JP2014201657A - Anisotropic conductive film, connection method, and joined body - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive film or the like, with which warpage of a substrate is prevented and excellent connection reliability is obtained.SOLUTION: An anisotropic conductive film anisotropically and electroconductively connects a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component to each other, and contains a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, carboxy group-containing acrylic rubber, and electroconductive particles. The carboxy group-containing acrylic rubber has a glass-transition temperature of 18°C or less, and has weight average molecular weight of 75,000 or more.

Description

本発明は、異方性導電フィルム、接続方法、及び接合体に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection method, and a joined body.

従来より、電子部品を基板と接続する手段として、導電性粒子が分散された熱硬化性樹脂を剥離フィルムに塗布したテープ状の接続材料(例えば、異方性導電フィルム(ACF;Anisotropic Conductive Film))が用いられている。   Conventionally, as a means for connecting an electronic component to a substrate, a tape-like connection material in which a thermosetting resin in which conductive particles are dispersed is applied to a release film (for example, anisotropic conductive film (ACF)) ) Is used.

この異方性導電フィルムは、例えば、フレキシブルプリント基板(FPC)やIC(Integrated Circuit)チップの端子と、LCD(Liquid Crystal Display)パネルのガラス基板上に形成された電極とを接続する場合を始めとして、種々の端子同士を接着すると共に電気的に接続する場合に用いられている。   This anisotropic conductive film starts, for example, when connecting a terminal of a flexible printed circuit (FPC) or IC (Integrated Circuit) chip and an electrode formed on a glass substrate of an LCD (Liquid Crystal Display) panel. In other words, it is used when various terminals are bonded and electrically connected.

近年、異方性導電フィルムによって接続される基板の薄型化、基板の利用面積の拡大などにより、基板と電子部品との接続後に、前記基板に反りが発生するという問題がある。前記基板に反りが発生すると、例えば、LCDパネルにおいては、色むらが発生してしまう。   In recent years, there has been a problem that the substrate is warped after the connection between the substrate and the electronic component due to the thinning of the substrate connected by the anisotropic conductive film and the expansion of the use area of the substrate. When the substrate warps, for example, color unevenness occurs in an LCD panel.

そこで、基板の反りを低減するために、前記基板にかかる応力を緩和させることが提案されている。
例えば、熱硬化型アクリル樹脂組成物から得られる異方性導電フィルムにおいて、前記組成物が、少なくとも(A)熱硬化剤、(B)熱硬化性成分、(C)水酸基を含有するアクリルゴム、(D)有機微粒子、及び(E)導電性粒子を含み、前記(B)熱硬化性成分には、(b1)リン含有アクリル酸エステルを含み、前記(C)水酸基を含有するアクリルゴムの重量平均分子量が100万以上であり、前記(D)有機微粒子には、(d1)ポリブタジエン系微粒子を含む異方性導電フィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、前記異方性導電フィルムでは、接着性の向上などの種々の目的でアクリルゴムが用いられている(例えば、特許文献2及び3参照)。前記アクリルゴムは、ゴム材料であるため、応力を緩和させることが期待できる。
しかし、前記異方性導電フィルムに、前記アクリルゴムなどの応力を緩和させる材料を用いると、通常は、接続信頼性が低下してしまうという問題が発生する。
In order to reduce the warpage of the substrate, it has been proposed to relax the stress applied to the substrate.
For example, in an anisotropic conductive film obtained from a thermosetting acrylic resin composition, the composition contains at least (A) a thermosetting agent, (B) a thermosetting component, and (C) an acrylic rubber containing a hydroxyl group, (D) Weight of acrylic rubber containing organic fine particles and (E) conductive particles, (B) thermosetting component containing (b1) phosphorus-containing acrylic acid ester and (C) hydroxyl group An anisotropic conductive film having an average molecular weight of 1 million or more and (d1) polybutadiene-based fine particles has been proposed as the (D) organic fine particles (see, for example, Patent Document 1).
In the anisotropic conductive film, acrylic rubber is used for various purposes such as improvement of adhesion (see, for example, Patent Documents 2 and 3). Since the acrylic rubber is a rubber material, it can be expected to relieve stress.
However, when a material that relieves stress, such as the acrylic rubber, is used for the anisotropic conductive film, there is usually a problem that connection reliability is lowered.

したがって、基板の反りを防止でき、かつ優れた接続信頼性が得られる異方性導電フィルム、並びに該異方性導電フィルムを用いた接続方法、及び前記異方性導電フィルムを用いた接合体の提供が求められているのが現状である。   Therefore, an anisotropic conductive film that can prevent warping of the substrate and obtain excellent connection reliability, a connection method using the anisotropic conductive film, and a bonded body using the anisotropic conductive film It is the present situation that provision is demanded.

特開2008−274019号公報JP 2008-274019 A 特開2007−80522号公報JP 2007-80522 A 国際公開第2001/82363号パンフレットInternational Publication No. 2001/82363 Pamphlet

