KR20230170641A - conductive composition - Google Patents

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나오미 다키모토
미치히코 이리에
다카시 곤도
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도요보 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 유연하고 도전성과 접착성이 우수한 경화물을 저온에서 형성 가능한 도전성 조성물 및 그것을 사용한 전자 기기를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 도전성 조성물은, 폴리올과, 폴리아민과, 블록 이소시아네이트와, 평균 입경(D50)이 0.4 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인 도전성 입자 I를 포함하는 것을 특징으로 하고, 해당 도전성 조성물을 저온에서 경화시킨 경화물은 유연하고 또한 높은 도전성과 접착성을 갖는다.The purpose of the present invention is to provide a conductive composition capable of forming a cured product that is flexible and has excellent conductivity and adhesiveness at a low temperature, and an electronic device using the same. The conductive composition of the present invention is characterized in that it contains polyol, polyamine, blocked isocyanate, and conductive particles I having an average particle diameter (D50) of 0.4 ㎛ or more and 2.0 ㎛ or less, and the conductive composition is cured at a low temperature. The cargo is flexible and also has high conductivity and adhesiveness.

Description

도전성 조성물conductive composition

본 발명은 유연성을 갖는 도전성 조성물 및 전자 기기에 관한 것이다.The present invention relates to flexible conductive compositions and electronic devices.

전자 기기의 용도 확대에 따라, 플렉시블 하이브리드 일렉트로닉스(이하, FHE라고 함)의 개발이 행해지고 있다. FHE에서는, 플렉시블한 기재에 형성된 배선 상에 칩이나 콘덴서 등의 반도체 부품을 실장한다. 반도체 부품은 리지드(rigid)로 변형을 할 수 없기 때문에, 반도체 부품과 배선의 접속부에는, 기재의 변형 시에도 부품의 접속을 유지할 수 있는, 변형에 추종 가능한, 유연하고 저탄성인 도전성 접착제가 요구된다.As the uses of electronic devices expand, the development of flexible hybrid electronics (hereinafter referred to as FHE) is being conducted. In FHE, semiconductor components such as chips and capacitors are mounted on wiring formed on a flexible substrate. Since semiconductor components are rigid and cannot be deformed, a flexible, low-elastic conductive adhesive that can maintain the connection of the components even when the substrate is deformed and can follow deformation is required for the connection between the semiconductor component and the wiring. .

FHE에서는 플렉시블한 기재로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리프로필렌(PP), 폴리우레탄(PU) 등, 기존의 전자 기기에 사용되는 기재와 비교하여 내열성이 뒤떨어지는 기재가 사용되는 경우가 있다. 따라서, 부품을 접합하는 도전성 접착제에도 기재의 내열성에 따른 저온에서의 접착이 요구된다.FHE is a flexible substrate with inferior heat resistance compared to substrates used in existing electronic devices such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polypropylene (PP), and polyurethane (PU). There are cases where is used. Therefore, conductive adhesives for joining components also require adhesion at low temperatures depending on the heat resistance of the substrate.

이에 대하여, 특허문헌 1에서는, 실온에서의 증점이 억제된 도전성이나 접착 강도가 우수한 도전성 접착제를 제공하는 것을 목적으로 하여, 액형 에폭시 수지와 액형 페녹시 수지에 은분 및/또는 은코트 금속분을 조합하고, 잠재성 글루타르산 발생 화합물을 정량 첨가하는 기술이 개시되어 있다.In contrast, in Patent Document 1, for the purpose of providing a conductive adhesive with excellent conductivity and adhesive strength with suppressed thickening at room temperature, a liquid epoxy resin and a liquid phenoxy resin are combined with silver powder and/or silver-coated metal powder. , a technology for adding a fixed amount of a potential glutaric acid generating compound is disclosed.

또한, 특허문헌 2에서는, 식: -R1-O-(식 중, R1은 탄소수 1∼10의 탄화수소기이다)로 나타내는 반복 단위를 갖는 주쇄 및 가수 분해성 실릴기인 말단기를 갖는 폴리에테르 중합체와 은 입자를 조합함으로써, 양호한 유연성과 높은 도전성을 갖는 도전성 접착제의 기술이 개시되어 있다.Additionally, in Patent Document 2, a polyether polymer having a main chain having a repeating unit represented by the formula: -R 1 -O- (wherein R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms) and a terminal group that is a hydrolyzable silyl group. A technology for a conductive adhesive having good flexibility and high conductivity is disclosed by combining and silver particles.

특허문헌 3에서는, 폴리올과, 블록 이소시아네이트와, 종횡비 2 이상의 도전성 필러를 조합함으로써, 경화 전의 태크성이 우수하고, 경화 후의 신축 시의 저항 변화가 작게 유지되는 도전성 조성물에 관한 기술이 개시되어 있다.Patent Document 3 discloses a technology related to a conductive composition that has excellent tackiness before curing and maintains a small change in resistance during stretching after curing by combining polyol, blocked isocyanate, and a conductive filler with an aspect ratio of 2 or more.

특허문헌 4에서는, 표면에 금속 산화물 및 윤활제가 존재하는 도전성 금속과, 이소시아네이트 성분이 가열 경화 시에 반응함으로써, 상기 금속 산화물 및 윤활제가 적어도 부분적으로 도전성 금속 표면으로부터 제거됨으로써, 도전성 조성물의 도전율을 높이는 기술이 개시되어 있다.In Patent Document 4, a conductive metal on which a metal oxide and a lubricant exist on the surface and an isocyanate component react during heat curing, so that the metal oxide and the lubricant are at least partially removed from the surface of the conductive metal, thereby increasing the conductivity of the conductive composition. The technology has been disclosed.

특허문헌 1: 일본 특허 제5200662호 공보Patent Document 1: Japanese Patent No. 5200662 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2018-48286호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Publication No. 2018-48286 특허문헌 3: 일본 특허 공개 제2020-150236호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Publication No. 2020-150236 특허문헌 4: 일본 특허 제4467439호 공보Patent Document 4: Japanese Patent No. 4467439

이와 같이, 현재, 기재의 변형에 추종 가능한, 유연한 도전성 접착제가 요구되고 있다. 그러나, 특허문헌 1과 같은 통상의 전자 기기에 사용되는 도전성 접착제는, 접착력이나 도전성이 우수하지만, 유연성이 부족하다고 하는 문제가 있다. 한편 특허문헌 2에 기재된 도전성 접착제는, 유연성이나 비저항은 우수하지만, 경화 온도가 높다고 하는 문제가 있다. 또한, 특허문헌 3이나 특허문헌 4에 기재된 블록 이소시아네이트를 경화제로 한 도전성 접착제는, 저온 경화가 가능하며 도전성이 우수하지만, 그의 유연성이나 접착성에 대해서는 충분히 검토되어 있지 않다.In this way, there is currently a demand for a flexible conductive adhesive that can follow the deformation of the substrate. However, conductive adhesives used in ordinary electronic devices, such as those in Patent Document 1, have excellent adhesion and conductivity, but have a problem in that they lack flexibility. On the other hand, the conductive adhesive described in Patent Document 2 is excellent in flexibility and resistivity, but has a problem in that the curing temperature is high. In addition, the conductive adhesives using block isocyanate as a curing agent described in Patent Document 3 or Patent Document 4 are capable of curing at low temperatures and have excellent conductivity, but their flexibility and adhesiveness have not been sufficiently studied.

