノール化合物のグリシジルエーテル化物と、(C)エポ
キシ樹脂硬化剤とを必須成分とする樹脂組成物を使って
上記(1)と同様にしてつくったエポキシ樹脂銅張り積
層板。
[Chemical 4] (In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and two Rs may be the same or different from each other.
Y'is a halogen atom, and both may be the same or different. r and s are each independently an integer of 1 or more and 4 or less. ) Epoxy resin copper-clad laminate prepared in the same manner as in (1) above, using a resin composition containing a glycidyl ether compound of a halogen-containing bisphenol compound represented by (4) and (C) an epoxy resin curing agent as essential components. .

【0007】以下にこれらの発明を詳細に説明する。ま
ず、本発明で用いるエポキシ樹脂の原料となる下記一般
式(3)で表されるジヒドロキシ化合物について説明す
る。
These inventions will be described in detail below. First, the dihydroxy compound represented by the following general formula (3), which is a raw material of the epoxy resin used in the present invention, will be described.

【0008】[0008]

【化5】 (式中、n、M、Q、i、jは一般式(1)と同様に定
義される。) 上記一般式(3)中で、nの値としては1 以上20以下の
数値が挙げられるが、化合物の耐熱性と、操作性に関与
する低粘度性とのバランスの上で、1 以上10以下が好ま
しい。一般式(3)のジヒドロキシ化合物の合成法とし
ては、下記一般式(4)
[Chemical 5] (In the formula, n, M, Q, i, and j are defined in the same manner as in the general formula (1).) In the general formula (3), the value of n is a numerical value of 1 or more and 20 or less. However, it is preferably 1 or more and 10 or less in terms of the balance between the heat resistance of the compound and the low viscosity involved in the operability. The synthetic method of the dihydroxy compound of the general formula (3) includes the following general formula (4)

【0009】[0009]

【化6】 (式中、M、iは上記一般式(3)と同様に定義され
る。)で表されるフェノール類(イ)と、下記一般式
(5)
[Chemical 6] (In the formula, M and i are defined in the same manner as in the general formula (3) above), and the phenol (a) represented by the following general formula (5).

【0010】[0010]

【化7】 (式中、Q、jは上記一般式(3)と同様に定義され
る。Z1 、Z2 は、
[Chemical 7] (In the formula, Q and j are defined in the same manner as in the general formula (3). Z 1 and Z 2 are

【0011】[0011]

【化8】 あるいは、[Chemical 8] Alternatively,

【0012】[0012]

【化9】 のいずれかを表すが、Z1 、Z2 は互いに同じでも異な
っていてもよい。)で表される化合物(ロ)を、適当な
有機溶媒中、酸触媒存在下で、発生する水を除去しなが
ら反応した後、中和、水洗、減圧によって過剰なフェノ
ール類や溶媒を除くことによって得る方法をあげること
ができるが、これに限定されない。
[Chemical 9] However, Z 1 and Z 2 may be the same or different from each other. ) The compound (b) represented by the formula (2) is reacted in a suitable organic solvent in the presence of an acid catalyst while removing generated water, and then excess phenols and solvents are removed by neutralization, washing with water, and reduced pressure. However, the method is not limited to this.

