KR20150139414A - Conductive adhesive, and electronic component using the same - Google Patents

Conductive adhesive, and electronic component using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20150139414A
KR20150139414A KR1020150010468A KR20150010468A KR20150139414A KR 20150139414 A KR20150139414 A KR 20150139414A KR 1020150010468 A KR1020150010468 A KR 1020150010468A KR 20150010468 A KR20150010468 A KR 20150010468A KR 20150139414 A KR20150139414 A KR 20150139414A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conductive
conductive powder
conductive adhesive
adhesive
mass
Prior art date
Application number
KR1020150010468A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102318602B1 (en
Inventor
겐타로 오부치
가즈노부 후쿠시마
Original Assignee
다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 filed Critical 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
Publication of KR20150139414A publication Critical patent/KR20150139414A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102318602B1 publication Critical patent/KR102318602B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02Electrically-conducting adhesives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/04Non-macromolecular additives inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/314Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier the adhesive layer and/or the carrier being conductive

Abstract

The present invention provides a conductive adhesive which does not have an existing problem and has a low specific resistance value and high adhesive force. To this end, the conductive adhesive can be obtained by comprising: conductive powder containing flake-shaped conductive powder (A-1) and conductive powder (A-2) having the average particle diameter of less than or equal to one third of the average particle diameter of the flake-shaped conductive powder (A-1); a glycidylether compound (B); and a hardening agent (C). The conductive adhesive, however, does not contain a solvent.

Description

도전성 접착제 및 그것을 사용한 전자 부품{CONDUCTIVE ADHESIVE, AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a conductive adhesive,

본 발명은, 도전성 접착제 및 그것을 사용한 전자 부품에 관한 것으로, 특히 전자 제품에 있어서의 부재끼리의 전기적 접속에 유효한 도전성 접착제에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive adhesive and an electronic component using the same, and more particularly to a conductive adhesive which is effective for electrical connection between members in an electronic product.

전자 부품 등의 배선 기판 상으로의 실장에서는, 종래부터 땜납이 사용되고 있으나, 최근에는 인체나 자연 환경에 대한 영향의 우려로 인하여 납 프리의 땜납이 주류를 이루고 있다.BACKGROUND ART [0002] Soldering has been used conventionally in mounting on a wiring board such as an electronic component, but in recent years, lead-free solder has become mainstream due to concerns about human body and natural environment.

한편, 최근들어 전자 기기의 소형화에 수반하는 전자 부품의 고밀도화, LSI 연산 속도 향상 등에 수반하는 전송 속도의 고속화에 의해, 전자 부품의 발열이 커지고 있다. 또한 최근에는, 차량 탑재 등의 가혹한 사용 조건 하에서 전자 부품이 사용되고 있다.On the other hand, in recent years, heat generation of electronic components is increasing due to the increase in the transfer speed accompanying the increase in the density of electronic components and the increase in the LSI operation speed accompanying miniaturization of electronic devices. Further, in recent years, electronic parts have been used under severe use conditions such as vehicle mounting.

그로 인해, 땜납으로 실장된 전자 부품에서는, 냉열 사이클에 의해 변형이 누적되어, 그 결과, 땜납 접합부에 크랙이 발생하기 쉽다는 문제가 있었다.As a result, in an electronic component mounted with solder, deformation is accumulated due to a cooling / heating cycle, and as a result, there is a problem that cracks easily occur in the solder joint.

이에 대하여, 땜납을 대신하는 도전성 접착제의 개발이 진행되는데, 이 일례로서, 은분의 혼합물과, 소정의 열경화성 수지를 포함하는 도전성 수지 페이스트가 제안되어 있다(특허문헌 1).On the other hand, development of a conductive adhesive replacing solder is progressing. As an example thereof, a conductive paste containing a mixture of silver and a predetermined thermosetting resin has been proposed (Patent Document 1).

일본 특허 공고 평5-11365호Japanese Patent Publication No. 5-11365

특허문헌 1에서는, 소정의 열경화성 수지에 대하여 2종류의 경화제를 사용한 수지 페이스트를 발광 다이오드용의 다이 본딩에 사용함으로써, 빠른 경화 속도로 양호한 접착을 행하는 기술이 제안되고 있다.Patent Document 1 proposes a technique of performing good adhesion at a fast curing rate by using a resin paste using two types of curing agents for a predetermined thermosetting resin for die bonding for a light emitting diode.

그러나, 특허문헌 1에 있어서의 기술에서는, 경화 속도를 올리기 위하여 고온에서의 경화가 필요해진다. 그로 인해, 플라스틱 기판과 같은 고온에 견딜 수 없는 기판에는 적용할 수 없다는 문제가 있었다.However, in the technique of Patent Document 1, curing at a high temperature is required to increase the curing rate. Therefore, there is a problem that it can not be applied to a substrate which can not withstand a high temperature such as a plastic substrate.

또한, 전자 부품의 고밀도화에 수반하여 접착면의 축소화가 진행되어, 도전성 접착제의 한층 더한 접착력의 향상과 저저항화가 요구되고 있다.In addition, along with the increase in density of electronic components, the reduction of the bonding surface progresses, and further improvement of the adhesive strength and reduction of resistance of the conductive adhesive are required.

따라서, 본 발명의 목적은, 도전성 접착제에 원래 필요한 경도를 유지하면서도, 비교적 저온에서의 처리에 의해서도 전자 부품을 비롯한 접착 면적이 작은 부품을 강력하게 접착함과 함께, 한층 더 저저항화의 실현을 가능하게 하는 도전성 접착제를 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of bonding a component having a small adhesive area including electronic components even with a relatively low temperature while maintaining the hardness originally required for the conductive adhesive, and further realizing lower resistance To provide a conductive adhesive.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 이하의 내용을 요지 구성으로 하는 발명을 완성하기에 이르렀다.Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have completed the invention with the following content.

즉, 본 발명의 도전성 접착제는, 플레이크상의 도전 분말 (A-1)과, 해당 플레이크상의 도전 분말의 3분의 1 이하의 평균 입경을 갖는 도전 분말 (A-2)를 포함하는 도전 분말과, (B) 글리시딜에테르 화합물과, (C) 경화제를 포함하고, 용매를 포함하지 않는 것을 특징으로 한다.That is, the conductive adhesive of the present invention comprises a conductive powder (A-1) in the form of a flake, a conductive powder containing a conductive powder (A-2) having an average particle diameter of not more than 1/3 of the conductive powder in the flake, (B) a glycidyl ether compound, and (C) a curing agent, and does not contain a solvent.

본 발명의 도전성 접착제에 있어서, 상기 도전 분말 (A-2)는 플레이크상 및 구상으로부터 선택되는 적어도 1종의 도전 분말인 것이 바람직하다. 본 발명의 도전성 접착제에 있어서, (B) 글리시딜에테르 화합물은 식 (I)로 표시되는 화합물이 바람직하고, 식 (II)로 표시되는 화합물이 특히 바람직하다.In the conductive adhesive of the present invention, it is preferable that the conductive powder (A-2) is at least one conductive powder selected from flakes and spheres. In the conductive adhesive of the present invention, the glycidyl ether compound (B) is preferably a compound represented by the formula (I), particularly preferably a compound represented by the formula (II).

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, R1은 알킬기, 아릴기, 알킬아릴기 또는 아릴알킬기를 나타내고, m+n=0, 1 또는 2임)(Wherein R1 represents an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, and m + n = 0, 1 or 2)

Figure pat00002
Figure pat00002

본 발명의 전자 부품은, 상술한 본 발명의 도전성 접착제를 사용하여 부재끼리가 전기적으로 접속되어 있는 것을 특징으로 한다.The electronic component of the present invention is characterized in that the members are electrically connected to each other by using the above-described conductive adhesive of the present invention.

