JP2007197498A - Conductive adhesive - Google Patents

Conductive adhesive Download PDF

Info

Publication number
JP2007197498A
JP2007197498A JP2006014684A JP2006014684A JP2007197498A JP 2007197498 A JP2007197498 A JP 2007197498A JP 2006014684 A JP2006014684 A JP 2006014684A JP 2006014684 A JP2006014684 A JP 2006014684A JP 2007197498 A JP2007197498 A JP 2007197498A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive adhesive
diluent
diglycidyl ether
vapor pressure
hpa
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006014684A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Daiki Shiga
大樹 志賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2006014684A priority Critical patent/JP2007197498A/en
Publication of JP2007197498A publication Critical patent/JP2007197498A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive adhesive which has a long tack-free time and can improve workability, when semiconductor elements such as IC, or chip parts such as chip resisters and chip LED are adhered to lead frames, heat-releasing plates, or the like. <P>SOLUTION: This conductive adhesive comprising conductive powder (A), an epoxy resin (B) and a diluent (C) is characterized in that the contents of the components (A), (B) and (C) are 70 to 85 wt.%, 4 to 36 wt.% and 1 to 20 wt.%, respectively, and the diluent (C) is an organic compound having vapor pressure of ≤1.5 hPa at 20°C and vapor pressure of ≤15 hPa at 170°C. The diluent (C) preferably has viscosity of ≤0.1 Pa s at 25°C and a boiling point of ≥250°C, and includes aliphatic diol diglycidyl ethers, alicyclic diol diglycidyl ethers, and polyalkylene glycol diglycidyl ethers. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性接着剤に関し、さらに詳しくは、タックフリータイムが長く、IC等の半導体素子およびチップ抵抗、チップLED等のチップ部品をリ−ドフレ−ムや放熱板等に接着する際の作業性を向上できる導電性接着剤に関するものである。   The present invention relates to a conductive adhesive, and more specifically, has a long tack-free time, and is used when a semiconductor element such as an IC and a chip component such as a chip resistor or a chip LED are bonded to a lead frame or a heat sink. The present invention relates to a conductive adhesive that can improve workability.

近年、IC、LSI、LED等をはじめとする半導体素子は著しい発展をしており、大量生産が行われている。それに伴い、その量産における作業性の向上、および製造費の削減が重要な問題となっている。   In recent years, semiconductor elements such as ICs, LSIs, LEDs, and the like have been remarkably developed, and mass production is being performed. Accordingly, improvement of workability in mass production and reduction of manufacturing costs are important issues.

従来、これらの半導体素子をリ−ドフレ−ムや基板等に接着する方法としては、金−シリコン共晶はんだや錫−鉛はんだ等のはんだを用いることが主流であった。しかし、今までの方法は、金が高価であること、半導体素子とリ−ドフレ−ムや基板の熱膨張の差を吸収しきれず、半導体素子やはんだ類にひび割れが発生すること、耐熱性に欠けること、作業温度が比較的高温であること、半導体素子の電極を汚染しやすいこと等から、導電性接着剤を使用する方法が主流となってきている。   Conventionally, as a method for bonding these semiconductor elements to a lead frame, a substrate, or the like, it has been mainstream to use a solder such as a gold-silicon eutectic solder or a tin-lead solder. However, the conventional methods are expensive in gold, cannot absorb the difference in thermal expansion between the semiconductor element and the lead frame or the substrate, and cracks are generated in the semiconductor element and the solder. A method using a conductive adhesive has become the mainstream because it lacks, the working temperature is relatively high, and the electrodes of semiconductor elements are easily contaminated.

一般に使用されている導電性接着剤は、導電性粉体、有機樹脂、希釈剤、触媒(硬化促進剤)等から構成され、導電性粉体には、金、銀、銅、カ−ボン等が用いられている。また、有機樹脂にはエポキシ樹脂、フェノ−ル樹脂等の熱硬化性樹脂が多く使用されている。   Commonly used conductive adhesive is composed of conductive powder, organic resin, diluent, catalyst (curing accelerator), etc., and conductive powder includes gold, silver, copper, carbon, etc. Is used. In addition, thermosetting resins such as epoxy resins and phenol resins are often used as organic resins.

これらの導電性接着剤は、通常、厚膜スクリーン印刷機か自動塗布装置によってリードフレームや基板に塗布されており、導電性、接着強度や耐熱強度に優れるだけでなく、タックフリータイムの長いことが求められている。
ここでタックフリータイムとは、導電性接着剤の作業性を表す指標の一つであり、塗布した導電性接着剤の硬化が室温で進行して、接着剤表面に膜が形成されるまでの時間をいう。一般的には、導電性接着剤を塗布し、その表面を金属製の針でなぞり、針先に導電性接着剤が付着しなくなるまでに要した時間で表される。
導電性接着剤のタックフリータイムが短いと、接着剤表面に膜が形成された後に半導体素子およびチップ部品を搭載することによる、接続不良が発生する可能性がある。一方、タックフリータイムが長ければ、作業に時間的な余裕ができることから、導電性接着剤としてはタックフリータイムの長いものが好ましいとされている。
These conductive adhesives are usually applied to lead frames and substrates by thick film screen printers or automatic coating equipment, and not only have excellent conductivity, adhesive strength and heat resistance, but also have a long tack-free time. Is required.
Here, the tack free time is one of the indexes representing the workability of the conductive adhesive, and the curing of the applied conductive adhesive proceeds at room temperature until the film is formed on the adhesive surface. Say time. In general, the time is required until a conductive adhesive is applied, the surface is traced with a metal needle, and the conductive adhesive does not adhere to the needle tip.
If the tack-free time of the conductive adhesive is short, connection failure may occur due to mounting of the semiconductor element and the chip component after the film is formed on the adhesive surface. On the other hand, if the tack free time is long, time can be afforded for the work, and therefore, a conductive adhesive having a long tack free time is preferred.

これまでに導電性接着剤のタックフリータイムを延長する方法として、エポキシ樹脂を溶剤で希釈しないですむタイプの成分を採用した導電性接着剤の無溶剤化が提案されている(例えば、特許文献1参照)。ここには、導電性粉末、エポキシ樹脂の他に、ビスマレイミドとトリアジン樹脂モノマーとを主成分とする変性樹脂、アルミニウム化合物、及びケイ素化合物を含有する無溶剤型導電性接着剤が記載されている。
ところが、このような導電性接着剤によれば、ある程度タックフリータイムを長くすることが期待されるが、添加成分が多いためにコストや生産性の面で課題が残されていた。しかも、実施例によるとブチルカルビトールアセテートが配合されており無溶剤とは言い難い。
In the past, as a method for extending the tack-free time of a conductive adhesive, there has been proposed a solvent-free conductive adhesive that employs a component that does not require dilution of the epoxy resin with a solvent (for example, patent literature). 1). Here, in addition to conductive powder and epoxy resin, a modified resin mainly composed of bismaleimide and a triazine resin monomer, an aluminum compound, and a solventless conductive adhesive containing a silicon compound are described. .
However, according to such a conductive adhesive, it is expected that the tack-free time is lengthened to some extent. However, since there are many additive components, problems remain in terms of cost and productivity. Moreover, according to the examples, butyl carbitol acetate is blended and it is difficult to say that it is solvent-free.

