KR20210025003A - Conductive paste for vacuum printing - Google Patents

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노리유키 사카이
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Abstract

이하와 같은 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 제공한다. 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 진공 인쇄시 감압 분위기에서는, 용제가 휘발되기 어려워, 도전성 페이스트의 점도의 상승이 억제되고, 진공 인쇄에 있어서의 인쇄성을 양호하게 유지할 수 있다. 또한, 가열 경화시에는 용제가 충분히 휘발되어, 피인쇄물에 대한 우수한 접착성이 발휘된다. 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 (A) 도전성 필러와, (B) 열경화성 수지와, (C) 경화제와, (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제를 포함한다.The following conductive paste for vacuum printing is provided. In this conductive paste for vacuum printing, the solvent is less likely to be volatilized in a reduced pressure atmosphere during vacuum printing, the increase in the viscosity of the conductive paste is suppressed, and the printability in vacuum printing can be maintained satisfactorily. In addition, during heat curing, the solvent is sufficiently volatilized, and excellent adhesion to the object to be printed is exhibited. The conductive paste for vacuum printing contains (A) a conductive filler, (B) a thermosetting resin, (C) a curing agent, and (D) a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C.

Description

진공 인쇄용 도전성 페이스트Conductive paste for vacuum printing

본 개시는 진공 인쇄용 도전성 페이스트에 관한 것이다.The present disclosure relates to a conductive paste for vacuum printing.

전자 기기의 고속화 및 고기능화의 요구에 따라, 전자 디바이스에도 고밀도 실장이 요구되고 있다. 고밀도 실장을 실현하는 기술로서, 이하와 같은 복수의 기판을 적층 실장하기 위한 3차원 실장의 기술이 개발되고 있다. 이 기술에서는, 기판에 미세한 홈 및 관통공을 형성함과 함께, 이 홈 및 관통공에 전극 및 배선을 형성한다.In accordance with the demand for high-speed and high-functionalization of electronic devices, high-density mounting is also required for electronic devices. As a technology for realizing high-density mounting, a three-dimensional mounting technology for stacking and mounting a plurality of substrates as described below has been developed. In this technique, while forming fine grooves and through holes in the substrate, electrodes and wirings are formed in these grooves and through holes.

전자 부품에 사용되는 기판의 미세한 홈 및 관통공에는, 도전재와 수지를 포함하는 도전성 페이스트가 충전되어 경화된다. 이에 관해, 전자 기기의 신뢰성의 관점에서, 경화물 중에 보이드가 잔존하는 것은 바람직하지 않다. 이에, 미세한 홈 및 관통공에 충전된 도전성 페이스트 중의 보이드를 저감하기 위해, 이하와 같은 진공 인쇄법이 채용되고 있다. 이 방법에서는, 감압 분위기하에서 도전성 페이스트를 기판에 도포 또는 충전한다. A conductive paste containing a conductive material and a resin is filled and cured in the fine grooves and through holes of the substrate used for the electronic component. In this regard, it is not preferable that voids remain in the cured product from the viewpoint of reliability of the electronic device. Accordingly, in order to reduce voids in the conductive paste filled in fine grooves and through holes, the following vacuum printing method is employed. In this method, a conductive paste is applied or filled on a substrate in a reduced pressure atmosphere.

진공 인쇄법에서는, 대기압보다 압력이 낮은 감압하 또는 진공하에 있어서, 인쇄 장치의 스퀴지 등을 이용하여, 피인쇄물인 기판에 도전성 페이스트 등이 도포 또는 충전된다. 여기서, 대기압은 표준 기압 101.325kPa이다. 본 명세서에 있어서 진공 인쇄란, 대기압보다 낮은 50kPa 이하의 압력 분위기(이하, 「감압 분위기」 또는 「진공 분위기」라고도 한다)에 있어서, 피인쇄물에 페이스트를 도포, 부착, 또는 충전하는 것을 의미한다.In the vacuum printing method, a conductive paste or the like is applied or filled on a substrate, which is an object to be printed, using a squeegee or the like of a printing apparatus under reduced pressure or vacuum, which is lower than atmospheric pressure. Here, the atmospheric pressure is a standard atmospheric pressure of 101.325 kPa. In the present specification, vacuum printing refers to applying, attaching, or filling a paste to a printed object in a pressure atmosphere of 50 kPa or less (hereinafter, also referred to as “pressure-sensitive atmosphere” or “vacuum atmosphere”) lower than atmospheric pressure.

그러나 진공 인쇄법에 의해, 기판 등의 피인쇄물에 페이스트를 도포 또는 충전하는 경우, 분위기가 50kPa 이하인 감압 분위기이기 때문에, 페이스트 중의 용제가 휘발되기 쉽다. 이 때문에, 페이스트의 점도가 상승하고, 인쇄성이 저하된다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 스루홀 또는 비아홀용 도전성 페이스트가 개시되어 있다. 이 도전성 페이스트는 증기압의 낮은 케톤류 등을 용제로서 포함하고 있어도 된다. 또한, 특허문헌 2에는, 택 프리 타임을 길게 하기 위한 도전성 접착제가 개시되어 있다. 이 도전성 접착제는 도전성 분말과, 에폭시 수지와, 희석제를 포함한다. 희석제는 20℃에 있어서의 증기압이 150Pa(1.5hPa) 이하이고, 170℃에 있어서의 증기압이 1500Pa(15hPa) 이하인 유기 화합물이다. 또한, 특허문헌 3에는, 단차나 곡면에 있어서도 기판과의 접착성을 양호하게 하는 것을 목적으로 하는 인쇄용 접착제층 형성 잉크가 개시되어 있다. 이 인쇄용 접착제층 형성 잉크는 도전성 입자와, 경화성 수지와, 분산제와, 용매를 포함하고, 상기 용매의 증기압이 1.34×103Pa 미만(25℃)이다.However, in the case of applying or filling the paste to a printed object such as a substrate by the vacuum printing method, since the atmosphere is a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less, the solvent in the paste is liable to volatilize. For this reason, the viscosity of the paste increases, and the printability decreases. For example, in Patent Document 1, a conductive paste for through holes or via holes is disclosed. This conductive paste may contain ketones having a low vapor pressure as a solvent. In addition, in Patent Document 2, a conductive adhesive for prolonging the tack-free time is disclosed. This conductive adhesive contains a conductive powder, an epoxy resin, and a diluent. The diluent is an organic compound having a vapor pressure at 20°C of 150 Pa (1.5 hPa) or less and a vapor pressure at 170°C of 1500 Pa (15 hPa) or less. Further, Patent Document 3 discloses an ink for forming an adhesive layer for printing for the purpose of improving the adhesion to a substrate even in a step or curved surface. This ink for forming an adhesive layer for printing contains conductive particles, a curable resin, a dispersant, and a solvent, and the vapor pressure of the solvent is less than 1.34×103 Pa (25° C.).

일본 공개특허공보 2006-147378호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-147378 일본 공개특허공보 2007-197498호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-197498 일본 공개특허공보 2013-175559호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-175559

그러나, 특허문헌 1에는, 도전성 페이스트에 사용되는 용제의 증기압이 구체적으로 기재되어 있지 않고, 용제로서 케톤류도 예시되고 있다. 예를 들면, 케톤류의 1종인 아세톤의 20℃의 증기압은 24×103Pa(181㎜Hg(20℃))이다. 따라서, 대기압보다 낮은 감압 분위기에서는, 도전성 페이스트 중의 용제가 휘발하여, 도전성 페이스트의 점도가 상승하고, 진공 인쇄에 있어서는 인쇄성이 저하된다.However, in Patent Document 1, the vapor pressure of the solvent used for the conductive paste is not specifically described, and ketones are also exemplified as the solvent. For example, the vapor pressure of acetone, one kind of ketones, at 20°C is 24×103 Pa (181 mmHg (20°C)). Therefore, in a reduced pressure atmosphere lower than atmospheric pressure, the solvent in the conductive paste volatilizes, the viscosity of the conductive paste increases, and in vacuum printing, the printability decreases.

특허문헌 2에 개시되어 있는 도전성 접착제에 포함되어 있는 희석제의 20℃에 있어서의 증기압은, 구체적으로는, 80Pa(0.8hPa)에서 700Pa(7.0hPa)이다. 따라서, 진공 인쇄시의 50kPa 이하의 감압 분위기에서는, 도전성 접착제 중의 희석제가 휘발하여, 도전성 접착제의 점도가 상승하고, 인쇄성이 저하된다.Specifically, the vapor pressure at 20°C of the diluent contained in the conductive adhesive disclosed in Patent Document 2 is from 80 Pa (0.8 hPa) to 700 Pa (7.0 hPa). Therefore, in a pressure-sensitive atmosphere of 50 kPa or less during vacuum printing, the diluent in the conductive adhesive volatilizes, the viscosity of the conductive adhesive increases, and printability decreases.

또한, 특허문헌 3에 개시되어 있는 인쇄용 접착제층 형성 잉크에는 1.34×103Pa 미만(25℃)인 용매, 구체적으로는, 20℃에 있어서의 증기압이 약 200Pa인 γ-부티로락톤(1.5㎜Hg(20℃))이 사용되고 있다. 따라서, 진공 인쇄시의 50kPa 이하의 감압 분위기하에서는, 인쇄용 접착제층 형성 잉크 중의 용매가 휘발하여, 도전성 접착제의 점도가 상승하고, 인쇄성이 저하된다.In addition, in the printing adhesive layer-forming ink disclosed in Patent Document 3, a solvent having a vapor pressure of less than 1.34×103 Pa (25°C), specifically, γ-butyrolactone (1.5 mmHg (1.5 mmHg ( 20℃)) is being used. Therefore, under a pressure-sensitive atmosphere of 50 kPa or less during vacuum printing, the solvent in the printing adhesive layer forming ink volatilizes, the viscosity of the conductive adhesive increases, and the printability decreases.

이에, 본 개시의 일 양태에 있어서 하나의 목적은, 이하와 같은 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 제공하는 것에 있다. 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 진공 인쇄를 행할 때의 50kPa 이하의 감압 분위기에서는, 용제가 휘발되기 어려워, 도전성 페이스트의 점도의 상승이 억제되고, 진공 인쇄에 있어서의 인쇄성을 양호하게 유지할 수 있다. 또한, 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 가열 경화시에는 용제가 충분히 휘발되어, 미세한 홈 및 관통공에 보이드가 잔존하기 어렵고, 피인쇄물에 대한 우수한 접착성이 발휘된다.Accordingly, one object of an aspect of the present disclosure is to provide a conductive paste for vacuum printing as described below. In this conductive paste for vacuum printing, in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less at the time of vacuum printing, the solvent is less likely to volatilize, the increase in the viscosity of the conductive paste is suppressed, and the printability in vacuum printing can be maintained satisfactorily. In addition, in this conductive paste for vacuum printing, the solvent is sufficiently volatilized during heat curing, and voids are less likely to remain in fine grooves and through holes, and excellent adhesion to a printed object is exhibited.

상기 목적을 달성하기 위한 수단의 일 양태는 이하와 같다. 본 개시는 이하의 양태를 포함한다.One aspect of the means for achieving the above object is as follows. The present disclosure includes the following aspects.

[1] 본 개시의 일 양태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 (A) 도전성 필러와, (B) 열경화성 수지와, (C) 경화제와, (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제를 포함한다.[1] A conductive paste for vacuum printing according to an aspect of the present disclosure includes (A) a conductive filler, (B) a thermosetting resin, (C) a curing agent, and (D) a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C. Includes.

[2] 상기 [1]에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (D) 용제의 101.325kPa의 압력 분위기에 있어서의 끓는점이 180∼290℃여도 된다.[2] In the conductive paste for vacuum printing described in [1], the boiling point of the solvent (D) in a pressure atmosphere of 101.325 kPa may be 180 to 290°C.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트는, (E) 반응성 희석제를 추가로 포함해도 된다.[3] The conductive paste for vacuum printing described in [1] or [2] may further contain (E) a reactive diluent.

[4] 상기 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (A) 도전성 필러가 은, 니켈, 구리 및 이들의 합금으로부터 선택되는 금속으로 이루어지는 금속 분말, 및 금속 피복 도전 분말로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함해도 된다.[4] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [3], the (A) conductive filler is a metal powder composed of a metal selected from silver, nickel, copper, and alloys thereof, and a metal coating. At least one selected from the group consisting of conductive powder may be included.

