JP5200662B2 - Conductive adhesive and electronic components - Google Patents

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Description

本発明は、導電性接着剤およびこれを用いた電子部品に関する。   The present invention relates to a conductive adhesive and an electronic component using the same.

従来、コンデンサ素子などの電子素子チップを外部電極に接合する際に、導電性接着剤が使用されることが多い。
このような導電性接着剤として、エポキシ樹脂とフェノール樹脂とイミダゾール化合物と導電性金属粒子とを含有する導電性接着剤が提案されている(例えば特許文献1)。
また、導電性接着剤に有機カルボン酸などの酸化膜除去剤を配合して導電性金属粒子の表面酸化膜を除去し、導電性を向上させる技術も知られている(例えば特許文献2)。
特開2000−192000号公報 特開平8−302312号公報
Conventionally, a conductive adhesive is often used when an electronic element chip such as a capacitor element is bonded to an external electrode.
As such a conductive adhesive, a conductive adhesive containing an epoxy resin, a phenol resin, an imidazole compound, and conductive metal particles has been proposed (for example, Patent Document 1).
Also known is a technique for improving the conductivity by removing an oxide film removing agent such as organic carboxylic acid in the conductive adhesive to remove the surface oxide film of the conductive metal particles (for example, Patent Document 2).
JP 2000-192000 A Japanese Patent Laid-Open No. 8-30212

しかしながら、従来のフェノール樹脂を含有する導電性接着剤においては、特許文献1にも記載のように、導電性接着剤の製造時に例えば50℃程度の加温下で各成分を混合させる必要があり、製造に手間がかかった。また、フェノール樹脂を溶解させるためには、多量の反応性希釈剤を使用する必要があったが、多量の反応性希釈剤を含有する導電性接着剤では、その硬化物の接着強度が不十分になってしまうという問題があった。
そこで、本発明者らは、エポキシ樹脂とフェノール樹脂として室温で液状のものを選択することで、製造時の手間や硬化物の接着強度を改善し、さらに、このような導電性接着剤について酸化膜除去剤を配合することで、より高い導電性をも発揮させようとする技術について検討を行っている。
However, in the conventional conductive adhesive containing a phenol resin, as described in Patent Document 1, it is necessary to mix each component under heating of, for example, about 50 ° C. during the production of the conductive adhesive. , It took time to manufacture. In addition, in order to dissolve the phenol resin, it was necessary to use a large amount of reactive diluent, but the conductive adhesive containing a large amount of reactive diluent has insufficient adhesive strength of the cured product. There was a problem of becoming.
Accordingly, the present inventors have improved the labor during production and the adhesive strength of the cured product by selecting liquid epoxy resins and phenolic resins at room temperature, and further oxidized such conductive adhesives. We are investigating a technique to achieve higher conductivity by blending a film remover.

ところが、室温で液状のエポキシ樹脂とフェノール樹脂とを使用した導電性接着剤は反応性が非常に高く、これに従来公知の有機カルボン酸などの酸化膜除去剤を配合した場合、導電性接着剤の製造時や使用前に酸化膜除去剤がエポキシ樹脂と反応したり、さらにはエポキシ樹脂とフェノール樹脂の反応に対して促進剤的に作用したりして、ゲル化したり増粘したりするという問題があった。   However, a conductive adhesive using a liquid epoxy resin and a phenol resin at room temperature has a very high reactivity, and when a known oxide film remover such as an organic carboxylic acid is blended with this, a conductive adhesive is used. The oxide film remover reacts with the epoxy resin during the manufacture and before use, and further acts as an accelerator for the reaction between the epoxy resin and the phenol resin, causing gelation or thickening. There was a problem.

本発明は上記事情を鑑みてなされたもので、室温で液状のエポキシ樹脂とフェノール樹脂を含有する導電性接着剤に酸化膜除去剤を配合した場合であっても、製造時や使用前のゲル化や増粘が抑制され、導電性も良好な導電性接着剤とこれを用いた電子部品の提供を課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and even when an oxide film remover is blended with a conductive adhesive containing a liquid epoxy resin and a phenol resin at room temperature, the gel before production or use It is an object of the present invention to provide a conductive adhesive that can be prevented from being thickened and thickened and has good conductivity, and an electronic component using the same.

本発明者らは鋭意検討した結果、酸化膜除去剤として潜在性グルタル酸発生化合物を特定量使用することによって、室温で液状のエポキシ樹脂とフェノール樹脂を含有する導電性接着剤の場合でも、製造時や使用前のゲル化や増粘が抑制され、導電性も良好となることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have produced a specific amount of a latent glutaric acid generating compound as an oxide film removing agent, thereby producing a conductive adhesive containing a liquid epoxy resin and a phenol resin at room temperature. It has been found that gelation and thickening before use and use are suppressed, and that the conductivity is good, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の導電性接着剤は、室温で液状のエポキシ樹脂と、室温で液状のフェノール樹脂と、反応性希釈剤と、イミダゾール化合物と、銀粉および/または銀コート金属粉とを含有する導電性接着剤であって、潜在性グルタル酸発生化合物を0.05〜5質量%の範囲でさらに含有することを特徴とする。
また、本発明の電子部品は、前記導電性接着剤を用いて製造されたことを特徴とする。
なお、本発明において「室温」とは、10〜40℃の範囲を意味する。
That is, the conductive adhesive of the present invention is a conductive material containing an epoxy resin that is liquid at room temperature, a phenol resin that is liquid at room temperature, a reactive diluent, an imidazole compound, and silver powder and / or silver-coated metal powder. The adhesive is characterized by further containing a latent glutaric acid generating compound in the range of 0.05 to 5% by mass.
The electronic component of the present invention is manufactured using the conductive adhesive.
In the present invention, “room temperature” means a range of 10 to 40 ° C.

本発明によれば、室温で液状のエポキシ樹脂とフェノール樹脂を含有する導電性接着剤に酸化膜除去剤を配合した場合であっても、製造時や使用前のゲル化や増粘が抑制され、導電性も良好な導電性接着剤とこれを用いた電子部品とを提供できる。   According to the present invention, even when an oxide film remover is added to a conductive adhesive containing an epoxy resin and a phenol resin that are liquid at room temperature, gelation and thickening before production and use are suppressed. Further, it is possible to provide a conductive adhesive having good conductivity and an electronic component using the same.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の導電性接着剤は、エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、反応性希釈剤と、イミダゾール化合物と、導電性金属粒子として作用する銀粉および/または銀コート金属粉とを含有し、さらに酸化膜除去剤として潜在性グルタル酸発生化合物を含むものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The conductive adhesive of the present invention contains an epoxy resin, a phenol resin, a reactive diluent, an imidazole compound, and silver powder and / or silver-coated metal powder acting as conductive metal particles, and further an oxide film It contains a latent glutaric acid generating compound as a remover.

