KR101430743B1 - 액정 토출량 측정 유닛, 토출량 측정 방법 및 기판 처리 장치 - Google Patents

액정 토출량 측정 유닛, 토출량 측정 방법 및 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 기판 제조 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 액정(Liquid Crystal), PI(Polyimide) 및 CF(Color Filter)등의 액적(Liquid drop)을 토출하는 헤드의 액정 토출량을 측정하는 액정 토출량 측정 유닛과 이를 이용하여 기판에 액정을 토출하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 기판으로 처리액을 분사하는 복수개의 노즐이 위치하는 노즐 헤드를 포함하는 노즐 유닛 및 상기 노즐에서 토출되는 상기 처리액의 토출량을 측정하는 측정 부재를 가지는 액정 토출량 측정 유닛을 포함하되, 상기 액정 토출량 측정 유닛은 내부에 토출된 처리액이 수용되는 저장 공간을 가지는 회수통과 상기 회수통의 상부에 제공되며, 내부에 복수의 채널이 형성된 몸체와 상기 각각의 채널에 대응되도록 제공되며 상기 각각의 채널을 통해 흐르는 처리액의 양을 측정하는 토출량 측정기를 포함하되, 상기 각각의 채널은 상기 몸체의 상면부터 저면까지 연장되게 형성되고, 상기 채널은 상기 저장 공간과 통하도록 제공된다.

Description

액정 토출량 측정 유닛, 토출량 측정 방법 및 기판 처리 장치{UNIT AND METHOD OF MEASURING DISCHARGING QUANTITY OF LIQUID CRYSTAL AND APPARATUS FDR TREATING SUBSTRATES}
본 발명은 반도체 기판 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 액정(Liquid Crystal), PI(Polyimide) 및 CF(Color Filter)등의 액적(Liquid drop)을 토출하는 헤드의 액정 토출량을 측정하는 액정 토출량 측정 유닛과 이를 이용하여 기판에 액정을 토출하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근에 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.
컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정을 도포하는 장치로 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다.
종래의 잉크젯 방식의 도포 장치는 전기신호를 물리적인 힘으로 변환하여 작은 노즐을 통하여 액정을 액적의 형태로 토출되도록 하는 구조체이다. 잉크젯 방식의 도포 장치는 처리액을 기판 표면에 처리액을 토출하는 헤드 유닛과 헤드 유닛의 액정 토출량을 측정하는 액정 토출량 측정 유닛 등을 포함한다.
종래의 액정 토출량 측정 유닛은 토출량을 측정하기 위해 기판 처리 장치 내부의 토출량 측정 유닛으로 헤드 유닛이 이동되어야 한다. 또한, 단일 액정의 토출량은 다량의 액적 토출량을 측정하여 그 평균값으로 유추하는 방식이므로 정확한 측정이 되지 않는 문제점이 있었다.
본 발명은 헤드 유닛의 액정 토출량 측정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 액정 토출량 측정 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 단일 액적의 토출량을 측정하여 액정 토출량을 정밀하게 측정할 수 있도록 제공하기 위한 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 기판으로 처리액을 분사하는 복수개의 노즐이 위치하는 노즐 헤드를 포함하는 노즐 유닛 및 상기 노즐에서 토출되는 상기 처리액의 토출량을 측정하는 측정 부재를 가지는 액정 토출량 측정 유닛을 포함하되, 상기 액정 토출량 측정 유닛은 내부에 토출된 처리액이 수용되는 저장 공간을 가지는 회수통과 상기 회수통의 상부에 제공되며, 내부에 복수의 채널이 형성된 몸체와 상기 각각의 채널에 대응되도록 제공되며 상기 각각의 채널을 통해 흐르는 처리액의 양을 측정하는 토출량 측정기를 포함하되, 상기 각각의 채널은 상기 몸체의 상면부터 저면까지 연장되게 형성되고, 상기 채널은 상기 저장 공간과 통하도록 제공된다.
상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 저장 공간에 진공을 인가하도록 제공되는 진공 인가 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 토출량 측정기는 상기 몸체 내부에 위치하고, 상기 채널과 수직한 방향으로 연장되어 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제1 토출량 측정기 및 상기 제1 토출량 측정기의 하부에 위치하고, 상기 제1 토출량 측정기와 평행하게 위치하여 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제2 토출량 측정기를 포함할 수 있다.
상기 채널은 상기 노즐의 개수와 동일한 개수가 제공될 수 있다.
