KR20160001716A - 접착제 조성물 및 이를 포함하는 편광판 - Google Patents

Abstract

본 발명은 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 비스페놀 F형 에폭시 화합물 20 중량부 내지 60 중량부; 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머 10 중량부 내지 30 중량부; 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물 15 중량부 내지 45 중량부; 및 광 양이온 중합 개시제 0.5 중량부 내지 20 중량부를 포함하는 접착제 조성물에 관한 것이다.

Description

접착제 조성물 및 이를 포함하는 편광판{Adhesive Composition and Polarizing Plate Comprising the same}

본 명세서는 2014년 6월 27일에 한국 특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2014-0080095호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용은 전부 본 명세서에 포함된다.

본 발명은 접착제 조성물 및 이를 이용하여 형성된 접착제층을 포함하는 편광판에 관한 것이다.

편광판은 자연광을 특정한 진동 방향을 갖는 편광으로 전환시키는 장치로, 최근 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 유기발광장치(Organic Light Emitting Device)와 같은 다양한 표시 장치에 채용되고 있다.

이러한 편광판은 통상 이색성 염료 또는 요오드로 염색된 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol, 이하 'PVA'라 함)계 수지로 이루어진 편광자의 일면 또는 양면에 접착제를 이용하여 보호필름을 적층한 구조로 사용되며, 종래에는 편광판 보호 필름으로 트리아세틸셀룰로오스(TAC, triacetyl cellulose)계 필름이 주로 사용되어 왔다. 그러나, TAC 필름의 경우 고온, 고습 환경에서 쉽게 변형된다는 문제점이 있었다. 따라서, 최근에는 TAC 필름을 대체할 수 있는 다양한 재질의 보호 필름들이 개발되고 있으며, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate), 싸이클로올레핀 폴리머(COP, cycloolefin polymer), 아크릴계 필름 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 방안이 제안되었다.

한편, 상기 편광자와 보호필름을 부착시키는데 사용되는 접착제로는 주로 폴리비닐알코올계 수지의 수용액으로 이루어지는 수계 접착제가 사용되고 있다.

그러나, 상기 수계 접착제의 경우, 보호필름으로 TAC이 아닌 아크릴계 필름이나 COP 필름 등을 사용할 경우에는 접착력이 약하기 때문에 필름 소재에 따라 그 사용이 제한된다는 문제점이 있다. 또한, 상기 수계 접착제의 경우, 소재에 따른 접착력 불량 문제 외에도, PVA 소자의 양면에 적용되는 보호 필름의 소재가 다를 경우, 수계 접착제의 건조 공정에 의한 편광판의 컬(curl) 발생의 문제 및 초기 광학 물성 저하 등의 문제가 발생한다. 따라서, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 대안으로 광 경화형 비수계 접착제가 제안되었다.

그러나, 광 경화형 비수계 접착제의 경우, 일반적으로 높은 점도를 갖기 때문에, 최종 접착층의 두께가 수계 접착제와 비교했을 때 두꺼운 경향이 있으며, 이로 인해 광 경화형 비수계 접착제를 이용하여 편광판을 제조할 경우 폭 방향 및 길이 방향으로 주름이 발생하는 등 불량이 발생하기 쉽다는 문제점이 있다.

또한, 상기와 같은 광 경화형 비수계 접착제로 방향족 고리를 포함하지 않는 에폭시 수지를 주성분으로 포함하는 선행기술로 특허문헌 1이 공개된 바 있다. 그러나, 특허문헌 1의 접착제 조성물과 같이 방향족 고리를 포함하지 않는 에폭시 수지를 주성분으로 포함하는 경우, 내열성이 낮아 이러한 접착제 조성물을 편광판에 적용하여 장시간 사용할 경우 편광 특성이 현저히 나빠지는 문제점이 있다. 또한, 특허문헌 1의 접착제 조성물은 기계적 특성이 좋지 않아 편광판에 적용시 성형에 어려움이 있다. 나아가, 상기와 같이 방향족 고리를 포함하지 않는 에폭시 수지는 매우 고가이므로 제조 원가가 상승하므로 생산성이 저하되는 문제점이 있다.

일본 공개특허 제2004-245925호

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 내열성 및 기계적 특성이 우수하여 편광판의 제작 용이성을 향상시킬 수 있고, 점도가 낮아 작업성이 우수하고, 얇은 접착제층 형성이 가능한 접착제 조성물을 제공하고자 한다.

본 명세서의 일 실시상태는 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 비스페놀 F형 에폭시 화합물 20 중량부 내지 60 중량부; 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머 10 중량부 내지 30 중량부; 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물 15 중량부 내지 45 중량부; 및 광 양이온 중합 개시제 0.5 중량부 내지 20 중량부를 포함하는 접착제 조성물을 제공한다.

이때, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물은 에폭시 당량이 120g/eq 이상이고, 25℃에서 점도가 3000cPs 내지 10000cPs일 수 있다.

나아가, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물은 (3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3- 에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4- {(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1- 트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3- 에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드 및 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.

한편, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 상기 접착제 조성물의 점도는 10cP 내지 100cP일 수 있다.