このような状況下、添加成分が少なくてもタックフリータイムが十分に長く、コストや生産性の面でも優れた導電性接着剤の出現が切望されていた。
特開昭62−285968号公報
Under such circumstances, the appearance of a conductive adhesive that has a sufficiently long tack-free time and is excellent in terms of cost and productivity even when there are few additive components has been desired.
Japanese Patent Laid-Open No. 62-285968

本発明の目的は、このような状況に鑑み、タックフリータイムが長く、IC等の半導体素子およびチップ抵抗、チップLED等のチップ部品をリ−ドフレ−ムや放熱板等に接着する際の作業性を向上できる導電性接着剤を提供することにある。   In view of such circumstances, the object of the present invention is to achieve a long tack-free time and work when bonding a semiconductor element such as an IC and a chip component such as a chip resistor or a chip LED to a lead frame or a heat sink. An object of the present invention is to provide a conductive adhesive capable of improving the properties.

本発明者は、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ね、銀粉、エポキシ樹脂および希釈剤を含む導電性接着剤において、そのタックフリータイムを長くするため数多くの希釈剤を試験した結果、20℃、170℃における蒸気圧が特定値以下の有機化合物を選択し、これを特定量配合させることで、接着強度や電気抵抗等の諸特性を損なうことなく、導電性接着剤のタックフリータイムを延長させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventor conducted extensive research to achieve the above object, and in a conductive adhesive containing silver powder, an epoxy resin and a diluent, a number of diluents were tested in order to increase the tack-free time. Tack-free time of conductive adhesive without impairing various properties such as adhesive strength and electrical resistance by selecting an organic compound whose vapor pressure at 20 ° C and 170 ° C is less than a specific value and blending it with a specific amount. Has been found to be able to be extended, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の第1の発明によれば、導電性粉末(A)、エポキシ樹脂(B)および希釈剤(C)を含む導電性接着剤において、上記3成分の含有量は、(A)が70〜85重量%、(B)が4〜36重量%、(C)が1〜20重量%であり、かつ、希釈剤(C)は、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、170℃における蒸気圧が15hPa以下の有機化合物であることを特徴とする導電性接着剤が提供される。
また、本発明の第2の発明によれば、第1の発明において、導電性粉末(A)は、銀であることを特徴とする導電性接着剤が提供される。
That is, according to the first invention of the present invention, in the conductive adhesive containing the conductive powder (A), the epoxy resin (B) and the diluent (C), the content of the three components is (A) Is 70 to 85% by weight, (B) is 4 to 36% by weight, (C) is 1 to 20% by weight, and the diluent (C) has a vapor pressure at 20 ° C. of 1.5 hPa or less, 170 There is provided a conductive adhesive characterized by being an organic compound having a vapor pressure at 15 ° C of 15 hPa or less.
According to a second aspect of the present invention, there is provided the conductive adhesive according to the first aspect, wherein the conductive powder (A) is silver.

一方、本発明の第3の発明によれば、第1又は2の発明において、希釈剤(C)は、25℃における粘度が0.1Pa・s以下であることを特徴とする導電性接着剤が提供される。
また、本発明の第4の発明によれば、第1〜3のいずれかの発明において、希釈剤(C)は、沸点が250℃以上であることを特徴とする導電性接着剤が提供される。
また、本発明の第5の発明によれば、第1〜4のいずれかの発明において、希釈剤(C)は、脂肪族ジオールジグリシジルエーテル、脂環族ジオールジグリシジルエーテル又はポリアルキレングリコールジグリシジルエーテルから選ばれるいずれかであることを特徴とする導電性接着剤が提供される。
さらに、本発明の第6の発明によれば、第5の発明において、脂肪族ジオールジグリシジルエーテルが、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、又は1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルであることを特徴とする導電性接着剤が提供される。
On the other hand, according to the third invention of the present invention, in the first or second invention, the diluent (C) has a viscosity at 25 ° C. of 0.1 Pa · s or less. Is provided.
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the conductive adhesive according to any one of the first to third aspects, wherein the diluent (C) has a boiling point of 250 ° C. or higher. The
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the diluent (C) is an aliphatic diol diglycidyl ether, an alicyclic diol diglycidyl ether, or a polyalkylene glycol diester. A conductive adhesive is provided, which is any one selected from glycidyl ether.
Furthermore, according to the sixth invention of the present invention, in the fifth invention, the aliphatic diol diglycidyl ether is 1,6-hexanediol diglycidyl ether or 1,4-butanediol diglycidyl ether. A conductive adhesive is provided.

一方、本発明の第7の発明によれば、第1〜6のいずれかの発明において、そのタックフリータイムが60分以上であることを特徴とする導電性接着剤が提供される。   On the other hand, according to the seventh aspect of the present invention, there is provided the conductive adhesive according to any one of the first to sixth aspects, wherein the tack free time is 60 minutes or more.

本発明の導電性接着剤は、希釈剤として、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、かつ、170℃における蒸気圧が15hPa以下である特定の有機化合物を特定量含有しているので、タックフリータイムが飛躍的に向上したものとなり、この導電性接着剤をIC等の半導体素子、およびチップ抵抗、チップLED等のチップ部品とリ−ドフレ−ムや放熱板等の接着に用いることで、接着剤表面に膜が形成された後に半導体素子およびチップ部品を搭載することによる、接続不良を減らすことができる。
また、導電性接着剤の塗布後、半導体素子およびチップ部品を搭載、加熱硬化を行うまでの時間を延長することができるため、加熱硬化の一括処理量が増えることになり、生産性向上が期待できる。
The conductive adhesive of the present invention contains a specific amount of a specific organic compound having a vapor pressure at 20 ° C. of 1.5 hPa or less and a vapor pressure at 170 ° C. of 15 hPa or less as a diluent. By using this conductive adhesive for bonding semiconductor elements such as ICs, chip resistors, chip components such as chip LEDs, and lead frames, heat sinks, etc. Connection failure caused by mounting the semiconductor element and the chip component after the film is formed on the adhesive surface can be reduced.
In addition, after applying the conductive adhesive, it is possible to extend the time until the semiconductor element and chip parts are mounted and heat-cured, which increases the batch processing amount of heat-curing and is expected to improve productivity. it can.