상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 기판 지지 부재의 일측에 위치하고, 상기 액정 토출량 측정 유닛을 상기 노즐 유닛으로 이동시키는 이동 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 노즐 헤드에 연결될 수 있는 연결 부재를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 액정 토출량 측정 유닛을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 액정 토출량 측정 유닛은 내부에 토출된 처리액이 수용되는 저장 공간을 가지는 회수통과 상기 회수통의 상부에 제공되며, 내부에 복수의 채널이 형성된 몸체와 상기 각각의 채널에 대응되도록 제공되며 상기 각각의 채널을 통해 흐르는 처리액의 양을 측정하는 토출량 측정기를 포함하되, 상기 각각의 채널은 상기 몸체의 상면부터 저면까지 연장되게 형성되고, 상기 채널은 상기 저장 공간과 통하도록 제공된다.
상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 저장 공간에 진공을 인가하도록 제공되는 진공 인가 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 토출량 측정기는 상기 몸체 내부에 위치하고, 상기 채널과 수직한 방향으로 연장되어 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제1 토출량 측정기 및 상기 제1 토출량 측정기의 하부에 위치하고, 상기 제1 토출량 측정기와 평행하게 위치하여 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제2 토출량 측정기를 포함할 수 있다.
상기 채널은 상기 노즐의 개수와 동일한 개수가 제공될 수 있다.
상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 노즐 헤드에 연결될 수 있는 연결 부재를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 처리액의 토출량 측정 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 토출량 측정 방법은 상기 노즐에서 측정되는 상기 처리액이 토출되는 단계, 상기 처리액이 상기 채널로 진입되는 단계, 상기 채널을 통과하는 상기 처리액이 측정되는 단계 및 상기 처리액이 상기 회수통으로 회수되는 단계를 포함하되, 상기 처리액을 측정하는 단계는 상기 채널의 제1영역의 양단을 통과하는 시간을 측정하고, 이를 통해 상기 처리액의 체적이 측정한다.
상기 처리액이 상기 채널로 진입되는 단계는 상기 채널의 하단에 일정한 진공압을 제공하고, 이를 통하여 상기 처리액이 상기 채널을 이동하도록 제공될 수 있다.
상기 처리액을 측정하는 단계는 상기 처리액이 복수개의 상기 노즐에 의해 각각 토출되고, 상기 각 노즐에서 토출되는 각 처리액이 각각 별개의 채널을 통과되면서 상기 처리액의 체적이 측정될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 헤드 유닛의 액정 토출량 측정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 액정 토출량 측정 유닛과 이를 구비한 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명은 단일 액적의 토출량을 측정하여 액정 토출량을 정밀하게 측정할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 액정 토출부의 사시도이다
도 3은 도 2의 액정 토출량 측정 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 2의 기판 처리 장치를 이용하여 처리액의 토출량을 측정하는 방법에 대한 순서도이다.
도 5 내지 도 9는 도 3의 토출량 측정 유닛을 이용하여 액정 토출량을 측정하는 과정을 보여주는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 액정 토출부(10)의 일 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 2를 참조하면, 기판 처리 장치의 액정 토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 부재(100), 노즐 유닛(2000), 액정 토출량 측정 유닛(800), 노즐 검사 유닛(900), 그리고 헤드 세정 유닛(1000)을 포함한다.
기판 지지 부재(100)는 베이스(B)의 상면에 배치된다. 베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 기판 지지 부재(100)는 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.
지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
노즐 유닛(2000)은 갠트리(200), 갠트리 이동 부재(300), 노즐 헤드(400), 헤드 이동 부재(500), 처리액 저장부(600), 그리고 제어기(700)을 포함한다.
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치된다. 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 노즐 헤드(400)은 헤드 이동 부재(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 노즐 헤드(400)은 헤드 이동 부재(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.
갠트리 이동 부재(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(200)의 회전에 의해, 노즐 헤드(400) 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬될 수 있다.
노즐 헤드(400)는 기판(S)에 처리액의 액적을 토출한다. 노즐 헤드(400)는 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 노즐 헤드(400a, 400b, 400c)가 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 노즐 헤드(400)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.
노즐 헤드(400)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다.
각각의 노즐 헤드(400)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
헤드 이동 부재(500)는 노즐 헤드(400)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 노즐 헤드(400a, 400b, 400c)가 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 부재(500) 또한 노즐 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 부재(500)는 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 노즐 헤드(400)는 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다. 헤드 이동 부재(500)는 노즐 헤드(400)를 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키거나, 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킬 수 있다.
