KR20160105817A - 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물 - Google Patents

가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20160105817A
KR20160105817A KR1020167019867A KR20167019867A KR20160105817A KR 20160105817 A KR20160105817 A KR 20160105817A KR 1020167019867 A KR1020167019867 A KR 1020167019867A KR 20167019867 A KR20167019867 A KR 20167019867A KR 20160105817 A KR20160105817 A KR 20160105817A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
composition
chlorite
chlorine dioxide
porous material
present
Prior art date
Application number
KR1020167019867A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102275015B1 (ko
Inventor
야스히로 타키가와
코이치 나카하라
다이스케 카토
카즈히코 타구치
카즈키 마츠바라
코시로 소가와
코우이치 타우라
미유세 사카세가와
Original Assignee
다이꼬 야꾸힝 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이꼬 야꾸힝 가부시끼가이샤 filed Critical 다이꼬 야꾸힝 가부시끼가이샤
Publication of KR20160105817A publication Critical patent/KR20160105817A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102275015B1 publication Critical patent/KR102275015B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00—Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02—Oxides of chlorine
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J7/00—Apparatus for generating gases
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122—Incoherent waves
    • B01J19/123—Ultraviolet light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122—Incoherent waves
    • B01J19/127—Sunlight; Visible light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
    • B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
    • B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
    • B01J23/89—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
    • B01J23/8933—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals also combined with metals, or metal oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/8946—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals also combined with metals, or metal oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with alkali or alkaline earth metals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/02—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/39—Photocatalytic properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00—Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02—Oxides of chlorine
    • C01B11/022—Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023—Preparation from chlorites or chlorates
    • C01B11/024—Preparation from chlorites or chlorates from chlorites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0873—Materials to be treated
    • B01J2219/0879—Solid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0873—Materials to be treated
    • B01J2219/0892—Materials to be treated involving catalytically active material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/12—Processes employing electromagnetic waves
    • B01J2219/1203—Incoherent waves

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

(과제) 실용적으로 충분한 양의 이산화염소를 안정적으로 발생시키기 위한 조성물을 제공하는 것.
(해결수단) 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물로서, 상기 조성물이, (A) 아염소산염을 담지시킨 다공질 물질 및 (B) 이산화티탄을 포함하며, 상기 조성물은 고체인 것을 특징으로 하는 조성물을 제공한다.