본 명세서의 또 하나의 실시상태는 편광자; 상기 편광자의 적어도 일면에 형성되는 접착제층; 및 상기 접착제층 상에 형성되는 투명기재 필름을 포함하는 편광판으로, 상기 접착제층은 본 발명에 따른 상기 접착제 조성물에 의해 형성된 것이고, 상기 접착제층의 두께는 0㎛ 초과 10㎛인 편광판을 제공한다.

이때, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 접착제층과 투명기재 필름 사이의 박리력은 90°의 박리 각도에서 2N 내지 5N이고, 상기 접착제층의 유리전이 온도는 70℃ 이상인 것이 바람직하다.

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 본 발명에 따른 편광판의 두께는 50㎛ 내지 200㎛인 것이 바람직하다.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 접착제 조성물은 내열성이 우수하여 이를 적용한 편광판은 장시간 사용하여도 편광 특성이 우수하다. 또한, 상기 접착제 조성물은 기계적 특성이 우수하여 편광판에 적용이 용이하므로 편광판의 생산성을 향상시킬 수 있다.

한편, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 접착제 조성물은 낮은 점도를 가지므로 작업성이 우수하고, 얇은 접착제층 형성이 가능하므로 결과적으로 편광판의 두께를 얇게 제조할 수 있다. 나아가 생산 단가를 절감할 수 있으므로 높은 경제성도 갖는다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.

본 발명의 발명자들은, 점도가 낮으면서도 내열성 및 기계적 특성이 우수한 접착제 조성물을 개발하기 위해 연구를 거듭한 결과, 비스페놀 F형 에폭시 화합물을 주 성분으로 사용하고, 다관능 라디컬 모노머, 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물 및 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 경우, 상기와 같은 목적을 달성할 수 있음을 알아내고 본 발명의 접착제 조성물을 개발하였다.

보다 구체적으로는, 본 발명의 접착제 조성물은, 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 비스페놀 F형 에폭시 화합물 20 중량부 내지 60 중량부; 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머 10 중량부 내지 30 중량부; 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물 15 중량부 내지 45 중량부; 및 광 양이온 중합 개시제 0.5 중량부 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물은 본 발명에 따른 접착제 조성물의 점도를 조절할 수 있고, 내열성을 향상시키기 위한 것으로, 예를 들면, 양 말단에 에폭시기를 가지며, 에폭시 당량 (EEW, Epoxy Equivalent Weight)이 120g/eq 이상인 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 보다 구체적으로 예를 들면, 상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 에폭시 당량은 120g/eq 내지 500g/eq일 수 있고, 120g/eq 내지 300g/eq인 것이 보다 바람직하며, 170g/eq 내지 180g/eq 범위인 것이 가장 바람직하다. 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 에폭시 당량이 상기 수치범위를 만족하는 경우, 동일 분자량에서 상대적으로 에폭시 치환이 많이 되어 있기 때문에, 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 가교 반응 참여 가능성이 상대적으로 높기 때문에, 접착제층 형성 과정에서 반응 속도를 향상시킬 수 있어 매우 유리하기 때문이다.

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 점도는 3,000cPs 내지 10,000cPs 또는 5,000cPs 내지 7,000cPs 정도인 것이 바람직하다.

본 명세서에서 상기 에폭시 당량은 JIS K-7236에 따라 측정된 값으로, 1g 당량의 에폭시 수지를 포함한 수지의 g수를 의미하며, 상기 점도는 25℃에서의 점도이다.

본 발명의 접착제 조성물은, 상기한 바와 같이 비스페놀 F형 에폭시 화합물을 포함하기 때문에, 종래의 방향족 고리를 포함하지 않는 에폭시 화합물을 주성분으로 포함하는 접착제 조성물에 비해 생산 단가가 낮아, 제조 비용을 낮출 수 있으므로 매우 유리하다.

한편, 상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 함량은 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 20 중량부 내지 60 중량부, 25 중량부 내지 60 중량부 또는 30 중량부 내지 58 중량부일 수 있다. 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 함량이 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여 20 중량부 이상인 경우, 본 발명에 따른 접착제 조성물의 접착력을 보다 향상시킬 수 있으며, 상기 접착제 조성물을 이용하여 형성되는 접착제층의 내구성도 우수하다. 또한, 비스페놀 F형 에폭시 화합물의 함량이 60 중량부 이하인 경우에는 저 점도를 갖는 접착제 조성물을 얻을 수 있으므로 이를 광학 필름에 적용하는 경우 코팅성이 우수하여 작업성을 획기적으로 향상시킬 수 있다.

다음으로, 상기 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디칼 모노머는 접착력 향상을 위한 것으로, 분자당 2개 이하의 반응성 관능기를 포함하는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다.

보다 구체적으로 예를 들면, 상기 라디칼 모노머는 1,9-노난디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 (400) 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 (1000) 디아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트 및 1,6-헥산디올 에톡시레이트 디아크릴레이트 등으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

이때, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디칼 모노머의 함량은 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 10 중량부 내지 30 중량부, 15 중량부 내지 27 중량부 또는 17 중량부 내지 25 중량부일 수 있다. 비스페놀 F형 에폭시 수지를 단독으로 사용하는 경우, 반응성이 느리기 때문에 접착제층을 형성한 후 경화시키는 과정에서 완전 경화가 이루어지지 않는 문제점이 있다. 그러나, 상기 수치 범위의 함량을 갖는 라디칼 모노머를 비스페놀 F형 에폭시 수지와 함께 사용하는 경우 반응 속도를 향상시킬 수 있기 때문에 완전 경화가 이루어지고, 결과적으로 편광판 제작시 접착제 조성물을 경화시키는 단계에서 낮은 광량으로도 경화가 가능한 장점이 있다.

