KR20160077873A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20160077873A
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 부재; 상기 기판 지지 부재에 지지된 상기 기판으로 처리액을 분사하는 하나 이상의 헤드를 포함하는 헤드 유닛; 상기 헤드 유닛에서 토출되는 처리액의 양을 측정하는 처리액 토출량 측정 유닛을 포함하되, 상기 처리액 토출량 측정 유닛은, 상기 처리액 수용을 위한 공간이 형성되고, 상부에 유입구 및 배기구가 형성된 하우징; 상기 유입구의 아래쪽에 위치되도록 상기 하우징의 내부에 위치되고, 그 상단에 하부보다 양 측면으로 연장된 차폐부가 형성되는 차단부재를 포함한다.

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FDR TREATING SUBSTRATES}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal), PI(Polyimide) 및 CF(Color Filter)등의 액적(Liquid drop)을 토출하는 장치에 관한 것이다.
최근에 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.
컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정을 도포하는 장치로 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다.
종래의 잉크젯 방식의 도포 장치는 전기신호를 물리적인 힘으로 변환하여 작은 노즐을 통하여 액정을 액적의 형태로 토출되도록 하는 구조체이다. 잉크젯 방식의 도포 장치는 처리액이 저장되는 처리액 공급 유닛, 처리액 공급 유닛으로부터 처리액을 공급받아 기판 표면에 처리액을 토출하는 헤드 유닛을 포함한다.
본 발명은 처리액을 효율적으로 토출할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 헤드 유닛에서 토출되는 처리액의 양의 효율적으로 검사할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지 부재; 상기 기판 지지 부재에 지지된 상기 기판으로 처리액을 분사하는 하나 이상의 헤드를 포함하는 헤드 유닛; 상기 헤드 유닛에서 토출되는 처리액의 양을 측정하는 처리액 토출량 측정 유닛을 포함하되, 상기 처리액 토출량 측정 유닛은, 상기 처리액 수용을 위한 공간이 형성되고, 상부에 유입구 및 배기구가 형성된 하우징; 상기 유입구의 아래쪽에 위치되도록 상기 하우징의 내부에 위치되고, 그 상단에 하부보다 양 측면으로 연장된 차폐부가 형성되는 차단부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 차단부재는 상기 차폐부의 아래쪽에 위치된 유도부가 그 하부에 비해 상부의 두께가 얇게 형성될 수 있다.
또한, 상기 차판부재는 상기 유입구의 아래쪽 공간 중 일부에만 제공될 수 있다.
또한, 상기 처리액 토출량 측정 유닛은 상기 배기구와 연결되고 1회 이상 구부러진 형상의 유동 경로를 형성하는 분리부재를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 분리부재는 상부 및 하부가 서로 마주하는 방향으로 구부러진 제 1 분리부 및 제 2 분리부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 1 분리부의 하부는 상기 제 2 분리부의 하부 위쪽에 위치되게 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 처리액을 효율적으로 토출할 수 있는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 헤드 유닛에서 토출되는 처리액의 양의 효율적으로 검사할 수 있는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
도 1은 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 처리액 토출부의 사시도이다.
도 3은 처리액 토출량 측정 유닛의 사시도이다.
도 4는 커버부가 제거된 상태의 처리액 토출량 측정 유닛의 사시도이다.
도 5는 처리액 토출 유닛의 단면도이다.
도 6은 하우징 내측에서 형성되는 유동 경로를 나타내는 도면이다.
도 7은 처리액 토출량 측정 유닛에서 처리액이 제거되는 상태를 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 처리액 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 처리액 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 처리액 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 처리액 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 처리액 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치될 수 있다. 처리액 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 처리액 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치될 수 있다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 처리액 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
처리액이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 처리액 토출부(10)로 이송한다. 처리액 토출부(10)는 처리액 공급부(50)로부터 처리액을 공급받고, 잉크젯 방식으로 기판상에 처리액을 토출한다. 처리액 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 처리액 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 처리액이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 처리액 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 처리액 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 처리액 토출부의 사시도이다.
도 2를 참조하면, 기판 처리 장치의 처리액 토출부는 베이스(B), 기판 지지 부재(110), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 헤드 유닛(400), 헤드 이동 유닛(500), 처리액 공급 유닛(600), 제어 유닛(700), 처리액 토출량 측정 유닛(800), 노즐 검사 유닛(900), 그리고 헤드 세정 유닛(1000)을 포함한다.
기판 지지 부재(110)는 베이스(B)의 상면에 배치된다. 베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 기판 지지 부재(110)는 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.
지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 처리액이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치된다. 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 헤드 유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 헤드 유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.
갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(200)의 회전에 의해, 헤드 유닛(400) 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬될 수 있다.
헤드 유닛(400)은 처리액 공급 유닛(600)에서 공급되는 처리액의 액적을 기판에 토출한다. 헤드 유닛(400)은 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)이 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 헤드 유닛(400)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.
