KR20160006358A - 약액 공급 장치 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 기판에 약액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 챔버 및 상기 챔버로 상기 약액을 공급하는 약액 공급 유닛을 포함하되, 상기 약액 공급 유닛은, 상기 약액이 저장되는 제 1 탱크 및 제 2 탱크, 상기 제 1 탱크를 가열하고 제 1 정격용량을 갖는 제 1 히터 유닛, 상기 제 2 탱크를 가열하고 상기 제 1 정격용량을 갖는 제 2 히터 유닛, 그리고 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전력을 분배하되, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전달되는 소비전력이 상기 제 1 정격용량을 초과한 경우 공급을 중단하도록 제어할 수 있다.

Description

약액 공급 장치 및 기판 처리 장치{CHEMICAL SUPPLYING APPARATUS AND METHOD FOR TREATIMG APPARATUS}
본 발명은 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 웨이퍼 또는 평판 표시 소자 제조에 사용되는 기판 등을 세정하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
최근에는 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널의 사용이 급격히 증대하고 있다. 이러한 평판 표시 패널의 제조를 위해 수반되는 식각 공정에는, 식각액으로써 약액이 사용된다. 식각 효율은 온도에 민감하여, 식각 온도를 효율적으로 제어하여야 한다. 이 때, 약액을 저장하는 탱크 각각을 개별적으로 전원 공급하여 제어할 경우, 각각의 탱크들에 의해 설비 정격용량이 늘어난다.
본 발명의 실시예는 설비의 정격 용량을 줄일 수 있는 약액 공급 유닛 및 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 기판에 약액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 챔버 및 상기 챔버로 상기 약액을 공급하는 약액 공급 유닛을 포함하되, 상기 약액 공급 유닛은, 상기 약액이 저장되는 제 1 탱크 및 제 2 탱크, 상기 제 1 탱크를 가열하고 제 1 정격용량을 갖는 제 1 히터 유닛, 상기 제 2 탱크를 가열하고 상기 제 1 정격용량을 갖는 제 2 히터 유닛, 그리고 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전력을 분배하되, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전달되는 소비전력이 상기 제 1 정격용량을 초과한 경우 공급을 중단하도록 제어할 수 있다.
상기 제 1 히터 유닛 및 상기 제 2 히터 유닛은 각각 복수개의 히터를 포함할 수 있다.
상기 약액 공급 유닛은, 상기 복수 개의 히터 각각에 연결된 복수 개의 전력 공급기를 더 포함하고, 상기 제어기는 상기 전력 공급기의 전원을 제어할 수 있다.
상기 제 1 탱크는 상기 약액을 상기 챔버로 공급하는 메인 탱크이고, 상기 제 2 탱크는 상기 제 1 탱크로 액을 공급하고 상기 제 1 탱크를 보조하는 보조 탱크일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 설비의 정격 용량을 줄일 수 있는 약액 공급 유닛 및 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 약액 공급 유닛을 보여주는 도면이다.
도 3 내지 도 5는 메인 제어기가 전력 분배를 제어하는 모습을 각각 보여주는 도면들이다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)의 개략적인 구성을 도시한 도면이다. 도 2는 도 1의 약액 공급 유닛(20)을 보여주는 도면이다.
기판 처리 장치(1)는 챔버(10) 및 약액 공급 유닛(20)을 가진다. 챔버(10)는 기판에 약액을 공급하여 기판을 처리한다. 일 예로, 챔버(10)는 식각 공정을 진행할 수 있다. 그러나, 이와 달리, 다양한 종류의 약액을 사용하는 공정을 진행할 수 있다. 일 예로, 챔버(10)에서는 세정, 증착, 건조 등의 공정이 진행될 수 있다. 약액 공급 유닛(20)은 제 1 탱크(100), 제 2 탱크(200), 제 1 히터 유닛(105), 제 2 히터 유닛(205), 그리고 제어기(300)를 포함한다.
제 1 탱크(100)는 약액을 저장한다. 일 예로, 제 1 탱크(100)는 챔버(10)로 약액을 공급하는 메인탱크로 제공될 수 있다. 제 2 탱크(200)는 약액을 저장한다. 제 1 탱크(100)가 메인 탱크로 제공될 때, 제 2 탱크(200)는 제 1 탱크(100)를 보조하는 보조 탱크로 제공될 수 있다. 보조 탱크는, 제 1 탱크(100)로 약액을 공급할 수 있다. 선택적으로, 보조 탱크는 메인 탱크에 이상이 생겼을 때, 챔버(10)로 약액을 공급할 수 있다.
제 1 히터 유닛(105)은 제 1 탱크(100)에 설치된다. 제 1 히터 유닛(105)은 제 1 탱크(100)를 가열한다. 제 1 히터 유닛(105)은 복수 개의 히터(110,120,130,140)를 포함할 수 있다. 도 2를 참조하면, 제 1 히터 유닛(105)은 4개의 히터를 가질 수 있다. 이하, 제 1 히터 유닛(105)은 4개의 히터를 포함하는 것을 예로 들어 설명한다. 히터는 봉 타입으로 제공될 수 있다. 선택적으로, 히터는 코일 형상으로 제공될 수 있다. 선택적으로, 히터는 이와 다른 다양한 형상으로 제공될 수 있다. 제 1 히터 유닛(105)은 제 1 정격용량을 갖는다.