以下、本発明の導電性接着剤について、詳細に説明する。本発明の導電性接着剤は、銀粉(A)、エポキシ樹脂(B)、および希釈剤(C)を含む導電性接着剤であって、希釈剤(C)として、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、かつ、170℃における蒸気圧が15hPa以下の希釈剤を特定量含有することを特徴としている。   Hereinafter, the conductive adhesive of the present invention will be described in detail. The conductive adhesive of the present invention is a conductive adhesive containing silver powder (A), epoxy resin (B), and diluent (C), and the vapor pressure at 20 ° C. is 1 as the diluent (C). It is characterized by containing a specific amount of a diluent having a vapor pressure of not more than 5 hPa and a vapor pressure at 170 ° C. of not more than 15 hPa.

すなわち、本発明において、導電性接着剤は、導電性粉末(A)、エポキシ樹脂(B)および希釈剤(C)を含む導電性接着剤において、上記3成分の含有量は、(A)が70〜85重量%、(B)が4〜36重量%、(C)が1〜20重量%であり、かつ、希釈剤(C)は、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、170℃における蒸気圧が15hPa以下の有機化合物であることを特徴とする。   That is, in the present invention, the conductive adhesive is a conductive adhesive containing the conductive powder (A), the epoxy resin (B) and the diluent (C). 70 to 85 wt%, (B) is 4 to 36 wt%, (C) is 1 to 20 wt%, and the diluent (C) has a vapor pressure at 20 ° C of 1.5 hPa or less, 170 ° C. It is an organic compound having a vapor pressure of 15 hPa or less.

(A)導電性粉末
本発明における導電性粉末は、その形状によって制限されるわけではなく、鱗粉状(フレーク状)と球状の単体、又は、これらの混合物を用いることができる。球状粉とフレーク状粉との混合物を配合した導電性接着剤であれば、印刷性に優れるだけでなく、接着膜の電気抵抗(シート抵抗値)を例えば300mΩ以下に低下できる場合がある。
(A) Conductive powder The conductive powder in the present invention is not limited by its shape, and scale-like (flakes) and spherical simple substances, or a mixture thereof can be used. In the case of a conductive adhesive in which a mixture of spherical powder and flaky powder is blended, not only is the printability excellent, but the electrical resistance (sheet resistance value) of the adhesive film may be reduced to, for example, 300 mΩ or less.

導電性粉末の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、半導体等の回路基板用接着剤であれば、平均粒径は30μm以下、好ましくは20μm以下、特に5μm以下が望ましい。細かい球状粉を用いるとチクソ比が上昇するので、印刷機には適したものとなるが、自動塗布装置には不向きである。しかし、球状粉に鱗粉状の粉末を混合するとチクソ比は適度に下がり、自動塗布装置に適した導電性接着剤になる。よって、導電性接着剤の塗布方法によって導電性粉末を適宜選択することが好ましい。   The average particle diameter of the conductive powder is not particularly limited. For example, in the case of an adhesive for a circuit board such as a semiconductor, the average particle diameter is 30 μm or less, preferably 20 μm or less, and particularly preferably 5 μm or less. When a fine spherical powder is used, the thixo ratio increases, so that it is suitable for a printing press, but is not suitable for an automatic coating apparatus. However, when scaly powder is mixed with spherical powder, the thixotropy is lowered moderately, resulting in a conductive adhesive suitable for an automatic coating apparatus. Therefore, it is preferable to select the conductive powder as appropriate depending on the method of applying the conductive adhesive.

また、導電性粉末の配合割合は、組成物全量に対して70〜85重量%の範囲内に設定される。導電性粉末が70重量%未満であると十分な電気伝導性を得ることができず、85重量%を超えると接着強度が著しく低下し、接着剤としての役割を果たさなくなる。特に好ましい導電性粉末の配合割合は、72〜83重量%の範囲である。   Moreover, the mixture ratio of electroconductive powder is set in the range of 70 to 85 weight% with respect to the composition whole quantity. When the conductive powder is less than 70% by weight, sufficient electrical conductivity cannot be obtained, and when it exceeds 85% by weight, the adhesive strength is remarkably lowered and the role as an adhesive is not fulfilled. The blending ratio of the conductive powder is particularly preferably 72 to 83% by weight.

導電性粉末は、銀、銅、ニッケルなどを用いることができるが、中でも銀が最も好ましい。銀としては、通常、鉛を含まない純粋な銀を用いるが、スズ、ビスマス、インジウム、パラジウムなどを第二成分とする合金を採用してもよい。ただし、これらスズなどの第二成分は5重量%以下であることが望ましい。   Silver, copper, nickel, or the like can be used as the conductive powder, but silver is most preferable. As silver, pure silver which does not contain lead is usually used, but an alloy containing tin, bismuth, indium, palladium or the like as a second component may be employed. However, the second component such as tin is desirably 5% by weight or less.

(B)エポキシ樹脂
本発明においてエポキシ樹脂には、公知のエポキシ樹脂全てが使用でき、特に制限はない。
(B) Epoxy resin In the present invention, any known epoxy resin can be used as the epoxy resin, and there is no particular limitation.

エポキシ樹脂の例として、主に電子材料の注型や接着に使用されているビスフェノ−ルAジグリシジルエ−テルをはじめ、ビスフェノ−ルFジグリシジルエ−テル、ノボラックグリシジルエ−テル、エポキシ化大豆油、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチルカルボキシレ−ト、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレ−ト、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン等の構造を有するエポキシ樹脂が挙げられる。本発明は導電性接着剤であるため、常温で液状のものが望ましい。また、これらのエポキシ樹脂は、単独でもよいが複数種を混合して用いても差し支えない。   Examples of epoxy resins include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, novolac glycidyl ether, epoxidized soybean oil, mainly used for casting and adhesion of electronic materials. , 4-epoxy-6-methylcyclohexylmethylcarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethylcarboxylate, and epoxy resin having a structure such as tetraglycidyldiaminodiphenylmethane. Since the present invention is a conductive adhesive, it is preferably liquid at room temperature. These epoxy resins may be used alone or in combination of a plurality of types.

また、接着の対象が電子材料であれば、塩素イオンをはじめとするイオン性不純物などが800ppm以下であることが望ましい。なお、エポキシ樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲内で、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂など公知の熱硬化性樹脂を配合してもよい。   Moreover, if the object of adhesion is an electronic material, it is desirable that ionic impurities including chlorine ions are 800 ppm or less. In addition, you may mix | blend well-known thermosetting resins, such as a phenol resin and an unsaturated polyester resin, in the epoxy resin in the range which does not impair the objective of this invention.

