KR20160083434A - Cantilever system - Google Patents

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KR20160083434A
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
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Abstract

An embodiment of the present invention relates to a cantilever system which can mount and thermally treat a maximum number of display substrates in a minimum space. More particularly, the cantilever system comprises: support columns which have a length in a vertical direction, and are arranged in a horizontal direction; and a cantilever which has a length in a horizontal direction, and is arranged in a vertical direction while being combined to the support columns to support a substrate.

Description

캔틸레버 시스템{Cantilever system}Cantilever system

본 발명은 캔틸레버 시스템에 관한 것으로서, 최소 공간에 최대 개수의 디스플레이용 기판을 거치하여 열처리할 수 있는 캔틸레버 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a cantilever system, and more particularly, to a cantilever system capable of mounting a maximum number of display substrates on a minimum space for heat treatment.

일반적으로 디스플레이 패널의 제조 공정 중 유리 기판에는 무기물, 유기물 및/또는 반도체 소자의 형성을 위해 다양한 온도 프로파일하에서 다양한 열처리 공정이 수행되고 있다. 이때, 디스플레이 패널의 생산성이 향상되도록, 하나의 공정 챔버 내부에 통상 다수의 유리 기판이 장입된 후 열처리된다.BACKGROUND ART [0002] In general, various heat treatment processes are performed on glass substrates in various manufacturing processes of display panels under various temperature profiles in order to form inorganic materials, organic materials, and / or semiconductor devices. At this time, in order to improve the productivity of the display panel, a plurality of glass substrates are usually charged into one process chamber and then heat-treated.

한편, 최근에는 생산 시설의 층고 제한에 따라 공정 챔버의 높이 역시 제한받고 있으며, 이에 따라 감소된 챔버의 층고에도 불구하고 동일하거나 또는 더 많은 개수의 유리 기판이 장입된 후 열처리될 수 있는 시스템의 개발이 요구되고 있다.In recent years, the height of the process chamber has been limited according to the height limit of the production facility. Accordingly, the development of a system capable of heat-treating the same or a larger number of glass substrates despite the reduced height of the chamber .

본 발명의 해결하고자 하는 기술적 과제는 수직 방향의 길이를 가지며 수평 방향으로 배열된 지지 기둥 및 수평 방향의 길이를 가지며 수직 방향으로 배열된 동시에 상기 지지 기둥에 고정단이 결합되어 기판을 지지하는 캔틸레버를 포함하며, 상기 캔틸레버는 상기 지지 기둥에 결합되는 고정단의 레벨이 조절되도록 형성되는캔틸레버 시스템을 제공하는데 있다.The present invention provides a cantilever having a support column arranged in a horizontal direction and having a length in a vertical direction, a cantilever having a length in a horizontal direction and arranged in a vertical direction and having a fixed end coupled to the support column, And the cantilever is formed to adjust the level of a fixed end coupled to the support column.

또한, 본 발명의 다른 해결하고자 하는 기술적 과제는 최소 공간에 최대 개수의 디스플레이용 기판을 거치하여 열처리할 수 있는 캔틸레버 시스템을 제공하는데 있다.It is another object of the present invention to provide a cantilever system capable of mounting a maximum number of display substrates on a minimum space for heat treatment.

또한, 본 발명의 또 다른 해결하고자 하는 기술적 과제는 우수한 온도 균일도 및 균일한 승온율로 기판을 열처리할 수 있는 캔틸레버 시스템을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a cantilever system capable of heat-treating a substrate with excellent temperature uniformity and a uniform heating rate.

본 발명의 일 실시예에 따른 캔틸레버 시스템은 수직 방향의 길이를 가지며 수평 방향으로 배열된 지지 기둥; 및 수평 방향의 길이를 가지며 수직 방향으로 배열된 동시에 상기 지지 기둥에 고정단이 결합되어 기판을 지지하는 캔틸레버를 포함하며, 상기 캔틸레버는 상기 지지 기둥에 결합되는 고정단의 레벨이 조절됨을 특징으로 한다.A cantilever system according to an embodiment of the present invention includes: a support column having a length in a vertical direction and arranged in a horizontal direction; And a cantilever having a length in a horizontal direction and arranged in a vertical direction and supporting the substrate by being coupled with the support column, wherein the level of the fixed end coupled to the support column is adjusted in the cantilever .

상기 캔틸레버는 원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 또는 다각형의 튜브(tube), 바(bar) 또는 로드(rod) 타입일 수 있다.The cantilever may be of a circular, triangular, square, pentagonal, hexagonal or polygonal tube, bar or rod type.

상기 지지 기둥은 상기 캔틸레버의 하부에서 상기 캔틸레버를 향하여 돌출된 지지 블록을 더 포함할 수 있다. 상기 캔틸레버와 상기 지지 블록 사이에 상기 고정단의 레벨 조절을 위한 레벨 조절 블록이 더 개재될 수 있다. 상기 지지 블록과 상기 캔틸레버 사이에 상기 캔틸레버의 회전 또는 이탈 방지를 위한 회전 이탈 방지 블록이 더 개재될 수 있다. 상기 레벨 조절 블록과 상기 캔틸레버 사이에 상기 캔틸레버의 회전 또는 이탈 방지를 위한 회전 이탈 방지 블록이 더 개재될 수 있다. 상기 레벨 조절 블록 및 회전 이탈 방지 블록에는 상기 캔틸레버를 중심으로 양측 영역에 관통홀이 형성되고, 상기 관통홀에 볼트가 결합되어 상기 지지 블록에 접촉함으로써, 상기 볼트의 결합 깊이에 따라 상기 캔틸레버의 고정단 레벨이 조절될 수 있다.The support column may further include a support block protruding from the lower portion of the cantilever toward the cantilever. A level adjusting block for adjusting the level of the fixed end may further be interposed between the cantilever and the support block. A rotation preventing block for preventing the cantilever from rotating or being separated may further be interposed between the supporting block and the cantilever. And an anti-rotation prevention block for preventing rotation or departure of the cantilever may further be interposed between the level adjusting block and the cantilever. In the level control block and the rotation detent prevention block, through holes are formed in both sides of the cantilever, and the bolts are coupled to the through holes to contact the support block, thereby fixing the cantilever Only the level can be adjusted.

