KR20160006641A - Anisotropic conductive film, connecting method, and joined structure - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 이방성 도전 필름, 접속 방법, 및 접합체에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection method, and a bonded body.
종래부터, 전자 부품을 기판과 접속하는 수단으로서 도전성 입자가 분산된 열경화성 수지를 박리 필름에 도포한 테이프 형상의 접속 재료 (예를 들어, 이방성 도전 필름 (ACF ; Anisotropic Conductive Film)) 가 사용되고 있다.Conventionally, a tape-like connecting material (for example, anisotropic conductive film (ACF)) in which a thermosetting resin in which conductive particles are dispersed is applied to a release film is used as a means for connecting electronic components to a substrate.
상기 이방성 도전 필름은 예를 들어, 플렉시블 프린트 기판 (FPC) 이나 IC (Integrated Circuit) 칩의 단자와 LCD (Liquid Crystal Display) 패널의 유리 기판 위에 형성된 전극을 접속하는 경우를 비롯하여 여러 단자끼리를 접착함과 함께 전기적으로 접속하는 경우에 이용되고 있다.The anisotropic conductive film is formed by bonding a plurality of terminals, for example, a case of connecting terminals of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC (Integrated Circuit) chip and electrodes formed on a glass substrate of an LCD (Liquid Crystal Display) panel And is used in the case of electrically connecting together.
최근, 이방성 도전 필름에 의해 접속되는 기판의 박형화, 기판의 이용 면적 확대 등으로 인해, 기판과 전자 부품의 접속 후에 상기 기판에 휨이 발생한다는 문제가 있다. 상기 기판에 휨이 발생하면, 예를 들어 LCD 패널에 있어서는 색 불균일이 발생하게 된다.In recent years, there is a problem that after the connection between the substrate and the electronic component, the substrate is warped due to the thinness of the substrate connected by the anisotropic conductive film and the increase in the area of use of the substrate. When the substrate is warped, for example, color irregularity occurs in the LCD panel.
그래서, 기판의 휨을 저감하기 위해서, 상기 기판에 가해지는 응력을 완화시키는 것이 제안되어 있다.Therefore, in order to reduce warpage of the substrate, it has been proposed to alleviate the stress applied to the substrate.
예를 들어, 열경화형 아크릴 수지 조성물로부터 얻어지는 이방성 도전 필름에 있어서, 상기 조성물이, 적어도 (A) 열경화제, (B) 열경화성 성분, (C) 수산기를 함유하는 아크릴 고무, (D) 유기 미립자, 및 (E) 도전성 입자를 함유하고, 상기 (B) 열경화성 성분에는 (b1) 인 함유 아크릴산 에스테르를 함유하고, 상기 (C) 수산기를 함유하는 아크릴 고무의 중량 평균 분자량이 100 만 이상이며, 상기 (D) 유기 미립자에는 (d1) 폴리 부타디엔계 미립자를 함유하는 이방성 도전 필름이 제안되어 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-274019호 참조).(A) a thermosetting agent, (B) a thermosetting component, (C) an acrylic rubber containing a hydroxyl group, (D) an organic fine particle, and And (E) conductive particles, wherein the thermosetting component (B) contains phosphorus-containing acrylic ester and the (C) hydroxyl group-containing acrylic rubber has a weight average molecular weight of at least 1,000,000, D) organic fine particles (d1), an anisotropic conductive film containing polybutadiene fine particles has been proposed (see, for example, JP-A-2008-274019).
또, 상기 이방성 도전 필름에서는 접착성 향상 등과 같은 여러 목적에서 아크릴 고무가 이용되고 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-80522호 및 국제 공개 제 2001/82363호 팜플렛 참조). 상기 아크릴 고무는 고무 재료이기 때문에 응력을 완화시키는 것을 기대할 수 있다.In addition, in the anisotropic conductive film, acrylic rubber is used for various purposes such as improvement of adhesiveness (see, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2007-80522 and International Publication No. 2001/82363 pamphlet). Since the acrylic rubber is a rubber material, it can be expected that the stress is relaxed.
그러나, 상기 이방성 도전 필름에, 상기 아크릴 고무 등의 응력을 완화시키는 재료를 사용하면 통상은 접속 신뢰성이 저하된다는 문제가 발생한다.However, when a material for relieving the stress such as acrylic rubber is used for the anisotropic conductive film, there is a problem that the connection reliability is usually lowered.
따라서, 기판의 휨을 방지할 수 있고 또한 우수한 접속 신뢰성이 얻어지는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접합체의 제공이 요구되고 있는 것이 현상황이다.It is therefore an object of the present invention to provide an anisotropic conductive film which can prevent warpage of the board and obtain excellent connection reliability, a connection method using the anisotropic conductive film, and a junction body using the anisotropic conductive film.
본 발명은 종래에 있어서의 상기 제반 문제를 해결하여 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은 기판의 휨을 방지할 수 있고 또한 우수한 접속 신뢰성이 얻어지는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems and to achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film which can prevent warpage of a substrate and obtain excellent connection reliability, a connection method using the anisotropic conductive film, and a junction body using the anisotropic conductive film.
상기 과제를 해결하기 위한 수단으로서는 이하와 같다. 즉,Means for solving the above problems are as follows. In other words,
<1> 기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름으로서,≪ 1 > An anisotropic conductive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 카르복실기 함유 아크릴 고무와, 도전성 입자를 함유하고,A film forming resin, a curing resin, a curing agent, a carboxyl group-containing acrylic rubber, and conductive particles,
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 유리 전이 온도가 18 ℃ 이하이며, 중량 평균 분자량이 75,000 이상인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름이다.Wherein the carboxyl group-containing acrylic rubber has a glass transition temperature of 18 DEG C or lower and a weight average molecular weight of 75,000 or higher.
<2> 카르복실기 함유 아크릴 고무의 산가가 5 mgKOH/g ~ 40 mgKOH/g 이며, 유리 전이 온도가 -30 ℃ ~ 15 ℃ 이며, 중량 평균 분자량이 100,000 ~ 900,000 인 상기 <1> 에 기재된 이방성 도전 필름이다.<2> The anisotropic conductive film according to <1>, wherein the acid value of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 5 mgKOH / g to 40 mgKOH / g, the glass transition temperature is -30 ° C. to 15 ° C., and the weight average molecular weight is 100,000 to 900,000 to be.