처리액 저장부(600)는 헤드 이동 부재(500)에 설치되고, 노즐 헤드(400)에 공급하는 처리액이 저장된다. 처리액 저장부(600)는 제어기(700)의 제어에 따라 처리액을 노즐 헤드(400)로 공급한다. 처리액 저장부(600)는 노즐 헤드(400)로 일정한 양의 처리액을 공급하기 위해 내부에 처리액을 일정한 양으로 유지하여 저장한다.
제어기(700)는 헤드 이동 부재(500)에 설치되어 노즐 헤드(400)로의 처리액 공급, 압력 제어 그리고 토출량 제어 등의 동작을 제어한다. 일 예에 의하면, 노즐 헤드(400a, 400b, 400c) 중 일부 노즐(411a, 411b, 411c)의 처리액 토출량을 조절하여 기판(S)으로 토출되는 처리액의 경계를 형성하도록 제어할 수 있다.
도 3은 도 2의 토출량 측정 유닛의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 3을 참조하면, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 회수통(810), 몸체(820), 채널(830), 진공 인가 부재(840), 배수 부재(850), 그리고 연결 부재(890)를 포함한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)은 노즐 헤드(400)의 각 노즐에서 토출되는 액정의 양을 측정한다.
종래의 액정 토출량 측정 유닛은 도 2에서와 같이 기판 처리 장치의 베이스(B)의 일측에 위치하여, 노즐 헤드(400)가 갠트리(200)와 함께 이동되어 액정 토출량이 측정 되었다.
그러나 본 발명의 일 실시예에 의하면 액정 토출량 측정 유닛(800)은 헤드 유닛(400)에 직접 연결될 수 있도록 제공된다. 따라서, 액정 토출량 측정 유닛(800)을 헤드 유닛(400)으로 이동시키는 이동 부재(미도시)가 더 포함될 수도 있다.
회수통(810)은 토출량 측정을 위해 헤드 유닛(400)에서 분사된 처리액이 저장된다. 회수통(810)은 내부 공간을 가지는 형상으로 제공된다. 회수통(810)의 바닥면에는 배수 부재(850)가 연결된다. 배수 부재(850)는 회수통(810) 내부로 회수된 처리액이 외부로 배출되도록 한다. 배수 부재(850)는 배수 포트(851)과 배수 라인(852)를 포함한다.
몸체(820)는 회수통(810) 상부에 위치한다. 몸체(820)는 그 바닥면과 회수통(810)의 상면이 접촉되어 위치된다. 몸체(820)의 단면적은 회수통(810)의 단면적보다 적게 제공될 수 있다. 이때, 상부에서 바라볼 때 몸체(820)가 회수통(810)에 겹쳐지도록 제공될 수 있다. 몸체(820)는 내부에 복수개의 채널(830a 내지 830e), 그리고 복수개의 측정기(835, 837)를 포함한다.
채널(830)은 몸체(820) 내부에 제공된다. 채널(830)은 몸체의 상면부터 저면까지 연장되게 형성되고, 채널(830)은 저장 공간과 통하도록 제공된다. 채널(830)은 처리액이 헤드 유닛(400)에서 토출되어 채널(830)을 통해 몸체 내부를 지나 회수통(810)으로 이동될 수 있는 통로를 제공한다. 채널(830)은 헤드 유닛(400)의 노즐 헤드의 노즐(410a 내지 410e)들과 동일한 숫자로 제공될 수 있다. 따라서 채널(830)을 포함하는 몸체(820)는 그 단면적이 노즐 헤드(400)의 단면적보다 크게 제공될 수 있다.
토출량 측정기(835, 837)는 몸체(820) 내부에 제공된다. 토출량 측정기(835, 837)는 제1 토출량 측정기(835)와 제2 토출량 측정기(837)를 포함한다.
제1 토출량 측정기(835)는 몸체(820) 내부에 위치하고, 채널(830)과 수직한 방향으로 연장되어 복수개의 채널(830a 내지 830e) 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공된다. 제2 토출량 측정기(837)는 제1 토출량 측정기(835)의 하부에 위치하고, 제1 토출량 측정기(835)와 평행하게 위치하여 복수개의 상기 채널(830a 내지 830e) 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공된다.
토출량 측정기(835, 837)는 복수개의 채널(830a 내지 830e) 마다 각각 제공된다. 복수개의 채널(830a 내지 830e)은 헤드 유닛(400)의 각각의 노즐(410a 내지 410e)마다 제공되므로, 각각의 노즐(410a 내지 410e)에서 토출되는 단일 액적의 토출량을 정밀하게 측정할 수 있다.