本発明に用いられるエポキシ樹脂は、バインダーとして導電性接着剤に含有されるものであり、室温で液状である。
このようなエポキシ樹脂としては、ビスフェノールF型のエポキシ樹脂、ビスフェノールA型のエポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ナフタレン系、フェノールノボラック系のエポキシ樹脂、フタル酸エステル系のエポキシ樹脂などが挙げられる。中でもビスフェノールF型のエポキシ樹脂、フタル酸エステル系のエポキシ樹脂が好ましい。これらエポキシ樹脂は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
エポキシ樹脂の含有量は、当該導電性接着剤100質量%中、2〜10質量%が好ましく、3〜8質量%がより好ましい。エポキシ樹脂の含有量の下限値が上記値より小さくなると、接着強度が弱くなり、接着剤として機能しにくくなる。一方、含有量の上限値が上記値より大きくなると、銀粉および/または銀コート金属粉の接続が悪くなり、導電性が得られにくくなる。
The epoxy resin used in the present invention is contained in the conductive adhesive as a binder and is liquid at room temperature.
Examples of such epoxy resins include bisphenol F-type epoxy resins, bisphenol A-type epoxy resins, urethane-modified epoxy resins, rubber-modified epoxy resins, naphthalene-based, phenol novolac-based epoxy resins, and phthalate-based epoxy resins. Is mentioned. Of these, bisphenol F type epoxy resins and phthalate ester type epoxy resins are preferred. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
The content of the epoxy resin is preferably 2 to 10% by mass and more preferably 3 to 8% by mass in 100% by mass of the conductive adhesive. When the lower limit value of the content of the epoxy resin is smaller than the above value, the adhesive strength becomes weak and it becomes difficult to function as an adhesive. On the other hand, when the upper limit value of the content is larger than the above value, the connection of silver powder and / or silver-coated metal powder becomes poor, and it becomes difficult to obtain conductivity.

本発明に用いられるフェノール樹脂は、硬化剤として導電性接着剤に含有されるものであり、室温で液状である。室温で液状のフェノール樹脂は、容易に他の各成分に溶解するため、後述する反応性希釈剤を多量に用いる必要がなく、反応性希釈剤の含有量を低減できる。その結果、導電性接着剤を硬化させた硬化物の接着強度を向上できる。
また、室温で液状のフェノール樹脂を用いることで、導電性接着剤を無溶剤型の接着剤とすることができる。
The phenol resin used in the present invention is contained in a conductive adhesive as a curing agent and is liquid at room temperature. Since the phenol resin that is liquid at room temperature readily dissolves in other components, it is not necessary to use a large amount of the reactive diluent described later, and the content of the reactive diluent can be reduced. As a result, the adhesive strength of the cured product obtained by curing the conductive adhesive can be improved.
Moreover, a conductive adhesive can be made into a solventless type adhesive by using a liquid phenol resin at room temperature.

このようなフェノール樹脂としては、液状ノボラック型フェノール樹脂が挙げられる。
フェノール樹脂の含有量は、当該導電性接着剤100質量%中、2〜10質量%が好ましく、3〜8質量%がより好ましい。フェノール樹脂の含有量の下限値が上記値より小さくなると、導電性接着剤の接着強度を十分に高めることができなくなる。一方、含有量の上限値が上記値より大きくなると、高温高湿下やヒートサイクル下での抵抗が上昇する。
Examples of such a phenol resin include a liquid novolac type phenol resin.
The content of the phenol resin is preferably 2 to 10% by mass and more preferably 3 to 8% by mass in 100% by mass of the conductive adhesive. When the lower limit of the phenol resin content is smaller than the above value, the adhesive strength of the conductive adhesive cannot be sufficiently increased. On the other hand, when the upper limit value of the content is larger than the above value, the resistance under high temperature and high humidity or heat cycle increases.

また、フェノール樹脂は、前記エポキシ樹脂100質量部に対して、50〜250質量部含まれることが好ましく、より好ましくは80〜150質量部である。エポキシ樹脂に対するフェノール樹脂の含有量が上記範囲内であれば、エポキシ樹脂(主剤)とフェノール樹脂(硬化剤)の含有量のバランスがより良好となり、導電性接着剤が硬化しやすくなり、接着強度も向上しやすくなる。     Moreover, it is preferable that 50-250 mass parts is contained with respect to 100 mass parts of said epoxy resins, and, more preferably, a phenol resin is 80-150 mass parts. If the content of the phenol resin with respect to the epoxy resin is within the above range, the balance between the content of the epoxy resin (main agent) and the phenol resin (curing agent) becomes better, the conductive adhesive becomes easier to cure, and the adhesive strength It will be easier to improve.

なお、本発明においては、室温で液状のフェノール樹脂に、該フェノール樹脂の特性を損なわない範囲内で、室温で固形のフェノール樹脂を1種以上含有させてもよい。
室温で固形のフェノール樹脂としては、クレゾールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン系フェノール樹脂、テルペン系フェノール樹脂、トリフェノールメタン系樹脂、フェノールアラルキル樹脂などが挙げられる。
室温で固形のフェノール樹脂の含有量は、室温で液状のフェノール樹脂100質量部に対して、0〜20質量部が好ましい。
In the present invention, the phenol resin that is liquid at room temperature may contain one or more phenol resins that are solid at room temperature within a range that does not impair the properties of the phenol resin.
Examples of the phenol resin solid at room temperature include cresol novolac resin, dicyclopentadiene phenol resin, terpene phenol resin, triphenolmethane resin, and phenol aralkyl resin.
The content of the phenol resin that is solid at room temperature is preferably 0 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenol resin that is liquid at room temperature.

反応性希釈剤としては、グリシジルオルトトルイジン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。中でもグリシジルオルトトルイジンが好ましい。これら反応性希釈剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。     Reactive diluents include glycidyl orthotoluidine, ethylene glycol diglycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, phenyl glycidyl ether Polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and the like. Of these, glycidyl orthotoluidine is preferable. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more.

反応性希釈剤の含有量は、当該導電性接着剤100質量%中、2〜10質量%が好ましく、3〜8質量%がより好ましい。反応性希釈剤の含有量の下限値が上記値より小さくなると、導電性接着剤とした際の粘度が高くなりすぎ、後述する銀粉および/または銀コート金属粉の分散性が低下する。その結果、導電性接着剤が塗布しにくいものとなり、作業性が低下する。一方、含有量の上限値が上記値より大きくなると、導電性接着剤の硬化物がもろくなり、接着強度が低下する。     The content of the reactive diluent is preferably 2 to 10% by mass and more preferably 3 to 8% by mass in 100% by mass of the conductive adhesive. When the lower limit value of the content of the reactive diluent is smaller than the above value, the viscosity of the conductive adhesive becomes too high, and the dispersibility of silver powder and / or silver-coated metal powder described later is lowered. As a result, the conductive adhesive is difficult to apply, and workability is reduced. On the other hand, when the upper limit value of the content is larger than the above value, the cured product of the conductive adhesive becomes brittle and the adhesive strength decreases.