본 발명자들은, 유연하고, 낮은 경화 온도에서 높은 도전성과 접착력을 갖는 경화물을 얻기 위한 도전성 조성물을 개발하기 위해서, 예의 연구를 진행시킨 결과, 바인더인 폴리올, 폴리아민, 블록 이소시아네이트와, 특정한 도전성 입자를 조합함으로써, 유연하고 도전성 및 접착성이 우수한 경화물이 얻어진다는 것을 발견하여, 이하의 발명에 도달하였다.The present inventors conducted extensive research in order to develop a conductive composition for obtaining a cured material that is flexible and has high conductivity and adhesion at a low curing temperature, and as a result, polyol, polyamine, and blocked isocyanate as binders and specific conductive particles were used. It was discovered that by combining them, a cured product that was flexible and had excellent conductivity and adhesiveness could be obtained, leading to the following invention.

즉, 본 발명은 이하의 구성을 갖는다.That is, the present invention has the following configuration.

[1] 폴리올과, 폴리아민과, 블록 이소시아네이트와, 도전성 입자를 포함하고, 상기 도전성 입자가, 적어도 평균 입경(D50)이 0.4 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인 입자 I를 포함하는, 도전성 조성물.[1] A conductive composition comprising polyol, polyamine, blocked isocyanate, and conductive particles, wherein the conductive particles include at least particles I having an average particle diameter (D50) of 0.4 μm or more and 2.0 μm or less.

[2] 상기 입자 I가 은인 것을 특징으로 하는, [1]에 기재된 도전성 조성물.[2] The conductive composition according to [1], wherein the particles I are silver.

[3] 상기 도전성 입자로서, 평균 입경(D50)이 5.0 ㎛ 이상, 15.0 ㎛ 이하인 입자 II를 더 포함하는, [1] 또는 [2]에 기재된 도전성 조성물.[3] The conductive composition according to [1] or [2], wherein the conductive particles further include particles II having an average particle diameter (D50) of 5.0 μm or more and 15.0 μm or less.

[4] 상기 입자 II가 은인 것을 특징으로 하는, [3]에 기재된 도전성 조성물.[4] The conductive composition according to [3], wherein the particles II are silver.

[5] 상기 폴리아민은, 활성 수소 당량이 80∼200 g/eq인 것을 특징으로 하는, [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 도전성 조성물.[5] The conductive composition according to any one of [1] to [4], wherein the polyamine has an active hydrogen equivalent of 80 to 200 g/eq.

[6] 상기 폴리올 및 상기 폴리아민의 혼합비(폴리올/폴리아민)가, 활성 수소기의 물질량 기준으로 7/3∼2/8인 것을 특징으로 하는, [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 도전성 조성물.[6] The conductivity according to any one of [1] to [5], wherein the mixing ratio (polyol/polyamine) of the polyol and the polyamine is 7/3 to 2/8 based on the amount of active hydrogen group. Composition.

[7] 도전성 조성물 전체 질량에 대하여, 용제의 함유량이 10 질량% 미만인 것을 특징으로 하는, [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 도전성 조성물.[7] The conductive composition according to any one of [1] to [6], wherein the solvent content is less than 10% by mass based on the total mass of the conductive composition.

[8] [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 도전성 조성물의 경화물.[8] A cured product of the conductive composition according to any one of [1] to [7].

[9] 배선을 갖는 기판과, 전자 부품을 갖고, [8]에 기재된 도전성 조성물의 경화물이 전자 부품과 배선 사이에 개재되어 있는 전자 기기.[9] An electronic device comprising a substrate having wiring, electronic components, and a cured product of the conductive composition described in [8] interposed between the electronic components and wiring.

[10] 상기 기판이 신축 및/또는 굴곡 가능한 기판인 것을 특징으로 하는, [9]에 기재된 전자 기기.[10] The electronic device according to [9], wherein the substrate is a stretchable and/or bendable substrate.

본 발명에 따르면, 폴리올과 블록 이소시아네이트에 더하여, 폴리아민과, D50이 0.4 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인 도전성 입자를 배합하는 것을 특징으로 하고 있다. 폴리아민과 상기 도전성 입자를 조합함으로써, 도전성 입자와 바인더 계면의 밀착성이 향상되기 때문에, 얻어지는 경화물의 유연성을 유지한 채로 접착력을 향상시킬 수 있다. 또한, 도전성 입자가 네트워크를 형성하기 쉬워지기 때문에, 얻어지는 경화물의 도전성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, in addition to polyol and blocked isocyanate, polyamine and conductive particles having a D50 of 0.4 μm or more and 2.0 μm or less are characterized. By combining polyamine and the above-mentioned conductive particles, the adhesion between the conductive particles and the binder interface is improved, so the adhesive strength can be improved while maintaining the flexibility of the resulting cured product. Additionally, because the conductive particles easily form a network, the conductivity of the resulting cured product can be improved.

도 1은 본 발명의 도전성 조성물을 사용한 전자 기기의 단면을 나타낸 모식도이다.1 is a schematic diagram showing a cross section of an electronic device using the conductive composition of the present invention.

[도전성 조성물][Conductive composition]

본 실시형태에 따른 도전성 조성물은, 폴리올과, 폴리아민과, 블록 이소시아네이트와, 도전성 입자로 구성된다.The conductive composition according to this embodiment is composed of polyol, polyamine, blocked isocyanate, and conductive particles.

본 발명에 있어서의 폴리올로서는, 예컨대 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올, 폴리우레탄폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 피마자유계 폴리올 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용하여도 좋고, 2종류 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.Examples of polyols in the present invention include polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyurethane polyol, polybutadiene polyol, polyisoprene polyol, polycaprolactone polyol, and castor oil-based polyol. These may be used individually or in combination of two or more types.