구체적으로, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디칼 모노머의 함량은 전체 접착제 조성물 100중량부에 대하여, 10 중량부 초과 30 중량부 이하일 수 있다.

본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디칼 모노머의 함량이 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하인 경우에는 경화속도가 저하되어 충분한 에이징(Aging)후 완전경화가 되는 문제가 있으며, 30 중량부를 초과하는 경우에는 기재에 대한 접착력 저하되는 문제가 있다.

한편, 본 발명의 접착제 조성물에서, 상기 옥세탄계 화합물은 접착제 조성물의 점도를 낮추기 위한 것으로, 분자 내에 적어도 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 다양한 옥세탄 화합물을 사용할 수 있다.

보다 구체적으로, 상기 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물은, 예를 들면, (3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4- 비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3- 에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'- 비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3- 에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시메틸〕-트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1-트리스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕 부탄, 1,2-비스〔{2- (3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3- 에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드, 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

이때, 상기 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물의 함량은 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 15 중량부 내지 45 중량부, 20 중량부 내지 40 중량부 또는 25 중량부 내지 38 중량부일 수 있다. 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물의 함량이 상기 수치범위를 만족하는 경우, 이를 포함하는 본 발명에 따른 접착제 조성물은 10cP 내지 100cP 범위의 점도를 가지며, 이와 같이 저 점도 접착제 조성물은 코팅성이 우수하기 때문에 작업성을 보다 향상시킬 수 있다.

다음으로, 상기 광 양이온성 중합 개시제는 가시광선, 자외선, X선, 전자선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온(cation) 종 또는 루이스 산을 만들어내는 화합물로서, 전술한 비스페놀 F형 에폭시계 화합물의 중합 반응을 개시한다. 상기와 같은 중합 개시제는 예를 들면 방향족 디아조늄염, 방향족 요오드 알루미늄염이나 방향족 설포늄염과 같은 오늄염, 철-아렌 착제 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

한편, 상기 광 양이온성 중합 개시제의 함량은 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 0.5 중량부 내지 20 중량부, 0.5 내지 15 중량부 또는 0.5 내지 10 중량부일 수 있다. 양이온성 광 중합 개시제의 함량이 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 20 중량부를 초과하는 경우, 낮은 분자량을 갖는 폴리머들이 생성되기 때문에, 높은 분자량을 갖는 폴리머가 생성되는 경우와 비교할 때 상대적으로 내구성 및 내마모성 등에서 불리하기 때문이다.

한편, 이로써 한정되는 것은 아니나, 본 발명의 접착제 조성물은, 필요에 따라 광 증감제, 산화 방지제, 올리고머 및 부착 증진제를 추가로 포함할 수 있으며, 우레탄 아크릴레이트를 0 초과 4 이하의 중량부로 추가로 포함하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 우레탄 아크릴레이트가 추가되는 경우 점도가 상승하는 경향이 있으나 온도를 가하여 접착제의 상승된 점도를 낮출 수 있다. 한편, 상기와 같이 우레탄 아크릴레이트가 추가되는 경우, 아크릴계 필름에 대한 사용에 있어서 보다 적절한 접착력을 부여할 수 있다.

한편, 상기와 같은 구성을 포함하는 본 발명에 따른 접착제 조성물의 점도는 10cP 내지 100cP, 15cP 내지 80cP 또는 20cP 내지 60cP 일 수 있다. 접착제 조성물의 점도가 상기 수치범위를 만족하는 경우 코팅성이 우수하기 때문에 작업성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.

다음으로, 상기와 같은 접착제 조성물을 이용하여 형성된 접착제층을 포함하는 편광판에 대하여 설명하기로 한다.

본 발명에 따른 편광판은, 편광자; 상기 편광자의 적어도 일면에 형성되는 접착제층; 및 상기 접착제층 상에 형성되는 투명기재 필름을 포함하고, 상기 접착제층은 전술한 본 발명에 따른 접착제 조성물에 의해 형성되며, 상기 접착제층의 두께는 0㎛ 초과 10㎛인 것을 특징으로 한다.

이때, 상기 편광자로는 일반적으로 요오드계 화합물 또는 이색성 염료를 함유하는 분자 사슬이 일정한 방향으로 배향된 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광자가 폴리비닐알코올계 필름인 경우, 폴리비닐알코올계 필름은 폴리비닐알코올 수지 또는 그 유도체를 포함하는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 이때, 상기 폴리비닐알코올 수지의 유도체로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리비닐포르말 수지, 폴리비닐아세탈 수지 등을 들 수 있다.