イミダゾール化合物は硬化促進剤として導電性接着剤に含有される。
イミダゾール化合物が含まれると、導電性接着剤の硬化性が良好となり、その結果、硬化物の耐熱性が向上する。
このようなイミダゾール化合物としては、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、4,4’−メチレンビス(2−エチル−5−メチルイミダゾール)、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール系エポキシ硬化促進剤などが挙げられる。これらイミダゾール化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The imidazole compound is contained in the conductive adhesive as a curing accelerator.
When the imidazole compound is contained, the curability of the conductive adhesive becomes good, and as a result, the heat resistance of the cured product is improved.
Examples of such imidazole compounds include 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, and 4,4′-methylenebis (2-ethyl-5-methylimidazole). And imidazole-based epoxy curing accelerators such as 2-heptadecylimidazole. These imidazole compounds may be used alone or in combination of two or more.

イミダゾール化合物の含有量は、当該導電性接着剤100質量%中、0.05〜0.9質量%が好ましく、0.1〜0.5質量%がより好ましく、0.2〜0.4質量%がさらに好ましい。イミダゾール化合物の含有量の下限値が上記値より小さくなると、硬化性が低下する。一方、含有量の上限値が上記値より大きくなると、導電性接着剤を仮硬化させる場合は、仮硬化条件(仮硬化時間や仮硬化温度など)の設定範囲が狭まり、作業性が低下する。     The content of the imidazole compound is preferably 0.05 to 0.9 mass%, more preferably 0.1 to 0.5 mass%, and 0.2 to 0.4 mass% in 100 mass% of the conductive adhesive. % Is more preferable. When the lower limit of the content of the imidazole compound is smaller than the above value, curability is lowered. On the other hand, when the upper limit value of the content is larger than the above value, when the conductive adhesive is temporarily cured, the setting range of the temporary curing conditions (such as the temporary curing time and the temporary curing temperature) is narrowed, and the workability is lowered.

導電性金属粒子としては、銀粉、銀コート金属粉のうち少なくとも一方を使用する。銀コート金属粉としては、例えば、銅粉、ニッケル粉に銀メッキを施した銀メッキ銅粉、銀メッキニッケル粉などが使用できる。
銀粉および/または銀コート金属粉の形状は、略球形であっても、フレーク状であってもよいが、フレーク状が好ましい。粒子径には特に制限はないが、導電性の点から、1〜20μmが好ましく、3〜10μmがさらに好ましい。また、銀粉および/または銀コート金属粉のタップ密度は、好ましくは4.2〜6.0g/cm、より好ましくは4.5〜5.8g/cmである。タップ密度の下限値が上記値より小さくなると、得られる導電性接着剤の粘度が高くなり、作業性が低下する。一方、タップ密度の上限値が上記値より大きくなると、導電性接着剤の製造自体が難しくなる傾向にある。
銀粉および/または銀コート金属粉の含有量は、当該導電性接着剤100質量%中、70〜92質量%が好ましく、75〜90質量%がより好ましい。銀粉および/または銀コート金属粉の含有量の下限値が上記値より小さくなると、銀粉および/または銀コート金属粉の接続が悪くなり、導電性が得られにくくなる。一方、含有量の上限値が上記値より大きくなると、接着強度が弱くなると共に、必要以上にコストが上がってしまう。
なお、導電性金属粒子としては、銀粉および/または銀コート金属粉の他に、ニッケル粉、銅粉などの他の粒子を特性が損なわれない範囲で使用してもよい。
As the conductive metal particles, at least one of silver powder and silver-coated metal powder is used. Examples of the silver-coated metal powder that can be used include copper powder, silver-plated copper powder obtained by applying silver plating to nickel powder, and silver-plated nickel powder.
The shape of the silver powder and / or silver-coated metal powder may be substantially spherical or flaky, but is preferably flaky. Although there is no restriction | limiting in particular in a particle diameter, 1-20 micrometers is preferable from a conductive point, and 3-10 micrometers is more preferable. Moreover, the tap density of silver powder and / or silver-coated metal powder is preferably 4.2~6.0g / cm 3, more preferably 4.5~5.8g / cm 3. When the lower limit value of the tap density is smaller than the above value, the viscosity of the obtained conductive adhesive is increased, and workability is lowered. On the other hand, when the upper limit value of the tap density is larger than the above value, the production of the conductive adhesive tends to be difficult.
The content of the silver powder and / or the silver-coated metal powder is preferably 70 to 92% by mass and more preferably 75 to 90% by mass in 100% by mass of the conductive adhesive. When the lower limit of the content of silver powder and / or silver-coated metal powder is smaller than the above value, the connection of silver powder and / or silver-coated metal powder becomes poor, and it becomes difficult to obtain conductivity. On the other hand, when the upper limit of the content is larger than the above value, the adhesive strength is weakened and the cost is increased more than necessary.
In addition to silver powder and / or silver coat metal powder, other particles such as nickel powder and copper powder may be used as the conductive metal particles as long as the characteristics are not impaired.

また、銀粉および/または銀コート金属粉と、樹脂成分(すなわち、前記エポキシ樹脂および前記フェノール樹脂の合計)の質量比(固形分比)は、銀粉および/または銀コート金属粉:樹脂成分=80:20〜96:4が好ましく、85:15〜93:7がより好ましい。銀粉と、樹脂成分の質量比が上記範囲内であれば、導電性、接着強度ともに優れた硬化物となる。     The mass ratio (solid content ratio) of the silver powder and / or silver-coated metal powder and the resin component (that is, the total of the epoxy resin and the phenol resin) is as follows: silver powder and / or silver-coated metal powder: resin component = 80 : 20 to 96: 4 is preferable, and 85:15 to 93: 7 is more preferable. If the mass ratio of the silver powder and the resin component is within the above range, the cured product is excellent in both conductivity and adhesive strength.