【0013】一般式(4)で表されるフェノール類
(イ)は、フェノール性水酸基を1個有するものであ
り、例示するとフェノール、クレゾール、エチルフェノ
ール、n−プロピルフェノール、イソプロピルフェノー
ル、n−ブチルフェノール、イソブチルフェノール、t
−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェ
ノール、キシレノール、メチルブチルフェノール、ジ−
t−ブチルフェノール、ジ-t−アミルフェノール等を
代表とするアルキルフェノールの各種o−、m−、p−
異性体;ビニルフェノール、アリルフェノール、プロペ
ニルフェノール、エチニルフェノール等を代表とするア
ルケニルあるいはアルキニルフェノールの各種o−、m
−、p−異性体;メトキシフェノール、エトキシフェノ
ール、アリロキシフェノール、プロパルギロキシフェノ
ール等を代表とするアルコキシ、アルケニルオキシある
いはアルキニルオキシフェノールの各種o−、m−、p
−異性体;シクロぺンチルフェノール、シクロヘキシル
フェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表とする
シクロアルキルフェノール、または、クロロフェノー
ル、ジクロロフェノール、ブロモフェノール、ジブロモ
フェノールに代表されるハロゲン置換フェノール;ニト
ロフェノール、シアノフェノール、アリールフェノー
ル、アラルキルフェノール、等の置換フェノールが挙げ
られるが、好ましくは、2,6−キシレノール、2−t
−ブチル−5−メチルフェノール、2−t−ブチル−4
−メチルフェノール、2,4−ジ(t−ブチル)フェノ
ール、2,4−ジ(t−アミル)フェノール、2−シク
ロヘキシル−5−メチルフェノール、2−t−ブチルフ
ェノール、2−sec−ブチルフェノール、2−(t−
アミル)フェノール、2−シクロヘキシルフェノール等
が挙げられる。
The phenols (a) represented by the general formula (4) have one phenolic hydroxyl group and, for example, phenol, cresol, ethylphenol, n-propylphenol, isopropylphenol, n-butylphenol. , Isobutylphenol, t
-Butylphenol, octylphenol, nonylphenol, xylenol, methylbutylphenol, di-
Various alkylphenols represented by t-butylphenol, di-t-amylphenol, etc. o-, m-, p-
Isomers: various o-, m of alkenyl or alkynylphenol represented by vinylphenol, allylphenol, propenylphenol, ethynylphenol, etc.
-, P-isomer; various o-, m-, p of alkoxy, alkenyloxy or alkynyloxyphenol represented by methoxyphenol, ethoxyphenol, allyloxyphenol, propargyloxyphenol, etc.
-Isomer; cycloalkylphenol represented by cyclopentylphenol, cyclohexylphenol, cyclohexylcresol, or halogen-substituted phenol represented by chlorophenol, dichlorophenol, bromophenol, dibromophenol; nitrophenol, cyanophenol, Examples thereof include substituted phenols such as arylphenol and aralkylphenol, and preferably 2,6-xylenol and 2-t.
-Butyl-5-methylphenol, 2-t-butyl-4
-Methylphenol, 2,4-di (t-butyl) phenol, 2,4-di (t-amyl) phenol, 2-cyclohexyl-5-methylphenol, 2-t-butylphenol, 2-sec-butylphenol, 2 -(T-
Amyl) phenol, 2-cyclohexylphenol and the like.

【0014】一般式(5)で表される化合物(ロ)を具
体的に例示すれば、ジイソプロペニルベンゼン、ビス
(α−ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン、1−イソプ
ロペニル−3−α−ヒドロキシイソプロピルベンゼン、
1−イソプロペニル−2−α−ヒドロキシイソプロピル
ベンゼン、1−イソプロペニル−4−α−ヒドロキシイ
ソプロピルベンゼンおよびそれらの芳香核置換誘導体に
代表される化合物が挙げられるが、経済性の点からは、
m−ジイソプロペニルベンゼン、p−ジイソプロペニル
ベンゼン、m−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベ
ンゼン、p−ビス(α−ヒドロキシイソプロピル)ベン
ゼンが好ましく用いられる。
Specific examples of the compound (b) represented by the general formula (5) include diisopropenylbenzene, bis (α-hydroxyisopropyl) benzene and 1-isopropenyl-3-α-hydroxyisopropylbenzene. ,
Examples of the compounds include 1-isopropenyl-2-α-hydroxyisopropylbenzene, 1-isopropenyl-4-α-hydroxyisopropylbenzene and aromatic nucleus-substituted derivatives thereof, but from the viewpoint of economy,
m-Diisopropenylbenzene, p-diisopropenylbenzene, m-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene and p-bis (α-hydroxyisopropyl) benzene are preferably used.

【0015】一般式(3)のジヒドロキシ化合物を合成
するのに用いられる酸触媒としては公知のものが用いら
れる。例示すれば、塩酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸な
どの無機酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、チオグリコール酸等の有
機酸、BF3 エーテル錯体、BF3 フェノール錯体、塩
化アルミニウム、塩化亜鉛などのルイス酸、酸性白土、
シリカアルミナ、ゼオライトなどの固体酸、ヘテロポリ
塩酸、酸性イオン交換樹脂などが挙げられるが、トルエ
ンスルホン酸、酸性白土、酸性イオン交換樹脂が好まし
い。
As the acid catalyst used for synthesizing the dihydroxy compound represented by the general formula (3), known ones are used. For example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and polyphosphoric acid, organic acids such as toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid and thioglycolic acid, BF 3 ether complex, BF 3 phenol complex, Lewis acids such as aluminum chloride and zinc chloride, acid clay,
Examples thereof include solid acids such as silica-alumina and zeolite, heteropolyhydrochloric acid, acidic ion exchange resins, and the like, but toluenesulfonic acid, acid clay and acidic ion exchange resins are preferable.