일 예에 의하면, 토출량 측정기(835, 837)는 복수의 채널들(830)이 모두 연결된 형태로 제공될 수 있다. 상부 토출량 측정 센서(835)는 각 채널마다 동일한 위치에 제공되어 몸체(820) 내부에서 각 채널의 제1 토출량 측정기(835)가 모두 연결된 상태로 제공될 수 있다. 또한, 제2 토출량 측정기(837)도 각 채널마다 동일한 위치에 제공되어 몸체(820) 내부에서 각 제2 토출량 측정기(837)가 연결된 상태로 제공될 수 있다. 이를 통해 다수의 채널에서 동시에 액정 토출량을 측정할 수 있다. 또한, 각 채널(830)마다 센서가 제공되어 연속적으로 토출량을 측정할 수 있다.
진공 인가 부재(840)는 회수통(810)에 연결된다. 일 예에 의하면, 진공 인가 부재(840)는 회수통(810)의 상면에 연결될 수 있다. 진공 인가 부재(840)는 연결 포트(841), 압력 제공 라인(842) 및 진공 제공 부재(843)를 포함한다. 연결 포트(841)는 회수통(810)의 상면에 제공된다. 연결 포트(841)는 압력 제공 라인(842)과 연결된다. 압력 제공 라인(842)은 회수통(810)과 진공 제공 부재(843)를 연결한다. 진공 제공 부재(843)는 회수통(810) 내부를 진공 상태로 제공할 수 있는 압력을 제공한다. 진공 제공 부재(843)에서 발생된 압력은 압력 제공 라인(842)을 통하여 회수통(810)으로 인가된다. 회수통(810) 내부가 진공 상태로 되면 채널(830)을 통하여 회수되는 처리액이 채널(830) 상부에서 하부로 이동되도록 하여 토출량을 용이하게 측정할 수 있다. 선택적으로, 진공 인가 부재(840)는 제공되지 않을 수도 있다.
연결 부재(890)는 토출량 측정 유닛(800)과 노즐 헤드(400)를 연결한다. 일 예에 의하면, 연결 부재(890)는 몸체 상단에 제공될 수 있다. 연결 부재(890)는 몸체(820)와 노즐 헤드(400)를 연결한다.
도시되지 않았지만, 액정 토출량 측정 유닛(800) 이동 부재를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 액정 토출량 측정 유닛(800)은 노즐 헤드(400)와 결합되어 액정 토출량을 측정하므로 액정 토출량 측정 유닛(800)을 노즐 헤드(400)로 이동시키는 이동 부재를 더 포함할 수 있다. 선택적으로, 이동 부재는 제공되지 않을 수도 있다.
노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 노즐 헤드(400a, 400b, 400c)에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.
노즐 검사 유닛(900)은 베이스(B) 상의 기판 지지 부재(100) 일측에 배치될 수 있다. 노즐 헤드(400a, 400b, 400c)은 갠트리 이동 부재(300)과 헤드 이동 부재(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 노즐 검사 유닛(900)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 부재(500)는 노즐 헤드(400a, 400b, 400c)를 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 노즐 헤드(400a, 400b, 400c)와 노즐 검사 유닛(900)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
헤드 세정 유닛(1000)은 베이스(B) 상의 기판 지지 부재(100) 일측에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 헤드 세정 유닛(1000)은 노즐 검사 유닛(900)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 나란히 위치할 수 있다. 헤드 세정 유닛(1000)은 액을 분사한 헤드 유닛(400)을 세정한다.
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 장치를 이용하여 처리액의 토출량을 측정하는 방법에 대하여 설명한다.
도 4는 도 2의 기판 처리 장치를 이용하여 처리액의 토출량을 측정하는 방법에 대한 순서도이다.
도 4를 참조하면, 처리액의 토출량을 측정하는 방법은 노즐에서 측정되는 처리액이 토출되는 단계(S10), 처리액이 상기 측정 부재의 채널로 진입되는 단계(S20), 채널을 통과하는 처리액이 측정되는 단계(S30), 그리고 처리액이 측정 부재의 회수통으로 회수되는 단계(S40)를 포함한다.