本発明に用いられる潜在性グルタル酸発生化合物は、酸化膜除去剤として配合され、導電性接着剤の導電性を向上させるものであって、グルタル酸とビニルエーテル化合物とが反応し、グルタル酸の有するカルボキシル基がビニルエーテル化合物でブロックされた化合物(ブロックカルボン酸)である。
潜在性グルタル酸発生化合物が配合された導電性接着剤では、導電性接着剤の製造時や使用前にゲル化や増粘が起こることなく、高い導電性が発揮される。この理由については、次のように考えられる。すなわち、潜在性グルタル酸化合物では、カルボン酸の活性がビニルエーテル化合物によってブロックされているため、導電性接着剤に配合されただけでは、エポキシ樹脂と反応したり、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の反応に対して促進剤的に作用したりしない。よって、製造時や使用前のゲル化や増粘が抑制される。その一方で、この潜在性グルタル酸発生化合物が配合された導電性接着剤を使用時において加熱、硬化させた場合には、加熱によりブロックがはずれてカルボン酸の活性が発現して酸化膜除去剤として作用し、導電性向上効果が発現すると考えられる。
このように潜在性グルタル酸発生化合物を配合すると、導電性接着剤の導電性が向上するため、一定の導電性を得るために使用する銀粉および/または銀コート金属粉の量を低く抑えることができ、コスト的に有利な導電性接着剤を提供することも可能となる。
The latent glutaric acid generating compound used in the present invention is blended as an oxide film removing agent and improves the conductivity of the conductive adhesive. The glutaric acid reacts with the vinyl ether compound to have glutaric acid. A compound in which a carboxyl group is blocked with a vinyl ether compound (block carboxylic acid).
In the conductive adhesive in which the latent glutaric acid generating compound is blended, high conductivity is exhibited without causing gelation or thickening during the production or use of the conductive adhesive. The reason is considered as follows. That is, in the latent glutaric acid compound, the activity of the carboxylic acid is blocked by the vinyl ether compound, so that it reacts with the epoxy resin or reacts with the epoxy resin and the phenol resin only when blended in the conductive adhesive. Does not act as an accelerator. Therefore, gelation and thickening before production and use are suppressed. On the other hand, when the conductive adhesive compounded with this latent glutaric acid generating compound is heated and cured at the time of use, the block is released by heating and the activity of carboxylic acid is expressed, thereby removing the oxide film. It is considered that the effect of improving conductivity is exhibited.
When the latent glutaric acid generating compound is blended in this way, the conductivity of the conductive adhesive is improved, so that the amount of silver powder and / or silver-coated metal powder used to obtain a certain level of conductivity can be kept low. It is also possible to provide a conductive adhesive that is advantageous in terms of cost.

このように、製造時や使用前のゲル化や増粘が抑制され、使用時には高い導電性が発揮されるという優れた効果は、酸化膜除去剤として潜在性グルタル酸発生化合物を用いた場合にのみ得られる。例えば、同様にカルボキシル基がブロックされた潜在性アジピン酸発生化合物や潜在性オレイン酸発生化合物を使用した場合には、高い導電性は得られるものの、ゲル化や増粘を抑制する効果は得られない。   Thus, the excellent effect that gelation and thickening before production and use are suppressed and high conductivity is exhibited at the time of use is obtained when a latent glutaric acid generating compound is used as an oxide film removing agent. Can only be obtained. For example, when a latent adipic acid generating compound or a latent oleic acid generating compound in which a carboxyl group is similarly blocked is used, high conductivity is obtained, but the effect of suppressing gelation and thickening is obtained. Absent.

潜在性グルタル酸発生化合物の製造に使用されるビニルエーテル化合物としては、脂肪族ビニルエーテル、脂肪族ビニルチオエーテル、環状ビニルエーテル、環状ビニルチオエーテルが挙げられる。
前記脂肪族ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物;ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−ビスビニルオキシメチルシクロヘキセン、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、1,4−ベンゼンジビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル等のジビニルエーテル化合物;トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のトリビニルエーテル化合物;ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等のテトラビニルエーテル化合物等が挙げられる。また、脂肪族ビニルチオエーテルとしては、前記脂肪族ビニルエーテルの例示に対応するチオ化合物が挙げられる。
Examples of the vinyl ether compound used for the production of the latent glutaric acid generating compound include aliphatic vinyl ether, aliphatic vinyl thioether, cyclic vinyl ether, and cyclic vinyl thioether.
Examples of the aliphatic vinyl ether include monovinyl ether compounds such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether; butanediol divinyl ether, cyclohexane Diol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, trimethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,4-bisvinyloxymethylcyclohexene, tetraethylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, hexanediol di Bini Ether, polyethylene glycol divinyl ether, pentanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, nonanediol divinyl ether, 1,4-benzene divinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, etc. Divinyl ether compounds; trivinyl ether compounds such as trimethylolpropane trivinyl ether; and tetravinyl ether compounds such as pentaerythritol tetravinyl ether. Examples of the aliphatic vinyl thioether include thio compounds corresponding to the examples of the aliphatic vinyl ether.

前記環状ビニルエーテルとして、例えば、2,3−ジヒドロフラン、3,4−ジヒドロフラン、2,3−ジヒドロ−2H−ピラン、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン、3,4−ジヒドロ−2−メトキシ−2H−ピラン、3,4−ジヒドロ−4,4−ジメチル−2H−ピラン−2−オン、3,4−ジヒドロ−2−エトキシ−2H−ピラン、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン−2−カルボン酸ナトリウム等が挙げられる。また、環状ビニルチオエーテルとしては、前記環状ビニルエーテルの例示に対応するチオ化合物等が挙げられる。これらの中でも、原料の入手性や得られる潜在性グルタル酸発生化合物の分解開始温度の点から、n−プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテルが好ましい。   Examples of the cyclic vinyl ether include 2,3-dihydrofuran, 3,4-dihydrofuran, 2,3-dihydro-2H-pyran, 3,4-dihydro-2H-pyran, and 3,4-dihydro-2-methoxy. -2H-pyran, 3,4-dihydro-4,4-dimethyl-2H-pyran-2-one, 3,4-dihydro-2-ethoxy-2H-pyran, 3,4-dihydro-2H-pyran-2 -Sodium carboxylate etc. are mentioned. Examples of the cyclic vinyl thioether include thio compounds corresponding to the examples of the cyclic vinyl ether. Among these, n-propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, tetratetrahydrochloride, from the viewpoint of the availability of raw materials and the decomposition start temperature of the resulting latent glutaric acid generating compound. Ethylene glycol divinyl ether and butanediol divinyl ether are preferred.