<3> 카르복실기 함유 아크릴 고무의 함유량이, 막형성 수지와 경화성 수지와 경화제와 상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 합계에 대해, 1 질량% ~ 15 질량% 인 상기 <1> 에서 <2> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이다.<3> The method according to any one of <1> to <2>, wherein the content of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 1% by mass to 15% by mass relative to the total amount of the film forming resin, the curing resin, the curing agent and the carboxyl group- Is an anisotropic conductive film.
<4> 기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법으로서,≪ 4 > A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
상기 기판의 단자 위에 상기 <1> 에서 <3> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제 1 배치 공정과,A first disposing step of disposing an anisotropic conductive film described in any one of < 1 > to < 3 > on a terminal of the substrate;
상기 이방성 도전 필름 위에 상기 전자 부품을, 상기 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제 2 배치 공정과,A second disposing step of disposing the electronic part on the anisotropic conductive film so that the terminal of the electronic part is in contact with the anisotropic conductive film;
상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법이다.And a heating and pressing step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member.
<5> 단자를 갖는 기판과, 단자를 갖는 전자 부품과, 상기 기판과 상기 전자 부품 사이에 개재하여 상기 기판의 단자와 상기 전자 부품의 단자를 전기적으로 접속하는 이방성 도전 필름의 경화물을 가지며,And a cured product of an anisotropic conductive film for electrically connecting the terminal of the substrate and the terminal of the electronic component interposed between the substrate and the electronic component,
상기 이방성 도전 필름이, 상기 <1> 에서 <3> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름인 것을 특징으로 하는 접합체이다.Wherein the anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film described in any one of < 1 > to < 3 >.
본 발명에 의하면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하여 상기 목적을 달성 할 수 있고, 기판의 휨을 방지할 수 있고 또한 우수한 접속 신뢰성이 얻어지는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접합체를 제공할 수 있다.According to the present invention, there is provided an anisotropic conductive film which can solve the above-mentioned problems of the prior art to achieve the above object, prevent the substrate from warping and obtain excellent connection reliability, and a connection method using the anisotropic conductive film, And a junction body using the anisotropic conductive film.
도 1 은 휨량을 측정하는 방법을 설명하기 위한 개략도이다.Fig. 1 is a schematic view for explaining a method of measuring a deflection amount.
(이방성 도전 필름) (Anisotropic conductive film)
본 발명의 이방성 도전 필름은 막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 카르복실기 함유 아크릴 고무와, 도전성 입자를 적어도 함유하고, 나아가 필요에 따라, 그 밖의 성분을 함유한다.The anisotropic conductive film of the present invention contains at least a film-forming resin, a curing resin, a curing agent, a carboxyl group-containing acrylic rubber, and conductive particles, and further contains other components as necessary.
상기 이방성 도전 필름은 기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이다.The anisotropic conductive film is an anisotropic conductive film that anisotropically conductively connects the terminals of the substrate and the terminals of the electronic component.
<막형성 수지><Film Formation Resin>
상기 막형성 수지로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 페녹시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 부타디엔 수지, 폴리이미드 수지, 폴리 아미드 수지, 폴리올레핀 수지 등을 들 수 있다. 상기 막형성 수지는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 제막성, 가공성, 접속 신뢰성의 관점에서 페녹시 수지가 바람직하다.The film-forming resin is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples of the film-forming resin include phenoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, urethane resin, butadiene resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin And the like. These film-forming resins may be used alone or in combination of two or more. Of these, phenoxy resins are preferable from the viewpoints of film formability, workability, and connection reliability.
상기 페녹시 수지로서는 예를 들어, 비스페놀 A 와 에피클로로히드린으로부터 합성되는 수지 등을 들 수 있다.Examples of the phenoxy resin include resins synthesized from bisphenol A and epichlorohydrin.
상기 페녹시 수지는 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다.The phenoxy resin may be appropriately synthesized, or a commercially available phenoxy resin may be used.
상기 막형성 수지의 함유량으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The content of the film-forming resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.
<경화성 수지><Curable resin>
상기 경화성 수지로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 에폭시 수지, 아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다.The curable resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and examples thereof include an epoxy resin and an acrylate resin.
-에폭시 수지-- Epoxy resin -
상기 에폭시 수지로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 그들의 변성 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The epoxy resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, modified epoxy resin and alicyclic epoxy resin have. These may be used alone or in combination of two or more.
-아크릴레이트 수지-- acrylate resin -
상기 아크릴레이트 수지로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 디메틸올트리시클로데칸디아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜테트라아크릴레이트, 2-하이드록시-1, 3-디아크릴옥시프로판, 2, 2-비스[4-(아크릴옥시메톡시)페닐]프로판, 2, 2-비스[4-(아크릴옥시에톡시)페닐]프로판, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리시클로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The acrylate resin is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples of the acrylate resin include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene 2-hydroxy-1, 3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (4-hydroxyphenyl) acrylic acid] diacrylate, (Acryloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris Urea acrylate, urethane acrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
또, 상기 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 한 것을 들 수 있고, 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The acrylate may be methacrylate, and these may be used singly or in combination of two or more kinds.
상기 경화성 수지의 함유량으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The content of the curable resin is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.
<경화제><Curing agent>
상기 경화제로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 이미다졸류, 유기 과산화물, 아니온계 경화제, 카티온계 경화제 등을 들 수 있다.The curing agent is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include imidazoles, organic peroxides, anionic curing agents, cationic curing agents and the like.
상기 이미다졸류로서는 예를 들어, 2-에틸 4-메틸이미다졸 등을 들 수 있다.The imidazoles include, for example, 2-ethyl 4-methylimidazole and the like.
상기 유기 과산화물로서는 예를 들어, 라우로일퍼옥사이드, 부틸퍼옥사이드, 벤질퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드, 디부틸퍼옥사이드, 퍼옥시디카보네이트, 벤조일퍼옥사이드 등을 들 수 있다.Examples of the organic peroxide include lauroyl peroxide, butyl peroxide, benzyl peroxide, dilauryl peroxide, dibutyl peroxide, peroxydicarbonate, benzoyl peroxide and the like.
상기 아니온계 경화제로서는 예를 들어, 유기 아민류 등을 들 수 있다.Examples of the anionic curing agent include organic amines and the like.
상기 카티온계 경화제로서는 예를 들어, 술포늄염, 오늄염, 알루미늄킬레이트제 등을 들 수 있다.Examples of the cationic curing agent include sulfonium salts, onium salts, aluminum chelating agents and the like.