Description

가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물{COMPOSITION FOR GENERATING CHLORINE DIOXIDE BY IRRADIATION WITH VISIBLE LIGHT}
본 발명은, 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물 및 당해 조성물을 사용하여 이산화염소를 발생시키는 방법에 관한 것이다.
이산화염소 가스는, 저농도(예를 들면, 0.1ppm 이하, 바람직하게는 0.01ppm 이하)에서는 동물의 생체에 대하여 안전한 가스인 한편, 이와 같은 저농도에서도, 세균ㆍ진균ㆍ바이러스 등의 미생물에 대한 실활작용이나, 소취작용 등을 갖는 것으로 알려져 있다. 이러한 특성 때문에, 이산화염소 가스는 환경정화나 식품의 운송시 등에 있어서의 소취, 살균, 바이러스 제거, 곰팡이 방지, 방부 등의 용도로 특히 주목받고 있다.
상기와 같이, 이산화염소 가스는 저농도에서는 동물의 생체에 대하여 안전하며, 다양한 용도로 사용될 수 있다. 그러나, 고농도에서는 동물의 생체에 유해할 수 있고, 폭발의 위험성도 있기 때문에, 이산화염소 가스를 안정적으로 발생시키기 위한 방법의 개발이 검토되어 왔다.
종래로부터, 아염소산염 수용액이나 고형의 아염소산염에 산을 가함으로써 이산화염소를 발생시키는 방법이 알려져 있다. 그러나, 이러한 방법으로는 반응의 제어가 어렵고, 환경조건이나 가해지는 산의 조건 등에 따라서, 의도치 않게 고농도의 이산화염소 가스가 발생하게 되는 경우가 종종 있었다.
이에, 아염소산염과 흡수성수지로 이루어지는 겔상 조성물에 자외선을 조사하여 이산화염소을 발생시키는 방법(예를 들면, 특허문헌 1)이나, 다공질 담체에 아염소산염 및 알칼리제를 함침시켜 건조시킨 안정화 이산화염소제를 사용하여, 당해 안정화 이산화염소제를 공기와 접촉시킴으로써 이산화염소를 발생시키는 방법이 제안되고 있다(예를 들면, 특허문헌 2).
특허문헌 1: 일본공개특허 2005-224386호 특허문헌 2: 일본공개특허 2011-173758호 공보
본 발명자들은, 이산화염소를 안정적으로 발생시키기 위한 방법에 대하여 검토를 거듭한 결과, 특허문헌 1이나 특허문헌 2에 기재된 방법은, 이산화염소의 발생을 제어할 수는 있으나, 이산화염소의 발생효율이 좋지 않아, 실용적인 양의 이산화염소를 안정적으로 발생시키는 것이 어렵다는 것을 알았다.
또한, 본 발명자들은, 예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 발명과 같이, 고형이나 겔상의 아염소산염에 자외선을 조사하는 타입의 이산화염소 발생방법에 있어서, 이산화염소의 발생효율이 좋지 않은 원인을 규명하였다. 그것은 예상외로, 고형의 아염소산염을 포함하는 약제에 자외선을 조사하면, 이산화염소 뿐만 아니라, 오존까지 발생하여, 이 오존이 이산화염소와 간섭함으로써, 전체로서 발생하는 이산화염소의 양이 감소하는 것을 알아냈다(본 명세서의 시험예 1 및 도 3을 참조).
본 발명자들은 상기 알아낸 사실에 기초하여, 고형의 아염소산염을 포함하는 조성물을 이상화염소의 발생원으로서 사용하는 방법에 있어서, 오존의 발생을 억제하면서, 전체로서 발생하는 이산화염소의 양을 증가시키기 위하여, 재차 검토를 거듭하였다. 그 결과, 종래, 고형의 아염소산염으로부터 이산화염소를 발생시키기 위하여 필수적이라 생각되어 왔던 자외선이 아닌, 가시영역의 빛(가시광)을 사용함으로써, 오전의 발생량을 감소시킬 수 있고, 전체로서 이산화염소의 발생량을 실용적인 수준까지 증가시키는 것에 성공하였다. 또한, 자외선보다 에너지가 낮은 가시영역의 빛을 사용함에 따른 반응성의 저하를 보완하기 위하여, 이산화티탄을 혼합함으로써, 아염소산염으로부터 발생하는 이산화염소의 양을 더욱 증가시킬 수 있는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 가시광을 조사함으로써, 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물로서, 상기 조성물이, (A) 아염소산염을 담지시킨 다공질 물질과 (B) 이산화티탄을 포함하며, 상기 조성물은 고체인 것을 특징으로 하는 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 아염소산염과 상기 이산화티탄의 질량비가 1:0.04~0.8인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 조사하는 가시광의 파장이, 360nm~450nm인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 발생하는 이산화염소의 농도가 발생하는 오존의 농도보다 높은 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 다공질 물질이, 세피올라이트, 팔리고르스카이트, 몬모릴로나이트, 실리카겔, 규조토, 제올라이트 및 페라이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 아염소산염이, 아염소산 나트륨, 아염소산 칼륨, 아염소산 리튬, 아염소산 칼슘 및 아염소산 바륨으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'은, 아염소산염을 다공질 물질에 함침시키고, 추가로 건조시킴으로써 얻어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 다공질 물질이, 추가로 알칼리제를 담지하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 알칼리제가, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨 및 탄산리튬으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 아염소산염과 상기 알칼리제의 몰 비가 1:0~0.1~0.7인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 '아염소산염 및 알칼리제를 담지시킨 다공질 물질'은, 아염소산염 및 알칼리제를 동시 또는 순차적으로 다공질 물질에 함침시켜 건조시킴으로써 얻어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 조성물의 일 실시형태에 있어서는, 상기 다공질 물질의 수분함유량이 10중량% 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시형태는, 이산화염소를 발생시키는 방법으로서, 상술한 고형의 조성물 중 어느 하나에 가시광을 조사하는 것을 특징으로 하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 방법의 일 실시형태에 있어서는, 발생하는 이산화염소의 농도가 발생하는 오존의 농도보다 높은 것을 특징으로 한다.
상술한 본 발명의 1 또는 복수의 특징을 임의로 조합한 발명도 본 발명의 범위에 포함되는 것은 물론이다.
본 발명의 조성물을 사용하면, 가시광 영역의 빛의 조사에 의해, 실용적인 양의 이산화염소를 발생시킬 수 있다. 또한, 조사하는 빛의 양을 조절함으로써, 이산화염소의 발생량을 용이하게 조절할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 일 실시형태인 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치의 종단면도를 나타낸다.
도 2은, 본 발명의 일 실시형태인 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치 및 이산화염소 발생용 유닛의 종단면도를 나타낸다.
도 3은, 본 발명의 일 실시형태인 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치에 있어서, 광원부로부터 조사되는 빛의 파장을 변화시킨 경우의 공기 중의 이산화염소 농도 및 오존 농도의 실측값을 나타낸 그래프이다.