【0016】一般式(3)のジヒドロキシ化合物の合成
条件としては、化合物(ロ)に対するフェノール類
(イ)のモル比は、0.1 〜10.0の範囲が挙げられるが、
好ましい繰り返し単位数nを得るためには、0.5 〜5.0
が好ましい。また用いられる酸触媒量は、フェノール類
(イ)と化合物(ロ)の重量和の0.1 〜50重量%から選
べるが、反応速度を制御し、かつ反応時間が長時間にな
らないためには、5〜20重量%が好ましい。反応温度
は、0 ℃から300 ℃の範囲で行うことができるが、副反
応を抑制し、反応時間を適切にするためには、50〜200
℃が好ましい。反応時間は、反応温度にも依存するが、
短時間では反応が完結せず、長時間では生成物の分解反
応も起こる可能性があるため、1〜100時間の範囲、
好ましくは、2〜50時間で行うことが好ましい。ま
た、反応を円滑に進行させるために減圧下で行うことも
できる。
The conditions for synthesizing the dihydroxy compound of the general formula (3) include a molar ratio of the phenol (a) to the compound (b) in the range of 0.1 to 10.0.
To obtain a preferable number of repeating units n, 0.5 to 5.0
Is preferred. The amount of the acid catalyst used can be selected from 0.1 to 50% by weight of the total weight of the phenols (a) and the compounds (b). However, in order to control the reaction rate and prevent the reaction time from becoming long, it is 5 -20% by weight is preferred. The reaction temperature may be in the range of 0 ° C to 300 ° C, but in order to suppress side reactions and make the reaction time appropriate, 50 to 200 ° C may be used.
C is preferred. The reaction time depends on the reaction temperature,
The reaction is not completed in a short time, and the decomposition reaction of the product may occur in a long time.
It is preferably carried out for 2 to 50 hours. In addition, the reaction can be carried out under reduced pressure so that the reaction proceeds smoothly.

【0017】また、ジヒドロキシ化合物合成の際には、
共沸脱水溶媒として、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプ
タン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素溶
媒、塩化メチレン、クロロホルム、1、2−ジクロロエ
タン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、クロロトル
エン等のハロゲン化炭化水素溶媒、ニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼン等のニトロ化炭化水素溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル類、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン類等から選ぶことができ、さらにこれらの混
合溶媒も用いることが出来るが、好ましくは、トルエ
ン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、メチルイソブチ
ルケトンを用いることができるが、この限りではない。
When synthesizing a dihydroxy compound,
As an azeotropic dehydration solvent, a hydrocarbon solvent such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene, etc., a halogenated hydrocarbon solvent such as methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, chlorotoluene, etc. Select from nitrated hydrocarbon solvents such as nitrobenzene and dinitrobenzene, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether and diphenyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. It is also possible to use a mixed solvent of these, but it is preferable to use toluene, chlorobenzene, nitrobenzene or methyl isobutyl ketone. Possible, this does not apply.

【0018】また、上記の他の溶媒を併用することが可
能であり、ジメチルスルフォキシド、N−メチルピロリ
ドンなどの非プロトン性極性溶媒、ジメチルフォルムア
ミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ブチルアルコール等のアルコール類などが挙げられる
が、これらに限定されない。
Further, it is possible to use the above-mentioned other solvents in combination, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide and N-methylpyrrolidone, amide solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide, methanol, Ethanol, propanol, isopropanol,
Examples thereof include alcohols such as butyl alcohol, but are not limited thereto.

【0019】本発明で使用するエポキシ樹脂は、苛性ソ
ーダ、苛性カリ、トリエチルアミン等の塩基性化合物存
在下、上記一般式(3)のジヒドロキシ化合物とエピハ
ロヒドリン類との脱ハロゲン化水素によるジグリシジル
エーテル化反応といった公知の方法によって得ることが
できる。エピハロヒドリン類としてはエピクロロヒドリ
ン、エピブロモヒドリン等が挙げられるが経済性の面か
らエピクロロヒドリンが好ましく用いられる。
The epoxy resin used in the present invention undergoes a diglycidyl etherification reaction by dehydrohalogenation of the dihydroxy compound of the general formula (3) and epihalohydrins in the presence of a basic compound such as caustic soda, caustic potash, and triethylamine. It can be obtained by a known method. Examples of the epihalohydrins include epichlorohydrin, epibromohydrin and the like, but from the economical aspect, epichlorohydrin is preferably used.

【0020】本発明で使用する前記一般式(2)で表さ
れる含ハロゲンビスフェノール化合物のグリシジルエー
テル化物の具体例としては、テトラブロモビスフェノー
ルA、テトラクロロビスフェノールA、テトラヨードビ
スフェノールA、テトラブロモビスフェノールF、テト
ラクロロビスフェノールF、トリブロモビスフェノール
A、2,2’−ジブロモビスフェノールA等をそれぞれ
グリシジルエーテル化したものが挙げられるが、経済性
および効率的な難燃性付与の点からテトラブロモビスフ
ェノールAのグリシジルエーテルが好ましく用いられ
る。
Specific examples of the glycidyl ether compound of the halogen-containing bisphenol compound represented by the general formula (2) used in the present invention include tetrabromobisphenol A, tetrachlorobisphenol A, tetraiodobisphenol A and tetrabromobisphenol. F, tetrachlorobisphenol F, tribromobisphenol A, 2,2'-dibromobisphenol A and the like are each glycidyl etherified, but tetrabromobisphenol A from the viewpoint of economical efficiency and imparting efficient flame retardancy. The glycidyl ether of is preferably used.

