KR20160037070A - Method for manufacturing double-faced metal laminate, method for manufacturing printed circuit board, method for manufacturing multiple layered laminate, and method for manufacturing multiple layered printed circuit board - Google Patents

Method for manufacturing double-faced metal laminate, method for manufacturing printed circuit board, method for manufacturing multiple layered laminate, and method for manufacturing multiple layered printed circuit board Download PDF

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Abstract

The present invention relates to a manufacturing method of a double-sided metal laminate, a manufacturing method of a printed circuit board, and a manufacturing method of a multilayer laminate, and a manufacturing method of a multilayer printed circuit board. The manufacturing method of a double-sided metal laminate includes the following steps: forming lamination by inserting a first prepreg layer between a first metal foil and a second metal foil; and molding a laminate by heating and pressurizing the laminate after pre-heating the laminate.

Description

양면 금속 적층판의 제조 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 다층 적층판의 제조 방법, 및 다층 프린트 배선판의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING DOUBLE-FACED METAL LAMINATE, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD, METHOD FOR MANUFACTURING MULTIPLE LAYERED LAMINATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTIPLE LAYERED PRINTED CIRCUIT BOARD}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a double-sided metal laminates, a method for manufacturing a printed circuit board, a method for manufacturing a multilayer laminate, AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTIPLE LAYERED PRINTED CIRCUIT BOARD}

본 개시는, 양면 금속 적층판의 제조 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 다층 적층판의 제조 방법, 및 다층 프린트 배선판의 제조 방법에 관한 것이다. 상세하게는, 컴퓨터, 이동체 통신용 전화기, 비디오 카메라 등의 각종 전자 기기에 널리 적용되는 다층 프린트 배선판의 제조 방법, 및 이 다층 프린트 배선판의 재료로서 적절한 양면 금속 적층판, 프린트 배선판, 및 다층 적층판의 제조 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a method of manufacturing a double-sided metal laminate, a method of manufacturing a printed wiring board, a method of manufacturing a multilayer laminate, and a method of manufacturing a multilayer printed wiring board. More particularly, the present invention relates to a method for producing a multilayer printed circuit board widely applicable to various electronic apparatuses such as a computer, a mobile communication telephone, and a video camera, and a method for manufacturing a double-sided metal laminate, a printed wiring board and a multilayer laminate .

근년, 전자 기기의 고기능화, 고밀도화에 수반하여, 전자 부품은, 점점 소형화, 고집적화, 고속화, 다핀화의 경향이 있다. 이것에 수반하여, 프린트 배선판에 대해서도, 고밀도화, 소경화, 경량화, 박판화의 요구가 높아지고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, electronic components tend to become smaller and more highly integrated, faster, and multi-pinned as electronic components become more sophisticated and denser. Along with this, there is a growing demand for printed wiring boards in terms of high density, small size, light weight, and thinness.

이들 요구에 따르기 위해, 일반적으로, 배선의 폭이나, 배선들의 간극을 저감하는 일에 추가하여, 프린트 배선판을 구성하는 절연층이나, 배선층의 두께를 저감하는 일이 행해지고 있다. 또, 종래, 배선의 층수가 4층인 다층 프린트 배선판(4층판), 및 배선의 층수가 6층인 다층 프린트 배선판(6층판)이 널리 사용되고 있다. 한편, 이들 다층 프린트 배선판으로부터 배선의 층수를 하나 줄인 3층판, 5층판 등의 홀수층의 다층 프린트 배선판을 이용함으로써, 프린트 배선판의 두께를 저감하는 일도 행해지고 있다.In order to comply with these demands, in general, in addition to reducing the width of wirings and gaps of wirings, the thickness of the insulating layer and wiring layers constituting the printed wiring board is reduced. In addition, conventionally, a multilayer printed wiring board (four-layer board) having four wiring layers and a multilayer printed wiring board (six-layer board) having six wiring layers are widely used. On the other hand, the thickness of the printed wiring board is also reduced by using a multi-layer printed wiring board such as a three-layer board or a five-layer board in which the number of wirings is reduced from those of the multilayer printed wiring board.

다음에, 종래의 3층판의 제조 방법을 설명한다. 도 3a~도 3f는, 종래의 양면 금속 적층판(711)과, 프린트 배선판(11)과, 다층 적층판(721)과, 다층 프린트 배선판(101)의 제조 방법을 도시하는 단면도이다. 우선 도 3a에 도시하는 바와 같이 제1 금속박(211)과 제2 금속박(221)의 사이에 제1 프리프레그층(311)을 배치함으로써 적층물(611)을 형성한다. 적층물(611)을 가열·가압 성형함으로써, 제1 프리프레그층(311)이 경화하여 제1 절연층(411)이 형성되고, 도 3b에 도시하는 바와 같이 제1 절연층(411)과, 제1 금속박(211)과, 제2 금속박(221)을 구비하는 양면 금속 적층판(711)이 얻어진다. 양면 금속 적층판(711)에 있어서의 제1 금속박(211)과 제2 금속박(221) 중, 제1 금속박(211)에만 배선 형성 처리를 실시한다. 이것에 의해, 도 3c에 도시하는 바와 같이 제2 금속박(221)과, 제1 절연층(411)과, 제1 배선(511)을 구비하는 프린트 배선판(11)이 얻어진다. 프린트 배선판(11)의 제1 배선(511) 상에 제2 프리프레그층(321) 및 제3 금속박(231)을 이 순서로 적층함으로써 도 3d에 도시하는 바와 같이 다층 적층물(621)을 제작한다. 다층 적층물(621)을 가열·가압 성형한다. 이것에 의해 제2 프리프레그층(321)이 경화하여 제2 절연층(421)이 형성되고, 도 3e에 도시하는 바와 같이 제2 금속박(221)과, 제1 절연층(411)과, 제1 배선(511)과, 제2 절연층(421)과, 제3 금속박(231)이 이 순서로 적층된 다층 적층판(721)이 얻어진다. 다층 적층판(721)의 제2 금속박(221) 및 제3 금속박(231)에, 각각 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제2 배선(521) 및 제3 배선(531)을 형성한다. 이것에 의해, 도 3f에 도시하는 바와 같이, 3층의 배선(제1 배선(511), 제2 배선(521), 제3 배선(531))을 구비하는 다층 프린트 배선판(101)(3층판)이 얻어진다.Next, a conventional three-layer plate manufacturing method will be described. 3A to 3F are cross-sectional views showing a conventional double-sided metal laminate 711, a printed wiring board 11, a multi-layer laminate board 721, and a method of manufacturing the multilayer printed wiring board 101. FIG. First, as shown in FIG. 3A, a first prepreg layer 311 is disposed between the first metal foil 211 and the second metal foil 221 to form a laminate 611. The first prepreg layer 311 is cured to form the first insulation layer 411 by heating and pressing the laminate 611. As shown in Fig. 3B, the first insulation layer 411, A double-side metal laminate plate 711 having a first metal foil 211 and a second metal foil 221 is obtained. Only the first metal foil 211 among the first metal foil 211 and the second metal foil 221 in the double-sided metal laminate 711 is subjected to the wiring forming process. As a result, a printed wiring board 11 having a second metal foil 221, a first insulating layer 411, and a first wiring 511 is obtained as shown in Fig. 3C. A multilayer laminate 621 is formed as shown in FIG. 3D by laminating a second prepreg layer 321 and a third metal foil 231 on the first wiring 511 of the printed wiring board 11 in this order do. The multilayer laminate 621 is heated and pressed. As a result, the second prepreg layer 321 is cured to form the second insulating layer 421, and as shown in FIG. 3E, the second metal foil 221, the first insulating layer 411, A multilayer laminate 721 is obtained in which the first wiring 511, the second insulating layer 421, and the third metal foil 231 are laminated in this order. A second wiring 521 and a third wiring 531 are formed by subjecting the second metal foil 221 and the third metal foil 231 of the multilayer laminate 721 to a wiring forming process. 3F, a multilayer printed wiring board 101 (three-layer printed wiring board) having three layers of wiring (first wiring 511, second wiring 521, and third wiring 531) ) Is obtained.

그러나, 3층판에는 휨이 발생하기 쉽다. 휨 발생의 메커니즘은, 다음과 같다고 생각되고 있다.However, warpage is likely to occur in the three-layer board. The mechanism of the occurrence of warpage is thought to be as follows.

도 3b에 도시하는 양면 금속 적층판(711)에 있어서의 제1 절연층(411) 내에는, 경화 수축에 의한 내부 응력(도 3b 중의 화살표(811))이 발생한다. 이 양면 금속 적층판(711)에 있어서의 제1 금속박(211)에 배선 형성 처리가 실시되어 제1 배선(511)이 형성됨으로써, 프린트 배선판(11)이 제작된다. 그 결과, 제1 절연층(411)의 제1 배선(511)측에서 내부 응력이 해방됨으로써, 도 3c에 도시하는 바와 같이 프린트 배선판(11)에 휨이 발생한다. 이로 인해, 프린트 배선판(11)을 다층화하여 얻어지는 3층판에도 휨이 발생하기 쉬워진다.3B) is generated in the first insulating layer 411 of the double-side metal laminate plate 711 shown in Fig. 3B due to curing shrinkage (arrow 811 in Fig. 3B). The first metal foil 211 in this double-sided metal laminate plate 711 is subjected to wiring forming treatment to form the first wiring 511, whereby the printed wiring board 11 is manufactured. As a result, internal stress is released from the first wiring 511 side of the first insulating layer 411, thereby causing warping in the printed wiring board 11 as shown in Fig. 3C. As a result, the three-layered board obtained by multilayering the printed wiring board 11 is likely to be warped.

또, 도 3d 및 도 3e에 도시하는 바와 같이 다층 적층물(621)을 가열·가압 성형하여 다층 적층판(721)을 얻을 때, 다층 적층판(721)에 있어서의 제2 절연층(421) 내에는, 경화 수축에 의한 내부 응력(도 3e 중의 화살표(831))이 발생한다. 도 3f에 도시하는 바와 같이, 배선 형성 처리가 실시됨으로써, 이 내부 응력이 해방된다. 그 결과, 도 3f에 도시하는 바와 같이 다층 프린트 배선판(101)에 휨이 발생한다.As shown in FIG. 3D and FIG. 3E, when the multilayer laminate 721 is obtained by heating and pressing the multilayer laminate 621, the second insulating layer 421 of the multilayer laminate 721 , And an internal stress (arrow 831 in FIG. 3E) due to curing shrinkage occurs. As shown in FIG. 3F, the internal stress is released by performing the wiring forming process. As a result, warpage occurs in the multilayered printed circuit board 101 as shown in Fig. 3F.