도 5 내지 도 9는 도 3의 토출량 측정 유닛을 이용하여 액정 토출량을 측정하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 5를 참조하면, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 노즐 헤드(400)로 이동된다. 일반적으로는 노즐 헤드가 액정 토출량 측정 유닛(800)으로 이동하여 토출량을 측정한다. 그러나 본 발명의 실시예에서는 액정 토출량 측정 유닛(800)이 노즐 헤드(400)에 장착되어 처리액의 액정 토출량을 측정한다.
도 6을 참조하면, 노즐에서 측정되는 처리액이 토출되는 단계(S10)를 보여준다. 액정 토출량 측정 유닛(800)은 연결 부재(890)를 통하여 노즐 헤드(400)와 연결된다. 노즐 헤드(400)의 각 노즐(410a 내지 410e)들은 액정 토출량 측정 유닛(800)의 채널들(830a 내지 830e)과 각각 대응된다. 각 노즐(410a 내지 410e)에서 토출되는 처리액의 액정(70)이 각각 대응되는 채널들(830a 내지 830e)로 진입하게 된다. 채널들(830a 내지 830e)로 진입된 액정(70)은 채널들(830a 내지 830e) 하단에서 제공되는 일정한 진공압에 의해 하방으로 이동된다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 처리액이 상기 측정 부재의 채널로 진입되는 단계(S20)와 채널을 통과하는 처리액이 측정되는 단계(S30)를 보여준다. 처리액의 액정(70)은 채널(830) 내부를 통과하면서 제1 토출량 측정기(835)와 제2 토출량 측정기(837)를 차례로 지난다. 제1 토출량 측정기(835)와 제2 토출량 측정기(837) 사이를 제1영역으로 정의하면, 제1영역의 양단을 통과하는 시간을 측정할 수 있다. 채널(830)의 내부 부피는 일정하게 제공된다. 그러므로 채널(830)의 내부 부피와 액정(70)이 제1영역의 양단을 통과하는 시간을 측정하여 처리액의 단일한 액정(70)의 체적을 측정할 수 있다.
일반적으로 액정 토출량 측정 유닛은 다량의 토출된 처리액의 질량을 측정하여 그 평균값을 계산한다. 이는 단일 액정의 부피를 측정할 수 없어 정밀한 측정이 되지 않는 문제가 있다. 또한 각각의 노즐 별로 이상 유무를 알 수 없는 문제점이 있었다.
그러나 본 발명의 일 실시예에서는 각 노즐(410a 내지 410e)마다 처리액의 단일 액정(70)을 측정함으로써, 정밀한 처리액의 토출량 측정이 가능하게 되었다. 또한 연속적인 부피의 측정도 가능하게 되어 토출량 측정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 9를 참조하면, 처리액이 측정 부재의 회수통으로 회수되는 단계(S40)를 보여준다. 액정(70)은 제2 토출량 측정기(837)를 통과한 후 채널(830)에서 회수통(810)으로 이동된다. 액정(70)은 회수통에서 배수 부재(850)를 통하여 액정 토출량 측정 유닛(800)의 외부로 배출될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 액정 토출부 400 : 헤드 유닛
600 : 처리액 공급 유닛 800 : 액정 토출량 측정 유닛
810 : 회수통 830 : 채널
835,837 : 토출량 측정기 840 : 진공 인가 부재
890 : 연결 부재 1000 : 헤드 세정 유닛

Claims (14)

  1. 기판을 지지하는 기판 지지 부재;
    상기 기판으로 처리액을 분사하는 복수개의 노즐이 위치하는 노즐 헤드를 포함하는 노즐 유닛; 및
    상기 노즐에서 토출되는 상기 처리액의 토출량을 측정하는 측정 부재를 가지는 액정 토출량 측정 유닛;을 포함하되,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은
    내부에 토출된 처리액이 수용되는 저장 공간을 가지는 회수통과;
    상기 회수통의 상부에 제공되며, 내부에 복수의 채널이 형성된 몸체와;
    상기 각각의 채널에 대응되도록 제공되며 상기 각각의 채널을 통해 흐르는 처리액의 양을 측정하는 토출량 측정기를 포함하되,
    상기 각각의 채널은 상기 몸체의 상면부터 저면까지 연장되게 형성되고, 상기 채널은 상기 저장 공간과 통하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은
    상기 저장 공간에 진공을 인가하도록 제공되는 진공 인가 부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 토출량 측정기는
    상기 몸체 내부에 위치하고, 상기 채널과 수직한 방향으로 연장되어 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제1 토출량 측정기; 및
    상기 제1 토출량 측정기의 하부에 위치하고, 상기 제1 토출량 측정기와 평행하게 위치하여 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제2 토출량 측정기;를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 채널은 상기 노즐의 개수와 동일한 개수가 제공되는 기판 처리 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은