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、基板の反りを防止でき、かつ優れた接続信頼性が得られる異方性導電フィルム、並びに該異方性導電フィルムを用いた接続方法、及び前記異方性導電フィルムを用いた接合体を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, the present invention uses an anisotropic conductive film that can prevent warping of the substrate and obtain excellent connection reliability, a connection method using the anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film. It is an object to provide a bonded body.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 基板の端子と電子部品の端子とを異方性導電接続させる異方性導電フィルムであって、
膜形成樹脂と、硬化性樹脂と、硬化剤と、カルボキシル基含有アクリルゴムと、導電性粒子とを含有し、
前記カルボキシル基含有アクリルゴムのガラス転移温度が18℃以下であり、重量平均分子量が75,000以上であることを特徴とする異方性導電フィルムである。
<2> カルボキシル基含有アクリルゴムの酸価が5mgKOH/g〜40mgKOH/gであり、ガラス転移温度が−30℃〜15℃であり、重量平均分子量が100,000〜900,000である前記<1>に記載の異方性導電フィルムである。
<3> カルボキシル基含有アクリルゴムの含有量が、膜形成樹脂と硬化性樹脂と硬化剤と前記カルボキシル基含有アクリルゴムとの合計に対して、1質量%〜15質量%である前記<1>から<2>のいずれかに記載の異方性導電フィルムである。
<4> 基板の端子と電子部品の端子とを異方性導電接続させる接続方法であって、
前記基板の端子上に前記<1>から<3>のいずれかに記載の異方性導電フィルムを配置する第1の配置工程と、
前記異方性導電フィルム上に前記電子部品を、前記電子部品の端子が前記異方性導電フィルムと接するように配置する第2の配置工程と、
前記電子部品を加熱押圧部材により加熱及び押圧する加熱押圧工程とを含むことを特徴とする接続方法である。
<5> 端子を有する基板と、端子を有する電子部品と、前記基板と前記電子部品との間に介在して前記基板の端子と前記の電子部品の端子とを電気的に接続する異方性導電フィルムの硬化物とを有し、
前記異方性導電フィルムが、前記<1>から<3>のいずれかに記載の異方性導電フィルムであることを特徴とする接合体である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> An anisotropic conductive film for anisotropically conductively connecting a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
Contains a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, a carboxyl group-containing acrylic rubber, and conductive particles,
An anisotropic conductive film, wherein the carboxyl group-containing acrylic rubber has a glass transition temperature of 18 ° C. or lower and a weight average molecular weight of 75,000 or higher.
<2> The acid value of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 5 mgKOH / g to 40 mgKOH / g, the glass transition temperature is -30 ° C to 15 ° C, and the weight average molecular weight is 100,000 to 900,000 <1>. The anisotropic conductive film according to 1>.
<3> The <1>, wherein the content of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 1% by mass to 15% by mass with respect to the total of the film-forming resin, the curable resin, the curing agent, and the carboxyl group-containing acrylic rubber. To <2>.
<4> A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
A first disposing step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of <1> to <3> on a terminal of the substrate;
A second disposing step of disposing the electronic component on the anisotropic conductive film such that a terminal of the electronic component is in contact with the anisotropic conductive film;
And a heating and pressing step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member.
<5> A substrate having terminals, an electronic component having terminals, and an anisotropy interposed between the substrate and the electronic component to electrically connect the terminal of the substrate and the terminal of the electronic component A cured product of a conductive film,
The anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film according to any one of <1> to <3>.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、基板の反りを防止でき、かつ優れた接続信頼性が得られる異方性導電フィルム、並びに該異方性導電フィルムを用いた接続方法、及び前記異方性導電フィルムを用いた接合体を提供することができる。   According to the present invention, the anisotropic conductive film capable of solving the above-described problems and achieving the object, preventing the warpage of the substrate, and obtaining excellent connection reliability, and the anisotropic A connection method using a conductive conductive film and a joined body using the anisotropic conductive film can be provided.

図1は、反り量を測定する方法を説明するための概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a method of measuring the amount of warpage.

(異方性導電フィルム)
本発明の異方性導電フィルムは、膜形成樹脂と、硬化性樹脂と、硬化剤と、カルボキシル基含有アクリルゴムと、導電性粒子とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
前記異方性導電フィルムは、基板の端子と電子部品の端子とを異方性導電接続させる異方性導電フィルムである。
(Anisotropic conductive film)
The anisotropic conductive film of the present invention contains at least a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, a carboxyl group-containing acrylic rubber, and conductive particles, and further contains other components as necessary. contains.
The anisotropic conductive film is an anisotropic conductive film that connects a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component in an anisotropic conductive connection.

<膜形成樹脂>
前記膜形成樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂などが挙げられる。前記膜形成樹脂は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、製膜性、加工性、接続信頼性の点からフェノキシ樹脂が好ましい。
前記フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンより合成される樹脂などが挙げられる。
前記フェノキシ樹脂は、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
前記膜形成樹脂の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Film forming resin>
There is no restriction | limiting in particular as said film formation resin, According to the objective, it can select suitably, For example, phenoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, urethane resin, butadiene resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin Resin etc. are mentioned. The film forming resin may be used alone or in combination of two or more. Among these, phenoxy resin is preferable from the viewpoint of film forming property, processability, and connection reliability.
Examples of the phenoxy resin include a resin synthesized from bisphenol A and epichlorohydrin.
As the phenoxy resin, an appropriately synthesized product or a commercially available product may be used.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said film formation resin, According to the objective, it can select suitably.

<硬化性樹脂>
前記硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂などが挙げられる。
<Curable resin>
There is no restriction | limiting in particular as said curable resin, According to the objective, it can select suitably, For example, an epoxy resin, an acrylate resin, etc. are mentioned.

−エポキシ樹脂−
前記エポキシ樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、それらの変性エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
-Epoxy resin-
There is no restriction | limiting in particular as said epoxy resin, According to the objective, it can select suitably, For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, those modified epoxy resins, alicyclic type An epoxy resin etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

−アクリレート樹脂−
前記アクリレート樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エポキシアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、テトラメチレングリコールテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、前記アクリレートをメタクリレートにしたものが挙げられ、これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
-Acrylate resin-
The acrylate resin is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylol Propane triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, tetramethylene glycol tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diaacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2, 2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloxyethyl) i Cyanurates, such as urethane acrylate, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Moreover, what made the said acrylate into the methacrylate is mentioned, These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記硬化性樹脂の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said curable resin, According to the objective, it can select suitably.

<硬化剤>
前記硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イミダゾール類、有機過酸化物、アニオン系硬化剤、カチオン系硬化剤などが挙げられる。
前記イミダゾール類としては、例えば、2−エチル4−メチルイミダゾールなどが挙げられる。
前記有機過酸化物としては、例えば、ラウロイルパーオキサイド、ブチルパーオキサイド、ベンジルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジブチルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイドなどが挙げられる。
前記アニオン系硬化剤としては、例えば、有機アミン類などが挙げられる。
前記カチオン系硬化剤としては、例えば、スルホニウム塩、オニウム塩、アルミニウムキレート剤などが挙げられる。
<Curing agent>
There is no restriction | limiting in particular as said hardening | curing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, imidazoles, an organic peroxide, an anionic hardening | curing agent, a cationic hardening | curing agent etc. are mentioned.
Examples of the imidazoles include 2-ethyl 4-methylimidazole.
Examples of the organic peroxide include lauroyl peroxide, butyl peroxide, benzyl peroxide, dilauroyl peroxide, dibutyl peroxide, peroxydicarbonate, and benzoyl peroxide.
Examples of the anionic curing agent include organic amines.
Examples of the cationic curing agent include a sulfonium salt, an onium salt, and an aluminum chelating agent.