また、エポキシ樹脂の配合割合は、組成物全量に対して4〜36重量%の範囲内に設定される。エポキシ樹脂が4重量%未満であると十分な接着性を得ることができず、36重量%を超えると電気伝導性が著しく低下してしまう。特に好ましいエポキシ樹脂の配合割合は、10〜25重量%の範囲である。   Moreover, the mixture ratio of an epoxy resin is set in the range of 4-36 weight% with respect to the composition whole quantity. If the epoxy resin is less than 4% by weight, sufficient adhesion cannot be obtained, and if it exceeds 36% by weight, the electrical conductivity is remarkably lowered. A particularly preferred proportion of the epoxy resin is in the range of 10 to 25% by weight.

エポキシ樹脂の硬化剤(硬化促進剤)としては、加熱時(60〜300℃)にエポキシ樹脂と速やかに硬化反応を起こし、かつ室温で長期間の貯蔵安定性を満足できるものであれば特に制限はない。
一般的にはイミダゾ−ル類の2−エチル−4−メチルイミダゾ−ル、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾ−ル、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾ−ル、2−ヘプタデシルイミダゾ−ルや、フェノ−ルノボラック化合物、ジシアンジアミド、酸無水物系のテトラヒドロメチル無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、ルイス酸錯体のBF塩等を用いることができる。これらは単独でも複数種混合して用いても良い。これらの硬化剤(硬化促進剤)は、種類によって性能が異なるので添加量を規定できないが、エポキシ樹脂と化学量論組成にあった量が望ましい。
The curing agent (curing accelerator) of the epoxy resin is not particularly limited as long as it can rapidly cure with the epoxy resin during heating (60 to 300 ° C.) and can satisfy long-term storage stability at room temperature. There is no.
In general, imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-heptadecyl imidazole, phenol novolak compound, dicyandiamide, acid anhydride tetrahydromethyl phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, Lewis acid complex BF 3 salt, and the like can be used. . These may be used alone or in combination. Since these curing agents (curing accelerators) have different performance depending on the type, the amount to be added cannot be defined, but an amount suitable for the stoichiometric composition with the epoxy resin is desirable.

例えば、エポキシ樹脂と2−エチル−4−メチルイミダゾ−ルの硬化反応は、下記化学反応式で表されることが知られており、単独硬化(促進)剤として用いる場合、エポキシ樹脂100重量部に対して、2−エチル−4−メチルイミダゾ−ル2〜6重量部が適しているとされている。この他に、本発明では硬化促進作用が認められるもの、例えば、アミン塩、ブロックイソシアネ−ト等も使用できる。   For example, it is known that the curing reaction of epoxy resin and 2-ethyl-4-methylimidazole is represented by the following chemical reaction formula, and when used as a single curing (acceleration) agent, 100 parts by weight of epoxy resin On the other hand, 2 to 6 parts by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole is considered suitable. In addition, in the present invention, those which are recognized to have a curing accelerating action, such as amine salts and block isocyanates, can also be used.

Figure 2007197498
Figure 2007197498

(C)希釈剤
本発明において、希釈剤は、導電性接着剤の樹脂成分を溶解するための溶剤であり、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、かつ、170℃における蒸気圧が15hPa以下の特定の有機化合物が使用される。
(C) Diluent In the present invention, the diluent is a solvent for dissolving the resin component of the conductive adhesive, the vapor pressure at 20 ° C. is 1.5 hPa or less, and the vapor pressure at 170 ° C. is 15 hPa or less. Specific organic compounds are used.

この希釈剤は、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、170℃における蒸気圧が15hPa以下であり、しかもエポキシ樹脂と相溶性があるものであれば、その種類によって特に限定されるものではない。20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、170℃における蒸気圧が15hPa以下でなければならないのは、20℃において蒸気圧が大きいと、室温放置中の揮発量が多いため導電性接着剤塗布後すぐに表面が乾いてしまうためであり、170℃において蒸気圧が大きいと、硬化反応中の揮発量が多いため硬化物中に気泡(ボイド)を発生させてしまうためである。20℃における蒸気圧が1.5hPaを超えるか、170℃における蒸気圧が15hPaを超えるものでは、タックフリータイムを長く、且つ、十分な接着強度を得ることができない。希釈剤は、沸点が250℃以上であるものが好ましい。沸点が250℃未満であると、樹脂が充分に硬化する前に揮散して、十分な接着強度を得ることができない場合がある。   The diluent is not particularly limited depending on the type of the diluent as long as the vapor pressure at 20 ° C. is 1.5 hPa or less and the vapor pressure at 170 ° C. is 15 hPa or less and is compatible with the epoxy resin. . The vapor pressure at 20 ° C. must be 1.5 hPa or less, and the vapor pressure at 170 ° C. must be 15 hPa or less. If the vapor pressure is large at 20 ° C., the amount of volatilization during standing at room temperature is large. This is because the surface dries quickly, and if the vapor pressure is high at 170 ° C., the amount of volatilization during the curing reaction is large, and bubbles (voids) are generated in the cured product. When the vapor pressure at 20 ° C. exceeds 1.5 hPa or the vapor pressure at 170 ° C. exceeds 15 hPa, the tack-free time is long and sufficient adhesive strength cannot be obtained. The diluent preferably has a boiling point of 250 ° C. or higher. If the boiling point is less than 250 ° C., the resin volatilizes before sufficiently curing, and sufficient adhesive strength may not be obtained.

希釈剤は、常温で液状であり、25℃における粘度が0.1Pa・s以下であるものが好ましい。粘度が0.1Pa・sを超えるものを用いると、印刷性、塗布性を悪化させる場合がある。   The diluent is preferably liquid at room temperature and has a viscosity at 25 ° C. of 0.1 Pa · s or less. If the viscosity exceeds 0.1 Pa · s, printability and applicability may be deteriorated.

本発明において、好ましい希釈剤は、脂肪族ジオールジグリシジルエーテル、脂環族ジオールジグリシジルエーテル又はポリアルキレングリコールジグリシジルエーテルから選ばれるいずれかである。   In the present invention, a preferred diluent is any one selected from aliphatic diol diglycidyl ether, alicyclic diol diglycidyl ether, or polyalkylene glycol diglycidyl ether.