[5] 상기 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (B) 열경화성 수지가 에폭시 수지, (메타)아크릴 수지 및 페놀 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지여도 된다.[5] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [4], the (B) thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, a (meth)acrylic resin, and a phenol resin. It may be resin.

[6] 상기 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (C) 경화제가 페놀계 경화제 및 이미다졸계 경화제여도 된다.[6] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [5], the (C) curing agent may be a phenol curing agent and an imidazole curing agent.

[7] 상기 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (D) 용제가 알코올류, 글리콜에테르류, 고리형 에스테르류, 글리콜에테르에스테르류 및 이들의 혼합물로부터 선택되어도 된다.[7] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [6], the solvent (D) is selected from alcohols, glycol ethers, cyclic esters, glycol ether esters, and mixtures thereof. May be.

[8] 상기 [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (D) 용제가 부틸카르비톨, 벤질알코올, 2-페녹시에탄올, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디메틸프탈레이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 및 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부틸레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이어도 된다.[8] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [7], the solvent (D) is butyl carbitol, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, diethylene glycol monohexyl ether, and dimethyl phthalate. , At least one selected from the group consisting of diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate.

[9] 상기 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트는, (F) 엘라스토머를 추가로 포함해도 된다.[9] The conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [8] above may further contain an elastomer (F).

[10] 상기 [1]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트는, (G) 커플링제를 추가로 포함해도 된다.[10] The conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [9] above may further contain a coupling agent (G).

[11] 상기 [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (B) 열경화성 수지의 함유량이 상기 (A) 도전성 필러 100질량부에 대해 1∼15질량부여도 된다.[11] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [10], the content of the thermosetting resin (B) may be 1 to 15 parts by mass per 100 parts by mass of the (A) conductive filler.

[12] 상기 [1]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 상기 (D) 용제의 함유량이 상기 (A) 도전성 필러 100질량부에 대해 1∼30질량부여도 된다. [12] In the conductive paste for vacuum printing according to any one of [1] to [11], the content of the solvent (D) may be 1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the (A) conductive filler.

본 개시의 일 양태에 의하면, 이하와 같은 진공 인쇄용 도전성 페이스트가 제공된다. 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 진공 인쇄를 행할 때의 50kPa 이하의 감압 분위기에서는, 용제가 휘발되기 어려워, 도전성 페이스트의 점도의 상승이 억제되고, 진공 인쇄에 있어서의 인쇄성을 양호하게 유지할 수 있다. 또한, 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, 가열 경화시에는 용제가 충분히 휘발되어, 미세한 홈 및 관통공에 보이드가 잔존하기 어렵고, 피인쇄물에 대한 우수한 접착성이 발휘된다.According to one aspect of the present disclosure, the following conductive paste for vacuum printing is provided. In this conductive paste for vacuum printing, in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less at the time of vacuum printing, the solvent is less likely to volatilize, the increase in the viscosity of the conductive paste is suppressed, and the printability in vacuum printing can be maintained satisfactorily. In addition, in this conductive paste for vacuum printing, the solvent is sufficiently volatilized during heat curing, and voids are less likely to remain in fine grooves and through holes, and excellent adhesion to a printed object is exhibited.

이하, 본 개시에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 실시형태에 기초하여 설명한다. 단, 이하에 나타내는 실시형태는, 본 개시의 기술 사상을 구체화하기 위한 예시이다. 본 개시의 기술은, 이하의 진공 인쇄용 도전성 페이스트에 한정되지 않는다.Hereinafter, the conductive paste for vacuum printing according to the present disclosure will be described based on the embodiment. However, the embodiment shown below is an example for embracing the technical idea of this disclosure. The technique of the present disclosure is not limited to the following conductive pastes for vacuum printing.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 (A) 도전성 필러, (B) 열경화성 수지, (C) 경화제, 및 (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제를 포함한다.The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure contains (A) a conductive filler, (B) a thermosetting resin, (C) a curing agent, and (D) a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C. .

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는, (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제를 포함한다. 따라서, 진공 인쇄를 행할 때의 50kPa 이하의 감압 분위기에서는, 도전성 페이스트 중의 상기 (D) 용제가 휘발되기 어려워, 도전성 페이스트의 점도의 상승이 억제된다. 이 때문에, 상기 도전성 페이스트는 진공 인쇄에 있어서의 인쇄성을 양호하게 유지할 수 있다. 상기 도전성 페이스트는 피인쇄물에 인쇄된 후, 가열 경화된다. 가열 경화시에는, 상기 (D) 용제가 충분히 휘발되어, 미세한 홈 및 관통공에 보이드가 잔존하기 어렵고, 피인쇄물에 대한 우수한 접착성이 발휘된다. 진공 인쇄는 대기압(표준 기압 101.325kPa)보다 낮은 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서, 인쇄를 행하는 것을 의미한다. 감압 분위기는 구체적으로는, 압력이 50kPa 이하인 분위기를 말하고, 예를 들면, 0Pa의 진공 분위기여도 된다. 진공 인쇄를 행하는 분위기의 압력은 예를 들면, 1Pa 이상이고, 5Pa 이상이어도 되며, 10Pa 이상이어도 된다.The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure contains (D) a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C. Therefore, in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less during vacuum printing, the (D) solvent in the conductive paste is less likely to be volatilized, and an increase in the viscosity of the conductive paste is suppressed. For this reason, the said electroconductive paste can maintain printability in vacuum printing satisfactorily. The conductive paste is printed on an object to be printed and then heat-cured. During heat curing, the solvent (D) is sufficiently volatilized, so that voids are difficult to remain in the fine grooves and through holes, and excellent adhesion to the object to be printed is exhibited. Vacuum printing means printing in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less lower than atmospheric pressure (standard atmospheric pressure 101.325 kPa). Specifically, the reduced pressure atmosphere refers to an atmosphere in which the pressure is 50 kPa or less, and may be, for example, a vacuum atmosphere of 0 Pa. The pressure of the atmosphere in which vacuum printing is performed may be, for example, 1 Pa or more, 5 Pa or more, or 10 Pa or more.

(A) 도전성 필러는 경화 후의 경화물에 도전성을 부여한다. (A) 도전성 필러는 양호한 도전성을 부여하기 위해, 은, 니켈, 구리 및 이들의 합금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 금속으로 이루어지는 금속 분말, 및 금속 피복 도전 분말로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 금속 피복 도전 분말로는, 은 피복 니켈 분말 또는 은 피복 구리 분말을 들 수 있다. 은 피복 니켈 분말은 예를 들면, 일본 특허 제5764294호 공보에 개시되는 은 피복 니켈 분말 또는 그의 제조 방법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.(A) The conductive filler imparts conductivity to the cured product after curing. (A) The conductive filler contains at least one selected from the group consisting of a metal powder made of a metal selected from the group consisting of silver, nickel, copper, and alloys thereof, and a metal coated conductive powder in order to impart good conductivity. It is desirable to do it. Examples of the metal-coated conductive powder include silver-coated nickel powder or silver-coated copper powder. The silver-coated nickel powder is preferably obtained by, for example, a silver-coated nickel powder disclosed in Japanese Patent No. 5764294 or a method for producing the same.

(A) 도전성 필러가 금속 피복 도전 분말을 포함하고, 금속 피복 도전 분말이 은 피복 니켈 분말 및 은 피복 구리 분말로부터 선택되는 적어도 1종인 경우에는, 은의 피복량은 은과 니켈의 합계 100질량부 또는 은과 구리의 합계 100질량부에 대해, 바람직하게는 6∼15질량부, 보다 바람직하게는 7∼12질량부, 더욱 바람직하게는 8∼11.5질량부이다. 피복되는 은의 두께는 바람직하게는 0.1∼0.3㎛이며, 보다 바람직하게는 0.15∼0.2㎛이다. 피복되는 은의 두께는, 은 피복 니켈 분말의 단면을 주사형 전자 현미경(Scanning Electron Microscope; SEM)에 의해 관찰함으로써, 측정되는 것이 가능하다.(A) When the conductive filler contains a metal-coated conductive powder, and the metal-coated conductive powder is at least one selected from silver-coated nickel powder and silver-coated copper powder, the amount of silver coated is 100 parts by mass in total of silver and nickel, or With respect to 100 parts by mass in total of silver and copper, it is preferably 6 to 15 parts by mass, more preferably 7 to 12 parts by mass, and still more preferably 8 to 11.5 parts by mass. The thickness of the coated silver is preferably 0.1 to 0.3 µm, more preferably 0.15 to 0.2 µm. The thickness of the coated silver can be measured by observing the cross section of the silver-coated nickel powder with a Scanning Electron Microscope (SEM).

(A) 도전성 필러의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 도전성 필러의 형상으로는, 봉 형상, 플레이크 형상(인편 형상), 및 구 형상 등의 형상을 들 수 있다. (A) 도전성 필러의 크기에 대해서는, 상기 필러의 형상이 구 형상인 경우에는, 그 체적 평균 입경(D50)이 0.1∼30㎛인 것이 바람직하다. 이 체적 평균 입경(D50)은 레이저 회절 산란법에 의해, 입자 직경 분포 측정 장치(예를 들면, 상품명: 마이크로트랙 MT300 II, 마이크로트랙 벨 주식회사 제조)를 이용하여 측정되는 값이다.(A) The shape of the conductive filler is not particularly limited. As the shape of the conductive filler, shapes such as a rod shape, a flake shape (a scale shape), and a spherical shape may be mentioned. (A) Regarding the size of the conductive filler, when the filler has a spherical shape, the volume average particle diameter (D50) is preferably 0.1 to 30 µm. This volume average particle diameter (D50) is a value measured by a laser diffraction scattering method using a particle diameter distribution measuring apparatus (for example, a brand name: Microtrac MT300 II, manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.).

(A) 도전성 필러가 구 형상인 경우, 상기 도전성 필러의 체적 평균 입경(D50)이 0.1∼30㎛이면, 예를 들면, 3차원 실장용 기판 등의 피인쇄물의 미세한 홈 및 관통공에 도전성 페이스트가 도포 또는 충전되기 쉽다. (A) 도전성 필러가 구 형상인 경우, 상기 도전성 필러의 체적 평균 입경(D50)은 보다 바람직하게는 0.2∼20㎛, 더욱 바람직하게는 0.5∼15㎛이다.(A) When the conductive filler has a spherical shape, if the volume average particle diameter (D50) of the conductive filler is 0.1 to 30 µm, for example, a conductive paste is applied to fine grooves and through holes of a printed object such as a three-dimensional mounting substrate. It is easy to apply or fill. (A) When the conductive filler has a spherical shape, the volume average particle diameter (D50) of the conductive filler is more preferably 0.2 to 20 µm, further preferably 0.5 to 15 µm.

(A) 도전성 필러가 봉 형상 또는 플레이크 형상인 경우에는, 주사형 전자 현미경(SEM)의 관찰에 의해 측정되는 평균 두께(또는, 단경)(T)가 0.1∼30㎛인 것이 바람직하다. 또한, 상기 체적 평균 입경(D50)에 대한 평균 두께(T)의 애스펙트비(T/D50)가 0.01∼1.0인 것이 바람직하다. (A) 도전성 필러의 형상이 봉 형상 또는 플레이크 형상인 경우, 상기 도전성 필러의 평균 두께(T)가 0.1∼30㎛이고, 애스펙트비(T/D50)가 0.01∼1.0이면, 피인쇄물의 미세한 홈 및 관통공에 도전성 페이스트가 충전되기 쉽다. (A) 도전성 필러가 봉 형상 또는 플레이크 형상인 경우, 상기 도전성 필러의 평균 두께(T)는 보다 바람직하게는 0.2∼20㎛이며, 애스펙트비(T/D50)는 보다 바람직하게는 0.02∼0.9이다.(A) When the conductive filler has a rod shape or a flake shape, the average thickness (or short diameter) (T) measured by observation with a scanning electron microscope (SEM) is preferably 0.1 to 30 µm. Further, it is preferable that the aspect ratio (T/D50) of the average thickness (T) to the volume average particle diameter (D50) is 0.01 to 1.0. (A) When the shape of the conductive filler is a rod shape or a flake shape, when the average thickness (T) of the conductive filler is 0.1 to 30 μm and the aspect ratio (T/D50) is 0.01 to 1.0, fine grooves of the printed object And the conductive paste is easily filled in the through hole. (A) When the conductive filler has a rod shape or a flake shape, the average thickness (T) of the conductive filler is more preferably 0.2 to 20 μm, and the aspect ratio (T/D50) is more preferably 0.02 to 0.9. .