도 4는, 도 3에 있어서 이산화염소 농도 및 오존 농도의 실측값 중, 자외영역에서의 측정값의 평균값과, 가시영역에서의 측정값의 평균값을 나타낸 그래프이다.
도 5는, 본 발명의 일 실시형태인 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치에 있어서, 이산화티탄의 형상에 따른 이산화염소 발생량의 변화를 나타낸 그래프이다.
도 6은, 본 발명의 일 실시형태인 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치에 있어서, 전원을 On/Off로 한 경우의 이산화염소 발생량의 변화를 측정한 그래프이다. 도 6 그래프의 종축은 발생량(mg/h)(1눈금은 0.2)을 나타내고, 횡축은 시간(h)(1눈금은 24시간)을 나타낸다.
도 7은, 본 발명의 일 실시형태인 조성물 중의 아염소산염과 이산화티탄의 비율을 변화시킨 경우의 이산화염소 발생량의 변화를 나타낸다.
도 8은, 본 발명의 일 실시형태인 조성물 중의 이산화티탄의 함유량과, 가시광조사에 의해 발생하는 이산화염소 농도 최대값과의 관계를 나타낸다.
도 9는, 본 발명의 일 실시형태인 조성물에 장시간 가시광을 계속 조사한 경우의 이산화염소 발생량의 변화를 나타낸 도면이다.
본 발명은, 일 실시형태에 있어서, 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물로서, (A) 아염소산염을 담지시킨 다공질 물질과 (B) 이산화티탄을 포함하는 고체의 조성물을 제공한다.
본 발명에서 사용되는 아염소산염으로는, 예를 들면, 아염소산 알칼리 금속염이나 아염소산 알칼리 토류 금속염을 들 수 있다. 아염소산 알칼리 금속염으로는, 예를 들면, 아염소산 나트륨, 아염소산 칼륨, 아염소산 리튬을 들 수 있고, 아염소산 알칼리 토류 금속염으로는 아염소산 칼슘, 아염소산 마그네슘, 아염소산 바륨을 들 수 있다. 그 중에서도, 입수가 용이하다는 점에서 아염소산 나트륨, 아염소산 칼륨이 바람직하고, 아염소산 나트륨이 가장 바람직하다. 이들 아염소산염은 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
본 발명에서 사용되는 다공질 물질은, 예를 들면, 세피올라이트, 팔리고르스카이트, 몬모릴로나이트, 실리카겔, 규조토, 제올라이트, 페라이트 등이 사용될 수 있으나, 아염소산염을 분해시키지 않기 위해서, 물에 현탁시킬 경우에 알칼리성을 나타내는 것이 바람직하고, 팔리고르스카이트와 세피올라이트가 보다 바람직하며, 세피올라이트가 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서, 아염소산염을 담지시킨 다공질 물질을 사용하나, 아염소산염을 다공질 물질에 담지시키는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'은, 아염소산염 수용액을 다공질 물질에 함침시켜 건조시킴으로써 얻을 수 있다. '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'의 함수율은 10중량% 이하인 것이 바람직하고, 5중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'은, 어떠한 입자직경의 것도 사용될 수 있으나, 특히 평균입자 직경이 1mm~3mm 인 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'의 평균입자 직경은, 예를 들면, 광학현미경에 의해, 사용되는 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'의 입자직경을 측정하고 총계처리를 행하여 평균값과 표준편차를 계산함으로써 산출할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질' 중의 아염소산염의 농도는, 1중량% 이상에서 유효하나, 25중량%를 초과하면 극물에 해당되기 때문에, 1중량% 이상 25중량% 이하가 바람직하고, 5중량% 이상 20중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 이산화티탄은, 단순히 산화티탄 또는 티타니아라고 불리는 경우도 있다. 본 발명에서 사용되는 이산화티탄은 분상, 입상 등 다양한 형태의 것을 사용할 수 있고, 약제 중의 아염소산염과 이산화티탄의 혼합비율에 따라 당업자가 적절하게 바람직한 형태를 선택할 수 있다. 예를 들면, 약제 중의 이산화티탄의 비율이 비교적 높은 경우에는 입상의 이산화티탄을 선택할 수 있고, 약제 중의 이산화티탄의 비율이 비교적 낮은 경우에는 분상의 이산화티탄을 선택할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
또한, 본 명세서에 있어서, '분상' 또는 '입상'의 대략적인 크기는, 예를 들면, 분상은 평균입자 직경이 0.01mm~1mm 크기의 고형물을 말하고, 입상은 평균입자 직경이 1mm~30mm 크기의 고형물을 말하나, 특별히 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 조성물 중 아염소산염과 이산화티탄의 질량비는 아염소산염:이산화티탄=1:0.04~0.8 일 수 있고, 바람직하게는 1:0.07~0.6 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 1:0.07~0.5 일 수 있다. 본 발명의 조성물 중 이산화티탄의 함유량이 아염소산염 함유량의 1배를 넘는 경우 및 이산화티탄의 함유량이 아염소산염 함유량의 0.04배가 안되는 경우 중, 어느 경우라도 가시광을 조사한 경우에 발생하는 이산화염소의 양은 저하될 수 있다.
본 발명의 조성물에 가시광을 조사하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 임의의 광원을 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용되는 광원은 가시영역의 빛을 단독으로, 혹은 가시영역의 빛을 포함하여 방출하는 것이면 종래 공지의 광원을 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명에서 사용되는 광원으로부터 발생되는 빛의 파장은 가시영역의 빛 파장(360nm~830nm)만으로 한정되지 않고, 자외영역의 빛 파장(~360nm) 및 적외영역의 빛 파장(830nm~)을 포함하는 빛이라도 무방하다. 그러나, 자외영역파장의 빛을 고체의 아염소산염을 포함하는 조성물에 조사하면, 부산물로서 오존이 발생하기 쉽고, 또한, 적외영역 파장의 빛으로는 에너지가 약하기 때문에, 고체의 아염소산염을 포함하는 약제에 조사하여도 발생하는 이산화염소의 양이 적다. 따라서, 본 발명에서 사용되는 광원으로부터 발생되는 빛은 실질적으로 가시영역 파장의 빛으로 이루어지는 것이 바람직하다. 본 발명에서 조성물에 조사되는 가시광은 실질적으로 360nm~450nm 파장의 빛인 것이 바람직하고, 실질적으로 380nm~450nm 또는 360nm~430nm 파장의 빛인 것이 보다 바람직하며, 실질적으로 380nm~430nm 파장의 빛인 것이 가장 바람직하다.
본 발명의 조성물에 조사하는 가시광이 실질적으로 특정의 파장영역의 범위에 포함되는 것은, 공지의 측정기기에 의해 광원으로부터 발생되는 빛의 파장이나 에너지를 공지의 측정기기로 측정함으로서 확인할 수 있다.