상기 폴리에테르폴리올로서는, 방향족 폴리에테르폴리올, 방향족/지방족 공중합 폴리에테르폴리올, 지방족 폴리에테르폴리올, 지환족 폴리에테르폴리올 등을 들 수 있다.Examples of the polyether polyol include aromatic polyether polyol, aromatic/aliphatic copolymer polyether polyol, aliphatic polyether polyol, and alicyclic polyether polyol.

상기 폴리에스테르폴리올로서는, 방향족 폴리에스테르폴리올, 방향족/지방족 공중합 폴리에스테르폴리올, 지방족 폴리에스테르폴리올, 지환족 폴리에스테르폴리올 등을 들 수 있다. 이들 중에서는, 유연성의 관점에서, 지방족 폴리에스테르폴리올이 바람직하다. 지방족 폴리에스테르폴리올로서는, 예컨대 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 펜탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 헥산디올, 헵탄디올, 데칸디올, 시클로헥산디메탄올, 카프로락톤디올 등의 지방족 다가 알코올과, 예컨대 숙신산, 아디프산, 세바스산, 푸마르산, 수베르산, 아젤라산, 1,10-데카메틸렌디카르복실산 등의 지방족 다가 카르복실산을 필수 원료 성분으로 하여 반응시킨 것을 들 수 있고, 시판품을 사용하여도 좋다. 지방족 폴리에스테르폴리올의 시판품의 구체예로서는, 예컨대 ODX-2420, ODX-2692(DIC 가부시키가이샤 제조), 쿠라레폴리올 P-510, P-1010, P-2050(가부시키가이샤 쿠라레 제조), 닛포란 4009, 164, 141(도소 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the polyester polyol include aromatic polyester polyol, aromatic/aliphatic copolymer polyester polyol, aliphatic polyester polyol, and cycloaliphatic polyester polyol. Among these, aliphatic polyester polyol is preferable from the viewpoint of flexibility. Examples of aliphatic polyester polyols include aliphatic polyols such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, hexanediol, heptanediol, decanediol, cyclohexanedimethanol, and caprolactonediol. Examples include those reacted with alcohol and aliphatic polyhydric carboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, suberic acid, azelaic acid, and 1,10-decamethylenedicarboxylic acid as essential raw materials. It is possible to use a commercially available product. Specific examples of commercial products of aliphatic polyester polyol include, for example, ODX-2420, ODX-2692 (manufactured by DIC Kuraray Co., Ltd.), Kurarepolyol P-510, P-1010, P-2050 (manufactured by DIC Kuraray Co., Ltd.), Nit. Foran 4009, 164, 141 (manufactured by Tosoh Corporation), etc. can be mentioned.

상기 폴리카보네이트폴리올로서는, 방향족 폴리카보네이트폴리올, 방향족/지방족 공중합 폴리카보네이트폴리올, 지방족 폴리카보네이트폴리올, 지환족 폴리카보네이트폴리올 등을 들 수 있다.Examples of the polycarbonate polyol include aromatic polycarbonate polyol, aromatic/aliphatic copolymerization polycarbonate polyol, aliphatic polycarbonate polyol, and cycloaliphatic polycarbonate polyol.

상기 폴리우레탄폴리올로서는, 방향족 폴리우레탄폴리올, 방향족/지방족 공중합 폴리우레탄폴리올, 지방족 폴리우레탄폴리올, 지환족 폴리우레탄폴리올 등을 들 수 있다.Examples of the polyurethane polyol include aromatic polyurethane polyol, aromatic/aliphatic copolymerization polyurethane polyol, aliphatic polyurethane polyol, and cycloaliphatic polyurethane polyol.

그 중에서도 경화성 및 도전성을 향상시키기 쉬운 점에서, 폴리에스테르폴리올이 바람직하다. 또한 폴리에스테르폴리올과, 폴리에스테르폴리올 이외의 폴리올을 조합하는 것도 바람직하다. 폴리올 중, 폴리에스테르폴리올의 비율은, 60 질량% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상, 특히 바람직하게는 95 질량% 이상, 가장 바람직하게는 98 질량% 이상이고, 또한 100 질량%여도 좋다.Among them, polyester polyol is preferable because it is easy to improve curability and conductivity. It is also preferable to combine polyester polyol with polyols other than polyester polyol. Among the polyols, the proportion of polyester polyol is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, further preferably 90% by mass or more, particularly preferably 95% by mass or more, and most preferably 98% by mass or more. It is % by mass or more, and may also be 100 % by mass.

폴리올의 수산기가는 특별히 한정되지 않지만, 도전성이나 접착성을 보다 양호하게 하는 관점에서, 50∼300 KOHmg/g인 것이 바람직하고, 100∼250 KOHmg/g인 것이 더욱 바람직하다.The hydroxyl value of the polyol is not particularly limited, but is preferably 50 to 300 KOHmg/g, and more preferably 100 to 250 KOHmg/g from the viewpoint of improving conductivity and adhesiveness.

폴리올의 중량 평균 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 도전성이나 접착성을 보다 양호하게 하는 관점에서, 400∼2000 g/㏖인 것이 바람직하고, 450∼1500 g/㏖인 것이 더욱 바람직하다.The weight average molecular weight of the polyol is not particularly limited, but is preferably 400 to 2000 g/mol, and more preferably 450 to 1500 g/mol, from the viewpoint of improving conductivity and adhesiveness.

폴리올 성분과는 별도로, 성능을 손상시키지 않는 범위에서, 수산기를 하나 갖는 화합물을 더 포함하여도 좋다. 수산기를 하나 갖는 화합물로서는, 예컨대 1-펜탄올, 옥탄올, 시클로헥산에탄올 등의 지방족 포화 알코올; 10-운데센-1-올 등의 지방족 불포화 알코올; 2-페닐에틸알코올, 벤질알코올 등의 방향족 알코올; 또한, 이들의 유도체, 변성체 등을 들 수 있다. 수산기를 하나 갖는 화합물의 함유량은, 폴리올 100 질량부에 대하여, 10 질량부 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 3 질량부 이하이고, 0 질량부여도 좋다.Apart from the polyol component, a compound having one hydroxyl group may be further included as long as it does not impair performance. Examples of compounds having one hydroxyl group include aliphatic saturated alcohols such as 1-pentanol, octanol, and cyclohexaneethanol; Aliphatic unsaturated alcohols such as 10-undecen-1-ol; Aromatic alcohols such as 2-phenylethyl alcohol and benzyl alcohol; Additionally, their derivatives, denatured products, etc. can be mentioned. The content of the compound having one hydroxyl group is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, even more preferably 3 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of polyol.

