KR20160067768A - 방사선 촬상 시스템 - Google Patents

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히데토모 스와
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Abstract

방사선 촬상 시스템은, 방사선 검출 패널과 그 방사선 검출 패널을 감싸는 인클로저를 각각 구비한 복수의 방사선 촬상 장치를 구비한다. 그 복수의 방사선 촬상 장치는, 방사선 촬상 장치 각각의 일부가 방사선 조사측에서 보아서 공간적으로 겹치도록 배열되고, 방사선 화상은 복수의 방사선 촬상 장치 각각으로부터의 화상신호에 근거하여 취득된다. 복수의 방사선 촬상 장치 중 적어도 하나의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 상기 겹치는 영역을 한정하는 상기 인클로저의 방사선 투과율이 다른 영역을 한정하는 상기 인클로저의 방사선 투과율보다 높도록 형성된다.

Description

방사선 촬상 시스템{RADIATION IMAGING SYSTEM}
본 발명은, 의료용 화상진단 장치, 비파괴 검사 장치, 방사선을 사용한 분석 장치 등에 응용 가능한 방사선 촬상 시스템에 관한 것이다.
최근, 예를 들면 의료분야에서는 피험자의 신체 프레임의 불균형이나 이상을 파악하기 위해서 척수, 하반신이나 전신을 촬영하는 관찰 영역이 긴 촬영(이하, "긴 촬영"이라고 칭한다)에 대한 요망이 있다. 특히, 한 번의 방사선 조사로 긴 촬영을 행할 수 있는 방사선 촬상 시스템은, 관찰 영역을 복수의 구획으로 나누어서 복수회 방사선 조사를 행하는 것으로 긴 촬영을 행하는 방사선 촬상 시스템에 비교하여, 피험자의 체동 배제나 피폭량 감소의 관점에서 보다 바람직하다.
일본 특허공개 2012-040140호 공보에는, 복수의 방사선 촬상 장치의 배열로 촬영함으로써, 이음매에 화상결핍이 없는 한번의 조사에 의해 긴 촬영을 행할 수 있는 방사선 촬상 시스템이 개시되어 있다. 일본 특허공개 2012-040140호 공보에서는, 제2의 방사선 촬상 장치와 그 제2의 방사선 촬상장치의 화소 어레이보다 방사선 조사측에 가깝게 배치된 제1의 방사선 촬상 장치의 제어 기판은, 방사선 방향에서 본 것처럼 제1의 방사선 촬상 장치의 제어 기판이 제2의 방사선 촬상 장치의 화소 어레이와, 상기 방사선 촬상장치가 겹치는 부분과 겹치지 않도록 각각 배치된다. 겹침부에 조사된 방사선에 관해 제1의 방사선 촬상 장치의 화소 어레이로부터 화상정보가 얻어진다. 양쪽의 방사선 촬상 장치로부터의 화상을 합성함으로써, 이음매에 화상결핍이 없는 긴 화상을 얻을 수 있다.
그렇지만, 일본 특허공개 2012-040140호 공보에서는, 방사선 촬상 장치의 인클로저의 상기 화상의 영향에 관한 언급은 없고, 제1의 방사선 촬상 장치의 외장이 제2의 방사선 촬상 장치로부터 얻어진 화상에 아티팩트를 발생시킬 우려가 있다. 본 발명의 일 측면은, 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저에 기인해서 제2의 방사선 촬상 장치로부터 얻어진 화상에 발생할 수 있는 아티팩트를 억제할 때 유리한 기술을 제공한다.
방사선 촬상 시스템은, 각각이, 2차원 매트릭스형으로 배열된 복수의 화소를 포함하고 방사선을 화상신호로 변환하는 방사선 검출 패널과, 상기 방사선 검출 패널을 감싸는 인클로저를 구비한, 복수의 방사선 촬상 장치를 구비한다. 이 복수의 방사선 촬상 장치는, 이 방사선 촬상 장치의 각각의 일부가 방사선 조사측에서 보아서 공간적으로 겹치도록 배열되고, 방사선 화상이 상기 복수의 방사선 촬상 장치 각각으로부터의 화상신호에 근거하여 취득된다. 상기 복수의 방사선 촬상 장치의 적어도 하나의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 상기 겹치는 영역을 한정하는 상기 인클로저의 방사선 투과율이, 상기 일부에 있어서의 영역과는 다른 영역을 한정하는 상기 인클로저의 방사선 투과율보다 높도록 형성된다.
본 발명의 또 다른 특징들은, 첨부도면을 참조하여 이하의 실시예들의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1은 방사선 촬상 시스템을 설명하기 위한 개략 단면도다.
도 2a 및 2b는 제1의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도 및 평면 모식도다.
도 3a 및 3b는 제2의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도 및 평면 모식도다.
도 4a 및 4b는 제3의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도 및 평면 모식도다.
도 5는 제3의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치 세트의 확대 모식도다.
도 6은 제4의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도 및 평면 모식도다.
도 7a 및 7b는 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 시스템을 설명하기 위한 개략 단면도다.
도 8a 및 8b는 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 시스템을 설명하기 위한 개략 단면도다.
도 9a 및 9b는 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도다.
도 10a 내지 10c는 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도다.
도 11a 내지 11c는 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도다.
도 12는 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도다.
도 13a 및 13b는 제6의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 단면 모식도 및 평면 모식도다.
도 14는 제6의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치의 평면 모식도다.
이하, 본 발명의 실시예들에 대해서, 첨부도면을 참조해서 상세히 설명한다. 이때, 그렇지만, 그 실시예에 나타낸 치수와 구조의 상세한 것은, 본문 및 도면에 나타내는 것으로 한정되지 않는다. 또한, 본 명세서에서는, X선뿐만 아니라, α선, β선, γ선, 입자빔, 우주선 등도, 방사선에 포함된다.