상기 경화성 수지와 상기 경화제의 조합으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 상기 에폭시 수지와 상기 카티온계 경화제의 조합, 상기 아크릴레이트 수지와 상기 유기 과산화물의 조합이 바람직하다.The combination of the curable resin and the curing agent is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. A combination of the epoxy resin and the cationic curing agent, and a combination of the acrylate resin and the organic peroxide are preferable.
<카르복실기 함유 아크릴 고무><Carboxyl Group-Containing Acrylic Rubber>
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무로서는 유리 전이 온도가 18 ℃ 이하이며, 중량 평균 분자량이 75,000 이상이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited as long as the glass transition temperature is not higher than 18 ° C and the weight average molecular weight is not lower than 75,000, and can be appropriately selected according to the purpose.
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무란, 카르복실기를 갖는 아크릴 고무이다.The carboxyl group-containing acrylic rubber is an acrylic rubber having a carboxyl group.
상기 아크릴 고무란, 예를 들어 아크릴산, 아크릴산에스테르, 메타크릴산, 메타크릴산에스테르, 카르복실기 함유 아크릴산에스테르, 카르복실기 함유 메타크릴산에스테르, 및 이들의 유도체 등의 단량체에서 유래하는 구성 단위를 함유하는 중합체이다.The acrylic rubber is a polymer containing a constituent unit derived from a monomer such as acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, carboxyl group-containing acrylic acid ester, carboxyl group-containing methacrylic acid ester, to be.
상기 아크릴 고무로서는 예를 들어, 아크릴산에스테르를 주된 구성 성분으로 하는 고무 등을 들 수 있다.Examples of the acrylic rubber include, for example, rubber having acrylic acid ester as a main constituent.
상기 중합체를 구성하는 공중합 모노머로서는 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 부틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 아크릴로니트릴 등을 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomers constituting the polymer include acrylic acid, methacrylic acid, butyl acrylate, butyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, methyl acrylate, methyl methacrylate, acrylonitrile and the like. .
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무에 있어서의 카르복실기는 아크릴산, 및 메타크릴산에서 유래하는 카르복실기이어도 되고, 그 밖의 카르복실기 함유 공중합 모노머에서 유래하는 카르복실기이어도 된다. 상기 그 밖의 카르복실기 함유 공중합 모노머로서는 예를 들어, 2-아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-메타크릴로일옥시에틸숙신산, 2-아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-메타크릴로일옥시에틸프탈산, 2-아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-메타크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 이타콘산, 푸마르산, 말레산 등을 들 수 있다.The carboxyl group in the carboxyl group-containing acrylic rubber may be a carboxyl group derived from acrylic acid or methacrylic acid, or a carboxyl group derived from other carboxyl group-containing copolymerizable monomer. Examples of other carboxyl group-containing copolymerizable monomers include 2-acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid, 2-acryloyloxyethylphthalic acid, 2-methacryloyloxyethylphthalic acid, 2-acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-methacryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, itaconic acid, fumaric acid, and maleic acid.
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 산가로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 3 mgKOH/g 이상이 바람직하고, 3 mgKOH/g ~ 40 mgKOH/g 가 보다 바람직하고, 5 mgKOH/g ~ 40 mgKOH/g 가 더욱 바람직하고, 5 mgKOH/g ~ 30 mgKOH/g 가 특히 바람직하다. 상기 산가가, 상기 특히 바람직한 범위내이면, 기판의 휨 방지와 접속 신뢰성을 고도로 양립시킬 수 있다는 점에서 유리하다.The acid value of the carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 3 mgKOH / g or more, more preferably 3 mgKOH / g to 40 mgKOH / g, more preferably 5 mgKOH / g to 40 mgKOH / g is more preferable, and 5 mgKOH / g to 30 mgKOH / g is particularly preferable. When the acid value is within the above-mentioned particularly preferable range, it is advantageous in that the warp prevention of the substrate and the connection reliability can be highly compatible.
상기 산가는 예를 들어, 일본 공업 규격 「JIS K 2501-2003 석유 제품 및 윤활유-중화가 시험 방법」에 기초하여 측정할 수 있다.The acid value can be measured based on, for example, the Japanese Industrial Standard "JIS K 2501-2003 Petroleum products and lubricating oil-neutralization test method".
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 유리 전이 온도는 18 ℃ 이하이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, -40 ℃ ~ 15 ℃ 가 바람직하고, -30 ℃ ~ 15 ℃ 가 보다 바람직하고, -30 ℃ ~ 5 ℃ 가 특히 바람직하다. 상기 유리 전이 온도가, 상기 특히 바람직한 범위내이면, 기판의 휨 방지와 접속 신뢰성을 고도로 양립시킬 수 있다는 점에서 유리하다.The glass transition temperature of the carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited as long as the glass transition temperature is 18 ° C or lower and can be appropriately selected according to the purpose. The glass transition temperature is preferably -40 ° C to 15 ° C, more preferably -30 ° C to 15 ° C, Deg.] C to 5 [deg.] C is particularly preferable. When the glass transition temperature is within the above-mentioned particularly preferable range, it is advantageous in that the warp prevention of the substrate and the connection reliability can be highly compatible.
상기 유리 전이 온도는 예를 들어, 이론 유리 전이 온도계 계산식 (FOX 식) 을 이용하여 구할 수 있다. 구체적으로는 상기 FOX 식 (T. G. Fox, Bull. Am. Physics Soc., 제 1 권, 제 3 호, 123 페이지 (1956)) 에 따라, 폴리머를 구성하는 각각의 단량체의 단독 중합체의 Tgn 을 이용하여 하기 식 (1) 로부터 구한다.The glass transition temperature can be determined, for example, by using a theoretical glass transition temperature calculation formula (FOX formula). Specifically, Tgn of the homopolymer of each monomer constituting the polymer was used according to the FOX formula (TG Fox, Bull. Am. Physics Soc., Vol. 1, No. 3, page 123 (1956) Is obtained from the following formula (1).
1/Tg = Σ (Wn/Tgn) (1)1 / Tg =? (Wn / Tgn) (1)
상기 식 (1) 중, Tgn 은 각 단량체 성분의 단독 중합체의 유리 전이 온도 Tg 이며, Wn 은 각 단량체 성분의 중량분율이며, Tg 는 공중합체의 유리 전이 온도이다. 상기 식 (1) 중의 온도는 절대온도이다.In the above formula (1), Tgn is the glass transition temperature Tg of the homopolymer of each monomer component, Wn is the weight fraction of each monomer component, and Tg is the glass transition temperature of the copolymer. The temperature in the formula (1) is the absolute temperature.