본 발명에서 사용되는 폴리아민으로서는, 예컨대 쇄상 지방족 폴리아민, 환상 지방족 폴리아민, 및 방향 고리 지방족 폴리아민 등의 지방족 폴리아민, 지환족 폴리아민, 방향족 폴리아민, 또한, 이들의 유도체, 변성체를 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용하여도 좋고, 2종류 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. 상기 유도체로서는, 폴리아민의 알킬 유도체 등을 들 수 있고, 상기 변성체로서는, 폴리아민의 에폭시 부가물, 만니히 반응물, 마이클 반응물, 티오요소 반응물, 중합 지방산 및/또는 카르복실산 반응물인 폴리아미드아민 등을 들 수 있다.Examples of polyamines used in the present invention include aliphatic polyamines such as chain aliphatic polyamines, cyclic aliphatic polyamines, and aromatic ring aliphatic polyamines, cycloaliphatic polyamines, and aromatic polyamines, as well as derivatives and modified products thereof. These may be used individually or in combination of two or more types. Examples of the derivatives include alkyl derivatives of polyamines, and examples of the modified products include epoxy adducts of polyamines, Mannich reactants, Michael reactants, thiourea reactants, polyamideamines that are polymerized fatty acid and/or carboxylic acid reactants, etc. can be mentioned.

상기 지방족 폴리아민은, 적어도 하나의 아미노기가 탄소수 1 이상의 쇄상 지방족 탄화수소에 결합한 화합물(단, 방향족 고리에 아미노기가 직접 결합한 구조를 갖는 화합물을 제외함)이고, 상기 쇄상 지방족 탄화수소에는 지방족 고리나 방향족 고리가 결합하고 있어도 좋다. 쇄상 지방족 탄화수소에 아미노기와 지방족 고리가 결합한 화합물을, 특히 환상 지방족 폴리아민이라고 칭하고, 쇄상 지방족 탄화수소에 아미노기와 방향족 고리가 결합한 화합물을, 특히 방향 고리 지방족 폴리아민이라고 칭한다. 지방족 폴리아민으로서는, 구체적으로, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 노르보르난디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, 이소포론디아민 등을 들 수 있다.The aliphatic polyamine is a compound in which at least one amino group is bonded to a chain aliphatic hydrocarbon having 1 or more carbon atoms (however, excluding compounds having a structure in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring), and the chain aliphatic hydrocarbon has an aliphatic ring or an aromatic ring. It is okay to combine them. Compounds in which an amino group and an aliphatic ring are bonded to a chain aliphatic hydrocarbon are particularly called cyclic aliphatic polyamines, and compounds in which an amino group and an aromatic ring are bonded to a chain aliphatic hydrocarbon are especially called aromatic ring aliphatic polyamines. Specific examples of aliphatic polyamines include diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, norbornanediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, and isophoronediamine.

상기 지환족 폴리아민은, 모든 아미노기가 지방족 고리에 직접 결합한 화합물이고, 구체적으로는 시클로헥산디아민 등을 들 수 있다.The alicyclic polyamine is a compound in which all amino groups are directly bonded to an aliphatic ring, and specific examples include cyclohexanediamine.

상기 방향족 폴리아민은, 적어도 하나의 아미노기가 방향 고리에 직접 결합한 화합물이고, 구체적으로는 메타페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디아미노디페닐에테르, 에틸렌디아닐린, 디에틸톨루엔디아민, 아미노벤질아민, 비스아닐린 등을 들 수 있다.The aromatic polyamine is a compound in which at least one amino group is directly bonded to an aromatic ring, and specifically, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenyl ether, ethylenedianiline, diethyl Toluenediamine, aminobenzylamine, bisaniline, etc. can be mentioned.

그 중에서도 유연성을 향상시키기 쉬운 점에서, 지방족 폴리아민 또는 그의 변성체가 바람직하다. 지방족 폴리아민 또는 그의 변성체의 시판품의 구체예로서는, 예컨대 후지큐어 FXJ-8027-H, FXJ-859-C, FXD-821-F, 토마이드 280-C, TXE-524(가부시키가이샤 T&K TOKA 제조), 제파민 D-400(도모에고교 가부시키가이샤 제조), jer 큐어 FL11, SA1(미쓰비시케미컬 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.Among them, aliphatic polyamine or its modified form is preferable because it is easy to improve flexibility. Specific examples of commercially available aliphatic polyamines or their modified forms include, for example, Fujicure FXJ-8027-H, FXJ-859-C, FXD-821-F, Tomide 280-C, and TXE-524 (manufactured by T&K TOKA Corporation). , Jeffamine D-400 (manufactured by Tomoe Kogyo Co., Ltd.), Jer Cure FL11, SA1 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), etc.

또한, 지방족 폴리아민 또는 그의 변성체와, 지방족 폴리아민 또는 그의 변성체 이외의 폴리아민을 조합하는 것도 바람직하다. 폴리아민 중, 지방족 폴리아민 또는 그의 변성체의 비율은, 60 질량% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상, 특히 바람직하게는 95 질량% 이상, 가장 바람직하게는 98 질량% 이상이고, 또한 100 질량%여도 좋다.Additionally, it is also preferable to combine an aliphatic polyamine or a modified form thereof with a polyamine other than the aliphatic polyamine or a modified form thereof. Among the polyamines, the proportion of aliphatic polyamine or its modified form is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, further preferably 90% by mass or more, particularly preferably 95% by mass or more, most preferably It is preferably 98% by mass or more, and may also be 100% by mass.

폴리아민의 활성 수소 당량은, 유연성, 접착성, 및 도전성의 양립의 관점에서 80 g/eq 이상인 것이 바람직하고, 85 g/eq 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 입수 용이성 및 접착성 향상의 관점에서, 200 g/eq 이하가 바람직하고, 190 g/eq 이하가 보다 바람직하다. 폴리아민의 활성 수소 당량은, 80∼200 g/eq인 것이 바람직하고, 85∼190 g/eq인 것이 보다 바람직하다. 또한 본 명세서에 있어서, 「폴리아민의 활성 수소 당량」이란, 폴리아민 중의 활성 수소기 1 당량당의 분자량을 나타내고, 상기 활성 수소기는, 폴리아민에 있어서의 활성 수소기를 갖는 아미노기를 의미한다.The active hydrogen equivalent of the polyamine is preferably 80 g/eq or more, and more preferably 85 g/eq or more, from the viewpoint of coexistence of flexibility, adhesiveness, and conductivity. Moreover, from the viewpoint of ease of availability and improved adhesion, 200 g/eq or less is preferable, and 190 g/eq or less is more preferable. The active hydrogen equivalent of the polyamine is preferably 80 to 200 g/eq, and more preferably 85 to 190 g/eq. In this specification, “the active hydrogen equivalent of polyamine” refers to the molecular weight per equivalent of an active hydrogen group in the polyamine, and the active hydrogen group means an amino group having an active hydrogen group in the polyamine.