우선, 도 1을 참조하여 본 발명에 따른 방사선 촬상 시스템을 설명한다. 도 1은, 방사선 촬상 시스템을 설명하기 위한 개략 단면도다. 방사선 촬상 시스템에 있어서의 방사선 촬상 장치 세트S는, 제1의 방사선 촬상 장치D1과 제2의 방사선 촬상 장치D2를 구비한다. 제1의 방사선 촬상 장치D1은, 제2의 방사선 촬상 장치D2보다도 방사선 발생 장치Ｒ, 다시 말해, 방사선 조사측에 보다 가깝게 배치되어 있다. 제1의 방사선 촬상 장치D1은, 그 일부가 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2의 일부와 공간적으로 겹치도록, 배치되어 있다. 여기에서 사용된 것처럼 공간적으로 겹친다는 것은, 물리적으로 접해서 겹치고 있어도 되고, 또는, 물리적으로 접하지 않고 공간을 거쳐서 겹치고 있어도 좋다. 피험자M은, 방사선 촬상 장치 세트S 앞에 두어진 발판 위에 서 있어서, 방사선 촬상 장치 세트S 및 방사선 발생 장치R에 대하여 위치 결정된다. 방사선 발생 장치R로부터 방사선 촬상 장치 세트S를 향해 조사된 방사선X는, 피험자M을 투과해서 상기 방사선 촬상 장치D1 및 D2에 도달하고, 그 방사선 촬상 장치 세트S에 의해 포착된 방사선은 화상신호로 변환된다. 방사선 촬상 장치D1, D2로 취득된 화상신호는 도시되지 않은 화상처리 장치에서 합성 처리되어서, 피험자M의 방사선 화상이 취득된다.
제1의 실시예
다음에, 도 2a 및 도 2b를 참조하여 본 발명의 제1의 실시예에 대해서 설명한다. 도 2a는, 도 1에서 둥글게 둘러싸진 부분의 확대도인 단면 모식도 및 그 영역에서의 화상신호를 나타내는 개념도이며, 도 2b는 제1의 실시예에 따른 제1의 방사선 촬상 장치D1의 평면 모식도다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 복수의 방사선 촬상 장치D1 및 D2는 각각, 방사선 검출 패널(2), 플렉시블 회로 기판(8) 및/또는 프린트 회로 기판(5)에 탑재된 집적 회로ＩＣ, 및 제1부재(1) 및 제2부재(6)를 구비한다. 방사선 검출 패널(2)은, 2차원 매트릭스형으로 배열된 복수의 화소를 포함하는 화소 어레이를 갖고, 조사된 방사선을 화상신호로 변환한다. 플렉시블 회로 기판(8) 및/또는 프린트 회로 기판(5)에 탑재된 집적 회로ＩＣ는, 방사선 검출 패널(2)에 전기적으로 접속되어 있다. 제1부재(1) 및 제2부재(6)는, 적어도 방사선 검출 패널(2) 및 집적 회로ＩＣ를 감싸고 있다.
이러한 방사선 촬상 장치 세트S의 복수의 방사선 촬상 장치 중 적어도 하나의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 다른 방사선 촬상 장치와 공간적으로 겹치고 있는 일부를 갖고, 상기 겹치고 있는 부분에 대응한 상기 일부의 방사선 투과율이, 상기 인클로저의 다른 부분의 방사선 투과율보다 높게 설정된다. 보다 구체적으로는, 방사선 촬상 장치 세트S의 복수의 방사선 촬상 장치 중, 제2의 방사선 촬상 장치D2로부터 방사선 조사측에 배치된 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저는, 이하의 구성을 갖는다. 그 인클로저는, 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2에 공간적으로 겹치는 제1부재(1)로 형성된 제1의 영역의 방사선 투과율이, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 집적 회로ＩＣ와 대향하는 제2부재(6)로 형성된 제2의 영역의 방사선 투과율보다 높아지도록, 제1부재(1)와 제2부재(6)를 구비하게 형성된다. 이러한 구성에 따라, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저에서의 방사선 흡수가 억제된다. 이에 따라, 제2의 방사선 촬상 장치D2에서 취득된 화상신호 중, 제1의 영역과 공간적으로 겹치는 화소로부터 취득된 신호의 저하가 억제되고, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저에 기인해서 제2의 방사선 촬상 장치D2로부터 취득된 화상에 발생할 수 있는 아티팩트가 억제된다.
이하에, 제1의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치들의 구체예에 대해서 설명한다. 방사선 촬상 장치D1, D2 각각은, 방사선 조사측에서, 방사선 검출 패널(2), 압감 접착제(3), 기틀(base)(4) 및 프린트 회로 기판(5)의 순서대로 적층된 결합체를 인클로저에 구비한다. 방사선 검출 패널(2)이 압감 접착제(3)에 의해 기틀(4)에 결합되는 것에 의해, 방사선 검출 패널(2)은 기틀(4)에 의해 지지된다. 프린트 회로 기판(5)은, 기틀(4)을 가로질러 방사선 검출 패널(2)과는 반대측에 배치된다. 방사선 촬상 장치D1, D2의 인클로저는, 제1부재(1)와 제2부재(6)를 구비한다. 제1부재(1)는, 제2부재(6)에 비교해서 방사선 투과율이 높은 부재로 이루어진다. 제1의 영역을 구성하는 제1부재(1)는, 5mm이하의 알루미늄과 같은 방사선 입사 방향으로부터의 방사선 투과율을 갖는 재료를 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들면, ＣＦＲＰ가 사용된다. 제1부재(1)의 방사선 검출 패널(2)의 화소 어레이에 대향하는 영역은, 상기 제1의 영역에 있어서 보다 방사선 투과율이 높은 것이 바람직하다. 한편, 인클로저의 상기 집적 회로ＩＣ에 대향하는 제2의 영역을 구성하는 제2부재(6)는, 제1부재(1)보다 강성이 높고 또한 방사선 투과율이 낮은 재료가 바람직하고, 알루미늄이나 마그네슘 등의 금속재료를 사용한다. 방사선 검출 패널(2)은, 방사선을 포착 가능한 화소 어레이와, 해당 화소 어레이의 외주에 변연부를 구비한다. 제2의 방사선 촬상 장치D2는, 그 화소 어레이가 제1의 방사선 촬상 장치D1의 화소 어레이와 일부 겹치도록 배치되어서, 방사선 촬상 장치D1, D2의 한쪽 또는 다른 쪽의 화소 어레이가 그 라인에 상관없이 화상정보를 취득하는 구성이 된다. 결합된 방사선 화상은, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 화상신호와, 제1의 방사선 촬상 장치D1로 취득되지 않는 제2의 방사선 촬상 장치D2의 화상신호를 합성해서 작성된다. 이제, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 화소 어레이 가장자리로부터 상기 인클로저의 가장자리까지의 에어리어에서의 제1의 방사선 촬상 장치D1의 구조물이 제2의 방사선 촬상 장치D2에 의해 찍혀도 되어, 결합된 방사선 화상에 아티팩트가 생길 수 있다. 이에 따라, 본 실시예에 있어서는, 제1부재(1)가 배면부까지 측벽부 주위를 감싸고, 제2의 방사선 촬상 장치D2에 의해 찍히는 부분인 제1의 영역을 형성한다. 이에 따라, 이 부분에 제2부재(6)를 사용하는 경우와 비교하여, 해당 영역에 있어서의 인클로저에 의한 방사선 흡수로 인한 방사선의 감쇠를 억제할 수 있다. 방사선 화상의 출력 저하를 감소시킴으로써, 사전에 취득된 방사선 화상으로부터 해당 영역에서의 인클로저로 인한 출력 저하량에 관한 정보와 합성하여서 해당 영역의 화상을 보정처리함으로써, 화질을 향상시킬 수 있다. 제1부재(1)와 제2부재(6)는, 제1의 영역의 외측에서 나사(7)를 사용해서 결합되어, 나사(7)가 상기 결합된 방사선 화상에서 찍히지 않는 구성이 된다.