具体例としては、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルなどの脂肪族ジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルなどの脂環族ジオールジグリシジルエーテルを挙げることができる。1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルは、阪本薬品工業からSR−16H(25℃における粘度が0.025Pa・s)、SR−16HL(25℃における粘度が0.012Pa・s)として市販され、また、ナガセケムテックス(株)からデナコール EX−212Lとして、さらに、四日市合成(株)エポゴーセー(登録商標)HDとして市販されている。1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルは、ナガセケムテックス(株)からデナコール EX−214Lとして、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルは、EX−216Lとして市販されている。これらの中でも、全塩素含量が3%以下、さらには1%以下、特に0.2%以下であるものがより好ましい。   Specific examples include aliphatic diol diglycidyl ethers such as 1,6-hexanediol diglycidyl ether and 1,4-butanediol diglycidyl ether, and alicyclic diol diglycidyl ethers such as cyclohexanedimethanol diglycidyl ether. be able to. 1,6-hexanediol diglycidyl ether is commercially available from Sakamoto Yakuhin Kogyo as SR-16H (viscosity at 25 ° C. is 0.025 Pa · s), SR-16HL (viscosity at 25 ° C. is 0.012 Pa · s), In addition, it is commercially available from Nagase ChemteX Corp. as Denacol EX-212L, and also as Yokkaichi Gosei Co., Ltd. Epo Gosei (registered trademark) HD. 1,4-butanediol diglycidyl ether is commercially available from Nagase ChemteX Corp. as Denacol EX-214L, and cyclohexanedimethanol diglycidyl ether is commercially available as EX-216L. Among these, those having a total chlorine content of 3% or less, more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.2% or less are more preferable.

また、ポリアルキレングリコールジグリシジルエーテルとしては、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどを挙げることができる。ジエチレングリコールジグリシジルエーテルは、阪本薬品工業からSR−2EG(25℃における粘度が0.022Pa・s)として市販され、また、ナガセケムテックス(株)からデナコール EX−850Lとして市販されている。また、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルは、阪本薬品工業からSR−8EG(25℃における粘度が0.095Pa・s)、SR−8EGS(25℃における粘度が0.060Pa・s)として市販されている。トリプロピレングリコールジグリシジルエーテルには、阪本薬品工業のSR−TPG(25℃における粘度が0.03Pa・s)、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルには、SR−4PG(25℃における粘度が0.053Pa・s)がある。これらの中でも、全塩素含量が3%以下、さらには1%以下、特に0.2%以下であるものがより好ましい。   Examples of the polyalkylene glycol diglycidyl ether include diethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether. Diethylene glycol diglycidyl ether is commercially available from Sakamoto Yakuhin Kogyo as SR-2EG (viscosity at 25 ° C. of 0.022 Pa · s) and from Nagase ChemteX Corp. as Denacol EX-850L. Polyethylene glycol diglycidyl ether is commercially available from Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd. as SR-8EG (viscosity at 25 ° C. is 0.095 Pa · s) and SR-8EGS (viscosity at 25 ° C. is 0.060 Pa · s). For tripropylene glycol diglycidyl ether, SR-TPG from Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd. (viscosity at 25 ° C. is 0.03 Pa · s), for polypropylene glycol diglycidyl ether, SR-4PG (viscosity at 25 ° C. is 0.053 Pa · s). s). Among these, those having a total chlorine content of 3% or less, more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.2% or less are more preferable.

本発明において希釈剤は、組成物全量に対して1〜20重量%、好ましくは3〜10重量%配合する。希釈剤が1重量%未満であると導電性接着剤の粘度が高くなって、印刷性、塗布性を悪化させる場合があり、逆に、20重量%を超えて配合すると粘度が低くなりすぎて、印刷時および塗布時にダレや接着力の低下などを引き起こすことがある。   In the present invention, the diluent is blended in an amount of 1 to 20% by weight, preferably 3 to 10% by weight, based on the total amount of the composition. If the diluent is less than 1% by weight, the viscosity of the conductive adhesive may increase, and printability and applicability may be deteriorated. Conversely, if it exceeds 20% by weight, the viscosity becomes too low. , It may cause sagging and a decrease in adhesive strength during printing and application.

本発明の導電性接着剤は、タックフリータイムが長ければ長いほど好ましく、60分以上、より好ましくは120分以上、特に200分以上であることが望ましい。タックフリータイムは、一般的には、基板に導電性接着剤を塗布し、その表面を金属製の針でなぞって測定し、針先に導電性接着剤が付着しなくなるまでに要した時間で表されるが、本発明においては、タックフリータイムは次の方法で測定するものとする。   The conductive adhesive of the present invention preferably has a longer tack-free time, and is preferably 60 minutes or longer, more preferably 120 minutes or longer, particularly 200 minutes or longer. The tack-free time is generally the time required to apply a conductive adhesive to a substrate, trace the surface with a metal needle and measure the surface until the conductive adhesive does not adhere to the needle tip. In the present invention, the tack free time is measured by the following method.

まず、2.5cm角の銅基板上に導電性接着剤をスクリーン印刷で塗布する。塗布してから、0、30、60、90、120分放置後に、1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオ−ブン中に30分間放置して導電性接着剤を硬化させ、室温まで冷却する。その後、基板に対し、水平方向からシリコンチップに力を加え、シリコンチップがはがれたときの力を接着強度として測定する。こうして、10点測定した平均値が塗布後0分の10%減となる時間をタックフリータイムと規定する。タックフリータイムが60分以上であれば良と評価できる。これに対して、タックフリータイムが60分未満であると作業性が低下するので好ましくない。
本評価方法は、必ずしも一般的な評価方法とは言えないが、IC等の半導体素子およびチップ抵抗、チップLED等のチップ部品とリ−ドフレ−ムや放熱板等を接着するという実使用条件に、より適った方法であると言える。
First, a conductive adhesive is applied on a 2.5 cm square copper substrate by screen printing. After coating, after standing for 0, 30, 60, 90, 120 minutes, place a 1.5 mm square silicon chip and leave it in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to cure the conductive adhesive. Allow to cool. Thereafter, a force is applied to the silicon chip from the horizontal direction with respect to the substrate, and the force when the silicon chip is peeled is measured as an adhesive strength. Thus, the time when the average value measured at 10 points is reduced by 10% after application is defined as the tack-free time. If the tack free time is 60 minutes or more, it can be evaluated as good. On the other hand, if the tack free time is less than 60 minutes, the workability deteriorates, which is not preferable.
Although this evaluation method is not necessarily a general evaluation method, it is subject to actual use conditions in which a semiconductor element such as an IC and a chip resistor, a chip component such as a chip LED, and a lead frame or a heat sink are bonded. It can be said that it is a more suitable method.

