JPH0834832A - Thermosetting resin composition and copper-clad laminate - Google Patents

Thermosetting resin composition and copper-clad laminate

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JPH0834832A
JPH0834832A JP6169754A JP16975494A JPH0834832A JP H0834832 A JPH0834832 A JP H0834832A JP 6169754 A JP6169754 A JP 6169754A JP 16975494 A JP16975494 A JP 16975494A JP H0834832 A JPH0834832 A JP H0834832A
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JP
Japan
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carbon atoms
compound
thermosetting resin
resin composition
resin
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Application number
JP6169754A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Yamakoshi
美穂 山越
Yoichi Ueda
陽一 上田
Mitsuhiro Shibata
充弘 柴田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0834832A publication Critical patent/JPH0834832A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a thermosetting resin composition excellent in dielectric properties by mixing a compound prepared by previously reacting an epoxy resin with a halogenated bisphenol compound with a polyisocyanate compound and an epoxy curing agent. CONSTITUTION:This composition is one essentially consisting of a compound prepared by previously reacting an epoxy resin represented by formula I with a halogenated bisphenol compound represented by formula II, a polyisocyanate compound having at least two cyanate groups in the molecule and an epoxy curing agent and having a content of the polycyanate compound of 5-50wt.%. In the formula, n is the average number of repeating units and is 0-10; R1 is H or a 1-9C alkyl; P is at least a 4-9C alkyl or the like, is 1-3; R2 is H or methyl; X and X' are each a halogen; k and l are each 1-4; R3 is H or the like; Q and Q' are each a 1-9 C alkyl or the like; and j and m are each 0-4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は熱硬化性樹脂組成物およ
び銅張り積層板に関し、さらに詳しくは誘電特性に優れ
た熱硬化性樹脂組成物および銅張り積層板に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermosetting resin composition and a copper-clad laminate, and more particularly to a thermosetting resin composition having excellent dielectric properties and a copper-clad laminate.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子用途に用いられるエポキシ樹
脂のうちプリント配線基板(銅張り積層板)の材料とし
ては、従来主としてビスフェノール型エポキシ樹脂とジ
シアンジアミドの組み合わせが用いられている。近年、
プリント配線基板の多層化に伴い、主に信号速度向上と
伝送損失低減の目的から樹脂の低誘電率、低誘電正接が
要求されてきている。それに対して従来のエポキシ樹脂
に低誘電率、低誘電正接の熱可塑性樹脂を組み合わせる
方法が考案されている。例えば、反応性ポリブタジエン
樹脂で変性する方法、ポリテトラフルオロエチレン樹脂
の粉末を分散させる方法等である。またエポキシ樹脂よ
り誘電特性に優れるイミド樹脂やシアネート樹脂を用い
た積層板も使用されている。
2. Description of the Related Art Among epoxy resins used for electric and electronic purposes, a combination of a bisphenol type epoxy resin and dicyandiamide has been mainly used as a material for a printed wiring board (copper-clad laminate). recent years,
With the increase in the number of layers of printed wiring boards, low dielectric constant and low dielectric loss tangent of resin have been required mainly for the purpose of improving signal speed and reducing transmission loss. On the other hand, a method of combining a conventional epoxy resin with a thermoplastic resin having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent has been devised. For example, a method of modifying with a reactive polybutadiene resin, a method of dispersing powder of polytetrafluoroethylene resin, and the like. In addition, a laminated board using an imide resin or a cyanate resin, which has better dielectric properties than an epoxy resin, is also used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
技術においては、基本となるエポキシ樹脂の誘電率、誘
電正接が高いため望ましい誘電特性を達成するには組み
合わせる熱可塑性樹脂の占める割合が大きくなり、エポ
キシ樹脂の特長である耐熱性、寸法安定性、耐薬品性等
が損なわれてしまう。またイミド樹脂やシアネート樹脂
は、耐熱性が高く誘電特性も優れるものの、価格が高い
ことと加熱成形に高温、長時間を要するため、製造コス
トが高くなる欠点があった。そこで従来と全く同様の方
法で低誘電率、低誘電正接のプリント基板が得られるよ
うな誘電特性に優れる熱硬化性樹脂が切望されていた。
本発明の目的は、誘電特性に優れた(誘電率および誘電
正接がともに低い)硬化物を与える熱硬化性樹脂組成物
およびそれを用いて成形した銅張り積層板を提供するこ
とである。
However, in these conventional techniques, since the basic epoxy resin has a high dielectric constant and a high dielectric loss tangent, the proportion of the thermoplastic resin to be combined becomes large in order to achieve the desired dielectric properties. However, the heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, etc., which are the characteristics of epoxy resin, are impaired. In addition, although the imide resin and the cyanate resin have high heat resistance and excellent dielectric properties, they have the drawbacks of high cost and high manufacturing cost because they require high temperature and long time for heat molding. Therefore, there has been a strong demand for a thermosetting resin having excellent dielectric properties such that a printed circuit board having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be obtained by the completely same method as the conventional method.
An object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition which gives a cured product having excellent dielectric properties (both the dielectric constant and the dielectric loss tangent are low) and a copper clad laminate molded using the thermosetting resin composition.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、エポキシ
樹脂、シアネート化合物およびエポキシ硬化剤の組み合
わせについて鋭意研究を続けた結果、誘電特性に優れた
骨格を持つエポキシ樹脂、シアネート化合物およびエポ
キシ硬化剤とを組み合わせた熱硬化性樹脂組成物が前記
目的を満足することを見出し、本発明を完成させるに至
った。すなわち、本発明は次に記す発明からなる。 (1)(A)一般式(1)
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have conducted diligent research on a combination of an epoxy resin, a cyanate compound and an epoxy curing agent. As a result, an epoxy resin, a cyanate compound and an epoxy curing agent having a skeleton having excellent dielectric properties have been obtained. It was found that a thermosetting resin composition in combination with an agent satisfies the above-mentioned object, and has completed the present invention. That is, the present invention comprises the inventions described below. (1) (A) General formula (1)

【0005】[0005]

【化4】 (式中、nは平均繰り返し数を表し、0以上10以下の
値をとる。R1 は水素原子あるいは炭素数1以上9以下
のアルキル基を表す。Pはそれぞれ独立に、少なくとも
1つは炭素数4以上9以下のアルキル基あるいは炭素数
5以上7以下のシクロアルキル基であり、その他は炭素
数1以上9以下のアルキル基であり、iはそれぞれ独立
に1以上3以下の整数値である。iが2以上の場合、P
は同一環内でそれぞれ同一であっても異なっていてもよ
い。)で表されるエポキシ樹脂と(B)一般式(2)
[Chemical 4] (In the formula, n represents an average number of repetitions and takes a value of 0 or more and 10 or less. R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. P independently represents at least one carbon atom. An alkyl group having 4 to 9 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, the other is an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, and i is independently an integer value of 1 or more and 3 or less. . If i is 2 or more, P
May be the same or different in the same ring. ) And an epoxy resin (B) represented by the general formula (2)

【0006】[0006]

【化5】 (式中、R2 は水素原子あるいはメチル基を表し、2つ
のR2 は互いに同一であっても異なっていてもよい。
X、X’はハロゲン原子であり、両者は互いに同一であ
っても異なっていてもよい。k、lはそれぞれ独立に1
以上4以下の整数である。)で表される含ハロゲンビス
フェノール化合物とを予め反応させて得た化合物と、
(2)分子内にシアネート基を2個以上有するポリシア
ネート化合物と、(3)エポキシ硬化剤とを必須成分と
し、前記ポリシアネート化合物の含有率が5〜50重量
%である熱硬化性樹脂組成物、および該組成物を有機溶
剤に溶解せしめ基材に含浸して得られるプリプレグと銅
箔とを加熱成形してなるエポキシ樹脂銅張り積層板に関
する。以下に本発明を詳細に説明する。本発明で使用す
る(A)成分のエポキシ樹脂は、一般式(4)
Embedded image (In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and two R 2 may be the same or different.
X and X ′ are halogen atoms, and they may be the same or different from each other. k and l are 1 independently
It is an integer not less than 4 and not more than 4. ) And a compound obtained by previously reacting with a halogen-containing bisphenol compound represented by
(2) Thermosetting resin composition in which a polycyanate compound having two or more cyanate groups in the molecule and (3) an epoxy curing agent are essential components, and the content of the polycyanate compound is 5 to 50% by weight. The present invention relates to an epoxy resin copper-clad laminate obtained by heating and molding a prepreg obtained by dissolving the composition in an organic solvent and impregnating the base material with a copper foil. The present invention will be described in detail below. The epoxy resin as the component (A) used in the present invention has the general formula (4)

【0007】[0007]

【化6】 (式中、R1 、P、iは、前記一般式(1)の場合と同
様に定義される。)で表されるポリフェノール化合物を
グリシジルエーテル化して得られる。
[Chemical 6] (In the formula, R 1 , P, and i are defined in the same manner as in the case of the general formula (1).) And obtained by glycidyl etherification of the polyphenol compound.