헤드 유닛(400)의 저면에는 처리액의 액적을 토출하는 토출부(4110)들이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 토출부(4110)들이 제공될 수 있다. 토출부(4110)들은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 토출부(4110)들은 ㎍ 단위의 양으로 처리액을 토출할 수 있다.
각각의 헤드 유닛(400)에는 토출부(4110)들에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 토출부(4110)들의 액적 토출량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)이 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 유닛(500) 또한 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 유닛(500)은 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 헤드 유닛(400)은 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400)을 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키거나, 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킬 수 있다.
제어 유닛(700)은 헤드 이동 유닛(500)에 설치되어 헤드 유닛(400)으로의 처리액 공급, 압력 제어 그리고 토출량 제어 등의 동작을 제어한다.
도 3은 처리액 토출량 측정 유닛의 사시도이고, 도 4는 커버부가 제거된 상태의 처리액 토출량 측정 유닛의 사시도이다.
처리액 토출량 측정 유닛(800)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 처리액 토출량을 측정한다. 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 처리액 토출량 측정을 통해, 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 토출부(4110)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 처리액 토출량이 기준치를 벗어나면, 토출부(4110)들 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다. 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 처리액 토출량 측정 유닛(800)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)과 처리액 토출량 측정 유닛(800)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 처리액 토출량 측정 유닛(800)은 하우징(8100), 분리부재(8200) 및 차단부재(8300)를 포함한다.
하우징(8100)은 헤드 유닛(400)에서 토출 된 처리액을 수용하도록 제공된다. 하우징(8100)은 무게 변화를 통해 수용된 처리액의 양을 감지 가능하게 제공될 수 있다. 하우징(8100)은 내측에 처리액 수용을 위한 공간이 형성된 컵 형상으로 제공될 수 있다. 하우징(8100)의 상부에는 커버부(8110)가 제공될 수 있다. 커버부(8110)는 하우징(8100)의 상부를 차폐하여 헤드 유닛(400)에서 하우징(8100)의 내부 공간으로 토출된 처리액의 미세 입자가 외부로 유출되는 것을 차단할 수 있다. 커버부(8110)에는 유입구(8111) 및 배기구(8112)가 형성된다. 유입구(8111)는 처리액 토출 시 헤드 유닛(400)과 상하로 정렬되어, 헤드 유닛(400)에서 토출된 액적이 하우징(8100)의 내부로 유입되게 한다. 유입구(8111)는 커버부(8110)의 중앙 영역에 형성될 수 있다. 배기구(8112)는 하우징(8100) 내부의 공기 또는 가스가 외부로 배출되는 경로를 제공한다. 배기구(8112)는 유입구(8111)의 외측에 하나 이상 형성될 수 있다.
도 5는 토출 헤드가 위치된 상태의 처리액 토출 유닛의 단면도이고, 도 6은 하우징 내측에서 형성되는 유동 경로를 나타내는 도면이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 분리부재(8200)는 배기구(8112)로 배출되는 공기 또는 가스에 포함된 처리액의 미세 입자를 걸러 낸다. 분리부재(8200)는 배기구(8112)의 아래쪽에 위치되도록 커버부(8110)의 하면 또는 하우징(8100)의 내측벽에 고정될 수 있다. 분리부재(8200)는 배기구(8112)와 연결되고, 1회 이상 구부러진 형상의 공기 또는 가스의 유동 경로를 제공한다. 예를 들어, 분리부재(8200)는 상부 및 하부가 서로 마주하는 방향으로 구부러진 제 1 분리부(8210) 및 제 2 분리부(8220)를 포함할 수 있다. 그리고, 제 1 분리부(8210)와 제 2 분리부(8220)는 제 3 방향으로의 길이가 상이하게 제공되어, 제 1 분리부(8210)의 하부가 제 2 분리부(8220)의 하부 위쪽에 위치되어, 4회 구부러진 형상의 유동 경로가 형성될 수 있다. 제 1 분리부(8210)와 제 2 분리부(8220)의 상단은 각각 배기구(8112)의 양측에 각각 위치될 수 있다. 배기구(8112)를 향하는 공기 또는 가스는 유동 과정에서 분리부재(8200)와 접촉이 발생된다. 따라서, 공기 또는 가스에 포함된 처리액의 미세 입자는 유동 경로의 측벽과의 충돌 또는 유동 경로의 측벽과 작용하는 장력에 의해 분리부재(8200)에 부착되어 걸러질 수 있다.
차단부재(8300)는 유입구(8111)로 배출되는 공기 또는 가스에 포함된 처리액의 미세 입자를 걸러 낸다. 차단부재(8300)는 유입구(8111)의 아래쪽에 위치되도록 제공된다. 차단부재(8300)는 헤드 유닛 하부(4100)에서 처리액이 토출되는 영역의 아래쪽에서 이격되게 위치된다. 예를 들어 헤드 유닛 하부(4100)에 2열을 토출부(4110)가 제공될 때, 차단부재(8300)는 토출부(4110)사이 영역의 아래쪽에 위치되게 제공될 수 있다. 차단부재(8300)의 유도부(8310) 및 차폐부(8320)를 포함한다.