본 발명에 따르면, 도전성 접착제에 원래 필요한 경도를 유지하면서도, 비교적 저온에서의 처리에 의해서도 전자 부품을 비롯한 접착 면적이 작은 부품을 강력하게 접착함과 함께, 한층 더한 저저항화의 실현을 가능하게 하는 도전성 접착제를 제공할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to strongly adhere a component having a small bonding area, including electronic components, even at a relatively low temperature while maintaining the hardness originally required for the conductive adhesive, A conductive adhesive can be provided.

본 발명의 도전성 접착제는, 용매를 포함하지 않기 때문에, 경화 수축이 발생하기 어렵고, 또한 그의 경화물 중에 기포의 발생을 억제하므로, 강력한 도전 접착이 가능해진다.Since the conductive adhesive agent of the present invention does not contain a solvent, hardening and shrinkage hardly occurs and the generation of bubbles in the cured product thereof is suppressed, so that strong conductive bonding becomes possible.

본 발명의 도전성 접착제에 의하면, 부재끼리를 강력하게 도전 접착한 전자 부품을 제공할 수 있다.According to the conductive adhesive of the present invention, it is possible to provide an electronic part in which members are strongly electrically connected to each other.

본 발명의 도전성 접착제는, 플레이크상의 도전 분말 (A-1)과, 해당 플레이크상의 도전 분말 (A-1)의 3분의 1 이하의 평균 입경을 갖는 도전 분말 (A-2)를 포함하는 도전 분말과, (B) 글리시딜에테르 화합물과, (C) 경화제를 포함하고, 용매를 포함하지 않는 것을 특징으로 한다.The conductive adhesive of the present invention is a conductive adhesive containing a conductive powder (A-2) containing a conductive powder (A-1) in a flaky state and a conductive powder (A-2) having an average particle diameter of not more than one third of the conductive powder (B) a glycidyl ether compound, and (C) a curing agent, and does not contain a solvent.

이러한 본 발명의 도전성 접착제에 있어서, 「용매를 사용하지 않는」 또는 「무용매」란, 도전성 접착제가 실질적으로 용매나 희석제 등을 포함하지 않고, 접착제의 150℃, 30분 가열에 의한 질량의 감소가 가열 전의 질량과 비교하여 1질량% 이하인 것을 의미한다.In the conductive adhesive of the present invention, " no solvent " or " no solvent " means that the conductive adhesive does not substantially contain a solvent or diluent, and the adhesive has a reduced mass By mass is not more than 1% by mass as compared with the mass before heating.

이하에, 본 발명의 도전성 접착제를 구성하는 각 성분에 대하여 설명한다.Each component constituting the conductive adhesive of the present invention will be described below.

[(A) 도전 분말] [(A) conductive powder]

본 발명의 도전 분말은, 플레이크상의 도전 분말 (A-1)과, 해당 플레이크상의 도전 분말 (A-1)의 3분의 1 이하, 바람직하게는 5분의 1 내지 20분의 1, 보다 바람직하게는 6분의 1 내지 10분의 1의 평균 입경 D50을 갖는 도전 분말 (A-2)를 포함하는 도전 분말이다.The conductive powder of the present invention is preferably one-third or less, preferably one-fifth to one-twentieth, or more preferably one-half or less of the flaky conductive powder (A-1) and the flaky conductive powder (A- Is a conductive powder containing a conductive powder (A-2) having an average particle diameter D50 of 1/6 to 1/10.

도전 분말을 이러한 구성으로 함으로써, 도전성 접착제의 한층 더한 저저항화의 실현을 가능하게 했다. 이것은, 이러한 구성으로 함으로써 도전 분말끼리의 접촉이 보다 양호해져, 도전성을 더욱 향상시킨 것이라고 생각된다.This configuration of the conductive powder makes it possible to further reduce the resistance of the conductive adhesive. This is considered to be because the contact between the conductive powders becomes better by such a constitution, and the conductivity is further improved.

또한, 도전 분말 (A-1)의 형상을 플레이크상으로 함으로써, 도전 분말끼리의 접촉 면적이 증가되어, 충분한 도전성이 얻어진다.Further, by making the shape of the conductive powder (A-1) into a flake-like shape, the contact area between the conductive powders increases, and sufficient conductivity is obtained.

도전 분말 (A-2)로서는, 구상, 플레이크상, 덴트라이트상 등 다양한 것을 사용할 수 있지만, 플레이크상 및 구상으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, 보다 바람직하게는 구상의 도전 분말을 사용한다.As the conductive powder (A-2), various materials such as spherical, flaky, dentrite and the like can be used, but at least one kind selected from flakes and spheres is preferable, and spherical conductive powder is more preferably used.

또한, 본 발명에서 사용되는 도전 분말 (A-1)이나 (A-2)로서는, 예를 들어 금, 은, 구리, 니켈, 알루미늄, 백금, 팔라듐, 주석, 비스무트, 아연, 철, 인듐, 이리듐, 오스뮴, 로듐, 텅스텐, 몰리브덴, 루테늄 등의 저저항의 금속 및 이들의 합금 또는 산화주석(SnO2), 산화인듐(In2O3), ITO 등의 도전성 산화물, 도전성 카본 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 은분이 바람직하다.Examples of the conductive powders (A-1) and (A-2) used in the present invention include gold, silver, copper, nickel, aluminum, platinum, palladium, tin, bismuth, zinc, iron, indium, iridium (SnO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ), ITO and the like, conductive carbon, and the like can be given as examples of the low-resistance metals such as tin oxide, tin oxide, . Among them, silver is preferable.

이하, 도전 분말 (A-1)에 대하여 설명한다.Hereinafter, the conductive powder (A-1) will be described.

도전 분말 (A-1)의 평균 입경 D50은 2.0㎛ 내지 20㎛, 바람직하게는 5㎛ 내지 15㎛, 보다 바람직하게는 7㎛ 내지 13㎛의 범위로부터 적절히 선택된다.The average particle diameter D50 of the conductive powder (A-1) is appropriately selected from the range of 2.0 占 퐉 to 20 占 퐉, preferably 5 占 퐉 to 15 占 퐉, and more preferably 7 占 퐉 to 13 占 퐉.

도전 분말 (A-1)의 평균 입경 D50이 2㎛ 이상이면, 도전 분말끼리의 접점수가 보다 적어져, 접촉 저항이 억제되어, 충분한 도전성이 얻어진다. 한편, 도전 분말의 평균 입경 D50을 20㎛ 이하로 함으로써, 도전성 접착제를 미세한 개소에 적용하는 것이 가능해져 접착 강도가 충분해진다.When the average particle diameter D50 of the conductive powder (A-1) is 2 m or more, the number of contact points between conductive powders becomes smaller, the contact resistance is suppressed, and sufficient conductivity is obtained. On the other hand, by setting the average particle diameter D50 of the conductive powder to 20 mu m or less, it becomes possible to apply the conductive adhesive to fine portions, and the adhesive strength becomes sufficient.

도전 분말 (A-1)의 탭 밀도는 4.0g/㎤ 내지 7.0g/㎤, 바람직하게는 4.5g/㎤ 내지 6.4g/㎤, 보다 바람직하게는 5.0g/㎤ 내지 6.0g/㎤의 범위로부터 적절히 선택된다.The tap density of the conductive powder (A-1) ranges from 4.0 g / cm3 to 7.0 g / cm3, preferably from 4.5 g / cm3 to 6.4 g / cm3, more preferably from 5.0 g / cm3 to 6.0 g / Is appropriately selected.