상기 캔틸레버는 상기 기판을 지지하기 위해 형성된 적어도 2개의 지지핀을 더 포함할 수 있다.The cantilever may further include at least two support pins formed to support the substrate.

상기 캔틸레버는 마그네시아(Magnesia), 사파이어(Sapphire), 석영(Quartz), 알루미나(Al2O3), 지르코니아(ZrO2), 실리콘나이트라이트(SiN), 실리콘카바이드(SiC), 붕화질소(BN), 파이렉스(Pyrex) 또는 알루미늄나이트라이트(AlN)로 제조될 수 있다.The cantilevers may be formed of a material selected from the group consisting of Magnesia, Sapphire, Quartz, Al2O3, ZrO2, Silicon Nitride, SiC, BN, Pyrex) or aluminum nitride (AlN).

상기 지지 기둥과 상기 캔틸레버의 사이에는 상기 캔틸레버의 회전 또는 이탈 방지를 위한 회전 이탈 방지 블록이 더 개재될 수 있다. 상기 회전 이탈 방지 블록과 상기 지지 기둥의 사이에 상기 고정단의 레벨 조절을 위한 레벨 조절 블록이 더 개재될 수 있다. 상기 회전 이탈 방지 블록은 상기 캔틸레버와 대응되는 모양의 안착 요홈을 포함할 수 있다. 상기 캔틸레버는 상기 회전 이탈 방지 블록에 결합되는 고정핀을 더 포함할 수 있다. 상기 고정핀은 상기 캔틸레버에 부착되어 직경이 점차 작아지는 제1영역; 및 상기 제1영역으로부터 연장된 직경이 일정한 제2영역을 포함할 수 있다. 상기 회전 이탈 방지 블록은 상기 고정핀과 대응되는 형태의 고정홀을 포함할 수 있다.And an anti-rotation prevention block for preventing rotation or dislocation of the cantilever may further be interposed between the support column and the cantilever. A level adjusting block for adjusting the level of the fixed end may further be interposed between the detachment prevention block and the support column. The anti-rotation block may include a seating groove corresponding to the cantilever. The cantilever may further include a fixing pin coupled to the detachment prevention block. Wherein the fixing pin is attached to the cantilever and has a first area where the diameter gradually decreases; And a second region having a constant diameter extending from the first region. The anti-rotation block may include a fixing hole corresponding to the fixing pin.

상기 캔틸레버는 이물 유입 방지를 위하여 튜브의 자유단 또는 고정단이 밀폐되어 형성될 수 있다.The cantilever may be formed by sealing the free end or the fixed end of the tube to prevent foreign matter from entering the cantilever.

본 발명은 지지 기둥에 지지되는 캔틸레버의 고정단의 레벨을 조절하여 지지되지 않는 자유단이 처지는 것을 최소화하여 상부에 기판이 안정적으로 지지되는 캔틸레버 시스템을 제공한다.The present invention provides a cantilever system in which the level of a fixed end of a cantilever supported on a support column is adjusted so that the free end which is not supported is minimized and the substrate is stably supported on the upper side.

또한, 본 발명은 최소 공간에 최대 개수의 디스플레이용 기판을 거치하여 열처리할 수 있는 캔틸레버 시스템을 제공한다. 즉, 본 발명은 수평 방향으로 배열된 다수의 지지 기둥을 구비하고, 또한 각각의 지지 기둥에 지지 기둥의 길이 방향을 따라 배열된 다수의 캔틸레버를 구비하며, 이러한 캔틸레버 위에 디스플레이용 기판을 거치함으로써, 최소 공간에 최대 개수의 디스플레이용 기판을 수용하여 열처리할 수 있게 된다.The present invention also provides a cantilever system capable of mounting a maximum number of display substrates on a minimum space for heat treatment. That is, the present invention has a plurality of support columns arranged in the horizontal direction, and each support column has a plurality of cantilevers arranged along the longitudinal direction of the support column. By mounting the display substrate on the cantilevers, A maximum number of substrates for display can be accommodated in the minimum space and heat treatment can be performed.

또한, 본 발명은 우수한 온도 균일도 및 균일한 승온율로 기판을 열처리할 수 있는 캔틸레버 시스템을 제공한다. 즉, 본 발명은 캔틸레버에 기판과 최소 면적으로 접촉하는 다수의 지지핀을 구비하는 동시에, 캔틸레버를 감싸는 케이스의 챔버 공간을 최소화함으로써, 디스플레이용 기판에 우수한 온도 균일도 및 균일한 승온율을 제공할 수 있게 된다.In addition, the present invention provides a cantilever system capable of heat-treating a substrate with excellent temperature uniformity and a uniform heating rate. That is, the present invention provides a cantilever having a plurality of support pins contacting a substrate with a minimum area, and at the same time minimizing a chamber space of a case surrounding the cantilever, thereby providing excellent uniformity of temperature and a uniform temperature rise rate .