본 발명의 조성물에 가시광을 조사하기 위하여 사용되는 광원은, 가시영역 파장의 빛을 발생시키는 것이라면 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면 가시영역의 빛을 발생시키는 램프(백열램프, LED 램프), 칩, 레이저 장치 등, 다양한 것을 사용할 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용되는 알칼리제는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화세슘, 수산화루비듐, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬을 사용할 수 있으나, 바람직하게는 수산화나트륨을 사용할 수 있다. 본 발명의 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'에 알칼리제를 추가로 담지시킴으로써, 본 발명의 조성물의 pH를 조정할 수 있고, 약제 자체의 안정성을 높이며, 빛의 조사를 행하지 않는 보관시 등에서의 불필요한 이산화염소의 방출을 억제할 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용되는 알칼리제의 양은, 아염소산염(mol)에 대하여 0.1 당량 이상 0.7 당량 이하가 적당하고, 바람직하게는 0.1 당량 이상 0.3 당량 이하이다. 0.1 당량 미만으로는 담지된 아염소산염이 상온에서 분해될 염려가 있고, 0.7 당량을 초과하면 안정성은 향상되나, 이산화염소가 발생하기 어려워져 발생 농도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다.
본 발명의 조성물에 있어서, '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'에 알칼리제를 추가로 담지시키는 방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 아염소산염 및 알칼리제를 동시 또는 순차적으로 다공질 물질에 함침시켜 건조시키는 방법을 사용할 수 있다. 또한, 본 명세서에서는 다공질 물질에 아염소산염 수용액 및/또는 알칼리제를 '분무흡착'시켜 건조함으로써, 목적 조성물을 얻을 수 있으나, 본 명세서에서의 용어 '분무흡착'은 용어 '함침'에 포함되는 것으로 한다.
본 발명의 조성물은 가시광의 조사에 의해, 실용적으로 충분한 양의 이산화염소를 발생시키는 수 있을 뿐 아니라, 가시광 조사의 On/Off에 의해 이산화염소의 발생을 용이하게 조절할 수 있기 때문에 이산화염소를 이용하는 다양한 제품이나 용도에 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 실시예에 기재된 장치에 본 발명의 조성물을 적용하여 사용함으로써, 이산화염소 발생장치로 할 수 있다. 이와 같은 이산화염소 발생장치는 아염소산염 수용액이나 겔상의 아염소산염 조성물을 이산화염소 발생원으로 하는 이산화염소 발생장치에 비하여 소형으로 할 수 있다. 또한, 본 발명의 조성물은 고형이기 때문에, 아염소산염 수용액이나 겔상의 아염소산염 조성물을 사용하는 경우에 비하여 이산화염소 발생원이 장치 밖으로 누출될 염려가 적고, 안정성도 높다. 이와 같은 이점을 고려하면, 본 발명의 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치는 가정용이나, 차량용에 적합하게 사용될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 용어는 특정의 실시태양을 설명하기 위해 사용되는 것으로, 발명을 한정하려는 의도가 아니다.
또한, 본 명세서에서 사용되는 '포함하는'이라는 용어는, 문맥상 명백하게 달리 이해하여야 할 경우를 제외하고는 기재된 사항(부재, 스텝, 요소 또는 숫자 등)이 존재함을 의도하는 것으로, 그 이외의 사항(부재, 스텝, 요소 또는 숫자 등)이 존재하는 것을 배제하지 않는다.
달리 정의되지 않는 한, 여기서 사용되는 모든 용어(기술용어 및 과학용어를 포함)는, 본 발명이 속하는 기술의 당업자에 의해 널리 이해되는 것과 같은 의미를 갖는다. 여기서 사용되는 용어는, 다른 정의가 명시되지 않은 한, 본 명세서 및 관련기술분야에서의 의미와 정합적인 의미를 갖는 것으로서 해석되어야 하며, 이상화되거나, 또는 과도하게 형식적인 의미로 해석되어서는 아니된다.
본 발명의 실시태양은 모식도를 참조하여 설명되는 경우가 있으나, 모식도인 경우, 설명을 명확하게 하기 위하여 과장되어 표현되는 경우가 있다.
본 명세서에서, 예를 들면, '1~10w/w%'라고 표현된 경우, 당업자는 당해 표현이 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10w/w% 를 개별적으로 가리키는 것임을 이해한다.
본 명세서에서, 성분함유량이나 수치범위를 나타내는 데에 사용되는 모든 수치는 특별히 명시되지 않는 한, 용어 '약'의 의미를 포함하는 것으로 해석된다. 예를 들면, '10배'는, 특별히 명시되지 않은 한 '약 10배'를 의비하는 것으로 이해된다.
이하에서, 본 발명을 실시예를 참조하여, 보다 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 다양한 태양에 따라 구체화 할 수 있고, 여기에 기재되는 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.
실시예
이산화염소 발생장치
본 발명의 조성물에 가시광을 조사할 때 발생하는 이산화염소의 발생량을 알아보기 위하여, 도 1 및 도 2에 나타낸 이산화염소 발생장치를 사용하였다.
도 1은, 본 시험예에 사용된 이산화염소 발생장치의 약제수납부 및 광원부(이산화염소 발생 유닛)의 내부 구조를 나타낸 종단면도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 이산화염소 발생장치(10)는 약제수납부(11) 및 가시영역의 빛을 발생시키는 광원부(LED 칩(12) 및 조작기판(13))를 구비한다. 약제수납부(11)는 시험용 조성물(14)을 포함한다. 약제수납부(11)는 내부와 외부를 공기가 이동할 수 있도록, 개구부(16)를 구비한다. 이산화염소 발생장치(10)는 장치 외부의 공기를 장치 내로 도입하기 위한 튜브(15)를 구비한다.
튜브(15)로부터 도입된 공기는 개구부(16)를 통하여 약제수납부(11) 내부에 공급된다, 공급된 공기 중에 포함되는 수증기는 시험용 조성물(14) 중의 아염소산염으로 유입된다. 광원부로부터 발생한 가시영역의 빛은 약제수납부(11)의 저면을 투과하여 약제수납부(11) 내부에 존재하는 시험용 조성물(14)에 조사된다. 수증기를 포함한 아염소산염은 조사되는 빛과 반응하여 이산화염소를 발생시킨다. 아염소산염과 함께 시험용 조성물(14)에 포함되는 이산화티탄은 가시영역의 빛이 조사됨으로써, 아염소산염으로부터 이산화염소가 발생하는 반응을 촉진한다. 발생한 이산화염소는 개구부(16)를 통하여 외부로 배출된다.
도 2는, 본 시험예에 사용된 이산화염소 발생장치의 전체 구조를 나타낸 종단면도이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 이산화염소 발생장치(20)는, 이산화염소 발생용 유닛(21)을 내부에 구비한다. 이산화염소 발생장치(20)의 장치 본체(22)는, 장치 외부의 공기를 장치 내부로 도입하기 위한 공기 공급구(23), 및 장치 내부의 공기를 장치 외부로 배출하기 위한 공기 배출구(25)를 구비한다. 또한, 이산화염소 발생장치(20)는 장치 내부로 공기를 효율적으로 도입하기 위하여 팬(24)을 추가로 구비한다.
팬(24)의 구동에 의해, 공기 공급구(23)로부터 장치 본체(22) 내부로 공기가 도입된다. 도입된 공기는 장치 내부에 설치된 이산화염소 발생용 유닛(21)을 통과하여 공기 배출구(25)로 부터 배출된다. 이산화염소 발생용 유닛(21)에서는, 도 1에 기재된 장치와 같은 기구로 이산화염소가 발생하기 때문에, 공기 배출구(25)로 배출되는 공기에는 이산화염소가 포함된다.
시험예 1: 조사하는 빛의 파장에 따른 이산화염소 발생량의 변화