【0021】本発明で使用する樹脂組成物における含ハ
ロゲンビスフェノール化合物のグリシジルエーテル化物
の使用割合は、含まれるハロゲン原子の量的割合が積層
板のUL規格難燃性評価でV−0を達成できる様な範囲
に調製することが望ましい。例えば臭素原子の場合、エ
ポキシ樹脂組成物中に臭素原子が15〜30重量%含ま
れるようにこの成分の使用割合を決めるのが望ましい。
Regarding the usage ratio of the glycidyl ether compound of the halogen-containing bisphenol compound in the resin composition used in the present invention, the quantitative ratio of the halogen atoms contained can achieve V-0 in the UL standard flame retardancy evaluation of the laminate. It is desirable to prepare it in such a range. For example, in the case of a bromine atom, it is desirable to determine the use ratio of this component so that the epoxy resin composition contains a bromine atom in an amount of 15 to 30% by weight.

【0022】本発明で使用するエポキシ樹脂硬化剤とし
ては、公知の硬化剤を用いることができる。例えば、フ
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、1,1,
1−トリスヒドロキシフェニルエタン、フェノール類と
芳香族アルデヒド類との重縮合物、フェノール類と不飽
和脂環式化合物との付加物オリゴマー、フェノール類の
キシリレン結合オリゴマー、ポリヒドロキシスチレン、
ポリヒドロキシブロモスチレン等の多価フェノール類、
芳香族アミン、脂肪族アミン等のアミン系硬化剤、酸無
水物、ジシアンジアミド、ヒドラジド化合物、ルイス酸
錯体等が挙げられる。好ましくは、ジシアンジアミドあ
るいは多価フェノール類である。またその配合量につい
てはエポキシ樹脂中のエポキシ基に対して0.3 〜1.2 当
量が好ましい。
As the epoxy resin curing agent used in the present invention, known curing agents can be used. For example, phenol novolac, cresol novolac, 1,1,
1-trishydroxyphenylethane, polycondensates of phenols and aromatic aldehydes, oligomers of adducts of phenols with unsaturated alicyclic compounds, xylylene-bonded oligomers of phenols, polyhydroxystyrene,
Polyhydric phenols such as polyhydroxy bromostyrene,
Examples include amine curing agents such as aromatic amines and aliphatic amines, acid anhydrides, dicyandiamide, hydrazide compounds, Lewis acid complexes and the like. Preferred are dicyandiamide and polyhydric phenols. Further, the content thereof is preferably 0.3 to 1.2 equivalents based on the epoxy groups in the epoxy resin.

【0023】また、本発明の効果を損なわない程度に、
従来公知の二官能エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、
他の熱硬化性樹脂あるいは官能基を有する熱可塑性樹脂
等を併用することも可能である。具体的には、ビスフェ
ノールAのグリシジルエーテル、フェノールノボラック
のグリシジルエーテル、クレゾールノボラックのグリシ
ジルエーテル、ブロモ化フェノールノボラックのグリシ
ジルエーテル、不飽和ポリエステル樹脂、シアネート樹
脂、マレイミド樹脂、グリシジル修飾ポリブタジエン、
無水マレイン酸修飾ポリエチレン等である。これらの樹
脂は本発明で使用するエポキシ樹脂組成物中に混合され
て、あるいは本発明で使用するエポキシ樹脂と予め反応
させて用いることができる。
Further, to the extent that the effects of the present invention are not impaired,
Conventionally known bifunctional epoxy resin, polyfunctional epoxy resin,
It is also possible to use another thermosetting resin or a thermoplastic resin having a functional group in combination. Specifically, glycidyl ether of bisphenol A, glycidyl ether of phenol novolac, glycidyl ether of cresol novolac, glycidyl ether of brominated phenol novolac, unsaturated polyester resin, cyanate resin, maleimide resin, glycidyl modified polybutadiene,
Examples thereof include maleic anhydride-modified polyethylene. These resins can be used by mixing them in the epoxy resin composition used in the present invention or by pre-reacting with the epoxy resin used in the present invention.

【0024】本発明では、目的に応じて組成物中に硬化
促進剤、難燃剤、表面処理剤等の公知の添加剤を加えて
も良い。硬化促進剤としてはイミダゾール類、三級アミ
ン類、リン系化合物を、難燃剤としては三酸化アンチモ
ン、水酸化アルミ、赤リン等を、表面処理剤としてはシ
ランカップリング剤を挙げることができる。
In the present invention, known additives such as a curing accelerator, a flame retardant and a surface treatment agent may be added to the composition depending on the purpose. Examples of the curing accelerator include imidazoles, tertiary amines and phosphorus compounds, examples of the flame retardant include antimony trioxide, aluminum hydroxide and red phosphorus, and examples of the surface treatment agent include silane coupling agents.