도 2b에 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 인클로저는, 대략 사각형을 가진다. 네 변 중 한 변이 제1부재(1)를 사용하여 구성되지만, 나머지의 세 변 및 모든 모서리는 제2부재(6)를 사용하여 구성된다. 이러한 구성은, 모서리에 낙하될 때의 강도나, 장치 전체의 강성을 확보한다. 제1부재(1)로서 ＣＦＲＰ를 사용할 경우에, 성형성이 나쁘기 때문에 상자형상을 형성하는 것이 곤란하다. 이 점에서도, ＣＦＲＰ의 한 변만을 형성하는 것이 이롭다. 상기 인클로저에는, 방사선 촬상 장치의 전원 스위치(10), 방사선 촬상 장치의 전원 상태를 표시하는 ＬＥＤ 등의 표시부(11), 및 집적 회로ＩＣ에의 전원공급 및/또는 신호의 송/수신을 행하는 케이블(12)과 접속 가능한 접속부(9)가 구비되어 있다. 이것들은, 제1의 방사선 촬상 장치D1에 있어서는, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 영역을 제외하는 영역으로서 배치된다. 본 실시예에서는, 제2부재(6)에 설치함으로써, 상기 결합된 방사선 화상에 이것들의 구조물이 찍히지 않는 구성이 된다. 방사선 검출 패널(2)에는, 프린트 회로 기판(5)과 전기적으로 접속된 플렉시블 회로 기판(8)이, 서로 직교하는 두 변에서 전기적으로 접속된다. 제1의 방사선 촬상 장치D1의 플렉시블 회로 기판(8)은, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 영역을 제외하는 영역에 배치됨으로써, 상기 결합된 방사선 화상에 플렉시블 회로 기판(8)이 찍히지 않는 구성이 된다. 또한, 상기 제1의 영역을 제외하는 상기 인클로저의 영역들은, 잘못된 방향으로 설치하는 것을 막기 위해서 외부로부터 볼 수 있는 것이 바람직하다.
제2의 실시예
다음에, 도 3a 및 도３b를 참조하여 본 발명의 제2의 실시예를 설명한다. 도 3a는, 도 1의 둥글게 둘러싼 부분의 확대도인 단면 모식도 및 그 영역에서의 화상신호를 나타내는 개념도이며, 도 3b는 제2의 실시예에 따른 제1의 방사선 촬상 장치D1의 평면 모식도다. 제1의 실시예와 같은 구성에는 같은 참조부호로 부여해서, 그 상세한 설명은 생략한다.
제1의 실시예에서는, 제1의 영역에 있어서의 인클로저의 측벽은, 제1부재(1)로 구성되어 있다. 그렇지만, 인클로저의 외형의 두께에 따른 양만큼 제1부재(1)에서 방사선이 흡수되어, 제1의 영역의 측벽을 제외하는 다른 영역에 비교하여, 측벽의 두께에 따른 양만큼 방사선의 흡수량이 현저하게 높아져버린다. 따라서, 제2의 실시예에서는, 도 3a에 도시한 바와 같이, 제1의 영역에 있어서의 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저의 외형의 두께가, 제1의 영역과는 다른 예를 들면 제2의 영역에 있어서의 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저D의 외형의 두께보다 얇도록 구성되어 있다. 특히, 제1의 영역에 있어서의 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저의 외형의 두께가, 제1의 영역에 있어서 단부를 향해서 얇아지는 구성이 바람직하다. 이러한 구성에 의하면, 상기 제1의 실시예에 비교하여, 제1부재(1)로 구성된 측벽의 높이가 작고, 인클로저의 측벽에 의한 방사선 흡수에 기인하는 방사선 화상의 아티팩트가 훨씬 더 억제될 수 있다.
또한, 도 3b에 도시한 바와 같이, 대략 직사각형의 네 변 중, 제1영역을 포함하는 세 변이 제1부재(1)를 사용하여 형성되고, 나머지의 한 변이 제2부재(6)를 사용하여 형성된다. 이 경우에, 제2부재(6)로 이루어진 인클로저의 한 변에, 플렉시블 회로 기판(8)(도시되지 않음), 전원 스위치(10), 표시부(11) 및 접속부(9)가 설치된다. 이러한 구성에 의하면, 인클로저가 방사선 조사측에서 보아서 대략 직사각형의 형상을 가질 경우, 짧은 변 및 긴 변의 양쪽이 제1부재(1)를 사용하여 구성된다. 종방향으로 결합된 방사선 화상을 얻고 싶을 경우에는, 짧은 변을 제1의 영역으로서 겹치게 하고, 횡방향으로 결합된 방사선 화상을 얻고 싶을 경우에는, 긴 변을 제1의 영역으로서 겹치게 할 수 있다. 이에 따라, 제2의 실시예는, 제1의 실시예에 비교해서 촬영의 자유도가 향상한다.