(B) 열경화성 수지는 도전성 페이스트에 접착성 및 경화성을 부여한다. (B) 열경화성 수지는 3차원 실장용 기판 등의 피인쇄물에 대한 접착성이 우수하다. 이 때문에, 열경화성 수지는 에폭시 수지, (메타)아크릴 수지 및 페놀 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지인 것이 바람직하다.(B) The thermosetting resin imparts adhesiveness and curability to the conductive paste. (B) The thermosetting resin is excellent in adhesion to a printed object such as a three-dimensional mounting substrate. For this reason, it is preferable that the thermosetting resin is at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a (meth)acrylic resin, and a phenol resin.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 에폭시 수지는, 도전성 페이스트의 인쇄성을 향상하기 위해, 상온에서 액상인 것이 바람직하나, 상온에서 고체여도 된다. 상온에서 고체인 에폭시 수지는, 액상의 에폭시 수지 또는 (D) 용제 또는 희석제에 의해 희석됨으로써, 액상으로 하여 사용할 수 있다.(B) The epoxy resin used as the thermosetting resin is preferably liquid at room temperature in order to improve the printability of the conductive paste, but may be solid at room temperature. The epoxy resin, which is solid at room temperature, can be used as a liquid by diluting with a liquid epoxy resin or (D) a solvent or a diluent.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 에폭시 수지는, 분자 내에 적어도 1개의 에폭시기 또는 글리시딜기를 갖고, 중량 평균 분자량이 370∼6000인 것이 바람직하다. 여기서, 중량 평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피법(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌에 의한 검량선을 이용하여 측정되는 값을 의미한다.(B) It is preferable that the epoxy resin used as a thermosetting resin has at least one epoxy group or a glycidyl group in a molecule, and a weight average molecular weight is 370-6000. Here, the weight average molecular weight means a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using a calibration curve using standard polystyrene.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 에폭시 수지는 바람직하게는, 분자 내에 적어도 1개의 에폭시기 또는 글리시딜기를 갖는 (메타)아크릴 수지 및 분자 내에 적어도 1개의 에폭시기 또는 글리시딜기를 갖는 페놀 수지를 포함하지 않는다.(B) The epoxy resin used as the thermosetting resin preferably does not contain a (meth)acrylic resin having at least one epoxy group or glycidyl group in the molecule and a phenol resin having at least one epoxy group or glycidyl group in the molecule. Does not.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 에폭시 수지는 바람직하게는, 후술하는 (E) 반응성 희석제로서 사용되는, 에폭시기를 함유하는 화합물을 포함하지 않는다. 구체적으로는, 이 에폭시 수지는 바람직하게는 (E) 반응성 희석제로서 사용되는, 분자량 또는 중량 평균 분자량이 350 이하인 에폭시기 또는 글리시딜기를 갖는 화합물을 포함하지 않는다.The epoxy resin used as the (B) thermosetting resin preferably does not contain a compound containing an epoxy group used as the (E) reactive diluent described later. Specifically, this epoxy resin does not contain a compound having an epoxy group or glycidyl group having a molecular weight or weight average molecular weight of 350 or less, preferably used as (E) a reactive diluent.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 에폭시 수지로는, 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 및 이들의 유도체(예를 들면, 알킬렌옥사이드 부가물), 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 F형 에폭시 수지, 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 탄소수가 6∼36인 알킬글리시딜에테르, 알킬페닐글리시딜에테르, 알케닐글리시딜에테르, 알키닐글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르 등의 글리시딜에테르형 에폭시 수지, 탄소수가 6∼36인 알킬글리시딜에스테르, 알케닐글리시딜에스테르, 페닐글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 및 실리콘 에폭시 수지를 들 수 있다. 이들 수지에 대해서는, 1종의 수지가 단독으로 사용되어도 되고, 2종 이상의 수지가 병용되어도 된다.(B) As the epoxy resin used as the thermosetting resin, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and derivatives thereof (eg, alkylene oxide adducts), hydrogenated bisphenol A type Epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, C6-C36 alkyl glycidyl ether, alkylphenyl glycidyl ether, alkenyl Glycidyl ether type epoxy resins such as glycidyl ether, alkynyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether, alkyl glycidyl esters having 6 to 36 carbon atoms, alkenyl glycidyl esters, phenyl glycidyl And glycidyl ester-type epoxy resins such as esters, and silicone epoxy resins. For these resins, one type of resin may be used alone, or two or more types of resin may be used in combination.

(B) 열경화성 수지는 접착성 및 경화성의 관점에서, 에폭시 수지인 것이 바람직하다. 또한, 에폭시 수지는, 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 열경화성 수지로서 사용되는 수지가 분자 내에 에폭시기 또는 글리시딜기와, (메타)아크릴로일기의 양쪽을 갖는 경우에는, 이 수지는 에폭시 수지로서가 아니라 (메타)아크릴 수지로서 기재된다.(B) It is preferable that the thermosetting resin is an epoxy resin from the viewpoint of adhesiveness and curability. Moreover, it is preferable that the epoxy resin is at least 1 type selected from a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin. In the present specification, when the resin used as the thermosetting resin has both an epoxy group or a glycidyl group and a (meth)acryloyl group in the molecule, this resin is not described as an epoxy resin but as a (meth)acrylic resin. .

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 (메타)아크릴 수지는 접착성이 우수하여, 열경화 후의 열경화 수축이 적고, 상온에서 액체인 수지인 것이 바람직하다. (메타)아크릴 수지는 분자 내에 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. (메타)아크릴 수지를 사용함으로써, (메타)아크릴로일기가 반응하여, 3차원적 그물 구조가 형성된다. 이에 의해, 열경화 수축이 적은 경화물을 얻을 수 있다.(B) It is preferable that the (meth)acrylic resin used as the thermosetting resin is excellent in adhesiveness, has little thermosetting shrinkage after thermosetting, and is a liquid resin at room temperature. The (meth)acrylic resin is a compound having a (meth)acryloyl group in the molecule. By using a (meth)acrylic resin, a (meth)acryloyl group reacts to form a three-dimensional network structure. Thereby, a cured product with less thermal curing shrinkage can be obtained.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 (메타)아크릴 수지로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소아밀(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트, 베헤닐(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 그 외의 알킬(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, tert-부틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 징크모노(메타)아크릴레이트, 징크디(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜(메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,4,4-헥사플루오로부틸(메타)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸(메타)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 옥톡시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 라우로일옥시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 스테아릴옥시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 알릴옥시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴로일옥시메틸트리시클로데칸, N-(메타)아크릴로일옥시 에틸말레이미드, N-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈이미드, 및 N-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈이미드를 들 수 있다. (메타)아크릴 수지로서, N,N'-메틸렌비스(메타)아크릴아미드, N,N'-에틸렌비스(메타)아크릴아미드, 및 1,2-디(메타)아크릴아미드에틸렌글리콜 등의 (메타)아크릴아미드를 사용할 수도 있다. (메타)아크릴 수지로서, n-비닐-2-피롤리돈, 스티렌 유도체, 및 a-메틸스티렌 유도체 등의 비닐 화합물을 사용하는 것도 가능하다.(B) As the (meth)acrylic resin used as the thermosetting resin, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, tert-butyl (Meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, isoamyl (meth) Acrylate, isostearyl (meth)acrylate, behenyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, other alkyl (meth)acrylates, cyclohexyl (meth)acrylate, tert-butyl Cyclohexyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylic Rate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, zinc mono(meth)acrylate, zinc di(meth)acrylate, dimethylaminoethyl(meth)acrylate, diethylaminoethyl(meth)acrylate, neopentyl glycol (Meth)acrylate, trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth)acrylate, 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutyl (Meth)acrylate, perfluorooctyl(meth)acrylate, perfluorooctylethyl(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol Di(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, 1,9-nonanedioldi(meth)acrylate, 1,3-butanedioldi(meth)acrylate, 1,10-decane Dioldi(meth)acrylate, tetramethylene glycol di(meth)acrylate, methoxyethyl(meth)acrylate, butoxyethyl(meth)acrylate, ethoxydiethylene glycol(meth)acrylate, methoxypolyalkyl Ene glycol mono(meth)acrylate, octoxypolyalkylene glycol mono(meth)acrylate, lauroyloxypolyalkylene glycol mono(meth)acrylate, stearyloxypolyalkylene glycol mono(meth)acrylate , Allyloxypolyalkylene glycol mono(meth)acrylate, nonylphenoxypolyalkyl Len glycol mono(meth)acrylate, di(meth)acryloyloxymethyltricyclodecane, N-(meth)acryloyloxy ethylmaleimide, N-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalimide , And N-(meth)acryloyloxyethylphthalimide. As the (meth)acrylic resin, (meth) such as N,N'-methylenebis(meth)acrylamide, N,N'-ethylenebis(meth)acrylamide, and 1,2-di(meth)acrylamide ethylene glycol ) Acrylamide can also be used. As the (meth)acrylic resin, it is also possible to use vinyl compounds such as n-vinyl-2-pyrrolidone, styrene derivative, and a-methylstyrene derivative.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 (메타)아크릴 수지로는, 폴리(메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 폴리(메타)아크릴레이트는, (메타)아크릴산과 (메타)아크릴레이트의 공중합체, 또는, 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트와 극성기를 갖지 않는 (메타)아크릴레이트의 공중합체 등인 것이 바람직하다.(B) As the (meth)acrylic resin used as the thermosetting resin, poly(meth)acrylate can be used. The poly(meth)acrylate is preferably a copolymer of (meth)acrylic acid and (meth)acrylate, or a copolymer of (meth)acrylate having a hydroxyl group and (meth)acrylate not having a polar group, and the like.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 (메타)아크릴 수지로는, 예를 들면, 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 1,2-시클로헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 1,3-시클로헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 1,2-시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 1,3-시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 1,2-시클로헥산디에탄올모노(메타)아크릴레이트, 1,3-시클로헥산디에탄올모노(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디에탄올모노(메타)아크릴레이트, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 및 네오펜틸글리콜모노(메타)아크릴레이트를 들 수 있다.(B) As (meth)acrylic resin used as a thermosetting resin, a (meth)acrylate which has a hydroxyl group is mentioned, for example. Examples of the (meth)acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2- Hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 1,2-cyclohexanediol mono (meth)acrylate, 1,3-cyclo Hexanediol mono(meth)acrylate, 1,4-cyclohexanediol mono(meth)acrylate, 1,2-cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, 1,3-cyclohexanedimethanol mono(meth) Acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth)acrylate, 1,2-cyclohexanediethanol mono (meth)acrylate, 1,3-cyclohexanediethanol mono (meth)acrylate, 1, 4-cyclohexanediethanol mono(meth)acrylate, glycerin mono(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, trimethylolpropanedi(meth)acrylate, penta Erythritol mono(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and neopentyl glycol mono(meth)acrylate.

혹은, (메타)아크릴 수지로서, 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다. 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴레이트는, 상기 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트와, 디카르복실산 또는 그의 유도체를 반응시킴으로써 얻어진다. 여기서 사용 가능한 디카르복실산으로는, 예를 들면, 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 말레산, 푸마르산, 프탈산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산, 및 이들의 유도체를 들 수 있다.Alternatively, as the (meth)acrylic resin, a (meth)acrylate or the like having a carboxyl group may be used. The (meth)acrylate having a carboxyl group is obtained by reacting the (meth)acrylate having the above hydroxyl group with a dicarboxylic acid or a derivative thereof. Examples of dicarboxylic acids usable here include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, tetra Hydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, and derivatives thereof.

(B) 열경화성 수지로서 사용되는 페놀 수지는, 접착성이 우수하고, 열경화 후의 열경화 수축이 적은 점에서, 레졸형 페놀 수지인 것이 바람직하다. 레졸형 페놀 수지는 30000 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다. 여기서, 중량 평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피법(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌에 의한 검량선을 이용하여 측정되는 값을 의미한다. (B) 열경화성 수지로서 사용되는 페놀 수지는 바람직하게는, (C) 경화제로서 사용되는 페놀계 경화제를 포함하지 않는다. (B) 열경화성 수지로서 사용되는 페놀 수지는 바람직하게는, 구체적으로 (C) 경화제로서 사용되는 페놀노볼락 수지 및 그의 알킬화물 또는 알릴화물, 크레졸노볼락 수지, 페놀아랄킬(페닐렌, 비페닐렌 골격을 포함함) 수지, 나프톨아랄킬 수지, 트리페놀메탄 수지, 및 디시클로펜타디엔형 페놀 수지를 포함하지 않는다.(B) The phenolic resin used as the thermosetting resin is preferably a resol-type phenolic resin from the viewpoint of excellent adhesion and less thermosetting shrinkage after thermosetting. It is preferable that the resol-type phenol resin has a weight average molecular weight of 30000 or less. Here, the weight average molecular weight means a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using a calibration curve using standard polystyrene. (B) The phenolic resin used as the thermosetting resin preferably does not contain a phenolic curing agent used as the (C) curing agent. (B) The phenol resin used as the thermosetting resin is preferably, specifically (C) a phenol novolak resin used as a curing agent, and an alkylate or allylated product thereof, a cresol novolak resin, a phenol aralkyl (phenylene, biphenyl). (Including a ren skeleton) resin, naphthol aralkyl resin, triphenolmethane resin, and dicyclopentadiene-type phenol resin are not included.