潜在性グルタル酸発生化合物は、グルタル酸とビニルエーテル化合物とを反応させることにより得られる。反応は、具体的には、反応温度30〜200℃、好ましくは50〜150℃、反応時間10分間〜6時間、好ましくは20分間〜5時間の条件で行うことができる。反応の終点は、例えば、反応系の酸価を測定し、酸価が10mgKOH/g以下になった時点、特に酸価が5mgKOH/g以下になった時点が好ましく、従って、反応物の酸価は10mgKOH/g以下、特に5mgKOH/g以下が好ましい。この際、特に、グルタル酸のカルボキシル基の全てがブロックされるように反応を行うことが好ましいが、カルボキシル基の一部が、例えば末端等に残存していても本発明の目的が損なわれなければかまわない。
グルタル酸とビニルエーテル化合物との反応比は、当量比で通常1.0:0.5〜5.0、好ましくは1.0:1.0〜4.0、特に好ましくは1.0:1.0〜3.0である。また、潜在性グルタル酸発生化合物の質量平均分子量は、通常500〜500000、特に1000〜50000が好ましい。
The latent glutaric acid generating compound can be obtained by reacting glutaric acid with a vinyl ether compound. Specifically, the reaction can be carried out under the conditions of a reaction temperature of 30 to 200 ° C., preferably 50 to 150 ° C., a reaction time of 10 minutes to 6 hours, preferably 20 minutes to 5 hours. The end point of the reaction is preferably, for example, when the acid value of the reaction system is measured and the acid value becomes 10 mgKOH / g or less, particularly when the acid value becomes 5 mgKOH / g or less. Is preferably 10 mgKOH / g or less, particularly preferably 5 mgKOH / g or less. At this time, it is particularly preferable to carry out the reaction so that all of the carboxyl groups of glutaric acid are blocked. However, even if a part of the carboxyl groups remain, for example, at the ends, the object of the present invention must be impaired. Don't worry.
The reaction ratio of glutaric acid and the vinyl ether compound is usually 1.0: 0.5 to 5.0, preferably 1.0: 1.0 to 4.0, particularly preferably 1.0: 1. 0-3.0. Moreover, the mass average molecular weight of the latent glutaric acid generating compound is usually 500 to 500,000, particularly preferably 1,000 to 50,000.

好適に使用される潜在性グルタル酸発生化合物としては、熱分解開始温度が170℃以下であって、潜在性グルタル酸発生化合物が配合された導電性接着剤を使用時に加熱、硬化させた場合には、加熱によりすみやかにブロックがはずれてカルボン酸の活性が発現しやすい、日本油脂(株)製のサンタシッドFK−16(商品名)が挙げられる。なお、ここで熱分解開始温度とは、試料を10℃/minで加熱しながらその質量変化を測定した際に、質量の1%減少した時点での温度をいう。   The latent glutaric acid generating compound preferably used is a case where the thermal decomposition start temperature is 170 ° C. or less and a conductive adhesive containing the latent glutaric acid generating compound is heated and cured at the time of use. May be Santa Cid FK-16 (trade name) manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., in which the block is readily removed by heating and the carboxylic acid activity is easily expressed. Here, the thermal decomposition starting temperature refers to a temperature at which the mass is reduced by 1% when the mass change is measured while heating the sample at 10 ° C./min.

潜在性グルタル酸発生化合物の含有量は、当該導電性接着剤100質量%中、0.05〜5質量%であり、0.1〜3質量%が好ましい。潜在性グルタル酸発生化合物の含有量の下限値が上記値より小さくなると、酸化膜除去剤による導電性向上効果が得られにくくなる。一方、含有量の上限値が上記値より大きくなると、接着強度が弱くなると共に硬化物の硬度も低下する傾向にある。   The content of the latent glutaric acid generating compound is 0.05 to 5% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, in 100% by mass of the conductive adhesive. When the lower limit value of the content of the latent glutaric acid generating compound is smaller than the above value, it is difficult to obtain the conductivity improving effect by the oxide film removing agent. On the other hand, when the upper limit of the content is larger than the above value, the adhesive strength is weakened and the hardness of the cured product tends to be lowered.

本発明の導電性接着剤は、本発明の効果を損なわない範囲で、カップリング剤などの任意成分を適宜含有してもよい。
また、本発明においては、溶剤を含有させて溶剤型の接着剤としてもよい。この場合、溶剤としては、接着剤用として用いられるものであれば特に制限されず、公知のものを使用できる。
ただし、本発明の導電性接着剤は、上述したようにエポキシ樹脂として室温で液状のエポキシ樹脂とフェノール樹脂として室温で液状のフェノール樹脂を含有するので、溶剤を含まない無溶剤型の接着剤として用いることができる。本発明の導電性接着剤は、無溶剤型であっても、溶剤型であってもよいが、無溶剤型の接着剤として用いるのが好ましい。
The conductive adhesive of the present invention may appropriately contain an optional component such as a coupling agent as long as the effects of the present invention are not impaired.
In the present invention, a solvent-type adhesive may be prepared by containing a solvent. In this case, the solvent is not particularly limited as long as it is used for an adhesive, and known solvents can be used.
However, since the conductive adhesive of the present invention contains an epoxy resin that is liquid at room temperature as an epoxy resin and a phenol resin that is liquid at room temperature as a phenol resin, as described above, as a solvent-free adhesive that does not contain a solvent. Can be used. The conductive adhesive of the present invention may be a solventless type or a solvent type, but is preferably used as a solventless type adhesive.

導電性接着剤が無溶剤型である場合、溶剤型に比べて、溶剤の揮発に起因する導電性接着剤の粘度上昇を抑制できる。そのため、導電性接着剤をスクリーン印刷やメタルマスク印刷により電極上に塗布する場合でも、印刷面にカスレが生じるのを効果的に防ぐことができる。また、ディスペンサーを用いた塗布方法の場合でも、針先が乾燥するのを防ぐことができるので、導電性接着剤の吐出量を一定に保つことができる。
ただし、ディスペンサーを用いた塗布方法は、通常、粘度の低い導電性接着剤を塗布するのに適しているため、塗布後に電極上などで導電性接着剤が広がりやすくなる。一方、スクリーン印刷やメタルマスク印刷は、粘度の高い導電性接着剤にも対応できるので、導電性接着剤を塗布する場合は、スクリーン印刷やメタルマスク印刷にて塗布するのが好ましい。中でも、スクリーン印刷が好ましい。
When the conductive adhesive is a solventless type, an increase in the viscosity of the conductive adhesive due to the volatilization of the solvent can be suppressed as compared with the solvent type. For this reason, even when the conductive adhesive is applied on the electrode by screen printing or metal mask printing, it is possible to effectively prevent the printed surface from being blurred. Further, even in the case of a coating method using a dispenser, the needle tip can be prevented from drying, so that the discharge amount of the conductive adhesive can be kept constant.
However, since the application method using a dispenser is usually suitable for applying a conductive adhesive having a low viscosity, the conductive adhesive easily spreads on the electrode after application. On the other hand, screen printing and metal mask printing can be applied to a conductive adhesive having a high viscosity. Therefore, when a conductive adhesive is applied, it is preferably applied by screen printing or metal mask printing. Among these, screen printing is preferable.