前記硬化性樹脂と前記硬化剤との組合せとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記エポキシ樹脂と前記カチオン系硬化剤との組合せ、前記アクリレート樹脂と前記有機過酸化物との組合せが好ましい。   The combination of the curable resin and the curing agent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. The combination of the epoxy resin and the cationic curing agent, the acrylate resin and the organic A combination with a peroxide is preferred.

<カルボキシル基含有アクリルゴム>
前記カルボキシル基含有アクリルゴムとしては、ガラス転移温度が18℃以下であり、重量平均分子量が75,000以上であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Carboxyl group-containing acrylic rubber>
The carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited as long as it has a glass transition temperature of 18 ° C. or lower and a weight average molecular weight of 75,000 or higher, and can be appropriately selected according to the purpose.

前記カルボキシル基含有アクリルゴムとは、カルボキシル基を有するアクリルゴムである。
前記アクリルゴムとは、例えば、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、カルボキシル基含有アクリル酸エステル、カルボキシル基含有メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体などの単量体に由来する構成単位を含有する重合体である。
前記アクリルゴムとしては、例えば、アクリル酸エステルを主な構成成分とするゴムなどが挙げられる。
前記重合体を構成する共重合モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、アクリロニトリルなどが挙げられる。
前記カルボキシル基含有アクリルゴムにおけるカルボキシル基は、アクリル酸、及びメタクリル酸に由来するカルボキシル基であってもよいし、その他のカルボキシル基含有共重合モノマーに由来するカルボキシル基であってもよい。前記その他のカルボキシル基含有共重合モノマーとしては、例えば、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、2−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸などが挙げられる。
The carboxyl group-containing acrylic rubber is an acrylic rubber having a carboxyl group.
The acrylic rubber is, for example, a structural unit derived from monomers such as acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, carboxyl group-containing acrylic acid ester, carboxyl group-containing methacrylic acid ester, and derivatives thereof. Is a polymer containing
Examples of the acrylic rubber include rubbers mainly composed of acrylic acid esters.
Examples of the comonomer constituting the polymer include acrylic acid, methacrylic acid, butyl acrylate, butyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, methyl acrylate, methyl methacrylate, and acrylonitrile.
The carboxyl group in the carboxyl group-containing acrylic rubber may be a carboxyl group derived from acrylic acid and methacrylic acid, or may be a carboxyl group derived from another carboxyl group-containing copolymer monomer. Examples of the other carboxyl group-containing copolymer monomers include 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl phthalic acid, and 2-acryloyloxy. Examples thereof include ethyl hexahydrophthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid and the like.

前記カルボキシル基含有アクリルゴムの酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、3mgKOH/g以上が好ましく、3mgKOH/g〜40mgKOH/gがより好ましく、5mgKOH/g〜40mgKOH/gが更に好ましく、5mgKOH/g〜30mgKOH/gが特に好ましい。前記酸価が、前記特に好ましい範囲内であると、基板の反りの防止と接続信頼性とを高度に両立できる点で有利である。
前記酸価は、例えば、日本工業規格「JIS K 2501−2003石油製品及び潤滑油−中和価試験方法」に基づいて測定できる。
There is no restriction | limiting in particular as an acid value of the said carboxyl group-containing acrylic rubber, Although it can select suitably according to the objective, 3 mgKOH / g or more are preferable, 3 mgKOH / g-40 mgKOH / g are more preferable, 5 mgKOH / g -40 mgKOH / g is more preferable, and 5 mgKOH / g-30 mgKOH / g is particularly preferable. When the acid value is within the particularly preferable range, it is advantageous in that both prevention of warpage of the substrate and connection reliability can be achieved at a high level.
The acid value can be measured based on, for example, Japanese Industrial Standard “JIS K 2501-2003 Petroleum Products and Lubricating Oil—Neutralization Test Method”.

前記カルボキシル基含有アクリルゴムのガラス転移温度は、18℃以下であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、−40℃〜15℃が好ましく、−30℃〜15℃がより好ましく、−30℃〜5℃が特に好ましい。前記ガラス転移温度が、前記特に好ましい範囲内であると、基板の反りの防止と接続信頼性とを高度に両立できる点で有利である。
前記ガラス転移温度は、例えば、理論ガラス転移温度計算式(FOX式)を用いて求めることができる。具体的には、前記FOX式(T.G.Fox、Bull.Am.Physics Soc.、第1巻、第3号、123ページ(1956))に従って、ポリマーを構成する各々の単量体の単独重合体のTgnを用いて、下記式(1)から求める。
1/Tg=Σ(Wn/Tgn) (1)
前記式(1)中、Tgnは、各単量体成分の単独重合体のガラス転移温度Tgであり、Wnは、各単量体成分の重量分率であり、Tgは、共重合体のガラス転移温度である。前記式(1)中の温度は、絶対温度である。
If the glass transition temperature of the said carboxyl group-containing acrylic rubber is 18 degrees C or less, there will be no restriction | limiting in particular, Although it can select suitably according to the objective, -40 degreeC-15 degreeC is preferable, and -30 degreeC-15 ° C is more preferable, and -30 ° C to 5 ° C is particularly preferable. When the glass transition temperature is within the particularly preferable range, it is advantageous in that both prevention of warpage of the substrate and connection reliability can be achieved at a high level.
The glass transition temperature can be determined using, for example, a theoretical glass transition temperature calculation formula (FOX formula). Specifically, according to the FOX formula (TG Fox, Bull. Am. Physics Soc., Vol. 1, No. 3, page 123 (1956)), each monomer constituting the polymer is used alone. It calculates | requires from following formula (1) using Tgn of a polymer.
1 / Tg = Σ (Wn / Tgn) (1)
In the formula (1), Tgn is the glass transition temperature Tg of the homopolymer of each monomer component, Wn is the weight fraction of each monomer component, and Tg is the glass of the copolymer. Transition temperature. The temperature in the formula (1) is an absolute temperature.