(C) 경화제는 (B) 열경화성 수지를 경화시키기 위해 사용된다. (C) 경화제로는, (B) 열경화성 수지의 종류에 따른 적절한 경화제를 사용할 수 있다. (B) 열경화성 수지가 에폭시 수지인 경우, (C) 경화제로는, 페놀계 경화제, 이미다졸계 경화제, 산무수물계 경화제, 아민계 경화제, 및 카르복실산디히드라지드 경화제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 경화제를 사용할 수 있다. (C) 경화제로서, 2종 이상의 경화제가 병용되어도 된다. (C) 경화제로는, 접착성의 관점에서, 페놀계 경화제가 사용되는 것이 바람직하고, 내습성의 관점에서, 이미다졸계 경화제가 사용되는 것이 바람직하다. (C) 경화제로는, 페놀계 경화제 및 이미다졸계 경화제가 사용되는 것이 보다 바람직하다. (B) 열경화성 수지가 (메타)아크릴 수지인 경우, 경화제로서 열 라디칼 중합 개시제 등의 중합 개시제를 사용할 수 있다.(C) Curing agent is used to cure (B) thermosetting resin. As the (C) curing agent, an appropriate curing agent according to the type of (B) thermosetting resin can be used. (B) When the thermosetting resin is an epoxy resin, (C) the curing agent is at least selected from the group consisting of a phenolic curing agent, an imidazole curing agent, an acid anhydride curing agent, an amine curing agent, and a carboxylic acid dihydrazide curing agent. One type of hardener can be used. (C) As a curing agent, two or more types of curing agents may be used in combination. (C) As the curing agent, from the viewpoint of adhesiveness, a phenolic curing agent is preferably used, and from the viewpoint of moisture resistance, an imidazole curing agent is preferably used. (C) As a curing agent, it is more preferable to use a phenol type curing agent and an imidazole type curing agent. (B) When the thermosetting resin is a (meth)acrylic resin, a polymerization initiator such as a thermal radical polymerization initiator can be used as the curing agent.

페놀계 경화제는 페놀성 수산기를 갖는 모노머, 올리고머, 및 폴리머 전반을 가리킨다. 페놀계 경화제로는, 예를 들면, 페놀노볼락 수지 및 그의 알킬화물 또는 알릴화물, 크레졸노볼락 수지, 페놀아랄킬(페닐렌, 비페닐렌 골격을 포함함) 수지, 나프톨아랄킬 수지, 트리페놀메탄 수지, 및 디시클로펜타디엔형 페놀 수지를 들 수 있다. 페놀계 경화제는 페놀노볼락 수지인 것이 바람직하다.A phenolic curing agent refers to a monomer, an oligomer, and an overall polymer having a phenolic hydroxyl group. As a phenolic curing agent, for example, a phenol novolak resin and its alkyl or allylated product, a cresol novolak resin, a phenol aralkyl (including a phenylene or biphenylene skeleton) resin, a naphthol aralkyl resin, a tree A phenolmethane resin and a dicyclopentadiene-type phenol resin. It is preferable that the phenolic curing agent is a phenol novolak resin.

이미다졸계 경화제로는, 예를 들면, 이미다졸 화합물을 들 수 있다. 이미다졸 화합물은 예를 들면, 2-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-이미다졸, 2-페닐이미다졸, 및 2-페닐-4-메틸이미다졸을 포함한다. 그 중에서도, 이미다졸 화합물로서, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-이미다졸, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]에틸-s-트리아진, 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸, 및 2,3-디히드로-1H-피롤로[1,2-a]벤즈이미다졸 등을 들 수 있다. 이미다졸계 경화제는 경화 촉진제로서도 사용된다.Examples of the imidazole-based curing agent include imidazole compounds. The imidazole compound is, for example, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-ethyl-4 -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-imidazole, 2-phenylimidazole, and 2-phenyl-4-methylimidazole. Among them, as an imidazole compound, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-imidazole, 2, 4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4- Methyl-5-hydroxymethylimidazole, and 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole, and the like. The imidazole-based curing agent is also used as a curing accelerator.

산무수물계 경화제로는, 테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 메틸나직산 무수물, 수소화 메틸나직산 무수물, 트리알킬테트라히드로 무수 프탈산, 메틸시클로헥센테트라카르복실산 이무수물, 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르본산 이무수물, 에틸렌글리콜비스안히드로트리멜리테이트, 글리세린비스(안히드로트리멜리테이트)모노아세테이트, 도데세닐 무수 숙신산, 지방족 이염기산 폴리 무수물, 클로렌드산 무수물, 메틸부테닐테트라히드로프탈산 무수물, 알킬화 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸하이믹산 무수물, 알케닐기로 치환된 숙신산 무수물, 및 글루타르산 무수물 등을 들 수 있다.As an acid anhydride-based curing agent, tetrahydro phthalic anhydride, hexahydro phthalic anhydride, methyl tetrahydro phthalic anhydride, methyl hexahydro phthalic anhydride, methyl najic anhydride, hydrogenated methyl najic anhydride, trialkyl tetrahydro phthalic anhydride, methylcyclohexene Tetracarboxylic dianhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol bis anhydro trimellitate, glycerin bis (anhydro trimellitate) monoacetate, dode Senyl succinic anhydride, aliphatic dibasic acid polyanhydride, chlorendic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, alkylated tetrahydrophthalic anhydride, methylhymic acid anhydride, succinic anhydride substituted with an alkenyl group, and glutaric anhydride. I can.

아민계 경화제로는, 사슬형 지방족 아민, 고리형 지방족 아민, 지방 방향족 아민, 및 방향족 아민 등을 들 수 있다. 카르복실산디히드라지드 경화제로는, 아디프산디히드라지드, 이소프탈산디히드라지드, 세바스산디히드라지드, 및 도데칸산디히드라지드 등을 들 수 있다.Examples of the amine curing agent include chain aliphatic amines, cyclic aliphatic amines, aliphatic aromatic amines, and aromatic amines. Examples of the carboxylic acid dihydrazide curing agent include adipic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide, and dodecanoic acid dihydrazide.

(B) 열경화성 수지로서 (메타)아크릴 수지를 사용하고, (C) 경화제로서 중합 개시제를 사용하는 경우에는, 중합 개시제로는, 공지의 것을 사용할 수 있다. 열 라디칼 중합 개시제의 구체예로는, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 메틸시클로헥사논퍼옥사이드, 메틸아세토아세테이트퍼옥사이드, 아세틸아세톤퍼옥사이드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로도데칸, n-부틸4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발레레이트, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-2-메틸시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥사이드, P-멘탄하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸하이드로퍼옥사이드, t-헥실하이드로퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산, a,a'-비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥신-3, 이소부티릴퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸헥사노일퍼옥사이드, 옥타노일퍼옥사이드, 라우로릴퍼옥사이드, 신남산퍼옥사이드, m-톨루오일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-3-메톡시부틸퍼옥시디카보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, a,a'-비스(네오데카노일퍼옥시)디이소프로필벤젠, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3,-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, t-부틸퍼옥시말레익애시드, t-부틸퍼옥시라우레이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시 이소프로필모노카보네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카보네이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시아세테이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, t-부틸퍼옥시-m-톨루오일벤조에이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 비스(t-부틸퍼옥시)이소프탈레이트, t-부틸퍼옥시알릴모노카보네이트, 및 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 등을 들 수 있다. 열 라디칼 중합 개시제로서, 상기 화합물의 1종이 단독으로 사용되어도 되고, 2종 이상의 화합물이 병용되어도 된다.When (B) a (meth)acrylic resin is used as the thermosetting resin and a polymerization initiator is used as the (C) curing agent, a known polymerization initiator can be used. Specific examples of the thermal radical polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, methyl cyclohexanone peroxide, methyl acetoacetate peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis(t-butylperoxy)3,3,5 -Trimethylcyclohexane, 1,1-bis(t-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-bis(t-hexylperoxy)3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(t- Butylperoxy)cyclohexane, 2,2-bis(4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl)propane, 1,1-bis(t-butylperoxy)cyclododecane, n-butyl4, 4-bis(t-butylperoxy)valerate, 2,2-bis(t-butylperoxy)butane, 1,1-bis(t-butylperoxy)-2-methylcyclohexane, t-butylhydro Loperoxide, P-mentane hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide, t-hexylhydroperoxide, dicumylperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis(t- Butylperoxy)hexane, a,a'-bis(t-butylperoxy)diisopropylbenzene, t-butylcumylperoxide, di-t-butylperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy)hexine-3, isobutyryl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, laurolyl peroxide, cinnamic acid peroxide, m-toluoyl peroxide, Benzoyl peroxide, diisopropylperoxydicarbonate, bis(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-3-methoxybutylperoxydicarbonate, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, di-sec- Butylperoxydicarbonate, di(3-methyl-3-methoxybutyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, a,a'-bis(neodecanoylperoxy)diiso Propylbenzene, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3,-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate, t-hexylper Oxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, 2,5-dimethyl-2,5-bis(2-ethylhexanoylper Oxy)hexane, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylper Oxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxylaurate, t-butyl Peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxy isopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoyl Peroxy)hexane, t-butylperoxyacetate, t-hexylperoxybenzoate, t-butylperoxy-m-toluoylbenzoate, t-butylperoxybenzoate, bis(t-butylperoxy)iso Phthalate, t-butylperoxyallyl monocarbonate, and 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, and the like. As a thermal radical polymerization initiator, one type of the compounds may be used alone, or two or more types of compounds may be used in combination.

(D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제를 사용하는 경우, 진공 인쇄를 행할 때의 50kPa 이하의 감압 분위기에서는, 도전성 페이스트 중의 상기 (D) 용제가 휘발되기 어려워, 도전성 페이스트의 점도의 상승이 억제된다. 이 때문에, 진공 인쇄를 행하는 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서의 인쇄성을 양호하게 유지 할 수 있다. 20℃에 있어서의 증기압이 15Pa를 초과하는 용제는, 진공 인쇄를 행하는 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서 휘발되기 쉽다. 이 때문에, 이 용제를 사용하면, 도전성 페이스트의 점도가 상승하여, 감압 분위기에 있어서의 인쇄성이 저하된다. 20℃에 있어서의 증기압이 0.8Pa 미만인 용제는, 도전성 페이스트 중의 (B) 열경화성 수지를 경화할 때의 열에 의해서도 휘발되기 어려워, 열경화성 수지의 경화 반응을 억제한다. 이 때문에, 도전성 페이스트의 접착성이 저하된다. (D) 용제는 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼14Pa인 용제인 것이 바람직하고, 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼13.5Pa인 용제인 것이 보다 바람직하다.(D) When a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C is used, in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less during vacuum printing, the (D) solvent in the conductive paste is less likely to volatilize, and the viscosity of the conductive paste Is suppressed. For this reason, printability in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less in which vacuum printing is performed can be maintained satisfactorily. A solvent having a vapor pressure of more than 15 Pa at 20°C is likely to volatilize in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less in which vacuum printing is performed. For this reason, when this solvent is used, the viscosity of the conductive paste increases, and the printability in a reduced pressure atmosphere decreases. A solvent having a vapor pressure of less than 0.8 Pa at 20° C. is less likely to volatilize even by heat when curing the (B) thermosetting resin in the conductive paste, thereby suppressing the curing reaction of the thermosetting resin. For this reason, the adhesiveness of the electroconductive paste is deteriorated. (D) The solvent is preferably a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 14 Pa at 20°C, and more preferably a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 13.5 Pa at 20°C.