【0025】本発明の銅張り積層板の作成は公知の方法
に従って行うことができる。すなわち、本発明のエポキ
シ樹脂組成物を有機溶剤に溶解した樹脂ワニスを基材に
含浸させ、熱処理してプリプレグとした後にプリプレグ
と銅箔とを積層加熱成形して銅張り積層板とする方法で
ある。使用される有機溶剤はアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トルエン、キシレン、N,N-ジメチルホルムアミ
ド、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の単独あるいは
二種以上の混合物から選択される。樹脂ワニスを含浸さ
せる基材はガラス繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド
繊維等の無機繊維、有機繊維からなる織布、もしくは不
織布またはマット、紙等でありこれらを単独あるいは組
み合わせて用いられる。
The copper-clad laminate of the present invention can be prepared by a known method. That is, by impregnating a base material with a resin varnish obtained by dissolving the epoxy resin composition of the present invention in an organic solvent, heat-treating the prepreg and then forming a prepreg and a copper foil by laminating and heat-molding a copper-clad laminate. is there. The organic solvent used is selected from acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, toluene, xylene, N, N-dimethylformamide, dioxane, tetrahydrofuran and the like, alone or in a mixture of two or more. It The base material to be impregnated with the resin varnish is a woven cloth made of inorganic fibers such as glass fibers, polyester fibers, polyamide fibers, or organic fibers, or a non-woven fabric, mat, paper or the like, and these may be used alone or in combination.

【0026】プリプレグの熱処理条件は使用する溶剤、
添加触媒、各種添加剤の種類や使用量に応じて適宜選択
されるが通常80℃〜220 ℃の温度で3 分〜30分といった
条件で行われる。加熱成形条件は150 ℃〜300 ℃の温度
で10kg/cm2〜100kg/cm2 の成形圧で20分〜300 分の熱プ
レス成形が例示される。
The heat treatment conditions for the prepreg are the solvent used,
Although it is appropriately selected depending on the type and amount of the added catalyst and various additives, it is usually carried out at a temperature of 80 ° C to 220 ° C for 3 minutes to 30 minutes. Heat molding conditions are exemplified 20 to 300 minutes of thermal press molding at a molding pressure of 10kg / cm 2 ~100kg / cm 2 at a temperature of 0.99 ° C. to 300 ° C..

【0027】[0027]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。例中、エポキシ当量と
は、エポキシ基1個あたりのエポキシ樹脂の分子量で定
義される。OH当量は、OH基1個あたりのOH化合物の分子
量で定義される。また、加水分解性塩素とは、エポキシ
樹脂をジオキサンに溶解し、水酸化カリウムのアルコー
ル溶液を加え、還流状態で30分加熱した時に脱離する
塩素イオンを硝酸銀水溶液で逆滴定し、該化合物中の重
量百分率で表したものである。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto. In the examples, the epoxy equivalent is defined as the molecular weight of the epoxy resin per epoxy group. The OH equivalent is defined as the molecular weight of the OH compound per one OH group. In addition, hydrolyzable chlorine means that the epoxy resin is dissolved in dioxane, an alcohol solution of potassium hydroxide is added, and chlorine ions desorbed when heated at reflux for 30 minutes are back-titrated with an aqueous solution of silver nitrate. Is expressed as a weight percentage.

【0028】合成例1 本合成例は、本発明のエポキシ樹脂の原料であるジヒド
ロキシ化合物の製法に関するものである。温度計、攪拌
装置、還流冷却装置の付いた水抜き管を取り付けた2リ
ットル4つ口丸底フラスコに、2,6-キシレノール549.0g
(4.5 mol)、m−ビス(α- ヒドロキシイソプロピル)
ベンゼン291.0g (1.5 mol)、トルエン840g、酸性白土84
g を仕込み、110 ℃に昇温して水を共沸により除去しな
がら8 時間保持する。減圧下で濃縮することにより、樹
脂状固体308gが得られた。軟化点は85℃、OH当量は381g
/eq であった。赤外吸収スペクトル測定により、インダ
ン構造由来の吸収(2960,1485,1460,1440,740cm-1) と、
OH基の吸収(3600-3200cm--1)が確認された。さらに質
量分析、核磁気共鳴スペクトル測定により、目的物であ
ることを確認した。この化合物は、一般式(3)におい
て、Mがメチル基、i=2、j=0、n=2.3である
化合物である。
Synthesis Example 1 This synthesis example relates to a process for producing a dihydroxy compound which is a raw material of the epoxy resin of the present invention. 54-g of 2,6-xylenol was placed in a 2-liter 4-neck round bottom flask equipped with a drainage tube equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser.
(4.5 mol), m-bis (α-hydroxyisopropyl)
Benzene 291.0 g (1.5 mol), toluene 840 g, acid clay 84
Charge g, raise the temperature to 110 ° C, and hold for 8 hours while azeotropically removing water. Concentration under reduced pressure gave 308 g of a resinous solid. Softening point is 85 ℃, OH equivalent is 381g
It was / eq. By infrared absorption spectrum measurement, absorption derived from the indane structure (2960,1485,1460,1440,740 cm -1 ) and
Absorption of OH groups (3600-3200 cm --1 ) was confirmed. Furthermore, it was confirmed to be the target by mass spectrometry and nuclear magnetic resonance spectrum measurement. This compound is a compound in which M is a methyl group, i = 2, j = 0, and n = 2.3 in the general formula (3).