이러한 3층판에 있어서의 휨을 억제하기 위한 방법 중 하나가, 특허 문헌 1에 개시되어 있다. 이 방법에서는, 기재의 양면에 각각 제1 구리박층을 가지는 코어 기판을 이용하며, 이 코어 기판의 한쪽 면에 배선 형성 처리를 실시해 내층 회로 배선을 형성함과 더불어, 에칭 처리로 코어 기판의 다른쪽 면의 제1 구리박층을 제거한다. 이 코어 기판의 양면에 각각 프리프레그층을 개재하여 외층 회로 배선 형성용의 제2 구리박층을 적층한다. 제2 구리박층의 각각에 배선 형성 처리를 실시하여 외층 회로 배선을 형성한다. 이 방법에 의해, 3층의 구리박층이 형성된다.One of the methods for suppressing warping in such a three-ply board is disclosed in Patent Document 1. [ In this method, a core substrate having a first copper foil layer on each side of the substrate is used, wiring formation processing is performed on one side of the core substrate to form an inner-layer circuit wiring, To remove the first copper foil layer. And a second copper foil layer for forming an outer layer circuit wiring is laminated on both surfaces of the core substrate via a prepreg layer. And each of the second copper foil layers is subjected to a wiring forming process to form an outer layer circuit wiring. By this method, three layers of copper foil are formed.

일본국 특허 공개 2010-056373호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-056373

본 개시의 양면 금속 적층판의 제조 방법은, 제1 금속박과 제2 금속박의 사이에, 제1 프리프레그층을 끼움으로써, 적층물을 형성하고,In the method for producing a double-sided metal clad laminate of the present disclosure, a laminate is formed by sandwiching a first prepreg layer between a first metal foil and a second metal foil,

적층물을 예비 가열한 후, 적층물을 가열·가압 성형한다.After preheating the laminate, the laminate is heated and pressed.

또, 본 개시의 프린트 배선판의 제조 방법은, 상기에 의해 제조한 양면 금속 적층판의 제1 금속박에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제1 배선을 형성한다.In the manufacturing method of a printed wiring board of the present disclosure, the first wiring is formed by performing a wiring forming process on the first metal foil of the double-sided metal laminate plate manufactured as described above.

또, 본 개시의 다층 적층판의 제조 방법은,Further, in the manufacturing method of the multi-layered laminate of the present disclosure,

상기에 의해 제조한 프린트 배선판의, 제1 배선이 형성된 제1면에 제2 프리프레그층을 적층하고,A second prepreg layer was laminated on the first surface of the printed wiring board manufactured as described above on which the first wiring was formed,

제2 프리프레그층에 제3 금속박을 적층함으로써 다층 적층물을 제작하며,A multilayer laminate is produced by laminating a third metal foil on the second prepreg layer,

다층 적층물을 예비 가열한 후, 다층 적층물을 가열·가압 성형한다.After preheating the multilayer laminate, the multilayer laminate is heated and pressed.

또, 본 개시의 다층 프린트 배선판의 제조 방법은,Further, in the manufacturing method of the multilayered printed circuit board of the present disclosure,

상기에 의해 제조한 다층 적층판의 제2 금속박과 제3 금속박 중 적어도 한쪽에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제2 배선을 형성한다.The second wiring is formed by performing a wiring forming process on at least one of the second metal foil and the third metal foil of the multilayer laminate produced by the above.

또한, 본 개시의 다층 적층판의 제조 방법은,In addition, the manufacturing method of the multi-

절연층과, 절연층의 제1면에 형성된 제1 배선과, 절연층의 제1면과 반대측의 제2면에 형성된 금속층을 가지는 프린트 배선판을 준비하고,A printed wiring board having an insulating layer, a first wiring formed on a first surface of the insulating layer, and a metal layer formed on a second surface opposite to the first surface of the insulating layer,

제1 배선이 형성된 절연층의 상기 제1면에, 제2 프리프레그층을 적층하며,A second prepreg layer is laminated on the first surface of the insulating layer on which the first wiring is formed,

제2 프리프레그층에, 제3 금속박을 적층함으로써 다층 적층물을 제작하고,A multilayer laminate is produced by laminating a third metal foil on the second prepreg layer,

다층 적층물을 예비 가열한 후, 다층 적층물을 가열·가압 성형한다.After preheating the multilayer laminate, the multilayer laminate is heated and pressed.

또한, 본 개시의 다층 프린트 배선판의 제조 방법은,Further, in the manufacturing method of the multilayered printed circuit board of the present disclosure,

상기에 의해 제조한 다층 적층판의 금속층과 제3 금속박 중 적어도 한쪽에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제2 배선을 형성한다.The second wiring is formed by performing a wiring forming process on at least one of the metal layer and the third metal foil of the multilayer laminate produced as described above.

도 1a~도 1f는, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 양면 금속 적층판과, 프린트 배선판과, 다층 적층판과, 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 도시하는 단면도이다.
도 2는, 금속박 및 프리프레그층의, 온도와 치수 변화량의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 3a~도 3f는, 종래의 양면 금속 적층판과, 프린트 배선판과, 다층 적층판과, 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 도시하는 단면도이다.
1A to 1F are cross-sectional views showing a double-sided metal laminate plate, a printed wiring board, a multilayer laminate plate, and a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to an embodiment of the present invention.
2 is a graph showing the relationship between the temperature and the dimensional change amount of the metal foil and the prepreg layer.
3A to 3F are cross-sectional views showing a conventional double-side metal laminate plate, a printed wiring board, a multilayer laminate, and a method of manufacturing a multilayer printed wiring board.

특허 문헌 1에 기재되어 있는 방법은, 기본적으로는 4층판의 제조 방법과 같다. 이 방법으로 얻어지는 3층판은, 4층판으로부터 하나의 배선층을 제거한 구조이다. 즉 특허 문헌 1에 기재된 방법으로 제조되는 3층판은, 3개의 배선층과 3개의 절연층(2개의 프리프레그층과, 하나의 기재)을 구비하고 있다. 특허 문헌 1에 기재된 방법에서는, 기재가 필요하기 때문에, 전체의 두께를 충분히 저감할 수 없다.The method described in Patent Document 1 is basically the same as the method of manufacturing a four-layer board. The three-layer board obtained by this method is a structure in which one wiring layer is removed from the four-layer board. That is, the three-layer board manufactured by the method described in Patent Document 1 has three wiring layers, three insulating layers (two prepreg layers, and one substrate). In the method described in Patent Document 1, since the base material is required, the entire thickness can not be sufficiently reduced.

이하, 본 발명의 실시 형태를, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1a~도 1f는, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 양면 금속 적층판(71)과, 프린트 배선판(1)과, 다층 적층판(72)과, 다층 프린트 배선판(10)의 제조 방법을 도시하는 단면도이다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1A to 1F are sectional views showing a method of manufacturing the double-side metal laminate plate 71, the printed wiring board 1, the multilayer laminate plate 72 and the multilayer printed wiring board 10 according to the embodiment of the present invention to be.

양면 금속 적층판(71)의 제조 방법은, 제1 금속박(21)과 제2 금속박(22)의 사이에, 제1 프리프레그층(31)을 끼움으로써, 적층물(61)을 형성하고, 적층물(61)을 예비 가열한 후, 적층물(61)을 가열·가압 성형한다.The double-sided metal laminate plate 71 is manufactured by forming a laminate 61 by sandwiching the first prepreg layer 31 between the first metal foil 21 and the second metal foil 22, After preheating the water 61, the laminate 61 is heated and pressed.

본 실시 형태에서는, 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)의 재료로서, 금속박, 및 프리프레그층을 준비한다. 여기서, 금속박이란, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)과, 제3 금속박(23)의 총칭이다. 또, 프리프레그층이란, 제1 프리프레그층(31)과, 제2 프리프레그층(32)의 총칭이다.In this embodiment, a metal foil and a prepreg layer are prepared as the material of the printed wiring board 1 and the multilayer printed wiring board 10. [ Here, the metal foil is a generic name of the first metal foil 21, the second metal foil 22, and the third metal foil 23. The prepreg layer is a generic name of the first prepreg layer 31 and the second prepreg layer 32.

금속박의 선팽창 계수는 16ppm/K 이상, 20ppm/K 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 금속박으로서는, 구리박이 바람직하고, 예를 들어 전해 구리박, 또는 압연 구리박 등이 이용된다. 단, 금속박은, 구리박이 아니어도 되고, 예를 들어 알루미늄박, 또는 스테인리스박 등이어도 된다. 금속박의 두께는, 예를 들어 0.001mm 이상, 0.070mm 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.The coefficient of linear expansion of the metal foil is preferably in the range of 16 ppm / K or more and 20 ppm / K or less. As the metal foil, a copper foil is preferable, and for example, an electrolytic copper foil or a rolled copper foil is used. However, the metal foil may not be a copper foil, and may be, for example, an aluminum foil or a stainless foil. The thickness of the metal foil is preferably within a range of, for example, 0.001 mm or more and 0.070 mm or less.

본 실시 형태에 있어서, 프리프레그층이란, 한 매의 프리프레그로 이루어지는 층, 혹은 복수 매의 프리프레그로 이루어지고, 이들 복수 매의 프리프레그를 적층하여 구성되는 층이다.In the present embodiment, the prepreg layer is a layer composed of a single prepreg or a plurality of prepregs, and is a layer formed by laminating a plurality of prepregs.

프리프레그는, 예를 들어 보강재에 열경화성 수지 조성물을 함침시키고 나서, 필요에 따라 열경화성 수지 조성물을 가열 건조함으로써 얻어진다.The prepreg can be obtained, for example, by impregnating a reinforcing material with a thermosetting resin composition and then heat-drying the thermosetting resin composition if necessary.

보강재로서, 유리 직포를 이용하는 것이 바람직하다. 단, 보강재는 유리 부직포여도 된다. 보강재는, 아라미드 섬유, PBO(폴리파라페닐렌벤조비스옥사졸) 섬유, PBI(폴리벤조이미다졸) 섬유, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 섬유, PBZT(폴리파라페닐렌벤조비스티아졸) 섬유, 전방향족 폴리에스테르 섬유 등의 유기 섬유로 이루어지는 직포 또는 부직포여도 된다. 보강재는, 유리 섬유 이외의 무기 섬유로 이루어지는 직포 또는 부직포여도 된다.As the reinforcing material, it is preferable to use a glass woven fabric. However, the reinforcing material may be a glass nonwoven fabric. The reinforcing material is selected from the group consisting of aramid fibers, PBO (polyparaphenylenebenzobisoxazole) fibers, PBI (polybenzimidazole) fibers, PTFE (polytetrafluoroethylene) fibers, PBZT (polyparaphenylenebenzobisthiazole) A woven fabric made of organic fibers such as wholly aromatic polyester fibers, or a nonwoven fabric. The reinforcing material may be woven or nonwoven fabric made of inorganic fibers other than glass fibers.

열경화성 수지 조성물에 있어서의 열경화성 수지는, 에폭시 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 단, 열경화성 수지는, 폴리이미드 수지, 페놀 수지 또는 비스말레이미드트리아진 수지 등을 함유해도 된다. 열경화성 수지 조성물은, 무기 충전재를 함유해도 된다.The thermosetting resin in the thermosetting resin composition preferably contains an epoxy resin. However, the thermosetting resin may contain a polyimide resin, a phenol resin, a bismaleimide triazine resin, or the like. The thermosetting resin composition may contain an inorganic filler.

프리프레그는, 보강재를 구비하지 않아도 된다. 보강재를 구비하지 않는 프리프레그는, 예를 들어 열경화성 수지 조성물을 시트 형상으로 성형하고 나서, 필요에 따라 가열 건조시킴으로써 얻어진다.The prepreg does not need to have a reinforcement. A prepreg without a reinforcing material is obtained, for example, by molding the thermosetting resin composition into a sheet form and then heating and drying as required.