도전 분말 (A-1)의 탭 밀도가 4.0g/㎤ 이상이면, 도전 분말 (A-1)의 용량에 대한 밀도가 충분해져, 비교적 조밀한 상태로 고충전 가능하게 되어, 충분한 도전성이 얻어진다. 한편, 탭 밀도 7.0g/㎤ 이하의 도전 분말 (A-1)은 공업적으로 생산하기 쉽고, 도전성도 충분해진다.If the tap density of the conductive powder (A-1) is 4.0 g / cm3 or more, the density with respect to the capacity of the conductive powder (A-1) becomes sufficient and high filling becomes possible in a relatively compact state, . On the other hand, the conductive powder (A-1) having a tap density of 7.0 g / cm 3 or less is industrially easy to produce and has sufficient conductivity.

도전 분말 (A-1)의 BET 비표면적은 0.1㎡/g 내지 1.0㎡/g, 바람직하게는 0.2㎡/g 내지 0.6㎡/g, 보다 바람직하게는 0.2㎡/g 내지 0.3㎡/g의 범위로부터 적절히 선택된다.The conductive powder (A-1) has a BET specific surface area of 0.1 to 1.0 m 2 / g, preferably 0.2 to 0.6 m 2 / g, more preferably 0.2 to 0.3 m 2 / g .

도전 분말 (A-1)의 BET 비표면적이 0.1㎡/g 이상이면, 상호의 접촉 면적이 증대되어, 충분한 도전성이 얻어진다. 한편, BET 비표면적이 1㎡/g 이하이면 도전성 접착제에 있어서의 도전 분말의 함유량을 증대시켜도, 점도의 조정이 쉬워, 도전성과 취급성의 양면에서 유의해진다.When the BET specific surface area of the conductive powder (A-1) is 0.1 m 2 / g or more, the mutual contact area is increased, and sufficient conductivity is obtained. On the other hand, if the BET specific surface area is 1 m < 2 > / g or less, the viscosity can be easily adjusted even when the content of the conductive powder in the conductive adhesive is increased.

이러한 도전 분말 (A-1)은, 습식 환원법, 전해법, 아토마이즈법 등의 공지된 방법에 의해 제조된다.Such a conductive powder (A-1) is produced by a known method such as a wet reduction method, an electrolysis method, and an atomization method.

특히, 도전 분말의 형상을 플레이크상으로 하기 위해서는, 진동밀, 교반식 분쇄기 등의 분쇄·압연 효과가 있는 기계 등에 분쇄 미디어를 사용하여 물리적인 힘을 가함으로써 플레이크상으로 가공할 수 있다.Particularly, in order to make the shape of the conductive powder into a flake-like shape, a physical force is applied to a machine having a crushing and rolling effect such as a vibrating mill or a stirring-type crushing machine by using a pulverizing medium.

이하, 도전 분말 (A-2)에 대하여 설명한다.Hereinafter, the conductive powder (A-2) will be described.

도전 분말 (A-2)의 평균 입경 D50은 0.1㎛ 내지 10㎛, 바람직하게는 0.5㎛ 내지 5.0㎛, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 내지 2.0㎛의 범위로부터 적절히 선택된다.The average particle diameter D50 of the conductive powder (A-2) is suitably selected from the range of 0.1 탆 to 10 탆, preferably 0.5 탆 to 5.0 탆, and more preferably 1.0 탆 to 2.0 탆.

도전 분말 (A-2)의 평균 입경 D50이 0.1㎛ 이상이면, 도전성 접착제의 증점이 억제되어, 충분한 도포성이 얻어진다. 한편, 도전 분말 (A-2)의 평균 입경 D50을 10㎛ 이하로 함으로써, 도전성 접착제를 미세한 개소에 적용하는 것이 가능해지면서, 또한 접착 강도가 충분해진다.When the average particle diameter D50 of the conductive powder (A-2) is 0.1 m or more, the thickening of the conductive adhesive agent is suppressed, and sufficient application property can be obtained. On the other hand, by setting the average particle diameter D50 of the conductive powder (A-2) to 10 m or less, it becomes possible to apply the conductive adhesive to fine portions and the bonding strength becomes sufficient.

도전 분말 (A-2)의 탭 밀도는 4.0g/㎤ 내지 7.0g/㎤, 바람직하게는 4.5g/㎤ 내지 6.5g/㎤, 보다 바람직하게는 5.0 내지 6.0g/㎤의 범위로부터 적절히 선택된다.The tap density of the conductive powder (A-2) is appropriately selected from the range of 4.0 g / cm3 to 7.0 g / cm3, preferably 4.5 g / cm3 to 6.5 g / cm3, more preferably 5.0 to 6.0 g / cm3 .

도전 분말 (A-2)의 탭 밀도가 4.0g/㎤ 이상이면, 도전 분말 (A-2)가 비교적 조밀한 상태로 고충전 가능하게 되어, 충분한 도전성이 얻어진다. 한편, 탭 밀도 7.0g/㎤ 이하의 도전 분말 (A-2)는 공업적으로 생산이 쉽고, 도전성도 충분해진다.When the tap density of the conductive powder (A-2) is 4.0 g / cm3 or more, the conductive powder (A-2) can be highly filled in a relatively compact state, and sufficient conductivity is obtained. On the other hand, the conductive powder (A-2) having a tap density of 7.0 g / cm 3 or less is industrially easy to produce and has sufficient conductivity.

도전 분말 (A-2)의 BET 비표면적은 0.5㎡/g 내지 1.5㎡/g, 바람직하게는 0.7㎡/g 내지 1.3㎡/g, 보다 바람직하게는 0.9㎡/g 내지 1.1㎡/g의 범위로부터 적절히 선택된다.The BET specific surface area of the conductive powder (A-2) is in the range of 0.5 to 1.5 m 2 / g, preferably 0.7 to 1.3 m 2 / g, more preferably 0.9 to 1.1 m 2 / g .

도전 분말 (A-2)의 BET 비표면적이 0.5㎡/g 이상이면, 상호의 접촉 면적이 증대되어, 충분한 도전성이 얻어진다. 한편, BET 비표면적을 1.5㎡/g 이하로 함으로써, 도전성 접착제에 있어서의 도전 분말의 함유량을 증대시켜도, 점도의 조정이 쉬워, 도전성과 취급성의 양면에서 유의해진다.When the BET specific surface area of the conductive powder (A-2) is 0.5 m 2 / g or more, the mutual contact area is increased, and sufficient conductivity is obtained. On the other hand, by setting the BET specific surface area to 1.5 m < 2 > / g or less, viscosity can be easily adjusted even when the content of the conductive powder in the conductive adhesive is increased.

이러한 도전 분말 (A-2)는, 예를 들어 습식 환원법, 전해법이나 아토마이즈법 등의 공지된 방법에 의해 제조되고, 시판되고 있는 구상 은분을 사용할 수도 있다.The conductive powder (A-2) may be a commercially available spherical silver powder produced by a known method such as a wet reduction method, electrolytic method or atomization method.

또한, 본 실시 형태에 있어서, 도전 분말의 평균 입경 D50은, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정 장치 또는 레이저 도플러법을 이용한 입도 분포 측정 장치에 의해 측정된 값이다.In the present embodiment, the average particle diameter D50 of the conductive powder is a value measured by a particle size distribution measuring apparatus using a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring apparatus or a laser Doppler method.

도전 분말의 탭 밀도는, JIS Z 2512에 따라 용기 내에 규정량의 분말을 넣고, 탭핑 장치를 사용하여, 분말의 부피가 그 이상 감소되지 않는 지점까지 탭하고, 분말의 질량을 탭 후의 분말 부피로 나눈 값이다.The tap density of the conductive powder was determined by putting a specified amount of powder in a container according to JIS Z 2512 and tapping to the point where the volume of the powder was not further reduced by using a tapping device and changing the mass of the powder to the powder volume after tap Divided.