제3의 실시예
다음에, 도 4a, 도 4b 및 도 5를 참조하여 본 발명의 제3의 실시예를 설명한다. 도 4a는 제3의 실시예에 따른 제1의 방사선 촬상 장치D1의 평면 모식도이며, 도 4b는 도 1의 둥글게 둘러싼 부분을 확대도인 단면 모식도 및 그 영역에서의 화상신호를 나타내는 개념도다. 도 5는, 방사선 촬상 장치 세트Ｓ내에 방사선 촬상 장치를 설치하는 설치부를 설명하는 개념도다. 제1의 실시예와 같은 구성에는 같은 참조부호를 부여해서 상세한 설명은 생략한다.
제3의 실시예에 따른 인클로저가, 대략 사각형의 네 변 중 한 변에 개구를 가지는 제3부재(16)와, 제3부재(16)의 개구를 닫을 수 있는 덮개부(14)와, 덮개부(14)가 개폐가능하게 제3부재(16)와 접합하는 접합부(15)를 구비한다. 방사선 촬상 장치를 단독으로 사용할 때, 덮개부(14)이 닫힌 상태로 있다. 한편, 방사선 촬상 장치의 일부를 겹쳐서 얻어진 결합된 방사선 화상을 취득하기 위해 긴 촬영을 행하는 경우에, 덮개부(14)가 열린 상태에 있고 상기 인클로저의 한 변이 개방되어 있고, 인클로저내의 결합체의 일부가 인클로저 외부에서 볼 수 있도록 이동될 수 있다. 결합체에 구비된 방사선 검출 패널(2)의 화소에는, 방사선을 가시 광으로 변경하는 형광체와, 가시 광을 전기신호로 변환하는 광전변환 소자가 사용된다. 이에 따라, 방사선 검출 패널(2)이 외부 광에 노출되면 원하는 방사선 화상을 얻을 수 없으므로, 덮개부(14)가 열린 상태로 방사선 검출 패널(2)을 차광하기 위한 차광부재(17)가 설치된다. 이 차광부재(17)는, 실질적으로 인클로저의 일부를 구성하고, 그 재료의 방사선 흡수율은 제3부재(16)보다도 낮다. 덮개부(14)가 열린 상태에서는, 방사선 검출 패널(2) 및 차광부재(17)가, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 위치에 이동할 수 있다. 다시 말해, 방사선 검출 패널(2) 및 차광부재(17)가 인클로저의 제1의 영역이어서, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저에 기인해서 제2의 방사선 촬상 장치D2에서 취득된 화상에 발생할 수 있는 아티팩트를 억제한다.
도 5에 도시한 바와 같이, 덮개부(14)의 단부에는 맞물림부(18)가 설치되어 있어, 제3부재(16)에 설치된 후크부(19)에서 닫힌 상태로 고정되어 있다. 한편, 방사선 촬상 장치 세트S에 설치된 설치부(21)에는, 록 해제부(20)가 설치된다. 방사선 촬상 장치를 방사선 촬상 장치 세트S의 설치부(21)에 설치하면, 록 해제부(20)는 맞물림부(18)를 위로 가압한다. 이에 따라, 덮개부(14)의 고정이 해제되어, 덮개부(14)가 도 4b에 나타내는 것 같은 열린 상태에 있다. 이러한 구성에 따라, 긴 촬영을 행하기 위해서 방사선 촬상 장치를 방사선 촬상 장치 세트S에 설치할 때에는, 긴 촬영을 위한 배치로의 이행이 단순하다.
제4의 실시예
다음에, 도 6을 참조하여 본 발명의 제4의 실시예에 대해서 설명한다. 도 6은, 도 1의 둥글게 둘러싼 부분의 확대도인 단면 모식도 및 그 영역에서의 화상신호를 나타내는 개념도다. 제1의 실시예와 같은 구성에는 같은 참조부호를 부여해서 상세한 설명은 생략한다.
복수의 방사선 촬상 장치를 수용하는 방사선 촬상 장치 세트S의 수용 인클로저는, 피험자M의 하중으로부터, 그 수용된 방사선 촬상 장치와 산란선 제거 그리드(도시되지 않음)를 보호하는 보호판(22)을 구비한다. 이 보호판(22)에는, 아크릴이나 폴리카보네이트 등의 재료를 사용할 수 있다. 본 실시예에 따른 상기 보호판(22)은, 방사선 화상에서의 아티팩트를 억제하도록, 보호판(22)의 두께로 분포를 갖게 하고 있다. 구체적으로는, 제1영역에 대응하는 위치에서의 보호판(22)과, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저와, 방사선 검출 패널(2)의 변연부의 3층을 합산하여서 얻어진 방사선 투과율이, 제1영역이외의 위치의 보호판(22)의 방사선 투과율과 대략 같게 한다. 이것은, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저에 기인해서 제2의 방사선 촬상 장치D2에서 취득된 화상에서 발생하기도 하는 아티팩트를 더욱 억제할 수 있다.
제5의 실시예
다음에, 도 7a 내지 도 8b를 참조하여 본 발명의 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 시스템을 설명한다. 도 7a 내지 도 8b 각각은, 제5의 실시예의 예를 설명하는 개략 단면도다.
상기 도면들에 있어서의 방사선 촬상 시스템에 있어서의 방사선 촬상 장치 세트S는, 제1의 방사선 촬상 장치D1, 제2의 방사선 촬상 장치D2 및 제3의 방사선 촬상 장치D3을 구비한다. 제1의 방사선 촬상 장치D1은, 제2의 방사선 촬상 장치D2보다도 방사선 발생 장치Ｒ, 즉, 방사선 조사측에 가깝게 배치되어 있다. 제1의 방사선 촬상 장치D1은, 그 일부가 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2의 일부와 공간적으로 겹치도록, 배치되어 있다. 여기에서 사용된 것과 같은 공간적으로 겹치는 것은, 물리적으로 접해서 겹치고 있어도 되거나, 물리적으로 접하지 않고 공간을 가로질러 겹치고 있어도 좋다. 도 7a에 나타낸 예에서는, 제3의 방사선 촬상 장치D3은, 제1의 방사선 촬상 장치D1보다도 방사선 발생 장치R과 반대측, 즉, 방사선 조사측과는 반대측에 배치되어 있다. 제1의 방사선 촬상 장치D1은, 그 일부가 방사선 조사측에서 보아서 제3의 방사선 촬상 장치D3의 일부와 공간적으로 겹치도록, 배치되어 있다. 한편, 도 7b에 나타낸 예에서는, 제3의 방사선 촬상 장치D3은, 제2의 방사선 촬상 장치D2보다도 방사선 발생 장치Ｒ, 즉, 방사선 조사측에 가깝게 배치되어 있다. 제3의 방사선 촬상 장치D3은, 그 일부가 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2의 일부와 공간적으로 겹치도록, 배치되어 있다. 도 7a 및 도 7b의 구성에서는, 방사선 촬상 장치 세트S 전체의 두께가 억제된다. 도 7b에 도시된 구성에서는, 방사선 조사측에 공간적으로 겹치는 다른 방사선 촬상 장치가 존재하는 방사선 촬상 장치만이 제2의 방사선 촬상 장치D2이어서, 공간적으로 겹치는 것에 의한 영향을 받는 방사선 촬상 장치의 수를 감소할 수 있다.