프리프레그의 두께는, 예를 들어 0.013mm 이상, 0.500mm 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.The thickness of the prepreg is preferably in the range of, for example, 0.013 mm or more and 0.500 mm or less.

프리프레그층의 유리 전이 온도 미만에서의 선팽창 계수는 3ppm/K 이상, 30ppm/K 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 유리 전이 온도 이상에서의 선팽창 계수는 4ppm/K 이상, 40ppm/K 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 프리프레그층의 선팽창 계수는, 프리프레그층의 재료인 열경화성 수지 조성물 중의 열경화성 수지의 종류나, 열경화성 수지 조성물 중의 충전재의 종류 및 양이나, 프리프레그층의 재료인 보강재의 종류 등을 적당히 조정함으로써 조정할 수 있다.The coefficient of linear expansion of the prepreg layer at a temperature lower than the glass transition temperature is preferably in the range of 3 ppm / K to 30 ppm / K, and the coefficient of linear expansion at the glass transition temperature or higher is in the range of 4 ppm / K to 40 ppm / K . The coefficient of linear expansion of the prepreg layer is adjusted by appropriately adjusting the kind of the thermosetting resin in the thermosetting resin composition as the material of the prepreg layer, the kind and amount of the filler in the thermosetting resin composition, the kind of the reinforcing material as the material of the prepreg layer .

프리프레그층의 유리 전이 온도란, 프리프레그층에 포함되는 프리프레그의 유리 전이 온도이다. 프리프레그의 유리 전이 온도는, 열기계 분석법(TMA법)에 의해 측정된다.The glass transition temperature of the prepreg layer is the glass transition temperature of the prepreg contained in the prepreg layer. The glass transition temperature of the prepreg is measured by thermomechanical analysis (TMA).

이하에, 본 실시 형태에 있어서의 프린트 배선판(1)의 제조 방법 및 다층 프린트 배선판(10)의 제조 방법에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the printed wiring board 1 and a method of manufacturing the multilayer printed wiring board 10 in the present embodiment will be described in detail.

우선 도 1a에 도시하는 바와 같이, 제1 금속박(21)과 제2 금속박(22)의 사이에 제1 프리프레그층(31)을 배치함으로써, 적층물(61)을 형성한다.First, as shown in Fig. 1A, the first prepreg layer 31 is disposed between the first metal foil 21 and the second metal foil 22 to form a laminate 61. [

다음에, 적층물(61)을 예비 가열하고 나서, 적층물(61)을 가열·가압 성형한다.Next, after the laminate 61 is preheated, the laminate 61 is heated and pressed.

적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 ±20℃의 범위 내임과 더불어, 적층물(61)을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 즉, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도의 20℃ 이하부터, 유리 전이 온도의 20℃ 이상까지의 범위인 것이 바람직하다. 적층물(61)을 예비 가열하고 있는 동안, 적층물(61)에는 인위적인 압축력이 걸리지 않는 것이 바람직하다. 적층물(61)을 예비 가열하는 시간은, 5초 이상, 300초 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is within the range of the glass transition temperature of the first prepreg layer 31 of 占 0 占 폚 and the maximum value at the time of heating and press molding of the laminate 61 It is preferable to be lower than the heating temperature. That is, it is preferable that the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is within a range from 20 占 폚 or less of the glass transition temperature of the first prepreg layer 31 to 20 占 폚 or more of the glass transition temperature. It is preferable that no artificial compressive force is applied to the laminate 61 while the laminate 61 is preliminarily heated. The time for preheating the laminate 61 is preferably in the range of 5 seconds or more and 300 seconds or less.

제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도는, 예를 들어 80℃ 이상, 180℃ 이하의 범위 내이다. 이 경우, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도를, 예를 들어 60℃ 이상, 200℃ 이하의 범위 내로 한다. 이와 같이, 예비 가열의 가열 온도는, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도에 따른 온도로 설정된다.The glass transition temperature of the first prepreg layer 31 is, for example, in the range of 80 占 폚 to 180 占 폚. In this case, the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is set to a range of, for example, 60 ° C or more and 200 ° C or less. As described above, the heating temperature for the preliminary heating is set to the temperature corresponding to the glass transition temperature of the first prepreg layer 31.

적층물(61)의 예비 가열 방법으로서는, 예를 들어 건조 오븐이 이용된다.As a preheating method of the laminate 61, for example, a drying oven is used.

적층물(61)을 예비 가열하고 나서, 적층물(61)을 가열·가압 성형하면, 제1 프리프레그층(31)이 열경화하여 제1 절연층(41)이 형성된다. 이것에 의해, 도 1b에 도시하는 바와 같이 제1 금속박(21)과, 제1 절연층(41)과, 제2 금속박(22)을 구비하는 양면 금속 적층판(71)이 얻어진다. 여기서, 제1 절연층(41)은, 제2 금속박(22) 위에 있다. 제1 금속박(21)은, 제1 절연층(41) 위에 있다.After the laminate 61 is preliminarily heated and the laminate 61 is heated and pressed, the first prepreg layer 31 is thermally cured to form the first insulation layer 41. As a result, a double-sided metal laminate plate 71 having the first metal foil 21, the first insulating layer 41, and the second metal foil 22 is obtained as shown in Fig. 1B. Here, the first insulating layer 41 is on the second metal foil 22. The first metal foil 21 is located on the first insulating layer 41.

적층물(61)의 가열·가압 성형을 개시하는 시기는, 적층물(61)의 예비 가열이 종료한 직후인 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 적층물(61)의 예비 가열이 종료하고 나서, 적층물(61)의 온도가 저하하기 전에 적층물(61)의 가열·가압 성형을 개시하는 것이 바람직하다.It is preferable that the timing of starting the heating and press forming of the laminate 61 is immediately after the preheating of the laminate 61 is completed. In other words, it is preferable to start the heating / press forming of the laminate 61 after the preheating of the laminate 61 is finished and before the temperature of the laminate 61 lowers.

적층물(61)을 가열·가압 성형하는 방법으로서는, 예를 들어 다단 진공 프레스, 더블 벨트 프레스, 선압롤, 또는 진공 라미네이터를 이용한 성형 방법 등을 들 수 있다.Examples of the method of heating and pressing the laminate 61 include a multi-stage vacuum press, a double belt press, a linear roll, and a molding method using a vacuum laminator.

적층물(61)을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도는, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도보다 높다. 적층물(61)을 가열·가압 성형하는 조건은, 제1 프리프레그층(31)이 충분히 열경화하도록 설정된다. 예를 들어, 가열·가압 성형에 있어서의 가열 시간이 80℃ 이상, 350℃ 이하의 범위 내이고, 성형 압력이 0.5MPa 이상, 6.0MPa 이하의 범위 내이며, 성형 시간이 1분 이상, 240분 이하의 범위 내이다.The maximum heating temperature when heating and pressing the laminate 61 is higher than the heating temperature when the laminate 61 is preheated. The conditions for heating and pressing the laminate 61 are set so that the first prepreg layer 31 is sufficiently thermally cured. For example, it is preferable that the heating time in the heating and press forming is in the range of 80 ° C or higher and 350 ° C or lower, the molding pressure is in the range of 0.5 MPa or higher and 6.0 MPa or lower, Within the following range.

적층물(61)을 가열·가압 성형하는 동안, 가열 온도를 단계적으로 변화시켜도 된다. 예를 들어 적층물(61)을 80℃ 이상, 180℃ 이하의 범위 내의 가열 온도로 1분간 성형하고, 계속해서 180℃ 이상, 350℃ 이하의 범위 내의 가열 온도로, 1분 이상, 240분 이하의 범위에서 성형해도 된다.The heating temperature may be changed stepwise while the laminate 61 is heated / pressed. For example, the laminate 61 is molded at a heating temperature within a range of 80 ° C or higher and 180 ° C or lower for 1 minute and then heated at a heating temperature within a range of 180 ° C or higher and 350 ° C or lower for 1 minute or more and 240 minutes or less May be formed.

다음에, 양면 금속 적층판(71)에 있어서의 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22) 중, 제1 금속박(21)에만 배선 형성 처리를 실시하여, 제1 배선(51)을 형성한다. 배선 형성 처리란, 예를 들어 서브트랙티브법 또는 애디티브법에 의해 배선을 형성하는 처리이다. 이것에 의해, 제2 금속박(22)으로 이루어지는 면형상의 금속층(2)과, 제1 절연층(41)과, 제1 배선(51)을 구비하는 프린트 배선판(1)이 얻어진다. 여기서, 제1 절연층(41)은, 제2 금속박(22)(금속층(2)) 위에 있다. 제1 배선(51)은, 제1 절연층(41) 위에 있다.Next, of the first metal foil 21 and the second metal foil 22 in the double-sided metal laminate plate 71, only the first metal foil 21 is subjected to wiring forming treatment to form the first wiring 51 . The wiring formation processing is processing for forming wiring by, for example, the subtractive method or the additive method. As a result, a printed wiring board 1 having a planar metal layer 2 made of the second metal foil 22, the first insulating layer 41, and the first wiring 51 is obtained. Here, the first insulating layer 41 is on the second metal foil 22 (metal layer 2). The first wiring (51) is on the first insulating layer (41).

또한, 프린트 배선판(1)을 다층 프린트 배선판(10)을 제조하기 위해 사용하는 경우, 프린트 배선판(1)은, 상기와 같이 적층물(61)의 예비 가열을 포함하는 방법으로 제조되는 것이 바람직하다. 그러나, 프린트 배선판(1)은, 상기 이외의 방법으로 제조되어도 된다. 예를 들어, 프린트 배선판(1)의 제조시에, 다층 적층물(62)을 예비 가열하는 경우는, 적층물(61)을 예비 가열하지 않아도 된다.When the printed wiring board 1 is used for manufacturing the multilayer printed wiring board 10, the printed wiring board 1 is preferably manufactured by a method including the preheating of the laminate 61 as described above . However, the printed wiring board 1 may be manufactured by a method other than the above. For example, in the case of preheating the multilayer laminate 62 at the time of manufacturing the printed wiring board 1, the laminate 61 may not be preheated.

다음에, 도 1d에 도시하는 바와 같이 프린트 배선판(1)의 제1 배선(51) 위에 제2 프리프레그층(32) 및 제3 금속박(23)을, 이 순서로 적층함으로써, 다층 적층물(62)을 얻는다. 즉, 프린트 배선판(1)의, 제1 배선(51)이 형성된 면(제1면)에 제2 프리프레그층(32)을 적층하고, 제2 프리프레그층(32)에 제3 금속박(23)을 적층함으로써 다층 적층물(62)을 제작한다.1D, a second prepreg layer 32 and a third metal foil 23 are laminated in this order on the first wiring 51 of the printed wiring board 1 to form a multilayer laminate ( 62). That is, the second prepreg layer 32 is laminated on the surface (first surface) of the printed wiring board 1 on which the first wiring 51 is formed and the third metal foil 23 ) To form a multilayer laminate 62.