도전 분말의 BET 비표면적은, BET법(기체 흡착법)에 의해 질소(N2)를 도전 분말에 흡착시켜, 그의 흡착량으로부터 구한 값이다.The BET specific surface area of the conductive powder is a value obtained by adsorbing nitrogen (N 2 ) to the conductive powder by the BET method (gas adsorption method) and determining the adsorption amount thereof.

본 발명의 도전성 접착제에 있어서, 도전 분말 (A-1)과 도전 분말 (A-2)의 배합 비율(도전 분말 (A-1):도전 분말 (A-2)(질량 비율))은 95:5 내지 40:60, 바람직하게는 90:10 내지 50:50, 보다 바람직하게는 82:18 내지 58:42의 범위에서 적절히 선택된다.(Conductive powder (A-1): conductive powder (A-2) (mass ratio)) of the conductive powder (A-1) to the conductive powder (A- 5 to 40:60, preferably 90:10 to 50:50, and more preferably 82:18 to 58:42.

또한, 도전성 접착제 중의 (A) 도전 분말의 배합 비율은 80질량% 내지 95질량%, 바람직하게는 85질량% 내지 93질량%, 보다 바람직하게는 89질량% 내지 91질량%의 범위에서 적절히 선택된다.The blending ratio of the conductive powder (A) in the conductive adhesive agent is appropriately selected in the range of 80% by mass to 95% by mass, preferably 85% by mass to 93% by mass, and more preferably 89% by mass to 91% by mass .

[(B) 글리시딜에테르 화합물] [(B) glycidyl ether compound]

본 발명의 도전성 접착제는, (B) 글리시딜에테르 화합물을 포함하고 있다.The conductive adhesive of the present invention comprises (B) a glycidyl ether compound.

글리시딜에테르 화합물로서는, 예를 들어 공지의 에폭시 수지를 사용할 수 있지만, 본 발명에서는, 도전성 접착제의 유동성을 유지하기 위하여 액상, 특히 실온에 있어서의 점도가 0.5 내지 100dPa·s, 바람직하게는 1 내지 10dPa·s, 보다 바람직하게는 1.5 내지 5dPa·s 범위의 화합물이며, 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상 갖는 다관능 에폭시 수지가 바람직하게 사용된다.As the glycidyl ether compound, for example, a known epoxy resin can be used. In the present invention, in order to maintain the fluidity of the conductive adhesive, the viscosity at a liquid phase, particularly at room temperature, is 0.5 to 100 dPa · s, preferably 1 To 10 dPa · s, more preferably 1.5 to 5 dPa · s, and a polyfunctional epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is preferably used.

다관능 에폭시 수지로서는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 브롬화에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지, 히단토인형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 트리히드록시페닐메탄형 에폭시 수지, 비크실레놀형 또는 비페놀형 에폭시 수지 또는 그들의 혼합물, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 테트라페닐올에탄형 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 디글리시딜프탈레이트 수지, 테트라글리시딜크실레노일에탄 수지, 나프탈렌기 함유 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 골격을 갖는 에폭시 수지, 글리시딜메타크릴레이트 공중합계 에폭시 수지, 시클로헥실말레이미드와 글리시딜메타크릴레이트의 공중합 에폭시 수지, CTBN 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional epoxy resin include bisphenol A type epoxy resins, brominated epoxy resins, novolak type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, glycidylamine type epoxy resins, Alicyclic epoxy resin, trihydroxyphenylmethane type epoxy resin, biquileneol type or biphenol type epoxy resin or a mixture thereof, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, tetraphenylol ethane type epoxy resin, A cyclic epoxy resin, a diglycidyl phthalate resin, a tetraglycidyl silyloyl ethane resin, a naphthalene group-containing epoxy resin, an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, a glycidyl methacrylate copolymer epoxy resin, A copolymerized epoxy resin of mid and glycidyl methacrylate, a CTBN-modified epoxy resin It can be given.

상기 (B) 글리시딜에테르 화합물 중, 본 발명에서는 식 (I)로 표시되는 글리시딜에테르 화합물이 바람직하게 사용된다.Of the glycidyl ether compounds (B), glycidyl ether compounds represented by the formula (I) are preferably used in the present invention.

Figure pat00003
Figure pat00003

이 화합물에 의하면, 경화물의 접착 강도 및 경도의 어느 경우에서든 양호한 결과가 얻어진다. 또한, 접착제의 도전성에 대한 영향을 최소로 억제할 수 있다.According to this compound, good results can be obtained in any case of the adhesive strength and hardness of the cured product. Further, the influence on the conductivity of the adhesive can be minimized.

식 (I) 중 R1은 알킬기, 아릴기, 알킬아릴기 또는 아릴알킬기를 나타내고, m+n=0, 1 또는 2이다. m+n≠0, 1, 2의 경우에는, 저탄성과 저흡수성의 밸런스가 우수한 것을 얻지 못할 우려가 있다.In the formula (I), R 1 represents an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, and m + n = 0, 1 or 2. In the case of m + n ≠ 0, 1, 2, there is a fear that an excellent balance between low carbon and low absorbability is not obtained.

상기 일반식 (I)로 표시되는 글리시딜에테르 화합물 중, m+n=1 또는 2인 화합물은, 예를 들어 디시클로펜타디엔디메탄올과, 알킬모노글리시딜에테르, 아릴모노글리시딜에테르, 알킬아릴모노글리시딜에테르 또는 아릴알킬모노글리시딜에테르를 루이스산 촉매를 사용하여 반응시켜, 촉매를 알칼리로 실활시킨 후, 수산기 부분에 에피클로로히드린을 알칼리 및 상간 이동 촉매의 존재 하에 반응시켜 제조할 수 있다.Among the glycidyl ether compounds represented by the above general formula (I), the compound in which m + n = 1 or 2 is, for example, dicyclopentadienedimethanol, alkyl monoglycidyl ether, aryl monoglycidyl ether , Alkylaryl monoglycidyl ether or arylalkyl monoglycidyl ether is reacted with a Lewis acid catalyst to deactivate the catalyst with an alkali and then epichlorohydrin is added to the hydroxyl moiety in the presence of an alkali and phase transfer catalyst Followed by reaction.

상기 일반식 (I) 중, R1로 표시되는 알킬기로서는, 예를 들어 탄소 원자수 1 내지 18의 알킬, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 2,2-디메틸프로필, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 시클로헥실메틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, tert-옥틸, 노닐, 데실, 이소데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실 등의 직쇄, 분지 또는 환상의 기를 들 수 있고, 이들은 불포화기를 포함하고 있을 수도 있다.Examples of the alkyl group represented by R 1 in the general formula (I) include alkyl having 1 to 18 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec- Butyl, pentyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 1- ethylpropyl, 1,1- dimethylpropyl, 1,2- dimethylpropyl, 2,2-dimethylpropyl, hexyl, cyclohexyl, For example, heptyl, cyclohexylmethyl, octyl, isoheptyl, 2-ethylhexyl, tert-octyl, nonyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl Branched or cyclic groups such as methyl, ethyl, n-propyl, and the like, which may contain an unsaturated group.

R1로 표시되는 아릴기로서는, 예를 들어 페닐, 나프틸 등의 기를 들 수 있다.Examples of the aryl group represented by R 1 include groups such as phenyl and naphthyl.

R1로 표시되는 알킬아릴기로서는, 상술한 알킬기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸 등의 기를 들 수 있다.As the alkylaryl group represented by R 1, there may be mentioned a group such as phenyl or naphthyl substituted by the above-mentioned alkyl group.