보다 구체적으로, 상기 편광자는 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 염착시킨 후, 일정한 방향으로 연신하고 가교시키는 방법에 의해 제조될 수 있으나, 이의 제조방법은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 상기 폴리비닐알코올의 중합도는, 특별히 한정되지는 않으나, 1,000 내지 10,000정도인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1,500 내지 5,000 정도인 것이 좋다. 중합도가 상기 범 위를 만족할 때, 분자 움직임이 자유롭고, 요오드 또는 이색성 염료 등과 유연하게 혼합될 수 있기 때문이다.

한편, 본 명세서에 있어서, 편광자는 보호 필름(또는 보호층)을 포함하지 않는 상태를 의미하며, 편광판은 편광자와 보호 필름(또는 보호층)을 포함하는 상태를 의미한다.

다음으로, 상기 편광자의 적어도 일면에 전술한 접착제 조성물을 이용하여 형성된 접착제층을 형성한다. 이때, 상기 접착제층의 두께는 0㎛ 초과 10㎛, 0.1㎛ 초과 7㎛이하 또는 0.1㎛ 내지 5㎛일 수 있다. 접착제층의 두께가 상기 수치범위를 만족하는 경우, 충분한 접착력을 가지면서도 얇은 접착제층을 형성할 수 있으므로 편광판의 박형화에 유리하다.

또한, 상기 접착제층의 유리전이온도(Tg, glass transition temperature)는 70℃ 이상인 것이 바람직하다. 보다 구체적으로, 상기 접착제층의 유리전이온도는 75℃ 내지 500℃, 80℃ 내지 300℃ 또는 90℃ 내지 150℃일 수 있다. 본 명세서에서 유리전이온도는 DMA 측정방법을 이용하여, -30℃ 에서 150℃까지 1℃/mint씩 승온 시키는 방법으로 측정된 값이다.

본 발명자들의 연구에 따르면, 접착제층의 유리전이온도가 70℃ 이상인 경우, 70℃ 미만인 경우에 비해, -40℃에서 70℃로 왕복하면서 100 시간 동안 평가하였을 때의 열충격 특성 평가와 같은 내구성 평가에서 편광판의 외관 특성, 접착력, 크랙 발생 유무 및 광학 특성 등을 확인한 결과 매우 우수한 효과를 나타내었다.

한편, 상기와 같은 접착제층을 형성하는 방법은 당해 기술분야에 잘 알려진 방법을 통해 수행될 수 있으며, 필요한 양의 접착제 조성물을 균일하게 도포할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 보다 구체적으로는, 상기 접착제층은 롤 코터, 그라비어 코터, 바 코터, 나이프 코터 또는 캐필러리 코터 등을 사용하여 편광자의 적어도 일면에 전술한 접착제 조성물을 도포한 후 후술할 투명기재 필름을 적층하여, 이들을 합지 롤로 가열 합지하거나, 상온 압착하여 합지하는 방법 또는 합지 후 활성 에너지선을 조사하여 접착제 조성물을 경화시키는 방법으로 형성시킬 수 있다. 이때, 상기 접착제 조성물은 투명기재 필름의 적어도 일면에 도포한 후 편광자와 합지하여도 무방하다.

여기서, 사용할 수 있는 상기 활성 에너지선으로는 예를 들면, 자외선, 전자빔, 마이크로파(microwaves), 적외선(IR), X선 및 감마선은 물론, 알파-입자선(alpha-particle beam), 프로톤빔(proton beam), 뉴트론빔(neutron beam)과 같은 입자빔이 포함될 수 있고, 통상적으로는 자외선 또는 전자선 등이 사용될 수 있다.

한편, 상기 투명기재 필름은 편광자 보호 필름 또는 편광자의 광 특성을 보상하기 위한 보상 필름으로, 당해 기술 분야에 알려진 고분자 필름을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 당해 기술 분야에 일반적으로 알려져 있는 다양한 재질의 보호 필름들, 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC, Triacetylcellulose) 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET, polyethylene terephthalate) 필름, 싸이클로올레핀 폴리머 (COP, cycloolefin polymer) 필름, 아크릴계 필름 등이 제한 없이 사용될 수 있다.

이때, 상기 트리아세틸셀룰로오스 필름은 순수한 트리아세틸셀룰로오스 이외에, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트와 같이 셀룰로오스와 에스테르를 형성하는 지방산으로서 아세트산 이외의 성분을 병용한 수지이어도 된다. 또한, 상기 투명기재 필름에는, 필요에 따라, 디아세틸셀룰로오스 등의 트리아세틸셀룰로오스 이외의 셀룰로오스 저급 지방산 에스테르계 수지를 포함하고 있어도 된다.

한편, 본 발명에서 사용 가능한 아크릴계 필름은 아크릴계 수지를 주성분으로 포함하는 성형 재료를 압출 성형에 의해 성형하여 획득할 수 있다. 이때, 상기 아크릴계 수지는 아크릴레이트계 단위 및/또는 메타크릴레이트계 단위를 포함하는 수지를 주 성분으로 하는 필름을 의미하는 것으로, 아크릴레이트계 단위 또는 메타크릴레이트계 단위로 이루어진 호모폴리머 수지뿐 아니라 아크릴레이트계 단위 및/또는 메타크릴레이트계 단위 이외에 다른 단량체 단위가 공중합된 공중합체 수지를 주 성분으로 하는 필름 및 상기와 같은 아크릴 수지에 다른 수지가 블랜드된 블랜드 수지에 의해 형성된 필름도 포함하는 개념이다.