10wt% 아염소산 나트륨 수용액 70g를 100g의 세피올라이트에 분무흡착시켜 건조시킨 후, 추가로 10wt% 수산화 나트륨 수용액 20g를 분무흡착시켜 건조시켰다. 여기에, 티탄 분말에 소성처리를 실시하여 조제한 분상의 이산화티탄 20g를 혼한하여, 본 시험에 사용되는 시험용 조성물로 하였다. 제조한 조성물을 도 1 및 도 2에 기재된 장치에 적용하고, 가시광을 조사함으로써 시험을 행하였다.
이산화염소 발생장치 중의 약제수납부에 상기한 시험용 조성물을 격납하였다. 약제수납부의 개구부로부터 1L/min 으로 약제수납부 내에 공기를 도입하고, LED 칩으로부터 약제수납부 내의 시험용 조성물에 대하여 빛을 조사하였다. LED 칩으로 조사하는 및의 파장을 80nm~430nm 까지 2nm 씩 변화시키고, 이산화염소 발생장치로부터 배출되는 공기에 포함된 이산화염소 농도 및 오존 농도를 측정하였다. 그 결과를 도 3 및 도 4에 나타내었다. 또한, 본 시험예에서는, 주파수 카운터(MCA3000, Tektronix 사), 스펙트럼ㆍ애널라이저(BSA, Agilent Technologies 사), 파장 스위프 광원(TSL-510, Santec 사), 자외선 적산 광량계(UIT-250, Ushio 전기 사), 및 자외선 적산 광량계 수광기(VUV-S172, UVD-C405, Ushio 전기 사)를 사용하였다.
도 3은, 다양한 빛의 파장에 있어서, 공기 중의 이산화염소 농도 및 오존 농도의 실측값을 나타낸 그래프이고, 도 4는, 상기 측정값 중 자외영역(80nm~358nm)에서의 측정값의 평균값과, 가시영역(360nm~430nm)에서의 측정값의 평균값을 비교한 그래프이다. 또한, 도 4에서, 자외영역 및 가시영역에서 이산화염소의 측정값의 평균값은 각각 약 2.25ppm, 약 4.87ppm 이고, 자외영역 및 가시영역에서 오존의 측정값의 평균값은 각각 약 7.04ppm, 약 3.04ppm 였다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 시험용 조성물에 조사하는 빛의 파장을 자외영역으로부터 가시영역에 걸쳐 이동시키면, 공기 중의 오존 농도는 자외영역에서 최대가 되고, 자외영역으로부터 가시영역에 걸쳐 감소해 가는 것으로 나타났다. 한편, 놀랍게도 공기 중의 이산화염소 농도는 자외영역으로부터 가시영역에 걸쳐 상승해 가는 것으로 나타났다. 이 결과로부터, 당업자라면 본 발명에서 바람직하게 사용되는 파장의 범위는, 본 시험예의 측정범위의 상한인 430nm 를 넘어, 예를 들면 적어도 450nm 정도의 파장에서도 문제없이 사용 가능함을 이해할 수 있다.
또한, 도 4에 나타낸 바와 같이, 자외영역과 가시영역에 있어서, 공기 중의 오존 농도 및 이산화염소 농도 각각의 평균값을 비교하면, 오존 농도는 자외영역으로부터 가시영역에 걸쳐 약 43%까지 감소한 반면, 이산화염소 농도는 자외영역으로부터 가시영역에 걸쳐 약 213%까지 상승하였다.
즉, 본 발명의 조성물에 가시영역의 빛을 조사함으로써, 자외영역의 빛을 조사하는 것보다 매우 효율적으로 이산화염소를 발생시킬 수 있음이 증명되었다.
시험예 2: 촉매의 형상에 따른 이산화염소 발생량의 변화
본 시험예에서 사용되는 샘플 1은, 입상의 이산화티탄(티탄을 소성처리하여 제조한 것)을 사용한 이외에는 시험예 1과 같은 방법으로 시험용 조성물을 조제하였다. 본 시험예에서 사용되는 샘플 2 및 샘플 3은, 시험예 1과 같은 방법으로 약제를 조제하였다.
상기한 방법에 따라 제조한 시험용 조성물(샘플 1~3)를 각각 이산화염소 발생장치의 약제수납부에 격납하였다. 샘플 1 및 샘플 2에 대하여는 약제수납부의 개구부로부터 1L/min 으로 장치 내에 공기를 도입하고, 광원부의 LED 칩으로부터 405nm의 빛을 조사하였다. 샘플 3에 대하여는 약제수납부의 개구부로부터 1L/min 으로 장치 내에 공기를 도입하기만 하고, 빛은 조사하지 않았다. 조사 개시로부터 11시간 후까지, 장치로부터 배출된 공기에 포함된 이산화염소 농도를 측정하였다. 샘플 1~3 각각에 대한 측정결과를 도 5에 나타내었다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 샘플 1~3의 어느 것에 있어서도, 저농도의 이산화염소를 매우 장시간에 걸쳐서 지속적으로 방출시킬 수 있음을 알았다. 또한, 놀랍게도, 시험용 조성물 중에 입상의 이산화티탄을 혼합한 경우(샘플 1)가, 시험용 조성물 중에 분상의 이산화티탄을 혼합한 경우(샘플 2)에 비하여, 보다 효율적으로 이산화염소를 발생시킬 수 있음을 알았다.
시험예 3: 이산화염소 발생의 제어성
시험예 1과 같은 방법으로 시험용 조성물을 제조하여, 이산화염소 발생장치의 약제수납부에 격납하였다.
본 발명의 조성물을 포함하는 이산화염소 발생장치에 있어서, 전원을 On/Off로 한 경우(즉, LED 칩으로부터의 빛의 조사, 및 장치로의 공기 공급을 On/Off로 한 경우)의 이산화염소 발생량의 변화를 측정하였다. 그 결과를 도 6에 나타내었다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 조성물은, 가시광의 조사를 개시하면 즉각 이산화염소의 발생이 개시되고, 가시광의 조사를 정지하면 즉각 이산화염소의 발생이 멈추는 것을 알았다. 추가로, 가시관의 조사를 개시하였을 때 급격하게 이산화염소 농도가 상승하는 현상도 관찰되지 않았다. 즉, 본 발명의 조성물은, 이산화염소의 발생에 대하여 높은 제어성을 구비함을 알았다.
시험예 4: 아염소산염과 이산화티탄의 함유 비율에 관한 검토
10wt% 아염소산 나트륨 수용액 70g을 100g의 세피올라이트에 분무흡착시켜 건조시킨 후, 추가로 10wt% 수산화 나트륨 수용액 20g을 분무흡착시켜 건조시켰다. 여기에, 분상의 이산화티탄의 양을 변화시켜 혼합하여, 본 시험예에 사용되는 시험용 조성물로 하였다. 시험용 조성물에의 가시광의 조사는, 시험예 1과 같은 이산화염소 발생장치 및 조사방법으로 행하였다.
도 7은, 본 발명의 조성물 중의 아염소산염과 이산화티탄의 비율을 변화시킨 경우의 이산화염소 발생량 변화를 나타낸 도면이다. 도 7에 나타낸, 조성물 중의 이산화티탄의 함유량(wt%)과, 조성물 중의 아염소산염과 이산화티탄의 질량비와, 가시광 조사개시 1시간 후의 공기에 포한되는 이산화염소 농도(ppm)와의 관계를 표 1에 나타내었다. 또한, 도 8은 본 발명의 조성물 중의 이산화티탄의 함유량과, 가시광 조사에 의해 발생한 이산화염소 농도의 최대값과의 관계를 나타낸다.
Figure pct00001
도 7, 도 8, 표 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 조성물에 가시관능 조사한 경우에 발생하는 이산화염소의 양은 조성물 중의 아염소산염에 대하여 이산화티탄의 질량 비율이 0~약 0.3으로 증가함에 따라 상승하고, 아염소산염에 대한 이산화티탄의 질량 비율이 약 0.3을 초과하면 점점 저하되는 것으로 나타났다. 또한, 조성물 중의 아염소산염에 대한 이산화티탄의 질량 비율이 약 1.0을 초과하면, 이산화티탄을 혼합하지 않는 경우보다도 이산화염소의 발생량이 저하되는 것으로 나타났다.
도 9는, 본 시험의 시험용 조성물에 장시간 가시광을 계속 조사한 경우의 이산화염소 발생량의 변화를 나타낸 도면이다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 장시간에 걸쳐 관찰한 경우에도, 도 7이나, 도 8에 나타낸 결과와 마찬가지로, 본 발명의 조성물에 있어서의 아염소산염와 이산화티탄의 혼합 비율(질량비)을 1.0:0.04~0.8(바람직하게는 1:0.07~0.6, 보다 바람직하게는 1.0:0.07~0.5)로 한 경우에, 혼합 비율을 그 이외의 범위로 한 경우에 비하여 고농도의 이산화염소를 안정적으로 계속 방출할 수 있음이 확인되었다.
10: 이산화염소 발생장치
11: 약제수납부
12: LED 칩
13: 조작기판
14: 시험용 조성물
15: 튜브
16: 개구부
20: 이산화염소 발생장치
21: 이산화염소 발생용 유닛
22: 장치 본체
23: 공기 공급구
24: 팬
25: 공기 배출구