제 2 히터 유닛(205)은 제 2 탱크(200)에 설치된다. 제 2 히터 유닛(205)은 제 2 탱크(200)를 가열한다. 제 2 히터 유닛(205)은 복수 개의 히터(210,220,230,240)를 포함할 수 있다. 도 2를 참조하면, 제 2 히터 유닛(205)은 4개의 히터를 가질 수 있다. 이하, 제 2 히터 유닛(205)은 4개의 히터를 포함하는 것을 예로 들어 설명한다. 히터는 봉 타입으로 제공될 수 있다. 선택적으로, 히터는 코일 형상으로 제공될 수 있다. 선택적으로, 히터는 이와 다른 다양한 형상으로 제공될 수 있다. 제 2 히터 유닛(205)은 제 1 정격용량을 갖는다.
제어기(300)는 제 1 탱크(100) 및 제 2 탱크(200)를 제어한다. 제어기(300)는 제 1 탱크(100)와 제 2 탱크(200)로 전력을 분배한다. 일 예로, 제어기(300)는 제 1 히터 제어기(310), 제 2 히터 제어기(320), 그리고 메인 제어기(330)를 포함할 수 있다.
제 1 히터 제어기(310)는 제 1 탱크(100)를 제어한다. 제 1 히터 제어기(310)는 복수 개의 히터(110,120,130,140) 각각으로 전력을 공급하고, 히터에서 열을 발생시킨다. 제 1 히터 제어기(310)는 히터의 약액 가열 온도에 따라 전력량을 제어할 수 있다. 제 1 히터 제어기(310)에는 온도 센서가 제공될 수 있다. 일 예로, 제 1 히터 제어기(310)는 SSR(Solid State Relay)일 수 있다.
제 2 히터 제어기(320)는 제 2 탱크(200)를 제어한다. 제 2 히터 제어기(320)는 복수 개의 히터(210,220,230,240) 각각으로 전력을 공급하고, 히터에서 열을 발생시킨다. 제 2 히터 제어기(320)는 히터의 약액 가열 온도에 따라 전력량을 제어할 수 있다. 제 2 히터 제어기(320)에는 온도 센서가 제공될 수 있다. 일 예로, 제 2 히터 제어기(320)는 SSR(Solid State Relay)일 수 있다.
도 3 내지 도 5는 메인 제어기(330)가 전력 분배를 제어하는 모습을 각각 보여주는 도면들이다. 메인 제어기(330)는 제 1 탱크(100) 및 제 2 탱크(200)에 전달되는 소비전력이 제 1 정격용량을 초과하는 경우, 그 공급을 중단할 수 있다. 일 예로, 각각의 히터가 12KW의 정격전력을 갖는 경우, 제 1 히터 유닛(105) 및 제 2 히터 유닛(205) 각각은 48KW의 정격전력을 갖는다. 메인 제어기(330)는 제 1 히터 유닛(105) 및 제 2 히터 유닛(205)의 총 소비전력이 48KW가 되도록 제어할 수 있다. 메인 제어기(330)는 제 1 히터 유닛(105) 또는 제 2 히터 유닛(205)만이 활성화되도록 제 1 히터 제어기(310) 및 제 2 히터 제어기(320)를 제어할 수 있다. 일 예로, 도 3과 같이, 메인 제어기(330)는 제 1 히터 유닛(105)의 히터들이 모두 작동되도록 제어할 수 있다. 선택적으로, 메인 제어기(330)는 제 2 히터 유닛(205)의 히터들이 모두 작동되도록 제어할 수 있다. 또한, 도 4 및 도 5와 같이, 메인 제어기(330)는 제 1 히터 유닛(105) 및 제 2 히터 유닛(205)의 정격 소비 전력이 48KW가 유지되도록 제어할 수 있다. 이 때, 메인 제어기(330)는 제 1 히터 유닛(105) 및 제 2 히터 유닛(205)에 48KW 이상의 소비 전력이 소요되는 경우, 그 공급을 중단할 수 있다. 따라서, 제 1 탱크(100) 및 제 2 탱크(200)가 동시에 동작될 필요가 없는 경우, 메인 제어기(330)로 전력을 분배하여 피크 전력을 절감시키고 설비 정격 용량을 감소시킬 수 있다. 또한, 제 1 탱크(100) 및 제 2 탱크(200)가 동시 동작이 불가능함으로써, 오작동에 의한 안전 사고를 방지할 수 있다.
본 실시예에서는, 약액 공급 유닛(20)이 2개의 탱크를 포함하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이와 달리, 3개의 탱크를 포함하는 것도 가능하다. 또한, 4개의 탱크로 제공될 경우, 제어기는 2개가 제공될 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 히터 유닛이 4개의 히터를 포함하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이와 달리, 다양한 개수의 히터를 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예는 온도 센서를 구비하여, 이들 중 하나가 감지한 온도를 기초로 히터를 제어한다. 히터의 제어에 사용되는 온도 센서는 사용자 입력을 통해 결정될 수도 있고, 보관부에 보관된 약액의 수위에 따라 결정될 수도 있다. 선택적으로, 온도 센서는 복수 개로 제공될 수 있다.
이상에서 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 위 실시예는 단지 본 발명의 사상을 설명하기 위한 것으로 이에 한정되지 않는다. 통상의 기술자는 전술한 실시예에 다양한 변형이 가해질 수 있음을 이해할 것이다. 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구범위의 해석을 통해서만 정해진다.
10: 챔버
20: 약액 공급 유닛
100: 제 1 탱크
200: 제 2 탱크
110,120,130,140,210,220,230,240: 히터
300: 제어기
310: 제 1 히터 제어기
320: 제 2 히터 제어기
330: 메인 제어기