前記カルボキシル基含有アクリルゴムの重量平均分子量は、75,000以上であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、100,000〜1,000,000が好ましく、100,000〜900,000がより好ましく、700,000〜900,000が特に好ましい。前記重量平均分子量が、前記特に好ましい範囲内であると、基板の反りの防止と接続信頼性とを高度に両立できる点で有利である。
前記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定できる。測定には、例えば、Shodex GPC(昭和電工株式会社製)を用いる。検量線作成には、標準ポリスチレンを用いる。
The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited as long as it is 75,000 or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 100,000 to 1,000,000. , 000 to 900,000 are more preferable, and 700,000 to 900,000 are particularly preferable. When the weight average molecular weight is within the particularly preferable range, it is advantageous in that both prevention of warpage of the substrate and connection reliability can be achieved at a high level.
The weight average molecular weight can be measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. For the measurement, for example, Shodex GPC (manufactured by Showa Denko KK) is used. Standard polystyrene is used to create a calibration curve.

前記カルボキシル基含有アクリルゴムの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記膜形成樹脂と前記硬化性樹脂と前記硬化剤と前記カルボキシル基含有アクリルゴムとの合計に対して、1質量%〜15質量%が好ましく、3質量%〜10質量%がより好ましく、3質量%〜5質量%が特に好ましい。前記含有量が、前記特に好ましい範囲内であると、基板の反りの防止と接続信頼性とを高度に両立できる点で有利である。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said carboxyl group-containing acrylic rubber, Although it can select suitably according to the objective, The said film formation resin, the said curable resin, the said hardening | curing agent, the said carboxyl group-containing acrylic rubber, 1% by mass to 15% by mass is preferable, 3% by mass to 10% by mass is more preferable, and 3% by mass to 5% by mass is particularly preferable. When the content is within the particularly preferable range, it is advantageous in that both prevention of warpage of the substrate and connection reliability can be achieved at a high level.

<導電性粒子>
前記導電性粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属粒子、金属被覆樹脂粒子などが挙げられる。
<Conductive particles>
There is no restriction | limiting in particular as said electroconductive particle, According to the objective, it can select suitably, For example, a metal particle, a metal covering resin particle, etc. are mentioned.

前記金属粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ニッケル、コバルト、銀、銅、金、パラジウム、半田などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ニッケル、銀、銅が好ましい。これらの金属粒子は、表面酸化を防ぐ目的で、その表面に金、パラジウムを施していてもよい。更に、表面に金属突起や有機物で絶縁皮膜を施したものを用いてもよい。
There is no restriction | limiting in particular as said metal particle, According to the objective, it can select suitably, For example, nickel, cobalt, silver, copper, gold | metal | money, palladium, solder etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, nickel, silver, and copper are preferable. These metal particles may be provided with gold or palladium on the surface for the purpose of preventing surface oxidation. Furthermore, you may use what gave the insulating film with the metal protrusion and organic substance on the surface.

前記金属被覆樹脂粒子としては、樹脂粒子の表面を金属で被覆した粒子であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂粒子の表面をニッケル、銀、半田、銅、金、及びパラジウムの少なくともいずれかの金属で被覆した粒子などが挙げられる。更に、表面に金属突起や有機物で絶縁皮膜を施したものを用いてもよい。低抵抗を考慮した接続の場合、樹脂粒子の表面を銀で被覆した粒子が好ましい。
前記樹脂粒子への金属の被覆方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無電解めっき法、スパッタリング法などが挙げられる。
前記樹脂粒子の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ベンゾグアナミン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−シリカ複合樹脂などが挙げられる。
The metal-coated resin particles are not particularly limited as long as the surfaces of the resin particles are coated with metal, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the surface of the resin particles is nickel, silver, solder , Particles coated with at least one of copper, gold, and palladium. Furthermore, you may use what gave the insulating film with the metal protrusion and organic substance on the surface. In the case of connection considering low resistance, particles in which the surface of resin particles is coated with silver are preferable.
There is no restriction | limiting in particular as the coating method of the metal to the said resin particle, According to the objective, it can select suitably, For example, an electroless-plating method, sputtering method, etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said resin particle, According to the objective, it can select suitably, For example, a styrene- divinylbenzene copolymer, a benzoguanamine resin, a crosslinked polystyrene resin, an acrylic resin, a styrene-silica composite resin etc. Is mentioned.

前記導電性粒子は、異方性導電接続の際に、導電性を有していればよい。例えば、金属粒子の表面に絶縁皮膜を施した粒子であっても、異方性導電接続の際に前記粒子が変形し、前記金属粒子が露出するものであれば、前記導電性粒子である。   The conductive particles only need to have conductivity during anisotropic conductive connection. For example, even if the surface of the metal particle is an insulating film, the conductive particle may be used as long as the particle is deformed during the anisotropic conductive connection and the metal particle is exposed.

前記導電性粒子の平均粒子径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm〜50μmが好ましく、2μm〜25μmがより好ましく、2μm〜10μmが特に好ましい。
前記平均粒子径は、任意に10個の導電性粒子について測定した粒子径の平均値である。
前記粒子径は、例えば、走査型電子顕微鏡観察により測定できる。
There is no restriction | limiting in particular as an average particle diameter of the said electroconductive particle, Although it can select suitably according to the objective, 1 micrometer-50 micrometers are preferable, 2 micrometers-25 micrometers are more preferable, and 2 micrometers-10 micrometers are especially preferable.
The average particle diameter is an average value of particle diameters measured for 10 conductive particles arbitrarily.
The particle diameter can be measured, for example, by observation with a scanning electron microscope.

<その他の成分>
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シランカップリング剤、充填剤、軟化剤、硬化促進剤、老化防止剤、着色剤(顔料、染料)、有機溶剤、イオンキャッチャー剤などが挙げられる。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Other ingredients>
There is no restriction | limiting in particular as said other component, According to the objective, it can select suitably, For example, a silane coupling agent, a filler, a softening agent, a hardening accelerator, anti-aging agent, a coloring agent (a pigment, dye) ), Organic solvents, ion catchers and the like.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said other component, According to the objective, it can select suitably.