R1로 표시되는 아릴알킬기로서는, 예를 들어 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 등의 기를 들 수 있다.Examples of the arylalkyl group represented by R < 1 > include groups such as benzyl, alpha -methylbenzyl, alpha, alpha -dimethylbenzyl and the like.

R1로서는, 이들 중에서도, 탄소 원자수 4 내지 18의 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, 이에 의해 저흡수성과 저탄성의 밸런스가 잡힌 것이 얻어진다.Among them, it is preferable that R1 has an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, whereby a balance of low absorptivity and low elasticity can be obtained.

본 발명에서는, 식 (I)의 글리시딜에테르 화합물 중, m+n=0인 화합물, 즉 식 (II)로 표시되는 화합물이 바람직하게 사용된다.In the present invention, among the glycidyl ether compounds of the formula (I), a compound wherein m + n = 0, that is, a compound represented by the formula (II) is preferably used.

Figure pat00004
Figure pat00004

식 (II)의 글리시딜에테르 화합물은, 예를 들어 디시클로펜타디엔디메탄올의 수산기 부분에 에피클로로히드린을 알칼리 촉매 및 상간 이동 촉매의 존재 하에 반응시켜 제조할 수 있다.The glycidyl ether compound of formula (II) can be prepared, for example, by reacting epichlorohydrin with the hydroxyl group portion of dicyclopentadiene dimethanol in the presence of an alkali catalyst and an phase transfer catalyst.

식 (I)의 글리시딜에테르 화합물 중, 식 (II)의 화합물은 점도가 낮아, 도전성 접착제의 취급성이 향상되고, 경화물의 표면 특성, 접착 강도 및 경도의 어느 경우에서든 양호한 결과가 얻어진다. 또한, 식 (II)의 글리시딜에테르 화합물을 사용함으로써, 도전성 접착제의 도전성의 저하를 최소로 억제할 수 있다.Among the glycidyl ether compounds of the formula (I), the compound of the formula (II) has a low viscosity and improves the handling properties of the conductive adhesive, and good results are obtained in any of the surface properties, the adhesive strength and the hardness of the cured product . Further, by using the glycidyl ether compound of the formula (II), deterioration of the conductivity of the conductive adhesive can be minimized.

도전성 접착제 중의 (B) 글리시딜에테르 화합물의 배합 비율은 1질량% 이상 내지 30질량%, 바람직하게는 5질량% 내지 15질량%, 보다 바람직하게는 8% 내지 12%의 범위에서 적절히 선택된다.The blending ratio of the glycidyl ether compound (B) in the conductive adhesive is appropriately selected in the range of 1% by mass or more to 30% by mass, preferably 5% by mass to 15% by mass, and more preferably 8% to 12% .

[(C) 경화제] [(C) Curing Agent]

본 발명의 도전성 접착제에는, (C) 경화제가 포함된다.The conductive adhesive agent of the present invention includes (C) a curing agent.

경화제로서는, 예를 들어 As the curing agent, for example,

디에틸렌트리아민, 트리에틸렌트리아민, 테트라에틸렌펜타민 등의 쇄상 지방족 폴리아민계 경화제,Chain aliphatic polyamine-based curing agents such as diethylenetriamine, triethylenetriamine, tetraethylenepentamine,

1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노-3,6-디에틸시클로헥산, 이소포론디아민 등의 지환식 폴리아민계 경화제,Alicyclic polyamine curing agents such as 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-3,6-diethylcyclohexane and isophoronediamine,

m-크실릴렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰 등의 방향족 폴리아민계 경화제,aromatic polyamine curing agents such as m-xylylenediamine, diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone,

피페리딘 등의 2급 아민계 경화제,A secondary amine-based curing agent such as piperidine,

N,N-디메틸피페라진, 트리에틸렌디아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 벤질디메틸아민(BDMA), 2-(디메틸아미노메틸)페놀(DMP-10) 등의 3급 아민계 경화제 및 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진의 이소시아누르산 부가체(이미다졸의 1위치의 N에 이소시아누르산이 부가) 등의 이미다졸계 경화제,(Tertiary) amine such as N, N-dimethylpiperazine, triethylenediamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, benzyldimethylamine (BDMA) An amine-based curing agent and a curing agent such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1- Isocyanuric acid adduct of 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] - ethyl-s-triazine, An imidazole-based curing agent such as isocyanuric acid is added to N at the 1-position of the compound

메틸테트라히드로 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산 등의 산 무수물을 사용할 수 있다.Acid anhydrides such as methyl tetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride can be used.

이밖에, 잠재성 경화제, 예를 들어 삼불화붕소-아민 착체, 디시안디아미드, 유기산 히드라지드, 광·자외선 경화제 등을 사용하는 것도 가능하다.In addition, it is also possible to use a latent curing agent such as boron trifluoride-amine complex, dicyandiamide, organic acid hydrazide, photo-ultraviolet curing agent and the like.

이러한 경화제 중, 이미다졸계 경화제, 3급 아민계 경화제가 바람직하게 사용되고, 이미다졸계 경화제가 특히 바람직하게 사용된다. 이들 경화제를 사용하면, 비교적 온화한 반응 속도로 확실한 경화 상태를 얻을 수 있다.Of these curing agents, an imidazole-based curing agent and a tertiary amine-based curing agent are preferably used, and an imidazole-based curing agent is particularly preferably used. When these curing agents are used, a firm cured state can be obtained at a relatively mild reaction rate.

본 발명에서 사용되는 이미다졸계 경화제의 시판품의 예로서는, 2MZ, 2MZ-P, 2PZ, 2PZ-PW, 2P4MZ, C11Z-CNS, 2PZ-CNS, 2PZCNS-PW, 2MZ-A, 2MZA-PW, C11Z-A, 2E4MZ-A, 2MA-OK, 2MAOK-PW, 2PZ-OK, 2MZ-OK, 2PHZ, 2PHZ-PW, 2P4MHZ, 2P4MHZ-PW, 2E4MZ·BIS, VT, VT-OK, MAVT, MAVT-OK(시꼬꾸 가세이 고교사제)를 들 수 있다.Examples of commercially available imidazole-based curing agents used in the present invention include 2MZ, 2MZ-P, 2PZ, 2PZ-PW, 2P4MZ, C11Z-CNS, 2PZ-CNS, 2PZCNS- OK, 2MZ-OK, 2PHZ, 2PHZ-PW, 2P4MHZ, 2P4MHZ-PW, 2E4MZ BIS, VT, VT-OK, MAVT, MAVT-OK Manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).

특히, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸(2PZ-CN: 시꼬꾸 가세이 고교사제) 및 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진이소시아누르산 부가물(2MA-OK: 시꼬꾸 가세이 고교사제)로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하면 경화 상태 및 보존 안정성의 관점에서 바람직하다. 경화제는 1종류일 수도 있지만, 2종류 이상을 병용하는 것도 가능하다.In particular, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole (2PZ-CN: manufactured by Shikoku Chemicals Corporation) and 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- Ethyl-s-triazine and isocyanuric acid adducts (2MA-OK: manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) is preferably used from the viewpoint of the curing state and storage stability. The curing agent may be one type, but it is also possible to use two or more types of curing agents.

이러한 경화제의 배합 비율은, 글리시딜에테르 화합물에 대하여 1질량% 내지 12질량%, 바람직하게는 3질량% 내지 9질량%, 보다 바람직하게는 5질량% 내지 7질량%이다.The blending ratio of such a curing agent is 1% by mass to 12% by mass, preferably 3% by mass to 9% by mass, and more preferably 5% by mass to 7% by mass, based on the glycidyl ether compound.