(D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제는, 101.325kPa의 대기압 분위기에 있어서의 끓는점이 180∼290℃인 용제인 것이 바람직하고, 101.325kPa에 있어서의 끓는점이 200∼285℃인 용제인 것이 보다 바람직하다. (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제의 대기압(표준 기압 101.325kPa)에 있어서의 끓는점이 180∼290℃이면, 예를 들면, 도전성 페이스트가 3차원 실장용 기판 등의 피인쇄물의 미세한 홈 및 관통공에 충전된 경우에도, (B) 열경화성 수지의 경화 온도에서 (D) 용제가 휘발되기 쉬워, 도전성 페이스트의 접착성을 향상할 수 있다.(D) The solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C is preferably a solvent having a boiling point of 180 to 290°C in an atmospheric pressure atmosphere of 101.325 kPa, and a boiling point of 200 to 285°C at 101.325 kPa. It is more preferable that it is a solvent. (D) When the boiling point of a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C is 180 to 290°C at an atmospheric pressure (standard atmospheric pressure of 101.325 kPa), for example, the conductive paste is a printed object such as a three-dimensional mounting substrate. Even when filled in the fine grooves and through holes of (B) at the curing temperature of the thermosetting resin (D), the solvent is easily volatilized, and the adhesiveness of the conductive paste can be improved.

(D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제는, 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 알코올류, 글리콜에테르류, 고리형 에스테르류, 글리콜에테르에스테르류 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것이 바람직하다. 알코올류로는, 예를 들면, 부틸카르비톨, 벤질알코올, 및 2-페녹시에탄올을 들 수 있다. 글리콜에테르류로는, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르 및 디에틸렌글리콜모노부틸에테르를 들 수 있다. 고리형 에스테르류로는, 디메틸프탈레이트를 들 수 있다. 글리콜에테르에스테르류로는, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 및 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부티레이트를 들 수 있다. (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제는 부틸카르비톨, 벤질알코올, 2-페녹시에탄올, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디메틸프탈레이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 및 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부티레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.(D) The solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C is selected from alcohols, glycol ethers, cyclic esters, glycol ether esters, and mixtures thereof having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C. It is desirable to be. Examples of alcohols include butyl carbitol, benzyl alcohol, and 2-phenoxyethanol. Examples of glycol ethers include diethylene glycol monohexyl ether and diethylene glycol monobutyl ether. As cyclic esters, dimethyl phthalate is mentioned. Examples of glycol ether esters include diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate. (D) Solvents with a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C include butyl carbitol, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, diethylene glycol monohexyl ether, dimethyl phthalate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, and diethylene glycol. It is preferably at least one selected from the group consisting of monoethyl ether acetate and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 추가로 (E) 반응성 희석제를 포함하고 있어도 된다. (E) 반응성 희석제는 예를 들면, 분자 중에 에폭시기 또는 글리시딜기 등의 관능기를 갖는 화합물이다. (E) 반응성 희석제로서 사용되는 에폭시기 또는 글리시딜기를 갖는 화합물은 그 분자량이 350 이하인 화합물인 것이 바람직하다. (E) 반응성 희석제는, (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제보다 높은 점도를 갖고, 도전성 페이스트의 점도를 인쇄에 적절한 점도로 조정할 수 있다. The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure may further contain (E) a reactive diluent. (E) The reactive diluent is, for example, a compound having a functional group such as an epoxy group or a glycidyl group in the molecule. (E) It is preferable that the compound which has an epoxy group or a glycidyl group used as a reactive diluent is a compound whose molecular weight is 350 or less. (E) The reactive diluent has a viscosity higher than that of the solvent (D) having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C, and the viscosity of the conductive paste can be adjusted to a viscosity suitable for printing.

(E) 반응성 희석제로는, 1,2-에폭시-4-(2-메틸옥시라닐)-1-메틸시클로헥산, 4-tert-부틸페닐글리시딜에테르, 1,3-비스(3-글리시독시프로필)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 네오데칸산글리시딜에스테르, 및 탄소수가 12∼13인 혼합 알코올의 글리시딜에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다.(E) As a reactive diluent, 1,2-epoxy-4-(2-methyloxiranyl)-1-methylcyclohexane, 4-tert-butylphenylglycidyl ether, 1,3-bis(3-gly Cydoxypropyl)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, neodecanoic acid glycidyl ester, and at least one selected from the group consisting of glycidyl ethers of mixed alcohols having 12 to 13 carbon atoms Can be lifted.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 추가로 (F) 엘라스토머를 포함하고 있어도 된다. 상기 도전성 페이스트가 추가로 (F) 엘라스토머를 포함함으로써, 도전성 페이스트를 경화시킨 후의 경화물의 탄성률 및 응력을 조정할 수 있다. 예를 들면, 기판의 박형화가 진행되면, 기판에 형성된 미세한 홈 및 관통공에 충전된 도전성 페이스트가 경화했을 때의 수축에 의해, 기판에 휘어짐 등이 발생하는 경우가 있다. 기판에 휘어짐이 발생하면, 기판을 실장할 때의 위치 검출 등의 정밀도가 저하된다. 상기 도전성 페이스트가 (F) 엘라스토머를 포함함으로써, 경화 후의 탄성률 및 응력을 조정하여, 기판의 휘어짐을 저감시킬 수 있다. 이에 의해, 정밀도 높은 3차원 실장이 가능해진다.The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure may further contain (F) an elastomer. When the conductive paste further contains (F) an elastomer, the elastic modulus and stress of the cured product after curing the conductive paste can be adjusted. For example, when the thickness of the substrate proceeds, the substrate may be warped due to shrinkage when the conductive paste filled in the fine grooves and through holes formed in the substrate is cured. When warping occurs in the substrate, the accuracy of position detection and the like when mounting the substrate is deteriorated. When the conductive paste contains the (F) elastomer, it is possible to reduce the warpage of the substrate by adjusting the elastic modulus and stress after curing. This enables high-precision three-dimensional mounting.

(F) 엘라스토머로는, 실리콘 고무, 우레탄 고무, 아크릴 고무, 비닐알킬에테르 고무, 폴리비닐알코올 고무, 폴리비닐피롤리돈 고무, 폴리아크릴아미드 고무, 셀룰로오스 고무, 카르복시 말단 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(CTBN), 천연 고무, 부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 스티렌-부타디엔 고무(SBR), 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR), 스티렌-에틸렌-부타디엔-스티렌 고무, 스티렌-이소프렌-스티렌 고무, 스티렌-이소부틸렌 고무, 이소프렌 고무, 폴리이소부틸렌 고무, 부틸 고무, (메타)아크릴산알킬에스테르를 포함하는 모노머의 중합에 의해 얻어지는 합성 아크릴 고무, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체(SBS), 스티렌-에틸렌/부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SEBS), 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체(SIS), 폴리부타디엔(PB), 스티렌-(에틸렌-에틸렌/프로필렌)-스티렌 블록 공중합체(SEEPS), 에틸렌-불포화 카르복실산 공중합체(예를 들면, 에틸렌-아크릴산 공중합체, 에틸렌-메타크릴산 공중합체 등), 에틸렌-불포화 카르복실산 에스테르 공중합체(예를 들면, 에틸렌-에틸아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-에틸메타크릴레이트 공중합체 등), 및 이들의 무수 카르복실산 변성물(예를 들면, 무수 말레산 변성물)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. (F) 엘라스토머로서, 상기 화합물의 1종이 단독으로 사용되어도 되고, 2종 이상의 화합물이 병용되어도 된다.(F) As an elastomer, silicone rubber, urethane rubber, acrylic rubber, vinyl alkyl ether rubber, polyvinyl alcohol rubber, polyvinylpyrrolidone rubber, polyacrylamide rubber, cellulose rubber, carboxy-terminated acrylonitrile-butadiene rubber ( CTBN), natural rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, styrene-butadiene rubber (SBR), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), styrene-ethylene-butadiene-styrene rubber, styrene-isoprene-styrene rubber, styrene-isobutyl Synthetic acrylic rubber obtained by polymerization of monomers containing rene rubber, isoprene rubber, polyisobutylene rubber, butyl rubber, alkyl (meth)acrylate, styrene-butadiene block copolymer (SBS), styrene-ethylene/butylene -Styrene block copolymer (SEBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), polybutadiene (PB), styrene-(ethylene-ethylene/propylene)-styrene block copolymer (SEEPS), ethylene-unsaturated carboxyl Acid copolymers (e.g., ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-methacrylic acid copolymers, etc.), ethylene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers (e.g., ethylene-ethylacrylate copolymers, ethylene-ethylmetha) Acrylate copolymers, etc.), and at least one selected from the group consisting of modified products of carboxylic anhydride (for example, modified products of maleic anhydride). (F) As the elastomer, one type of the compounds may be used alone, or two or more types of compounds may be used in combination.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 추가로 (G) 커플링제를 포함하고 있어도 된다. 상기 도전성 페이스트는 (G) 커플링제를 포함함으로써, 무기 재료와 유기 재료의 접착 강도를 높일 수 있다. 예를 들면, 무기 재료인 (A) 도전성 필러 및 피인쇄물과, 유기 재료인 (B) 열경화성 수지의 접착 강도를 높일 수 있다. The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure may further contain (G) a coupling agent. When the conductive paste contains (G) a coupling agent, the adhesive strength between the inorganic material and the organic material can be increased. For example, it is possible to increase the adhesive strength between the inorganic material (A) the conductive filler and the object to be printed, and the organic material (B) the thermosetting resin.