폴리아민의 아민가는 특별히 한정되지 않지만, 150∼350 KOHmg/g인 것이 바람직하고, 160∼330 KOHmg/g인 것이 더욱 바람직하다. 아민가가 그 범위이면, 도전성 조성물의 점도 상승이 억제되어, 핸들링을 하기 쉬워진다.The amine titer of the polyamine is not particularly limited, but is preferably 150 to 350 KOH mg/g, and more preferably 160 to 330 KOH mg/g. If the amine titer is within that range, the increase in viscosity of the conductive composition is suppressed and handling becomes easy.

폴리아민의 점도는 특별히 한정되지 않지만, 핸들링을 보다 쉽게 하는 관점에서, 2000 m㎩·s 이하인 것이 바람직하고, 800 m㎩·s 이하인 것이 더욱 바람직하다.The viscosity of the polyamine is not particularly limited, but from the viewpoint of making handling easier, it is preferably 2000 mPa·s or less, and more preferably 800 mPa·s or less.

본 발명에 있어서의 폴리올과 폴리아민의 혼합비(폴리올/폴리아민)는, 활성 수소기의 물질량 기준으로, 2/8∼7/3인 것이 바람직하고, 3/7∼6/4인 것이 보다 바람직하다. 폴리아민의 비율을 증가시킴으로써, 얻어지는 경화물의 접착성이나 도전성을 양호하게 할 수 있고, 폴리올의 비율을 증가시킴으로써, 얻어지는 경화물의 유연성을 양호하게 할 수 있기 때문에, 폴리올과 폴리아민의 혼합비를 상기 범위로 함으로써, 경화물의 유연성, 접착성, 및 도전성의 밸런스가 보다 양호해진다.The mixing ratio (polyol/polyamine) of polyol and polyamine in the present invention is preferably 2/8 to 7/3, and more preferably 3/7 to 6/4, based on the amount of active hydrogen group. By increasing the ratio of polyamine, the adhesiveness and conductivity of the obtained cured product can be improved, and by increasing the ratio of polyol, the flexibility of the obtained cured product can be improved, so by keeping the mixing ratio of polyol and polyamine within the above range. , the balance of flexibility, adhesiveness, and conductivity of the cured product becomes better.

또한 상기 혼합비(폴리올/폴리아민)는 하기 식에 기초하여 구해진다.Additionally, the mixing ratio (polyol/polyamine) is calculated based on the following formula.

혼합비(폴리올/폴리아민)=폴리올에 함유되는 총 활성 수소기 물질량/폴리아민에 함유되는 총 활성 수소기 물질량Mixing ratio (polyol/polyamine) = total amount of active hydrogen substances contained in polyol / total amount of active hydrogen substances contained in polyamine

상기 「폴리아민에 함유되는 총 활성 수소기 물질량」은, 도전성 조성물에 포함되는 폴리아민의 총 질량(단위: g)을, 해당 폴리아민의 활성 수소 당량(g/eq)으로 나눈 값을 의미한다. 폴리아민이 2종 이상의 혼합물인 경우, 각각의 화합물별로 질량(단위: g)을 폴리아민의 활성 수소 당량(g/eq)으로 나눈 값을 구하고, 이들을 합계함으로써 구할 수 있다.The above-mentioned “total amount of active hydrogen group substance contained in polyamine” means the total mass (unit: g) of polyamine contained in the conductive composition divided by the active hydrogen equivalent of the polyamine (g/eq). In the case of a mixture of two or more types of polyamines, the mass (unit: g) of each compound can be obtained by dividing it by the active hydrogen equivalent (g/eq) of the polyamine and summing them.

또한, 「폴리올에 함유되는 총 활성 수소기 물질량」은, 도전성 조성물에 포함되는 폴리올의 총 중량(단위: g)을 해당 폴리올의 활성 수소 당량(g/eq)으로 나눈 값을 의미한다. 폴리올이 2종 이상의 혼합물인 경우, 각각의 화합물별로 질량(단위: g)을 폴리올의 활성 수소 당량(g/eq)으로 나눈 값을 구하고, 이들을 합계함으로써 구할 수 있다. 또한, 상기 「폴리올의 활성 수소 당량」이란, 폴리올에 있어서의 활성 수소기 1 당량당의 분자량을 나타내고, 해당 활성 수소기는, 폴리올이 갖는 히드록시기(-OH)를 의미한다.In addition, “total amount of active hydrogen group substance contained in polyol” means the total weight (unit: g) of polyol contained in the conductive composition divided by the active hydrogen equivalent (g/eq) of the polyol. When two or more polyols are a mixture, it can be obtained by dividing the mass (unit: g) of each compound by the active hydrogen equivalent (g/eq) of the polyol and adding them up. In addition, the above-mentioned “active hydrogen equivalent of polyol” refers to the molecular weight per equivalent of an active hydrogen group in the polyol, and the active hydrogen group means a hydroxy group (-OH) possessed by the polyol.

본 발명에 있어서의 폴리올 및 폴리아민의 총 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 도전성 조성물 전체량에 대하여, 1 질량% 이상, 50 질량% 이하인 것이 바람직하고, 2 질량% 이상, 30 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 3 질량% 이상, 15 질량% 이하인 것이 가장 바람직하다. 폴리올 및 폴리아민의 양을 그 범위로 함으로써, 유연성과 도전성의 밸런스가 보다 양호해진다.The total content of polyol and polyamine in the present invention is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 2% by mass or more and 30% by mass or less, relative to the total amount of the conductive composition. , most preferably 3% by mass or more and 15% by mass or less. By keeping the amounts of polyol and polyamine within the range, the balance between flexibility and conductivity becomes better.

