KR20160021988A - 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법 - Google Patents

플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스를 포함하는 반응가스를 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버로 주입시켜 플라즈마를 통해 상기 반응가스를 기화시켜 연료전지용 분리판(기재) 표면에 증착시킴으로써, 연료전지용 분리판에서 요구되는 성능인 전기전도도와 내식성을 향상시키는 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 방법에 관한 것이다.

Description

플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법{Method for manufacturing carbon complex coating thin film using plasma enhanced chemical vapor deposition}
본 발명은 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스를 포함하는 반응가스를 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버로 이동시켜 플라즈마를 통해 반응가스를 기화시켜 기재 표면에 층착시킴으로써, 연료전지용 분리판에서 요구되는 성능인 전기전도도와 내식성을 향상시키는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 방법에 관한 것이다.
우수한 특성을 가진 고분자 전해질 연료전지의 핵심요소로 저가 및 고성능을 가진 분리판을 개발하기 위한 노력이 전 세계적으로 추진되고 있다. 특히 연료전지가 상용화되기 위해서는 전지의 제조가격과 스택의 부피 및 무게를 낮추어야 한다. 이러한 목표를 달성하기 위해서는 분리판의 성능을 향상이 우선적으로 해결해야 할 관건이라고 할 수 있다.
가장 이상적인 분리판은 전기전도성, 내부식성, 견고성이 우수하고, 얇고 가벼우며 가공성이 좋아야 하는데 현재 범용적으로 가장 많이 사용되는 분리판은 그라파이트로써 전기전도성과 내부식성은 뛰어나지만 쉽게 부서지고 가공가격이 비싸 대량생산에 어려움이 있다. 이에 전기저항이 낮고 내식성이 우수한 금속을 사용하는 금속 분리판의 연구가 활발히 이루어지고 있다.
금속은 전기전도성과 기계적 물성, 가격 등이 우수하지만 표면의 금속산화물의 생성은 우선적으로 해결해야 하는 문제점이다. 연료전지 구동 시에 발생하는 수소 양이온은 금속의 부식을 촉진하고 금속 표면에 생성된 금속산화물이 전기절연체로 작용하여 전기 전도성을 낮추며, 이때 해리되어 용출되는 금속 양이온이 촉매 층과 고분자 전해질을 오염시켜 연료전지의 성능을 감소시키게 된다.
금속 분리판 제작에 사용되고 있는 방법으로는 알루미늄, 스테인리스강, 타이타늄 등의 금속 재질에 내식성이 우수한 물질을 코팅하여 제작하는 방법과 자체 내식성이 강한 합금을 사용하는 방법이 있다. 분리판의 코팅시 전도성 및 내식성을 가진 조밀한 구조의 코팅층을 제조할 수 있는가를 고려해야 한다.
한편, 한국 공개특허 제2008-0105367호는 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 아크방전법을 접목하여 기재에 박막을 형성시킴으로써, 전기전도도와 내부식성을 향상시켜 연료전지 분리판 제품 제조에 탁월한 효과가 있는 박막 코팅방법을 개시하고 있으나, 이는 아크릴 방전 시에 금속이 물리적으로 흡착되어 여전히 내부식성이 약할 수 있다는 한계가 있다.
이에 전기전도도와 내부식성을 향상시켜 연료전지 분리판의 제품 성능에 탁월한 효과가 있어 연료전지의 성능을 향상시킬 수 있는 방법이 필요한 실정이다.
1: 한국 공개특허 제2008-0105367호
이에 본 발명자들은 연료전지의 성능을 향상시킬 수 있는 전기전도도와 내부식성이 향상된 연료전지 분리판을 연구하던 중, 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스를 포함하는 반응가스를 플라즈마 화학기상증착법(PECVD) 이용하여 분리판 표면에 층착시켜 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 경우 전기저항이 낮고 내식성이 우수한 분리판을 제조할 수 있다는 것을 알게 되어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
따라서, 본 발명의 목적은 전도성과 내식성의 박막을 향상시키기 위한 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 방법을 제공하는데 있다.