다음에, 다층 적층물(62)을 예비 가열하고 나서, 다층 적층물(62)을 가열·가압 성형한다.Next, after the multi-layer laminate 62 is preheated, the multi-layer laminate 62 is heated and pressed.

다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 제2 프리프레그층(32)의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높음과 더불어, 다층 적층물(62)을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 이 가열 온도는, 예를 들어 제2 프리프레그층(32)의 유리 전이 온도보다 50℃ 높은 온도 이상, 제2 프리프레그층(32)의 유리 전이 온도보다 150℃ 높은 온도 이하의 범위 내이다. 제2 프리프레그층(32)의 유리 전이 온도는, 예를 들어 80℃ 이상, 180℃ 이하의 범위 내이다. 이 경우, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도를, 예를 들어 130℃ 이상, 330℃ 이하의 범위 내로 한다. 이와 같이, 예비 가열의 가열 온도는, 제2 프리프레그층(32)의 유리 전이 온도에 따른 온도로 설정된다. 다층 적층물(62)을 예비 가열하고 있는 동안, 다층 적층물(62)에는 인위적인 압축력이 걸리지 않는 것이 바람직하다. 다층 적층물(62)을 예비 가열하는 시간은, 5초 이상, 300초 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the multilayer laminate 62 is at least 50 占 폚 higher than the glass transition temperature of the second prepreg layer 32 and at the same time when the multilayer laminate 62 is heated / It is preferable to be lower than the maximum heating temperature. This heating temperature is, for example, within a range of a temperature higher than the glass transition temperature of the second prepreg layer 32 by 50 占 폚 and a temperature lower than the glass transition temperature of the second prepreg layer 32 by 150 占 폚. The glass transition temperature of the second prepreg layer 32 is, for example, in the range of 80 ° C or higher and 180 ° C or lower. In this case, the heating temperature at the time of preliminary heating of the multilayer laminate 62 is set to, for example, within the range of 130 ° C or higher and 330 ° C or lower. As described above, the heating temperature for the preliminary heating is set to a temperature corresponding to the glass transition temperature of the second prepreg layer 32. While the multi-layer laminate 62 is preheated, it is desirable that no artificial compressive force be applied to the multi-layer laminate 62. [ The time for preliminary heating of the multilayer laminate 62 is preferably in the range of 5 seconds or more and 300 seconds or less.

다층 적층물(62)의 예비 가열 방법으로서는, 예를 들어 건조 오븐이 이용된다.As a preliminary heating method for the multilayer laminate 62, for example, a drying oven is used.

다음에, 다층 적층물(62)을 가열·가압 성형한다. 이것에 의해, 제2 프리프레그층(32)이 열경화하여 제2 절연층(42)이 형성된다. 이것에 의해, 도 1e에 도시하는 바와 같이 금속층(2)과, 제1 절연층(41)과, 제1 배선(51)과, 제2 절연층(42)과, 제3 금속박(23)을 구비하는 다층 적층판(72)이 얻어진다. 여기서, 제1 절연층(41)은, 금속층(2) 위에 있다. 제1 배선(51)은, 제1 절연층(41) 위에 있다. 제2 절연층(42)은, 제1 배선(51) 위에 있다. 제3 금속박(23)은, 제2 절연층(42) 위에 있다.Next, the multilayer laminate 62 is heated and pressed. As a result, the second prepreg layer 32 is thermally cured to form the second insulating layer 42. As a result, the metal layer 2, the first insulating layer 41, the first wiring 51, the second insulating layer 42, and the third metal foil 23 are formed as shown in Fig. Layer laminate 72 is obtained. Here, the first insulating layer 41 is on the metal layer 2. The first wiring (51) is on the first insulating layer (41). The second insulating layer 42 is on the first wiring 51. The third metal foil 23 is on the second insulating layer 42.

다층 적층물(62)의 가열·가압 성형을 개시하는 시기는, 다층 적층물(62)의 예비 가열이 종료한 직후인 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 다층 적층물(62)의 예비 가열이 종료하고 나서, 다층 적층물(62)의 온도가 저하하기 전에 다층 적층물(62)의 가열·가압 성형을 개시하는 것이 바람직하다.It is preferable that the timing of starting the heating / pressurizing of the multilayer laminate 62 is immediately after the preheating of the multilayer laminate 62 is completed. In other words, it is preferable to start the heating / press forming of the multilayer laminate 62 before the temperature of the multilayer laminate 62 lowers after the preheating of the multilayer laminate 62 is completed.

다층 적층물(62)을 가열·가압 성형하는 방법으로서는, 예를 들어 다단 진공 프레스, 더블 벨트 프레스, 선압롤, 또는 진공 라미네이터를 이용한 성형 방법 등을 들 수 있다.Examples of the method of heating and pressing the multilayer laminate 62 include a multi-stage vacuum press, a double belt press, a linear roll, and a molding method using a vacuum laminator.

다층 적층물(62)을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도는, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도보다 높다. 다층 적층물(62)을 가열·가압 성형하는 조건은, 제2 프리프레그가 충분히 열경화하도록 설정된다. 예를 들어 다층 적층물(62)을 가열·가압 성형할 때의 가열 온도가 130℃ 이상, 350℃ 이하의 범위 내이고, 성형 압력이 예를 들어 0.5MPa 이상, 6.0MPa 이하의 범위 내이며, 성형 시간이 예를 들어 1분 이상, 240분 이내의 범위 내이다.The maximum heating temperature when heating and pressing the multilayer laminate 62 is higher than the heating temperature when the multilayer laminate 62 is preheated. The conditions for heating and pressing the multilayer laminate 62 are set so that the second prepreg is sufficiently thermally cured. For example, when the heating temperature at the time of heating and pressure-forming the multilayer laminate 62 is in the range of 130 占 폚 or more and 350 占 폚 or less and the molding pressure is in the range of 0.5 MPa or more and 6.0 MPa or less, The molding time is within a range of, for example, 1 minute to 240 minutes.

다층 적층물(62)을 가열·가압 성형하는 동안, 가열 온도를 단계적으로 변화시켜도 된다. 예를 들어 다층 적층물(62)을 130℃ 이상, 230℃ 이하의 범위 내의 가열 온도로 1분간 성형하고, 계속해서 180℃ 이상, 350℃ 이하의 범위 내의 가열 온도로 1분 이상, 240분 이내의 범위에서 성형해도 된다.The heating temperature may be changed stepwise while the multi-layer laminate 62 is heated / pressed. For example, the multilayer laminate 62 is formed at a heating temperature within a range of 130 ° C or higher and 230 ° C or lower for 1 minute and then heated at a heating temperature within a range of 180 ° C or higher and 350 ° C or lower for 1 minute or more and 240 minutes or less May be formed.

다음에, 다층 적층판(72)에 있어서의 금속층(2)에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제2 배선(52)을 형성한다. 또, 다층 적층판(72)에 있어서의 제3 금속박(23)에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제3 배선(53)을 형성한다. 또한, 금속층(2) 및 제3 금속박(23) 중, 한쪽에만 배선 형성 처리를 실시해도 된다. 배선 형성 처리란, 예를 들어 서브트랙티브법 또는 애디티브법에 의해 배선을 형성하는 처리이다. 이것에 의해, 제2 배선(52)과, 제1 절연층(41)과, 제1 배선(51)과, 제2 절연층(42)과, 제3 배선(53)을 구비하는 다층 프린트 배선판(10)이 얻어진다. 여기서, 제1 절연층(41)은, 제2 배선(52) 위에 있다. 제1 배선(51)은, 제1 절연층(41) 위에 있다. 제2 절연층(42)은, 제1 배선(51) 위에 있다. 제3 배선(53)은, 제2 절연층(42) 위에 있다.Next, the metal layer 2 of the multilayer laminate 72 is subjected to a wiring forming process to form the second wiring 52. Next, as shown in Fig. The third metal foil 23 in the multilayer laminate 72 is subjected to a wiring forming process to form the third wiring 53. [ In addition, wiring formation treatment may be performed on only one of the metal layer 2 and the third metal foil 23. The wiring formation processing is processing for forming wiring by, for example, the subtractive method or the additive method. The multilayered printed circuit board including the second wiring 52, the first insulating layer 41, the first wiring 51, the second insulating layer 42, and the third wiring 53, (10) is obtained. Here, the first insulating layer 41 is on the second wiring 52. The first wiring (51) is on the first insulating layer (41). The second insulating layer 42 is on the first wiring 51. The third wiring 53 is on the second insulating layer 42.

본 실시 형태에서는, 두께의 증대를 초래하는 일 없이, 휨이 저감된 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)이 얻어진다. 또한, 「두께의 증대를 초래하는 일 없이」란, 본 실시 형태에 있어서의 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)의 휨을 저감하는 수단이, 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)의 두께의 증대를 필요로 하지 않는 것을 의미한다. 본 실시 형태에 있어서의 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)의 두께 치수가 종래의 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)의 두께 치수에 비해 작은 것을 의미하는 것은 아니다.In the present embodiment, the printed wiring board 1 and the multilayer printed wiring board 10 in which the warp is reduced can be obtained without increasing the thickness. Means that the means for reducing the warpage of the printed wiring board 1 and the multilayer printed wiring board 10 according to the present embodiment is a printed wiring board 1 and a multilayer printed wiring board 10 Quot;) " does not need to be increased. It does not mean that the thickness dimension of the printed wiring board 1 and the multilayer printed wiring board 10 in the present embodiment is smaller than the thickness dimension of the conventional printed wiring board 1 and the multilayer printed wiring board 10. [

본 실시 형태에 있어서, 휨이 저감된 프린트 배선판(1) 및 다층 프린트 배선판(10)이 얻어지는 이유는 다음과 같다고 생각된다.In the present embodiment, it is considered that the printed wiring board 1 and the multilayer printed wiring board 10 with reduced warpage are as follows.

본 실시 형태에 있어서, 도 1a에 도시하는 바와 같이 적층물(61)을 예비 가열하고 나서 가열·가압 성형하는 경우, 우선 예비 가열에 의해 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)이, 각각 열팽창한다. 이것에 의해, 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)의 상대적인 위치 관계가 정해진다. 계속해서 적층물(61)이 가열·가압 성형되면, 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)이 접착됨과 더불어, 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)의 각각이 온도 변화에 따라 팽창·수축한다. 이로 인해, 프린트 배선판(1)의 휨 발생의 메커니즘을 검토하려면, 예비 가열시의 온도를 기준으로 하여, 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)의, 각각의 치수 변화를 고려해야만 한다.In the present embodiment, as shown in Fig. 1A, when the laminate 61 is preheated and then heated and pressed, first prepreg layer 31 and first metal foil 21 ) And the second metal foil 22 thermally expand, respectively. Thus, the relative positional relationship between the first prepreg layer 31, the first metal foil 21, and the second metal foil 22 is determined. The first prepreg layer 31 is bonded to the first metal foil 21 and the second metal foil 22 and the first prepreg layer 31 is bonded to the first prepreg layer 31, And the first metal foil 21 and the second metal foil 22 expand and contract according to the temperature change. Therefore, in order to examine the mechanism of the occurrence of the warpage of the printed wiring board 1, the first prepreg layer 31, the first metal foil 21 and the second metal foil 22 ) Must be taken into consideration.