【0008】前記一般式(4)のポリフェノール化合物
は、通常用いられるノボラック型フェノール樹脂の製造
方法により製造され、例えば、塩酸、燐酸、硫酸等の無
機酸、または、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン
酸、シュウ酸等の有機酸、または酢酸亜鉛等の金属塩を
触媒として、フェノール類とアルデヒド類からの重縮合
により製造される。
The polyphenol compound represented by the general formula (4) is produced by a commonly used method for producing a novolac type phenolic resin. Examples thereof include inorganic acids such as hydrochloric acid, phosphoric acid and sulfuric acid, or benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, It is produced by polycondensation of phenols and aldehydes using an organic acid such as oxalic acid or a metal salt such as zinc acetate as a catalyst.

【0009】フェノール類としては、n−ブチルフェノ
ール、イソブチルフェノール、t−ブチルフェノール、
オクチルフェノール、ノニルフェノール、メチルブチル
フェノール、ジ−t−ブチルフェノール、ジ−t−アミ
ルフェノール等を代表とするアルキルフェノールの各種
o −、m −、p −異性体、あるいは、シクロぺンチルフ
ェノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシル
クレゾール等を代表とするシクロアルキルフェノールの
各種o −、m −、p −異性体が例示され、これらは単独
であるいは2種類以上の混合物として用いても良い。該
フェノールのなかでも、低誘電率化、低誘電正接化のた
めにより好ましいものとして、2−t−ブチル−5−メ
チルフェノール、2−シクロヘキシル−5−メチルフェ
ノール、2−t−ブチルフェノール、2−sec −ブチル
フェノール、4−t −ブチルフェノール、4−sec −ブ
チルフェノール、2−(t −アミル)フェノール、4−
(t −アミル)フェノール、2−シクロヘキシルフェノ
ール、4−シクロヘキシルフェノール、4−t−オクチ
ルフェノール、4−ノニルフェノール等が例示される。
アルデヒド類の例としてはホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、
ペンチルアルデヒド等に代表されるアルキルアルデヒド
が挙げられる。
The phenols include n-butylphenol, isobutylphenol, t-butylphenol,
Various alkylphenols represented by octylphenol, nonylphenol, methylbutylphenol, di-t-butylphenol, di-t-amylphenol, etc.
Examples are o-, m-, p-isomers, and various o-, m-, p-isomers of cycloalkylphenol typified by cyclopentylphenol, cyclohexylphenol, cyclohexylcresol and the like. Alternatively, they may be used as a mixture of two or more kinds. Among these phenols, 2-t-butyl-5-methylphenol, 2-cyclohexyl-5-methylphenol, 2-t-butylphenol, 2- sec-butylphenol, 4-t-butylphenol, 4-sec-butylphenol, 2- (t-amyl) phenol, 4-
Examples thereof include (t-amyl) phenol, 2-cyclohexylphenol, 4-cyclohexylphenol, 4-t-octylphenol, 4-nonylphenol and the like.
Examples of aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde,
Examples thereof include alkyl aldehydes such as pentyl aldehyde.

【0010】前記一般式(4)のポリフェノール化合物
のグリシジルエーテル化は、公知の方法で行われる。例
えば、このポリフェノール化合物とエピクロロヒドリン
を苛性ソーダ等のアルカリの存在下で反応させることに
より行うことができる。また前記一般式(1)におい
て、平均繰り返し単位数nは、0〜10、好ましくは0
〜5、さらに好ましくは0〜3である。繰り返し単位数
が10を越えるとエポキシ樹脂としての粘度が上昇し、
積層板を作成する際の作業性が低下する欠点がある。
Glycidyl etherification of the polyphenol compound represented by the general formula (4) is carried out by a known method. For example, it can be carried out by reacting this polyphenol compound with epichlorohydrin in the presence of an alkali such as caustic soda. In the general formula (1), the average number of repeating units n is 0 to 10, preferably 0.
-5, more preferably 0-3. When the number of repeating units exceeds 10, the viscosity as an epoxy resin increases,
There is a drawback in that workability in producing a laminated plate is reduced.

【0011】本発明で使用する(B)成分の前記一般式
(2)で表される含ハロゲンビスフェノール化合物を具
体的に例示すれば、テトラブロモビスフェノールA、テ
トラクロロビスフェノールA、テトラヨードビスフェノ
ールA、テトラブロモビスフェノールF、テトラクロロ
ビスフェノールF、トリブロモビスフェノールA、2,
2’−ジブロモビスフェノールA等が挙げられるが、経
済性および効率的な難燃性付与の点からテトラブロモビ
スフェノールAが好ましく用いられる。
Specific examples of the halogen-containing bisphenol compound represented by the general formula (2) of the component (B) used in the present invention include tetrabromobisphenol A, tetrachlorobisphenol A, tetraiodobisphenol A, Tetrabromobisphenol F, tetrachlorobisphenol F, tribromobisphenol A, 2,
Although 2'-dibromobisphenol A and the like can be mentioned, tetrabromobisphenol A is preferably used from the viewpoint of economical efficiency and imparting efficient flame retardancy.

【0012】エポキシ樹脂(A)と含ハロゲンビスフェ
ノール化合物(B)との反応は公知の方法で行うことが
できる。例えば、上記の成分をトリフェニルフォスフィ
ンまたはイミダゾール等の塩基性触媒の存在下で反応さ
せることができる。反応させることにより、架橋点間距
離の変化によるガラス転移温度の制御や含ハロゲン化合
物を用いた難燃性付与を、硬化時の低分子量物の揮散な
しに行うことができる。(A)と(B)の成分は、任意
の割合で反応させることができる。エポキシ樹脂(A)
は、誘電特性を保つために樹脂全体の30〜90重量%
の範囲で用いるのが好ましい。また含ハロゲンビスフェ
ノール化合物(B)の使用割合は、含まれるハロゲン原
子の量的割合が積層板のUL規格難燃性評価でV−0を
達成できる様な範囲に調製することが望ましい。例えば
臭素原子の場合、熱硬化性樹脂組成物中に臭素原子が1
0〜25重量%含まれるようにこれらの成分の使用割合
を決めるのが望ましく、その他の含臭素化合物を併用す
る場合も同様に調製するのが望ましい。
The reaction between the epoxy resin (A) and the halogen-containing bisphenol compound (B) can be carried out by a known method. For example, the above components can be reacted in the presence of a basic catalyst such as triphenylphosphine or imidazole. By reacting, it is possible to control the glass transition temperature by changing the distance between cross-linking points and impart flame retardancy using a halogen-containing compound without volatilization of low molecular weight substances during curing. The components (A) and (B) can be reacted at any ratio. Epoxy resin (A)
Is 30 to 90% by weight of the whole resin to maintain the dielectric properties.
It is preferable to use in the range of. The halogen-containing bisphenol compound (B) is preferably used in a proportion such that the quantitative proportion of the halogen atoms contained in the halogen-containing bisphenol compound (B) can achieve V-0 in the UL standard flame retardancy evaluation of the laminate. For example, in the case of a bromine atom, the bromine atom is 1
It is desirable to determine the use ratio of these components so as to be contained in an amount of 0 to 25% by weight, and it is desirable to similarly prepare when other bromine-containing compounds are used in combination.