本発明の導電性接着剤は、以上説明したエポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、反応性希釈剤と、イミダゾール化合物と、銀粉および/または銀コート金属粉と、潜在性グルタル酸発生化合物とをプラネタリーミキサーやロールミルなどで混合することにより製造できる。この際、得られる導電性接着剤の粘度が80〜800dPa・sとなるように調製されることが好ましい。
このような導電性接着剤では、フェノール樹脂として室温で液状のものを使用しているため、予めエポキシ樹脂を加温しておく必要はないし、反応性希釈剤を多量に使用しなくてもよい。よって、簡便な製造と接着強度の改善が可能となる。
さらに、酸化膜除去剤としては、カルボン酸の活性がブロックされた潜在性グルタル酸発生化合物を配合している。よって、導電性接着剤の製造時や使用前に潜在性グルタル酸発生化合物とフェノール樹脂との間で反応が進行してゲル化、増粘してしまうことがなく、23℃で72時間保持した後の粘度も80〜800dPa・sに維持され、導電性接着剤の塗工性は良好に保たれる。そして、導電性接着剤を加熱、硬化させた場合には、加熱により潜在性グルタル酸発生化合物からブロックがはずれてカルボン酸の活性が発現するため、酸化膜除去剤として作用し、導電性の優れた導電性接着剤とすることができる。
The conductive adhesive of the present invention includes the above-described epoxy resin, phenol resin, reactive diluent, imidazole compound, silver powder and / or silver-coated metal powder, and latent glutaric acid generating compound. It can be produced by mixing with a mixer or roll mill. Under the present circumstances, it is preferable to prepare so that the viscosity of the conductive adhesive obtained may be 80-800 dPa * s.
In such a conductive adhesive, a phenol resin that is liquid at room temperature is used, so it is not necessary to preheat the epoxy resin in advance, and it is not necessary to use a large amount of reactive diluent. . Therefore, simple manufacture and improvement in adhesive strength are possible.
Further, as the oxide film removing agent, a latent glutaric acid generating compound in which the activity of carboxylic acid is blocked is blended. Therefore, the reaction between the latent glutaric acid-generating compound and the phenol resin does not proceed during the production or before use of the conductive adhesive, causing gelation and thickening, and is maintained at 23 ° C. for 72 hours. The subsequent viscosity is also maintained at 80 to 800 dPa · s, and the coating property of the conductive adhesive is kept good. When the conductive adhesive is heated and cured, the block is removed from the latent glutaric acid generating compound by heating, and the carboxylic acid activity is exhibited. A conductive adhesive.

本発明の導電性接着剤は種々の用途に使用できるが、電子素子チップを外部電極に接合する場合に好適である。
本発明の電子部品は、上述した導電性接着剤を用いることにより製造されるので、接着強度が高い。電子部品の用途としては、例えば、コンデンサ、コイル、トランス等の受動部品や、LSI(大規模集積回路)、ダイオード、トランジスタ等の半導体デバイス部品などが挙げられる。
なお、電子素子チップとしては、コンデンサ素子、CSP、BGA、FC等の半導体チップなどが挙げられる。また、導電性接着剤を塗布する外部電極としては特に制限されないが、例えば、金、銀、スズ、銅などの金属を含む電極が挙げられる。
The conductive adhesive of the present invention can be used for various applications, but is suitable for bonding an electronic element chip to an external electrode.
Since the electronic component of the present invention is manufactured by using the above-described conductive adhesive, the adhesive strength is high. Applications of electronic components include, for example, passive components such as capacitors, coils, and transformers, and semiconductor device components such as LSIs (Large Scale Integrated Circuits), diodes, and transistors.
Examples of the electronic element chip include capacitor elements, semiconductor chips such as CSP, BGA, and FC. Moreover, it does not restrict | limit especially as an external electrode which apply | coats a conductive adhesive, For example, the electrode containing metals, such as gold | metal | money, silver, tin, copper, is mentioned.

電子部品を製造する方法としては、特に制限されず、例えば、外部電極上に上述した印刷方法により導電性接着剤を塗布した後、該導電性接着剤上に電子素子チップを配置し、導電性接着剤を硬化(本硬化)させる方法が挙げられる。また、接着強度を向上させる目的で、導電性接着剤を本硬化させる前に、電子素子チップに荷重を加える荷重工程を設けて、該電子素子チップの表面の濡れ性を向上させたり、荷重工程の前にさらに導電性接着剤を仮硬化させる仮硬化工程をさらに設けたりしてもよい。     The method for producing the electronic component is not particularly limited. For example, after applying a conductive adhesive on the external electrode by the printing method described above, an electronic element chip is placed on the conductive adhesive, and the conductive component is conductive. Examples include a method of curing (main curing) the adhesive. In addition, for the purpose of improving the adhesive strength, a load process for applying a load to the electronic element chip is provided before the conductive adhesive is fully cured to improve the wettability of the surface of the electronic element chip. Further, a temporary curing step for temporarily curing the conductive adhesive may be further provided.

外部電極上に塗布された導電性接着剤の膜厚は、20〜500μmが好ましく、20〜120μmがより好ましく、30〜100μmがさらに好ましい。膜厚の下限値が上記値より小さくなると、接着強度が弱くなり、電子素子チップと外部電極との密着性が低下する傾向にある。一方、膜厚の上限値が上記値より大きくなると、必要以上にコストが上がってしまう。     The thickness of the conductive adhesive applied on the external electrode is preferably 20 to 500 μm, more preferably 20 to 120 μm, and even more preferably 30 to 100 μm. When the lower limit of the film thickness is smaller than the above value, the adhesive strength is weakened, and the adhesion between the electronic element chip and the external electrode tends to be lowered. On the other hand, if the upper limit value of the film thickness is larger than the above value, the cost increases more than necessary.

導電性接着剤を本硬化させる際の本硬化温度は、特に制限されないが、例えば130〜250℃が好ましく、140〜200℃がより好ましい。本硬化温度の下限値が上記値より小さくなると、導電性接着剤の硬化が不十分となり、電子素子と電極との密着性が低下する。一方、本硬化温度の上限値が上記値より大きくなると、必要以上にコストが上がってしまう。
また、本硬化時間は、特に制限されないが、例えば5〜60分間が好ましく、10〜40分間がより好ましい。本硬化時間の下限値が上記値より小さくなると、導電性接着剤の硬化が不十分となり、電極と電子素子との密着性が低下する傾向にある。一方、本硬化時間の上限値が上記値より大きくなると、必要以上にコストが上がってしまう。
The main curing temperature when the conductive adhesive is main-cured is not particularly limited, but is preferably 130 to 250 ° C, and more preferably 140 to 200 ° C. When the lower limit value of the main curing temperature is smaller than the above value, the conductive adhesive is not sufficiently cured, and the adhesion between the electronic element and the electrode is lowered. On the other hand, when the upper limit value of the main curing temperature is larger than the above value, the cost is increased more than necessary.
The main curing time is not particularly limited, but is preferably 5 to 60 minutes, for example, and more preferably 10 to 40 minutes. When the lower limit of the main curing time is smaller than the above value, the conductive adhesive is not sufficiently cured, and the adhesion between the electrode and the electronic element tends to be lowered. On the other hand, if the upper limit value of the main curing time is larger than the above value, the cost is increased more than necessary.