예비 가열시의 온도를 기준으로 하면, 가열·가압 성형으로 발생하는 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)의 치수 변화의 요인으로서는, 제1 프리프레그층(31)의 경화 수축에 의한 치수 변화와, 제1 금속박(21), 제2 금속박(22), 제1 프리프레그층(31) 및 제1 절연층(41)의 각각의 열팽창 계수에 따른 온도 변화에 의한 팽창 및 수축을 들 수 있다.With respect to the temperature at the time of preliminary heating, as factors of the dimensional change of the first prepreg layer 31, the first metal foil 21, and the second metal foil 22 generated by the heating and press forming, The dimensional change due to the curing shrinkage of the prepreg layer 31 and the dimensional change of the first metal foil 21, the second metal foil 22, the first prepreg layer 31 and the first insulating layer 41, And expansion and contraction due to the temperature change depending on the temperature.

도 2는, 금속박 및 프리프레그층의, 온도와 치수 변화량의 관계의 예를 나타내는 그래프이다. 도 2의 횡축은 온도를 나타내고, 종축은 25℃를 기준으로 한 치수 변화량을 나타내고 있다. Tg는 프리프레그층의 유리 전이 온도를 나타낸다. 또, 일반적으로, 프리프레그층의 경화물(절연층)의 치수 변화는, 유리 전이 온도 이하의 프리프레그층의 치수 변화와 거의 같다.2 is a graph showing an example of the relationship between the temperature and the dimensional change amount of the metal foil and the prepreg layer. The abscissa of Fig. 2 represents the temperature, and the ordinate represents the dimensional change with reference to 25 占 폚. Tg represents the glass transition temperature of the prepreg layer. In general, the dimensional change of the cured product (insulating layer) of the prepreg layer is almost the same as the dimensional change of the prepreg layer below the glass transition temperature.

도 2를 참조하면, 적층물(61)이 상온으로부터 예비 가열되면, 제1 프리프레그층(31)의 치수의 증대량보다 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수의 증대량이 크다. 예비 가열에 의해, 이 상태로 제1 프리프레그층(31)과, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 각각이 접착하여, 이들의 상대적인 위치 관계가 고정된다.2, when the stacked body 61 is preheated from room temperature, the amount of increase in the dimensions of the first metal foil 21 and the second metal foil 22 is larger than the increase in the dimension of the first prepreg layer 31 Big. The first prepreg layer 31 and the first metal foil 21 and the second metal foil 22 adhere to each other by the preliminary heating and their relative positional relationship is fixed.

제1 프리프레그가 열경화함으로써 제1 절연층(41)이 형성될 때에 발생하는 경화 수축만을 고려하면, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수보다, 제1 절연층(41)의 치수가 작아진다.Considering only the curing shrinkage that occurs when the first insulating layer 41 is formed due to thermal curing of the first prepreg, the thickness of the first insulating layer 41 ) Becomes smaller.

한편, 예비 가열시 상태를 기준으로 한, 제1 금속박(21), 제2 금속박(22), 제1 프리프레그층(31) 및 제1 절연층(41)의 온도 변화에 의한 팽창 및 수축에만 기인하는 치수 변화는, 다음과 같다.On the other hand, only the expansion and contraction due to the temperature change of the first metal foil 21, the second metal foil 22, the first prepreg layer 31 and the first insulation layer 41, The dimensional changes caused by the following are as follows.

우선, 적층물(61)이 가열·가압 성형됨으로써, 적층물(61)의 온도가 더욱 상승하면, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수의 증대량보다 제1 프리프레그층(31)의 치수의 증대량이 커진다. 즉, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수보다, 제1 프리프레그층(31)의 치수가 커진다.The temperature of the laminate 61 is further increased by heating and pressing the laminate 61 so that the amount of increase in the dimension of the first metal foil 21 and the second metal foil 22 is smaller than the amount of increase in the dimension of the first metal foil 21 and the second metal foil 22, The amount of increase of the dimension of the base 31 is increased. That is, the dimension of the first prepreg layer 31 is larger than the dimensions of the first metal foil 21 and the second metal foil 22.

계속해서, 제1 프리프레그층(31)이 가열·가압 성형에 의해 열경화하여 제1 절연층(41)이 형성되고 나서, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)과, 제1 절연층(41)이 상온까지 냉각되면, 제1 금속박(21)과, 제2 금속박(22)과, 제1 절연층(41)은 수축한다. 상기 서술한 대로, 제1 절연층(41)의 치수 변화는, 유리 전이 온도 이하의 제1 프리프레그층(31)의 치수 변화와 거의 같기 때문에, 도 2를 참조하면, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수의 감소량은, 제1 절연층(41)의 치수의 감소량보다 커진다. 따라서, 상온에서는 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수보다, 제1 절연층(41)의 치수가 크고, 그 치수의 차는 가열·가압 성형시보다 커진다.Subsequently, the first prepreg layer 31 is thermally cured by heating and press forming to form the first insulating layer 41. Thereafter, the first metal foil 21, the second metal foil 22, 1 The first metal foil 21, the second metal foil 22 and the first insulating layer 41 shrink when the insulating layer 41 is cooled to room temperature. As described above, the dimensional change of the first insulating layer 41 is substantially the same as the dimensional change of the first prepreg layer 31 below the glass transition temperature. Therefore, referring to FIG. 2, the first metal foil 21, And the second metal foil 22 is larger than the reduction amount of the dimension of the first insulating layer 41. [ Therefore, at the normal temperature, the dimension of the first insulating layer 41 is larger than the dimension of the first metal foil 21 and the second metal foil 22, and the difference in dimension becomes larger than in the case of heating and press forming.

이와 같이, 온도 변화에 의한 팽창 및 수축만을 고려하면, 예비 가열을 행함으로써, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수보다, 제1 절연층(41)의 치수가 커진다.In this way, considering only the expansion and contraction due to the temperature change, the size of the first insulating layer 41 becomes larger than the dimensions of the first metal foil 21 and the second metal foil 22 by performing the preliminary heating.

이상과 같이, 제1 프리프레그가 열경화함으로써 발생하는 경화 수축에 기인하는 치수 변화만을 고려하면 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수보다 제1 절연층(41)의 치수가 작아진다. 그러나, 온도 변화에 의한 팽창 및 수축에 기인하는 치수 변화만을 고려하면, 반대로 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수보다 제1 절연층(41)의 치수가 커진다. 이러한, 2종류의 치수 변화가 동시에 발생함으로써, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)과, 제1 절연층(41)의 사이의 치수차가 작아진다. 또한, 경화 수축에 기인하는 치수 변화만을 고려한 경우에 발생하는 치수차의 절대값은, 온도 변화에 의한 팽창 및 수축에 기인하는 치수 변화만을 고려한 경우에 발생하는 치수차의 절대값보다 크다. 그러나, 본 실시 형태에서는, 예비 가열을 행함으로써, 상기의 치수차의 절대값의 차는 작아진다.Considering only the dimensional change due to the curing shrinkage caused by the thermal curing of the first prepreg, the dimension of the first insulating layer 41 is smaller than the dimension of the first metal foil 21 and the second metal foil 22 Lt; / RTI > However, considering only the dimensional change due to the expansion and contraction due to the temperature change, the dimension of the first insulating layer 41 is larger than the dimensions of the first metal foil 21 and the second metal foil 22. The dimensional difference between the first metal foil 21 and the second metal foil 22 and the first insulating layer 41 is reduced due to the simultaneous two dimensional changes. In addition, the absolute value of the dimensional difference generated when only the dimensional change caused by the shrinkage of the cure is considered is larger than the absolute value of the dimensional difference generated when only the dimensional change due to the expansion and contraction due to the temperature change is considered. However, in the present embodiment, by performing the preheating, the difference in the absolute value of the dimensional difference becomes smaller.

양면 금속 적층판(71)에서는 제1 절연층(41)은, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)에 의해 구속되어 있다. 그로 인해, 실제로는 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)과, 제1 절연층(41)의 사이에 치수차는 발생하지 않고, 제1 절연층(41) 내에, 제1 절연층(41)이 수축하는 방향(도 1b 중의 화살표(81)로 나타내지는 방향)으로 내부 응력이 발생한다. 본 실시 형태에서는, 예비 가열을 하지 않는 경우(도 3b 참조)에 비하면, 내부 응력이 작아진다.In the double-sided metal laminate plate 71, the first insulating layer 41 is bound by the first metal foil 21 and the second metal foil 22. A difference in dimension does not actually occur between the first metal foil 21 and the second metal foil 22 and the first insulating layer 41 and the first insulating layer 41 The internal stress is generated in the direction in which the first and second electrodes 41 and 41 contract (the direction indicated by the arrow 81 in Fig. 1B). In the present embodiment, the internal stress is smaller than when the preheating is not performed (see Fig. 3B).

양면 금속 적층판(71)의 제1 금속박(21)에 배선 형성 처리를 실시함으로써 제1 배선(51)을 형성하고, 프린트 배선판(1)을 얻는다. 그렇게 하면, 제1 절연층(41)의 내부 응력이 해방되어 도 1c에 도시하는 바와 같이 프린트 배선판(1)에 휨이 발생하는데, 이 휨은, 적층물(61)을 예비 가열하지 않는 경우(도 3c 참조)에 비해, 억제된다.The first metal foil 21 of the double-sided metal laminate plate 71 is subjected to the wiring forming treatment to form the first wiring 51 to obtain the printed wiring board 1. [ As a result, the internal stress of the first insulating layer 41 is released, and warping occurs in the printed wiring board 1 as shown in Fig. 1C. This warpage occurs when the laminate 61 is not preheated See Fig. 3C).

온도 변화에 의한 팽창 및 수축만을 고려한 경우의, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)의 치수와, 제1 절연층(41)의 치수차는, 도 2를 참조하면, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 부근인 경우에 특히 커진다. 그로 인해, 프린트 배선판(1)의 휨을 효과적으로 억제하기 위해서는, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 부근인 것이 바람직하고, 특히 상기 서술한 대로 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 ±20℃의 범위 내인 것이 바람직하다.2, the dimensions of the first metal foil 21 and the second metal foil 22 and the dimensional difference of the first insulation layer 41 in the case where only expansion and contraction due to the temperature change are considered, ) Is preliminarily heated in the vicinity of the glass transition temperature of the first prepreg layer 31 is particularly large. Therefore, in order to effectively suppress warping of the printed wiring board 1, it is preferable that the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is in the vicinity of the glass transition temperature of the first prepreg layer 31, It is preferable that the glass transition temperature of the first prepreg layer 31 is within a range of 占 0 占 폚.