본 발명에서 사용되는 블록 이소시아네이트를 구성하는 이소시아네이트로서는, 분자 내에 복수의 이소시아네이트기를 갖는 화합물(폴리이소시아네이트)인 것이 바람직하다. 상기 폴리이소시아네이트로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트(이하, HDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI) 등의 지방족계 폴리이소시아네이트; 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI) 등의 방향족계 폴리이소시아네이트; 이들 폴리이소시아네이트의 이소시아누레이트체, 어덕트체, 뷰렛체 등의 변성체 등을 들 수 있고, 유연성을 보다 양호하게 하는 관점에서는 지방족계 폴리이소시아네이트 또는 지방족계 폴리이소시아네이트의 변성체가 바람직하다.The isocyanate constituting the block isocyanate used in the present invention is preferably a compound (polyisocyanate) having a plurality of isocyanate groups in the molecule. Examples of the polyisocyanate include aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate (hereinafter referred to as HDI) and isophorone diisocyanate (IPDI); Aromatic polyisocyanates such as diphenylmethane diisocyanate (MDI) and tolylene diisocyanate (TDI); Modified forms of these polyisocyanates, such as isocyanurate form, adduct form, and biuret form, etc. are mentioned, and from the viewpoint of improving flexibility, aliphatic polyisocyanate or modified form of aliphatic polyisocyanate is preferable.

상기 각 이소시아네이트는, 단량체여도 좋지만, 각 이소시아네이트의 다량체 또는 해당 다량체의 이소시아누레이트체, 어덕트체, 뷰렛체 등의 변성체인 것이 바람직하다.Each of the isocyanates may be monomers, but it is preferable that they are multimers of each isocyanate or modified forms of the multimer, such as an isocyanurate form, an adduct form, or a biuret form.

가장 바람직한 이소시아네이트는, HDI의 다량체 등의 지방족계 폴리이소시아네이트의 다량체, 또는 그의 변성체이다.The most preferable isocyanate is a polymer of aliphatic polyisocyanate such as a polymer of HDI, or a modified form thereof.

상기 블록 이소시아네이트를 구성하는 블록제로서는, 페놀계, 옥심계, 알코올계, 락탐계, 활성 메틸렌계, 및 피라졸계의 블록제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 반응 온도를 낮게 할 수 있는 점에서, 활성 메틸렌계 블록제, 피라졸계 블록제가 바람직하다. 블록제는 1종을 단독으로 포함하고 있어도 좋고, 2종류 이상을 포함하고 있어도 좋다. 경화성 및 보존 안정성의 관점에서, 활성 메틸렌계 및 피라졸계 블록제의 양방을 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the blocking agent constituting the block isocyanate include phenol-based, oxime-based, alcohol-based, lactam-based, activated methylene-based, and pyrazole-based blocking agents. Among them, active methylene-based blocking agents and pyrazole-based blocking agents are preferable because they can lower the reaction temperature. One type of blocking agent may be included individually, or two or more types may be included. From the viewpoint of curing properties and storage stability, it is preferable to contain both active methylene-based and pyrazole-based blocking agents.

상기 활성 메틸렌계 블록제로서는, 예컨대 말론산디에스테르를 들 수 있고, 구체적으로는, 말론산디메틸, 말론산디에틸, 말론산디부틸, 말론산비스(2-에틸헥실), 말론산메틸부틸, 말론산디에틸헥실 등의 말론산디알킬; 말론산디페닐 등의 말론산디아릴; 등을 들 수 있다.Examples of the active methylene-based blocking agent include malonic acid diesters, and specifically include dimethyl malonate, diethyl malonate, dibutyl malonate, bis(2-ethylhexyl) malonate, methylbutyl malonate, and dimalonate. Dialkyl malonate such as ethylhexyl; Diaryl malonate such as diphenyl malonate; etc. can be mentioned.

상기 피라졸계 블록제로서는, 예컨대 피라졸, 3,5-디메틸피라졸, 3-메틸피라졸, 4-니트로-3,5-디메틸피라졸 등을 들 수 있다.Examples of the pyrazole-based blocking agent include pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methylpyrazole, and 4-nitro-3,5-dimethylpyrazole.

상기 페놀계 블록제로서는, 예컨대 페놀, 크레졸, 에틸페놀, 스티렌화 페놀 등을 들 수 있다.Examples of the phenol-based blocking agent include phenol, cresol, ethylphenol, and styrenated phenol.

상기 옥심계 블록제로서는, 예컨대 포름아미독심, 아세트알독심, 아세톤옥심, 메틸에틸케톡심, 메틸이소부틸케톡심, 시클로헥사논옥심 등을 들 수 있다.Examples of the oxime-based blocking agent include formamidoxime, acetaldoxime, acetone oxime, methyl ethyl ketoxime, methyl isobutyl ketoxime, and cyclohexanone oxime.

상기 알코올계 블록제로서는, 예컨대 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, n-부탄올, sec-부탄올, tert-부탄올, 2-에틸-1-헥산올, 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올 등을 들 수 있다.Examples of the alcohol-based blocking agent include methanol, ethanol, 2-propanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, 2-ethyl-1-hexanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2 -Butoxyethanol, etc. can be mentioned.

상기 락탐계 블록제로서는, 예컨대 ε-카프로락탐, δ-발레로락탐, γ-부티로락탐 등을 들 수 있다.Examples of the lactam-based blocking agent include ε-caprolactam, δ-valerolactam, and γ-butyrolactam.

상기 블록 이소시아네이트로서는, 시판품을 사용할 수도 있고, 상기 시판품으로서는, 듀라네이트 SBN-70D, SBB-70P, TPA-B80E(아사히가세이 가부시키가이샤 제조), Desmodur BL3272MPA, BL3475BA/SN, BL3575MPA/SN(Covestro사 제조), Trixene BI7960, BI7982, BI7991, BI7992(Baxenden사 제조) 등을 들 수 있다.As the block isocyanate, commercial products can be used. Examples of the commercial products include Duranate SBN-70D, SBB-70P, TPA-B80E (manufactured by Asahi Kasei Corporation), Desmodur BL3272MPA, BL3475BA/SN, BL3575MPA/SN (Covestro (manufactured by Baxenden), Trixene BI7960, BI7982, BI7991, and BI7992 (manufactured by Baxenden).

본 발명에 있어서의 폴리올 및 폴리아민이 갖는 모든 활성 수소기와 블록 이소시아네이트의 이소시아네이트기의 배합비(NCO기/활성 수소기)는 특별히 한정되지 않지만, 물질량 기준으로, 0.7 이상, 2.0 미만인 것이 바람직하고, 0.8 이상, 1.5 이하인 것이 더욱 바람직하다. 그 범위이면, 경화물의 유연성을 유지한 채로 보다 양호한 접착성을 발현할 수 있다.In the present invention, the mixing ratio (NCO group/active hydrogen group) of all the active hydrogen groups of the polyol and polyamine and the isocyanate group of the blocked isocyanate is not particularly limited, but is preferably 0.7 or more and less than 2.0, based on the amount of material, and is 0.8 or more. , it is more preferable that it is 1.5 or less. Within that range, better adhesiveness can be achieved while maintaining the flexibility of the cured product.