도 1a 내지 도 1e는 본 발명의 일 실시예에 따른 캔틸레버 시스템을 도시한 사시도, 정면도, 평면도, 좌측면도 및 후면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템 중에서 캔틸레버와 지지 기둥 사이의 관계를 도시한 사시도이다.
도 3a, 도 3b 및 도 3c는 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템 중에서 캔틸레버와 지지 기둥 사이의 결합 관계, 회전 이탈 방지 블록 및 레벨 조절 블록 사이의 결합 관계를 도시한 단면도, 분해 사시도 및 사시도이다.
도 4a, 도 4b 및 도 4c는 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템 중에서 캔틸레버를 도시한 사시도 및 부분 확대 단면도이다.
FIGS. 1A to 1E are a perspective view, a front view, a plan view, a left side view, and a rear view of a cantilever system according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing the relationship between a cantilever and a support column in the cantilever system according to the present invention.
FIGS. 3A, 3B, and 3C are a cross-sectional view, an exploded perspective view, and a perspective view showing a coupling relationship between the cantilever and the support column, a coupling relationship between the rotation separation prevention block and the level adjustment block, in the cantilever system according to the present invention.
4A, 4B and 4C are a perspective view and a partially enlarged cross-sectional view showing a cantilever in a cantilever system according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified into various other forms, It is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more faithful and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

또한, 이하의 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위해 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.In the following drawings, thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of description, and the same reference numerals denote the same elements in the drawings. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상, 단계, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 단계, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a," "an," and "the" include singular forms unless the context clearly dictates otherwise. Also, " comprise "and / or" comprising "when used in this specification are taken to specify the presence of stated features, steps, numbers, operations, elements, elements and / Steps, numbers, operations, elements, elements, and / or groups.

본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안 된다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술한 제1부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제2부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.
Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various elements, components, regions, layers and / or portions, these members, components, regions, layers and / . These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Thus, the first member, component, region, layer or section described below may refer to a second member, component, region, layer or section without departing from the teachings of the present invention.

도 1a 내지 도 1e를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 캔틸레버 시스템(100)에 대한 사시도, 정면도, 평면도, 좌측면도 및 후면도가 도시되어 있다.Referring to FIGS. 1A through 1E, a perspective view, a front view, a plan view, a left side view, and a rear view of a cantilever system 100 according to an embodiment of the present invention are shown.

도 1a 내지 도 1e에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템(100)은 수평 방향으로 배열된 다수의 지지 기둥(110)과, 각각의 지지 기둥(110)을 따라 수직 방향으로 배열된 다수의 캔틸레버(120)를 포함한다. 이러한 캔틸레버(120)에는 디스플레이용 기판(101)이 안착되어 설정된 온도 프로파일에 따라 열처리된다. 또한, 본 발명은 캔틸레버(120)를 수용하며 챔버 공간을 형성하고, 지지 기둥(110)이 휘지 않도록 지지 기둥(110)이 고정되는 케이스(130)를 더 포함한다.1A through 1E, a cantilever system 100 according to the present invention includes a plurality of support columns 110 arranged in a horizontal direction, a plurality of support columns 110 arranged in a vertical direction along respective support columns 110, The cantilever 120 of FIG. The display substrate 101 is placed on the cantilever 120 and heat-treated according to the set temperature profile. The present invention further includes a case 130 that receives the cantilever 120 and forms a chamber space and in which the support pillars 110 are fixed so that the support pillars 110 do not bend.

지지 기둥(110)은 수직(상, 하) 방향의 길이를 가지며 수평(좌,우) 방향을 따라 일정 간격으로 배열되어 있다. 이러한 지지 기둥(110)은 실질적으로 케이스(130)에 결합되어 있다. 즉, 케이스(130)는 전면이 개방된 육면체 형태로서 상면(131), 하면(132), 양쪽의 측면(133,134) 및 이들을 연결하는 후면(135)으로 이루어져 있는데, 상면(131), 하면(132) 및 후면(135)에 지지 기둥(110)이 결합되어 있다. 즉, 지지 기둥(110)의 상단은 상면(131)에, 지지 기둥(110)의 하단은 하면(132)에, 지지 기둥(110)의 길이 방향을 따르는 대부분의 영역은 후면(135)에 결합되어 있다. 따라서, 지지 기둥(110)은 캔틸레버(120)의 하중에 의해 일측(전면 방향)으로 기울지 않게 된다.The support pillars 110 have a length in the vertical (up and down) direction and are arranged at regular intervals along the horizontal (left, right) direction. The supporting pillars 110 are substantially coupled to the case 130. That is, the case 130 has a top face 131, a bottom face 132, two side faces 133 and 134, and a rear face 135 connecting the top face 131 and the bottom face 132, And the support pillars 110 are coupled to the rear surface 135. [ That is, the upper end of the support column 110 is coupled to the upper surface 131, the lower end of the support column 110 is coupled to the lower surface 132, and most of the region along the longitudinal direction of the support column 110 is coupled to the back surface 135 . Therefore, the support column 110 is not tilted at one side (front direction) by the load of the cantilever 120. [

캔틸레버(120)는 수평(전,후) 방향의 길이를 가지며 수직(상,하) 방향을 따라 일정 간격으로 배열된 동시에 고정단이 지지 기둥(110)에 결합되어 있다. 또한, 캔틸레버(120)는 고정단과 반대측인 자유단이 지지되지 않은 상태로 유지된다. 이러한 캔틸레버(120)는 상술한 바와 같이 기판(101)을 지지하여, 기판(101)이 설정된 온도 프로파일대로 열처리되도록 한다. 즉, 캔틸레버(120)에는 상부를 향하여 다수의 지지핀(121)이 형성되어 있는데, 이러한 지지핀(121)에 기판(101)이 안착 및 거치된다.The cantilevers 120 have a length in a horizontal (forward and backward) direction and are arranged at regular intervals along a vertical (up and down) direction, and fixed ends are coupled to the support pillars 110. Further, the cantilever 120 is held in a state in which the free end opposite to the fixed end is not supported. The cantilever 120 supports the substrate 101 as described above, and allows the substrate 101 to be heat-treated in accordance with the set temperature profile. That is, a plurality of support pins 121 are formed on the cantilever 120 so as to face upward, and the substrate 101 is seated and mounted on the support pins 121.

또한, 케이스(130)의 양쪽 측면(133,134)으로부터 캔틸레버(120)를 향하여 지지 돌기(136)가 더 형성되고, 이러한 지지 돌기(136)에는 상부를 향하여 지지핀(137)이 형성되어 있으며, 이러한 지지핀(137)에 의해 기판(101)이 안착 및 거치된다.Supporting protrusions 136 are further formed from both side surfaces 133 and 134 of the case 130 toward the cantilevers 120. Supporting pins 137 are formed on the support protrusions 136 toward the upper side. The substrate 101 is seated and held by the support pin 137.