이때, 상기 아크릴계 필름은 예를 들면, 알킬(메트)아크릴레이트계 단위 및 스티렌계 단위를 포함하는 공중합체; 및 주쇄에 카보네이트 부를 갖는 방향족계 수지를 포함하는 필름, 알킬(메트)아크릴레이트계 단위 및 적어도 하나의 카르보닐기로 치환된 3 내지 6원소 헤테로 고리 단위를 포함하는 필름, 또는 알킬(메트)아크릴레이트계 단위, 스티렌계 단위, 적어도 하나의 카르보닐기로 치환된 3 내지 6원소 헤테로 고리 단위 및 비닐 시아나이드 단위를 포함하는 필름일 수 있다. 또한, 락톤 구조를 갖는 아크릴계 필름일 수 있다.

상기 아크릴계 수지에 공중합될 수 있는 단량체 단위로는 방향족 비닐계 단위, 카르보닐기로 치환된 3 내지 6원 헤테로 고리 단위, 아크릴산 단위, 글리시딜 단위 등이 포함될 수 있다. 이때, 상기 방향족 비닐계 단위는 예를 들면, 스티렌, α-메틸 스티렌 등으로부터 유도된 단위를 말하며, 상기 카르보닐기로 치환된 3 내지 6원 헤테로 고리 단위는, 예를 들면, 락톤 환, 글루타르산 무수물, 글루타르이미드, 말레이미드, 말레산 무수물 등으로부터 유도된 단위를 말한다.

예를 들면, 상기 아크릴계 필름은 알킬(메트)아크릴레이트계 단위 및 적어도 하나의 카르보닐기로 치환된 3 내지 10원 헤테로 고리 단위를 포함하는 공중합체를 포함하는 필름일 수 있다. 이때, 상기 카르보닐기로 치환된 3 내지 10원 헤테로 고리 단위는 락톤 환, 글루타르산 무수물, 글루타르이미드, 말레산 무수물, 말레이미드 등일 수 있다.

상기 아크릴 필름의 또 다른 예로는 아크릴 수지에 주쇄에 카보네이트부를 갖는 방향족 수지를 블랜딩한 블랜딩 수지를 포함하는 필름을 들 수 있다. 이때, 상기 주쇄에 카보네이트부를 갖는 방향족 수지는, 예를 들면, 폴리카보네이트 수지, 페녹시 수지 등일 수 있다.

상기 아크릴계 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 아크릴계 수지와 그 밖의 중합체, 첨가제 등을 임의의 적절한 혼합 방법에 의해 충분히 혼합하여 열가소성 수지 조성물을 제조한 후 이를 필름 성형하여 제조하거나, 또는 아크릴계 수지와, 그 밖의 중합체, 첨가제 등을 별도의 용액으로 제조한 후 혼합하여 균일한 혼합액을 형성한 후 이를 필름 성형할 수도 있다. 상기 필름 성형의 방법으로서는, 예를 들어 용액 캐스트법(용액 유연법), 용융 압출법, 캘린더법, 압축 성형법 등 임의의 적절한 필름 성형법을 들 수 있다.

한편, 상기 투명기재 필름에는 필요한 경우 접착력 향상을 위한 표면처리가 수행될 수 있으며, 예를 들어 상기 투명기재 필름의 적어도 일면에 알칼리 처리, 코로나 처리 및 플라즈마 처리로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 표면 처리를 수행할 수 있다.

한편, 상기와 같이 형성된 상기 접착제층 및 투명기재 필름 사이의 박리력은 90°의 박리 각도에서 2N 이상일 수 있다. 보다 구체적으로 상기 박리력은 2N 내지 5N 또는 2N 내지 4N일 수 있다. 본 명세서에서 접착제층 및 투명기재 필름 사이의 박리력은 폭 20mm, 길이 100mm의 접착제층이 형성된 편광판을 이용하여, 300m/min 속도로 90°박리하는 방법으로 측정한 값을 의미한다. 이때, 박리되는 면은 접착제층과 투명기재 필름 사이의 계면 또는 편광자와 접착제층 사이의 계면일 수 있다.

나아가, 본 발명에 따른 편광판의 두께는 50㎛ 내지 200㎛, 60㎛ 내지 150㎛ 또는 70㎛ 내지 120㎛일 수 있다. 편광판의 두께가 상기 수치범위를 만족하는 경우 편광판의 박형화 최근의 추세에 부합하기 때문에 다양한 표시장치에 적용될 수 있다.

상기한 바와 같이 본 발명에 따른 접착제 조성물은 우수한 내열성을 가지므로 고온 분위기하에서 장시간 사용하여도 우수한 편광도를 가지므로 내구성이 매우 우수하다. 또한, 기계적 특성이 우수하여 편광판 적용이 용이하고, 낮은 점도를 가지므로 편광자 또는 투명기재 필름에 쉽게 접착제층을 형성할 수 있고, 얇은 접착제층을 구현할 수 있으므로 편광판의 박형화에 일조할 수 있다.