<基板>
前記基板としては、端子を有し、前記異方性導電フィルムを用いた異方性導電接続の対象となる基板であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、端子を有するガラス基板、端子を有するプラスチック基板などが挙げられる。
前記端子を有するガラス基板としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)ガラス基板、IZO(Indium Zinc Oxide)ガラス基板、その他のガラスパターン基板などが挙げられる。これらの中でも、ITOガラス基板、IZOガラス基板が好ましい。
前記端子を有するプラスチック基板の材質、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、端子を有するリジット基板、端子を有するフレキシブル基板などが挙げられる。
<Board>
The substrate is not particularly limited as long as it is a substrate that has terminals and is an object of anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film, and can be appropriately selected according to the purpose. , Glass substrates having terminals, plastic substrates having terminals, and the like.
Examples of the glass substrate having the terminal include an ITO (Indium Tin Oxide) glass substrate, an IZO (Indium Zinc Oxide) glass substrate, and other glass pattern substrates. Among these, an ITO glass substrate and an IZO glass substrate are preferable.
There is no restriction | limiting in particular as a material and structure of the plastic substrate which has the said terminal, According to the objective, it can select suitably, For example, the rigid board | substrate which has a terminal, the flexible substrate which has a terminal, etc. are mentioned.

前記基板の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1mm〜1.0mmが好ましく、0.2mm〜0.8mmがより好ましい。
前記平均厚みは、前記基板の任意の10箇所の厚みを測定した際の平均値である。
There is no restriction | limiting in particular as average thickness of the said board | substrate, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 mm-1.0 mm are preferable, and 0.2 mm-0.8 mm are more preferable.
The said average thickness is an average value at the time of measuring the thickness of arbitrary 10 places of the said board | substrate.

<電子部品>
前記電子部品としては、端子を有し、前記異方性導電フィルムを用いた異方性導電接続の対象となる電子部品であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、IC(Integrated Circuit)、TAB(Tape Automated Bonding)テープ、液晶パネルなどが挙げられる。前記ICとしては、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)における液晶画面制御用ICチップなどが挙げられる。
前記電子部品の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上面から見た場合に、長方形、正方形などが挙げられる。
<Electronic parts>
The electronic component is not particularly limited as long as the electronic component has a terminal and is an object of anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include IC (Integrated Circuit), TAB (Tape Automated Bonding) tape, and liquid crystal panel. Examples of the IC include a liquid crystal screen control IC chip in a flat panel display (FPD).
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the said electronic component, According to the objective, it can select suitably, For example, when it sees from an upper surface, a rectangle, a square, etc. are mentioned.

前記基板と前記電子部品との組合せとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Flex−on−Glass(フレックスオンガラス、FOG)、Chip−on−Glass(チップオンガラス、COG)、Chip−on−Flex(チップオンフレックス、COF)、Flex−on−Board(フレックスオンボード、FOB)、Flex−on−Flex(フレックスオンフレックス、FOF)などの各種実装方法に応じた基板と電子部品との組合せなどが挙げられる。   The combination of the substrate and the electronic component is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. On-glass, COG), Chip-on-Flex (Chip-on-Flex, COF), Flex-on-Board (Flex-on-Board, FOB), Flex-on-Flex (Flex-on-Flex, FOF) The combination of the board | substrate and electronic component which respond | corresponded is mentioned.

前記異方性導電フィルムの平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5μm〜100μmが好ましく、10μm〜60μmがより好ましく、15μm〜30μmが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as average thickness of the said anisotropic conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 5 micrometers-100 micrometers are preferable, 10 micrometers-60 micrometers are more preferable, and 15 micrometers-30 micrometers are especially preferable.

前記異方性導電フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記膜形成樹脂と前記硬化性樹脂と前記硬化剤と前記カルボキシル基含有アクリルゴムと前記導電性粒子とを混合して得た異方性導電組成物を、剥離処理したポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に塗布する方法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said anisotropic conductive film, According to the objective, it can select suitably, For example, the said film formation resin, the said curable resin, the said hardening | curing agent, and the said carboxyl group containing acrylic rubber And a method of applying an anisotropic conductive composition obtained by mixing the conductive particles to a release-treated polyethylene terephthalate (PET) film.

(接続方法)
本発明の接続方法は、第1の配置工程と、第2の配置工程と、加熱押圧工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
前記接続方法は、基板の端子と電子部品の端子とを異方性導電接続させる方法である。
(Connection method)
The connection method of the present invention includes at least a first arrangement step, a second arrangement step, and a heating and pressing step, and further includes other steps as necessary.
The connection method is a method in which the terminals of the substrate and the terminals of the electronic component are anisotropically conductively connected.

前記基板、及び前記電子部品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記異方性導電フィルムの説明で例示した前記基板、及び前記電子部品がそれぞれ挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said board | substrate and said electronic component, According to the objective, it can select suitably, For example, the said board | substrate illustrated by description of the said anisotropic conductive film of this invention, and the said electronic component are Each is listed.

<第1の配置工程>
前記第1の配置工程としては、前記基板の端子上に本発明の前記異方性導電フィルムを配置する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<First arrangement step>
The first disposing step is not particularly limited as long as it is a step of disposing the anisotropic conductive film of the present invention on the terminal of the substrate, and can be appropriately selected according to the purpose.

<第2の配置工程>
前記第2の配置工程としては、前記異方性導電フィルム上に前記電子部品を、前記電子部品の端子が前記異方性導電フィルムと接するように配置する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Second arrangement step>
The second placement step is not particularly limited as long as it is a step of placing the electronic component on the anisotropic conductive film so that terminals of the electronic component are in contact with the anisotropic conductive film, It can be appropriately selected according to the purpose.

<加熱押圧工程>
前記加熱押圧工程としては、前記電子部品を加熱押圧部材により加熱及び押圧する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記加熱押圧部材としては、例えば、加熱機構を有する押圧部材などが挙げられる。前記加熱機構を有する押圧部材としては、例えば、ヒートツールなどが挙げられる。
前記加熱の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、100℃〜180℃が好ましい。
前記押圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.5MPa〜100MPaが好ましい。
前記加熱及び押圧の時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.5秒間〜10秒間が好ましい。
<Heat pressing process>
The heating and pressing step is not particularly limited as long as it is a step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member, and can be appropriately selected according to the purpose.
Examples of the heating and pressing member include a pressing member having a heating mechanism. Examples of the pressing member having the heating mechanism include a heat tool.
There is no restriction | limiting in particular as temperature of the said heating, Although it can select suitably according to the objective, 100 to 180 degreeC is preferable.
There is no restriction | limiting in particular as the pressure of the said press, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 MPa-100 MPa are preferable.
There is no restriction | limiting in particular as time of the said heating and a press, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 second-10 second are preferable.