다시 말하면, 기판(101)은 캔틸레버(120)의 지지핀(121) 및 돌기(136)의 지지핀(137)에 의해 공동으로 지지되어 거치된다.In other words, the substrate 101 is supported and held by the support pin 121 of the cantilever 120 and the support pin 137 of the projection 136 in a cavity.

더불어, 지지 기둥(110)의 대략 상단 및 케이스(130)의 상면(131)에는 캔틸레버(120)의 기움 현상을 확실하게 방지하기 위해 기움 방지 블록(111)이 더 설치될 수 있다. 엄밀히 말하면, 기움 방지 블록(111)의 하단은 지지 기둥(110)의 대략 상부 영역으로서, 캔틸레버(120)가 연장되기 시작하는 영역에 밀착 설치되어 있다. 더불어, 기움 방지 블록(111)의 상단은 도시되지 않은 고정 구조물에 고정된다. 따라서, 기움 방지 블록(111)은 캔틸레버(120)의 하중에 의해 지지 기둥(110)의 대략 상부 영역이 전방으로 휘어지려는 현상을 방지한다.In addition, a protrusion prevention block 111 may be further provided on the upper end of the support column 110 and the upper surface 131 of the case 130 to reliably prevent the cantilever 120 from being squeezed. Strictly speaking, the lower end of the anti-protrusion block 111 is provided in close contact with the region where the cantilever 120 starts to extend, as a substantially upper region of the support column 110. In addition, the upper end of the anti-fog block 111 is fixed to a fixed structure not shown. Therefore, the protrusion prevention block 111 prevents the almost upper region of the support column 110 from being bent forward due to the load of the cantilever 120. [

이와 같이 하여, 본 발명은 최소 공간에 최대 개수의 디스플레이용 기판(101)을 거치하여 열처리할 수 있도록 한다. 즉, 본 발명은 수평 및 수직 방향으로 배열된 다수의 캔틸레버(120)를 채택함으로써, 소위, 글래스 투 글래스 피치(glass to glass pitch)를 최소화하고, 이에 따라 최대 개수의 기판(101)을 수용할 수 있게 된다. 또한, 본 발명은 최소의 공간에 최대 개수의 기판(101)이 수용되도록 함으로써, 우수한 온도 균일도 및 균일한 승온율로 디스플레이용 기판(101)을 열처리할 수 있게 된다. 여기서, 열처리를 위한 히터 구조는 당업자에게 알려져 있으므로, 이에 대한 설명은 생략한다.
In this manner, the present invention allows a maximum number of display substrates 101 to be mounted in a minimum space for heat treatment. That is, the present invention adopts a plurality of cantilevers 120 arranged in the horizontal and vertical directions, thereby minimizing the so-called glass to glass pitch and accordingly accommodating the maximum number of substrates 101 . In addition, according to the present invention, the maximum number of substrates 101 are accommodated in a minimum space, so that the display substrate 101 can be heat-treated with excellent temperature uniformity and a uniform temperature increase rate. Here, the heater structure for heat treatment is known to those skilled in the art, and a description thereof will be omitted.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템(100) 중에서 캔틸레버(120)와 지지 기둥(110)에 대한 사시도가 도시되어 있다. 여기서, 본 발명의 명확한 이해를 위해 공정 챔버를 정의하는 케이스(130) 및 그 주변 구조는 도시하지 않았다.Referring to FIG. 2, there is shown a perspective view of the cantilever 120 and the support pillars 110 in the cantilever system 100 according to the present invention. Here, for the sake of clear understanding of the present invention, the case 130 defining the process chamber and its peripheral structure are not shown.

도 2에 도시된 바와 같이, 지지 기둥(110)은 수직 방향의 길이를 가지며 수평 방향으로 나란하게 배열되어 있다. 또한, 캔틸레버(120)는 수평 방향의 길이를 가지며 수직 방향으로 나란하게 배열되고, 또한 고정단이 지지 기둥(110)에 결합되어 기판(101)을 지지할 수 있도록 되어 있다. 더불어, 기움 방지 블록(111)이 지지 기둥(110)의 상단으로서 캔틸레버(120)가 연장되기 시작하는 근처에 결합되어 있다. 또한, 캔틸레버(120)의 상면에는 상부 방향을 향하여 다수의 지지핀(121)이 형성됨으로써, 기판(101)을 최소의 접촉 영역으로 지지할 수 있도록 되어 있다.As shown in FIG. 2, the support pillars 110 have a length in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction. In addition, the cantilevers 120 have a length in the horizontal direction and are arranged in parallel in the vertical direction, and the fixed ends are coupled to the support pillars 110 to support the substrate 101. In addition, the anti-protrusion block 111 is coupled to the vicinity of the upper end of the support column 110 where the cantilever 120 starts to extend. A plurality of support pins 121 are formed on the upper surface of the cantilever 120 in the upward direction so that the substrate 101 can be supported in a minimum contact area.

이러한 캔틸레버(120)는 열변형 및 열팽창 계수가 상대적으로 작은 세라믹으로 형성됨이 바람직하다. 특히, 캔틸레버(120)는 지지핀(121)의 용접이 가능한 석영 또는 그 등가물로 형성됨이 바람직하나, 본 발명에서 이를 한정하는 것은 아니다.It is preferable that the cantilever 120 is formed of a ceramic having a relatively small thermal deformation and thermal expansion coefficient. In particular, the cantilever 120 is preferably formed of quartz or an equivalent thereof capable of welding the support pin 121, but the present invention is not limited thereto.