Claims (8)

  1. 기판 처리 장치에 있어서,
    기판에 약액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 챔버; 및
    상기 챔버로 상기 약액을 공급하는 약액 공급 유닛을 포함하되,
    상기 약액 공급 유닛은,
    상기 약액이 저장되는 제 1 탱크 및 제 2 탱크;
    상기 제 1 탱크를 가열하고 제 1 정격용량을 갖는 제 1 히터 유닛;
    상기 제 2 탱크를 가열하고 상기 제 1 정격용량을 갖는 제 2 히터 유닛; 그리고
    상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크를 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 제어기는, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전력을 분배하되, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전달되는 소비전력이 상기 제 1 정격용량을 초과한 경우 공급을 중단하도록 제어하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 히터 유닛 및 상기 제 2 히터 유닛은 각각 복수개의 히터를 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 복수 개의 히터 각각에 연결되어 상기 복수 개의 히터로 공급되는 전력을 제어하는 기판 처리 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 탱크는 상기 약액을 상기 챔버로 공급하는 메인 탱크이고, 상기 제 2 탱크는 상기 제 1 탱크로 상기 약액을 공급하고 상기 제 1 탱크를 보조하는 보조 탱크인 기판 처리 장치.
  5. 약액을 공급하는 약액 공급 유닛에 있어서,
    약액이 저장되는 제 1 탱크 및 제 2 탱크;
    상기 제 1 탱크를 가열하고 제 1 정격용량을 갖는 제 1 히터 유닛;
    상기 제 2 탱크를 가열하고 상기 제 1 정격용량을 갖는 제 2 히터 유닛; 그리고
    상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크를 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 제어기는, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전력을 분배하되, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크에 전달되는 소비전력이 상기 제 1 정격용량을 초과한 경우 공급을 중단하도록 제어하는 약액 공급 유닛.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 히터 유닛 및 상기 제 2 히터 유닛은 각각 복수개의 히터를 포함하는 약액 공급 유닛.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 복수 개의 히터 각각에 연결되어 상기 복수 개의 히터로 공급되는 전력을 제어하는 약액 공급 유닛.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 탱크는 상기 약액을 상기 챔버로 공급하는 메인 탱크이고, 상기 제 2 탱크는 상기 제 1 탱크로 액을 공급하고 상기 제 1 탱크를 보조하는 보조 탱크인 약액 공급 유닛.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002268195A (ja) * 2001-03-08 2002-09-18 Nidec Copal Corp 電源装置
JP2005310940A (ja) * 2004-04-20 2005-11-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液タンクの過熱防止装置
KR20100046681A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 반도체 제조 장치용 히터 시스템
KR20100046682A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 반도체 제조 장치용 히터 시스템

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002268195A (ja) * 2001-03-08 2002-09-18 Nidec Copal Corp 電源装置
JP2005310940A (ja) * 2004-04-20 2005-11-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液タンクの過熱防止装置
KR20100046681A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 반도체 제조 장치용 히터 시스템
KR20100046682A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 반도체 제조 장치용 히터 시스템

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