(G) 커플링제로는, 이소프로필트리스테아로일티타네이트 등의 티탄산에스테르인 티탄 커플링제 및 실란 커플링제를 들 수 있다. 실란 커플링제로는, 예를 들면, 에폭시기 함유 실란 커플링제 및 아미노기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. 에폭시기 함유 실란 커플링제로는, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 및 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 아미노기 함유 실란 커플링제로는, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 및 N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란의 염산염 등을 들 수 있다.(G) As a coupling agent, a titanium coupling agent and a silane coupling agent which are titanic acid esters, such as isopropyl tristearoyl titanate, are mentioned. Examples of the silane coupling agent include an epoxy group-containing silane coupling agent and an amino group-containing silane coupling agent. Examples of the epoxy group-containing silane coupling agent include 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3- And glycidoxypropyl triethoxysilane. Examples of the amino group-containing silane coupling agent include N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2-(amino Ethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene) Hydrochloride salts of propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, etc. are mentioned.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 상기 (A)∼(G) 성분 이외의 성분을 필요에 따라 함유해도 된다. 이러한 성분의 구체예로는, 플럭스제, 소포제, 표면 조정제, 레올로지 조정제, 착색제, 가소제, 및 분산제 등을 들 수 있다.The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure may contain components other than the components (A) to (G) as necessary. Specific examples of such components include flux agents, antifoaming agents, surface modifiers, rheology modifiers, colorants, plasticizers, and dispersants.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, (A) 도전성 필러, (B) 열경화성 수지, (C) 경화제, 및 (D) 용제의 합계량 100질량부에 대해, (A) 도전성 필러의 함유량이 바람직하게는 70∼98질량부이고, 보다 바람직하게는 75∼97질량부이며, 더욱 바람직하게는 78∼96질량부이고, 보다 더욱 바람직하게는 85∼95질량부이다. 상기 도전성 페이스트 중의 (A) 도전성 필러의 함유량이 (A)성분부터 (D) 성분의 합계량에 대해 70∼98질량부이면, 도전성 페이스트를 경화시킴으로써, 전기적 효율이 낮고, 도전성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다. 진공 인쇄용 도전성 페이스트가 2종 이상의 (A) 도전성 필러를 포함하는 경우에는, (A) 도전성 필러의 함유량은 2종 이상의 (A) 도전성 필러의 합계량을 의미한다.In the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure, (A) conductive filler, based on 100 parts by mass of the total amount of (A) conductive filler, (B) thermosetting resin, (C) curing agent, and (D) solvent. The content of is preferably 70 to 98 parts by mass, more preferably 75 to 97 parts by mass, still more preferably 78 to 96 parts by mass, and even more preferably 85 to 95 parts by mass. If the content of the conductive filler (A) in the conductive paste is 70 to 98 parts by mass with respect to the total amount of the components (A) to (D), by curing the conductive paste, a cured product having low electrical efficiency and excellent conductivity will be obtained. I can. When the conductive paste for vacuum printing contains two or more types of (A) conductive fillers, the content of (A) conductive fillers means the total amount of two or more types of (A) conductive fillers.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, (A) 도전성 필러 100질량부에 대해, (B) 열경화성 수지의 함유량이 바람직하게는 1∼15질량부이고, 보다 바람직하게는 1.5∼12질량부이며, 더욱 바람직하게는 2∼10질량부이다. 상기 도전성 페이스트 중의 (A) 도전성 필러 100질량부에 대한 (B) 열경화성 수지의 함유량이 1∼15질량부이면, 접착성이 우수한 도전성 페이스트를 얻을 수 있다. 진공 인쇄용 도전성 페이스트가 2종 이상의 (B) 열경화성 수지를 포함하는 경우에는, (B) 열경화성 수지의 함유량은 2종 이상의 (B) 열경화성 수지의 합계량을 의미한다.In the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure, the content of the (B) thermosetting resin is preferably 1 to 15 parts by mass, more preferably 1.5 to 100 parts by mass of the (A) conductive filler. It is 12 mass parts, More preferably, it is 2-10 mass parts. If the content of the (B) thermosetting resin relative to 100 parts by mass of the (A) conductive filler in the conductive paste is 1 to 15 parts by mass, a conductive paste excellent in adhesion can be obtained. When the conductive paste for vacuum printing contains two or more (B) thermosetting resins, the content of (B) thermosetting resin means the total amount of two or more (B) thermosetting resins.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, (A) 도전성 필러 100질량부에 대해, (C) 경화제의 함유량이 바람직하게는 1∼10질량부이고, 보다 바람직하게는 2∼5질량부이다. 상기 도전성 페이스트 중의 (A) 도전성 필러 100질량부에 대한 (C) 경화제의 함유량이 1∼10질량부이면, (B) 열경화성 수지와의 반응성이 양호하고, 접착성이 우수한 도전성 페이스트를 얻을 수 있다. 진공 인쇄용 도전성 페이스트가 2종 이상의 (C) 경화제를 포함하는 경우에는, (C) 경화제의 함유량은 2종 이상의 (C) 경화제의 합계량을 의미한다. 이하, 진공 인쇄용 도전성 페이스트가 2종 이상의 각 성분 (D), (E), (F), 및 (G)를 포함하는 경우에는, 각 성분의 함유량은 2종 이상의 각 성분의 합계량을 의미한다.In the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure, the content of the curing agent (C) is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 2 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the (A) conductive filler. It is a mass part. If the content of the (C) curing agent relative to 100 parts by mass of the (A) conductive filler in the conductive paste is 1 to 10 parts by mass, (B) a conductive paste having good reactivity with a thermosetting resin and excellent in adhesion can be obtained. . When the conductive paste for vacuum printing contains two or more types of (C) curing agents, the content of the (C) curing agent means the total amount of the two or more types of (C) curing agents. Hereinafter, when the conductive paste for vacuum printing contains two or more kinds of each component (D), (E), (F), and (G), the content of each component means the total amount of two or more kinds of each component.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트에서는, (A) 도전성 필러 100질량부에 대해, (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제의 함유량이 바람직하게는 1∼30질량부이고, 보다 바람직하게는 1.5∼28질량부이며, 더욱 바람직하게는 2.0∼25질량부이다. 상기 도전성 페이스트 중의 (A) 도전성 필러 100질량부에 대한 (D) 용제의 함유량이 1∼30질량부이면, 진공 인쇄를 행하는 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서, 용제가 휘발되기 어렵다. 이 때문에, 도전성 페이스트의 점도를 인쇄에 바람직한 범위로 유지할 수 있다. 그 결과, 인쇄성을 양호하게 유지할 수 있다. 또한, 상기 도전성 페이스트 중의 (A) 도전성 필러 100질량부에 대한 (D) 용제의 함유량이 1∼30질량부이면, 도전성 페이스트 중의 (B) 열경화성 수지를 경화할 때의 열에 의해, 용제가 휘발되기 쉽다. 이 때문에, 보이드가 잔존하기 어려운 경화물을 얻을 수 있다. 이에 의해, 전기 저항률이 낮고, 접착 강도가 높은 경화물을 얻을 수 있다.In the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure, (D) the content of the solvent in which the vapor pressure at 20°C is 0.8 to 15 Pa per 100 parts by mass of the conductive filler is preferably 1 to 30. It is a mass part, More preferably, it is 1.5 to 28 mass parts, More preferably, it is 2.0 to 25 mass parts. If the content of the (D) solvent relative to 100 parts by mass of the (A) conductive filler in the conductive paste is 1 to 30 parts by mass, the solvent is less likely to be volatilized in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less in which vacuum printing is performed. For this reason, the viscosity of the conductive paste can be maintained in a range suitable for printing. As a result, printability can be maintained satisfactorily. In addition, if the content of the (D) solvent relative to 100 parts by mass of the (A) conductive filler in the conductive paste is 1 to 30 parts by mass, the solvent will be volatilized by heat when curing the (B) thermosetting resin in the conductive paste. easy. For this reason, a cured product in which voids are difficult to remain can be obtained. Thereby, a cured product having a low electrical resistivity and high adhesive strength can be obtained.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트 중의 (E) 반응성 희석제의 함유량은, 도전성 페이스트의 전체량 100질량%에 대해, 바람직하게는 1∼10질량%이고, 보다 바람직하게는 1∼6질량%이다. 상기 도전성 페이스트에 포함되는 (E) 반응성 희석제의 함유량이 1∼10질량%이면, 도전성 페이스트의 점도를 인쇄에 적절한 점도로 조정할 수 있다. 이에 의해, 경화 후에도 충분히 낮은 전기 저항률을 갖는 도전성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.The content of the (E) reactive diluent in the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the conductive paste. It is 6% by mass. When the content of the (E) reactive diluent contained in the conductive paste is 1 to 10% by mass, the viscosity of the conductive paste can be adjusted to a viscosity suitable for printing. Thereby, even after curing, a cured product having a sufficiently low electrical resistivity and excellent in conductivity can be obtained.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트 중의 (F) 엘라스토머의 함유량은, 도전성 페이스트의 전체량 100질량%에 대해, 바람직하게는 0.1∼5질량%이며, 보다 바람직하게는 0.3∼3질량%이다. 상기 도전성 페이스트에 포함되는 (F) 엘라스토머의 함유량이 0.1∼5질량%이면, 도전성 페이스트를 경화시킨 후의 경화물의 탄성률 및 응력을 조정할 수 있다.The content of the elastomer (F) in the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure is preferably 0.1 to 5% by mass, and more preferably 0.3 to 3% with respect to 100% by mass of the total amount of the conductive paste. It is mass%. When the content of the (F) elastomer contained in the conductive paste is 0.1 to 5% by mass, the elastic modulus and stress of the cured product after curing the conductive paste can be adjusted.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트 중의 (G) 커플링제의 함유량은, 도전성 페이스트의 전체량 100질량%에 대해, 바람직하게는 0.03∼10질량%이고, 보다 바람직하게는 0.04∼5질량%이다. 상기 도전성 페이스트에 포함되는 (G) 커플링제의 함유량이 0.03∼10질량%이면, 접착성이 우수한 도전성 페이스트를 얻을 수 있다.The content of the coupling agent (G) in the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure is preferably 0.03 to 10 mass%, more preferably 0.04 to 100 mass% of the total amount of the conductive paste. It is 5% by mass. When the content of the coupling agent (G) contained in the conductive paste is 0.03 to 10% by mass, a conductive paste excellent in adhesion can be obtained.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 각 성분을 소정의 배합으로 유성형 교반기, 디졸버, 비즈 밀, 뇌궤기, 포트 밀, 3본 롤 밀, 회전식 혼합기, 및 2축 믹서 등의 혼합기에 투입하여 혼합함으로써, 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 제조할 수 있다.The method for producing the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure is not particularly limited. A conductive paste for vacuum printing can be prepared by mixing each component in a predetermined blend in a mixer such as a planetary stirrer, a dissolver, a bead mill, a thunderbolt, a pot mill, a three roll mill, a rotary mixer, and a twin-screw mixer. I can.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 대기압 미만의 감압 분위기, 보다 구체적으로는, 50kPa 이하의 감압 분위기 또는 진공 분위기 에 있어서, 스퀴지 및/또는 스크린을 이용하여, 기판 등의 피인쇄물에 인쇄에 의해 도포 또는 충전한 후, 소정의 온도로 가열함으로써, 경화물을 얻을 수 있다. 얻어지는 경화물은 막 형상의 형태여도 된다. 인쇄 후에 도전성 페이스트를 경화시키기 위한 가열 온도는 100∼300℃로 할 수 있고, 바람직하게는 120∼250℃이며, 보다 바람직하게는 150∼200℃이다. 가열 시간은 가열 온도에 따라, 적절히 변경될 수 있다. 가열 시간은 예를 들면, 15∼120분으로 할 수 있고, 바람직하게는 30∼90분이다. 가열은 대기압(표준 기압 101.325kPa) 분위기에서 행해질 수 있다. 가열을 위한 장치로는, 공지의 전기로, 송풍 건조기, 및 벨트로 등을 들 수 있다.The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure is used in a reduced pressure atmosphere of less than atmospheric pressure, more specifically, in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less or a vacuum atmosphere, using a squeegee and/or a screen, to be printed, such as a substrate. After coating or filling by printing, a cured product can be obtained by heating to a predetermined temperature. The obtained cured product may be in the form of a film. The heating temperature for curing the conductive paste after printing may be 100 to 300°C, preferably 120 to 250°C, and more preferably 150 to 200°C. The heating time can be appropriately changed according to the heating temperature. The heating time can be, for example, 15 to 120 minutes, preferably 30 to 90 minutes. Heating can be done in an atmosphere of atmospheric pressure (standard atmospheric pressure 101.325 kPa). As an apparatus for heating, a well-known electric furnace, a blow dryer, a belt furnace, etc. are mentioned.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 사용하여 얻어지는 경화물은 접착성이 우수하고, 충분한 전단 강도(예를 들면, 1.0kN/㎠ 이상)를 갖고 있어, 신뢰성의 점에서 우수하다. 또한, 본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 이용하여 얻어지는 경화물은 전기 저항률이 낮고(예를 들면, 0.8×10-3Ω·㎝ 이하), 충분한 도전성을 갖고 있다. 본 개시의 제1 실시형태에 따른 진공 인쇄용 도전성 페이스트는, 진공 인쇄용 도전성 페이스트로서 바람직하게 사용될 수 있다. 따라서, 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트는, 프린트 회로 기판 상의 도전 회로 및 콘덴서의 전극 등의 형성에 사용될 수 있다. 이 진공 인쇄용 도전성 페이스트는 특히, 3차원 실장에 있어서의 반도체 장치의 부품끼리, 및 기판과 부품 등의 접합에 바람직하게 사용될 수 있다.The cured product obtained by using the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure is excellent in adhesion, has sufficient shear strength (for example, 1.0 kN/cm 2 or more), and is excellent in terms of reliability. . Further, the cured product obtained by using the conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure has a low electrical resistivity (for example, 0.8 × 10 -3 Ω·cm or less) and has sufficient conductivity. The conductive paste for vacuum printing according to the first embodiment of the present disclosure can be preferably used as a conductive paste for vacuum printing. Accordingly, this conductive paste for vacuum printing can be used for forming a conductive circuit on a printed circuit board and an electrode of a capacitor. In particular, this conductive paste for vacuum printing can be suitably used for bonding between components of a semiconductor device in three-dimensional mounting, and bonding of substrates and components, and the like.

실시예Example

이하, 본 개시의 실시형태를 실시예를 이용하여, 보다 구체적으로 설명한다. 본 개시의 기술은 이들 실시예로 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described more specifically using examples. The technique of the present disclosure is not limited to these embodiments.

실시예 1∼15 및 비교예 1∼2Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 2

하기 표 1 및 표 2에 나타내는 배합 비율이 되도록, 각 원료를 3본 롤 밀을 사용하여 혼합 및 분산함으로써, 진공 인쇄용 도전성 페이스트를 제조했다. 표 1 및 표 2 중의 각 조성에 관한 수치는 질량부를 나타낸다. 상기 도전성 페이스트의 조정시에 사용된 원료(각 성분)는 이하와 같다.Conductive pastes for vacuum printing were prepared by mixing and dispersing each raw material using a three roll mill so that the blending ratios shown in Tables 1 and 2 below may be obtained. Numerical values for each composition in Tables 1 and 2 represent parts by mass. The raw materials (each component) used in the adjustment of the conductive paste are as follows.