좀더 구체적으로 캔틸레버(120) 및/또는 지지핀(121)은 마그네시아(Magnesia), 사파이어(Sapphire), 석영(Quartz), 알루미나(Al2O3), 지르코니아(ZrO2), 실리콘나이트라이트(SiN), 실리콘카바이드(SiC), 붕화질소(BN), 파이렉스(Pyrex), 알루미늄나이트라이트(AlN) 및 그 등가물 중에서 선택된 어느 하나로 제조될 수 있으나, 본 발명에서 이를 한정하는 것은 아니다.More specifically, the cantilever 120 and / or the support pin 121 may be made of a material selected from the group consisting of magnesia, sapphire, quartz, alumina (Al2O3), zirconia (ZrO2), silicon nitride (SiN) (SiC), boron nitride (BN), Pyrex, aluminum nitride (AlN), and the like, but the present invention is not limited thereto.

더불어, 캔틸레버(120)는 속이 비어 있는 대략 원형 튜브 타입으로 형성됨으로써, 중량이 가벼우면서도 일정 강도를 확보할 수 있도록 되어 있다. 더욱이, 캔틸레버는 이물 유입 방지를 위하여 원형 튜브의 한 쪽 부분이 밀폐되어 형성될 수 있다. 즉, 캔틸레버는 고정단 또는 자유단이 밀폐되어 형성될 수 있다.In addition, since the cantilever 120 is formed in a substantially circular tube type hollow, it is possible to secure a constant strength while being light in weight. Moreover, the cantilever may be formed by sealing one part of the circular tube to prevent foreign matter from entering. That is, the cantilever may be formed by sealing the fixed end or the free end.

좀더 구체적으로 캔틸레버(120)는 단면 형태가 원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 또는 다각형이고, 또한 속이 비어 있는 튜브(tube) 또는 속이 꽉찬 바(bar) 또는 로드(rod) 타입일 수 있으나, 본 발명에서 이를 한정하는 것은 아니다.More specifically, the cantilever 120 may have a circular, triangular, square, pentagonal, hexagonal, or polygonal cross-sectional shape and may also be a hollow tube or hollow rod or rod type, The invention is not limited thereto.

이와 같이 하여, 본 발명은 지지 기둥(110)에 수직 방향으로 피치가 최소화된 다수의 캔틸레버(120)가 설치됨으로써, 수직 방향으로 최소의 피치를 갖도록 기판(101)이 안착 또는 장입될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따르면 최근 생산 시설의 층고 제한에 적절한 캔틸레버 시스템(100)을 제공하게 된다. 또한, 캔틸레버(120)에는 상대적으로 직경이 작은 지지핀(121)이 형성됨으로써, 기판(101)과의 접촉 면적이 최소화되고, 이에 따라 기판(101)에는 캔틸레버(120)에 의한 열 전달이 최소화된다. 따라서, 본 발명에 따르면 케이스(130)의 내부 즉, 공정 챔버의 내부에서 균일한 온도 및 승온율로 기판(101)이 열처리될 수 있다.
Thus, the present invention can mount or load the substrate 101 with a minimum pitch in the vertical direction by providing a plurality of cantilevers 120 having pitches minimized in the vertical direction to the support pillars 110. Therefore, according to the present invention, a cantilever system 100 suitable for the floor height limitation of recent production facilities is provided. The support pin 121 having a relatively small diameter is formed in the cantilever 120 so that the contact area with the substrate 101 is minimized and the heat transfer by the cantilever 120 to the substrate 101 is minimized do. Therefore, according to the present invention, the substrate 101 can be heat-treated at a uniform temperature and a temperature increase rate in the interior of the case 130, i.e., inside the process chamber.

도 3a, 도 3b 및 도 3c를 참조하면, 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템(100) 중에서 캔틸레버(120)와 지지 기둥(110) 사이의 결합 관계,회전 이탈 방지 블록(140)과 레벨 조절 블록(150) 사이의 결합 관계에 대한 단면도, 분해 사시도 및 결합 사시도가 도시되어 있다.Referring to FIGS. 3A, 3B and 3C, the cantilever system 100 according to the present invention includes a cantilever 120 and a supporting column 110, a detachment prevention block 140, Sectional view, an exploded perspective view, and a combined perspective view of the coupling relationship between the first embodiment and the second embodiment.

도 3a 내지 도 3c에 도시된 바와 같이, 지지 기둥(110)에는 관통홀(112)이 형성됨으로써, 캔틸레버(120)의 고정단이 지지 기둥(110)의 관통홀(112)에 결합될 수 있다.3A to 3C, the supporting column 110 is formed with the through hole 112 so that the fixed end of the cantilever 120 can be coupled to the through hole 112 of the supporting column 110 .

더불어, 지지 기둥(110)은 캔틸레버(120)의 하부에서 캔틸레버(120)를 향하여 일정 길이 돌출된 지지 블록(113)을 더 포함한다. In addition, the supporting column 110 further includes a support block 113 protruding from the lower portion of the cantilever 120 toward the cantilever 120 by a predetermined length.

이러한 지지 블록(113)의 위에는 캔틸레버(120)의 회전 또는 이탈을 방지하기 위한 회전 이탈 방지 블록(140)이 더 설치될 수 있다. 더욱이, 회전 이탈 방지 블록(140)과 지지 블록(113)의 사이에는 캔틸레버(120)의 레벨 조절을 위한 레벨 조절 블록(150)이 더 개재될 수 있다.On the support block 113, an anti-rotation prevention block 140 for preventing rotation or dislocation of the cantilever 120 may be further installed. Further, a level adjusting block 150 for adjusting the level of the cantilever 120 may further be interposed between the detachment prevention block 140 and the support block 113.

한편, 캔틸레버(120)는 회전 이탈 방지 블록(140)에 결합되어 고정되는 고정핀(122)을 더 포함할 수 있다. 고정핀(122)은 제1영역(122a) 및 제2영역(122b)을 포함하는데, 제1영역(122a)은 캔틸레버(120)에 직접 부착되어 직경이 점차 작아지는 형태로 연장되고, 또한 제2영역(122b)은 제1영역(122a)으로부터 일정한 직경을 가지며 연장된다.Meanwhile, the cantilever 120 may further include a fixing pin 122 coupled to and fixed to the detachment prevention block 140. The fixing pin 122 includes a first region 122a and a second region 122b which are attached directly to the cantilever 120 and extend in such a manner that the diameter gradually decreases, 2 region 122b extends from the first region 122a with a constant diameter.