【0013】上記成分の反応は、溶媒を用いて行って
も、用いずに行っても良い。溶媒を用いる場合は、汎用
有機溶媒を用いることができる。それらを例示すればア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶
媒、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコー
ル系溶媒等が挙げられるが、好ましくはメチルエチルケ
トン、トルエン、キシレン、ブチルセロソルブ、ジオキ
サン、ジエチレングリコールジメチルエーテルが用いら
れる。上記成分の反応温度は、50〜200℃の範囲内
で行うことができるが、反応を効率よくかつ副反応を抑
えるためには、80〜150℃の範囲内で行うことが好
ましい。本発明で使用するポリシアネート化合物は、分
子内にシアネート基を2個以上有する化合物であり、例
えば、一般式(3)
The reaction of the above components may be carried out with or without a solvent. When using a solvent, a general-purpose organic solvent can be used. Examples thereof include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and diethylene glycol dimethyl ether, alcohol solvents such as methyl cellosolve and butyl cellosolve. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, toluene, xylene, butyl cellosolve, dioxane, and diethylene glycol dimethyl ether. The reaction temperature of the above components can be carried out within the range of 50 to 200 ° C, but it is preferably carried out within the range of 80 to 150 ° C in order to carry out the reaction efficiently and suppress side reactions. The polycyanate compound used in the present invention is a compound having two or more cyanate groups in the molecule, for example, the compound represented by the general formula (3)

【0014】[0014]

【化7】 (式中、R3 は水素原子、炭素数1以上5以下のアルキ
ル基あるいは炭素数5以上7以下のシクロアルキル基を
表し、2つのR3 は互いに同一であっても異なっていて
もよい。Q、Q’は炭素数1以上9以下のアルキル基、
炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、炭素数1以上
9以下のアルコキシ基、あるいは炭素数6以上20以下
のアリーロキシ基を表し、両者は互いに同一であっても
異なっていてもよい。j、mはそれぞれ独立に0以上4
以下の整数である。)で表される化合物である。これら
の化合物は、相当するポリフェノール化合物とハロゲン
化シアンとの反応によって得られる。この反応は公知で
あり、例えば、米国特許No.3,755,402 および4,028,
393 明細書に記載されている。また、該ポリシアネート
化合物の中でも、低誘電率化、低誘電正接化のためによ
り好ましいものとして、2,2−ビス(4−シアナート
フェニル)プロパン、ビス(4−シアナート−3,5−
ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−シアナ
ートフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−シ
アナート−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、1,
1−ビス(5−t−ブチル−4−シアナート−2−メチ
ルフェニル)ブタン等が挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。その配合量については、樹脂組成物
全体の5〜50重量%であり、好ましくは10〜30重
量%である。その配合量が5重量%未満であると低誘電
率化、低誘電正接化が達成されず、50重量%を超える
と加熱成形に高温、長時間を要するために製造コストが
高くなり好ましくない。
[Chemical 7] (In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and two R 3 may be the same or different. Q and Q ′ are alkyl groups having 1 to 9 carbon atoms,
It represents a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. j and m are independently 0 or more and 4
It is the following integer. ) Is a compound represented by. These compounds are obtained by reaction of the corresponding polyphenol compounds with cyanogen halides. This reaction is known and is described, for example, in US Pat. 3,755,402 and 4,028,
393 Described in the specification. Further, among the polycyanate compounds, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane and bis (4-cyanate-3,5-5-acetic acid) are more preferable for lowering the dielectric constant and lowering the dielectric loss tangent.
Dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) cyclohexane, 1,
Examples thereof include 1-bis (5-t-butyl-4-cyanato-2-methylphenyl) butane, but are not limited thereto. The blending amount thereof is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight, based on the whole resin composition. If the content is less than 5% by weight, lowering of the dielectric constant and lowering of the dielectric loss tangent cannot be achieved.

【0015】本発明で使用するエポキシ樹脂硬化剤とし
ては、公知の硬化剤を用いることができる。例えば、フ
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、1,1,
1−トリスヒドロキシフェニルエタン、フェノール類と
芳香族アルデヒド類との重縮合物、フェノール類と不飽
和脂環式化合物との付加物オリゴマー、フェノール類で
変性されたポリブタジエン化合物、フェノール類のキシ
リレン結合オリゴマー、ポリヒドロキシスチレン、ポリ
ヒドロキシブロモスチレン等の多価フェノール類、芳香
族アミン、脂肪族アミン等のアミン系硬化剤、酸無水
物、ジシアンジアミド、ヒドラジド化合物、ルイス酸錯
体等が挙げられる。好ましくは、フェノール類で変性さ
れたポリブタジエン化合物、ジシアンジアミドあるいは
多価フェノール類である。また、その配合量については
エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して0.3〜1.2当
量が好ましい。
As the epoxy resin curing agent used in the present invention, known curing agents can be used. For example, phenol novolac, cresol novolac, 1,1,
1-Trishydroxyphenylethane, polycondensates of phenols with aromatic aldehydes, oligomers of adducts of phenols with unsaturated alicyclic compounds, polybutadiene compounds modified with phenols, xylylene-bonded oligomers of phenols Examples thereof include polyhydric phenols such as polyhydroxystyrene and polyhydroxybromostyrene, amine curing agents such as aromatic amines and aliphatic amines, acid anhydrides, dicyandiamide, hydrazide compounds, and Lewis acid complexes. Preferred are polybutadiene compounds modified with phenols, dicyandiamide or polyhydric phenols. Further, the blending amount thereof is preferably 0.3 to 1.2 equivalents with respect to the epoxy groups in the epoxy resin.

【0016】また、本発明の効果を損なわない程度に、
従来公知の二官能エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、
他の熱硬化性樹脂あるいは官能基を有する熱可塑性樹脂
等を併用することも可能である。具体的には、ビスフェ
ノールAのグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェ
ノールAのグリシジルエーテル、フェノールノボラック
のグリシジルエーテル、クレゾールノボラックのグリシ
ジルエーテル、ブロモ化フェノールノボラックのグリシ
ジルエーテル、不飽和ポリエステル樹脂、マレイミド樹
脂、グリシジル修飾ポリブタジエン、無水マレイン酸修
飾ポリエチレン等である。これらの樹脂は本発明で使用
するエポキシ樹脂組成物中に混合されて、あるいは本発
明で使用するエポキシ樹脂と予め反応させて用いること
ができる。
Further, to the extent that the effects of the present invention are not impaired,
Conventionally known bifunctional epoxy resin, polyfunctional epoxy resin,
It is also possible to use another thermosetting resin or a thermoplastic resin having a functional group in combination. Specifically, glycidyl ether of bisphenol A, glycidyl ether of tetrabromobisphenol A, glycidyl ether of phenol novolac, glycidyl ether of cresol novolac, glycidyl ether of brominated phenol novolac, unsaturated polyester resin, maleimide resin, glycidyl modified polybutadiene. , Maleic anhydride-modified polyethylene and the like. These resins can be used by mixing them in the epoxy resin composition used in the present invention or by pre-reacting with the epoxy resin used in the present invention.