Claims (14)

  1. 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물로서,
    상기 조성물이, (A) 아염소산염을 담지시킨 다공질 물질 및 (B) 이산화티탄을 포함하며,
    상기 조성물은 고체인 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 아염소산염과 상기 이산화티탄의 질량비가 1:0.04~0.8인 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 조사하는 가시광의 파장이, 360nm~450nm인 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    발생하는 이산화염소의 농도가 발생하는 오존의 농도보다 높은 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다공질 물질이, 세피올라이트, 팔리고르스카이트, 몬모릴로나이트, 실리카겔, 규조토, 제올라이트 및 페라이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 아염소산염이, 아염소산 나트륨, 아염소산 칼륨, 아염소산 리튬, 아염소산 칼슘 및 아염소산 바륨으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 '아염소산염을 담지시킨 다공질 물질'은, 아염소산염을 다공질 물질에 함침시키고, 추가로 건조시킴으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다공질 물질이, 추가로 알칼리제를 담지하는 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 알칼리제가, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨 탄산칼륨 및 탄산리튬으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 아염소산염과 상기 알칼리제의 몰 비가 1:0~0.1~0.7인 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  11. 제 8 항 내지 제 10 항에 있어서,
    상기 '아염소산염 및 알칼리제를 담지시킨 다공질 물질'은, 아염소산염 및 알칼리제를 동시 또는 순차적으로 다공질 물질에 함침시켜 건조시킴으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다공질 물질의 수분함유량이 10중량% 이하인 것을 특징으로 하는,
    조성물.
  13. 이산화염소를 발생시키는 방법으로서,
    제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 따른 고형의 조성물에 가시광을 조사하는 것을 특징으로 하는,
    방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    발생하는 이산화염소의 농도가 발생하는 오존의 농도보다 높은 것을 특징으로 하는,
    조성물.
KR1020167019867A 2013-12-27 2014-12-19 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물 KR102275015B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2013-271125 2013-12-27
JP2013271125 2013-12-27
JP2014225833 2014-11-06
JPJP-P-2014-225833 2014-11-06
PCT/JP2014/083669 WO2015098731A1 (ja) 2013-12-27 2014-12-19 可視光を照射することにより二酸化塩素を発生させるための組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160105817A true KR20160105817A (ko) 2016-09-07
KR102275015B1 KR102275015B1 (ko) 2021-07-08