또한, 회전 이탈 방지 블록(140)은 원형의 캔틸레버(120)와 접촉 면적이 증가하도록 캔틸레버(120)와 대응되는 모양의 안착 요홈(141)을 포함한다. 또한, 회전 이탈 방지 블록(140)은 안착 요홈(141)의 대략 중앙에 고정핀(122)과 대응되는 형태의 고정홀(142)을 포함한다. 이러한 고정홀(142)은 후면 방향이 외측으로 완전히 개방되어 있다.The anti-rotation block 140 includes a seating groove 141 having a shape corresponding to the cantilever 120 to increase the contact area with the circular cantilever 120. Further, the detachment prevention block 140 includes a fixing hole 142 of a shape corresponding to the fixing pin 122 at the center of the seating groove 141. The fixing hole 142 is completely opened outward in the rear direction.

더불어, 회전 이탈 방지 블록(140) 및 레벨 조절 블록(150)은 상술한 안착 요홈(141)을 중심으로 양쪽 영역에 관통홀(143,153)이 형성되어 있으며, 이러한 관통홀(143,153)에 볼트(145)가 관통 및 결합된다. 여기서, 회전 이탈 방지 블록(140)의 관통홀(143)은 내경이 상대적으로 큰 상부 관통홀과, 내경이 상대적으로 작은 하부 관통홀이 서로 연결된 구조이며, 상부 관통홀과 하부 관통홀 사이에 단턱(143a)이 형성됨으로써, 볼트(145)의 머리 부분이 밀착될 수 있도록 되어 있다. 또한, 레벨 조절 블록(150)에 형성되는 관통홀(153)은 내경측에 나사산(154)이 형성되며, 볼트(145)의 나사산과 결합된다. 물론, 회전 이탈 방지 블록(140)의 관통홀(143)에는 나사산이 형성되거나 형성되지 않을 수 있다. 또한, 볼트(145)의 하단은 상술한 지지 블록(113)에 밀착된다. The rotation preventing block 140 and the level adjusting block 150 are formed with through holes 143 and 153 on both sides of the seating groove 141. The through holes 143 and 153 are formed with bolts 145 Are penetrated and coupled. The through hole 143 of the detachment block 140 has a structure in which an upper through hole having a relatively large inner diameter and a lower through hole having a relatively small inner diameter are connected to each other, So that the head portion of the bolt 145 can be closely contacted. The through hole 153 formed in the level adjusting block 150 is formed with a thread 154 on the inner diameter side and is engaged with the thread of the bolt 145. Of course, the through hole 143 of the detachment prevention block 140 may or may not have a thread. The lower end of the bolt 145 is in close contact with the support block 113 described above.

이와 같이 하여, 본 발명은 캔틸레버(120)의 지지핀(121)이 상부를 향하고, 고정핀(122)이 하부를 향하도록 한 상태에서, 캔틸레버(120)의 고정단을 지지 기둥(110)의 관통홀(112)에 결합한다. 이 상태에서, 회전 이탈 방지 블록(140) 및 레벨 조절 블록(150)을 캔틸레버(120)와 지지 블록(113)의 사이에 결합한다. 즉, 캔틸레버(120)의 고정핀(122)이 회전 이탈 방지 블록(140)의 고정홀(142)에 고정되도록 한다. 물론, 이때 회전 이탈 방지 블록(140)의 안착 요홈(141)에 캔틸레버(120)의 대략 고정단이 안착된다. 더욱이, 이때, 회전 이탈 방지 블록(140)의 고정홀(142)은 후면을 향하여 완전히 개방되어 있으므로, 캔틸레버(120)의 고정핀(122)과 회전 이탈 방지 블록(140)의 고정홀(142) 사이의 결합은 간섭없이 양호하게 수행된다.The cantilever 120 is fixed to the supporting column 110 in a state where the supporting pin 121 of the cantilever 120 faces upward and the fixing pin 122 faces downward. And is coupled to the through hole 112. In this state, the detachment prevention block 140 and the level control block 150 are coupled between the cantilever 120 and the support block 113. That is, the fixing pin 122 of the cantilever 120 is fixed to the fixing hole 142 of the detachment prevention block 140. Of course, at this time, the substantially fixed end of the cantilever 120 is seated in the seating groove 141 of the detachment prevention block 140. The fixing hole 142 of the detachment prevention block 140 is completely opened toward the rear surface so that the fixing pin 122 of the cantilever 120 and the fixing hole 142 of the detachment prevention block 140 are fixed to each other, Lt; RTI ID = 0.0 > without interference. ≪ / RTI >

한편, 캔틸레버(120)가 지지 기둥(110)에 결합되고, 또한 회전 이탈 방지 블록(140)에 안착된 후, 상술한 볼트(145)의 조임 횟수를 적절히 조절함으로써, 상술한 캔틸레버(120)의 고정단의 높이 즉, 레벨이 조절될 수 있다. 보다 구체적으로는, 레벨 조절 블록(140)은 볼트(145)가 회전하는 경우에 지지 블록(113)의 상면에 대하여 상대적으로 상하 방향으로 이동된다. 또한, 레벨 조절 블록(150)이 상하 방향으로 이동되는 경우에 회전 이탈 방지 블록(140)도 함께 상하로 이동되며, 캔틸레버(120)의 고정단의 레벨이 조절된다. 이러한 캔틸레버(120)의 레벨 조절을 위해, 실질적으로 지지 기둥(110)에 형성된 관통홀(112)의 직경이 캔틸레버(120)의 외경보다 약간 크게 되어 있다. 캔틸레버(120)는 지지 기둥(110)에 결합되는 고정단측에서 레벨이 조절됨으로써, 고정단의 반대측인 자유단측이 자중에 의하여 아래로 쳐지는 것이 방지된다.
The cantilever 120 is attached to the support column 110 and is mounted on the rotation prevention block 140 and then the number of tightening of the bolt 145 is appropriately adjusted. The height or level of the fixed end can be adjusted. More specifically, the level adjusting block 140 is moved up and down relative to the upper surface of the support block 113 when the bolt 145 rotates. In addition, when the level adjusting block 150 is moved in the vertical direction, the detachment prevention block 140 is also vertically moved, and the level of the fixed end of the cantilever 120 is adjusted. In order to adjust the level of the cantilever 120, the diameter of the through hole 112 formed in the support column 110 is made slightly larger than the outer diameter of the cantilever 120. The level of the cantilever 120 is adjusted on the fixed end side coupled to the support column 110, so that the free end side opposite to the fixed end is prevented from falling down by its own weight.