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 중량 평균 분자량이 75,000 이상이면 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 100,000 ~ 1,000,000 이 바람직하고, 100,000 ~ 900,000 이 보다 바람직하고, 700,000 ~ 900,000 이 특히 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량이 상기 특히 바람직한 범위내이면 기판의 휨 방지와 접속 신뢰성을 고도로 양립시킬 수 있다는 점에서 유리하다.The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited as long as it has a weight-average molecular weight of 75,000 or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 100,000 to 1,000,000, more preferably 100,000 to 900,000, and particularly preferably 700,000 to 900,000. When the weight average molecular weight is within the above-mentioned particularly preferable range, it is advantageous in that the warp prevention of the substrate and the connection reliability can be highly compatible.
상기 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) 법에 의해 측정할 수 있다. 측정에는 예를 들어, Shodex GPC (쇼와전공 주식회사 제조) 를 사용한다. 검량선 작성에는 표준 폴리스티렌을 사용한다.The weight average molecular weight can be measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. For the measurement, for example, Shodex GPC (manufactured by Showa Denko KK) is used. Standard polystyrene is used for calibration.
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 함유량으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막형성 수지와 상기 경화성 수지와 상기 경화제와 상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 합계에 대해, 1 질량% ~ 15 질량% 가 바람직하고, 3 질량% ~ 10 질량% 가 보다 바람직하고, 3 질량% ~ 5 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 함유량이, 상기 특히 바람직한 범위내이면 기판의 휨 방지와 접속 신뢰성을 고도로 양립시킬 수 있다는 점에서 유리하다.The content of the carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. The content of the carboxyl group-containing acrylic rubber is preferably 1% by mass to 15% by mass relative to the sum of the film forming resin, the curing resin, the curing agent and the carboxyl group- , More preferably from 3% by mass to 10% by mass, and particularly preferably from 3% by mass to 5% by mass. When the content is within the above-mentioned particularly preferable range, it is advantageous in that the warp prevention of the substrate and the connection reliability can be highly compatible.
<도전성 입자><Conductive Particle>
상기 도전성 입자로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 금속 입자, 금속 피복 수지 입자 등을 들 수 있다.The conductive particles are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include metal particles and metal-coated resin particles.
상기 금속 입자로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 니켈, 코발트, 은, 구리, 금, 팔라듐, 땜납 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The metal particles are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include nickel, cobalt, silver, copper, gold, palladium, and solder. These may be used alone or in combination of two or more.
이들 중에서도, 니켈, 은, 구리가 바람직하다. 이들의 금속 입자는 표면 산화를 방지할 목적으로, 그 표면에 금, 팔라듐을 입혀도 된다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 입힌 것을 사용해도 된다.Of these, nickel, silver and copper are preferable. These metal particles may be coated with gold or palladium on the surface thereof for the purpose of preventing surface oxidation. It is also possible to use a metal substrate with a metal protrusion or an insulating film coated with an organic material.
상기 금속 피복 수지 입자로서는 수지 입자의 표면을 금속으로 피복한 입자이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 수지 입자의 표면을 니켈, 은, 땜납, 구리, 금, 및 팔라듐의 적어도 어느 것의 금속으로 피복한 입자 등을 들 수 있다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 입힌 것을 사용해도 된다. 저저항을 고려한 접속의 경우, 수지 입자의 표면을 은으로 피복한 입자가 바람직하다.The metal-coated resin particle is not particularly limited as long as the surface of the resin particle is covered with a metal, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the surface of the resin particle is coated with nickel, silver, solder, copper, gold, Or a metal coated with at least one of these metals. It is also possible to use a metal substrate with a metal protrusion or an insulating film coated with an organic material. In the case of a connection considering a low resistance, particles in which the surface of the resin particle is coated with silver are preferable.
상기 수지 입자에 대한 금속의 피복 방법으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 무전해 도금법, 스퍼터링법 등을 들 수 있다.The method of coating the metal with respect to the resin particles is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and examples thereof include electroless plating and sputtering.
상기 수지 입자의 재질로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 스티렌-디비닐벤젠 공중합체, 벤조구아나민 수지, 가교 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 스티렌-실리카 복합 수지 등을 들 수 있다.The material of the resin particles is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples of the resin particles include styrene-divinylbenzene copolymer, benzoguanamine resin, crosslinked polystyrene resin, acrylic resin, styrene- have.
상기 도전성 입자는 이방성 도전 접속 시에, 도전성을 가지고 있으면 된다. 예를 들어, 금속 입자의 표면에 절연 피막을 입힌 입자일지라도, 이방성 도전 접속 시에 상기 입자가 변형되어 상기 금속 입자가 노출되는 것이라면 상기 도전성 입자이다.The conductive particles may have conductivity at the time of anisotropic conductive connection. For example, even if the surface of the metal particle is coated with an insulating coating, it is the conductive particle if the particle is deformed during the anisotropic conductive connection to expose the metal particle.
상기 도전성 입자의 평균 입자경으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 1㎛ ~ 50㎛ 가 바람직하고, 2㎛ ~ 25㎛ 가 보다 바람직하고, 2㎛ ~ 10㎛ 가 특히 바람직하다.The average particle diameter of the conductive particles is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. The average particle diameter is preferably 1 탆 to 50 탆, more preferably 2 탆 to 25 탆, and particularly preferably 2 탆 to 10 탆.
상기 평균 입자경은 임의로 10 개의 도전성 입자에 대해 측정한 입자경의 평균치이다.The average particle diameter is an average value of the particle diameters measured for 10 conductive particles.
상기 입자경은 예를 들어, 주사형 전자현미경 관찰에 의해 측정할 수 있다.The particle diameter can be measured by, for example, scanning electron microscope observation.
<그 밖의 성분>≪ Other components >
상기 그 밖의 성분으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 실란 커플링제, 충전제, 연화제, 경화 촉진제, 노화 방지제, 착색제 (안료, 염료), 유기 용제, 이온 캐처제 등을 들 수 있다.The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the other components include a silane coupling agent, a filler, a softener, a curing accelerator, an antioxidant, a colorant (pigment, dye), an organic solvent, .
상기 그 밖의 성분의 함유량으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The content of the other components is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.