이상 설명한 바와 같은 본 발명의 도전성 접착제는, 필요에 따라 소포제나 레벨링제 등의 첨가제를 배합할 수 있다.The conductive adhesive of the present invention as described above can be mixed with an additive such as a defoaming agent and a leveling agent as necessary.

이상 설명한 바와 같은 본 발명의 도전성 접착제는, 150℃, 30분 가열에 의한 질량의 감소가 가열 전의 질량과 비교하여 0.7질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.3질량% 이하로 한다. 이에 의해, 기포를 확실하게 억제할 수 있는 결과, 양산 시에 있어서 안정된 접착 강도를 갖는 도전성 접착제를 제공할 수 있다.The conductive adhesive of the present invention as described above preferably has a mass reduction by heating at 150 DEG C for 30 minutes of 0.7 mass% or less, more preferably 0.5 mass% or less, more preferably 0.5 mass% or less, 0.3 mass% or less. As a result, bubbles can be reliably suppressed, and as a result, it is possible to provide a conductive adhesive having a stable bonding strength at the time of mass production.

본 발명에 의한 도전성 접착제는, 상기한 각 성분을 혼합함으로써 주로 1액형 접착제로서 제조 가능하기 때문에, 취급성이 우수하다. 또한, 본 발명의 도전성 접착제는 보존 안정성도 우수하다.The conductive adhesive according to the present invention is excellent in handleability because it can be produced mainly as a one-pack type adhesive by mixing the above-mentioned respective components. The conductive adhesive of the present invention is also excellent in storage stability.

본 발명의 도전성 접착제에 의한 부재끼리의 접착은, 예를 들어 이하와 같이 행하여진다.Adhesion of members by the conductive adhesive agent of the present invention is performed, for example, as follows.

프린트 회로 기판 등의 접착 부재의 접착 개소에 스크린 메쉬나 메탈 마스크에 의한 패턴 인쇄, 또는 디스펜서 등의 도포 장치에 의한 도포에 의해 접착제를 도포한다.An adhesive is applied to a bonding portion of an adhesive member such as a printed circuit board by pattern printing with a screen mesh or a metal mask or by application using a dispenser such as a dispenser.

접착 개소에 접착제가 충분히 공급된 것을 확인한 후, 피접착 부재(부품)를 접착 부재(기판)의 접착 개소에 얹고, 100℃ 내지 180℃, 바람직하게는 120℃ 내지 160℃의 범위에서 15분 내지 50분, 바람직하게는 20분 내지 40분의 조건에서 가열하여, 경화한다.(Part) is placed on the bonding portion of the bonding member (substrate), and the bonding member is bonded to the bonding portion at a temperature of 100 占 폚 to 180 占 폚, preferably 120 占 폚 to 160 占 폚 for 15 minutes 50 minutes, preferably 20 minutes to 40 minutes.

이에 의해, 접착제 중의 글리시딜에테르 화합물과 경화제가 반응하여 경화되고, 접착 부재(기판)와 이것에 적재된 피접착 부재(부품)가 견고하게 도전 접착된다.As a result, the glycidyl ether compound in the adhesive reacts with the curing agent to be cured, and the adhesive member (substrate) and the member to be adhered (component) mounted thereon are firmly adhered to each other.

본 발명의 도전성 접착제는 전자 부품의 접착을 위해서 바람직하게 사용되며, 접착 면적에 관계없이 우수한 접착성을 나타낸다.The conductive adhesive agent of the present invention is preferably used for bonding electronic components and exhibits excellent adhesiveness regardless of the bonding area.

이하, 본 발명을 실시예에 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서 특별히 언급하지 않는 한, 「부」,「%」는 질량 기준인 것으로 한다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the following description, " part " and "% " are based on mass unless otherwise specified.

<실시예> <Examples>

I. 도전성 접착제의 제조I. Preparation of Conductive Adhesive

실시예 1 내지 4, 비교예 1 및 2Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 and 2

하기 표 1에 나타내는 배합 비율(질량비)로 각 성분을 배합하여, 교반 혼합한 후, 3축 롤밀에 의해 분산시켰다. 이에 의해, 본 발명의 도전성 접착제 및 비교용의 도전성 접착제를 얻었다.Each component was compounded at the compounding ratio (mass ratio) shown in Table 1 below, stirred and mixed, and then dispersed by a three-roll mill. Thus, the conductive adhesive agent of the present invention and the comparative conductive adhesive agent were obtained.

II. 비저항값의 측정II. Measurement of resistivity value

유리 기판 상에 2㎜ 폭의 간극을 두고 셀로판 테이프에 의해 마스킹을 실시하고, 스크레이퍼에 의해 실시예 1 내지 4, 비교예 1 및 2에 의해 얻어진 도전성 접착제를 도포했다.The glass substrate was masked by a cellophane tape with a gap of 2 mm in width, and the conductive adhesive obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 was applied by a scraper.

도포 후, 셀로판 테이프를 벗기고, 열풍 순환식 건조로를 사용하여, 150℃에서 30분간 가열 경화하여, 측정용의 시험편을 얻었다.After the application, the cellophane tape was peeled off and heated and cured at 150 占 폚 for 30 minutes using a hot air circulation type drying furnace to obtain a test piece for measurement.

얻어진 시험편에 대하여, 도전성 접착제의 패턴막 두께를, 서프 코다(고사까 겡뀨쇼제, SE-30H)를 사용하여 측정하고, 패턴 폭을 메져링 마이크로스코프(MEASURING MICROSCOPE; 올림푸스(OLYMPUS)사제 STM-MJS)를 사용하여 측정했다. 또한, 패턴 길이 5㎝의 저항값 R을 테스터(히오키 덴끼사제 밀리옴 하이테스터 3540)를 사용하여 측정했다.The obtained test piece was measured for the pattern film thickness of the conductive adhesive agent using Surfcoda (Kosaka Gensen Co., SE-30H), and the pattern width was measured using a MEASURING MICROSCOPE (STM-MJS manufactured by OLYMPUS Co., ). Further, the resistance value R of the pattern length 5 cm was measured using a tester (Milliohm HiTester 3540, manufactured by Hioki Denka Co., Ltd.).

상기에서 측정한 막 두께, 패턴 폭, 패턴 길이(5㎝), 저항값으로부터 하기 식에 의해 비저항값(Ω·㎝)을 산출했다.The resistivity value (? 占) m) was calculated from the film thickness, the pattern width, the pattern length (5 cm), and the resistance value measured in the above by the following formula.

ρ(Ω·㎝)=R(Ω)·A(㎠)/L(㎝) ρ (Ω · cm) = R (Ω) · A (cm 2) / L (cm)

ρ: 비저항값ρ: specific resistance value

R: 저항값R: resistance value

A: 단면적A: Cross-sectional area

L: 길이L: Length

얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.The obtained results are shown in Table 1.

III. 접착 강도의 측정III. Measurement of adhesion strength

유리 에폭시 동장 기판(기재 FR4, 구리 두께 35㎛) 상에 약 10㎜ 폭의 간극을 두고 셀로판 테이프에 의해 마스킹을 실시하고, 스크레이퍼에 의해 실시예 1 내지 4, 비교예 1 및 2에 의해 얻어진 도전성 접착제를 도포했다.A gap of about 10 mm in width was provided on a glass epoxy copper substrate (base material FR4, copper thickness 35 mu m), and masking was performed by cellophane tape. The electroconductivity obtained by Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 The adhesive was applied.