도 8a 및 도 8b에 나타낸 구성에서는, 제3의 방사선 촬상 장치D3은, 제2의 방사선 촬상 장치D2보다도 방사선 발생 장치R와 반대측, 즉, 방사선 조사측과는 반대측에 배치되어 있다. 제2의 방사선 촬상 장치D2는, 그 일부가 방사선 조사측에서 보아서 제3의 방사선 촬상 장치D3의 일부와 공간적으로 겹치도록, 배치되어 있다. 피험자M은, 방사선 촬상 장치 세트S 앞에 두어진 발판 위에 서 있는 것으로, 방사선 촬상 장치 세트S 및 방사선 발생 장치R에 대하여 위치 결정된다. 방사선 발생 장치R로부터 방사선 촬상 장치 세트를 향해 조사된 방사선X는, 피험자M을 투과해서 방사선 촬상 장치D1 내지 D3에 도달하고, 화상신호로 변환됨으로써 포착된다. 방사선 촬상 장치D1 내지 D3로 취득된 화상신호는 도시되지 않은 화상처리 장치에서 합성 처리되어서, 피험자M의 방사선 화상을 취득한다. 도 8a 및 도 8b에서는, 방사선 촬상 장치 세트S의 인클로저의 두께를 억제하기 위해서 방사선 촬상 장치D1 내지 D3이 방사선 촬상 장치 세트S의 인클로저에 대하여 경사져서 배치되지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것이 아니다.
다음에, 도 9a 및 도 9b를 참조하여 본 발명의 제5의 실시예에 대해서 설명한다. 도 9a는, 제5의 실시예에 따른 일례를 나타내는 단면 모식도이며, 도 7a의 둥글게 둘러싼 부분의 확대도다. 도 9b는, 제5의 실시예에 따른 다른 예를 나타내는 단면 모식도이며, 도 7a의 둥글게 둘러싼 부분의 확대도다.
복수의 방사선 촬상 장치D1 및 D2는 각각, 방사선 검출 패널(2), 플렉시블 회로 기판(8) 및/또는 프린트 회로 기판(5)에 탑재된 집적 회로ＩＣ, 및 인클로저(23)를 구비한다. 방사선 검출 패널(2)은, 2차원 매트릭스형으로 배열된 복수의 화소를 포함하는 화소 어레이를 갖고, 조사된 방사선을 화상신호로 변환한다. 플렉시블 회로 기판(8) 및/또는 프린트 회로 기판(5)에 탑재된 집적 회로ＩＣ는, 방사선 검출 패널(2)에 전기적으로 접속되어 있다. 인클로저(23)는, 적어도 방사선 검출 패널(2) 및 집적 회로ＩＣ를 감싼다.
이러한 방사선 촬상 장치 세트S의 복수의 방사선 촬상 장치 중 적어도 하나의 방사선 촬상 장치의 인클로저(23)는, 다른 방사선 촬상 장치와 공간적으로 겹치고 있는 일부에 해당하는 영역의 방사선 투과율이, 그 영역과는 다른 영역의 방사선 투과율보다 높다. 보다 구체적으로는, 방사선 촬상 장치 세트S의 복수의 방사선 촬상 장치 중, 제2의 방사선 촬상 장치D2로부터 방사선 조사측에 배치된 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저(23)는, 이하의 구성을 갖는다. 그 인클로저(23)는, 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 영역의 방사선 투과율이, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 집적 회로ＩＣ와 대향하는 제2의 영역의 방사선 투과율보다 높도록, 상기 제1의 영역의 두께가 제1의 영역이외의 영역의 최대의 두께보다 얇게 형성되어 있다. 보다 구체적으로는, 제1의 영역의 외형의 두께가 제2의 영역의 외형의 두께보다 얇다. 이러한 구성에 따라, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저에서의 방사선 흡수가 억제된다. 이에 따라, 제2의 방사선 촬상 장치D2에서 취득된 화상신호 중, 제1의 영역과 공간적으로 겹치는 화소의 저하가 억제되고, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저(23)에 기인해서 제2의 방사선 촬상 장치D2로부터 취득된 화상에 발생하기도 하는 아티팩트가 억제된다.
이하에, 제5의 실시예에 따른 방사선 촬상 장치들의 구체예에 대해서 설명한다. 방사선 촬상 장치D1 내지 D3 각각은, 방사선 조사측으로부터, 방사선 검출 패널(2), 압감 접착제(3), 기틀(4) 및 프린트 회로 기판(5)의 순서대로 적층하여 얻어진 결합체를 인클로저(23)에 구비한다. 방사선 검출 패널(2)이 압감 접착제(3)에 의해 기틀(4)에 결합되는 것에 의해, 방사선 검출 패널(2)은 기틀(4)에 의해 지지된다. 프린트 회로 기판(5)은, 기틀(4)을 가로질러 방사선 검출 패널(2)과는 반대측에 배치된다.