<기판><Substrate>
상기 기판으로서는 단자를 가지고, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 이방성 도전 접속의 대상이 되는 기판이면 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 단자를 갖는 유리 기판, 단자를 갖는 플라스틱 기판 등을 들 수 있다.The substrate is not particularly limited as long as it is a substrate to be subjected to anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a glass substrate having terminals, a plastic substrate having terminals, .
상기 단자를 갖는 유리 기판으로서는 예를 들어, ITO (Indium Tin Oxide) 유리 기판, IZO (Indium Zinc Oxide) 유리 기판, 그 밖의 유리 패턴 기판 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, ITO 유리 기판, IZO 유리 기판이 바람직하다.Examples of the glass substrate having the terminals include ITO (Indium Tin Oxide) glass substrates, IZO (Indium Zinc Oxide) glass substrates, and other glass pattern substrates. Of these, an ITO glass substrate and an IZO glass substrate are preferable.
상기 단자를 갖는 플라스틱 기판의 재질, 구조로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 단자를 갖는 리지드 기판, 단자를 갖는 플렉시블 기판 등을 들 수 있다.The material and the structure of the plastic substrate having the terminal are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a rigid substrate having terminals, and a flexible substrate having terminals.
상기 기판의 평균 두께로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.1 mm ~ 1.0 mm 가 바람직하고, 0.2 mm ~ 0.8 mm 가 보다 바람직하다.The average thickness of the substrate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. The thickness is preferably 0.1 mm to 1.0 mm, and more preferably 0.2 mm to 0.8 mm.
상기 평균 두께는 상기 기판의 임의의 10 지점의 두께를 측정했을 때의 평균치이다.The average thickness is an average value when the thickness of any 10 points of the substrate is measured.
<전자 부품><Electronic parts>
상기 전자 부품으로서는 단자를 가지고, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 이방성 도전 접속의 대상이 되는 전자 부품이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 IC (Integrated Circuit), TAB (Tape Automated Bonding) 테이프, 액정 패널 등을 들 수 있다. 상기 IC 로서는 예를 들어, 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 에 있어서의 액정 화면 제어용 IC 칩 등을 들 수 있다.The electronic component is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose as long as it is an electronic component to be subjected to anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film and has terminals. Examples of the electronic component include IC (Integrated Circuit), TAB Bonding tape, liquid crystal panel, and the like. Examples of the IC include an IC chip for liquid crystal display control in a flat panel display (FPD).
상기 전자 부품의 형상으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상면에서 보았을 경우에, 직사각형, 정사각형 등을 들 수 있다.The shape of the electronic component is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, when viewed from the top, a rectangular shape, a square shape, and the like can be given.
상기 기판과 상기 전자 부품의 조합으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 Flex-on-Glass (플렉스 온 유리, FOG), Chip-on-Glass (칩 온 유리, COG), Chip-on-Flex (칩 온 플렉스, COF), Flex-on-Board (플렉스 온 보드, FOB), Flex-on-Flex (플렉스 온 플렉스, FOF) 등의 각종 실장 방법에 따른 기판과 전자 부품의 조합 등을 들 수 있다.The combination of the substrate and the electronic component is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. For example, a combination of Flex-on-Glass (FOG), Chip-on-Glass (Chip on Glass, COG) Board and electronic components according to various mounting methods such as chip-on-flex (COF), Flex-on-Board (FLEX), and Flex-on-Flex (FLEX) And combinations thereof.
상기 이방성 도전 필름의 평균 두께로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 5㎛ ~ 100㎛ 가 바람직하고, 10㎛ ~ 60㎛ 가 보다 바람직하고, 15㎛ ~ 30㎛ 가 특히 바람직하다.The average thickness of the anisotropic conductive film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. The thickness is preferably 5 占 퐉 to 100 占 퐉, more preferably 10 占 퐉 to 60 占 퐉, and particularly preferably 15 占 퐉 to 30 占 퐉.
상기 이방성 도전 필름의 제조 방법으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 막형성 수지와 상기 경화성 수지와 상기 경화제와 상기 카르복실기 함유 아크릴 고무와 상기 도전성 입자를 혼합하여 얻은 이방성 도전 조성물을, 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 위에 도포하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the anisotropic conductive film is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. For example, the anisotropic conductive film obtained by mixing the film forming resin, the curing resin, the curing agent, the carboxyl group- A method of applying the composition on a peeled polyethylene terephthalate (PET) film, and the like.
(접속 방법) (Connection method)
본 발명의 접속 방법은 제 1 배치 공정과 제 2 배치 공정과 가열 가압 공정을 적어도 포함하고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 공정을 포함한다.The connecting method of the present invention includes at least a first batch process, a second batch process, and a heating and pressing process, and further includes other processes as necessary.
상기 접속 방법은 기판의 단자와 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 방법이다.The connection method is a method of anisotropic conductive connection of a terminal of a substrate and a terminal of an electronic part.
상기 기판, 및 상기 전자 부품으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 본 발명의 상기 이방성 도전 필름의 설명에서 예시한 상기 기판, 및 상기 전자 부품을 각각 들 수 있다.The substrate and the electronic part are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the substrate and the electronic part exemplified in the description of the anisotropic conductive film of the present invention are respectively included.
<제 1 배치 공정>≪ First batch process >
상기 제 1 배치 공정으로서는 상기 기판의 단자 위에 본 발명의 상기 이방성 도전 필름을 배치하는 공정이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The first disposing step is not particularly limited as long as the step of disposing the anisotropic conductive film of the present invention on the terminals of the substrate can be appropriately selected according to the purpose.
<제 2 배치 공정><Second Arrangement Process>
상기 제 2 배치 공정으로서는 상기 이방성 도전 필름 위에 상기 전자 부품을, 상기 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 공정이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The second disposing step is not particularly limited as long as it is a step of disposing the electronic part on the anisotropic conductive film and the terminal of the electronic part in contact with the anisotropic conductive film, and can be appropriately selected according to the purpose.
<가열 가압 공정><Heating and pressing step>
상기 가열 가압 공정으로서는 상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 공정이면, 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The heating and pressing step is not particularly limited as long as it is a step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member, and can be appropriately selected according to the purpose.
상기 가열 가압 부재로서는 예를 들어, 가열 기구를 갖는 가압 부재 등을 들 수 있다. 상기 가열 기구를 갖는 가압 부재로서는 예를 들어, 히트 툴 등을 들 수 있다.The heating and pressing member may be, for example, a pressing member having a heating mechanism. As a pressing member having the heating mechanism, for example, a heat tool and the like can be mentioned.