Family

ID=53478589

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167019904A KR102275016B1 (ko) 2013-12-27 2014-12-19 이산화염소 생성을 위한 유닛 및 이산화염소 생성기
KR1020167019867A KR102275015B1 (ko) 2013-12-27 2014-12-19 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167019904A KR102275016B1 (ko) 2013-12-27 2014-12-19 이산화염소 생성을 위한 유닛 및 이산화염소 생성기

Country Status (14)

Country Link
US (1) US10239032B2 (ko)
EP (1) EP3088355B1 (ko)
JP (2) JP6537451B2 (ko)
KR (2) KR102275016B1 (ko)
CN (2) CN105829241B (ko)
AU (1) AU2014371304B2 (ko)
CA (1) CA2934167C (ko)
HK (1) HK1225711A1 (ko)
MY (1) MY178234A (ko)
PH (1) PH12016501108B1 (ko)
RU (1) RU2670839C9 (ko)
SG (1) SG11201604863QA (ko)
TW (2) TWI656888B (ko)
WO (2) WO2015098732A1 (ko)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI754614B (zh) * 2015-06-03 2022-02-11 日商大幸藥品股份有限公司 使空間中之漂浮微生物失活之方法
CN105963747A (zh) * 2016-04-28 2016-09-28 兰州泰坦生物科技有限责任公司 二氧化氯缓释装置及其二氧化氯补充液
CN206846979U (zh) * 2017-01-15 2018-01-05 佛山市顺德区德尔玛电器有限公司 一种具有净化装置的加湿器
CN108782552A (zh) * 2018-08-09 2018-11-13 中昊(大连)化工研究设计院有限公司 二氧化氯缓释片的生产新方法
CN109432478A (zh) * 2018-10-26 2019-03-08 大连理工大学盘锦产业技术研究院 一种室内空气消毒与气态污染物治理装置
KR20210082433A (ko) 2018-10-29 2021-07-05 다이꼬 파마슈티컬 컴퍼니 리미티드 이산화 염소 발생 장치
JP7412007B2 (ja) 2018-10-29 2024-01-12 大幸薬品株式会社 二酸化塩素発生装置
CN114642201A (zh) 2018-11-13 2022-06-21 Csp技术公司 抗微生物气体释放剂及其使用系统和方法
CN110508128A (zh) * 2019-08-26 2019-11-29 李迎九 一种固体空气净化材料的制备及应用
US20220339596A1 (en) * 2019-10-01 2022-10-27 Acenet Inc. Method for producing radicals, method for sterilizing spores, and cancer treatment drug
CN111345315B (zh) * 2020-03-06 2021-12-14 天津清科环保科技有限公司 静电自组装缓释二氧化氯空气净化凝胶及制备方法和应用
TW202146325A (zh) 2020-04-15 2021-12-16 日商大幸藥品股份有限公司 二氧化氯產生裝置及二氧化氯產生方法
US20220081293A1 (en) * 2020-09-16 2022-03-17 Chemtreat, Inc. Porous matrix substrate with chlorite reactant for producing chlorine dioxide
CN113854286B (zh) * 2021-09-18 2022-12-09 湖南大学 一种二氧化氯缓释剂及其制备方法和应用
WO2023136192A1 (ja) * 2022-01-13 2023-07-20 大幸薬品株式会社 二酸化塩素発生装置
CN114847278A (zh) * 2022-06-17 2022-08-05 德镕科技(深圳)有限公司 光激发二氧化氯纳米复合消毒凝胶及其制备和使用方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002543977A (ja) * 1999-05-18 2002-12-24 サウスウエスト・リサーチ・インスティチュート 制御された気体徐放のためのエネルギー活性化組成物
JP2005224386A (ja) 2004-02-12 2005-08-25 Daiichi Seidenki Kk 二酸化塩素ガス消毒装置
JP2011067285A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Wada Kinzoku Kogyo Kk 殺菌性ガス供給装置
JP2011173758A (ja) 2010-02-25 2011-09-08 Daiso Co Ltd 安定化二酸化塩素剤および二酸化塩素の安定した発生方法
JP2012111673A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Cleancare Inc 可視光応答性二酸化塩素発生剤の組成ならびに当該組成による二酸化塩素徐放製品
KR20130018756A (ko) * 2010-03-26 2013-02-25 다이꼬 야꾸힝 가부시끼가이샤 이산화염소 발생장치
KR20140024888A (ko) * 2011-05-31 2014-03-03 다이소 가부시키가이샤 이산화염소제 및 이산화염소의 발생방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7273567B1 (en) * 1999-11-24 2007-09-25 Microactive Corp. Energy-activated compositions for controlled sustained release of a gas
CN101195477A (zh) * 1999-05-18 2008-06-11 西南研究院 用于气体受控持续释放的能量活化组合物
SE521284C2 (sv) * 1999-05-19 2003-10-21 Sandvik Ab Aluminiumoxidbelagt skärverktyg för metallbearbetning
JP2007217239A (ja) * 2006-02-17 2007-08-30 Taiko Pharmaceutical Co Ltd 二酸化塩素発生組成物
US8088300B2 (en) * 2006-06-21 2012-01-03 Basf Corporation Stabilized composition for producing chlorine dioxide
US8000285B2 (en) * 2006-06-29 2011-08-16 Alcatel Lucent Reverse link overload power gain control
MX339736B (es) * 2010-02-05 2016-06-07 Sipka Inc * Sistema y metodo para generar dioxido de cloro.
KR101126363B1 (ko) 2010-04-23 2012-03-23 (주)쎄미시스코 분광기의 입사광 조절장치