(A) 도전성 필러(A) conductive filler

(A1) 은 피복 니켈 분말(나믹스 주식회사 제조, 체적 평균 입경(D50): 5㎛). 이 은 피복 니켈 분말에서는, 은과 니켈 분말(니켈의 순도: 99.9질량%)의 합계 100질량부에 대해, 은의 양은 10질량부였다. 이 은 피복 니켈 분말은 일본 특허 제5764294호 공보에 기재된 제조 방법에 의해 제조되었다.(A1) Silver-coated nickel powder (manufactured by Namics Co., Ltd., volume average particle diameter (D50): 5 µm). In this silver-coated nickel powder, the amount of silver was 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of silver and nickel powder (nickel purity: 99.9% by mass). This silver-coated nickel powder was produced by the production method described in Japanese Patent No. 5764294.

(A2) 플레이크 형상 은 분말(상품명: FA2, DOWA 일렉트로닉스 주식회사 제조, 평균 두께(T): 0.3㎛, 체적 평균 입경(D50): 6㎛, 애스펙트비(T/D50): 0.05)(A2) Flaky silver powder (trade name: FA2, manufactured by DOWA Electronics, Inc., average thickness (T): 0.3 μm, volume average particle diameter (D50): 6 μm, aspect ratio (T/D50): 0.05)

(A3) 은 피복 구리 분말(상품명: 아토마이즈 은 분말 HWQ 5㎛, 후쿠다 금속박분 공업 주식회사 제조, 체적 평균 입경(D50): 5㎛). 이 은 피복 구리 분말에서는, 은과 구리의 합계 100질량부에 대해, 은의 양이 10질량부였다.(A3) Silver-coated copper powder (trade name: atomized silver powder HWQ 5 µm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., volume average particle diameter (D50): 5 µm). In this silver-coated copper powder, the amount of silver was 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of silver and copper.

(B) 열경화성 수지(B) thermosetting resin

(B1) 비스페놀 F형 에폭시 수지 및 비스페놀 A형 에폭시 수지 혼합물(상품명: 에피클론 EXA835LV, DIC 주식회사 제조)(B1) Bisphenol F type epoxy resin and bisphenol A type epoxy resin mixture (trade name: Epiclon EXA835LV, manufactured by DIC Corporation)

(B2) 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: AER6072, 아사히카세이 이머티리얼즈 주식회사 제조, AER6072)(B2) Bisphenol A type epoxy resin (trade name: AER6072, manufactured by Asahi Kasei Ematerials, AER6072)

(C) 경화제(C) hardener

(C1) 노볼락형 페놀 수지(상품명: 타마놀 758, 아라카와 화학 공업 주식회사 제조)(C1) novolac-type phenolic resin (trade name: Tamanol 758, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.)

(C2) 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸(상품명: 큐어졸 C11Z-CN, 시코쿠 화성 주식회사 제조)(C2) 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole (trade name: Curesol C11Z-CN, manufactured by Shikoku Chemical Co., Ltd.)

(C3) 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸(상품명: 큐어졸 2P4MHZ-PW, 시코쿠 화성 공업 주식회사 제조)(C3) 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole (trade name: Curesol 2P4MHZ-PW, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)

(D) 용제(D) solvent

(D1) 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트(요네야마 약품 공업 주식회사 제조, 끓는점: 246.7℃, 증기압: 5.3Pa(20℃))(D1) Diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate (manufactured by Yoneyama Pharmaceutical Co., Ltd., boiling point: 246.7°C, vapor pressure: 5.3 Pa (20°C))

(D2) 디메틸프탈레이트(상품명: DMP, 다이하치 화학 공업 주식회사 제조, 끓는점: 282℃, 증기압: 0.8Pa(20℃))(D2) Dimethylphthalate (trade name: DMP, manufactured by Daihachi Chemical Industries, Ltd., boiling point: 282°C, vapor pressure: 0.8Pa (20°C))

(D3) 디에틸렌글리콜모노헥실에테르(상품명: 쿄와놀 HX20, KH 네오켐 주식회사 제조, 끓는점: 260℃, 증기압: 1.3Pa 미만(<1.3Pa)(20℃)). 증기압으로는, 카탈로그 또는 안전 데이터 시트(SDS)에 기재된 값을 기재했다.(D3) Diethylene glycol monohexyl ether (trade name: Kyowanol HX20, manufactured by KH Neochem, Inc., boiling point: 260°C, vapor pressure: less than 1.3Pa (<1.3Pa) (20°C)). As the vapor pressure, the value described in the catalog or safety data sheet (SDS) was described.

(D4) 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부티레이트(상품명: 텍사놀, 나가세 산업 주식회사 제조, 끓는점: 255℃∼261.5℃, 증기압: 1.3Pa(20℃)). 끓는점으로는, 카탈로그 또는 안전 데이터 시트(SDS)에 기재된 값을 기재했다.(D4) 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate (trade name: Texanol, manufactured by Nagase Industries, Ltd., boiling point: 255°C to 261.5°C, vapor pressure: 1.3 Pa (20°C)). As the boiling point, the values described in the catalog or safety data sheet (SDS) were described.

(D5) 부틸카르비톨(다이신 화학 주식회사 제조, 끓는점: 231℃, 증기압: 13Pa(20℃))(D5) Butylcarbitol (manufactured by Daishin Chemical Co., Ltd., boiling point: 231°C, vapor pressure: 13 Pa (20°C))

(D6) 2-페녹시에탄올(상품명: 하이솔브 EPH, 도호 화학 주식회사 제조, 끓는점: 245℃, 증기압: 1.3Pa(20℃))(D6) 2-phenoxyethanol (trade name: Hisolve EPH, manufactured by Toho Chemical Co., Ltd., boiling point: 245°C, vapor pressure: 1.3Pa (20°C))

(D7) 벤질알코올(후지 필름 와코 순약 주식회사 제조, 끓는점: 205℃, 증기압: 13.2Pa(20℃))(D7) Benzyl alcohol (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Co., Ltd., boiling point: 205°C, vapor pressure: 13.2 Pa (20°C))

(D8) 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(상품명: ECA, 다이셀 화학 공업 주식회사 제조, 끓는점: 218.5℃, 증기압: 13.3Pa(20℃))(D8) Diethylene glycol monoethyl ether acetate (trade name: ECA, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., boiling point: 218.5°C, vapor pressure: 13.3 Pa (20°C))

(D9) 2-(2-에톡시에톡시)에탄올(상품명: JCT-EDG, 재팬 켐테크 주식회사 제조, 끓는점: 210.9℃, 증기압: 15.6Pa(20℃))(D9) 2-(2-ethoxyethoxy)ethanol (trade name: JCT-EDG, manufactured by Japan Chemtech Co., Ltd., boiling point: 210.9°C, vapor pressure: 15.6Pa (20°C))

(D10) 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트(다이셀 화학 공업 주식회사 제조, 끓는점: 232℃, 증기압: 0.0026Pa(20℃)). 각 용제의 끓는점은 101.325kPa에 있어서의 끓는점이고, 각 용제의 증기압은 20℃에 있어서의 증기압이다.(D10) 1,3-butylene glycol diacetate (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., boiling point: 232°C, vapor pressure: 0.0026 Pa (20°C)). The boiling point of each solvent is the boiling point in 101.325 kPa, and the vapor pressure of each solvent is the vapor pressure in 20 degreeC.

(E) 반응성 희석제(E) reactive diluent

(E1) 1,2-에폭시-4-(2-메틸옥시라닐)-1-메틸시클로헥산(상품명: 셀록사이드 3000, 다이셀 화학 공업 주식회사 제조)(E1) 1,2-epoxy-4-(2-methyloxiranyl)-1-methylcyclohexane (trade name: Celoxide 3000, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

(E2) 탄소수가 12∼13인 혼합 알코올의 글리시딜에테르(상품명: 에포고세 EN, 욧카이치 합성 주식회사 제조)(E2) Glycidyl ether of mixed alcohol having 12 to 13 carbon atoms (trade name: Epogose EN, manufactured by Yokkaichi Synthesis Co., Ltd.)

(F) 엘라스토머(F) elastomer

(F1) 실리콘 고무(상품명: 실리콘 복합 파우더 KMP-605, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조)(F1) Silicone rubber (trade name: silicone compound powder KMP-605, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.)

(F2) 카르복실기 말단 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(상품명: Hycar-CTBN1300×13, 우베 흥산 주식회사 제조)(F2) Carboxyl-terminated acrylonitrile-butadiene rubber (trade name: Hycar-CTBN1300×13, manufactured by Ube Hungsan Co., Ltd.)

(G) 커플링제(G) coupling agent

(G1) 실란 커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란)(상품명: KBM-403, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조)(G1) Silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.)

레이저 회절 산란법에 의한 체적 평균 입경(D50)Volume average particle diameter (D50) by laser diffraction scattering method

레이저 회절 산란법에 의해, 입자 직경 분포 측정 장치(상품명: 마이크로트랙 MT3000 II, 마이크로트랙 벨 주식회사 제조)를 이용하여, (A1)∼(A3)의 도전성 필러의 체적 평균 입경(메디안 직경: D50)을 측정했다. (A2) 플레이크 형상 은 분말에 관해서는, 주사형 전자 현미경을 이용하여 관찰하고, 20개의 은 분말의 평균 두께(T)를 측정하여, 애스펙트비 T/D50)를 산출했다.By laser diffraction scattering method, using a particle diameter distribution measuring device (trade name: Microtrac MT3000 II, manufactured by Microtrac Bell Corporation), the volume average particle diameter of the conductive fillers (A1) to (A3) (median diameter: D50) Was measured. (A2) The flake-shaped silver powder was observed using a scanning electron microscope, and the average thickness (T) of 20 silver powders was measured, and the aspect ratio T/D50) was calculated.

전기 저항률(비저항값)Electrical resistivity (resistivity value)

1㎜×71㎜의 배선 패턴의 개구부를 갖는 메쉬 스크린 마스크를 사용하여, 대기압(표준 기압 101.325kPa 정도)하에서, 알루미나 기판 상에 각 실시예 및 비교예의 도전성 페이스트를 스크린 인쇄에 의해 도포했다. 도포된 배선 패턴을 160℃에서 30분간 경화시킴으로써, 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물의 두께를 표면 조도 및 윤곽 형상 통합 측정기(상품명: 서프컴 1300SD-2, 주식회사 도쿄 정밀 제조)를 이용하여 측정했다. 얻어진 경화물의 전기 저항값을 디지털 멀티미터(상품명: 키슬리 2001, 주식회사 TFF 키슬리 인스트루먼트 제조)를 이용하여 측정했다. 경화물의 두께 및 전기 저항값으로부터 전기 저항률(비저항값)(10-3Ω·㎝)을 측정했다. 측정 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.Using a mesh screen mask having an opening of a wiring pattern of 1 mm x 71 mm, the conductive pastes of each of the Examples and Comparative Examples were applied by screen printing on an alumina substrate under atmospheric pressure (approximately 101.325 kPa of standard atmospheric pressure). A cured product was obtained by curing the applied wiring pattern at 160°C for 30 minutes. The thickness of the obtained cured product was measured using a surface roughness and contour shape integrated measuring device (trade name: Surfcom 1300SD-2, manufactured by Tokyo Precision Co., Ltd.). The electric resistance value of the obtained cured product was measured using a digital multimeter (trade name: Keithley 2001, manufactured by TFF Keithley Instruments Co., Ltd.). The electrical resistivity (resistivity value) (10 -3 Ω·cm) was measured from the thickness of the cured product and the electrical resistance value. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.

전단 강도Shear strength

가로세로 1.5㎜×25개의 개구부를 갖는 메쉬 스크린 마스크를 사용하여, 대기압(표준 기압 101.325kPa 정도)하에서, 각 실시예 및 비교예의 도전성 페이스트를 가로세로 20㎜의 알루미나 기판 상에 스크린 인쇄에 의해 도포했다. 25개의 블록 형상의 인쇄 패턴 중 10개소의 각각에 3.2㎜×1.5㎜ 사이즈의 알루미나 칩을 탑재했다. 알루미나 칩을 탑재한 인쇄 패턴을 200℃, 30분간 경화시킴으로써, 시험편을 얻었다. 강도 시험기(제품 번호: Model 1605HTP, 아이코 엔지니어링 주식회사 제조)를 이용하여, 가중 속도 12㎜/min에 있어서의 각 시험편의 전단 강도를 측정했다. 측정 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.Using a mesh screen mask having a width of 1.5 mm × 25 openings, under atmospheric pressure (standard atmospheric pressure of about 101.325 kPa), conductive pastes of each of the Examples and Comparative Examples were applied by screen printing on an alumina substrate having a width of 20 mm. did. An alumina chip having a size of 3.2 mm x 1.5 mm was mounted in each of 10 locations among 25 block-shaped printing patterns. A test piece was obtained by curing the printed pattern on which the alumina chip was mounted at 200° C. for 30 minutes. Using a strength tester (product number: Model 1605HTP, manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd.), the shear strength of each test piece at a weighting speed of 12 mm/min was measured. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.