<実施例1〜10、比較例1〜7>
(導電性接着剤の製造)
表に示す配合量(質量%)にて、室温で液状のエポキシ樹脂としてビスフェノールF型のエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、「EP807」)と、室温で液状のフェノール樹脂として液状ノボラック型フェノール樹脂(明和化成(株)製、「MEH8005」)と、反応性希釈剤としてグリシジルオルトトルイジン(日本化薬(株)製、「GOT」)と、イミダゾール化合物(硬化促進剤)としてイミダゾール系エポキシ硬化促進剤(四国化成工業(株)製、「2PHZ」)と、導電性金属粒子として下記フレーク銀粉(1)〜(6)と、酸化膜除去剤として下記化合物をロールミルで混合して、導電性接着剤を製造した。
<Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 7>
(Manufacture of conductive adhesive)
Bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., “EP807”) as a liquid epoxy resin at room temperature and liquid novolak type as a liquid phenol resin at room temperature with the blending amount (mass%) shown in the table Phenolic resin (Maywa Kasei Co., Ltd., “MEH8005”), glycidyl orthotoluidine (Nippon Kayaku Co., Ltd., “GOT”) as a reactive diluent, and imidazole epoxy (curing accelerator) as an imidazole compound A curing accelerator (“2PHZ” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), the following flake silver powders (1) to (6) as conductive metal particles, and the following compound as an oxide film remover are mixed in a roll mill to conduct electricity. Adhesive was produced.

(導電性金属粒子)
・フレーク銀粉(1):(株)フェロジャパン製、「SF38」、タップ密度:4.8g/cm
・フレーク銀粉(2):(株)フェロジャパン製、「SF37」、タップ密度:4.9g/cm
・フレーク銀粉(3):(株)フェロジャパン製、「SF26」、タップ密度:4.0g/cm
・フレーク銀粉(4):福田金属箔粉工業(株)製、「AgC−GS」、タップ密度:3.1g/cm
・フレーク銀粉(5):福田金属箔粉工業(株)製、「AgC−A」、タップ密度:3.3g/cm
・フレーク銀粉(6):(株)フェロジャパン製、「SF78NFA」、タップ密度:5.5g/cm
(Conductive metal particles)
Flake silver powder (1): manufactured by Ferro Japan, “SF38”, tap density: 4.8 g / cm 3
・ Flake silver powder (2): manufactured by Ferro Japan, “SF37”, tap density: 4.9 g / cm 3
・ Flake silver powder (3): manufactured by Ferro Japan, “SF26”, tap density: 4.0 g / cm 3
・ Flake silver powder (4): Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd., “AgC-GS”, tap density: 3.1 g / cm 3
・ Flake silver powder (5): Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., “AgC-A”, tap density: 3.3 g / cm 3
・ Flake silver powder (6): manufactured by Ferro Japan, “SF78NFA”, tap density: 5.5 g / cm 3

(酸化膜除去剤)
・潜在性グルタル酸発生化合物:日本油脂(株)製「サンタシッドFK−16」:グルタル酸とビニルエーテル化合物の質量比(グルタル酸/ビニルエーテル化合物)=43.6/56.4、酸当量は152.1g/mol
・潜在性アジピン酸発生化合物:日本油脂(株)製「サンタシッドFK−05」:アジピン酸とビニルエーテル化合物の質量比(アジピン酸/ビニルエーテル化合物)=38.3/61.7、酸当量は191g/mol
・潜在性オレイン酸発生化合物:日本油脂(株)製「サンタシッドFK−03」:オレイン酸とビニルエーテル化合物の質量比(オレイン酸/ビニルエーテル化合物)=70.6/29.4、酸当量は393g/mol
・グルタル酸
・コハク酸
・フマル酸
(Oxide film remover)
-Potential glutaric acid generating compound: "Santa Cid FK-16" manufactured by NOF Corporation: Mass ratio of glutaric acid and vinyl ether compound (glutaric acid / vinyl ether compound) = 43.6 / 56.4, acid equivalent is 152. 1g / mol
-Potential adipic acid generating compound: "Santa Cid FK-05" manufactured by NOF Corporation: Mass ratio of adipic acid and vinyl ether compound (adipic acid / vinyl ether compound) = 38.3 / 61.7, acid equivalent is 191 g / mol
・ Latent oleic acid generating compound: “Santa Cid FK-03” manufactured by NOF Corporation: Mass ratio of oleic acid to vinyl ether compound (oleic acid / vinyl ether compound) = 70.6 / 29.4, acid equivalent is 393 g / mol
・ Glutaric acid, succinic acid, fumaric acid

<測定>
得られた導電性接着剤について、初期粘度と23℃×72時間保持した後の粘度とを下記方法にて測定した。
また、得られた導電性接着剤をガラス板上に幅1cm、長さ8cm、厚さ30μmになるようにしごき塗りして、180℃×10分間の条件下で硬化させ、硬化物の鉛筆硬度、比抵抗を下記方法にて測定した。なお、各導電性接着剤を用いて製造した電子部品についての測定結果は、これら導電性接着剤についての各測定結果と同様の傾向を示す。よって、各導電性接着剤についての測定を電子部品についての測定の代用試験とする。
<Measurement>
About the obtained conductive adhesive, the initial viscosity and the viscosity after hold | maintaining at 23 degreeC x 72 hours were measured by the following method.
Also, the obtained conductive adhesive was applied on a glass plate so as to have a width of 1 cm, a length of 8 cm, and a thickness of 30 μm, and cured under conditions of 180 ° C. × 10 minutes, and the pencil hardness of the cured product. The specific resistance was measured by the following method. In addition, the measurement result about the electronic component manufactured using each conductive adhesive shows the same tendency as each measurement result about these conductive adhesives. Therefore, the measurement for each conductive adhesive is used as a substitute test for the measurement of the electronic component.