또한 본 발명의 목적은 상기 방법으로 형성된 카본 복합 코팅 박막이 코팅된 연료전지용 분리판을 제공하는데 있다.
위와 같은 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 챔버에 주입된 반응가스가 플라즈마에 의해 이온화되어 기재 표면에 증착함으로써 박막을 형성시키는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 박막을 형성하는 방법에 있어서, 상기 반응가스는 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 방법으로 제조한 박막이 코팅된 연료전지용 분리판을 제공한다.
본 발명에 따른 카본 복합 코팅 박막의 형성방법은 공정상 연료전지 구동환경 내 전도성과 내부식성을 동시에 만족하고 타 코팅공정에 비해 저온/저가 공정의 장점을 갖고 있다.
또한 본 발명에 따라 형성된 전도성과 내식성이 우수한 카본 복합 코팅 박막이 코팅된 연료전지용 분리판은 연료전지의 효율을 향상시킨다.
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법에 의해 형성된 카본 복합 코팅 박막의 개략적인 단면 구조와 표면을 나타낸 모식도이다.
도 2는 실시예 1에 의해 제조된 연료전지용 분리판에 형성된 카본 복합 코팅 박막 표면 및 코팅 박막의 단면도를 나타낸 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
이하에서 본 발명을 하나의 구현예로서 보다 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법은, 챔버에 주입된 반응가스가 플라즈마에 의해 이온화되어 기재 표면에 증착함으로써 박막을 형성시키는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 박막을 형성하는 방법에 있어서, 상기 반응가스는 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스를 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 플라즈마는 일예로 아르곤 플라즈마이다. 아울러 도 1은 본 발명에 따른 박막의 코팅방법에 의한 코팅층의 개략적인 단면 구조와 표면을 나타낸 모식도이다.
본 발명은 특히 연료전지의 분리판에 적용할 수 있으며, 경량화를 위해 두께가 얇은 금속 분리판을 이용 시에도 금속 분리판의 변형없이 코팅층이 형성할 수 있도록 150℃ 미만인 저온에서 수행되는 플라즈마 화학기상증착법(PECVD) 이용하여 증착시키는 것이 바람직하다.
구체적으로, 대용량 및 대면적으로 기능성 코팅층을 형성하기 위해서는 금속 유기 프리커서를 이용할 수 있으며, 본 발명에서는 타아타늄계 프리커서를 사용하는 것이 바람직한데, 타이타늄(Ti)계 프리커서는 내식성과 전기전도도가 우수한 것으로, (트리에틸) 펜타메틸사이클로펜타다이넬타이타늄((Trimethyl)pentamethylcyclopentadienyltitanium), 사이클로텐타다이에닐(사이클로헵타트리에닐)타이타늄(Cyclopentadienyl(cycloheptatrienyl)titanium), 테라키스(다이에틸아미노)타이타늄(Tetrakis(diethylamino)titanium), 테라키스(다이에닐아미노)타이타늄(Tetrakis(dimethylamino)titanium) 및 타이타늄-부톡사이드(Titanium-butoxide)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다.
바람직한 구현예로서, 상기 타이타늄계 프리커서는 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버로 이동 시에, 1 mTorr 압력 조건 기준으로 프리커서의 휘발성에 따라 50 ~ 100℃ 온도 조건에서 10 ~ 500 sccm의 주입속도로 주입하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 200 sccm이다. 주입속도가 10 sccm 미만인 경우 프리커서 함량이 적어 전도성을 부여하는데 문제가 있으며, 500 sccm 초과인 경우 연료전지 구동조건 하에서 부식의 문제가 있기에 상기 범위 내에서 주입하는 것이 바람직하다.
아울러 상기 탄소화합물 가스는 메탄(CH4),프로판(C3H8)또는 아세틸렌(C2H2)으로, 상기 타이타늄계 프리커서와 함께 기화시켜 플라즈마 화학기상증착법(PECVD) 챔버로 이통시키면 이들은 플라즈마를 통해 분해함으로써, 연료전지용 분리판인 기재에 증착하게 된다.