한편, 상기와 같은 접착제 조성물을 이용하여 형성된 접착제층을 포함하는 본 발명의 편광판은, 액정표시장치 등과 같은 화상표시장치에 유용하게 적용될 수 있다. 상기 화상표시장치는 예를 들면, 액정 패널 및 이 액정 패널의 양면에 각각 구비된 편광판들을 포함하는 액정 표시장치일 수 있으며, 이때, 상기 편광판 중 적어도 하나가 본 발명에 따른 편광판일 수 있다. 이때, 상기 액정표시장치에 포함되는 액정 패널의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 그 종류에 제한되지 않고, TN(twisted nematic)형, STN(super twisted nematic)형, F(ferroelectic)형 또는 PD(polymer dispersed)형과 같은 수동 행렬 방식의 패널; 2단자형(two terminal) 또는 3단자형(three terminal)과 같은 능동행렬 방식의 패널; 횡전계형 (IPS; In Plane Switching) 패널 및 수직배향형(VA; Vertical Alignment) 패널 등의 공지의 패널이 모두 적용될 수 있다. 또한, 액정표시장치를 구성하는 기타 구성, 예를 들면, 상부 및 하부 기판(ex. 컬러 필터 기판 또는 어레이 기판) 등의 종류 역시 특별히 제한되지 않고, 이 분야에 공지되어 있는 구성이 제한 없이 채용될 수 있다.

제조예 1

비스페놀 F형 에폭시 40 중량% (DOW社 D.E.R), 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸] 옥세탄 30 중량% (도아 고세이사 OXT-221), 1,9-노난디올 디아크릴레이트 30 중량% (NK ESTER사 A-NOD-N)을 넣어 제조한 수지 조성물 100 중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P (Sanapro사) 5 중량%를 첨가하여 접착제 조성물 A를 제조하였다.

제조예 2

비스페놀 F형 에폭시 60 중량% (DOW社 D.E.R), 3-에틸-3-[(3- 에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸] 옥세탄 20 중량% (도아 고세이사 OXT-221), 1,9-노난디올 디아크릴레이트 20 중량% (NK ESTER사 A-NOD-N)을 넣어 제조한 수지 조성물 100 중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P (Sanapro사) 5 중량%를 첨가하여 접착제 조성물 B를 제조하였다.

제조예 3

비스페놀 F형 에폭시 대신 비스페놀 A형 에폭시 40 중량% (DOW社 D.E.R)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 접착제 조성물 C를 제조하였다.

제조예 4

비스페놀 F형 에폭시 대신 3,4-에폭시 시클로헥실메틸-3,4-에폭시 시클로헥산카르복실레이트 40 중량% (다이셀사의 Celloxide 2021P)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 접착제 조성물 D를 제조하였다.

제조예 5

비스페놀 A형 에폭시 36 중량% (DOW社 D.E.R), 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸] 옥세탄 30 중량% (도아 고세이사 OXT-221), 1,9-노난디올 디아크릴레이트 30 중량% (NK ESTER사 A-NOD-N), 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시 시클로 헥산카르복실레이트 4 중량% (다이셀사의 Celloxide 2021P)를 넣어 제조한 수지 조성물 100 중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P (Sanapro사) 5 중량%를 첨가하여 접착제 조성물 E를 제조하였다.

제조예 6

비스페놀 F형 에폭시 40 중량% (DOW社 D.E.R), 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸] 옥세탄 30 중량% (도아 고세이사 OXT-221), 1,9-노난디올 디아크릴레이트 30 중량% (NK ESTER사 A-NOD-N)을 넣어 제조한 수지 조성물 100 중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P (Sanapro사) 5 중량%를 첨가하여 접착제 조성물 F를 제조하였다.

제조예 7

비스페놀 F형 에폭시 40 중량% (DOW社 D.E.R), 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸] 옥세탄 30 중량% (도아 고세이사 OXT-221), 1,9-노난디올 디아크릴레이트 10 중량% (NK ESTER사 A-NOD-N)을 넣어 제조한 수지 조성물 100 중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P (Sanapro사) 5 중량%를 첨가하여 접착제 조성물 G를 제조하였다.

제조예 8

비스페놀 F형 에폭시 40 중량% (DOW社 D.E.R), 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸] 옥세탄 30 중량% (도아 고세이사 OXT-221), 1,9-노난디올 디아크릴레이트 45중량% (NK ESTER사 A-NOD-N)을 넣어 제조한 수지 조성물 100 중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P (Sanapro사) 5 중량%를 첨가하여 접착제 조성물 H를 제조하였다.

실시예 1

(1) 아크릴 필름의 제조

폴리(N-시클로헥실말레이미드-co-메틸메타크릴레이트), 스티렌- 무수말레산 공중합체 수지 및 페녹시계 수지를 100:2.5:5의 중량비로 균일하게 혼합한 수지 조성물을 원료 호퍼(hopper)로부터 압출기까지를 질소 치환한 24φ의 압출기에 공급하여 250℃에서 용융하여 원료 펠렛(pellet)을 제조하였다.

이때, 상기 페녹시계 수지는 InChemRez사의 PKFE (Mw=60,000, Mn=16,000, Tg=95℃)을 사용하였고, 스티렌-무수말레산 공중합체 수지는 스티렌 85 중량%, 무수말레익안하이드라이드 15 중량%인 Dylaeck 332를 사용하였으며, 폴리(N-시클로헥실말레이미드-co-메틸메타크릴레이트) 수지는 NMR 분석 결과 N-시클로헥실말레이미드의 함량이 6.5 중량%였다.