【0017】本発明では、目的に応じて組成物中に硬化
促進剤、難燃剤、表面処理剤等の公知の添加剤を加えて
も良い。硬化促進剤としてはイミダゾール類、三級アミ
ン類、リン系化合物、有機金属塩、ルイス酸等を、難燃
剤としては三酸化アンチモン、水酸化アルミ、赤リン等
を、表面処理剤としてはシランカップリング剤を挙げる
ことができ、これらはそれぞれ単独であるいは2種類以
上の混合物として用いても良い。
In the present invention, known additives such as a curing accelerator, a flame retardant and a surface treatment agent may be added to the composition depending on the purpose. Imidazoles, tertiary amines, phosphorus compounds, organic metal salts, Lewis acids and the like as curing accelerators, antimony trioxide, aluminum hydroxide, red phosphorus and the like as flame retardants, and silane cup as a surface treatment agent. Examples thereof include ring agents, and these may be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0018】本発明の銅張り積層板の作成は公知の方法
に従って行うことができる。すなわち、本発明の熱硬化
性樹脂組成物を有機溶剤に溶解した樹脂ワニスを基材に
含浸させ、熱処理してプリプレグとした後にプリプレグ
と銅箔とを積層加熱成形して銅張り積層板とする方法で
ある。使用される有機溶剤はアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トルエン、キシレン、N,N−ジメチルホルム
アミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の単独ある
いは2種類以上の混合物から選択される。
The copper-clad laminate of the present invention can be prepared by a known method. That is, a base material is impregnated with a resin varnish obtained by dissolving the thermosetting resin composition of the present invention in an organic solvent, and a heat treatment is performed to form a prepreg, and then the prepreg and the copper foil are laminated and heat-formed to form a copper-clad laminate. Is the way. The organic solvent used is selected from acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, toluene, xylene, N, N-dimethylformamide, dioxane, tetrahydrofuran and the like, or a mixture of two or more thereof. It

【0019】樹脂ワニスを含浸させる基材は、ガラス繊
維等の無機繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維等
の有機繊維からなる織布、不織布、マット、または紙等
であり、これらは単独あるいは組み合わせて用いられ
る。プリプレグの熱処理条件は使用する溶剤、添加触
媒、各種添加剤の種類や使用量に応じて適宜選択される
が通常80℃〜220℃の温度で3分〜30分といった
条件で行われる。加熱成形条件は150℃〜300℃の
温度で10kg/ cm2 〜100kg/ cm2 の成形圧で20分
〜300分の熱プレス成形が例示される。
The base material to be impregnated with the resin varnish is a woven cloth, a non-woven cloth, a mat, a paper or the like made of inorganic fibers such as glass fibers and organic fibers such as polyester fibers and polyamide fibers, which are used alone or in combination. To be The heat treatment conditions for the prepreg are appropriately selected depending on the solvent used, the catalyst added, and the types and amounts of various additives used, but are usually at a temperature of 80 ° C. to 220 ° C. for 3 minutes to 30 minutes. Heat molding conditions are exemplified 20 to 300 minutes of thermal press molding at a molding pressure of 10kg / cm 2 ~100kg / cm 2 at a temperature of 0.99 ° C. to 300 ° C..

【0020】[0020]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。例中、エポキシ当量と
は、エポキシ基1個あたりのエポキシ樹脂の分子量で定
義される。OH当量は、OH基1個あたりのOH化合物の分子
量で定義される。Br含量は、樹脂固形分基準の重量%で
定義される。 合成例1 本合成例は、本発明の樹脂組成物の構成成分であるエポ
キシ樹脂(A)の原料となるノボラック樹脂の製造例に
関するものである。2−t−ブチル−5−メチルフェノ
ール 2231.0g(13.58mol)、p−トルエンスルホン酸 12.
9g(0.068mol)、イオン交換水223.2gを温度計、攪拌装
置、コンデンサーを付けた5リットル4つ口丸底フラス
コに仕込み、 100℃に昇温する。ホルムアルデヒド218.
4g(2.715mol)を滴下管を用いて2時間かけて滴下した
後、 100℃で2時間保温してノボラック化反応を行っ
た。その後80℃まで冷却し、10%NaOH水溶液 27.7g(0.0
69mol)で中和した。分液後の有機層を700gのイオン交換
水で2回洗浄した。洗浄後の有機層を減圧濃縮(180℃/1
0mmHg/1 時間) して樹脂状物857.2gを得た。得られた樹
脂状物のOH当量は176.0 g/eqであった。またこのノボラ
ック樹脂の平均繰り返し単位数(前記一般式(4)中の
n)は、1.25であった。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto. In the examples, the epoxy equivalent is defined as the molecular weight of the epoxy resin per epoxy group. The OH equivalent is defined as the molecular weight of the OH compound per one OH group. The Br content is defined as wt% based on resin solids. Synthesis Example 1 This synthesis example relates to a production example of a novolac resin which is a raw material of the epoxy resin (A) which is a constituent component of the resin composition of the present invention. 2-t-butyl-5-methylphenol 2231.0 g (13.58 mol), p-toluenesulfonic acid 12.
9 g (0.068 mol) and 223.2 g of ion-exchanged water are charged into a 5 liter four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser, and heated to 100 ° C. Formaldehyde 218.
After 4 g (2.715 mol) was added dropwise using a dropping tube over 2 hours, the mixture was kept at 100 ° C. for 2 hours to carry out a novolak reaction. After that, it was cooled to 80 ° C and 27.7 g (0.0
It was neutralized with 69 mol). The organic layer after liquid separation was washed twice with 700 g of ion-exchanged water. The organic layer after washing is concentrated under reduced pressure (180 ° C / 1
(0 mmHg / 1 hour) to obtain 857.2 g of a resinous material. The OH equivalent of the obtained resinous material was 176.0 g / eq. The average number of repeating units (n in the general formula (4)) of this novolac resin was 1.25.

【0021】合成例2 本合成例は、合成例1のノボラック樹脂とエピクロロヒ
ドリンとの反応によりエポキシ樹脂を得る製造例に関す
るものである。合成例1のノボラック樹脂 246.4g(1.4
OHmol)、エピクロロヒドリン 906.5g(9.8mol) 、ジメチ
ルスルホキシド453.3g、イオン交換水14.0g を、温度
計、攪拌装置、分離管付きコンデンサーを付けた2リッ
トル4つ口丸底フラスコに仕込み、49℃42torrの条件下
で48.6%苛性ソーダ水溶液 108.31g(1.316mol)を5時間
かけて滴下する。この間、温度は49℃に保ちながら、共
沸するエピクロロヒドリンと水を冷却液化し、有機層を
反応系内に戻しながら反応させた。反応終了後は、未反
応のエピクロロヒドリンを減圧濃縮により除去し、副生
塩とジメチルスルホキシドを含むエポキシ化物をメチル
イソブチルケトンに溶解させ、副生塩とジメチルスルホ
キシドを温水洗浄により除去した。減圧下で溶媒を除く
ことにより、エポキシ樹脂304.9gを得た。このようにし
て得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は256 g/eqであ
った。赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノール性OH
の吸収 3200-3600cm-1は消失し、エポキシドの吸収 124
0 、910cm -1の吸収を有することが確認された。
Synthesis Example 2 This synthesis example relates to a production example in which an epoxy resin is obtained by reacting the novolak resin of Synthesis Example 1 with epichlorohydrin. 246.4 g (1.4%) of the novolak resin of Synthesis Example 1
OHmol), 906.5 g (9.8 mol) of epichlorohydrin, 453.3 g of dimethyl sulfoxide, and 14.0 g of ion-exchanged water are charged into a 2 liter 4-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser with a separation tube. 108.31 g (1.316 mol) of 48.6% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise under the condition of 49 ° C. and 42 torr over 5 hours. During this time, while keeping the temperature at 49 ° C., the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer into the reaction system. After the reaction was completed, unreacted epichlorohydrin was removed by concentration under reduced pressure, the epoxidized product containing a byproduct salt and dimethylsulfoxide was dissolved in methyl isobutyl ketone, and the byproduct salt and dimethylsulfoxide were removed by washing with warm water. The solvent was removed under reduced pressure to obtain 304.9 g of epoxy resin. The epoxy equivalent of the epoxy resin thus obtained was 256 g / eq. As a result of infrared absorption spectrum measurement, phenolic OH
Absorption of 3200-3600 cm -1 disappears and absorption of epoxide 124
It was confirmed to have an absorption of 0, 910 cm -1 .