인클로저(23)는, 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2에 공간적으로 겹치는 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역의 외형의 두께가 제1의 영역이외의 영역의 최대의 외형의 두께보다 얇게 되어 있다. 보다 구체적으로는, 제1의 영역의 두께가 제1의 방사선 촬상 장치D1의 집적 회로ＩＣ와 대향하는 제2의 영역의 외형의 두께보다 얇게 형성되어 있다. 특히, 제1의 영역에 있어서의 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저(23)의 외형의 두께가, 제1의 영역에 있어서 단부를 향해서 얇아지도록 형성되는 것이 바람직하다. 도 9a에 나타낸 예에서는, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역에 있어서, 인클로저(23)의 방사선 조사측의 표면과 측면을 접속하는 능선부에 모따기가 실행되어, 인클로저(23)의 측면과 평행한 방향에서 경사하는 경사 영역(Ｓｌａｎｔｅｄ Ａｒｅａ)을 가지고 있다. 이에 따라, 제1의 영역에 있어서의 인클로저(23)의 외형의 두께가, 제2의 영역 및 화소 어레이와 대향하는 제3의 영역(유효 에어리어)에 있어서의 인클로저(23)의 외형의 두께에 비교해서 보다 얇다. 또한, 경사 영역을 가짐으로써, 인클로저(23)의 제1의 영역에 있어서의 측면의 높이가, 측면이 경사 영역을 갖지 않는 경우와 비교하여 낮아져서, 방사선 투과율이 보다 높다. 도 9a에 비교해서 경사 영역을 넓게 하는 도 9b에서와 같은 경우에, 인클로저(23)의 제1의 영역에 있어서의 측면의 높이는, 훨씬 낮아서, 방사선 투과율이 훨씬 높고, 제1의 영역의 폭이 보다 넓어진다. 경사 영역은 인클로저(23)의 방사선 조사측에서 본 변들중 제1의 영역이 포함되는 변부에 형성되는 것으로 한정되지 않고, 제1의 영역이 포함되지 않는 다른 변부에 설치되어도 좋다. 방사선 검출 패널(2)은, 방사선을 포착 가능한 화소 어레이와, 해당 화소 어레이의 외주에 변연부를 구비한다. 제2의 방사선 촬상 장치D2는, 그 화소 어레이가 제1의 방사선 촬상 장치D1의 화소 어레이와 일부 겹치도록 배치되어서, 방사선 촬상 장치D1, D2의 한쪽 또는 다른 쪽의 화소 어레이가 그 라인에 상관없이 화상정보를 취득하는 구성이 된다. 결합된 방사선 화상은, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 화상신호와, 제1의 방사선 촬상 장치D1로 취득되지 않는 제2의 방사선 촬상 장치D2의 화상신호를 합성해서 작성된다. 이제, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 화소 어레이 가장자리로부터 상기 인클로저(23)의 가장자리까지의 에어리어에서의 제1의 방사선 촬상 장치D1의 구조물이 제2의 방사선 촬상 장치D2에 의해 찍혀도 되어, 결합된 방사선 화상에 아티팩트가 생길 수 있다. 따라서, 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역의 외형의 두께가 상기 제1의 영역이외의 영역의 외형의 최대의 두께보다 얇게 형성되어 있다. 이에 따라, 해당 위치의 외형의 두께가 다른 외형의 두께와 같을 경우와 비교하여, 해당 영역에 있어서의 인클로저(23)에 의한 방사선 흡수로 인한 방사선의 감쇠를 억제할 수 있다. 방사선 화상의 출력 저하를 감소시킴으로써, 해당 영역의 화상은, 사전에 취득한 방사선 화상으로부터, 해당 영역에서의 상기 인클로저(23)로 인한 출력 저하량의 정보와 합성하여서 보정처리 되어서, 화질을 향상시킬 수 있다.
또한, 도 10a 내지 10c에 도시한 바와 같이, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역에 있어서, 인클로저(23)의 방사선 조사측과는 반대측의 표면과 측면을 접속하는 능선부에 모따기가 실행되어, 인클로저(23)의 측면이 경사지는 경사 영역을 가지고 있어도 좋다. 도 10a에 비교하여 경사 영역을 넓게 하는 도 10b에서와 같은 경우에, 인클로저(23)의 제1의 영역에 있어서의 측면의 높이가 보다 낮아서, 보다 방사선 투과율이 높고, 그 제1의 영역의 폭이 보다 넓다. 또한, 도 10c에 도시한 바와 같이, 경사 영역이 평면이 아닌 곡면이여도 좋고, 곡면과 평면의 조합이여도 좋다. 이것은, 도 9a 및 도 9b에 나타낸 방사선 조사측에 경사 영역이 형성되는 형태에도 적용 가능하다.
또한, 도 11a 내지 11c에 도시한 바와 같이, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역에 있어서 경사 영역이, 방사선 조사측에서 보아서 제1의 방사선 촬상 장치D1의 기틀(4)의 일부 공간적으로 겹치는 영역까지 연장되어도 좋다. 이러한 경우, 도 11a에 도시한 바와 같이, 경사 영역에 맞추어, 기틀(4)의 측면이 경사진 것이 바람직하다. 또한, 도 11b에 도시한 바와 같이, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역에 있어서, 인클로저(23)의 측면 전체가 경사 영역으로 형성되어도 좋다. 더욱이, 도 11c에 도시한 바와 같이, 제1의 방사선 촬상 장치D1의 제1의 영역에 있어서, 인클로저(23)의 측면 전체가 곡면의 경사 영역으로 형성되어도 좋다.
도 12에 도시한 바와 같이, 인클로저(23)의 방사선 조사측의 표면과 측면을 접속하는 능선부에 모따기가 실행되어서 경사 영역을 가지고, 또, 인클로저(23)의 방사선 조사측과는 반대측의 표면과 측면을 접속하는 능선부에 모따기가 실행되어 경사 영역을 가지고 있어도 좋다. 이러한 종류의 구성은, 도 8a 및 도 8b에 나타낸 것과 같은 방사선 촬상 장치 세트S에 사용된 방사선 촬상 장치에 적용되는 것이 바람직하다.
제6의 실시예
도 13a 및 도 13b를 참조하여 제6의 실시예를 설명한다. 도 13a는, 단면 모식도이고, 도 7의 둥글게 둘러싼 부분의 확대도이고, 도 13b는 제6의 실시예에 따른 제1의 방사선 촬상 장치D1의 평면 모식도다. 또한, 제5의 실시예와 같은 구성에는 같은 참조부호를 부여해서 상세한 설명은 생략한다.