도 4a, 도 4b 및 도 4c를 참조하면, 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템(100) 중에서 캔틸레버(120)에 대한 사시도 및 부분 확대 단면도가 도시되어 있다.Referring to FIGS. 4A, 4B, and 4C, a perspective view and a partially enlarged cross-sectional view of the cantilever 120 of the cantilever system 100 according to the present invention are shown.

도 4a에 도시된 바와 같이, 캔틸레버(120)는 대략 속이 비어 있는 대략 원통형 튜브 형태이며, 상면에 기판(101)의 지지를 위한 다수의 지지핀(121)이 형성되고, 대략 고정단의 하면에 회전 이탈 방지 블록(140)에 결합을 위한 고정핀(122)이 형성된다.4A, the cantilever 120 is in the form of a substantially cylindrical tube having a hollow interior, and a plurality of support pins 121 for supporting the substrate 101 are formed on the upper surface thereof. A detent pin 122 for engagement is formed in the detachment prevention block 140.

도 4b에 도시된 바와 같이, 지지핀(121)은 일정한 직경을 가지며 상부로 연장되고, 상단은 기판(101)과 최소 접촉을 위해 대략 둥글게 형성되어 있다. 지지핀(121)은 캔틸레버(120)의 전체 길이에서 적어도 2개가 이격되어 형성되며, 바람직하게는 적어도 3개로 형성된다. 따라서, 지지핀(121)은 보다 안정적으로 기판의 하면을 지지할 수 있다. 또한, 도 4c에 도시된 바와 같이, 고정핀(122)은 직경(또는 수평 단면적)이 상대적으로 큰 제1영역(122a)과, 직경(또는 수평 단면적)이 상대적으로 작은 제2영역(122b)을 포함한다. 이러한 고정핀(122)은 상술한 바와 같이 회전 이탈 방지 블록(140)에 결합됨으로써, 캔틸레버(120)가 회전 이탈 방지 블록(140)으로부터 회전되거나 방지되지 않도록 한다.As shown in Fig. 4B, the support pin 121 has a constant diameter and extends upward, and the upper end is formed to be roughly rounded for minimum contact with the substrate 101. As shown in Fig. At least two support pins 121 are formed on the entire length of the cantilever 120, and preferably at least three support pins 121 are formed. Therefore, the support pins 121 can more stably support the lower surface of the substrate. 4C, the fixing pin 122 has a first region 122a having a relatively large diameter (or a horizontal cross-sectional area) and a second region 122b having a relatively small diameter (or horizontal cross-sectional area) . Such a fixing pin 122 is coupled to the detachment prevention block 140 as described above to prevent the cantilever 120 from being rotated or prevented from the detachment prevention block 140. [

이와 같이하여, 본 발명은 최소 공간에 최대 개수의 디스플레이용 기판(101)을 거치하여 열처리할 수 있고, 또한 우수한 온도 균일도 및 균일한 승온율로 기판(101)을 열처리할 수 있는 캔틸레버 시스템(100)을 제공하게 된다.Thus, the present invention can provide a cantilever system 100 capable of heat-treating a substrate 101 with a maximum number of substrates 101 for display in a minimum space and heat-treating the substrate 101 with excellent temperature uniformity and uniform temperature- ).

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템을 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.
It is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but may be modified in various ways within the scope of the present invention as set forth in the following claims It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

100; 본 발명에 따른 캔틸레버 시스템
101; 기판 110; 지지 기둥
111; 기움 방지 블록 112; 관통홀
113; 지지 블록 120; 캔틸레버
121; 지지핀 122; 고정핀
122a; 제1영역 122b; 제2영역
130; 케이스 131; 상면
132; 하면 133,134; 측면
135; 후면 136; 지지 돌기
137; 지지핀 140; 회전 이탈 방지 블록
141; 안착 요홈 142; 고정홀
143; 관통홀 145; 볼트
150; 레벨 조절 블록 153; 관통홀
100; The cantilever system
101; Substrate 110; Support column
111; Anti-thumping block 112; Through hole
113; Support block 120; Cantilever
121; Support pins 122; Fixing pin
122a; A first region 122b; The second region
130; Case 131; Top surface
132; 133,134; side
135; Rear 136; Support projection
137; Support pins 140; Rotation breakaway block
141; A seating groove 142; Fixed hole
143; Through hole 145; volt
150; A level adjustment block 153; Through hole

Claims (16)