【0029】合成例2 本合成例は、合成例1で得られたジヒドロキシ化合物か
らの本発明で用いるエポキシ樹脂の製法に関するもので
ある。合成例1で得られたジヒドロキシ化合物60.0g
(0.157moleq)、エピクロロヒドリン102.0g (1.1 mol)、
ジメチルスルホキシド51.0g を、温度計、攪拌装置、分
離管付きコンデンサーを付けた1リットル4つ口平底フ
ラスコに仕込み、51℃42torrの条件下で48.6%
苛性ソーダ水溶液13.0 g(0.148 mol)を5 時間かけて滴
下する。この間、温度は51℃に保ちながら、共沸するエ
ピクロロヒドリンと水を冷却液化し、有機層を反応系内
に戻しながら反応させた。反応終了後は、未反応のエピ
クロロヒドリンを減圧濃縮により除去し、副生塩とジメ
チルスルホキシドを含むエポキシ化物をメチルイソブチ
ルケトンに溶解させ、副生塩とジメチルスルホキシドを
温水洗浄により除去した。減圧下で溶媒を除くことによ
りにより、エポキシ化合物59.6gを得た。このよう
にして得られたエポキシ化合物のエポキシ当量および加
水分解性塩素は、それぞれ495 g/eq、160ppmであった。
赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノール性OHの吸収
3200-3500cm -1は消失し、エポキシドの吸収1220、910c
m -1の吸収を有することが確認された。
Synthesis Example 2 This synthesis example relates to a process for producing the epoxy resin used in the present invention from the dihydroxy compound obtained in Synthesis Example 1. 60.0 g of the dihydroxy compound obtained in Synthesis Example 1
(0.157 moleq), epichlorohydrin 102.0 g (1.1 mol),
51.0 g of dimethyl sulfoxide was charged into a 1 liter 4-necked flat bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser with a separation tube, and 48.6% under the condition of 51 ° C and 42 torr.
Add 13.0 g (0.148 mol) of aqueous caustic soda solution over 5 hours. During this period, while maintaining the temperature at 51 ° C., the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer into the reaction system. After the reaction was completed, unreacted epichlorohydrin was removed by concentration under reduced pressure, the epoxidized product containing a byproduct salt and dimethylsulfoxide was dissolved in methyl isobutyl ketone, and the byproduct salt and dimethylsulfoxide were removed by washing with warm water. By removing the solvent under reduced pressure, 59.6 g of an epoxy compound was obtained. The epoxy equivalent and hydrolyzable chlorine of the thus obtained epoxy compound were 495 g / eq and 160 ppm, respectively.
As a result of infrared absorption spectrum measurement, absorption of phenolic OH
3200-3500cm -1 disappeared, epoxide absorption 1220, 910c
It was confirmed to have an absorption of m -1 .

【0030】実施例1 合成例2で得られたエポキシ樹脂とテトラブロモビスフ
ェノールA のジグリシジルエーテル(商品名スミエポキ
シESB-400 、住友化学工業(株)製、エポキシ当量403g
/eq )およびジシアンジアミド、2-エチル-4- メチルイ
ミダゾールを表1に示す割合で配合しメチルエチルケト
ンとエチレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒
に溶解して均一な樹脂ワニスとした。該ワニスをガラス
クロス(商品名KS-1600S962LP,鐘紡(株)製)に含浸
し、150 ℃の熱風乾燥器で5 〜10分処理してプリプレグ
を得た。プリプレグ5枚と銅箔(TSTO処理 35 μ厚、古
河サーキットホイル(株)製)を重ね合わせ、170 ℃×
50kg/cm2×120 分熱プレス成形して1mm厚の銅張り積層
板を得た。 積層板の銅箔引き剥し強さ、半田耐熱性は
JIS-C-6481に準じて測定した。ガラス転移温度(Tg)は
島津製作所製熱分析装置DT-30 を用いて熱膨張曲線の変
曲点から求めた。室温の1MHzにおける誘電率および
誘電正接は横河ヒューレットパッカード社(株)製、42
75A Multi-Frequency LCR meterを用い、誘電率の値
はサンプルの静電容量から算出した。測定結果を表1に
示す。
Example 1 Epoxy resin obtained in Synthesis Example 2 and diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (trade name: Sumiepoxy ESB-400, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent: 403 g)
/ eq), dicyandiamide and 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed in the proportions shown in Table 1 and dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether to give a uniform resin varnish. A glass cloth (trade name: KS-1600S962LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd.) was impregnated with the varnish and treated with a hot air dryer at 150 ° C. for 5 to 10 minutes to obtain a prepreg. 5 sheets of prepreg and copper foil (TSTO treated 35μ thick, Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) are piled up and 170 ℃ ×
50 kg / cm 2 × 120 minutes heat press molding was performed to obtain a 1 mm thick copper-clad laminate. Copper foil peeling strength and solder heat resistance of laminated board
It was measured according to JIS-C-6481. The glass transition temperature (Tg) was obtained from the inflection point of the thermal expansion curve using a thermal analyzer DT-30 manufactured by Shimadzu Corporation. The dielectric constant and loss tangent at room temperature of 1 MHz are 42, manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.
Using a 75A Multi-Frequency LCR meter, the value of dielectric constant was calculated from the capacitance of the sample. The measurement results are shown in Table 1.