상기 가열 온도로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 100 ℃ ~ 180 ℃ 가 바람직하다.The heating temperature is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and is preferably 100 占 폚 to 180 占 폚.
상기 가압 압력으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.5 MPa ~ 100 MPa 가 바람직하다.The pressurizing pressure is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and is preferably from 0.5 MPa to 100 MPa.
상기 가열 및 가압 시간으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.5 초간 ~ 10 초간이 바람직하다.The heating and pressurizing time is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and is preferably 0.5 seconds to 10 seconds.
(접합체) (Bonded body)
본 발명의 접합체는 기판과, 전자 부품과 이방성 도전 필름의 경화물을 적어도 가지고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 부재를 갖는다.The junction body of the present invention has at least a substrate, a cured product of the electronic component and the anisotropic conductive film, and further includes other members as necessary.
상기 기판, 및 상기 전자 부품으로서는 특별히 제한은 없고 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 본 발명의 상기 이방성 도전 필름의 설명에서 예시한 상기 기판, 및 상기 전자 부품을 각각 들 수 있다.The substrate and the electronic part are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the substrate and the electronic part exemplified in the description of the anisotropic conductive film of the present invention are respectively included.
상기 이방성 도전 필름은 본 발명의 상기 이방성 도전 필름이다.The anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film of the present invention.
상기 이방성 도전 필름의 경화물은 상기 기판과 상기 전자 부품 사이에 개재하여 상기 기판의 단자와 상기 전자 부품의 단자를 전기적으로 접속 하고 있다.The cured product of the anisotropic conductive film is interposed between the substrate and the electronic component to electrically connect the terminal of the substrate and the terminal of the electronic component.
상기 접합체는 예를 들어, 본 발명의 상기 접속 방법에 의해 제조할 수 있다.The above bonded body can be produced, for example, by the above connection method of the present invention.
실시예Example
이하, 본 발명의 실시예를 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.EXAMPLES Hereinafter, examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples at all.
(제조예 1 ~ 15)(Production Examples 1 to 15)
<카르복실기 함유 아크릴 고무 No. 1 ~ 15 의 합성>≪ Carboxyl group-containing acrylic rubber No. < Synthesis of 1-15>
(메트)아크릴산에스테르모노머와 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산 등의 카르복실기 함유 (메트)아크릴산에스테르와 물을, 얻어지는 아크릴 고무가 원하는 산가, 및 유리 전이 온도가 되도록, 소정의 혼합 질량비로 혼합하여 반응 용기에 투입하고, 교반하면서 충분히 질소 치환을 실시했다. 이어서 이 혼합물에, 얻어지는 아크릴 고무가 원하는 중량 평균 분자량이 되도록, 소정의 양의 퍼옥사이드 (개시제) 를 공급하여 중합을 실시했다.(Meth) acrylate ester monomer having a carboxyl group such as 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid and 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, ) Acrylic acid ester and water were mixed at a predetermined mixing mass ratio so that the obtained acrylic rubber would have a desired acid value and a glass transition temperature, and the mixture was charged into a reaction vessel and thoroughly purged with nitrogen while stirring. Then, a predetermined amount of peroxide (initiator) was supplied to the mixture so that the resulting acrylic rubber had a desired weight average molecular weight, and polymerization was carried out.
합성한 카르복실기 함유 아크릴 고무의 산가, 유리 전이 온도, 및 중량 평균 분자량을 표 1 ~ 표 4 에 나타냈다. 또한, 산가, 유리 전이 온도, 및 중량 평균 분자량은 이하와 같이 하여 구했다.The acid value, the glass transition temperature, and the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing acrylic rubber synthesized are shown in Tables 1 to 4. The acid value, the glass transition temperature, and the weight average molecular weight were determined as follows.
<산가><Acid value>
산가는 일본 공업 규격 「JIS K 2501-2003 석유 제품 및 윤활유-중화가 시험 방법」에 기초하여 측정했다.Acid value was measured based on the Japanese Industrial Standard "JIS K 2501-2003 Petroleum Products and Lubricating Oil - Neutralization Test Method".
<유리 전이 온도><Glass transition temperature>
유리 전이 온도 (Tg) 는 이론 유리 전이 온도 계산식 (FOX 식) 을 이용하여 구했다.The glass transition temperature (Tg) was determined using the theoretical glass transition temperature equation (FOX equation).
구체적으로는 FOX 식 (T. G. Fox, Bull. Am. Physics Soc., 제 1 권, 제 3 호, 123 페이지 (1956)) 에 따라, 폴리머를 구성하는 각각의 단량체의 단독 중합체의 Tgn 을 이용하여 하기 식 (1) 으로부터 구했다.Specifically, Tgn of a homopolymer of each monomer constituting the polymer is calculated according to FOX formula (TG Fox, Bull. Am. Physics Soc., Vol. 1, No. 3, page 123 (1956) Was obtained from the formula (1).
1/Tg = Σ (Wn/Tgn) (1)1 / Tg =? (Wn / Tgn) (1)
상기 식 (1) 중, Tgn 은 각 단량체 성분의 단독 중합체의 유리 전이 온도 Tg 이며, Wn 은 각 단량체 성분의 중량분율이며, Tg 는 공중합체의 유리 전이 온도이다. 상기 식 (1) 중의 온도는 절대온도이다.In the above formula (1), Tgn is the glass transition temperature Tg of the homopolymer of each monomer component, Wn is the weight fraction of each monomer component, and Tg is the glass transition temperature of the copolymer. The temperature in the formula (1) is the absolute temperature.
<중량 평균 분자량>≪ Weight average molecular weight &
중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) 법에 의해 측정했다. 측정에는 Shodex GPC (쇼와전공 주식회사 제조) 를 사용했다. 검량선 작성에는 표준 폴리스티렌을 사용했다.The weight average molecular weight was measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. Shodex GPC (manufactured by Showa Denko KK) was used for the measurement. Standard polystyrene was used for calibration.