본 발명에 있어서의 도전성 조성물은, 성능을 손상시키지 않는 범위에서, 촉매를 더 포함할 수 있다. 촉매는 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 유기 주석 화합물, 유기 비스무트 금속 화합물, 3급 아민 화합물 등을 들 수 있다. 촉매의 함유량은, 도전성 조성물 전체량에 대하여, 1.0 질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이하이다.The conductive composition in the present invention may further contain a catalyst within a range that does not impair performance. The catalyst is not particularly limited, and examples include organic tin compounds, organic bismuth metal compounds, and tertiary amine compounds. The content of the catalyst is preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, based on the total amount of the conductive composition.

본 발명에서 사용되는 도전성 입자는, 평균 입경(D50)이 0.4 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인 입자 I(이하, 도전성 입자 I)를 포함한다. 도전성 입자 I의 D50이 0.4 ㎛ 미만인 경우는, 경화물의 탄성률이 높아져, 변형 시에 크랙이 발생하고, 도전성 입자 I의 D50이 2.0 ㎛보다 크면, 접착력이 저하한다. 도전성 입자 I의 평균 입경(D50)은, 0.5 ㎛ 이상, 1.5 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.6 ㎛ 이상, 1.2 ㎛ 이하인 것이 가장 바람직하다.The conductive particles used in the present invention include particles I (hereinafter referred to as conductive particles I) having an average particle diameter (D50) of 0.4 μm or more and 2.0 μm or less. When the D50 of the conductive particles I is less than 0.4 μm, the elastic modulus of the cured product increases and cracks occur during deformation, and when the D50 of the conductive particles I is greater than 2.0 μm, the adhesive strength decreases. The average particle diameter (D50) of the conductive particles I is more preferably 0.5 μm or more and 1.5 μm or less, and most preferably 0.6 μm or more and 1.2 μm or less.

도전성 입자 I의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 인편상(플레이크상이라고도 함), 부정형 응집상, 구상, 괴상 등을 들 수 있다. 그 중에서도 가열 시의 점도 감소 방지의 관점에서 인편상이 바람직하다.The shape of the conductive particles I is not particularly limited, but examples include scales (also called flakes), irregularly shaped aggregates, spherical shapes, and lumps. Among them, the flaky shape is preferable from the viewpoint of preventing a decrease in viscosity during heating.

본 발명에 있어서의 도전성 입자 I의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 도전성 조성물 전체량에 대하여, 25 질량% 이상, 95 질량% 이하인 것이 바람직하고, 30 질량% 이상, 90 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자의 양을 그 범위로 함으로써, 유연성과 도전성의 밸런스가 보다 양호해진다.The content of the conductive particles I in the present invention is not particularly limited, but is preferably 25% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 30% by mass or more and 90% by mass or less, relative to the total amount of the conductive composition. By keeping the amount of conductive particles within that range, the balance between flexibility and conductivity becomes better.

본 발명에 있어서의 도전성 입자는, 평균 입경(D50)이 5 ㎛ 이상, 15 ㎛ 이하인 입자 II(이하, 도전성 입자 II)를 더 포함하여도 좋다. 도전성 입자가 도전성 입자 II를 포함함으로써, 유연성이 보다 향상된다. 도전성 입자 II의 평균 입경(D50)은, 6 ㎛ 이상, 12 ㎛ 미만인 것이 바람직하다.The conductive particles in the present invention may further include particles II (hereinafter referred to as conductive particles II) having an average particle diameter (D50) of 5 μm or more and 15 μm or less. When the conductive particles contain conductive particles II, flexibility is further improved. The average particle diameter (D50) of the conductive particles II is preferably 6 μm or more and less than 12 μm.

또한 본 발명에 있어서의 평균 입경(D50)은, 레이저 회절법에 의해 측정한 입경의 누적 체적 기준이 50%에 있어서의 입경을 나타낸다.In addition, the average particle size (D50) in the present invention represents the particle size when the cumulative volume basis of the particle size measured by laser diffraction is 50%.

도전성 입자 II의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 인편상, 부정형 응집상, 구상, 괴상 등을 들 수 있고, 그 중에서도 괴상이 바람직하다.The shape of the conductive particles II is not particularly limited, but examples include scales, irregularly shaped aggregates, spherical shapes, and lumps, and among these, lumps are preferable.

도전성 입자 I 및 도전성 입자 II로서는, 은, 동, 금, 백금, 팔라듐, 알루미늄, 니켈, 인듐, 비스무트, 아연, 납, 주석, 카본 블랙 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용하여도 좋고, 2종류 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. 또한, 도전성 입자 I와 도전성 입자 II의 재질은 동일하여도 달라도 좋다. 이들 중에서도 도전성의 관점에서, 도전성 입자 I 및 도전성 입자 II 중 적어도 한쪽의 입자(바람직하게는 도전성 입자 I)로서 은 입자를 사용하는 것이 바람직하고, 적어도 도전성 입자 I로서 은 입자를 단독으로 사용하는 것이 보다 바람직하고, 도전성 입자 I 및 도전성 입자 II 모두, 은 입자를 단독으로 사용하는 것이 더욱 바람직하다.Examples of conductive particles I and conductive particles II include silver, copper, gold, platinum, palladium, aluminum, nickel, indium, bismuth, zinc, lead, tin, and carbon black. These may be used individually or in combination of two or more types. In addition, the materials of electroconductive particle I and electroconductive particle II may be the same or different. Among these, from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use silver particles as at least one of the conductive particles I and II (preferably the conductive particles I), and to use the silver particles alone as at least the conductive particles I. It is more preferable to use silver particles alone for both conductive particles I and conductive particles II.

도전성 입자에 있어서의, 도전성 입자 I와 도전성 입자 II의 합계 함유량은, 80 질량% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 90 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 95 질량% 이상, 특히 바람직하게는 98 질량% 이상이고, 100 질량%여도 좋다.The total content of conductive particles I and conductive particles II in the conductive particles is preferably 80 mass% or more, more preferably 90 mass% or more, further preferably 95 mass% or more, especially preferably 98 mass%. % or more, and may be 100% by mass.