또한, 도 2를 참조하면, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 부근보다 높은 온도인 경우에, 프린트 배선판(1)의 휨이 더욱 저감될 수 있다. 이것은, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가 높으면, 예비 가열시를 기준으로 한 냉각시의 온도 변화가 커지기 때문에, 온도 변화에 의한 팽창 및 수축에 기인하는 치수 변화만을 고려한 경우에 발생하는 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)과, 제1 프리프레그층(31)의 사이의 치수차가, 더욱 커지기 때문이다. 그러나, 도 2를 참조하면, 제1 프리프레그층(31)의 온도가 유리 전이 온도보다 높아지면, 그 열팽창 계수가 급격하게 커진다. 그로 인해, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 부근보다 높은 온도이면, 가열 온도의 얼마 안되는 편차가, 제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22)과 제1 프리프레그층(31)의 사이의 치수차에 큰 영향을 미치는 경우가 있다. 그로 인해, 탄성률이 작은 프린트 배선판(1)의 휨에 대해 큰 영향을 미치는 경우가 있다.2, when the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is higher than the vicinity of the glass transition temperature of the first prepreg layer 31, the warpage of the printed wiring board 1 Can be further reduced. This is because, when the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is high, the temperature change at the time of cooling based on the preliminary heating becomes large. Therefore, when only the dimensional change due to the expansion and contraction due to the temperature change is considered This is because the difference in dimension between the first metal foil 21 and the second metal foil 22 and the first prepreg layer 31 generated becomes larger. However, referring to FIG. 2, when the temperature of the first prepreg layer 31 becomes higher than the glass transition temperature, the coefficient of thermal expansion thereof rapidly increases. Thus, if the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is higher than the vicinity of the glass transition temperature of the first prepreg layer 31, The dimension difference between the second metal foil 22 and the first prepreg layer 31 may be greatly influenced. As a result, the elastic modulus may have a large influence on the warpage of the printed wiring board 1 having a small elastic modulus.

이로 인해, 제1 금속박(21), 제2 금속박(22) 및 프리프레그층의 치수 변화를 안정적으로 제어하여 프린트 배선판(1)의 휨을 억제하기 위해서는, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도에 비해 너무 높지 않은 것이 바람직하다. 특히 상기 서술한 대로 제1 프리프레그층(31)의 유리 전이 온도 ±20℃의 범위 내인 것이 바람직하다.In order to stably control the dimensional changes of the first metal foil 21, the second metal foil 22 and the prepreg layer to suppress the warpage of the printed wiring board 1, The heating temperature is preferably not too high as compared with the glass transition temperature of the first prepreg layer 31. The glass transition temperature of the first prepreg layer 31 is preferably within a range of 占 0 占 폚.

또, 본 실시 형태에 있어서, 도 1d에 도시하는 바와 같이 다층 적층물(62)을 예비 가열하고 나서 가열·가압 성형하는 경우, 우선 예비 가열에 의해, 제2 프리프레그층(32)과, 제3 금속박(23)과, 프린트 배선판(1)이 열팽창한다. 이것에 의해, 제2 프리프레그층(32)과, 제3 금속박(23)과, 프린트 배선판(1)의 상대적인 위치 관계가 정해진다. 계속해서, 다층 적층물(62)이 가열·가압 성형되면, 제2 프리프레그층(32)과, 제3 금속박(23) 및 프린트 배선판(1)이, 각각 접착함과 더불어, 제2 프리프레그층(32)과, 제3 금속박(23)과, 프린트 배선판(1)이, 각각 온도 변화에 따라 팽창·수축한다. 이로 인해, 다층 프린트 배선판(10)의 휨 발생의 메커니즘을 검토하려면, 예비 가열시의 온도를 기준으로 하여 제2 프리프레그층(32)과, 제3 금속박(23)과, 프린트 배선판(1)의, 각각의 치수 변화를 고려해야만 한다. 특히, 탄성률이 큰 제2 프리프레그층(32)의 치수 변화와, 프린트 배선판(1)의 치수 변화가, 다층 프린트 배선판(10)의 휨 발생에 대해 지배적이라고 생각된다.1D, when the multilayer laminate 62 is preliminarily heated and then subjected to heating and pressure molding, first preliminary heating is performed to form the second prepreg layer 32 and the second prepreg layer 32, 3 metal foil 23 and the printed wiring board 1 are thermally expanded. Thus, the relative positional relationship between the second prepreg layer 32, the third metal foil 23, and the printed wiring board 1 is determined. Subsequently, when the multilayer laminate 62 is heated and pressed, the second prepreg layer 32, the third metal foil 23 and the printed wiring board 1 are bonded together, and the second prepreg layer 32, The layer 32, the third metal foil 23, and the printed wiring board 1 expand and contract in accordance with the temperature change, respectively. Therefore, in order to examine the mechanism of the occurrence of the warpage of the multilayered printed circuit board 10, it is preferable that the second prepreg layer 32, the third metal foil 23, the printed wiring board 1, , Each of the dimensional changes must be considered. Particularly, it is considered that the dimensional change of the second prepreg layer 32 having a large elastic modulus and the dimensional change of the printed wiring board 1 dominate the occurrence of warpage of the multilayered printed circuit board 10. [

예비 가열시의 온도를 기준으로 하면, 가열·가압 성형으로 발생하는 제2 프리프레그층(32) 및 프린트 배선판(1)의 치수 변화의 요인으로서는, 제2 프리프레그층(32)이 열경화함으로써 제2 절연층(42)이 형성될 때에 발생하는 경화 수축에 의한 치수 변화와, 제3 금속박(23)과, 제2 프리프레그층(32)과, 프린트 배선판(1)의, 각각의 열팽창 계수에 따른 온도 변화에 의한 팽창 및 수축을 들 수 있다. 프린트 배선판(1)은, 금속층(2)과, 제1 절연층(41)과, 제1 배선(51)이 적층되어 있는 복합체이기 때문에, 금속층(2)의 치수 변화가, 프린트 배선판(1) 전체의 치수 변화에 대해 지배적이라고 생각된다.On the basis of the temperature at the time of preliminary heating, as a factor of the dimensional change of the second prepreg layer 32 and the printed wiring board 1 caused by heating and pressing, the second prepreg layer 32 is thermally cured The dimensions of the third metal foil 23, the second prepreg layer 32, and the printed wiring board 1, which are caused by the curing shrinkage that occurs when the second insulating layer 42 is formed, And expansion and contraction due to the temperature change depending on the temperature. Since the printed wiring board 1 is a composite in which the metal layer 2, the first insulating layer 41 and the first wiring 51 are laminated, It is considered to be dominant over the whole dimensional change.

그래서, 제3 금속박(23)과, 제2 프리프레그층(32)과, 금속층(2)이 적층되어 있는 구조를 상정한다. 그렇게 하면, 프린트 배선판(1)을 제조하는 경우와 같은 이유에 의해, 예비 가열을 함으로써, 본 실시 형태에서는 제2 프리프레그층(32)이 열경화하여 형성되는 제2 절연층(42)과, 제3 금속박(23) 및 금속층(2)의 사이의 치수차가 작아진다. 이로 인해, 다층 적층판(72)의 제2 절연층(42) 내에 발생하는 내부 응력은, 예비 가열을 함으로써 작아진다. 이로 인해, 다층 프린트 배선판(10)의 휨이 억제된다.Therefore, it is assumed that the third metal foil 23, the second prepreg layer 32, and the metal layer 2 are laminated. In this case, the second insulating layer 42 is formed by thermally curing the second prepreg layer 32 in the present embodiment by performing the preliminary heating for the same reason as in the case of manufacturing the printed wiring board 1, The dimensional difference between the third metal foil 23 and the metal layer 2 becomes small. As a result, the internal stress generated in the second insulating layer 42 of the multilayer laminate plate 72 is reduced by preliminary heating. As a result, warping of the multilayered printed circuit board 10 is suppressed.

또, 제2 프리프레그층(32)과 프린트 배선판(1)의 관계에 주목하면, 온도 변화에 의한 팽창 및 수축만을 고려하면, 도 2를 참조하면, 금속층(2)의 수축량은, 제2 절연층(42)의 수축량보다 크다. 금속층(2)의 수축량과 제2 절연층(42)의 수축량의 차는, 예비 가열 온도가 높을수록, 커진다. 이 수축량의 차는, 제2 프리프레그층(32)이 열경화하여, 제2 절연층(42)이 형성될 때에 발생하는 경화 수축을 상쇄할 수 있다. 이로 인해, 다층 프린트 배선판(10)의 휨이 억제된다.2, considering the expansion and contraction due to the temperature change, the amount of shrinkage of the metal layer 2 is set to be larger than the shrinkage amount of the second insulation layer 2, Is greater than the shrinkage amount of the layer (42). The difference between the shrinkage amount of the metal layer 2 and the shrinkage amount of the second insulating layer 42 becomes larger as the preheating temperature is higher. This difference in shrinkage amount can offset the curing shrinkage that occurs when the second prepreg layer 32 is thermally cured and the second insulating layer 42 is formed. As a result, warping of the multilayered printed circuit board 10 is suppressed.

또, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도가 높을수록, 온도 변화에 의한 팽창 및 수축에 기인하는 금속층(2)과 제2 절연층(42)의 수축량의 차가 커진다. 그 결과, 제2 절연층(42)이 형성될 때에 발생하는 경화 수축을 고려하더라도, 금속층(2)의 수축량이, 제2 절연층(42)의 수축량보다 커질 수 있다. 그렇게 하면, 프린트 배선판(1)에 휨이 발생되어 있어도, 이 프린트 배선판(1)에, 휨을 해소시키도록 힘이 걸린다. 이것에 의해서도, 다층 프린트 배선판(10)의 휨이 억제된다.The higher the heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate 62, the larger the difference between the contraction amount of the metal layer 2 and the second insulating layer 42 due to the expansion and contraction due to the temperature change. As a result, the shrinkage amount of the metal layer 2 can be larger than the shrinkage amount of the second insulating layer 42, even if the shrinkage occurs when the second insulating layer 42 is formed. Thus, even if warpage is generated in the printed wiring board 1, a force is applied to the printed wiring board 1 in order to eliminate warpage. This also suppresses the warpage of the multilayered printed circuit board 10.

프린트 배선판(1)의 휨을 해소함으로써 다층 프린트 배선판(10)의 휨을 억제하기 위해서는, 상기 서술한 대로, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 다층 적층물(62) 중의 제2 프리프레그층(32)의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높은 것이 바람직하다.In order to suppress warpage of the multilayer printed wiring board 10 by eliminating the warpage of the printed wiring board 1, the heating temperature at the time of preliminary heating of the multilayer laminate 62, as described above, 2 < / RTI > higher than the glass transition temperature of the prepreg layer 32,

본 실시 형태에 있어서의 다층 적층물(62)을 코어 기재로서 이용하고, 다층 적층물(62)을 더욱 다층화함으로써, 5층판, 7층판 등과 같은, 5층 이상의 홀수의 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판을 얻을 수도 있다. 코어 기재의 휨이 억제되어 있기 때문에, 5층 이상의 배선층을 구비하는 다층 프린트 배선판의 휨도 억제할 수 있다.The multilayer laminate 62 of the present embodiment is used as the core substrate and the multilayer laminate 62 is further multilayered to form a multilayer printed wiring board having five or more odd wiring layers, . Warpage of the core substrate is suppressed, so that warping of the multilayered printed circuit board having five or more wiring layers can be suppressed.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.

(실시예 1)(Example 1)

처음에, 프리프레그층(제1 프리프레그층(31))을, 하기의 순서로 제작한다.First, a prepreg layer (first prepreg layer 31) is formed in the following order.