제6의 실시예는, 이하의 구성을 갖는 점에서 제5의 실시예와 다르다. 인클로저(23)는, 방사선 조사측에서 보아서 제2의 방사선 촬상 장치D2에 공간적으로 겹치는 제1의 영역의 방사선 투과율이, 그 영역과는 다른 영역의 방사선 투과율에 비교하여 높도록, 제1부재(13)와 제2부재(24)를 구비한다. 이러한 구성에 따라, 제2의 방사선 촬상 장치D2에 공간적으로 겹치는 제1의 방사선 촬상 장치D1의 인클로저(23)에서의 방사선 흡수가 억제된다. 이에 따라, 제1의 영역에 공간적으로 겹치는 화소로부터 제2의 방사선 촬상 장치D2에 의해 취득된 화상신호의 저하가 억제되어서, 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저(23)에 기인해서 제2의 방사선 촬상 장치D2에 의해 취득된 화상에 발생하기도 하는 아티팩트를 억제한다.
제1부재(13)는, 제2부재(24)에 비교해서 방사선 투과율이 높은 부재로 이루어진다. 제1의 영역을 구성하는 제1부재(13)는, 5mm이하의 알루미늄과 같은 방사선 입사 방향으로부터 방사선 투과율을 갖는 재료를 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들면, ＣＦＲＰ를 사용한다. 제1부재(13)의 화소 어레이와 대향하는 영역은, 제1의 영역에 있어서의 방사선 투과율보다도 높은 것이 바람직하다. 한편, 제2의 영역을 구성하는 제2부재(24)는, 제1부재(13)보다 강성이 높고 또한 방사선 투과율이 낮은 재료가 바람직하다. 알루미늄이나 마그네슘 등의 금속재료가 사용된다. 제1부재(13)와 제2부재(24)는, 제1의 영역의 외측에서 나사(7)를 사용해서 결합되어, 그 나사(7)가 상기 결합된 방사선 화상에 찍히지 않는 구성이 된다.
도 13b에 도시한 바와 같이, 인클로저(23)는, 대략 사각형을 가진다. 네 변 중 한 변이 제1부재(13)로 구성되지만, 나머지의 세 변 및 모든 모서리부는 제2부재(24)로 구성된다. 이러한 구성은, 모서리부로부터의 낙하 강도와, 장치 전체의 강성을 확보한다. 제1부재(13)로서 ＣＦＲＰ를 사용하는 경우에, 성형성이 나쁘기 때문에 상자형상을 형성하는 것이 곤란하다. 그 점에서도, ＣＦＲＰ의 한 변만을 형성하는 것은 이롭다. 인클로저(23)에는, 방사선 촬상 장치의 전원 스위치(10), 방사선 촬상 장치의 상태를 표시하는 ＬＥＤ등의 표시부(11), 및 집적 회로ＩＣ에의 전원공급 및/또는 신호의 송/수신을 행하는 케이블(12)과 접속된 접속부(9)가 구비되어 있다. 이것들은, 제1의 방사선 촬상 장치D1에 있어서는, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 영역을 제외하는 영역으로서 배치된다. 본 실시예에서는, 제2부재(24)에 설치함으로써, 상기 결합된 방사선 화상에 이것들의 구조물이 찍히지 않는 구성이 된다. 방사선 검출 패널(2)에는, 프린트 회로 기판(5)과 전기적으로 접속된 플렉시블 회로 기판(8)이, 서로 직교하는 두 변에서 전기적으로 접속된다. 제1의 방사선 촬상 장치D1의 플렉시블 회로 기판(8)은, 제2의 방사선 촬상 장치D2와 공간적으로 겹치는 제1의 영역을 제외하는 영역에 배치됨으로써, 상기 결합된 방사선 화상에 플렉시블 회로 기판(8)이 찍히지 않는 구성이 된다. 또한, 상기 제1의 영역을 제외하는 상기 인클로저(23)의 영역들은, 잘못된 방향으로 설치하는 것을 막기 위해서 외부로부터 볼 수 있는 것이 바람직하다.
또한, 도 14에 도시한 바와 같이, 대략 직사각형의 네 변 중, 제1영역을 포함하는 세 변이 제1부재(13)를 사용하여 형성되고, 나머지의 한 변이 제2부재(24)를 사용하여 형성되도록 구성해도 좋다. 이 경우, 제2부재(24)로 이루어진 인클로저(23)의 한 변에, 플렉시블 회로 기판(8)(도시되지 않음), 전원 스위치(10), 표시부(11) 및 접속부(9)가 설치된다. 이러한 구성에 따라, 인클로저(23)가 방사선 조사측에서 보아서 대략 직사각형을 가질 경우, 짧은 변과 긴 변 양쪽이 제1부재(13)를 사용하여 구성된다. 종방향으로 결합된 방사선 화상을 얻고 싶을 경우에는, 짧은 변을 제1의 영역으로서 겹치게 하고, 횡방향으로 결합된 방사선 화상을 얻고 싶을 경우에는, 긴 변을 제1의 영역으로서 겹치게 할 수 있다. 이에 따라, 제6의 실시예는, 제5의 실시예에 비교해서 촬영의 자유도가 향상한다.
본 발명을 실시예들을 참조하여 기재하였지만, 본 발명은 상기 개시된 실시예들에 한정되지 않는다는 것을 알 것이다. 아래의 청구항의 범위는, 모든 변형예, 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 폭 넓게 해석해야 한다. 이하에 설명한 본 발명의 각 실시예는, 단독으로 구현될 수 있거나, 필요한 경우, 또는 단일의 실시예에서의 개개의 실시예로부터의 구성요소나 특징의 조합이 이로울 경우 복수의 실시예나 특징의 조합으로서 구현될 수 있다.