수직 방향의 길이를 가지며 수평 방향으로 배열된 지지 기둥; 및
수평 방향의 길이를 가지며 수직 방향으로 배열된 동시에 상기 지지 기둥에 고정단이 결합되어 기판을 지지하는 캔틸레버를 포함하며,
상기 캔틸레버는 상기 지지 기둥에 결합되는 고정단의 레벨이 조절됨을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
A support column having a length in a vertical direction and arranged in a horizontal direction; And
And a cantilever having a length in a horizontal direction and arranged in a vertical direction, and a fixed end coupled to the support column to support the substrate,
Wherein a level of a fixed end coupled to the support column is adjusted in the cantilever.
제 1 항에 있어서,
상기 캔틸레버는 원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 또는 다각형의 튜브(tube), 바(bar) 또는 로드(rod) 타입인 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the cantilever is a tube, bar or rod type of circular, triangular, square, pentagonal, hexagonal or polygonal.
제 1 항에 있어서,
상기 지지 기둥은 상기 캔틸레버의 하부에서 상기 캔틸레버를 향하여 돌출된 지지 블록을 더 포함함을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the support column further comprises a support block protruding from the lower portion of the cantilever toward the cantilever.
제 3 항에 있어서,
상기 캔틸레버와 상기 지지 블록 사이에 상기 고정단의 레벨 조절을 위한 레벨 조절 블록이 더 개재된 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method of claim 3,
And a level adjusting block for adjusting the level of the fixed end is further interposed between the cantilever and the support block.
제 3 항에 있어서,
상기 지지 블록과 상기 캔틸레버 사이에 상기 캔틸레버의 회전 또는 이탈 방지를 위한 회전 이탈 방지 블록이 더 개재된 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method of claim 3,
Further comprising an anti-rotation block for preventing rotation or dislocation of the cantilever between the support block and the cantilever.
제 4 항에 있어서,
상기 레벨 조절 블록과 상기 캔틸레버 사이에 상기 캔틸레버의 회전 또는 이탈 방지를 위한 회전 이탈 방지 블록이 더 개재된 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
5. The method of claim 4,
Further comprising an anti-rotation block for preventing rotation or dislocation of the cantilever between the level adjusting block and the cantilever.
제 6 항에 있어서,
상기 레벨 조절 블록 및 회전 이탈 방지 블록에는 상기 캔틸레버를 중심으로 양측 영역에 관통홀이 형성되고, 상기 관통홀에 볼트가 결합되어 상기 지지 블록에 접촉함으로써, 상기 볼트의 결합 깊이에 따라 상기 캔틸레버의 고정단 레벨이 조절됨을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method according to claim 6,
In the level control block and the rotation detent prevention block, through holes are formed in both sides of the cantilever, and the bolts are coupled to the through holes to contact the support block, thereby fixing the cantilever Wherein the level of the cantilever is adjusted.
제 1 항에 있어서,
상기 캔틸레버는 상기 기판을 지지하기 위해 형성된 적어도 2개의 지지핀을 더 포함함을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the cantilever further comprises at least two support pins formed to support the substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 캔틸레버는 마그네시아(Magnesia), 사파이어(Sapphire), 석영(Quartz), 알루미나(Al2O3), 지르코니아(ZrO2), 실리콘나이트라이트(SiN), 실리콘카바이드(SiC), 붕화질소(BN), 파이렉스(Pyrex) 또는 알루미늄나이트라이트(AlN)로 제조된 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method according to claim 1,
The cantilevers may be formed of a material selected from the group consisting of magnesia, sapphire, quartz, alumina (Al2O3), zirconia (ZrO2), silicon nitride (SiN), silicon carbide (SiC), boron nitride (BN) Pyrex) or aluminum nitride (AlN).
제 1 항에 있어서,
상기 지지 기둥과 상기 캔틸레버의 사이에는 상기 캔틸레버의 회전 또는 이탈 방지를 위한 회전 이탈 방지 블록이 더 개재된 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
The method according to claim 1,
Further comprising an anti-rotation block for preventing rotation or dislocation of the cantilever between the support column and the cantilever.
제 10 항에 있어서,
상기 회전 이탈 방지 블록과 상기 지지 기둥의 사이에 상기 고정단의 레벨 조절을 위한 레벨 조절 블록이 더 개재된 것을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
11. The method of claim 10,
And a level adjusting block for adjusting the level of the fixed end is further interposed between the rotation preventing block and the support column.
제 10 항에 있어서,
상기 회전 이탈 방지 블록은 상기 캔틸레버와 대응되는 모양의 안착 요홈을 포함함을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
11. The method of claim 10,
Wherein the anti-rotation block includes a seating groove corresponding to the cantilever.
제 10 항에 있어서,
상기 캔틸레버는 상기 회전 이탈 방지 블록에 결합되는 고정핀을 더 포함함을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
11. The method of claim 10,
Wherein the cantilever further comprises a fixing pin coupled to the detachment blocking block.
제 13 항에 있어서,
상기 고정핀은
상기 캔틸레버에 부착되어 직경이 점차 작아지는 제1영역; 및
상기 제1영역으로부터 연장된 직경이 일정한 제2영역을 포함함을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
14. The method of claim 13,
The fixing pin
A first region attached to the cantilever and having a smaller diameter; And
And a second region extending from the first region and having a constant diameter.
제 13 항에 있어서,
상기 회전 이탈 방지 블록은 상기 고정핀과 대응되는 형태의 고정홀을 포함함을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
14. The method of claim 13,
Wherein the rotation preventing block includes a fixing hole corresponding to the fixing pin.
제 2 항에 있어서,
상기 캔틸레버는 이물 유입 방지를 위하여 튜브의 자유단 또는 고정단이 밀폐되어 형성됨을 특징으로 하는 캔틸레버 시스템.
3. The method of claim 2,
Wherein the cantilever is formed by sealing a free end or a fixed end of a tube to prevent foreign matter from entering the cantilever.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004146578A (en) * 2002-10-24 2004-05-20 Yodogawa Hu-Tech Kk Substrate support member in cassette, and cassette for substrate
KR20090006175A (en) * 2006-04-07 2009-01-14 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 Substrate cassette
KR20140015972A (en) * 2012-07-27 2014-02-07 주식회사 테라세미콘 Substrate supporting unit and substrate processing apparatus using the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004146578A (en) * 2002-10-24 2004-05-20 Yodogawa Hu-Tech Kk Substrate support member in cassette, and cassette for substrate
KR20090006175A (en) * 2006-04-07 2009-01-14 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 Substrate cassette
KR20140015972A (en) * 2012-07-27 2014-02-07 주식회사 테라세미콘 Substrate supporting unit and substrate processing apparatus using the same

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