도포 후, 셀로판 테이프를 벗기고, 금 도금 M3 너트(맞변 거리: 5.5㎜, 대각 거리: 6.4㎜, 높이: 2.4㎜, 1종)의 목귀질(面取り)되어 있지 않은 구멍이 있는 면을 접착면으로 하여 배치하고, 열풍 순환식 건조로를 사용하여, 150℃에서 30분간 가열하여 접착시켰다. 이에 의해 측정용 시험편을 얻었다.After the application, the cellophane tape was peeled off, and the surface of the gold-plated M3 nut (pendulum distance: 5.5 mm, diagonal distance: 6.4 mm, height: 2.4 mm, type 1) And heated at 150 캜 for 30 minutes using a hot-air circulation type drying furnace to be adhered. Thus, a test piece for measurement was obtained.

얻어진 시험편의 접착된 금 도금 M3 너트의 측면에, 전단 속도 5㎜/min의 전단력을 기판면에 대하여 평행해지도록 인가하고, 디지털 포스 게이지(닛본 덴산 심포 가부시끼가이샤제 FGP-50, 전동 스탠드 FCS-TV)를 사용하여, 금 도금 M3 너트와 기판의 접착면의 전단 강도를 측정했다. 측정된 전단 강도를 금 도금 M3 너트의 접착 면적으로 나누어 접착 강도를 산출했다.A shearing force of 5 mm / min in shear rate was applied parallel to the surface of the substrate on the side of the gold-plated M3 nut of the obtained test piece, and a digital force gauge (FGP-50 manufactured by Nippon Densan Co., -TV) was used to measure the shear strength of the bonding surface between the gold-plated M3 nut and the substrate. The measured shear strength was divided by the area of adhesion of gold-plated M3 nuts to calculate the adhesive strength.

얻어진 결과를 표 1에 함께 나타낸다.The obtained results are shown together in Table 1.

IV. 도포 상태의 확인IV. Confirmation of application status

도포 상태에 관하여 도전성 접착제를 도포한 도막에 긁힘이나 번짐이 없는지 육안에 의해 확인하여, 모두 문제가 없는 것을 확인했다.As to the coating state, the coating film coated with the conductive adhesive was checked visually for scratches and bleeding, and it was confirmed that there was no problem in all cases.

V. 연필 경도 시험V. Pencil hardness test

각 샘플의 접착제 경화 부분에 대하여, 연필 경도를 (JIS K 5600의 시험 방법에 따라) 측정했다. 어느 샘플이든 8H 이상의 연필 경도인 것을 확인했다.The pencil hardness (according to the test method of JIS K 5600) was measured for the cured adhesive portion of each sample. It was confirmed that any sample had pencil hardness of 8H or more.

VI. 질량 감소VI. Mass reduction

실시예 1 내지 4, 비교예 1 및 2에 의해 얻어진 도전성 접착제를, 각각 2g, 직경 5㎝의 알루미늄 접시 상에 채취하여, 열풍 순환식 건조로에서 150℃에서 30분 가열하고, 가열 후의 질량을 측정했다. 가열 전후의 각 접착제의 질량을 비교한 바, 모두 0.3질량% 이하의 질량 감소이었다.The conductive adhesives obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were each taken on an aluminum plate having a diameter of 5 cm and 2 g respectively and heated in a hot air circulating type drying furnace at 150 DEG C for 30 minutes to measure the mass after heating did. When the masses of the respective adhesives before and after the heating were compared, all of them showed a mass reduction of 0.3 mass% or less.

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 표 1 중의 재료는 이하와 같다.The materials in Table 1 are as follows.

글리시딜에테르 화합물: 아데카(ADEKA)사제 EP-4088L(디시클로펜타디엔디메탄올형 에폭시 수지, 에폭시 당량: 165g/eq, 점도: 2.3dPa·s, 전체 염소: 0.09질량%)Glycidyl ether compound: EP-4088L (dicyclopentadienedimethanol type epoxy resin, epoxy equivalent: 165 g / eq, viscosity: 2.3 dPa.s, total chlorine: 0.09 mass%) manufactured by ADEKA

도전 분말 1: 플레이크상 은분(메탈로사제 EA-0101, 비표면적: 0.32㎡/g, 탭 밀도: 5.5g/㎤, 평균 입경 5.5㎛) Conductive powder 1: EA-0101 (specific surface area: 0.32 m 2 / g, tap density: 5.5 g / cm 3, average particle diameter: 5.5 μm)

도전 분말 2: 플레이크상 은분(DOWA 일렉트로닉스사제 FA-D-6, 비표면적: 0.24㎡/g, 탭 밀도: 5.3g/㎤, 평균 입경 9.6㎛) Conductive powder 2: FA-D-6 (specific surface area: 0.24 m 2 / g, tap density: 5.3 g / cm 3, average particle diameter: 9.6 탆, manufactured by DOWA ELECTRONICS CO., LTD.

도전 분말 3: 플레이크상 은분(DOWA 일렉트로닉스사제 FA-S-12, 비표면적: 0.96㎡/g, 탭 밀도: 5.2g/㎤, 평균 입경 2.1㎛) (FA-S-12 manufactured by DOWA ELECTRONICS, specific surface area: 0.96 m2 / g, tap density: 5.2 g / cm3, average particle diameter: 2.1 mu m)

도전 분말 4: 플레이크상 은분(DOWA 일렉트로닉스사제 AA-4703, 비표면적: 1.01㎡/g, 탭 밀도: 3.5g/㎤, 평균 입경 4㎛) Conductive powder 4: AA-4703 (specific surface area: 1.01 m 2 / g, tap density: 3.5 g / cm 3, average particle size: 4 μm, manufactured by DOWA ELECTRONICS CO.

도전 분말 5: 구상 은분(메탈로사제 K-0082P, 비표면적: 0.99㎡/g, 탭 밀도: 5.4g/㎤, 평균 입경 1.5㎛)Conductive powder 5: spherical silver powder (K-0082P manufactured by Metalo K., specific surface area: 0.99 m 2 / g, tap density: 5.4 g / cm 3,

경화제: 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]-에틸-s-트리아진이소시아누르산 부가물(시꼬꾸 가세사제 2MAOK-PW) Hardener: 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] -ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct (2MAOK-PW manufactured by Shikoku Chemicals Corporation)

도전 분말 (A-1): 각 실시예/비교예에서 혼합 사용된 대입경의 은분Conductive Powder (A-1): In each of the examples / comparative examples,

도전 분말 (A-2): 각 실시예/비교예에서 혼합 사용된 소입경의 은분Conductive powder (A-2): Silver powder having a small particle size mixed in each of the examples and comparative examples

측정 불가: 저항값이 지나치게 커서 측정할 수 없었음을 의미한다.Not measurable: means that the resistance value was too large to be measured.

표 1로부터 명백해진 바와 같이, 실시예 1 내지 4의 도전성 접착제의 경화물은 비저항이 작고, 우수한 접착 강도를 겸비하는 것이었다. 이에 반하여, 비교예 1 및 2의 도전성 접착제는 저항값이 매우 큰 것을 확인했다.As is clear from Table 1, the cured products of the conductive adhesives of Examples 1 to 4 had small specific resistances and excellent adhesive strength. On the other hand, it was confirmed that the conductive adhesives of Comparative Examples 1 and 2 had a very high resistance value.

또한, 본 발명의 도전성 접착제는, 도포 상태, 경도, 질량 감소에 있어서도 비교예에 있어서의 조성물에 손색이 없어, 우수한 품질을 갖고 있다고 할 수 있다.In addition, the conductive adhesive of the present invention can be said to have excellent quality because the composition of the comparative example is excellent in the application state, hardness and mass reduction.