진공 인쇄에 의한 점도 변화율Viscosity change rate by vacuum printing

진공 인쇄기(제품 번호: LS-100VC, 뉴롱 정밀 공업 주식회사 제조)를 이용하여, 각 실시예 및 비교예의 도전성 페이스트를 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서, 알루미나 기판 상에 1000회에 걸쳐 스크린 인쇄했다. 스크린 인쇄 전의 각 실시예 및 비교예의 도전성 페이스트의 점도와, 1000회의 스크린 인쇄 후의 각 실시예 및 비교예의 도전성 페이스트의 점도를 브룩필드 점도계(제품 번호: HBDV-1, 브룩필드사 제조)를 이용하고, 25℃에서 14호 로터를 이용하여, 10rpm에서 측정했다. 이하의 식 (1)에 나타내는 바와 같이, 인쇄 후의 점도에서 인쇄 전의 점도를 빼고, 인쇄 전의 점도로 나눈 값의 비율을 진공 인쇄에 의한 점도 변화율로서 측정했다. 측정 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.Using a vacuum printer (product number: LS-100VC, manufactured by Neuron Precision Industries, Ltd.), the conductive pastes of each of the Examples and Comparative Examples were screen-printed over 1000 times on an alumina substrate in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less. The viscosity of the conductive pastes of Examples and Comparative Examples before screen printing and the viscosity of the conductive pastes of Examples and Comparative Examples after 1000 screen printing were measured using a Brookfield viscometer (product number: HBDV-1, manufactured by Brookfield Corporation). , It measured at 10 rpm using a No. 14 rotor at 25 degreeC. As shown in the following equation (1), the viscosity before printing was subtracted from the viscosity after printing, and the ratio of the value divided by the viscosity before printing was measured as the rate of change in viscosity by vacuum printing. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.

실시예 1의 도전성 페이스트에서는, 인쇄 전의 점도가 156Pa·s이고, 인쇄 후의 점도가 171Pa·s이며, 진공 인쇄에 의한 점도 변화율이 10%였다. 실시예 2의 도전성 페이스트에서는, 인쇄 전의 점도가 468Pa·s이고, 인쇄 후의 점도가 540Pa·s이며, 진공 인쇄에 의한 점도 변화율이 15%였다. 실시예 3의 도전성 페이스트에서는, 인쇄 전의 점도가 12Pa·s이고, 인쇄 후의 점도가 14Pa·s이며, 진공 인쇄에 의한 점도 변화율이 17%였다.In the conductive paste of Example 1, the viscosity before printing was 156 Pa·s, the viscosity after printing was 171 Pa·s, and the viscosity change rate by vacuum printing was 10%. In the conductive paste of Example 2, the viscosity before printing was 468 Pa·s, the viscosity after printing was 540 Pa·s, and the viscosity change rate by vacuum printing was 15%. In the conductive paste of Example 3, the viscosity before printing was 12 Pa·s, the viscosity after printing was 14 Pa·s, and the viscosity change rate by vacuum printing was 17%.

(1) 점도 변화율(%)=[인쇄 후의 도전성 페이스트의 점도(Pa·s)-인쇄 전의 도전성 페이스트의 점도(Pa·s)]÷인쇄 전의 도전성 페이스트의 점도(Pa·s)×100(1) Viscosity change rate (%) = [Viscosity of conductive paste after printing (Pa·s)-viscosity of conductive paste before printing (Pa·s)] ÷ viscosity of conductive paste before printing (Pa·s)×100

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

표 1 및 표 2에 나타내는 바와 같이, 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 (D) 용제를 포함하는 실시예 1∼15의 도전성 페이스트에서는, 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서의 진공 인쇄에 의한 점도 변화율이 20% 미만이다. 이 때문에, 진공 인쇄를 행할 때의 50kPa 이하의 감압 분위기에서도, 용제가 휘발되기 어려워, 도전성 페이스트의 점도의 상승이 억제된다. 이에 의해, 진공 인쇄에 있어서의 인쇄성을 양호하게 유지할 수 있다.As shown in Tables 1 and 2, in the conductive pastes of Examples 1 to 15 containing a solvent (D) having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C, vacuum printing in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less was performed. The rate of change in viscosity is less than 20%. For this reason, even in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less at the time of performing vacuum printing, the solvent is less likely to be volatilized, and an increase in the viscosity of the conductive paste is suppressed. Thereby, printability in vacuum printing can be maintained satisfactorily.

또한, 실시예 1∼15의 도전성 페이스트에서는, 전단 강도가 1.0kN/㎠ 이상이며, 가열 경화시에는 용제가 충분히 휘발된다. 이 때문에, 이들 도전성 페이스트는 피인쇄물에 대한 접착성이 우수하다. 또한, 실시예 1∼15의 도전성 페이스트에서는, 경화 후의 전기 저항률이 1.0×10-3Ω·㎝ 이하, 보다 구체적으로는 0.8×10-3Ω·㎝ 이하이다. 즉, 이들 도전성 페이스트의 경화물은 전기 저항률이 낮고, 우수한 도전성을 갖고 있다.In addition, in the conductive pastes of Examples 1 to 15, the shear strength is 1.0 kN/cm 2 or more, and the solvent is sufficiently volatilized at the time of heat curing. For this reason, these electroconductive pastes are excellent in adhesion to the object to be printed. In addition, in the conductive pastes of Examples 1 to 15, the electrical resistivity after curing is 1.0 × 10 -3 Ω·cm or less, more specifically 0.8 × 10 -3 Ω·cm or less. That is, the cured product of these conductive pastes has low electrical resistivity and excellent conductivity.

한편, 표 1 및 표 2에 나타내는 바와 같이, 20℃에 있어서의 증기압이 15Pa 이상인 용제를 포함하는 비교예 1의 도전성 페이스트에서는, 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서의 진공 인쇄에 의한 점도 변화율이 20%를 초과할 정도로 크다. 이 때문에, 진공 인쇄를 행할 때의 50kPa 이하의 감압 분위기에 있어서, 용제가 휘발하고, 점도가 상승하여, 진공 인쇄에 있어서의 인쇄성이 저하되어 있다.On the other hand, as shown in Tables 1 and 2, in the conductive paste of Comparative Example 1 containing a solvent having a vapor pressure of 15 Pa or more at 20°C, the viscosity change rate by vacuum printing in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less was 20%. It is large enough to exceed For this reason, in a reduced pressure atmosphere of 50 kPa or less when performing vacuum printing, the solvent volatilizes, the viscosity increases, and the printability in vacuum printing is deteriorated.

또한, 표 1 및 표 2에 나타내는 바와 같이, 20℃에 있어서의 증기압이 0.8Pa 미만인 용제를 포함하는 비교예 2의 도전성 페이스트에서는, 전단 강도가 1.0kN/㎠ 미만으로 낮다. 이 때문에, 경화시의 열에 의해서도 용제가 휘발하지 않고 경화물 중에 잔존하여, 얻어진 경화물의 접착성이 저하되어 있다. 20℃에 있어서의 증기압이 0.8Pa 미만인 용제를 포함하는 비교예 2의 도전성 페이스트에서는, 경화시의 열에 의해서도 용제가 휘발하지 않고 경화물 중에 잔존하고 있다. 이 때문에, 비교예 2의 도전성 페이스트에 있어서의 전기 저항률은 0.9×10-3Ω·㎝로 실시예에 비해 높고, 비교예 2의 도전성 페이스트의 도전성도 저하되어 있다.In addition, as shown in Tables 1 and 2, in the conductive paste of Comparative Example 2 containing a solvent having a vapor pressure of less than 0.8 Pa at 20°C, the shear strength is as low as less than 1.0 kN/cm 2. For this reason, the solvent does not volatilize even by heat at the time of curing and remains in the cured product, and the adhesiveness of the obtained cured product is deteriorated. In the conductive paste of Comparative Example 2 containing a solvent having a vapor pressure of less than 0.8 Pa at 20°C, the solvent does not volatilize even by heat during curing and remains in the cured product. For this reason, the electrical resistivity of the conductive paste of Comparative Example 2 is 0.9×10 −3 Ω·cm, which is higher than that of the example, and the conductivity of the conductive paste of Comparative Example 2 is also lowered.

본 개시의 제1 실시형태에 따른 도전성 페이스트는, 진공 인쇄용 도전성 페이스트로서 바람직하게 사용될 수 있다. 또한, 이 도전성 페이스트는, 프린트 회로 기판 상의 도전 회로 및 콘덴서의 전극 등의 형성에 사용될 수 있다. 본 개시의 제1 실시형태에 따른 도전성 페이스트는 특히, 3차원 실장에 있어서의 반도체 장치 부품끼리, 및 기판과 부품 등의 접합에 바람직하게 사용될 수 있다.The conductive paste according to the first embodiment of the present disclosure can be preferably used as a conductive paste for vacuum printing. Further, this conductive paste can be used for formation of a conductive circuit on a printed circuit board and an electrode of a capacitor. In particular, the conductive paste according to the first embodiment of the present disclosure can be preferably used for bonding between semiconductor device components and substrates and components in three-dimensional mounting.

Claims (12)

(A) 도전성 필러와, (B) 열경화성 수지와, (C) 경화제와, (D) 20℃에 있어서의 증기압이 0.8∼15Pa인 용제를 포함하는 진공 인쇄용 도전성 페이스트.A conductive paste for vacuum printing containing (A) a conductive filler, (B) a thermosetting resin, (C) a curing agent, and (D) a solvent having a vapor pressure of 0.8 to 15 Pa at 20°C. 제 1 항에 있어서,
상기 (D) 용제의 101.325kPa의 압력 분위기에 있어서의 끓는점이 180∼290℃인 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method of claim 1,
The conductive paste for vacuum printing of the above (D) solvent having a boiling point of 180 to 290°C in a pressure atmosphere of 101.325 kPa.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
추가로 (E) 반응성 희석제를 포함하는 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to claim 1 or 2,
Further (E) a conductive paste for vacuum printing containing a reactive diluent.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (A) 도전성 필러가 은, 니켈, 구리 및 이들의 합금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 금속으로 이루어지는 금속 분말, 및 금속 피복 도전 분말로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A conductive paste for vacuum printing, wherein the (A) conductive filler contains at least one selected from the group consisting of a metal powder made of a metal selected from the group consisting of silver, nickel, copper, and alloys thereof, and a metal-coated conductive powder.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B) 열경화성 수지가 에폭시 수지, (메타)아크릴 수지 및 페놀 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지인 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The (B) thermosetting resin is at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a (meth)acrylic resin, and a phenol resin.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (C) 경화제가 페놀계 경화제 및 이미다졸계 경화제인 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The (C) curing agent is a phenol-based curing agent and an imidazole-based curing agent, a conductive paste for vacuum printing.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (D) 용제가 알코올류, 글리콜에테르류, 고리형 에스테르류, 글리콜에테르에스테르류 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The conductive paste for vacuum printing in which the solvent (D) is selected from alcohols, glycol ethers, cyclic esters, glycol ether esters, and mixtures thereof.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (D) 용제가 부틸카르비톨, 벤질알코올, 2-페녹시에탄올, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디메틸프탈레이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 및 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부티레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 7,
The solvent (D) is butyl carbitol, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, diethylene glycol monohexyl ether, dimethyl phthalate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and 2,2, Conductive paste for vacuum printing, which is at least one selected from the group consisting of 4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutyrate.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (F) 엘라스토머를 포함하는 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 8,
Further (F) a conductive paste for vacuum printing containing an elastomer.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (G) 커플링제를 포함하는 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 9,
Further (G) a conductive paste for vacuum printing containing a coupling agent.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B) 열경화성 수지의 함유량이 상기 (A) 도전성 필러 100질량부에 대해 1∼15질량부인 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 10,
The conductive paste for vacuum printing in which the content of the (B) thermosetting resin is 1 to 15 parts by mass per 100 parts by mass of the (A) conductive filler.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (D) 용제의 함유량이 상기 (A) 도전성 필러 100질량부에 대해 1∼30질량부인 진공 인쇄용 도전성 페이스트.
The method according to any one of claims 1 to 11,
The conductive paste for vacuum printing in which the content of the solvent (D) is 1 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the (A) conductive filler.
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