【0022】合成例3 本合成例は、合成例2で得られたエポキシ樹脂とテトラ
ブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル、およ
びテトラブロモビスフェノールAとの付加反応により、
ブロモ含量が20%の末端エポキシ樹脂を得る方法に関
するものである。合成例2で得られたエポキシ樹脂62.0
g 、テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエー
テル(住友化学工業(株)製、商品名スミエポキシESB-
400T、エポキシ当量403g/eq )25.3g 、テトラブロモビ
スフェノールA 12.7gを、温度計、冷却管および攪拌装
置を付けた300 ml4つ口丸底フラスコに仕込み、 110℃
で加熱溶融させた。その後、トリフェニルホスフィン40
mg( 対樹脂 4 ×10-4wt%)をメチルエチルケトン2.2gに
溶解した液を加え、 110℃で4時間保持しエポキシ基と
フェノール性水酸基の付加反応を行った。反応後、系内
を90℃まで冷却しメチルエチルケトン 22.8gを滴下しな
がら加えて樹脂固形分80.62wt%の樹脂溶液123.9gを得
た。得られた樹脂付加物のエポキシ当量は、399.0 g/eq
であった。
Synthetic Example 3 In this Synthetic Example, the epoxy resin obtained in Synthetic Example 2, the diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, and tetrabromobisphenol A were added to give
The present invention relates to a method for obtaining a terminal epoxy resin having a bromo content of 20%. Epoxy resin 62.0 obtained in Synthesis Example 2
g, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESB-
400T, epoxy equivalent 403g / eq) 25.3g, tetrabromobisphenol A 12.7g were charged into a 300 ml four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, and 110 ° C.
It was melted by heating. Then triphenylphosphine 40
A solution prepared by dissolving mg (relative to resin 4 × 10 −4 wt%) in 2.2 g of methyl ethyl ketone was added, and the mixture was kept at 110 ° C. for 4 hours to carry out an addition reaction of an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. After the reaction, the inside of the system was cooled to 90 ° C. and 22.8 g of methyl ethyl ketone was added dropwise to obtain 123.9 g of a resin solution having a resin solid content of 80.62 wt%. The epoxy equivalent of the obtained resin adduct was 399.0 g / eq.
Met.

【0023】合成例4 本合成例は、合成例2で得られたエポキシ樹脂とテトラ
ブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル、およ
びテトラブロモビスフェノールAとの付加反応により、
ブロモ含量が27%の末端エポキシ樹脂を得る方法に関
するものである。合成例2で得られたエポキシ樹脂132.
7g、テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエー
テル(住友化学工業(株)製、商品名スミエポキシESB-
400T、エポキシ当量403 g/eq)119.6g、テトラブロモビ
スフェノールA 27.7gを、温度計、冷却管および攪拌装
置を付けた500 ml4つ口丸底フラスコに仕込み、 110℃
で加熱溶融させた。その後、トリフェニルホスフィン 1
12mg( 対樹脂 4 ×10-4wt%)をメチルエチルケトン1.0g
に溶解した液を加え、 110℃で4時間保持しエポキシ基
とフェノール性水酸基の付加反応を行った。反応後、系
内を90℃まで冷却しメチルエチルケトン 73.5gを滴下し
ながら加えて樹脂固形分79.80wt%の樹脂溶液349.2gを得
た。得られた樹脂付加物のエポキシ当量は、388.0 g/eq
であった。
Synthetic Example 4 In this Synthetic Example, the epoxy resin obtained in Synthetic Example 2, the diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, and tetrabromobisphenol A were added to give
The present invention relates to a method for obtaining a terminal epoxy resin having a bromo content of 27%. Epoxy resin 132 obtained in Synthesis Example 2.
7 g, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESB-
400T, epoxy equivalent 403 g / eq) 119.6 g and tetrabromobisphenol A 27.7 g were charged into a 500 ml four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer, and 110 ° C.
It was melted by heating. Then triphenylphosphine 1
12 mg (vs. resin 4 × 10 -4 wt%) of methyl ethyl ketone 1.0 g
The solution dissolved in was added and kept at 110 ° C. for 4 hours to carry out the addition reaction of the epoxy group and the phenolic hydroxyl group. After the reaction, the inside of the system was cooled to 90 ° C. and 73.5 g of methyl ethyl ketone was added dropwise to obtain 349.2 g of a resin solution having a resin solid content of 79.80 wt%. The epoxy equivalent of the obtained resin adduct is 388.0 g / eq.
Met.

【0024】合成例5 本合成例は、本発明の樹脂組成物の構成成分であるエポ
キシ樹脂(A)の原料となるノボラック樹脂の製造例に
関するものである。2−t−ブチル−5−メチルフェノ
ール328.0g(2.0mol)、p−トルエンスルホン酸5.70g(0.
03mol)、トルエン428.0gを温度計、攪拌装置、分離管付
きコンデンサーを付けた2リットル4つ口丸底フラスコ
に仕込み、80℃に昇温する。n−ブチルアルデヒド 10
0.8g(1.40mol)を滴下管を用いて2時間かけて滴下して
昇温し、1時間共沸脱水させて反応で生成した水を系中
から除去した。その後 120℃で2時間保温した。反応後
トルエン571.0gで希釈し、10%NaOH水溶液 12gで中和し
た。分液後の有機層を200gのイオン交換水で2回洗浄し
た。洗浄後の有機層を減圧濃縮 (170 ℃/5mmHg/0.5時
間) して樹脂状物259.0gを得た。得られた樹脂状物のOH
当量は192.3 g/eqであった。
Synthesis Example 5 This synthesis example relates to a production example of a novolac resin which is a raw material of the epoxy resin (A) which is a constituent component of the resin composition of the present invention. 32-t-butyl-5-methylphenol 328.0 g (2.0 mol), p-toluenesulfonic acid 5.70 g (0.
(03 mol) and 428.0 g of toluene are charged into a 2 liter four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser with a separation tube, and the temperature is raised to 80 ° C. n-butyraldehyde 10
0.8 g (1.40 mol) was added dropwise using a dropping tube over 2 hours, the temperature was raised, and azeotropic dehydration was performed for 1 hour to remove water generated by the reaction from the system. Then, the temperature was kept at 120 ° C for 2 hours. After the reaction, it was diluted with 571.0 g of toluene and neutralized with 12 g of 10% NaOH aqueous solution. The organic layer after liquid separation was washed twice with 200 g of ion-exchanged water. The washed organic layer was concentrated under reduced pressure (170 ° C./5 mmHg / 0.5 hours) to obtain 259.0 g of a resinous material. OH of the obtained resinous material
The equivalent weight was 192.3 g / eq.

【0025】合成例6 本合成例は、合成例5のノボラック樹脂とエピクロロヒ
ドリンとの反応によりエポキシ樹脂を得る製造例に関す
るものである。合成例5のノボラック樹脂 115.4g(0.6
OHmol)、エピクロロヒドリン 388.5g(4.2mol) 、ジメチ
ルスルホキシド194.3gを、温度計、攪拌装置、分離管付
きコンデンサーを付けた2リットル4つ口平底フラスコ
に仕込み、54℃ 48torrの条件下で48.6%苛性ソーダ水
溶液 49.38g(0.6mol) を4時間かけて滴下する。この
間、温度は55℃〜60℃に保ちながら、共沸するエピクロ
ロヒドリンと水を冷却液化し、有機層を反応系内に戻し
ながら反応させた。反応終了後は、未反応のエピクロロ
ヒドリンを減圧濃縮により除去し、副生塩とジメチルス
ルホキシドを含むエポキシ化物をメチルイソブチルケト
ンに溶解させ、副生塩とジメチルスルホキシドを温水洗
浄により除去した。減圧下で溶媒を除くことにより、エ
ポキシ樹脂138.7gを得た。このようにして得られたエポ
キシ樹脂のエポキシ当量は、305.7 g/eqであった。赤外
吸収スペクトル測定の結果フェノール性OHの吸収 3200-
3600cm-1は消失し、エポキシドの吸収 1240 、910cm--1
の吸収を有することが確認された。また平均繰り返し単
位数(前記一般式(1)中のn)は、0.26であった。
Synthesis Example 6 This synthesis example relates to a production example in which an epoxy resin is obtained by reacting the novolak resin of Synthesis Example 5 with epichlorohydrin. Synthetic example 5 novolak resin 115.4 g (0.6
OHmol), 388.5g (4.2mol) of epichlorohydrin, and 194.3g of dimethylsulfoxide were placed in a 2 liter 4-neck flat bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser with a separating tube, and at 54 ° C and 48 torr. 49.38 g (0.6 mol) of 48.6% caustic soda solution was added dropwise over 4 hours. During this time, while keeping the temperature at 55 ° C to 60 ° C, the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer into the reaction system. After the reaction was completed, unreacted epichlorohydrin was removed by concentration under reduced pressure, the epoxidized product containing a byproduct salt and dimethylsulfoxide was dissolved in methyl isobutyl ketone, and the byproduct salt and dimethylsulfoxide were removed by washing with warm water. By removing the solvent under reduced pressure, 138.7 g of an epoxy resin was obtained. The epoxy equivalent of the epoxy resin thus obtained was 305.7 g / eq. Infrared absorption spectrum results Phenolic OH absorption 3200-
3600cm -1 disappeared, epoxide absorption 1240, 910cm- -1
It was confirmed to have absorption of. The average number of repeating units (n in the general formula (1)) was 0.26.