Claims (3)

플레이크상의 도전 분말 (A-1)과, 해당 플레이크상 도전 분말 (A-1)의 3분의 1 이하의 평균 입경을 갖는 도전 분말 (A-2)를 포함하는 도전 분말과,
(B) 글리시딜에테르 화합물과,
(C) 경화제를 포함하고, 용매를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 도전성 접착제.
A conductive powder comprising a conductive powder (A-1) on a flake, a conductive powder (A-2) having an average particle diameter of not more than one-third of the flaky conductive powder (A-
(B) a glycidyl ether compound,
(C) a curing agent, and does not contain a solvent.
제1항에 있어서, 상기 도전 분말 (A-2)가 플레이크상 및 구상으로부터 선택되는 적어도 1종의 도전 분말인 도전성 접착제.2. The conductive adhesive according to claim 1, wherein the conductive powder (A-2) is at least one kind of conductive powder selected from a flake and spheres. 제1항 또는 제2항에 기재된 도전성 접착제를 사용하여 부재끼리가 전기적으로 접속되어 이루어지는 전자 부품.An electronic part in which members are electrically connected to each other by using the conductive adhesive according to any one of claims 1 to 3.
KR1020150010468A 2014-06-03 2015-01-22 Conductive adhesive, and electronic component using the same KR102318602B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2014-115314 2014-06-03
JP2014115314A JP6383183B2 (en) 2014-06-03 2014-06-03 Conductive adhesive and electronic component using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150139414A true KR20150139414A (en) 2015-12-11
KR102318602B1 KR102318602B1 (en) 2021-10-29

Family

ID=54886667

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150010468A KR102318602B1 (en) 2014-06-03 2015-01-22 Conductive adhesive, and electronic component using the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6383183B2 (en)
KR (1) KR102318602B1 (en)
CN (1) CN105321596B (en)
TW (1) TW201546237A (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7361447B2 (en) * 2015-12-11 2023-10-16 Dic株式会社 Conductive resin composition, conductive adhesive sheet and laminate
JP6636874B2 (en) * 2016-07-28 2020-01-29 京セラ株式会社 Resin composition for bonding electronic components, bonding method for electronic components, and electronic component mounting substrate
US11118089B2 (en) 2017-06-07 2021-09-14 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Thermally-conductive and electrically-conductive adhesive composition
WO2019111778A1 (en) * 2017-12-04 2019-06-13 住友ベークライト株式会社 Pasty adhesive composition and semiconductor device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008174577A (en) * 2007-01-16 2008-07-31 Kyocera Chemical Corp Die bonding paste and semiconductor device using the same
WO2013094543A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 味の素株式会社 Conductive adhesive
WO2014080558A1 (en) * 2012-11-22 2014-05-30 富士電機機器制御株式会社 Thermal overload relay

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2950670B2 (en) * 1991-12-10 1999-09-20 マルコン電子株式会社 Solid electrolytic capacitors
JP2983816B2 (en) * 1993-10-29 1999-11-29 住友ベークライト株式会社 Conductive resin paste
JP2974902B2 (en) * 1993-12-24 1999-11-10 住友ベークライト株式会社 Conductive resin paste
JP3588400B2 (en) * 1996-04-18 2004-11-10 ナミックス株式会社 Conductive resin composition and method of forming conductor
JP2003129017A (en) * 2001-10-25 2003-05-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Conductive adhesive film and semiconductor device using the same
JP2004182935A (en) * 2002-12-05 2004-07-02 Ricoh Co Ltd Electroconductive adhesive
JP4569109B2 (en) * 2004-01-08 2010-10-27 住友ベークライト株式会社 Metal-containing paste and semiconductor device
JP4363340B2 (en) * 2004-03-12 2009-11-11 住友電気工業株式会社 Conductive silver paste and electromagnetic wave shielding member using the same
TWI405519B (en) * 2007-04-23 2013-08-11 Panasonic Corp A conductive paste composition for hole filling, a printed circuit board using the same, and a method for manufacturing the same
GB0710425D0 (en) * 2007-06-01 2007-07-11 Hexcel Composites Ltd Improved structural adhesive materials
JP4935592B2 (en) * 2007-09-13 2012-05-23 昭栄化学工業株式会社 Thermosetting conductive paste
JP5257574B2 (en) * 2007-12-10 2013-08-07 福田金属箔粉工業株式会社 Solvent-free conductive adhesive
EP2297262B1 (en) * 2008-07-03 2016-12-21 Henkel IP & Holding GmbH Silver coated flaky material filled conductive curable composition and the application in die attach
KR20130109951A (en) * 2010-06-17 2013-10-08 히타치가세이가부시끼가이샤 Resin paste composition
US8419981B2 (en) * 2010-11-15 2013-04-16 Cheil Industries, Inc. Conductive paste composition and electrode prepared using the same
CN102013281A (en) * 2010-12-11 2011-04-13 广东风华高新科技股份有限公司 Conductive silver adhesive for high-power LED
CN102766426A (en) * 2012-07-03 2012-11-07 烟台德邦科技有限公司 Conductive adhesive for encapsulating semiconductor chip and preparation method thereof
JP5859949B2 (en) * 2012-09-27 2016-02-16 三ツ星ベルト株式会社 Conductive composition
JP6259270B2 (en) * 2013-12-04 2018-01-10 京都エレックス株式会社 Thermosetting conductive paste composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008174577A (en) * 2007-01-16 2008-07-31 Kyocera Chemical Corp Die bonding paste and semiconductor device using the same
WO2013094543A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 味の素株式会社 Conductive adhesive
WO2014080558A1 (en) * 2012-11-22 2014-05-30 富士電機機器制御株式会社 Thermal overload relay

Also Published As

Publication number Publication date
TW201546237A (en) 2015-12-16
JP2015229699A (en) 2015-12-21
CN105321596A (en) 2016-02-10
CN105321596B (en) 2018-06-19
KR102318602B1 (en) 2021-10-29
JP6383183B2 (en) 2018-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5662104B2 (en) Conductive resin composition and semiconductor device using the same
JP5293292B2 (en) Conductive adhesive paste and electronic component mounting board
KR102318602B1 (en) Conductive adhesive, and electronic component using the same
JP6203783B2 (en) Conductive adhesive and method for manufacturing electronic substrate
JP2011187194A (en) Conductive paste
JP2004063445A (en) Conductive paste
KR20180103875A (en) Resin composition, conductive copper paste and semiconductor device
JP2019056104A (en) Conductive composition and wiring board using the same
JP2006032165A (en) Conductive metal particles and conductive resin composition using them, and conductive adhesive
US20160100481A1 (en) Anisotropic conductive film, method of manufacturing the same, and printed circuit board using the same
JP2007277384A (en) Electroconductive adhesive
JP6576736B2 (en) Conductive adhesive and semiconductor device
CN108456501B (en) Conductive adhesive composition
JP4224771B2 (en) Conductive paste
CN110692126A (en) Resin composition for bonding electronic component, method for bonding small chip component, electronic circuit board, and method for manufacturing electronic circuit board
CN103571370A (en) Circuit connection material
JP6636874B2 (en) Resin composition for bonding electronic components, bonding method for electronic components, and electronic component mounting substrate
KR102334800B1 (en) Conductive adhesive, and electronic component using the same
JP2019054105A (en) Method of connecting electrodes and method of manufacturing electronic substrate
EP3227355A1 (en) Conductive adhesive composition
JP2007197498A (en) Conductive adhesive
JP6701039B2 (en) Resin composition for semiconductor adhesion and semiconductor device
CN105304160B (en) Conductive adhesive and use its electronic unit
JP4235885B2 (en) Conductive paste
JP2005317491A (en) Conductive paste and electronic component mounting substrate using it

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right