열경화성 수지를 19질량부, 무기 충전재를 65질량부, 경화제를 16질량부, 경화 촉진제를 0.02질량부, 각각 준비한다. 또한, 직포 기재를 준비한다. 여기서, 열경화성 수지로서, 다관능 에폭시 수지인 일본 화약 주식회사 제조 「EPPN502H」를 이용하고 있다. 무기 충전재로서, 구상 실리카인 주식회사 아드마텍스 제조 「SO-C6」(평균 입경 2㎛)을 이용하고 있다. 경화제로서, 페놀계 경화제인 메이와 화성 주식회사 제조 「MEH7600」을 이용하고 있다. 경화 촉진제로서, 2-에틸-4-메틸이미다졸(시코쿠 화성 공업 주식회사 제조)을 이용하고 있다. 직포 기재로서, 유리 크로스인 아사히 화성 주식회사 제조 「1017크로스」(두께 15㎛)를 이용하고 있다.19 parts by mass of a thermosetting resin, 65 parts by mass of an inorganic filler, 16 parts by mass of a curing agent and 0.02 parts by mass of a curing accelerator are prepared. Further, a woven fabric substrate is prepared. Here, as the thermosetting resin, "EPPN502H" manufactured by Nippon Yakushi Kasei Co., Ltd., which is a polyfunctional epoxy resin, is used. As the inorganic filler, spherical silica "SO-C6" (average particle diameter 2 μm) manufactured by Admatech Co., Ltd. is used. As the curing agent, "MEH7600" manufactured by Meiwa Chemical Industry Co., Ltd., which is a phenolic curing agent, is used. As the curing accelerator, 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) is used. As the woven fabric substrate, " 1017 cross " (thickness 15 占 퐉) manufactured by Asahi Kasei Corporation, which is a glass cloth, is used.

상기의 열경화성 수지, 무기 충전재, 경화제, 경화 촉진제를 혼합하고, 용제(메틸에틸케톤)로 희석함으로써, 니스 형상의 열경화성 수지 조성물을 조제한다.The thermosetting resin composition, the inorganic filler, the curing agent and the curing accelerator are mixed and diluted with a solvent (methyl ethyl ketone) to prepare a varnish-type thermosetting resin composition.

이 열경화성 수지 조성물을, 상기의 직포 기재에 함침시키고 나서, 열경화성 수지 조성물이 반경화 상태가 될 때까지 100℃ 이상, 200℃ 이하의 범위 내에서, 5분 이상, 15분 이내의 범위 내에서, 건조로 내에 있어서 가열 건조(1차 가열)한다. 또한 120℃로 2분간, 추가적으로 가열 건조(2차 가열)한다. 이것에 의해, 유리 전이 온도가 120℃, 유리 전이 온도 미만에서의 선팽창 계수가 16ppm/K, 유리 전이 온도 이상에서의 선팽창 계수가 20ppm/K, 그 열경화물의 선팽창 계수가 10ppm/K인 프리프레그층이 얻어진다. 이 프리프레그층 전량에 대한 프리프레그층 중의 열경화성 수지 조성물의 백분비(레진 콘텐트)는 75질량%였다.The thermosetting resin composition is impregnated in the above woven fabric substrate and then heated in the range of not less than 100 ° C. and not more than 200 ° C. for not less than 5 minutes and not more than 15 minutes until the thermosetting resin composition becomes semi- Heat drying (primary heating) in the drying furnace. It is further heated and dried (secondary heating) at 120 DEG C for 2 minutes. As a result, a prepreg having a linear expansion coefficient of 16 ppm / K at a glass transition temperature of 120 占 폚, a glass transition temperature of less than 16 ppm / K, a linear expansion coefficient of 20 ppm / K at a glass transition temperature of more than 20 ppm / K, Layer is obtained. The percentage (resin content) of the thermosetting resin composition in the prepreg layer with respect to the total amount of the prepreg layer was 75 mass%.

다음에 상기의 프리프레그층을 이용하여, 하기의 순서로 프린트 배선판(1)을 제작한다.Next, the prepreg layer is used to produce the printed wiring board 1 in the following procedure.

2매의 구리박(제1 금속박(21) 및 제2 금속박(22))의 사이에, 제1 프리프레그층(31)으로서, 상기의 프리프레그층을 배치함으로써, 적층물(61)을 얻는다. 여기서, 구리박으로서, 두께 12㎛, 선팽창 계수 18ppm/K의 미츠이 금속광업 주식회사 제조 「3EC-VLP」를 이용하고 있다. 이 적층물(61)을, 우선 프리프레그층의 유리 전이 온도인 120℃로 1분간 예비 가열한다. 계속해서, 적층물(61)의 온도를 120℃로 유지한 채, 적층물(61)을 120℃로 가열된 플레이트에 실어, 이 상태로 다단 진공 프레스를 이용한 가열 가압 방식으로 가열·가압 성형한다. 가열·가압 성형에 있어서는, 적층물(61)을 우선 가열 온도 120℃, 가압력 4.5MPa, 성형 시간 1분간의 조건으로 성형하고, 계속해서 가열 온도 220℃, 가압력 4.5MPa, 성형 시간 160분간의 조건으로 성형한다. 이것에 의해, 양면 금속 적층판(71)을 얻는다.The prepreg layer is disposed as the first prepreg layer 31 between the two copper foils (the first metal foil 21 and the second metal foil 22) to obtain a laminate 61 . Here, "3EC-VLP" manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd. having a thickness of 12 μm and a coefficient of linear expansion of 18 ppm / K is used as the copper foil. This laminate 61 is preliminarily heated at 120 占 폚, which is the glass transition temperature of the prepreg layer, for 1 minute. Subsequently, while maintaining the temperature of the laminate 61 at 120 占 폚, the laminate 61 is placed on a plate heated at 120 占 폚 and heated and pressed under this condition by a heating and pressing method using a multi-stage vacuum press . In the heating and press forming, the laminate 61 was first molded under the conditions of a heating temperature of 120 占 폚, a pressing force of 4.5 MPa, and a molding time of 1 minute. Subsequently, under the conditions of a heating temperature of 220 占 폚, a pressing force of 4.5 MPa, . Thus, the double-sided metal laminate plate 71 is obtained.

양면 금속 적층판(71) 중 하나의 구리박에만, 서브트랙티브법에 의해 배선 형성 처리를 실시함으로써, 배선(제1 배선(51))을 형성한다. 이것에 의해, 프린트 배선판(1)을 얻는다.Only the copper foil of the double-sided metal laminate plate 71 is subjected to the wiring forming process by the subtractive method to form the wiring (the first wiring 51). Thus, the printed wiring board 1 is obtained.

다음에 상기의 프린트 배선판(1)을 이용하여, 하기의 순서로 다층 프린트 배선판(10)을 제작한다.Next, the multilayer printed wiring board 10 is manufactured using the printed wiring board 1 in the following order.

프린트 배선판(1)의 배선에, 제2 프리프레그층(32)으로서, 상기의 프리프레그층 및 구리박을 이 순서로 적층함으로써, 다층 적층물(62)을 얻는다. 여기서, 구리박으로서, 두께 12㎛의 미츠이 금속 광업 주식회사 제조 「3EC-VLP」를 이용하고 있다. 이 다층 적층물(62)을, 우선 220℃로 1분간 예비 가열한다. 계속해서, 다층 적층물(62)의 온도를 220℃로 유지한 채, 다층 적층물(62)을 220℃로 가열된 플레이트에 실어, 이 상태로 다단 진공 프레스를 이용한 가열 가압 방식으로 가열·가압 성형한다. 가열·가압 성형에 있어서는, 다층 적층물(62)을 가열 온도 220℃, 가압력 4.5MPa, 성형 시간 160분간의 조건으로 성형한다. 이것에 의해, 다층 적층판(72)을 얻는다.The multilayer laminate 62 is obtained by laminating the prepreg layer and the copper foil as the second prepreg layer 32 in this order on the wiring of the printed wiring board 1 in this order. Here, as the copper foil, "3EC-VLP" manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd. having a thickness of 12 μm is used. The multilayer laminate 62 is first preheated at 220 占 폚 for 1 minute. Subsequently, while maintaining the temperature of the multilayer laminate 62 at 220 占 폚, the multilayer laminate 62 was placed on a plate heated at 220 占 폚, and in this state, the multilayer laminate 62 was heated and pressurized in a heating and pressing manner using a multi- . In the heating and press forming, the multilayer laminate 62 is molded under the conditions of a heating temperature of 220 占 폚, a pressing force of 4.5 MPa, and a molding time of 160 minutes. Thus, a multilayer laminate 72 is obtained.

(실시예 2)(Example 2)

적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도를 100℃로 하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate (61) is set at 100 캜. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(실시예 3)(Example 3)

적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도를 140℃로 하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is set at 140 占 폚. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(실시예 4)(Example 4)

다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도를 170℃로 하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the multilayer laminate 62 is set at 170 占 폚. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(실시예 5)(Example 5)

적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도를 80℃로 하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is 80 占 폚. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(실시예 6)(Example 6)

적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도를 160℃로 하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is set at 160 캜. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(실시예 7)(Example 7)

다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도를 150℃로 하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate 62 is set at 150 캜. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(비교예)(Comparative Example)

적층물을 예비 가열하는 일 없이 가열·가압 성형함과 더불어, 다층 적층물을 예비 가열하는 일 없이 가열·가압 성형하고 있다. 그 이외는 실시예 1과 같은 조건으로, 다층 적층판을 제작하고 있다.The multilayer laminate is subjected to heating and pressure molding without preheating the laminate, and heating and pressure molding without preheating the multilayer laminate. A multilayer laminate was produced under the same conditions as in Example 1 except for the above.

(다층 프린트 배선판의 휨량 평가)(Evaluation of Deflection of Multilayer Printed Wiring Board)

각 실시예 및 비교예에서 얻어진 다층 적층판으로부터, 평면에서 봤을 때 치수 20cm×20cm의 샘플을 자르고 있다. 이 샘플의 양면의 구리박을 에칭에 의해 모두 제거하고 나서, 이 샘플을 200℃로 1시간, 가열하고 있다.From the multi-layer laminate obtained in each of the Examples and Comparative Examples, a sample having a size of 20 cm x 20 cm as viewed from a plane was cut. All the copper foils on both sides of this sample were removed by etching, and the sample was heated at 200 占 폚 for 1 hour.

계속해서, 샘플을, 프린트 배선판을 제작할 때에 형성한 배선이, 프린트 배선판을 제작할 때에 형성한 절연층보다 상방에 위치하도록 배치한다. 이 상태로, 샘플의 휨량을 측정한다. 휨량은, 샘플의 상방에 볼록 형상으로 휨이 발생하고 있는 경우에는 플러스의 값으로 규정하고, 하방에 볼록 형상으로 휨이 발생하고 있는 경우에는 마이너스의 값으로 규정한다. 그 결과를 표 1에 기재한다. 표 1에 있어서, 선팽창 계수의 단위는 ppm/K이다.Subsequently, the sample is arranged so that the wiring formed at the time of manufacturing the printed wiring board is located above the insulating layer formed at the time of manufacturing the printed wiring board. In this state, the amount of deflection of the sample is measured. The amount of bending is defined as a positive value when the bending occurs in a convex shape above the sample, and is defined as a negative value when bending occurs in a downward convex shape. The results are shown in Table 1. In Table 1, the unit of linear expansion coefficient is ppm / K.