【0031】実施例2 実施例1のジシアンジアミドの代わりにフェノールノボ
ラック樹脂(商品名タマノル758、荒川化学工業
(株)製)を表1に示す割合で配合し、溶媒にメチルエ
チルケトンのみを使う以外は実施例1と全く同様の操作
で1mm厚の銅張り積層板を得た。またその積層板物性も
実施例1と同様に測定した。測定結果を表1に示す。
Example 2 A phenol novolak resin (trade name: Tamanor 758, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) was blended in place of the dicyandiamide of Example 1 at a ratio shown in Table 1, and methyl ethyl ketone alone was used as a solvent. The same operation as in Example 1 was carried out to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 1 mm. The physical properties of the laminated plate were also measured in the same manner as in Example 1. The measurement results are shown in Table 1.

【0032】実施例3 実施例1のジシアンジアミドの代わりにフェノール付加
ポリブタジエン樹脂(商品名 PP-700-300、日本石油
(株)製)を表1に示す割合で配合し、溶媒にメチルエ
チルケトンのみを使う以外は実施例1と全く同様の操作
で1mm厚の銅張り積層板を得た。またその積層板物性も
実施例1と同様に測定した。測定結果を表1に示す。
Example 3 Instead of the dicyandiamide of Example 1, a phenol-added polybutadiene resin (trade name PP-700-300, manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.) was blended in a ratio shown in Table 1, and only methyl ethyl ketone was used as a solvent. A copper-clad laminate having a thickness of 1 mm was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. The physical properties of the laminated plate were also measured in the same manner as in Example 1. The measurement results are shown in Table 1.

【0033】実施例4 実施例1のジシアンジアミドの代わりにフェノール−ジ
シクロペンタジエン樹脂(商品名 DPP-600M、日本石油
(株)製)を表1に示す割合で配合し、溶媒にメチルエ
チルケトンのみを使う以外は実施例1と全く同様の操作
で1mm厚の銅張り積層板を得た。またその積層板物性も
実施例1と同様に測定した。測定結果を表1に示す。
Example 4 A phenol-dicyclopentadiene resin (trade name DPP-600M, manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.) was blended in the ratio shown in Table 1 in place of the dicyandiamide of Example 1, and only methyl ethyl ketone was used as a solvent. A copper-clad laminate having a thickness of 1 mm was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. The physical properties of the laminated plate were also measured in the same manner as in Example 1. The measurement results are shown in Table 1.

【0034】実施例5 合成例2のエポキシ樹脂とブロモ化ポリヒドロキシスチ
レン(商品名 マルカカリンカーMB、丸善石油化学
(株)製)を表1に示す割合で配合し、溶媒にメチルエ
チルケトンのみを使う以外は実施例1と全く同様の操作
で1mm厚の銅張り積層板を得た。またその積層板物性も
実施例1と同様に測定した。測定結果を表1に示す。
Example 5 The epoxy resin of Synthesis Example 2 and brominated polyhydroxystyrene (trade name Marukaka Linker MB, manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) were blended at the ratio shown in Table 1, and only methyl ethyl ketone was used as a solvent. A copper-clad laminate having a thickness of 1 mm was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. The physical properties of the laminated plate were also measured in the same manner as in Example 1. The measurement results are shown in Table 1.