(실시예 1)(Example 1)
<이방성 도전 필름의 제작>≪ Fabrication of anisotropic conductive film &
페녹시 수지 (상품명 : YP-50, 신닛테츠화학주식회사 제조, 막형성 수지), 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (상품명 : EP-828, 미츠비시화학주식회사 제조, 경화성 수지), 실란 커플링제 (상품명 : KBM-403, 신에츠 화학공업 주식회사 제조), 카티온계 경화제 (상품명 : SI-60 L, 산신화학공업주식회사 제조), 및 제조예 1 에서 얻은 카르복실기 함유 아크릴 고무 No. 1 을 표 1 에 나타내는 배합량으로 혼합하여 조성물을 얻었다. 얻어진 조성물에, 도전성 입자 (상품명 : AUL704, 세키스이화학공업주식회사 제조) 를 분산시켜 이방성 도전 조성물을 얻었다. 분산은 얻어지는 이방성 도전 필름에 있어서의 상기 도전성 입자의 입자 밀도가 50,000 개/㎟ 가 되도록 실시했다.A phenol resin (trade name: YP-50, film forming resin, manufactured by Shinnetsu Chemical Co., Ltd.), a bisphenol A type epoxy resin (trade name: EP-828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, curable resin) 403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a cationic curing agent (trade name: SI-60L, manufactured by Sanxin Chemical Industry Co., Ltd.) and the carboxyl group-containing acrylic rubber No. 1 were mixed in the amounts shown in Table 1 to obtain a composition. To the obtained composition, conductive particles (trade name: AUL704, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were dispersed to obtain an anisotropic conductive composition. The dispersion was carried out so that the particle density of the conductive particles in the resulting anisotropic conductive film was 50,000 /
얻어진 이방성 도전 조성물을 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 위에 평균 두께가 20㎛ 가 되도록 도포하여 이방성 도전 필름을 얻었다.The resulting anisotropic conductive composition was coated on a polyethylene terephthalate film so as to have an average thickness of 20 占 퐉 to obtain an anisotropic conductive film.
<접합체의 제조, 및 접합체의 평가>≪ Preparation of the conjugate and evaluation of the conjugate &
이하의 방법에 의해 접합체를 제조하고, 이하에 나타내는 평가를 실시했다. 결과를 표 1 에 나타냈다.A bonded body was produced by the following method, and the evaluation shown below was carried out. The results are shown in Table 1.
유리 기판으로서 ITO (Indium Tin Oxide) 막이 패터닝된 평균 두께 0.5 mm 의 ITO 배선판을 사용했다.An ITO wiring board having an average thickness of 0.5 mm, in which an ITO (Indium Tin Oxide) film was patterned as a glass substrate, was used.
전자 부품으로서 IC 칩 (1.8 mm × 20 mm, t (두께) = 0.5 mm, Au-plated bump 30㎛ × 85㎛, h (높이) = 15㎛) 을 사용했다.An IC chip (1.8 mm x 20 mm, t (thickness) = 0.5 mm, Au-plated bump 30 m x 85 m, h (height) = 15 m) was used as an electronic component.
상기 이방성 도전 필름을 소정 폭으로 슬릿하여 상기 ITO 배선판에 첩부했다. 그 위에 상기 IC 칩을 임시로 고정시킨 후, 완충재로서 평균 두께 50㎛ 의 테플론 (등록상표) 이 피복된 히트 툴을 이용하여, 접합 조건 160 ℃ - 60 MPa - 5 sec 로 접합을 실시하여 접합체를 완성시켰다.The anisotropic conductive film was slit to a predetermined width and attached to the ITO wiring board. The IC chip was temporarily fixed thereon, and then bonded using Teflon (registered trademark) coated with an average thickness of 50 mu m as a buffer material at a bonding condition of 160 DEG C - 60 MPa - 5 sec to form a bonded body Completed.
<<접속 신뢰성 (도통 저항) >><< Connection reliability (conduction resistance) >>
얻어진 접합체의 초기 (Initial) 저항값, 그리고 85 ℃ 및 85 %RH 에서의 500 시간의 TH 테스트 (Thermal Humidity Test) 후의 저항값을 이하의 방법으로 측정했다. 결과를 표 1 에 나타냈다.The initial resistance value of the obtained bonded body and the resistance value after a TH test (thermal humidity test) at 85 DEG C and 85% RH for 500 hours were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.
디지털 멀티 미터 (품번 : 디지털 멀티 미터 7555, 요코가와덴키주식회사 제조) 를 이용하여 4 단자법으로 전류 1 mA 를 흘렸을 때의 저항값을 측정했다.The resistance value when a current of 1 mA was passed through a 4-terminal method was measured using a digital multimeter (product number: Digital Multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Corporation).
<<휨량>><< Bending amount >>
휨량의 측정에는 촉침식 표면 조도계 (상품명 : SE-3 H, 주식회사 코사카연구소 제조) 를 사용했다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 접합체에 있어서 이방성 도전 필름의 경화물 (2) 에 의해 전자 부품 (3) 이 접속되어 있지 않은 유리 기판 (1) 의 면을 상측으로 하고, 또한 유리 기판 (1) 의 평면이 수평이 되도록 접합체를 두었다. 그리고, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 전자 부품 (3) 이 접속된 면과 반대측 유리 기판 (1) 의 표면을, 촉침식 표면 조도계의 촉침 (4) 으로 주사시켰다. 촉침 (4) 은 상기 표면을, 전자 부품 (3) 의 길이 방향으로, 전자 부품 (3) 의 일방의 변이 위치하는 지점으로부터 상기 일방의 변에 대향하는 타방의 변이 위치하는 지점까지의 20 mm 의 거리를 주사시켰다. 그리고, 촉침 (4) 에 의한 주사 시의 수직 방향의 변위를 측정하고 이를 휨량으로 했다. 샘플 10 개에 대해 휨량을 측정하고, 그 평균치로부터 휨량을 구했다. 결과를 표 1 에 나타냈다.A surface-touched surface roughness tester (trade name: SE-3 H, Kosaka Laboratory Co., Ltd.) was used to measure the amount of deflection. As shown in Fig. 1, the surface of the glass substrate 1, to which the electronic component 3 is not connected by the cured
또한, 휨이 볼록 형상인 경우에는 휨량을 정의 수로 나타내고, 휨이 오목 형상인 경우에는 휨량을 부의 수로 나타냈다.Further, when the warp is convex, the amount of warp is represented by a positive number, and when warp is concave, the amount of warp is represented by a negative number.
(실시예 2 ~ 24, 및 비교예 1 ~ 3) (Examples 2 to 24 and Comparative Examples 1 to 3)
실시예 1 에 있어서, 이방성 도전 조성물의 배합을 표 1 ~ 표 4 에 나타내는 배합으로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제작했다.An anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the anisotropic conductive composition in Example 1 was changed to the formulations shown in Tables 1 to 4.
얻어진 이방성 도전 필름에 대해 실시예 1 과 동일한 평가를 실시했다. 결과를 표 1 ~ 표 4 에 나타냈다.The obtained anisotropic conductive film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Tables 1 to 4.