【0026】合成例7 本合成例は、合成例6で得られたエポキシ樹脂とテトラ
ブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル、およ
びテトラブロモビスフェノールAとの付加反応により、
ブロモ含量が27%の末端エポキシ樹脂を得る方法に関
するものである。合成例6で得られたエポキシ樹脂42.7
g 、テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエー
テル(住友化学工業(株)製、商品名スミエポキシESB-
400T、エポキシ当量403g/eq )38.4g 、テトラブロモビ
スフェノールA8.9gを、温度計、冷却管および攪拌装置
を付けた300 ml4つ口丸底フラスコに仕込み、 110℃で
加熱溶融させた。トリフェニルホスフィン 18mg(対樹脂
4 ×10-4wt%)をメチルエチルケトン1.8gに溶解した液
を加え、110 ℃で4時間保持しエポキシ基とフェノール
性水酸基の付加反応を行った。反応後、系内を90℃まで
冷却しメチルエチルケトン20.7g を滴下しながら加えて
樹脂固形分80.35wt%の樹脂溶液112.0gを得た。得られた
樹脂付加物のエポキシ当量は、355.6 g/eqであった。
Synthetic Example 7 In this Synthetic Example, the epoxy resin obtained in Synthetic Example 6 was added to the diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A and tetrabromobisphenol A to give an addition reaction.
The present invention relates to a method for obtaining a terminal epoxy resin having a bromo content of 27%. Epoxy resin 42.7 obtained in Synthesis Example 6
g, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESB-
400 T, epoxy equivalent 403 g / eq) 38.4 g, and tetrabromobisphenol A 8.9 g were charged into a 300 ml four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer, and heated and melted at 110 ° C. Triphenylphosphine 18mg (against resin
A solution prepared by dissolving 4 × 10 −4 wt%) in 1.8 g of methyl ethyl ketone was added, and the mixture was kept at 110 ° C. for 4 hours to carry out an addition reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. After the reaction, the inside of the system was cooled to 90 ° C., and 20.7 g of methyl ethyl ketone was added dropwise to obtain 112.0 g of a resin solution having a resin solid content of 80.35 wt%. The epoxy equivalent of the obtained resin adduct was 355.6 g / eq.

【0027】合成例8 本合成例は、本発明の樹脂組成物の構成成分であるエポ
キシ樹脂(A)の原料となるノボラック樹脂の製造例に
関するものである。シクロヘキシルフェノール(o-,p-
異性体混合物)317.4g (1.8mol) 、p−トルエンスルホ
ン酸 20.6g(0.108mol)、トルエン300.0gを温度計、攪拌
装置、冷却管を付けた500 ml4つ口丸底フラスコに仕込
み、80℃に昇温する。37%ホルマリン 109.5g(1.35mol)
を滴下管を用いて3時間かけて滴下して昇温し、90℃で
9時間保温した。反応後、静置して水層を分液し、500g
のイオン交換水で6回洗浄した。洗浄後の有機層を減圧
濃縮 (170 ℃/5mmHg/0.5時間) して樹脂状物305.4gを得
た。得られた樹脂状物のOH当量は185.9 g/eqであった。
Synthesis Example 8 This synthesis example relates to a production example of a novolak resin which is a raw material of the epoxy resin (A) which is a constituent component of the resin composition of the present invention. Cyclohexylphenol (o-, p-
(Isomer mixture) 317.4 g (1.8 mol), p-toluenesulfonic acid 20.6 g (0.108 mol), and toluene 300.0 g were placed in a 500 ml four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube, and the temperature was 80 ° C. The temperature rises to. 37% formalin 109.5g (1.35mol)
Was added dropwise over 3 hours using a dropping tube to raise the temperature and kept at 90 ° C. for 9 hours. After the reaction, leave still and separate the aqueous layer, 500 g
It was washed 6 times with ion-exchanged water. The washed organic layer was concentrated under reduced pressure (170 ° C./5 mmHg / 0.5 hours) to obtain 305.4 g of a resinous material. The OH equivalent of the obtained resinous material was 185.9 g / eq.

【0028】合成例9 本合成例は、合成例8のノボラック樹脂とエピクロロヒ
ドリンとの反応によりエポキシ樹脂を得る製造例に関す
るものである。合成例8のノボラック樹脂 130.1g(0.7
OHmol)、エピクロロヒドリン453.3g(4.9mol)、ジメチル
スルホキシド 194.3g を、温度計、攪拌装置、分離管付
きコンデンサーを付けた2リットル4つ口平底フラスコ
に仕込み、48℃、41torrの条件下で48.6%苛性ソーダ水
溶液57.61g(0.7mol)を8時間かけて滴下する。この間、
温度は48℃に保ちながら、共沸するエピクロロヒドリン
と水を冷却液化し、有機層を反応系内に戻しながら反応
させた。反応終了後は、未反応のエピクロロヒドリンを
減圧濃縮により除去し、副生塩とジメチルスルホキシド
を含むエポキシ化物をメチルイソブチルケトンに溶解さ
せ、副生塩とジメチルスルホキシドを温水洗浄により除
去した。減圧下で溶媒を除くことにより、エポキシ樹脂
156.1gを得た。このようにして得られたエポキシ樹脂の
エポキシ当量は、284.0 g/eqであった。赤外吸収スペク
トル測定の結果フェノール性OHの吸収 3200-3600cm-1
消失し、エポキシドの吸収 1240 、910cm -1の吸収を有
することが確認された。
Synthesis Example 9 This synthesis example relates to a production example in which an epoxy resin is obtained by reacting the novolak resin of Synthesis Example 8 with epichlorohydrin. 130.1 g (0.7%) of the novolak resin of Synthesis Example 8
OHmol), 453.3 g (4.9 mol) of epichlorohydrin, and 194.3 g of dimethyl sulfoxide were placed in a 2-liter 4-neck flat-bottomed flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser with a separation tube, under the conditions of 48 ° C and 41 torr. Then, 57.61 g (0.7 mol) of 48.6% aqueous sodium hydroxide solution is added dropwise over 8 hours. During this time,
While maintaining the temperature at 48 ° C., the azeotropic epichlorohydrin and water were cooled and liquefied, and the reaction was performed while returning the organic layer to the reaction system. After the reaction was completed, unreacted epichlorohydrin was removed by concentration under reduced pressure, the epoxidized product containing a byproduct salt and dimethylsulfoxide was dissolved in methyl isobutyl ketone, and the byproduct salt and dimethylsulfoxide were removed by washing with warm water. Epoxy resin by removing the solvent under reduced pressure
156.1 g was obtained. The epoxy equivalent of the epoxy resin thus obtained was 284.0 g / eq. Absorption 3200-3600Cm -1 results phenolic OH infrared absorption spectrum measurement disappeared and it was confirmed that the absorption of epoxide absorption 1240, 910 cm -1.