【0035】比較例1 エポキシ樹脂にブロモ化エポキシ樹脂(住友化学工業
(株)製 商品名スミエポキシ ESB-500、エポキシ当量
472g/eq)およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(住友化学工業(株)製 商品名スミエポキシESCN-22
0、エポキシ当量 215g/eq)を用いジシアンジアミドお
よび2−エチル−4−メチルイミダゾールを表1に示す
割合で配合しメチルエチルケトンとエチレングリコール
モノメチルエーテルの混合溶媒に溶解して均一な樹脂ワ
ニスとした。該ワニスをガラスクロス(商品名KS-1600S
962LP,鐘紡(株)製)に含浸し、150 ℃の熱風乾燥器で
5 〜10分処理してプリプレグを得た。プリプレグ5枚と
銅箔(TSTO処理 35 μ厚、古河サーキットホイル(株)
製)を重ね合わせ、160 ℃×50kg/cm2×90分熱プレス成
形して1mm厚の銅張り積層板を得た。積層板の物性を実
施例1と同様に測定し結果を表1に示す。
Comparative Example 1 Epoxy resin with brominated epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. product name Sumiepoxy ESB-500, epoxy equivalent)
472g / eq) and cresol novolac type epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. product name Sumiepoxy ESCN-22)
Dicyandiamide and 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed at a ratio shown in Table 1 using 0 and an epoxy equivalent of 215 g / eq) and dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether to form a uniform resin varnish. Glass varnish (trade name KS-1600S)
962LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd., and dried in a hot air dryer at 150 ° C.
It was treated for 5 to 10 minutes to obtain a prepreg. Five prepregs and copper foil (TSTO treated 35 μm thick, Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.)
Manufactured by the above method and heat-pressed at 160 ° C. × 50 kg / cm 2 × 90 minutes to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 1 mm. The physical properties of the laminate were measured in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 1.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化樹脂
は耐熱性に優れ、かつ低誘電率でありこれを用いて成形
した銅張り積層板はこれらの優れた物性のため高速演算
処理用の多層プリント配線板に好適である。
The cured resin of the epoxy resin composition of the present invention is excellent in heat resistance and has a low dielectric constant, and the copper-clad laminate molded using the same has excellent physical properties and is therefore suitable for high-speed arithmetic processing. Suitable for multilayer printed wiring boards.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北山 慎一郎 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株式 会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Shinichiro Kitayama 6 Kitahara, Tsukuba, Ibaraki Sumitomo Chemical Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)下記一般式(1) 【化1】 (式中、nは平均繰り返し数を示し0.2以上20以下
の数値をとる。M、Qはそれぞれ独立に、ハロゲン原
子;炭素数1〜8のアルキル基、アルケニル基およびア
ルキニル基;炭素数5〜12のシクロアルキル基;炭素
数6〜14のアリール基;炭素数7〜20のアラルキル
基;炭素数1〜8のアルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基;ニトロ基;シアノ基の何れか
を表し、iは0以上4以下の整数値をとり、jは0以上
3以下の整数値をとる。)で表されるエポキシ樹脂と、
(B)エポキシ樹脂硬化剤とを必須成分とする樹脂組成
物を有機溶剤に溶解し、基材に含浸させて得られるプリ
プレグと銅箔とを積層成形してなるエポキシ樹脂銅張り
積層板。
1. (A) The following general formula (1): (In the formula, n represents an average number of repetitions and takes a value of 0.2 or more and 20 or less. M and Q are each independently a halogen atom; an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group; A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 14 carbon atoms; an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group, an alkynyloxy group; a nitro group; a cyano group , I is an integer value of 0 or more and 4 or less, and j is an integer value of 0 or more and 3 or less).
(B) An epoxy resin copper-clad laminate obtained by laminating a prepreg obtained by dissolving a resin composition containing an epoxy resin curing agent as an essential component in an organic solvent and impregnating the base material with a copper foil.
【請求項2】(A)請求項1記載のエポキシ樹脂と、
(B)下記一般式(2) 【化2】 (式中、Rは水素原子あるいはメチル基を表し、2つの
Rは互いに同一であっても異なっていてもよい。Y、
Y’はハロゲン原子であり、両者は互いに同一であって
も異なっていてもよい。r、sはそれぞれ独立に1以上
4以下の整数である。)で表される含ハロゲンビスフェ
ノール化合物のグリシジルエーテル化物と、(C)エポ
キシ樹脂硬化剤とを必須成分とする樹脂組成物を有機溶
剤に溶解し、基材に含浸させて得られるプリプレグと銅
箔とを積層成形してなるエポキシ樹脂銅張り積層板。
2. The epoxy resin according to claim 1 (A),
(B) The following general formula (2): (In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and two Rs may be the same or different from each other.
Y'is a halogen atom, and both may be the same or different. r and s are each independently an integer of 1 or more and 4 or less. ) A prepreg and a copper foil obtained by dissolving a resin composition containing a glycidyl ether compound of a halogen-containing bisphenol compound represented by (4) and an epoxy resin curing agent (C) as an essential component in an organic solvent and impregnating the base material. An epoxy resin copper-clad laminate formed by laminating and molding.
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