얻어진 원료 펠렛을 진공 건조하고, 260℃에서 압출기로 용융, 코트 헹거 타입의 티-다이(T-die)에 통과시키고, 크롬 도금 캐스팅 롤 및 건조 롤 등을 거쳐 두께 150㎛의 필름을 제조하였다. 이 필름을 파일로트 연신 장비를 사용하여 125℃에서 MD 방향으로 롤의 속도 차를 이용하여 170% 비율로 연신하여 아크릴 필름을 제조하였다.

상기와 같은 과정을 통해 제조된 아크릴 필름을 코로나 처리한 후, 상기 아크릴 필름의 일면에 CK-PUD-F (조광 우레탄 분산액)을 순수로 희석하여 제조된 고형분 함량 10 중량%의 프라이머 조성물에 카르보디이미드계 가교제 (니신보사제, 카보디라이트 SV-02) 10 중량부를 첨가한 프라이머 조성물을 #7 바(bar)로 코팅한 후 TD 방향으로 130℃에서 텐더를 이용하여 190% 연신하여 프라이머층 두께가 400nm인 아크릴 필름을 제조하였다.

(2) 편광판의 제조

마이크로그라비아 코터를 이용하여 상기 (1)에 의해 제조된 아크릴 필름 2매의 프라이머층 상에 제조예 1에서 제조한 접착제 조성물 A를 최종 접착제층 두께가 1㎛가 되도록 각각 도포하였다. 그런 다음, 접착제 조성물이 도포된 2 매의 아크릴 필름을 PVA 소자의 양면에 라미네이트 하고, UV 조사 장치 (metal halide lamp)를 이용하여 PVA 소자의 한쪽 면 방향에서 500mJ/cm2의 자외선을 조사하여 편광판을 제조하였다.

실시예 2

제조예 2에서 제조한 접착제 조성물 B를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

실시예 3

NRT (Konica사 기재)에 10% 농도의 KOH를 40℃ 내지 60℃로 가온하여 기재를 검화 처리하는 방법으로 전처리 하였다.

다음으로, 마이크로그라비아 코터를 이용하여, 상기 전처리된 NRT 2매의 기재상에 제조예 1에서 제조한 접착제 조성물 A를 최종 접착제층 두께가 1㎛가 되도록 각각 도포하였다. 그런 다음, 접착제 조성물이 도포된 2 매의 NRT 기재를 PVA 소자의 양면에 라미네이트하고, UV 조사장치 (metal halide lamp)를 이용하여 PVA 소자의 한쪽 면 방향에서 500mJ/cm²의 자외선을 조사하여 편광판을 제조하였다.

실시예 4

제조예 2에서 제조한 접착제 조성물 B를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

실시예 5

제조예 6에서 제조한 접착제 조성물 F를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

실시예 6

제조예 6에서 제조한 접착제 조성물 F를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 1

제조예 3에서 제조한 접착제 조성물 C를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 2

제조예 4에서 제조한 접착제 조성물 D를 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 3

제조예 5에서 제조한 접착제 조성물 E를 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 4

제조예 3에서 제조한 접착제 조성물 C를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 5

제조예 4에서 제조한 접착제 조성물 D를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 6

제조예 5에서 제조한 접착제 조성물 E를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 7

제조예 7에서 제조한 접착제 조성물 G를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 8

제조예 7에서 제조한 접착제 조성물 G를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 9

제조예 8에서 제조한 접착제 조성물 H를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

비교예 10

제조예 8에서 제조한 접착제 조성물 H를 사용한 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.

실험예 1

1. 박리력 평가

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 6에 의해 제조된 편광판에서 접착제층과 필름 사이의 박리력을 측정하였다. 박리력은 폭 20mm, 길이 15mm인 편광판을 이용하여 PVA와 반대편 필름을 속도 300mm/min, 90°로 박리하였을 때, 박리력을 측정한다. 그 결과 박리력이 2N/20mm 이상인 경우 OK로 2N/20mm 미만인 경우를 NG로 표시하였다.

2. 코팅성 평가

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 6의 편광판 제조 과정에서, 아크릴 기재의 프라이머층 또는 KOH로 전처리한 NRT 기재 상에 접착제 조성물을 #3 바 (bar)로 코팅한 후 웨팅성 (wetting)을 관찰하였다. 디웨팅(dewetting) 부분이 5mm를 초과하는 경우는 NG로, 5mm 이하인 경우는 OK로 표시하였다.

구분	접착제	기재	박리력	코팅성	점도(cP)
실시예 1	A	아크릴	OK	OK	33
실시예 2	B	아크릴	OK	OK	70
실시예 3	A	NRT	OK	OK	-
실시예 4	B	NRT	OK	OK	-
비교예 1	C	아크릴	OK	NG	47
비교예 2	D	아크릴	NG	OK	24
비교예 3	E	아크릴	OK	NG	-
비교예 4	C	NRT	OK	NG	-
비교예 5	D	NRT	NG	OK	-
비교예 6	E	NRT	NG	OK	50

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 방향족 고리를 포함하는 에폭시 수지를 주성분으로 하는 실시예 1 내지 4에 따른 본 발명의 접착제 조성물을 사용한 편광판의 경우 기재에 대한 박리력 및 코팅성이 모두 우수한 것을 알 수 있었다. 그러나, 방향족 고리를 포함하는 에폭시 수지를 주성분으로 사용하거나, 비스페놀 A형 에폭시 수지를 주성분으로 사용하는 접착제 조성물을 사용한 비교예 1 내지 6에 따른 편광판의 경우 박리력 또는 코팅성 중 어느 하나에 문제가 있는 것을 알 수 있었다.