【0029】合成例10 本合成例は、合成例9で得られたエポキシ樹脂とテトラ
ブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル、およ
びテトラブロモビスフェノールAとの付加反応により、
ブロモ含量が27%の末端エポキシ樹脂を得る方法に関
するものである。合成例9で得られたエポキシ樹脂94.8
g 、テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエー
テル(住友化学工業(株)製、商品名スミエポキシESB-
400T、エポキシ当量403g/eq )85.4g 、テトラブロモビ
スフェノールA 19.8gを、温度計、冷却管および攪拌装
置を付けた300 ml4つ口丸底フラスコに仕込み、 110℃
で加熱溶融させた。トリフェニルホスフィン80mg( 対樹
脂 4 ×10-4wt%)をメチルエチルケトン1.5gに溶解した
液を加え、 110℃で4時間保持しエポキシ基とフェノー
ル性水酸基の付加反応を行った。反応後、系内を90℃ま
で冷却しメチルエチルケトン 50.0gを滴下しながら加え
て樹脂固形分80.17wt%の樹脂溶液247.3gを得た。得られ
た樹脂付加物のエポキシ当量は、425.1 g/eqであった。
Synthetic Example 10 In this Synthetic Example, the addition reaction of the epoxy resin obtained in Synthetic Example 9, the diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, and tetrabromobisphenol A was conducted.
The present invention relates to a method for obtaining a terminal epoxy resin having a bromo content of 27%. Epoxy resin 94.8 obtained in Synthesis Example 9
g, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESB-
400T, epoxy equivalent 403g / eq) 85.4g, and tetrabromobisphenol A 19.8g were charged into a 300 ml four-neck round bottom flask equipped with a thermometer, a cooling tube and a stirrer, and 110 ° C.
It was melted by heating. A solution prepared by dissolving 80 mg of triphenylphosphine (compared to resin 4 × 10 −4 wt%) in 1.5 g of methyl ethyl ketone was added, and the mixture was kept at 110 ° C. for 4 hours to carry out an addition reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group. After the reaction, the system was cooled to 90 ° C. and 50.0 g of methyl ethyl ketone was added dropwise to obtain 247.3 g of a resin solution having a resin solid content of 80.17 wt%. The epoxy equivalent of the obtained resin adduct was 425.1 g / eq.

【0030】合成例11 本合成例は、本発明の樹脂組成物の構成成分であるポリ
シアネート化合物の製造例に関するものである。ビスフ
ェノールA200.0g(0.877mol)、クロルシアン129.1g(2.1
05mol)、アセトン467.0gを温度計、攪拌装置、還流冷却
装置を付けた2リットル4つ口平底セパラブルフラスコ
に仕込み、-3℃で溶解させた。トリエチルアミン186.4g
(1.846mol)を滴下管を用いて2時間かけて滴下した。滴
下後 8℃まで昇温し、1時間保持した。反応液を濾過し
て塩を取り除いた後、水沈させ、濾過、減圧乾燥し、結
晶として目的化合物176.0gを得た。このようにして得ら
れたポリシアネート化合物は、赤外吸収スペクトル測定
の結果フェノール性OHの吸収 3200-3600cm-1は消失し、
シアネートのニトリルの吸収2250cm-1の吸収を有するこ
とが確認された。
Synthesis Example 11 This synthesis example relates to a production example of a polycyanate compound which is a constituent component of the resin composition of the present invention. Bisphenol A 200.0 g (0.877 mol), chlorcyan 129.1 g (2.1
(05 mol) and 467.0 g of acetone were placed in a 2 liter four-necked flat-bottom separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, and dissolved at -3 ° C. Triethylamine 186.4g
(1.846 mol) was added dropwise using a dropping tube over 2 hours. After the dropping, the temperature was raised to 8 ° C. and kept for 1 hour. The reaction solution was filtered to remove salts, then precipitated in water, filtered and dried under reduced pressure to obtain 176.0 g of the desired compound as crystals. The polycyanate compound thus obtained, the absorption of phenolic OH 3200-3600 cm -1 disappeared as a result of infrared absorption spectrum measurement,
It was confirmed that the nitrile had an absorption of 2250 cm -1 .

【0031】合成例12 本合成例は、本発明の樹脂組成物の構成成分であるポリ
シアネート化合物の製造例に関するものである。1,1
−ビス(5−t−ブチル−2−メチル−4−ヒドロキシ
フェニル)ブタン(住友化学工業(株)製、商品名スミ
ライザーBBM-S )200.0g (1.05 OHmol)、アセトン800.0
gを温度計、攪拌装置、還流冷却装置を付けた2リット
ル4つ口平底セパラブルフラスコに仕込み、溶解し、-5
℃に冷却した。クロルシアン77.3g(1.26mol)を加えた
後、トリエチルアミン 111.3g(1.10mol)を反応温度が 0
℃以上にならないように注意しながら1時間で滴下し
た。滴下後2 〜5 ℃まで昇温し、1時間保持した。反応
終了後、クロロホルム500.0gで希釈し、濾過して塩を取
り除いた後、水洗し、溶媒を減圧留去して樹脂状物194.
8gを得た。このようにして得られたポリシアネート化合
物は、赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノール性OH
の吸収 3200-3600cm-1は消失し、シアネートのニトリル
の吸収2270cm-1の吸収を有することが確認された。
Synthesis Example 12 This synthesis example relates to a production example of a polycyanate compound which is a constituent component of the resin composition of the present invention. 1,1
-Bis (5-t-butyl-2-methyl-4-hydroxyphenyl) butane (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumilizer BBM-S) 200.0 g (1.05 OHmol), acetone 800.0
Charge g into a 2 liter 4-neck flat bottom separable flask equipped with a thermometer, stirrer and reflux condenser, dissolve and
Cooled to ° C. Chlorcyan 77.3 g (1.26 mol) was added, and then triethylamine 111.3 g (1.10 mol) was added at a reaction temperature of 0.
The solution was added dropwise over 1 hour, taking care not to exceed ℃. After the dropping, the temperature was raised to 2 to 5 ° C and the temperature was maintained for 1 hour. After the reaction was completed, the mixture was diluted with 500.0 g of chloroform, filtered to remove salts, washed with water, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give a resinous material 194.
8 g were obtained. The polycyanate compound thus obtained showed a phenolic OH as a result of infrared absorption spectrum measurement.
Absorption 3200-3600Cm -1 disappeared, to have absorption in the absorption of a nitrile of cyanate 2270 cm -1 was confirmed.

【0032】実施例1〜8 合成例4、7、10で得られたエポキシ樹脂、テトラブ
ロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル(住友化
学工業(株)製、商品名スミエポキシESB-400T、エポキ
シ当量403 g/eq)、合成例11、12で得られたポリシ
アネート化合物、フェノール付加ポリブタジエン樹脂
(日本石油(株)製、商品名PP-700-300)、2−エチル
−4−メチルイミダゾールおよびナフテン酸亜鉛を表1
に示す割合で配合しメチルエチルケトンに溶解して均一
な樹脂ワニスとした。該ワニスをガラスクロス(商品名
KS-1600S962LP 、鐘紡(株)製)に含浸し、150 ℃の熱
風乾燥器で5 〜10分処理してプリプレグを得た。プリプ
レグ5枚と銅箔(TSTO処理 35 μ厚、古河サーキットホ
イル(株)製)を重ね合わせ、 170℃×50kg/ cm2 ×12
0 分熱プレス成形して1mm厚の銅張り積層板を得た。積
層板の煮沸吸水率、半田耐熱性は JIS-C-6481 に準じて
測定した。ガラス転移温度(Tg)は島津製作所製熱分析
装置DT-30 を用いて熱膨張曲線の変曲点から求めた。室
温の誘電率および誘電正接は横河ヒューレットパッカー
ド社(株)製、4275A Multi-Frequency LCR meterを
用い、誘電率の値はサンプルの静電容量から算出した。
測定結果を表1に示す。
Examples 1 to 8 Epoxy resins obtained in Synthesis Examples 4, 7 and 10, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESB-400T, epoxy equivalent 403 g) / eq), polycyanate compounds obtained in Synthesis Examples 11 and 12, phenol-added polybutadiene resin (manufactured by Nippon Oil Co., Ltd., trade name PP-700-300), 2-ethyl-4-methylimidazole and zinc naphthenate. Table 1
Were mixed in the ratio shown in Table 1 and dissolved in methyl ethyl ketone to obtain a uniform resin varnish. Glass varnish (trade name)
KS-1600S962LP, manufactured by Kanebo Co., Ltd., was impregnated and treated with a hot air dryer at 150 ° C. for 5 to 10 minutes to obtain a prepreg. Five prepregs and copper foil (TSTO treated 35 μm thick, Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) are overlaid, and 170 ℃ × 50kg / cm 2 × 12
It was heat-pressed for 0 minutes to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 1 mm. The boiling water absorption and the solder heat resistance of the laminate were measured according to JIS-C-6481. The glass transition temperature (Tg) was obtained from the inflection point of the thermal expansion curve using a thermal analyzer DT-30 manufactured by Shimadzu Corporation. The dielectric constant and the dielectric loss tangent at room temperature were calculated using Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd.'s 4275A Multi-Frequency LCR meter, and the value of the dielectric constant was calculated from the capacitance of the sample.
Table 1 shows the measurement results.