또한 상기 탄소화합물 가스와 함께 내식성 강화를 위해 사불화수소(CF4)가스를 주입하는 것이 바람직하다.
이때 탄소화합물 가스와 사불화수소 가스는 10 ~ 100 sccm의 주입속도로 챔버로 이동시키는 것이 바람직하다. 주입속도가 10 sccm 미만인 경우 코팅층의 조밀성에 문제가 있어서 내부식 특성 저하가 발생하고, 100 sccm 초과인 경우 충분한 전도성 확보가 되지 않아 상기 범위 내에서 수행하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 주입조건은 본 발명에 따른 바람직한 일구현예로서, 본 발명에 따른 반응가스인 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소 가스를 주입조건은 다르되 동시에 주입하는 것이 바람직하다. 균일한 나노복합 구조를 형성해야 전도성 및 내식성이 동시에 만족되는 이유에서 이다.
이렇게 상기 주입된 가스는 반응 온도가 100 ~ 150℃이며, 압력이 10 ~ 100 mTorr 조건에서 플라즈마를 통해 분해되어 기재에 증착하게 되며, 저온에서 진행하기에 얇은 기재에 박막을 형성하더라도 기재의 변형을 최소화할 수 있다.
이때 증착은 10 ~ 30 분 동안 수행되어 0.1 ~ 10 ㎛의 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 것이 바람직하다. 카본 복합 코팅 박막이 0.1 ㎛ 미만인 경우 내식성 문제가 있으며, 10 ㎛ 초과인 경우 전도성 문제가 있기에 상기 범위 내로 박막 코팅층을 형성시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 플라즈마 화학기상층법에 의한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법은 공정상 저온 코팅할 수 있어 기재의 열변형을 최소화하는 장점을 갖고 있으며, 전도성과 내식성이 우수한 박막을 형성시킴으로써 연료전지의 분리판에 적용 시에 연료전지의 효율을 향상시킬 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 통하여 더욱 상세히 설명한다. 그러나 이들 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.
비교예 1
연료전지용 분리판 기재에 아르곤 플라즈마 에칭 전처리를 하였다. 다음으로, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버에 아세틸렌 가스를 100 sccm 주입속도로 주입시킨 후, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버의 압력을 100 mTorr로 고정시키고 100℃ 온도에서 20분 동안 증착시켜 2 ㎛의 박막 코팅층을 형성시켰다.
비교예 2
연료전지용 분리판 기재에 아르곤 플라즈마 에칭 전처리를 하였다. 다음으로, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버에 테라키스(다이에닐아미노)타이타늄은 300 sccm 주입속도로, 아세틸렌 가스를 100 sccm 주입속도로 주입시킨 후, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버의 압력을 100 mTorr로 고정시키고 100℃ 온도에서 20분 동안 증착시켜 2 ㎛의 박막 코팅층을 형성시켰다.
실시예
연료전지용 분리판 기재에 아르곤 플라즈마 에칭 전처리를 하였다. 다음으로, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버에 테라키스(다이에닐아미노)타이타늄은 100℃ 온도에서 200 sccm의 주입속도로, 아세틸렌(C2H2)가스과 사불화수소(CF4)가스는 100 sccm 주입속도로 주입시킨 후, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 챔버의 압력을 100 mTorr로 고정시키고 100℃ 온도에서 20분 동안 증착시켜 2 ㎛의 박막 코팅층을 형성시켰다. 도 2는 실시예에서 제조한 박막 코팅층 표면 및 박막 코팅층의 단면도를 나타낸 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
실험예 1
상기 비교예 1 ~ 2 및 실시예에서 제조한 코팅 박막이 형성된 연료전지용 분리판을 하기 방법을 통해 부식전류와 표면 저항을 측정하여 그 결과 값을 표 1에 나타내었다.