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

표 1로부터 명백하듯이, 비교예에 비해, 각 실시예에서는 프린트 배선판 및 다층 프린트 배선판의 휨이 억제되어 있다.As apparent from Table 1, in each of the examples, warping of the printed wiring board and the multilayer printed wiring board is suppressed as compared with the comparative example.

특히, 실시예 1~4에서는, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가, 프리프레그층(제1 프리프레그층(31))의 유리 전이 온도 ±20℃의 범위 내이며, 또한, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 다층 적층물(62) 중의 프리프레그층(제2 프리프레그층(32))의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높다. 그로 인해, 휨량이 매우 작다.Particularly, in Examples 1 to 4, the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is within the range of the glass transition temperature of the prepreg layer (first prepreg layer 31) ± 20 ° C, , The heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate 62 is higher than the glass transition temperature of the prepreg layer (second prepreg layer 32) in the multilayer laminate 62 by 50 ° C or more. As a result, the deflection amount is very small.

실시예 5, 6에서는, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 다층 적층물(62) 중의 프리프레그층의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높다. 그러나, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가, 프리프레그층의 유리 전이 온도 ±20℃의 범위 내는 아니다. 그로 인해, 실시예 5, 6의 휨량은, 비교예보다는 작지만, 실시예 1~4보다는 크다.In Examples 5 and 6, the heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate 62 is higher than the glass transition temperature of the prepreg layer in the multilayer laminate 62 by 50 ° C or more. However, the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is not within the range of the glass transition temperature of the prepreg layer +/- 20 占 폚. As a result, the bending amounts of Examples 5 and 6 are smaller than those of Comparative Examples, but larger than those of Examples 1 to 4.

실시예 7에서는, 적층물(61)을 예비 가열할 때의 가열 온도가, 프리프레그층의 유리 전이 온도 ±20℃의 범위 내이다. 그러나, 다층 적층물(62)을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 다층 적층물(62) 중의 프리프레그층의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높지는 않다. 그로 인해, 실시예 7의 휨량은, 비교예보다는 작지만, 실시예 1~4보다는 크다.In Example 7, the heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate 61 is within the range of the glass transition temperature of the prepreg layer ± 20 ° C. However, the heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate 62 is not higher than the glass transition temperature of the prepreg layer in the multilayer laminate 62 by 50 deg. C or more. Therefore, the amount of warping of Example 7 is smaller than that of Comparative Example, but larger than that of Examples 1 to 4.

이상과 같이, 본 발명은, 다층 프린트 배선판의 두께를 증대시키는 일 없이, 다층 프린트 배선판의 휨을 억제할 수 있는 다층 프린트 배선판의 제조 방법을 제공할 수 있다. INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention can provide a method of manufacturing a multilayered printed circuit board capable of suppressing warping of a multilayered printed circuit board without increasing the thickness of the multilayered printed circuit board.

또, 본 발명은, 내부 응력이 저감된 양면 금속 적층판의 제조 방법, 휨이 저감된 프린트 배선판의 제조 방법, 및 내부 응력이 저감된 다층 적층판의 제조 방법을 제공할 수 있다.Further, the present invention can provide a method of manufacturing a double-sided metal laminate with reduced internal stress, a method of manufacturing a printed wiring board with reduced warpage, and a method of manufacturing a multilayer laminate board with reduced internal stress.

1, 11 프린트 배선판
10, 101 다층 프린트 배선판
2 금속층
21, 211 제1 금속박
22, 221 제2 금속박
23, 231 제3 금속박
31, 311 제1 프리프레그층
32, 321 제2 프리프레그층
41, 411 제1 절연층
42, 421 제2 절연층
51, 511 제1 배선
52, 521 제2 배선
53, 531 제3 배선
62, 621 다층 적층물
71, 711 양면 금속 적층판
72, 721 다층 적층판
81, 811, 831 화살표
1, 11 printed wiring board
10, 101 multilayer printed wiring board
2 metal layer
21, 211 First metal foil
22, 221 2nd metal foil
23, 231 3rd metal foil
31, 311 A first prepreg layer
32, 321 second prepreg layer
41, 411 First insulation layer
42, 421 Second insulating layer
51, 511 first wiring
52, 521 Second Wiring
53, 531 Third Wiring
62, 621 multilayer laminate
71, 711 Double-sided metal laminate
72, 721 multilayer laminate
81, 811, 831 Arrow

Claims (13)

제1 금속박과 제2 금속박의 사이에 제1 프리프레그층을 끼움으로써, 적층물을 형성하고,
상기 적층물을 예비 가열한 후, 상기 적층물을 가열·가압 성형하는, 양면 금속 적층판의 제조 방법.
A first prepreg layer is sandwiched between the first metal foil and the second metal foil to form a laminate,
Sided metal clad laminate, preliminarily heating the laminate, and then heating and pressing the laminate.
청구항 1에 있어서,
상기 적층물을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 상기 제1 프리프레그층의 유리 전이 온도의 20℃ 이하부터 상기 유리 전이 온도의 20℃ 이상까지의 범위이며, 또한, 상기 적층물을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도보다 낮은, 양면 금속 적층판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The heating temperature at the time of preliminary heating of the laminate is in a range from 20 DEG C or less of the glass transition temperature of the first prepreg layer to 20 DEG C or more of the glass transition temperature, Sided metal clad laminate is lower than the maximum heating temperature at the time of molding.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 프리프레그층의 상기 유리 전이 온도 미만에서의 선팽창 계수는 3ppm/K 이상, 30ppm/K 이하의 범위 내이며, 또한, 상기 유리 전이 온도 이상에서의 선팽창 계수는 4ppm/K 이상, 40ppm/K 이하의 범위 내인, 양면 금속 적층판의 제조 방법.
The method of claim 2,
The coefficient of linear expansion of the first prepreg layer at a temperature lower than the glass transition temperature is in the range of 3 ppm / K or more and 30 ppm / K or less, and the coefficient of linear expansion at the glass transition temperature or more is 4 ppm / K < / RTI > or less.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박의 선팽창 계수는, 16ppm/K 이상, 20ppm/K 이하의 범위 내인, 양면 금속 적층판의 제조 방법.
The method of claim 2,
Wherein the coefficient of linear expansion of the first metal foil and the second metal foil is in a range of 16 ppm / K or more and 20 ppm / K or less.
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 방법으로 양면 금속 적층판을 제조하고, 상기 제1 금속박에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제1 배선을 형성하는, 프린트 배선판의 제조 방법.A method for producing a printed wiring board, comprising the steps of: preparing a double-sided metal laminate by the method according to claim 1 or claim 2; 청구항 5에 기재된 방법으로 프린트 배선판을 제조하고,
상기 제1 배선이 형성된 상기 프린트 배선판의 제1면에 제2 프리프레그층을 적층하며,
상기 제2 프리프레그층에 제3 금속박을 적층함으로써 다층 적층물을 제작하고,
상기 다층 적층물을 예비 가열한 후, 상기 다층 적층물을 가열·가압 성형하는, 다층 적층판의 제조 방법.
A printed wiring board is manufactured by the method described in claim 5,
A second prepreg layer is formed on the first surface of the printed wiring board on which the first wiring is formed,
Layered laminate is produced by laminating a third metal foil on the second prepreg layer,
Wherein the multi-layer laminate is preliminarily heated, and then the multi-layer laminate is heated and pressed.
절연층과,
상기 절연층의 제1면에 형성된 제1 배선과,
상기 절연층의 제1면과 반대측의 제2면에 형성된 금속층을 가지는 프린트 배선판을 준비하고,
상기 제1 배선이 형성된 상기 절연층의 상기 제1면에, 제2 프리프레그층을 적층하며,
상기 제2 프리프레그층에, 제3 금속박을 적층함으로써 다층 적층물을 제작하고,
상기 다층 적층물을 예비 가열한 후, 상기 다층 적층물을 가열·가압 성형하는, 다층 적층판의 제조 방법.
An insulating layer,
A first wiring formed on a first surface of the insulating layer,
A printed wiring board having a metal layer formed on a second surface opposite to the first surface of the insulating layer,
A second prepreg layer is stacked on the first surface of the insulating layer on which the first wiring is formed,
Layer laminate is produced by laminating a third metal foil on the second prepreg layer,
Wherein the multi-layer laminate is preliminarily heated, and then the multi-layer laminate is heated and pressed.
청구항 6에 있어서,
상기 다층 적층물을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 상기 다층 적층물 중의 상기 제2 프리프레그층의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높고, 또한, 상기 다층 적층물을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도보다 낮은, 다층 적층판의 제조 방법.
The method of claim 6,
Wherein the heating temperature at the time of preliminary heating of the multilayer laminate is at least 50 占 폚 higher than the glass transition temperature of the second prepreg layer in the multilayer laminate and the maximum temperature at which the multilayer laminate is heated / Wherein the heating temperature is lower than the heating temperature.
청구항 8에 있어서,
상기 다층 적층물을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 상기 다층 적층물 중의 상기 제2 프리프레그층의 유리 전이 온도보다 150℃ 높은 온도 이하인, 다층 적층판의 제조 방법.
The method of claim 8,
Wherein the heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate is 150 DEG C or higher than the glass transition temperature of the second prepreg layer in the multilayer laminate.
청구항 6에 기재된 방법으로 다층 적층판을 제조하고,
상기 제2 금속박과 상기 제3 금속박 중 적어도 한쪽에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제2 배선을 형성하는, 다층 프린트 배선판의 제조 방법.
A multi-layered laminate is produced by the method described in claim 6,
And forming a second wiring by subjecting at least one of the second metal foil and the third metal foil to a wiring forming process.
청구항 7에 기재된 방법으로 다층 적층판을 제조하고,
상기 금속층과 상기 제3 금속박 중 적어도 한쪽에 배선 형성 처리를 실시함으로써, 제2 배선을 형성하는, 다층 프린트 배선판의 제조 방법.
A multi-layer laminate is produced by the method described in claim 7,
Wherein the second wiring is formed by performing a wiring forming process on at least one of the metal layer and the third metal foil.
청구항 7에 있어서,
상기 다층 적층물을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 상기 다층 적층물 중의 상기 제2 프리프레그층의 유리 전이 온도보다 50℃ 이상 높고, 또한, 상기 다층 적층물을 가열·가압 성형할 때의 최고 가열 온도보다 낮은, 다층 적층판의 제조 방법.
The method of claim 7,
Wherein the heating temperature at the time of preliminary heating of the multilayer laminate is at least 50 占 폚 higher than the glass transition temperature of the second prepreg layer in the multilayer laminate and the maximum temperature at which the multilayer laminate is heated / Wherein the heating temperature is lower than the heating temperature.
청구항 12에 있어서,
상기 다층 적층물을 예비 가열할 때의 가열 온도는, 상기 다층 적층물 중의 상기 제2 프리프레그층의 유리 전이 온도보다 150℃ 높은 온도 이하인, 다층 적층판의 제조 방법.
The method of claim 12,
Wherein the heating temperature at the time of preheating the multilayer laminate is 150 DEG C or higher than the glass transition temperature of the second prepreg layer in the multilayer laminate.
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