【0033】実施例9〜10 合成例3で得られたエポキシ樹脂、合成例11、12で
得られたポリシアネート化合物、ジシアンジアミド、2
−エチル−4−メチルイミダゾールおよびナフテン酸亜
鉛を表1に示す割合で配合しメチルエチルケトンとエチ
レングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒に溶解し
て均一な樹脂ワニスとした。該ワニスを用いて実施例1
と同様にして1mm厚の銅張り積層板を得た。またその積
層板物性も実施例1と同様に測定した。測定結果を表2
に示す。
Examples 9 to 10 Epoxy resin obtained in Synthesis Example 3, polycyanate compound obtained in Synthesis Examples 11 and 12, dicyandiamide, 2
-Ethyl-4-methylimidazole and zinc naphthenate were mixed in the proportions shown in Table 1 and dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether to form a uniform resin varnish. Example 1 using the varnish
A 1 mm thick copper clad laminate was obtained in the same manner as in. The physical properties of the laminated plate were also measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the measurement results
Shown in

【0034】比較例1 エポキシ樹脂にブロモ化エポキシ樹脂(住友化学工業
(株)製、商品名スミエポキシESB-500 、エポキシ当量
472g/eq)およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(住友化学工業(株)製、商品名スミエポキシ ESCN-22
0 、エポキシ当量215 g/eq )を用いジシアンジアミド
および2−エチル−4−メチルイミダゾールを表1に示
す割合で配合しメチルエチルケトンとエチレングリコー
ルモノメチルエーテルの混合溶媒に溶解して均一な樹脂
ワニスとした。該ワニスをガラスクロス(商品名KS-160
0S962LP 、鐘紡(株)製)に含浸し、150 ℃の熱風乾燥
器で5 〜10分処理してプリプレグを得た。プリプレグ5
枚と銅箔(TSTO処理 35 μ厚、古河サーキットホイル
(株)製)を重ね合わせ、160 ℃×50kg/ cm2 ×90分熱
プレス成形して1mm厚の銅張り積層板を得た。積層板の
物性を実施例1と同様に測定し結果を表2に示す。
Comparative Example 1 Brominated epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESB-500, epoxy equivalent)
472g / eq) and cresol novolac type epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Sumiepoxy ESCN-22)
0, epoxy equivalent 215 g / eq), dicyandiamide and 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed in the ratio shown in Table 1 and dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether to form a uniform resin varnish. Glass varnish (trade name KS-160)
The prepreg was obtained by impregnating 0S962LP with Kanebo Co., Ltd. and treating with a hot air dryer at 150 ° C. for 5 to 10 minutes. Prepreg 5
The sheet and a copper foil (TSTO-treated 35 μm thick, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.) were overlaid and subjected to hot press molding at 160 ° C. × 50 kg / cm 2 × 90 minutes to obtain a 1 mm thick copper clad laminate. The physical properties of the laminate were measured in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 2.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化樹脂
は誘電特性に優れており、これを用いて成形した銅張り
積層板はこれらの優れた物性のため高速演算処理用の多
層プリント配線板に好適である。
EFFECTS OF THE INVENTION The cured resin of the thermosetting resin composition of the present invention has excellent dielectric properties, and the copper-clad laminate molded using the same has the excellent physical properties described above, and thus has a multilayer print for high-speed arithmetic processing. Suitable for wiring boards.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 73/00 NTB H05K 1/03 610 L 7511−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C08G 73/00 NTB H05K 1/03 610 L 7511-4E

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(1)(A)一般式(1) 【化1】 (式中、nは平均繰り返し数を表し、0以上10以下の
値をとる。R1 は水素原子あるいは炭素数1以上9以下
のアルキル基を表す。Pはそれぞれ独立に、少なくとも
1つは炭素数4以上9以下のアルキル基あるいは炭素数
5以上7以下のシクロアルキル基であり、その他は炭素
数1以上9以下のアルキル基であり、iはそれぞれ独立
に1以上3以下の整数値である。iが2以上の場合、P
は同一環内でそれぞれ同一であっても異なっていてもよ
い。)で表されるエポキシ樹脂と(B)一般式(2) 【化2】 (式中、R2 は水素原子あるいはメチル基を表し、2つ
のR2 は互いに同一であっても異なっていてもよい。
X、X’はハロゲン原子であり、両者は互いに同一であ
っても異なっていてもよい。k、lはそれぞれ独立に1
以上4以下の整数である。)で表される含ハロゲンビス
フェノール化合物とを予め反応させて得た化合物と、
(2)分子内にシアネート基を2個以上有するポリシア
ネート化合物と、(3)エポキシ硬化剤とを必須成分と
し、前記ポリシアネート化合物の含有率が5〜50重量
%である熱硬化性樹脂組成物。
(1) (A) General formula (1): (In the formula, n represents an average number of repetitions and takes a value of 0 or more and 10 or less. R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms. P independently represents at least one carbon atom. An alkyl group having 4 to 9 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, the other is an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, and i is independently an integer value of 1 or more and 3 or less. . If i is 2 or more, P
May be the same or different in the same ring. ) And an epoxy resin (B) represented by the general formula (2) (In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and two R 2 may be the same or different.
X and X ′ are halogen atoms, and they may be the same or different from each other. k and l are 1 independently
It is an integer not less than 4 and not more than 4. ) And a compound obtained by previously reacting with a halogen-containing bisphenol compound represented by
(2) Thermosetting resin composition in which a polycyanate compound having two or more cyanate groups in the molecule and (3) an epoxy curing agent are essential components, and the content of the polycyanate compound is 5 to 50% by weight. Stuff.
【請求項2】請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物の成分
のうち、(2)のポリシアネート化合物が一般式(3) 【化3】 (式中、R3 は水素原子、炭素数1以上5以下のアルキ
ル基あるいは炭素数5以上7以下のシクロアルキル基を
表し、2つのR3 は互いに同一であっても異なっていて
もよい。Q、Q’は炭素数1以上9以下のアルキル基、
炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、炭素数1以上
9以下のアルコキシ基、あるいは炭素数6以上20以下
のアリーロキシ基を表し、両者は互いに同一であっても
異なっていてもよい。j、mはそれぞれ独立に0以上4
以下の整数である。)で表される化合物である熱硬化性
樹脂組成物。
2. The polycyanate compound of (2) among the components of the thermosetting resin composition according to claim 1, is represented by the general formula (3): (In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and two R 3 may be the same or different. Q and Q ′ are alkyl groups having 1 to 9 carbon atoms,
It represents a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. j and m are independently 0 or more and 4
It is the following integer. The thermosetting resin composition which is a compound represented by these.
【請求項3】請求項1または2記載の熱硬化性樹脂組成
物の成分のうち、(3)のエポキシ硬化剤がフェノール
類で変性されたポリブタジエン化合物である熱硬化性樹
脂組成物。
3. A thermosetting resin composition, wherein the epoxy curing agent (3) is a polybutadiene compound modified with phenols, among the components of the thermosetting resin composition according to claim 1 or 2.
【請求項4】請求項1、2または3記載の熱硬化性樹脂
組成物を有機溶剤に溶解せしめ基材に含浸して得られる
プリプレグと銅箔とを加熱成形してなる熱硬化性樹脂銅
張り積層板。
4. A thermosetting resin copper obtained by heat-molding a prepreg obtained by dissolving the thermosetting resin composition according to claim 1, 2 or 3 in an organic solvent and impregnating the base material with a copper foil. Upholstered laminate.
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