(初期粘度および23℃×72時間保持後の粘度)
初期粘度は、各試験例で得られた導電性接着剤について、TV形粘度計(東機産業(株)製)により測定した。なお、TV形粘度計での測定は、3°コーンを用い、回転数を5rpm、測定温度を23℃として実施した。
23℃×72時間保持後の粘度は、各試験例で得られた導電性ペーストを23℃×72時間の条件で保持した後、初期粘度と同様の方法で測定した。
結果を表に示す。なお、○を合格とする。
○:80dPa・s以上800dPa・s未満
×:80dPa・s未満または800dPa・s以上
(Initial viscosity and viscosity after holding at 23 ° C. for 72 hours)
The initial viscosity was measured with a TV-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) for the conductive adhesive obtained in each test example. The measurement with a TV viscometer was carried out using a 3 ° cone, a rotation speed of 5 rpm, and a measurement temperature of 23 ° C.
The viscosity after holding at 23 ° C. for 72 hours was measured in the same manner as the initial viscosity after holding the conductive paste obtained in each test example under the conditions of 23 ° C. for 72 hours.
The results are shown in the table. In addition, ○ is a pass.
○: 80 dPa · s or more and less than 800 dPa · s ×: Less than 80 dPa · s or 800 dPa · s or more

(鉛筆硬度)
硬化物について、JIS K5600に準拠して鉛筆硬度を測定した。
結果を表に示す。なお、○を合格とする。
○:F以上
×:HB以下
(Pencil hardness)
About the hardened | cured material, pencil hardness was measured based on JISK5600.
The results are shown in the table. In addition, ○ is a pass.
○: F or more ×: HB or less

(接着強度)
導電性接着剤をガラス板上に幅1cm、長さ8cm、厚さ30μmとなるようにしごき塗りして、その上に5個のステンレスナット(西精工(株)製、「M3」)を並べ、180℃×10分間の条件で硬化させた。室温に戻した後、アイコーエンジニアリング社製のプッシュプルゲージの軸の先端をナットの1つの面に垂直になるようにあて、水平方向に5±0.5mm/分の速度でナットを押して、剥がれた時点での強度を求めた。5個のナットについて同様に強度を求め、5個の平均値を接着強度とした。
○:5N/mm以上
×:5N/mm未満
(Adhesive strength)
Conductive adhesive is coated on a glass plate to a width of 1 cm, length of 8 cm, and thickness of 30 μm, and five stainless nuts (made by Nishi Seiko Co., Ltd., “M3”) are arranged on it. And cured at 180 ° C. for 10 minutes. After returning to room temperature, the end of the push-pull gauge shaft made by Aiko Engineering is placed perpendicular to one surface of the nut, and the nut is pushed in the horizontal direction at a speed of 5 ± 0.5 mm / min. The strength at the time was determined. The strength was similarly determined for the five nuts, and the average value of the five nuts was defined as the adhesive strength.
○: 5 N / mm 2 or more ×: Less than 5 N / mm 2

(比抵抗)
硬化物について、抵抗値(R)、膜厚(A)、電極幅(B)、電極間距離(C)を測定し、下記式にて比抵抗を算出した。なお、抵抗値は、ADVANTEST社製のデジタルマルチメーター(商品名:R6581D)、膜厚は(株)小坂研究所製の表面粗さ計(商品名:SE3500)を用いて測定した。
ρ=R×{(A×B)/C}
○:3×10−5Ω・cm未満
×:3×10−5Ω・cm以上
(Resistivity)
For the cured product, the resistance value (R), the film thickness (A), the electrode width (B), and the inter-electrode distance (C) were measured, and the specific resistance was calculated by the following formula. The resistance value was measured using a digital multimeter (trade name: R6581D) manufactured by ADVANTEST, and the film thickness was measured using a surface roughness meter (trade name: SE3500) manufactured by Kosaka Laboratory.
ρ = R × {(A × B) / C}
○: Less than 3 × 10 −5 Ω · cm ×: 3 × 10 −5 Ω · cm or more

<実施例11>
表に示すように、室温で液状のエポキシ樹脂として、フタル酸エステル系のエポキシ樹脂(日本化薬(株)製、「AK601」)を使用した以外は、実施例3と同様にして、導電性接着剤を製造した。
<Example 11>
As shown in the table, in the same manner as in Example 3, except that a phthalate ester epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., “AK601”) was used as the liquid epoxy resin at room temperature, the conductivity was An adhesive was produced.

Figure 0005200662
Figure 0005200662

Figure 0005200662
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表から明らかなように、酸化膜除去剤として潜在性グルタル酸発生化合物を適量配合した各実施例の導電性接着剤では、製造時や硬化前にゲル化等が認められず、初期粘度、23℃×72時間の条件下で保持した後の粘度の両方が適度であり、導電性も優れ、接着強度や鉛筆硬度も良好であった。
一方、酸化膜除去剤として潜在性アジピン酸発生化合物や潜在性オレイン酸化合物を配合した比較例や、カルボキシル基がブロックされていないグルタル酸、コハク酸、フマル酸を配合した比較例では、導電性は優れるものの、高い初期粘度やゲル化が認められた。
As is clear from the table, in the conductive adhesives of each Example in which an appropriate amount of a latent glutaric acid generating compound was blended as an oxide film removing agent, gelation or the like was not observed during production or before curing, and the initial viscosity, 23 Both of the viscosities after holding under the condition of ° C. × 72 hours were appropriate, the conductivity was excellent, and the adhesive strength and pencil hardness were also good.
On the other hand, in a comparative example in which a latent adipic acid generating compound or a latent oleic acid compound is blended as an oxide film removing agent, or in a comparative example in which glutaric acid, succinic acid or fumaric acid in which carboxyl groups are not blocked is blended, Was excellent, but high initial viscosity and gelation were observed.

Claims (2)

室温で液状のエポキシ樹脂と、室温で液状のフェノール樹脂と、反応性希釈剤と、イミダゾール化合物と、銀粉および/または銀コート金属粉とを含有する導電性接着剤であって、
グルタル酸とビニルエーテル化合物とが反応し、グルタル酸の有するカルボキシル基がビニルエーテル化合物でブロックされた化合物である潜在性グルタル酸発生化合物を0.05〜5質量%の範囲でさらに含有することを特徴とする導電性接着剤。
A conductive adhesive containing an epoxy resin that is liquid at room temperature, a phenol resin that is liquid at room temperature, a reactive diluent, an imidazole compound, and silver powder and / or silver-coated metal powder,
It further comprises a latent glutaric acid generating compound, which is a compound in which glutaric acid reacts with a vinyl ether compound and the carboxyl group of glutaric acid is blocked with a vinyl ether compound in a range of 0.05 to 5% by mass. Conductive adhesive.
請求項1に記載の導電性接着剤を用いて製造されたことを特徴とする電子部品。   An electronic component manufactured using the conductive adhesive according to claim 1.
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