표 1 ~ 표 4 중의 배합량의 상대 비율은 이방성 도전 필름에 있어서의 각 성분의 함유량의 상대 비율과 일치한다.The relative ratios of the compounding amounts in Tables 1 to 4 coincide with the relative ratios of the contents of the respective components in the anisotropic conductive film.
실시예 22 에 사용한 막형성 수지는 에피코트 1256 (신닛테츠화학주식회사 제조) 이다.The film-forming resin used in Example 22 was Epikote 1256 (manufactured by Shin-Nittsu Chemical Co., Ltd.).
실시예 23 에 사용한 경화성 수지는 YD-128 (미츠비시화학주식회사 제조) 이다.The curable resin used in Example 23 is YD-128 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
실시예 24 에 사용한 경화제는 SI-100 L (산신화학공업주식회사 제조) 이다.The curing agent used in Example 24 is SI-100 L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.).
실시예 1 ~ 24 에서는 기판의 휨량이 15.0㎛ 이하이며, 또한 85 ℃ 및 85 %RH 로 500 시간 경과 후의 도통 저항이 10.0Ω 이하로, 기판의 휨 방지와 우수한 접속 신뢰성을 양립시키고 있었다.In Examples 1 to 24, the deflection of the substrate was 15.0 占 퐉 or less, and the conduction resistance after 500 hours at 85 占 폚 and 85% RH was 10.0? Or less.
특히, 카르복실기 함유 아크릴 고무의 산가가 5 mgKOH/g ~ 30 mgKOH/g, 유리 전이 온도가 -30 ℃ ~ 5 ℃ , 및 중량 평균 분자량이 700,000 ~ 900,000, 그리고 카르복실기 함유 아크릴 고무의 함유량이 막형성 수지와 경화성 수지와 경화제와 카르복실기 함유 아크릴 고무의 합계에 대해 3 질량% ~ 5 질량% 인 경우에는 기판의 휨량이 13.0㎛ 이하이며, 또한 85 ℃ 및 85 %RH 로 500 시간 경과 후의 도통 저항이 5.0 Ω 이하로, 기판의 휨 방지와 접속 신뢰성을 고도로 양립시키고 있었다 (예를 들어, 실시예 2 ~ 6, 10, 12 참조).Particularly when the carboxyl group-containing acrylic rubber has an acid value of 5 mgKOH / g to 30 mgKOH / g, a glass transition temperature of -30 ° C to 5 ° C and a weight average molecular weight of 700,000 to 900,000 and the content of the carboxyl group- Of the total amount of the curing resin, the curing agent and the carboxyl group-containing acrylic rubber is 3% by mass to 5% by mass, the warpage of the substrate is 13.0 占 퐉 or less, and when the electric resistance after 500 hours at 85 占 폚 and 85% (For example, see Examples 2 to 6, 10, and 12).
한편, 카르복실기 함유 아크릴 고무의 유리 전이 온도가 20 ℃ 인 경우 (비교예 1), 중량 평균 분자량이 50,000 인 경우 (비교예 2), 또는 이방성 도전 필름이 카르복실기 함유 아크릴 고무를 함유하지 않는 경우 (비교예 3) 에는 기판의 휨이 15.0㎛ 초과, 그리고 85 ℃ 및 85 %RH 로 500 시간 경과 후의 도통 저항이 10.0 Ω 초과의 적어도 어느 것으로 되어, 기판의 휨 방지와 우수한 접속 신뢰성을 양립시킬 수 없었다.On the other hand, in the case where the glass transition temperature of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 20 ° C (Comparative Example 1), the case where the weight average molecular weight is 50,000 (Comparative Example 2), or when the anisotropic conductive film contains no carboxyl group- Example 3), the warpage of the substrate exceeded 15.0 占 퐉, and the continuity resistance after 500 hours at 85 占 폚 and 85% RH exceeded 10.0?, Which prevented both warping of the substrate and excellent connection reliability.
본 발명의 이방성 도전 필름은 기판의 휨을 방지할 수 있고 또한 우수한 접속 신뢰성이 얻어지는 점에서, 기판과 전자 부품의 접속에 바람직하게 사용할 수 있다.The anisotropic conductive film of the present invention can be suitably used for connection between a substrate and an electronic component in that warpage of the substrate can be prevented and excellent connection reliability can be obtained.
1 유리 기판
2 이방성 도전 필름의 경화물
3 전자 부품
4 촉침1 glass substrate
2 A cured product of an anisotropic conductive film
3 Electronic components
4 pointer
Claims (3)
막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 카르복실기 함유 아크릴 고무와, 도전성 입자를 함유하고,
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 산가가 5 mgKOH/g ~ 30 mgKOH/g 이고, 유리 전이 온도가 -30 ~ 5 ℃ 이며, 중량 평균 분자량이 700,000 ~ 900,000 이고,
상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 함유량이, 막형성 수지와 경화성 수지와 경화제와 상기 카르복실기 함유 아크릴 고무의 합계에 대해, 3 질량% ~ 5 질량% 인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.An anisotropic conductive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
A film forming resin, a curing resin, a curing agent, a carboxyl group-containing acrylic rubber, and conductive particles,
Wherein the carboxyl group-containing acrylic rubber has an acid value of 5 mgKOH / g to 30 mgKOH / g, a glass transition temperature of -30 to 5 ° C, a weight average molecular weight of 700,000 to 900,000,
Wherein the content of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 3% by mass to 5% by mass relative to the total of the film-forming resin, the curing resin, the curing agent and the carboxyl group-containing acrylic rubber.
상기 기판의 단자 위에 제 1 항에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제 1 배치 공정과,
상기 이방성 도전 필름 위에 상기 전자 부품을, 상기 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제 2 배치 공정과,
상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법.A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
A first disposing step of disposing the anisotropic conductive film according to claim 1 on a terminal of the substrate;
A second arranging step of disposing the electronic part on the anisotropic conductive film so that the terminal of the electronic part is in contact with the anisotropic conductive film;
And a heating and pressing step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member.
상기 이방성 도전 필름이, 제 1 항에 기재된 이방성 도전 필름인 것을 특징으로 하는 접합체.
An electronic component having a terminal and a cured product of an anisotropic conductive film electrically connecting the terminal of the substrate and the terminal of the electronic component interposed between the substrate and the electronic component,
Characterized in that the anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 6. The bonding body according to claim 1,
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