本発明の導電性接着剤は、半導体素子及びチップ抵抗、チップLED等のチップ部材をリードフレーム、プリント配線基板(PWB)、フレキシブルプリント基板(FPC)等の回路基板に接着する際や、回路基板上で配線する際に使用される。回路上の配線は、銅箔板が主流であるが、ジャンパー用やスルーホール用、ビアホール用などにも使用できる。   The conductive adhesive of the present invention is used when bonding a chip member such as a semiconductor element, a chip resistor, or a chip LED to a circuit board such as a lead frame, a printed wiring board (PWB), or a flexible printed board (FPC). Used when wiring above. Copper wiring is the mainstream for wiring on the circuit, but it can also be used for jumpers, through holes, and via holes.

この接着剤は、通常、回路基板に直接、塗布して用いられる。上記の半導体素子やチップ部品、基板上の配線など部品の製造工程や実装工程において、導電性接着剤には、ハンダ炉やワイヤーボンディング工程を経て200〜300℃程度の加熱処理が幾度となく加えられるが、本発明の導電性接着剤であれば、導電性、接着性のいずれも低下させることはない。   This adhesive is usually applied directly to a circuit board. In the manufacturing process and mounting process of components such as the above semiconductor elements, chip components, and wiring on the substrate, the conductive adhesive is repeatedly subjected to heat treatment at about 200 to 300 ° C. through a solder furnace and a wire bonding process. However, with the conductive adhesive of the present invention, neither conductivity nor adhesiveness is reduced.

以下に、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。なお、実験例1〜3、比較例1〜7の各試料は混練後、下記に示す方法で評価を行った。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, each sample of Experimental Examples 1-3 and Comparative Examples 1-7 was evaluated by the method shown below after kneading.

[試料の評価]
(1)シ−ト抵抗値の測定
アルミナ基板上の2mm離れた電極間に、該電極に重ねて幅2mm、長さ5mmの長方形状に導電性接着剤をスクリーン印刷で塗布した。150℃のオ−ブン中に30分間放置して導電性接着剤を硬化させ、室温まで冷却し電極間の抵抗値を測定した。10点測定した平均値が、500mΩ未満であれば良(○)とし、500mΩ以上であれば不可(×)とした。
[Sample evaluation]
(1) Measurement of sheet resistance value A conductive adhesive was applied by screen printing in a rectangular shape having a width of 2 mm and a length of 5 mm so as to overlap the electrodes between the electrodes 2 mm apart on the alumina substrate. The conductive adhesive was cured by being left in an oven at 150 ° C. for 30 minutes, cooled to room temperature, and the resistance value between the electrodes was measured. When the average value measured at 10 points was less than 500 mΩ, it was judged as good (◯), and when it was 500 mΩ or more, it was judged as impossible (×).

(2)接着強度の測定
2.5cm角の銅基板上に導電性接着剤をスクリーン印刷で塗布した。1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオ−ブン中に30分間放置して導電性接着剤を硬化させ、室温まで冷却した。その後、基板に対し、水平方向からシリコンチップに力を加え、シリコンチップがはがれたときの力を接着強度として測定した。10点測定した平均値が25N(ニュートン)以上であれば良(○)とし、25N未満であれば不可(×)とした。
(2) Measurement of adhesive strength A conductive adhesive was applied to a 2.5 cm square copper substrate by screen printing. A 1.5 mm square silicon chip was placed and allowed to stand in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to cure the conductive adhesive and cooled to room temperature. Thereafter, a force was applied to the silicon chip from the horizontal direction with respect to the substrate, and the force when the silicon chip was peeled was measured as the adhesive strength. When the average value measured at 10 points was 25N (Newton) or more, it was judged as good (◯), and when it was less than 25N, it was judged as impossible (x).

(3)耐熱強度の測定
2.5cm角の銅基板上に導電性接着剤をスクリーン印刷で塗布した。1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオ−ブン中に30分間放置して導電性接着剤を硬化させ、室温まで冷却した。その後、260℃に加熱してあるホットプレ−ト上に上記基板を30秒間放置し、加熱しながら基板に対し、水平方向からシリコンチップに力を加え、シリコンチップが剥がれたときの力を耐熱強度として測定した。10点測定した平均値が5N以上であれば良(○)とし、5N未満であれば不可(×)とした。
(3) Measurement of heat resistance strength A conductive adhesive was applied on a 2.5 cm square copper substrate by screen printing. A 1.5 mm square silicon chip was placed and allowed to stand in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to cure the conductive adhesive and cooled to room temperature. Thereafter, the substrate is allowed to stand for 30 seconds on a hot plate heated to 260 ° C., and a force is applied to the silicon chip from the horizontal direction against the substrate while being heated. As measured. If the average value measured at 10 points was 5N or more, it was judged as good (◯), and if it was less than 5N, it was judged as impossible (x).

(4)タックフリータイムの測定
2.5cm角の銅基板上に導電性接着剤をスクリーン印刷で塗布した。塗布してから、0、30、60、90、120分放置後に、1.5mm角のシリコンチップを載せ、150℃のオ−ブン中に30分間放置して導電性接着剤を硬化させ、室温まで冷却した。その後、基板に対し、水平方向からシリコンチップに力を加え、シリコンチップがはがれたときの力を接着強度として測定した。10点測定した平均値が塗布後0分の10%減となる時間をタックフリータイム規定した。タックフリータイムが60分以上であれば良(○)とし、1時間未満であれば不可(×)とした。
(4) Measurement of tack free time A conductive adhesive was applied to a 2.5 cm square copper substrate by screen printing. After coating, after standing for 0, 30, 60, 90, 120 minutes, place a 1.5 mm square silicon chip and leave it in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to cure the conductive adhesive. Until cooled. Thereafter, a force was applied to the silicon chip from the horizontal direction with respect to the substrate, and the force when the silicon chip was peeled was measured as the adhesive strength. The time when the average value measured at 10 points was reduced by 10% after application was defined as tack-free time. When the tack free time was 60 minutes or more, it was judged as good (◯), and when it was less than 1 hour, it was judged as impossible (x).

(5)総合評価
上記の4項目がすべて良(○)であれば合格(○)とし、1つでも条件が満たさないものは不可(×)とした。
(5) Comprehensive evaluation If all the above four items are good (◯), it is judged as pass (◯), and even one that does not satisfy the condition is not acceptable (×).