(接合体)
本発明の接合体は、基板と、電子部品と、異方性導電フィルムの硬化物とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
(Joint)
The joined body of the present invention includes at least a substrate, an electronic component, and a cured product of an anisotropic conductive film, and further includes other members as necessary.

前記基板、及び前記電子部品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記異方性導電フィルムの説明で例示した前記基板、及び前記電子部品がそれぞれ挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said board | substrate and said electronic component, According to the objective, it can select suitably, For example, the said board | substrate illustrated by description of the said anisotropic conductive film of this invention, and the said electronic component are Each is listed.

前記異方性導電フィルムは、本発明の前記異方性導電フィルムである。
前記異方性導電フィルムの硬化物は、前記基板と前記電子部品との間に介在して前記基板の端子と前記電子部品の端子とを電気的に接続している。
The anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film of the present invention.
The cured product of the anisotropic conductive film is interposed between the substrate and the electronic component to electrically connect the terminal of the substrate and the terminal of the electronic component.

前記接合体は、例えば、本発明の前記接続方法により製造できる。   The joined body can be manufactured, for example, by the connection method of the present invention.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(製造例1〜15)
<カルボキシル基含有アクリルゴムNo.1〜15の合成>
(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸などのカルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステルと、水とを、得られるアクリルゴムが所望の酸価、及びガラス転移温度になるように、所定の混合質量比で混合して反応容器に仕込み、撹拌しながら十分に窒素置換を行った。次いでこの混合物に、得られるアクリルゴムが所望の重量平均分子量になるように、所定の量のパーオキサイド(開始剤)を供給して重合を行った。
(Production Examples 1-15)
<Carboxyl group-containing acrylic rubber No. Synthesis of 1-15>
(Meth) acrylic acid ester monomer and 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid etc. ) Acrylic acid ester and water are mixed at a predetermined mixing mass ratio so that the resulting acrylic rubber has the desired acid value and glass transition temperature, charged into the reaction vessel, and sufficiently purged with nitrogen while stirring. Went. Next, polymerization was performed by supplying a predetermined amount of peroxide (initiator) to the mixture so that the resulting acrylic rubber had a desired weight average molecular weight.

合成したカルボキシル基含有アクリルゴムの酸価、ガラス転移温度、及び重量平均分子量を、表1〜表4に示した。なお、酸価、ガラス転移温度、及び重量平均分子量は、以下のようにして求めた。   Tables 1 to 4 show the acid value, glass transition temperature, and weight average molecular weight of the synthesized carboxyl group-containing acrylic rubber. The acid value, glass transition temperature, and weight average molecular weight were determined as follows.

<酸価>
酸価は、日本工業規格「JIS K 2501−2003石油製品及び潤滑油−中和価試験方法」に基づいて測定した。
<Acid value>
The acid value was measured based on Japanese Industrial Standard “JIS K 2501-2003 Petroleum Products and Lubricating Oil—Neutralization Value Test Method”.

<ガラス転移温度>
ガラス転移温度(Tg)は、理論ガラス転移温度計算式(FOX式)を用いて求めた。
具体的には、FOX式(T.G.Fox、Bull.Am.Physics Soc.、第1巻、第3号、123ページ(1956))に従って、ポリマーを構成する各々の単量体の単独重合体のTgnを用いて、下記式(1)から求めた。
1/Tg=Σ(Wn/Tgn) (1)
前記式(1)中、Tgnは、各単量体成分の単独重合体のガラス転移温度Tgであり、Wnは、各単量体成分の重量分率であり、Tgは、共重合体のガラス転移温度である。前記式(1)中の温度は、絶対温度である。
<Glass transition temperature>
The glass transition temperature (Tg) was determined using a theoretical glass transition temperature calculation formula (FOX formula).
Specifically, according to the FOX formula (TG Fox, Bull. Am. Physics Soc., Vol. 1, No. 3, p. 123 (1956)), the single weight of each monomer constituting the polymer is determined. It calculated | required from following formula (1) using Tgn of coalescence.
1 / Tg = Σ (Wn / Tgn) (1)
In the formula (1), Tgn is the glass transition temperature Tg of the homopolymer of each monomer component, Wn is the weight fraction of each monomer component, and Tg is the glass of the copolymer. Transition temperature. The temperature in the formula (1) is an absolute temperature.

<重量平均分子量>
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した。測定には、Shodex GPC(昭和電工株式会社製)を用いた。検量線作成には、標準ポリスチレンを用いた。
<Weight average molecular weight>
The weight average molecular weight was measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. For the measurement, Shodex GPC (manufactured by Showa Denko KK) was used. Standard polystyrene was used for preparing a calibration curve.

(実施例1)
<異方性導電フィルムの作製>
フェノキシ樹脂(商品名:YP−50、新日鐵化学株式会社製、膜形成樹脂)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:EP−828、三菱化学株式会社製、硬化性樹脂)、シランカップリング剤(商品名:KBM−403、信越化学工業株式会社製)、カチオン系硬化剤(商品名:SI−60L、三新化学工業株式会社製)、及び製造例1で得たカルボキシル基含有アクリルゴムNo.1を表1に示す配合量で混合して組成物を得た。得られた組成物に、導電性粒子(商品名:AUL704、積水化学工業株式会社製)を分散させ異方性導電組成物を得た。分散は、得られる異方性導電フィルムにおける前記導電性粒子の粒子密度が50,000個/mmになるように行った。
得られた異方性導電組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に平均厚みが20μmになるように塗布して、異方性導電フィルムを得た。
Example 1
<Preparation of anisotropic conductive film>
Phenoxy resin (trade name: YP-50, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., film forming resin), bisphenol A type epoxy resin (trade name: EP-828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, curable resin), silane coupling Agent (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), cationic curing agent (trade name: SI-60L, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), and carboxyl group-containing acrylic rubber obtained in Production Example 1 No. 1 was mixed by the compounding quantity shown in Table 1, and the composition was obtained. Conductive particles (trade name: AUL704, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were dispersed in the obtained composition to obtain an anisotropic conductive composition. Dispersion was performed such that the particle density of the conductive particles in the obtained anisotropic conductive film was 50,000 particles / mm 2 .
The obtained anisotropic conductive composition was applied on a polyethylene terephthalate film so as to have an average thickness of 20 μm to obtain an anisotropic conductive film.