실험예 2

1. 박리력 평가

실시예 5 및 6과 비교예 7 내지 10에 의해 제조된 편광판에서 접착제층과 필름 사이의 박리력을 측정하였다. 박리력은 폭 20mm, 길이 15mm인 편광판을 이용하여 PVA와 반대편 필름을 속도 300mm/min, 90°로 박리하였을 때, 박리력을 측정한다. 그 결과 박리력이 2N/20mm 이상인 경우 OK로 2N/20mm 미만인 경우를 NG로 표시하였다.

2. 경화속도 평가

경화속도 측정방법은 편광판을 NRT/PVA/NRT 구조에서 처방을 도포한 후 경화시킨다. 양이온은 라디칼 대비 경화속도가 느리기 때문에 노광 후 바로 경화되지 않는다. 2nd layer NRT와 PVA사이의 처방의 끈적한 정도를 라텍스 착용한 손으로 러빙(Rubbing)하여 처방의 유동성을 확인한다. 유동성이 없어지는 시점을 기준으로 경화속도를 확인하다.

구분	접착제	기재	박리력	경화속도
실시예 5	F	아크릴	OK	100%
실시예 6	F	NRT	OK	100%
비교예 7	G	아크릴	NG	200%
비교예 8	G	NRT	OK	200%
비교예 9	H	아크릴	NG	70%
비교예 10	H	NRT	NG	70%

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머를 전체 접착제 조성물 100중량부에 대하여 10 중량부 초과 30중량부 이하의 범위로 포함하는 실시예 5 및 6의 경우에는 박리력이 우수하고, 경화속도 역시 적합한 것을 알 수 있었다. 그러나, 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머가 전체 접착제 조성물 100중량부에 대하여 10 중량부 이하로 포함되는 비교예 7 및 8의 경우에는 경화속도가 너무 느린 것을 확인할 수 있었으며, 비교예 7의 경우에는 박리력에도 문제가 생기는 것을 알 수 있었다. 또한, 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머가 전체 접착제 조성물 100중량부에 대하여 30 중량부를 초과하는 비교예 9 및 10의 경우에는 박리력에 문제가 생기는 것을 알 수 있었다.

이상에서 본 명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.

Claims (12)

1. 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여,
   비스페놀 F형 에폭시 화합물 20 중량부 내지 60 중량부;
   2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머 10 중량부 내지 30 중량부;
   분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물 15 중량부 내지 45 중량부; 및
   광 양이온 중합 개시제 0.5 중량부 내지 20 중량부를 포함하는 접착제 조성물.
2. 제1항에 있어서,
   상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물은 에폭시 당량이 120g/eq 이상인 접착제 조성물.
3. 제1항에 있어서,
   상기 비스페놀 F형 에폭시 화합물은 25℃에서 점도가 3,000cPs 내지 10,000cPs인 접착제 조성물.
4. 제1항에 있어서,
   상기 2 이상의 아크릴레이트기를 포함하는 라디컬 모노머는 전체 접착제 조성물 100 중량부에 대하여, 10 중량부 초과 30 중량부 이하 포함하는 것인 접착제 조성물.
5. 제1항에 있어서,
   상기 라디칼 모노머는 1,9-노난디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 (400) 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜(1000) 디아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜디아크릴레이트 및 1,6-헥산디올 에톡시레이트 디아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인 접착제 조성물.
6. 제1항에 있어서,
   상기 분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄계 화합물은 (3-에틸- 3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3- 에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4- {(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1- 트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3- 에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3- 일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드 및 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인 접착제 조성물.
7. 제1항에 있어서,
   상기 광 양이온성 중합 개시제는 활성 에너지선의 조사에 의해 양이온 종 또는 루이스 산을 만들어내는 화합물인 접착제 조성물.
8. 제1항에 있어서,
   상기 접착제 조성물의 점도는 10cP 내지 100cP인 접착제 조성물.
9. 편광자;
   상기 편광자의 적어도 일면에 형성되는 접착제층; 및
   상기 접착제층 상에 형성되는 투명기재 필름을 포함하는 편광판으로, 상기 접착제층은 상기 청구항 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 접착제 조성물에 의해 형성된 것이고,
   상기 접착제층의 두께는 0㎛ 초과 10㎛인 편광판.
10. 제9항에 있어서,
    상기 접착제층과 투명기재 필름 사이의 박리력은 90°의 박리 각도에서 2N 내지 5N인 편광판.
11. 제9항에 있어서,
    상기 접착제층의 유리전이온도는 70℃ 이상인 편광판.
12. 제9항에 있어서,
    상기 편광판의 두께는 50㎛ 내지 200㎛인 편광판.