(実施例1〜3)
下記の銀粉成分、エポキシ樹脂成分、硬化剤・硬化促進剤成分、及び希釈剤成分を原料として、表1中の重量割合に従って配合し、接着剤組成物を調製し、3本ロール型混練機を使用して混練し、本発明の導電性接着剤を得た。
銀粉には平均粒径が1.45μmの鱗粉状銀粉(商品名:TC−25A、株式会社徳力化学研究所製)を使用した。エポキシ樹脂には、ビスフェノ−ルAジグリシジルエ−テル型エポキシ樹脂(商品名:エピコート828、ジャパンエポキシレジン株式会社製)を使用した。また、エポキシ樹脂の硬化剤には、ジシアンジアミド、その他に硬化促進剤として2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾ−ルを使用した。
一方、希釈剤は、希釈剤a1としてSR−16H(1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、蒸気圧1.0hPa(20℃)、蒸気圧7.0hPa(170℃)、塩素含量7.0%、沸点250℃以上、阪本薬品工業株式会社製)を使用し、また、希釈剤a2としてSR−16HL(1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、蒸気圧1.0hPa(20℃)、蒸気圧7.0hPa(170℃)、塩素含量0.3%、沸点250℃以上、阪本薬品工業株式会社製の低塩素品)を使用した。
この接着剤を用いて、アルミナ基板に印刷し、上記の条件で体積抵抗率を測定した。また銅基板に滴下し、硬化させてから、接着強度、熱間強度を測定した。リードフレーム上に本発明の導電性接着剤を滴下し、半導体チップをマウントし、硬化後、熱伝導率を測定した。さらに、本発明の導電性接着剤をスクリーンにより基板へ印刷し、印刷性を評価した。この結果は表2に記した。
(Examples 1-3)
Using the following silver powder component, epoxy resin component, curing agent / curing accelerator component, and diluent component as raw materials, blended according to the weight proportions in Table 1, prepared an adhesive composition, a three-roll kneader It was used and kneaded to obtain the conductive adhesive of the present invention.
As the silver powder, scaly silver powder having an average particle diameter of 1.45 μm (trade name: TC-25A, manufactured by Tokuru Chemical Laboratory Co., Ltd.) was used. As the epoxy resin, bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin (trade name: Epicoat 828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used. Further, dicyandiamide was used as a curing agent for the epoxy resin, and 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole was used as a curing accelerator.
On the other hand, the diluent is SR-16H (1,6-hexanediol diglycidyl ether, vapor pressure 1.0 hPa (20 ° C.), vapor pressure 7.0 hPa (170 ° C.), and chlorine content 7.0% as diluent a1. , Boiling point 250 ° C. or higher, manufactured by Sakamoto Yakuhin Kogyo Co., Ltd., and SR-16HL (1,6-hexanediol diglycidyl ether, vapor pressure 1.0 hPa (20 ° C.), vapor pressure 7 as diluent a2. 0.0 hPa (170 ° C.), chlorine content 0.3%, boiling point 250 ° C. or higher, low chlorine product manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.).
Using this adhesive, printing was performed on an alumina substrate, and the volume resistivity was measured under the above conditions. Moreover, after dripping on the copper substrate and making it harden | cure, the adhesive strength and the hot strength were measured. The conductive adhesive of the present invention was dropped on the lead frame, the semiconductor chip was mounted, and after curing, the thermal conductivity was measured. Furthermore, the conductive adhesive of the present invention was printed on a substrate with a screen, and the printability was evaluated. The results are shown in Table 2.

(比較例1〜3)
表1に記載したように希釈剤成分の種類を変えた以外は、上記の実施例と同様にして配合し、3本ロール型混練機を使用して混練し、比較用の導電性接着剤を得た。
なお、希釈剤bとしてn−ブチルグリシジルエーテル(鹿1級、蒸気圧5.0hPa(20℃)、沸点164℃、関東化学株式会社製)、希釈剤cとしてイソプロピルグリシジルエ−テル(蒸気圧12.5hPa(25℃)、沸点157℃、関東化学株式会社製)、希釈剤dとして2−n−ブトキシエタノール(鹿特級、蒸気圧0.8hPa(20℃)、蒸気圧55.0hPa(170℃)、沸点170.2℃、関東化学株式会社製)を使用した。
この接着剤を用いて、上記の条件で体積抵抗率、接着強度、熱間強度、熱伝導率を測定し、さらに、印刷性を評価した。結果は表2に記した。
(Comparative Examples 1-3)
As shown in Table 1, except that the type of the diluent component was changed, it was blended in the same manner as in the above examples, kneaded using a three-roll kneader, and a conductive adhesive for comparison was used. Obtained.
Note that n-butyl glycidyl ether (deer grade 1, vapor pressure 5.0 hPa (20 ° C.), boiling point 164 ° C., manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as diluent b, and isopropyl glycidyl ether (vapor pressure 12) as diluent c. 0.5 hPa (25 ° C.), boiling point 157 ° C., manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., 2-n-butoxyethanol (deer grade, vapor pressure 0.8 hPa (20 ° C.), vapor pressure 55.0 hPa (170 ° C.) as diluent d ), Boiling point 170.2 ° C., manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.).
Using this adhesive, volume resistivity, adhesive strength, hot strength, and thermal conductivity were measured under the above conditions, and printability was further evaluated. The results are shown in Table 2.

(比較例4〜7)
表1に記載したように、銀粉などの量を変えるか(比較例4、5)、希釈剤a1の量を変えた(比較例6、7)以外は、上記の実施例と同様にして配合し、3本ロール型混練機を使用して混練し、比較用の導電性接着剤を得た。
この接着剤を用いて、上記の条件で体積抵抗率、接着強度、熱間強度、熱伝導率を測定し、さらに、印刷性を評価した。結果は表2に記した。
(Comparative Examples 4-7)
As described in Table 1, the amount of silver powder or the like was changed (Comparative Examples 4 and 5) or the amount of the diluent a1 was changed (Comparative Examples 6 and 7). And it knead | mixed using a 3 roll type kneader, and obtained the conductive adhesive for a comparison.
Using this adhesive, volume resistivity, adhesive strength, hot strength, and thermal conductivity were measured under the above conditions, and printability was further evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2007197498
Figure 2007197498