    상기 기판 지지 부재의 일측에 위치하고, 상기 액정 토출량 측정 유닛을 상기 노즐 유닛으로 이동시키는 이동 부재;를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 노즐 헤드에 연결될 수 있는 연결 부재;를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 노즐에서 토출되는 처리액의 토출량을 측정하는 측정 부재를 가지는 액정 토출량 측정 유닛에 있어서,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은
    내부에 토출된 처리액이 수용되는 저장 공간을 가지는 회수통과;
    상기 회수통의 상부에 제공되며, 내부에 복수의 채널이 형성된 몸체와;
    상기 각각의 채널에 대응되도록 제공되며 상기 각각의 채널을 통해 흐르는 처리액의 양을 측정하는 토출량 측정기를 포함하되,
    상기 각각의 채널은 상기 몸체의 상면부터 저면까지 연장되게 형성되고, 상기 채널은 상기 저장 공간과 통하도록 제공되는 액정 토출량 측정 유닛.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은
    상기 저장 공간에 진공을 인가하도록 제공되는 진공 인가 부재;를 더 포함하는 액정 토출량 측정 유닛.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 토출량 측정기는
    상기 몸체 내부에 위치하고, 상기 채널과 수직한 방향으로 연장되어 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제1 토출량 측정기; 및
    상기 제1 토출량 측정기의 하부에 위치하고, 상기 제1 토출량 측정기와 평행하게 위치하여 복수개의 상기 채널 내부를 통과하는 유체를 측정하도록 제공되는 제2 토출량 측정기;를 포함하는 액정 토출량 측정 유닛.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 채널은 상기 노즐의 개수와 동일한 개수가 제공되는 액정 토출량 측정 유닛.
  11. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액정 토출량 측정 유닛은, 복수개의 상기 노즐이 위치하는 노즐 헤드에 연결될 수 있는 연결 부재;를 더 포함하는 액정 토출량 측정 유닛.
  12. 제1항의 기판 처리 장치에서 처리액의 토출량을 측정하는 방법에 있어서,
    상기 노즐에서 측정되는 상기 처리액이 토출되는 단계;
    상기 처리액이 상기 채널로 진입되는 단계;
    상기 채널을 통과하는 상기 처리액이 측정되는 단계; 및
    상기 처리액이 상기 회수통으로 회수되는 단계;를 포함하되,
    상기 처리액을 측정하는 단계는 상기 채널의 제1영역의 양단을 통과하는 시간을 측정하고, 이를 통해 상기 처리액의 체적이 측정되는 처리액의 토출량 측정 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 처리액이 상기 채널로 진입되는 단계는 상기 채널의 하단에 일정한 진공압을 제공하고, 이를 통하여 상기 처리액이 상기 채널을 이동하도록 제공되는 처리액의 토출량 측정 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 처리액을 측정하는 단계는
    상기 처리액이 복수개의 상기 노즐에 의해 각각 토출되고,
    상기 각 노즐에서 토출되는 각 처리액이 각각 별개의 채널을 통과되면서 상기 처리액의 체적이 측정되는 처리액의 토출량 측정 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101645543B1 (ko) * 2014-05-29 2016-08-16 세메스 주식회사 홈 포트, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090034747A (ko) * 2007-10-03 2009-04-08 세이코 엡슨 가부시키가이샤 토출 방법, 베타막 형성 방법, 배향막 형성 방법, 액정 표시 장치의 형성 방법, 헤드 유닛, 액적 토출 장치 및 전자 기기
KR20110058565A (ko) * 2009-11-26 2011-06-01 세메스 주식회사 액정 토출량 측정 유닛과, 이를 구비한 액정 토출 장치
KR20120007378A (ko) * 2010-07-14 2012-01-20 세메스 주식회사 약액 도포 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090034747A (ko) * 2007-10-03 2009-04-08 세이코 엡슨 가부시키가이샤 토출 방법, 베타막 형성 방법, 배향막 형성 방법, 액정 표시 장치의 형성 방법, 헤드 유닛, 액적 토출 장치 및 전자 기기
KR20110058565A (ko) * 2009-11-26 2011-06-01 세메스 주식회사 액정 토출량 측정 유닛과, 이를 구비한 액정 토출 장치
KR20120007378A (ko) * 2010-07-14 2012-01-20 세메스 주식회사 약액 도포 장치

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