<接合体の製造、及び接合体の評価>
以下の方法により接合体を製造し、以下に示す評価を行った。結果を表1に示した。
ガラス基板として、ITO(Indium Tin Oxide)膜がパターンニングされた平均厚み0.5mmのITO配線板を用いた。
電子部品として、ICチップ(1.8mm×20mm、t(厚み)=0.5mm、Au−plated bump 30μm×85μm、h(高さ)=15μm)を用いた。
前記異方性導電フィルムを所定幅にスリットして前記ITO配線板に貼り付けた。その上に前記ICチップを仮固定した後、緩衝材として平均厚み50μmのテフロン(登録商標)が被覆されたヒートツールを用いて、接合条件160℃−60MPa−5secで接合を行い、接合体を完成させた。
<Manufacture of joined body and evaluation of joined body>
The joined body was manufactured by the following method and evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
An ITO wiring board having an average thickness of 0.5 mm on which an ITO (Indium Tin Oxide) film was patterned was used as the glass substrate.
An IC chip (1.8 mm × 20 mm, t (thickness) = 0.5 mm, Au-plated bump 30 μm × 85 μm, h (height) = 15 μm) was used as the electronic component.
The anisotropic conductive film was slit to a predetermined width and attached to the ITO wiring board. After temporarily fixing the IC chip thereon, a heat tool coated with Teflon (registered trademark) with an average thickness of 50 μm was used as a buffer material, and bonding was performed at a bonding condition of 160 ° C.-60 MPa-5 sec. Completed.

<<接続信頼性(導通抵抗)>>
得られた接合体の初期(Initial)の抵抗値、並びに85℃及び85%RHでの500時間のTHテスト(Thermal Humidity Test)後の抵抗値を以下の方法で測定した。結果を表1に示した。
デジタルマルチメータ(品番:デジタルマルチメータ7555、横河電機株式会社製)を用いて4端子法にて電流1mAを流したときの抵抗値を測定した。
<< Connection reliability (conducting resistance) >>
The initial resistance value of the obtained bonded body and the resistance value after a 500-hour TH test (Thermal Humidity Test) at 85 ° C. and 85% RH were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.
Using a digital multimeter (product number: digital multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Corporation), a resistance value was measured when a current of 1 mA was passed by the four-terminal method.

<<反り量>>
反り量の測定には、触針式表面粗度計(商品名:SE−3H、株式会社小阪研究所製)を用いた。図1に示すように、接合体において異方性導電フィルムの硬化物2により電子部品3が接続されていないガラス基板1の面を上側にし、かつガラス基板1の平面が水平になるように接合体を置いた。そして、図1に示すように、電子部品3が接続された面と反対側のガラス基板1の表面を、触針式表面粗度計の触針4で走査した。触針4は、前記表面を、電子部品3の長手方向に、電子部品3の一方の辺が位置する箇所から前記一方の辺に対向する他方の辺が位置する箇所までの20mmの距離を走査した。そして、触針4による走査の際の垂直方向の変位を測定し、それを反り量とした。サンプル10個について反り量を測定し、その平均値から反り量を求めた。結果を表1に示した。
なお、反りが凸状の場合、反り量を正の数で表し、反りが凹状の場合、反り量を負の数で表した。
<< Warpage amount >>
A stylus type surface roughness meter (trade name: SE-3H, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.) was used for measuring the amount of warpage. As shown in FIG. 1, the bonded body is bonded so that the surface of the glass substrate 1 to which the electronic component 3 is not connected by the cured product 2 of the anisotropic conductive film faces upward and the plane of the glass substrate 1 is horizontal. I put my body. And as shown in FIG. 1, the surface of the glass substrate 1 on the opposite side to the surface where the electronic component 3 was connected was scanned with the stylus 4 of the stylus type surface roughness meter. The stylus 4 scans the surface in the longitudinal direction of the electronic component 3 at a distance of 20 mm from a location where one side of the electronic component 3 is located to a location where the other side facing the one side is located. did. Then, the displacement in the vertical direction at the time of scanning with the stylus 4 was measured and used as the amount of warpage. The amount of warpage was measured for 10 samples, and the amount of warpage was determined from the average value. The results are shown in Table 1.
When the warp is convex, the amount of warp is expressed as a positive number, and when the warp is concave, the amount of warp is expressed as a negative number.

(実施例2〜24、及び比較例1〜3)
実施例1において、異方性導電組成物の配合を表1〜表4に示す配合に変更した以外は、実施例1と同様にして、異方性導電フィルムを作製した。
得られた異方性導電フィルムについて、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1〜表4に示した。
(Examples 2 to 24 and Comparative Examples 1 to 3)
In Example 1, an anisotropic conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the anisotropic conductive composition was changed to the composition shown in Tables 1 to 4.
About the obtained anisotropic conductive film, evaluation similar to Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 to 4.

表1〜表4中の配合量の相対比率は、異方性導電フィルムにおける各成分の含有量の相対比率と一致する。
実施例22に用いた膜形成樹脂は、エピコート1256(新日鐵化学株式会社製)である。
実施例23に用いた硬化性樹脂は、YD−128(三菱化学株式会社製)である。
実施例24に用いた硬化剤は、SI−100L(三新化学工業株式会社製)である。
The relative proportions of the blending amounts in Tables 1 to 4 coincide with the relative proportions of the contents of the respective components in the anisotropic conductive film.
The film forming resin used in Example 22 is Epicoat 1256 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.).
The curable resin used in Example 23 is YD-128 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
The curing agent used in Example 24 is SI-100L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.).