Figure 2007197498
Figure 2007197498

表2から明らかなように、実施例1〜3の導電性接着剤は、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、かつ、170℃における蒸気圧が15hPa以下、沸点250℃以上)を配合しているため、導電性、接着性、耐熱性、作業性(タックフリータイム)のいずれも優れていることが分かる。
これに対し、比較例1、2は、20℃における蒸気圧が1.5hPa以上であるため、作業性が不可であった。比較例3は、希釈剤の170℃における蒸気圧が15hPaを超え、沸点が170.2℃と低かったため、作業性が不可であった。また、比較例4、5は、銀粉の使用量が適切ではなかったので、導電性が不可であるか、接着性、耐熱性が不可となった。さらに、比較例6、7は、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルの使用量が適切ではなかったので、導電性が不可であるか、接着性、耐熱性が不可となった。
As is apparent from Table 2, the conductive adhesives of Examples 1 to 3 were 1,6-hexanediol diglycidyl ether (vapor pressure at 20 ° C. was 1.5 hPa or less and vapor pressure at 170 ° C. was 15 hPa. Hereinafter, it is understood that all of conductivity, adhesiveness, heat resistance, and workability (tack free time) are excellent.
On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 were inoperable because the vapor pressure at 20 ° C. was 1.5 hPa or more. In Comparative Example 3, the vapor pressure at 170 ° C. of the diluent exceeded 15 hPa and the boiling point was as low as 170.2 ° C., so workability was not possible. Moreover, since the usage-amount of silver powder was not appropriate in Comparative Examples 4 and 5, electroconductivity was impossible or adhesiveness and heat resistance became improper. Further, in Comparative Examples 6 and 7, since the amount of 1,6-hexanediol diglycidyl ether used was not appropriate, the conductivity was not possible, or the adhesiveness and heat resistance were not possible.

Claims (7)

導電性粉末(A)、エポキシ樹脂(B)および希釈剤(C)を含む導電性接着剤において、
上記3成分の含有量は、(A)が70〜85重量%、(B)が4〜36重量%、(C)が1〜20重量%であり、かつ、希釈剤(C)は、20℃における蒸気圧が1.5hPa以下、170℃における蒸気圧が15hPa以下の有機化合物であることを特徴とする導電性接着剤。
In the conductive adhesive containing the conductive powder (A), the epoxy resin (B) and the diluent (C),
The contents of the three components are (A) 70 to 85% by weight, (B) 4 to 36% by weight, (C) 1 to 20% by weight, and the diluent (C) is 20% by weight. A conductive adhesive, characterized in that it is an organic compound having a vapor pressure at 1.5 ° C of 1.5 hPa or less and a vapor pressure at 170 ° C of 15 hPa or less.
導電性粉末(A)は、銀であることを特徴とする請求項1に記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to claim 1, wherein the conductive powder (A) is silver. 希釈剤(C)は、25℃における粘度が0.1Pa・s以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to claim 1, wherein the diluent (C) has a viscosity at 25 ° C. of 0.1 Pa · s or less. 希釈剤(C)は、沸点が250℃以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to any one of claims 1 to 3, wherein the diluent (C) has a boiling point of 250 ° C or higher. 希釈剤(C)は、脂肪族ジオールジグリシジルエーテル、脂環族ジオールジグリシジルエーテル又はポリアルキレングリコールジグリシジルエーテルから選ばれるいずれかであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の導電性接着剤。   The diluent (C) is any one selected from aliphatic diol diglycidyl ether, alicyclic diol diglycidyl ether, and polyalkylene glycol diglycidyl ether. Conductive adhesive. 脂肪族ジオールジグリシジルエーテルが、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、又は1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルであることを特徴とする請求項5に記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to claim 5, wherein the aliphatic diol diglycidyl ether is 1,6-hexanediol diglycidyl ether or 1,4-butanediol diglycidyl ether. そのタックフリータイムが、60分以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to any one of claims 1 to 6, wherein the tack-free time is 60 minutes or more.
JP2006014684A 2006-01-24 2006-01-24 Conductive adhesive Pending JP2007197498A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006014684A JP2007197498A (en) 2006-01-24 2006-01-24 Conductive adhesive

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006014684A JP2007197498A (en) 2006-01-24 2006-01-24 Conductive adhesive

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007197498A true JP2007197498A (en) 2007-08-09

Family

ID=38452423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006014684A Pending JP2007197498A (en) 2006-01-24 2006-01-24 Conductive adhesive

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007197498A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013214434A (en) * 2012-04-03 2013-10-17 Sony Corp Laminate structure manufacturing method, laminate structure and electronic apparatus
WO2015182730A1 (en) * 2014-05-29 2015-12-03 田中貴金属工業株式会社 Thermoconductive electroconductive adhesive composition
KR20210025003A (en) 2018-06-26 2021-03-08 나믹스 가부시끼가이샤 Conductive paste for vacuum printing

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013214434A (en) * 2012-04-03 2013-10-17 Sony Corp Laminate structure manufacturing method, laminate structure and electronic apparatus
WO2015182730A1 (en) * 2014-05-29 2015-12-03 田中貴金属工業株式会社 Thermoconductive electroconductive adhesive composition
JP2015224329A (en) * 2014-05-29 2015-12-14 田中貴金属工業株式会社 Thermally conductive electrically conductive adhesive composition
US10633564B2 (en) 2014-05-29 2020-04-28 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Thermally and electrically conductive adhesive composition
KR20210025003A (en) 2018-06-26 2021-03-08 나믹스 가부시끼가이샤 Conductive paste for vacuum printing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101225497B1 (en) Conductive paste and the manufacturing method thereof and the electric device comprising thereof
WO2012118061A1 (en) Electrically conductive composition
JP5979237B2 (en) Conductive adhesive
US20080261049A1 (en) Electroconductive Paste and Substrate Using the Same for Mounting Electronic Parts
WO2016158828A1 (en) Resin composition, electroconductive resin composition, adhesive, electroconductive adhesive, paste for forming electrodes, and semiconductor device
JP3837858B2 (en) Conductive adhesive and method of using the same
JP5200662B2 (en) Conductive adhesive and electronic components
JP4872220B2 (en) Conductive adhesive
JP5169517B2 (en) Conductive adhesive and electronic components
JP2007277384A (en) Electroconductive adhesive
JP3975728B2 (en) Conductive adhesive and circuit board such as semiconductor using the same
JP6383183B2 (en) Conductive adhesive and electronic component using the same
JP2007197498A (en) Conductive adhesive
JP2009205899A (en) Conductive paste composition and printed-wiring board
CN109509569B (en) Method for connecting electrodes and method for manufacturing electronic substrate
CN110692126A (en) Resin composition for bonding electronic component, method for bonding small chip component, electronic circuit board, and method for manufacturing electronic circuit board
JP6636874B2 (en) Resin composition for bonding electronic components, bonding method for electronic components, and electronic component mounting substrate
JP2006143762A (en) Conductive adhesive
JP2005317491A (en) Conductive paste and electronic component mounting substrate using it
JP5119766B2 (en) Conductive adhesive and electronic component using the same
JP3484957B2 (en) Conductive adhesive
JP5887541B2 (en) Thermosetting resin composition
JP5861600B2 (en) Conductive adhesive composition and electronic device using the same
JP5691450B2 (en) Conductive resin composition for bump formation
JP2010055787A (en) Silver paste