Claims (19)

  1. 복수의 방사선 촬상 장치를 구비하는 방사선 촬상 시스템으로서, 각 방사선 촬상 장치는,
    2차원 매트릭스형으로 배열된 복수의 화소를 포함하고 방사선을 화상신호로 변환하는 방사선 검출 패널과,
    상기 방사선 검출 패널을 감싸는 인클로저를 구비하고,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치는, 이 방사선 촬상 장치의 각각의 일부가 방사선 조사측에서 보아서 공간적으로 겹치도록 배열되고, 방사선 화상이 상기 복수의 방사선 촬상 장치 각각으로부터의 화상신호에 근거하여 취득되고,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치의 적어도 하나의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 상기 겹치는 영역을 한정하는 상기 인클로저의 방사선 투과율이, 다른 영역을 한정하는 상기 인클로저의 방사선 투과율보다 높도록 형성되는, 방사선 촬상 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치 각각은, 상기 방사선 검출 패널에 전기적으로 접속된 집적 회로를 더 구비하고,
    상기 인클로저는, 상기 집적 회로를 더 감싸고,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치 중, 제2의 방사선 촬상 장치로부터 방사선 조사측에 위치 결정된 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 상기 방사선 조사측에서 보아서 상기 제2의 방사선 촬상 장치에 공간적으로 겹치는 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 제1의 영역의 방사선 투과율이, 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 상기 집적 회로와 대향하는 제2의 영역의 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 방사선 투과율보다 높도록 형성되는, 방사선 촬상 시스템.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제1의 영역에 있어서의 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저의 두께가, 상기 제2의 영역에 있어서의 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저의 두께보다 작은, 방사선 촬상 시스템.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 인클로저에 의해 한정된 것과 같은 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 두께는, 상기 제1의 영역의 외부 가장자리를 향해 보다 얇아지는, 방사선 촬상 시스템.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저는,
    상기 제1의 영역을 형성하도록 배치된 제1부재와,
    상기 제2의 영역을 형성하도록 배치되며, 상기 제1부재보다 강성이 높고 또한 방사선 투과율이 낮은, 제2부재를 구비하는, 방사선 촬상 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 대략 직사각형의 네 변 중 적어도 한 변이 상기 제1부재로 형성되고 상기 네 변 중 나머지 변이 상기 제2부재로 형성되는, 상기 대략 직사각형으로서 구성되는, 방사선 촬상 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치는 전원 스위치를 더 구비하고, 상기 전원 스위치는 상기 제2부재로 형성된 상기 인클로저의 일부에 설치되는, 방사선 촬상 시스템.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치는, 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 전원 상태를 표시하는 표시부를 더 구비하고, 상기 표시부는 상기 제2부재로 형성된 상기 인클로저의 일부에 설치되는, 방사선 촬상 시스템.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치는, 상기 집적 회로에의 전원공급 및 신호 송/수신 중 적어도 한쪽을 행할 수 있는 케이블을 수용하는 접속부를 더 구비하고, 상기 접속부는 상기 제2부재로 형성된 상기 인클로저의 일부에 설치되는, 방사선 촬상 시스템.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1부재는, 방사선 투과율이 5mm이하의 알루미늄과 같은 재료로 형성되는, 방사선 촬상 시스템.
  11. 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치는 각각,
    상기 방사선 검출 패널과 전기적으로 접속된 플렉시블 회로 기판과,
    상기 플렉시블 회로 기판과 전기적으로 접속된 프린트 회로 기판과,
    상기 방사선 검출 패널을 지지하는 기틀 부재를 더 구비하고,
    상기 프린트 회로 기판은 상기 방사선 검출 패널이 배치된 측과 반대측인 상기 기틀 부재의 일측에 배치되고, 상기 집적 회로는 상기 프린트 회로 기판 및 상기 플렉시블 회로 기판 중 적어도 한쪽에 탑재되어 있는, 방사선 촬상 시스템.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치를 수용하는 수용 인클로저를 더 구비하고, 상기 수용 인클로저는 상기 복수의 방사선 촬상 장치를 보호하는 보호판을 구비하고, 상기 보호판은 상기 방사선 화상의 아티팩트가 억제되도록 두께에 분포를 가지는, 방사선 촬상 시스템.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치 각각은, 상기 방사선 검출 패널에 전기적으로 접속된 집적 회로를 더 구비하고,
    상기 인클로저는, 상기 집적 회로를 더 감싸고,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치 중, 제2의 방사선 촬상 장치로부터 방사선 조사측에 위치 결정된 제1의 방사선 촬상 장치의 상기 인클로저는, 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 상기 집적회로에 대향하는 상기 제2의 방사선 촬상 장치의 제2의 영역에 있어서의 상기 인클로저의 두께보다 얇도록 형성된 상기 방사선 조사측에서 보아서 상기 제2의 방사선 촬상 장치와 공간적으로 겹치는 제1의 영역에서의 두께를 갖는, 방사선 촬상 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제1의 영역에 있어서의 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저의 상기 두께는, 상기 제1의 영역의 외부 가장자리를 향해서 보다 얇아지는, 방사선 촬상 시스템.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저는,
    상기 제1의 영역을 형성하도록 배치된 제1부재와,
    상기 제2의 영역을 형성하도록 배치되며, 상기 제1부재보다 강성이 높고 또한 방사선 투과율이 낮은, 제2부재를 구비하는, 방사선 촬상 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 대략 직사각형의 네 변 중 적어도 한 변이 상기 제1부재로 형성되고 상기 네 변 중 나머지 변이 상기 제2부재로 형성되는, 상기 대략 직사각형으로서 구성되는, 방사선 촬상 시스템.
  17. 제 13 항에 있어서,
    상기 복수의 방사선 촬상 장치는 각각,
    상기 방사선 검출 패널과 전기적으로 접속된 플렉시블 회로 기판과,
    상기 플렉시블 회로 기판과 전기적으로 접속된 프린트 회로 기판과,
    상기 방사선 검출 패널을 지지하는 기틀 부재를 더 구비하고,
    상기 프린트 회로 기판은 상기 방사선 검출 패널이 배치된 측과 반대측인 상기 기틀 부재의 일측에 배치되고, 상기 집적 회로는 상기 프린트 회로 기판 및 상기 플렉시블 회로 기판 중 적어도 한쪽에 탑재되어 있는, 방사선 촬상 시스템.
  18. 제 13 항에 있어서,
    상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저는, 상기 제1의 영역에 있어서, 상기 제1의 방사선 촬상 장치의 인클로저의 측면과 평행한 방향에 대하여 경사진 경사 영역을 갖는, 방사선 촬상 시스템.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 경사 영역은 곡면을 포함하는, 방사선 촬상 시스템.
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