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002543977A (ja) * 1999-05-18 2002-12-24 サウスウエスト・リサーチ・インスティチュート 制御された気体徐放のためのエネルギー活性化組成物
JP2005224386A (ja) 2004-02-12 2005-08-25 Daiichi Seidenki Kk 二酸化塩素ガス消毒装置
JP2011067285A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Wada Kinzoku Kogyo Kk 殺菌性ガス供給装置
JP2011173758A (ja) 2010-02-25 2011-09-08 Daiso Co Ltd 安定化二酸化塩素剤および二酸化塩素の安定した発生方法
KR20130018756A (ko) * 2010-03-26 2013-02-25 다이꼬 야꾸힝 가부시끼가이샤 이산화염소 발생장치
JP2012111673A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Cleancare Inc 可視光応答性二酸化塩素発生剤の組成ならびに当該組成による二酸化塩素徐放製品
KR20140024888A (ko) * 2011-05-31 2014-03-03 다이소 가부시키가이샤 이산화염소제 및 이산화염소의 발생방법

Also Published As

Publication number Publication date
TWI635042B (zh) 2018-09-11
SG11201604863QA (en) 2016-07-28
PH12016501108A1 (en) 2016-07-11
JPWO2015098732A1 (ja) 2017-03-23
KR20160102261A (ko) 2016-08-29
CN105849035B (zh) 2018-03-06
AU2014371304A1 (en) 2016-06-16
CA2934167C (en) 2021-12-07
CN105829241A (zh) 2016-08-03
JPWO2015098731A1 (ja) 2017-03-23
MY178234A (en) 2020-10-07
HK1225711A1 (zh) 2017-09-15
RU2016130871A3 (ko) 2018-06-05
EP3088355A1 (en) 2016-11-02
TWI656888B (zh) 2019-04-21
WO2015098732A1 (ja) 2015-07-02
CA2934167A1 (en) 2015-07-02
KR102275015B1 (ko) 2021-07-08
CN105829241B (zh) 2018-10-12
EP3088355B1 (en) 2019-10-02
RU2016130871A (ru) 2018-02-01
JP6537451B2 (ja) 2019-07-03
CN105849035A (zh) 2016-08-10
PH12016501108B1 (en) 2016-07-11
AU2014371304B2 (en) 2017-12-07
EP3088355A4 (en) 2017-06-21
RU2670839C9 (ru) 2018-11-29
RU2670839C2 (ru) 2018-10-25
US10239032B2 (en) 2019-03-26
KR102275016B1 (ko) 2021-07-08
TW201529107A (zh) 2015-08-01
TW201532954A (zh) 2015-09-01
US20170028371A1 (en) 2017-02-02
JP6537452B2 (ja) 2019-07-03
WO2015098731A1 (ja) 2015-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102275015B1 (ko) 가시광을 조사함으로써 이산화염소를 발생시키기 위한 조성물
KR102275014B1 (ko) 이산화염소 발생 장치 및 이산화염소 발생용 유닛
JP5928458B2 (ja) 二酸化塩素剤及び二酸化塩素の発生方法
US10449263B2 (en) Devices for disinfection, deodorization, and/or sterilization of objects
WO2011118447A1 (ja) 二酸化塩素発生装置
CN106241741B (zh) 二氧化氯产生用单元及二氧化氯产生装置
JP6196939B2 (ja) 燻蒸剤
JP5438458B2 (ja) ゲル状二酸化塩素系殺菌消臭剤
US11642425B2 (en) Method for inactivating bacteria or viruses and inactivating apparatus for bacteria or viruses
JP2011045810A (ja) 紫外光源と紫外光活性光触媒による殺菌・消臭システム
KR20180015624A (ko) 공간 중의 부유 미생물을 실활시키는 방법
KR102423077B1 (ko) 고용량의 이산화염소 기체를 흡착할 수 있는 담체를 포함하는 방출 키트 및 그 담체를 제조할 수 있는 제조장치
WO2023136192A1 (ja) 二酸化塩素発生装置
JP2016164099A (ja) 二酸化塩素発生装置および方法
JP2004050131A (ja) 二酸化塩素ガスの発生方法及び発生装置
KR20220129408A (ko) 이산화염소 제조용 겔 및 이를 이용한 이산화염소 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right