実施例1〜24では、基板の反り量が15.0μm以下であり、かつ85℃及び85%RHで500時間経過後の導通抵抗が10.0Ω以下であり、基板の反りの防止と、優れた接続信頼性とを両立していた。
特に、カルボキシル基含有アクリルゴムの酸価が5mgKOH/g〜30mgKOH/g、ガラス転移温度が−30℃〜5℃、及び重量平均分子量が700,000〜900,000、並びにカルボキシル基含有アクリルゴムの含有量が、膜形成樹脂と硬化性樹脂と硬化剤とカルボキシル基含有アクリルゴムとの合計に対して、3質量%〜5質量%の場合には、基板の反り量が13.0μm以下であり、かつ85℃及び85%RHで500時間経過後の導通抵抗が5.0Ω以下であり、基板の反りの防止と、接続信頼性とを高度に両立していた(例えば、実施例2〜6、10、12参照)。
一方、カルボキシル基含有アクリルゴムのガラス転移温度が20℃の場合(比較例1)、重量平均分子量が50,000の場合(比較例2)、又は異方性導電フィルムがカルボキシル基含有アクリルゴムを含有しない場合(比較例3)には、基板の反りが15.0μm超、並びに85℃及び85%RHで500時間経過後の導通抵抗が10.0Ω超の少なくともいずれかになり、基板の反りの防止と、優れた接続信頼性との両立ができなかった。
In Examples 1 to 24, the amount of warpage of the substrate is 15.0 μm or less, and the conduction resistance after 500 hours at 85 ° C. and 85% RH is 10.0Ω or less, which is excellent in preventing the warpage of the substrate. Connection reliability was compatible.
In particular, the acid value of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 5 mg KOH / g to 30 mg KOH / g, the glass transition temperature is −30 ° C. to 5 ° C., the weight average molecular weight is 700,000 to 900,000, and the carboxyl group-containing acrylic rubber When content is 3 mass%-5 mass% with respect to the sum total of film forming resin, curable resin, a hardening | curing agent, and carboxyl group-containing acrylic rubber, the curvature amount of a board | substrate is 13.0 micrometers or less. In addition, the conduction resistance after 500 hours at 85 ° C. and 85% RH was 5.0Ω or less, and both the prevention of the warpage of the substrate and the connection reliability were highly compatible (for example, Examples 2 to 6). 10, 12).
On the other hand, when the glass transition temperature of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 20 ° C. (Comparative Example 1), the weight average molecular weight is 50,000 (Comparative Example 2), or the anisotropic conductive film is a carboxyl group-containing acrylic rubber. When not included (Comparative Example 3), the warpage of the substrate is more than 15.0 μm, and the conduction resistance after 500 hours at 85 ° C. and 85% RH is at least one of more than 10.0Ω. It was not possible to achieve both prevention of connection and excellent connection reliability.

本発明の異方性導電フィルムは、基板の反りを防止でき、かつ優れた接続信頼性が得られることから、基板と電子部品との接続に好適に用いることができる。   The anisotropic conductive film of the present invention can be suitably used for connection between a substrate and an electronic component because warpage of the substrate can be prevented and excellent connection reliability can be obtained.

1 ガラス基板
2 異方性導電フィルムの硬化物
3 電子部品
4 触針
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Cured material of anisotropic conductive film 3 Electronic component 4 Stylus

Claims (5)

基板の端子と電子部品の端子とを異方性導電接続させる異方性導電フィルムであって、
膜形成樹脂と、硬化性樹脂と、硬化剤と、カルボキシル基含有アクリルゴムと、導電性粒子とを含有し、
前記カルボキシル基含有アクリルゴムのガラス転移温度が18℃以下であり、重量平均分子量が75,000以上であることを特徴とする異方性導電フィルム。
An anisotropic conductive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
Contains a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, a carboxyl group-containing acrylic rubber, and conductive particles,
An anisotropic conductive film, wherein the carboxyl group-containing acrylic rubber has a glass transition temperature of 18 ° C. or lower and a weight average molecular weight of 75,000 or higher.
カルボキシル基含有アクリルゴムの酸価が5mgKOH/g〜40mgKOH/gであり、ガラス転移温度が−30℃〜15℃であり、重量平均分子量が100,000〜900,000である請求項1に記載の異方性導電フィルム。   The acid value of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 5 mgKOH / g to 40 mgKOH / g, the glass transition temperature is -30 ° C to 15 ° C, and the weight average molecular weight is 100,000 to 900,000. An anisotropic conductive film. カルボキシル基含有アクリルゴムの含有量が、膜形成樹脂と硬化性樹脂と硬化剤と前記カルボキシル基含有アクリルゴムとの合計に対して、1質量%〜15質量%である請求項1から2のいずれかに記載の異方性導電フィルム。   The content of the carboxyl group-containing acrylic rubber is 1% by mass to 15% by mass with respect to the total of the film-forming resin, the curable resin, the curing agent, and the carboxyl group-containing acrylic rubber. An anisotropic conductive film according to any one of the above. 基板の端子と電子部品の端子とを異方性導電接続させる接続方法であって、
前記基板の端子上に請求項1から3のいずれかに記載の異方性導電フィルムを配置する第1の配置工程と、
前記異方性導電フィルム上に前記電子部品を、前記電子部品の端子が前記異方性導電フィルムと接するように配置する第2の配置工程と、
前記電子部品を加熱押圧部材により加熱及び押圧する加熱押圧工程とを含むことを特徴とする接続方法。
A method of connecting anisotropically conductively connecting a terminal of a substrate and a terminal of an electronic component,
A first disposing step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 3 on a terminal of the substrate;
A second disposing step of disposing the electronic component on the anisotropic conductive film such that a terminal of the electronic component is in contact with the anisotropic conductive film;
And a heating and pressing step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member.
端子を有する基板と、端子を有する電子部品と、前記基板と前記電子部品との間に介在して前記基板の端子と前記の電子部品の端子とを電気的に接続する異方性導電フィルムの硬化物とを有し、
前記異方性導電フィルムが、請求項1から3のいずれかに記載の異方性導電フィルムであることを特徴とする接合体。
A substrate having a terminal; an electronic component having a terminal; and an anisotropic conductive film that is interposed between the substrate and the electronic component and electrically connects the terminal of the substrate and the terminal of the electronic component. A cured product,
The joined body, wherein the anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film according to claim 1.
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