(1) 부식 전류의 측정방법: 측정장비로 EG&G273, 온도 80℃, -0.4~1V 범위에서 0.05M H2SO4 + 2ppm HF 부식용액에서 측정하였다.
(2) 표면 저항의 측정방법: 분리판의 접촉저항은 10kgf/cm2 하중 하에서 멀티미터를 사용하여 측정하였다.
부식 전류 (A/cm2) 표면 저항 (mΩ/cm2)
비교예 1 7.3×10-8 ∞
비교예 2 9.6×10-7 5.43
실시예 1.6×10-8 7.44
상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 비교예 1, 2의 경우 부식전류 또는 표면저항 특성 중 어느 하나에만 우수한 특성을 보이나, 본 발명에 따른 프리커서와 사불화수소 가스를 적용한 실시예에 의해 제조된 코팅층은 두가지 특성 모두 우수함을 확인할 수 있었다.
실험예 2
상기 비교예 1 ~ 2 및 실시예에서 제조한 코팅 박막이 형성된 연료전지용 분리판 표면의 발수성을 확인하기 위해 접촉각측정기(contact angle analyzer)를 사용하여 아세트산 수용액(pH 3.4)에 대한 접촉각을 측정하였다. 측정한 결과는 하기 표 2에 나타냈었다.
비교예 2 실시예
Figure pat00001
Figure pat00002
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 비교예 2와 실시예 1을 비교하여 볼 때 플루오르의 도핑 여부에 따라 산 용액에 대한 발수 능력이 달라짐을 확인할 수 있다. 즉, 본 발명에 따라 플루오르가 도핑된 박막 코팅을 갖는 연료전지용 분리판은 산용액에 의해 발수 능력이 126° 정도로 초발수 능력을 갖는 것으로 보아, 표면의 금속산화물의 생성을 해결할 수 있는 것으로 내식성이 향상되었음을 예측할 수 있다.
다시 말해, 본 발명에 따른 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 방법에 의해 형성된 카본 복합 박막 층은, 연료전지용 분리판이 산 용액 등이 존재하는 가혹한 조건에서도 내식성을 향상시켜 주며 카본이 존재하여 전기전도도를 향상시킬 수 있기에, 카본 복합 박막 층이 형성된 연료전지용 분리판은 에너지 효율이 높은 연료전지를 제공할 수 있다.

Claims (9)

  1. 챔버에 주입된 반응가스가 플라즈마에 의해 이온화되어 기재 표면에 증착함으로써 박막을 형성시키는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 박막을 형성하는 방법에 있어서,
    상기 반응가스는 타이타늄계 프리커서, 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 타이타늄계 프리커서는 (트리에틸) 펜타메틸사이클로펜타다이넬타이타늄, 사이클로텐타다이에닐(사이클로헵타트리에닐)타이타늄, 테라키스(다이에틸아미노)타이타늄, 테라키스(다이에닐아미노)타이타늄 및 타이타늄-부톡사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 타이타늄계 프리커서는 50 ~ 100℃ 온도 조건에서 10 ~ 500 sccm의 주입속도로 챔버로 이동시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 탄소화합물 가스는 메탄(CH4),프로판(C3H8)또는 아세틸렌(C2H2)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 탄소화합물 가스 및 사불화수소(CF4)가스는 10 ~ 100 sccm의 주입속도로 챔버로 이동시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버는 반응 온도가 100 ~ 150℃이며, 압력이 1 ~ 100 mTorr인 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 증착은 10 ~ 30 분 동안 수행되어 0.1 ~ 10 ㎛의 카본 복합 코팅 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 기재는 연료전지용 분리판인 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 카본 복합 코팅 박막의 형성방법.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중에서 선택된 어느 한 항의 방법으로 제조된 0.1 ~ 10 ㎛의 카본 복합 코팅 박막이 형성된 연료전지용 분리판.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20080105367A (ko) 2007-05-30 2008-12-04 한국생산기술연구원 플라즈마 화학기상증착과 물리기상증착을 복합한 박막코팅방법 및 그 제품

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