유도부(8310)는 하우징(8100)의 내측 하면에서 위쪽 방향으로 연장되게 형성된다. 유도부(8310)는 하우징(8100)의 하부에서 형성된 공기 또는 가스의 유동 경로가 차단부재(8300)의 상부를 향하도록 유도한다. 유도부(8310)는 하부에 비해 상부의 두께가 얇게 형성될 수 있다. 따라서, 하우징(8100) 내부를 유동하는 공기 또는 가스의 흐름이 보다 원활하게 차단부재(8300)의 상단으로 유도될 수 있다.
차폐부(8320)는 유도부(8310)의 상단에서 양 측면으로 설정거리 연장되게 형성된다. 유도부(8310)에 의해 유도된 공기 또는 가스는 차폐부(8320)의 하면과 충돌하여, 이 때 공기 또는 가스에 포함된 액적의 미세 입자는 서로 뭉쳐서 떨어지거나 차폐부(8320)에 부착될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 처리액 토출량 측정 유닛(800)으로 토출된 후 다시 외부로 배출되는 처리액의 양이 최소화 될 수 있다. 따라서, 처리액 토출량 측정 유닛(800)은 토출 헤드(400)에서 토출되는 처리액의 량을 효율적으로 측정할 수 있다.
도 7은 처리액 토출량 측정 유닛에서 처리액이 제거되는 상태를 나타내는 도면이다.
도 7을 참조하면, 차단부재(8300)는 유입구(8111)의 아래쪽 공간 중 일부에만 제공될 수 있다. 일 예로, 차단부재(8300)는 유입구(8111)의 양측에 각각 위치될 수 있다.
처리액 토출량 측정 유닛(800)은 사용 후 다시 사용되기 전에 내부에 수용된 처리액이 제거될 수 있다. 일 예로, 처리액 토출량 측정 유닛(800)은 유입구(8111)로 투입되는 하나 이상의 배관(P)을 통해 하우징(8100) 내부로 세정을 위한 액을 공급받거나 내부에 수용된 세정을 위한 액 또는 처리액이 배출된다. 이때, 배관은 차단부재(8300)가 제공되지 않는 영역을 통해 하우징(8100)의 내측 하면 까지 투입될 수 있다.
노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)에 제공된 개별 토출부(4110)의 이상 유무를 확인한다. 처리액 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 토출부(4110)의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 토출부(4110)에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 토출부(4110)의 이상 유무를 확인하면서 토출부(4110)에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.
노즐 검사 유닛(900)은 베이스(B) 상의 기판 지지 부재(100) 일측에 배치될 수 있다. 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 노즐 검사 유닛(900)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)과 노즐 검사 유닛(900)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
헤드 세정 유닛(1000)은 퍼징(Purging) 공정과 흡입(Suction) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 내부에 수용된 처리액의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 흡입(Suction) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 노즐면에 잔류하는 처리액을 흡입하여 제거하는 공정이다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10: 처리액 토출부 110: 기판 지지 부재
200: 갠트리 300: 갠트리 이동 유닛
400: 헤드 유닛 500: 헤드 이동 유닛
600: 처리액 공급 유닛 700: 제어 유닛
800: 처리액 토출량 측정 유닛 900: 노즐 검사 유닛
1000: 헤드 세정 유닛

Claims (6)

  1. 기판을 지지하는 기판 지지 부재;
    상기 기판 지지 부재에 지지된 상기 기판으로 처리액을 분사하는 하나 이상의 헤드를 포함하는 헤드 유닛;
    상기 헤드 유닛에서 토출되는 처리액의 양을 측정하는 처리액 토출량 측정 유닛을 포함하되,
    상기 처리액 토출량 측정 유닛은,
    상기 처리액 수용을 위한 공간이 형성되고, 상부에 유입구 및 배기구가 형성된 하우징;
    상기 유입구의 아래쪽에 위치되도록 상기 하우징의 내부에 위치되고, 그 상단에 하부보다 양 측면으로 연장된 차폐부가 형성되는 차단부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 차단부재는 상기 차폐부의 아래쪽에 위치된 유도부가 그 하부에 비해 상부의 두께가 얇게 형성되는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 차판부재는 상기 유입구의 아래쪽 공간 중 일부에만 제공되는 기판 처리 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리액 토출량 측정 유닛은 상기 배기구와 연결되고 1회 이상 구부러진 형상의 유동 경로를 형성하는 분리부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 분리부재는 상부 및 하부가 서로 마주하는 방향으로 구부러진 제 1 분리부 및 제 2 분리부를 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 분리부의 하부는 상기 제 2 분리부의 하부 위쪽에 위치되게 제공되는 기판 처리 장치.
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