본 발명에 있어서의 도전성 입자의 총 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 도전성 조성물 전체량에 대하여, 50 질량% 이상, 95 질량% 이하인 것이 바람직하고, 60 질량% 이상, 90 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자의 양을 그 범위로 함으로써, 유연성과 도전성의 밸런스가 보다 양호해진다.The total content of conductive particles in the present invention is not particularly limited, but is preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 60% by mass or more and 90% by mass or less, relative to the total amount of the conductive composition. By keeping the amount of conductive particles within that range, the balance between flexibility and conductivity becomes better.

본 발명의 도전성 입자가 도전성 입자 II를 포함하는 경우, 상기 도전성 입자 I와 도전성 입자 II의 배합비(도전성 입자 I/도전성 입자 II)는 특별히 한정되지 않지만, 95/5∼50/50인 것이 바람직하고, 90/10∼70/30인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자 I와 도전성 입자 II의 배합비를 그 범위로 함으로써, 도전성과 접착성을 유지하고 또한 유연한 경화물을 얻을 수 있다.When the conductive particles of the present invention contain conductive particles II, the mixing ratio of the conductive particles I and conductive particles II (conductive particles I/conductive particles II) is not particularly limited, but is preferably 95/5 to 50/50. , it is more preferable that it is 90/10 to 70/30. By keeping the mixing ratio of conductive particles I and conductive particles II within the range, a cured product that maintains conductivity and adhesiveness and is flexible can be obtained.

폴리올, 폴리아민, 블록 이소시아네이트, 및 도전성 입자의 합계 함유량은, 도전성 조성물 전체량에 대하여, 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 95 질량% 이상이어도 좋고, 100 질량%여도 좋다.The total content of polyol, polyamine, blocked isocyanate, and conductive particles is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more, based on the total amount of the conductive composition. It may be more than mass%, and may be 100 mass%.

본 발명에 있어서의 도전성 조성물은, 용매를 포함하지 않아도 좋고, 용매를 포함하고 있어도 좋다. 도전성 조성물 중의 용매의 함유량은, 10 질량% 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 질량% 미만이고, 또한 0 질량%여도 좋고, 1 질량% 이상이어도 좋다. 용매의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 경화물을 형성할 때의 기포의 발생을 억제할 수 있고, 또한 얻어지는 경화물의 후막화가 가능해진다.The conductive composition in the present invention may not contain a solvent or may contain a solvent. The solvent content in the conductive composition is preferably less than 10% by mass, more preferably less than 5% by mass, and may be 0% by mass or more than 1% by mass. By setting the solvent content within the above range, the generation of bubbles when forming the cured product can be suppressed, and the resulting cured product can be thickened into a film.

용매의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 솔벤트나프타, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.The type of solvent is not particularly limited, but examples include ethyl acetate, butyl acetate, solvent naphtha, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate.

본 발명에 있어서의 도전성 조성물에는, 또한, 열가소성 수지, 무기 필러, 도전 조제, 안료, 염료, 분산제, 소포제, 레벨링제, 틱소성 부여제, 반응성 희석제, 난연제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 가수 분해 방지제, 점착성 부여제, 가소제 등의 부여제를 배합할 수 있다. 부여제의 배합량은, 도전성 조성물 전체량에 대하여, 10 질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 1 질량% 이하이다.The conductive composition in the present invention further contains a thermoplastic resin, an inorganic filler, a conductive additive, a pigment, a dye, a dispersant, an antifoaming agent, a leveling agent, a thixotropic imparting agent, a reactive diluent, a flame retardant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a hydrolysis inhibitor. , tackifiers, plasticizers, etc. can be added. The blending amount of the imparting agent is preferably 10% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and still more preferably 1% by mass or less, based on the total amount of the conductive composition.

본 발명에 있어서의 도전성 조성물은, 바인더 성분인 폴리올 및 폴리아민과 블록 이소시아네이트, 도전성 입자, 및 임의로 사용되는 성분을 디졸버, 3본롤 밀, 자공전형 혼합기, 아트라이터(attritor), 볼 밀, 샌드 밀 등의 분산기에 의해 혼합 분산함으로써 얻을 수 있다.The conductive composition in the present invention is made by mixing polyol and polyamine as binder components, block isocyanate, conductive particles, and optionally used components in a dissolver, three-roll mill, self-rotating mixer, attritor, ball mill, or sand mill. It can be obtained by mixing and dispersing using a disperser such as.

본 발명에 있어서의 도전성 조성물은, 유연성, 접착성, 및 도전성의 양립이 가능하기 때문에, 도전성 접착제(바람직하게는, 플렉시블 하이브리드 일렉트로닉스에 사용되는 도전성 접착제)로서 적합하게 사용된다. 본 발명에 있어서의 도전성 조성물을 기재에 도포 또는 인쇄하여 경화시킴으로써, 땜납 대체로서, 전자 부품의 실장에 사용할 수 있다. 기재 상에 도포하는 공정은, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 스크린 인쇄법, 스탬핑법, 디스펜스법, 스퀴지 인쇄 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 조성물을 경화시킴으로써, 반도체 소자 칩 부품의 접합이나 실장, 회로 접속, 수정 진동자나 압전 소자의 접착이나 패키지의 실링 등에 사용할 수 있다.Since the conductive composition in the present invention is capable of achieving both flexibility, adhesiveness, and conductivity, it is suitably used as a conductive adhesive (preferably a conductive adhesive used in flexible hybrid electronics). By applying or printing the conductive composition of the present invention to a substrate and curing it, it can be used as a solder substitute for mounting electronic components. The process for applying onto the substrate is not particularly limited, but examples include screen printing, stamping, dispensing, and squeegee printing. Additionally, by curing the conductive composition, it can be used for joining or mounting semiconductor device chip components, connecting circuits, adhering crystal oscillators or piezoelectric elements, or sealing packages.

경화 시의 가열 온도는, 활성 수소기와 블록 이소시아네이트기의 반응 온도나, 사용하는 기재의 내열성에 따라 적절하게 결정된다. 가열 온도는, 예컨대 80∼150℃여도 좋고, 100℃∼130℃여도 좋다. 가열 시간은 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 10분∼120분 정도이고, 30분∼60분 정도가 바람직하다.The heating temperature during curing is appropriately determined depending on the reaction temperature of the active hydrogen group and blocked isocyanate group and the heat resistance of the substrate used. The heating temperature may be, for example, 80 to 150°C or 100 to 130°C. The heating time is not particularly limited, but is, for example, about 10 to 120 minutes, and is preferably about 30 to 60 minutes.

본 발명에 있어서의 도전성 조성물을 사용하여 형성한 경화물은, 유연성의 관점에서, 점탄성 측정 장치를 사용하여 측정한 25℃에 있어서의 저장 탄성률이, 50 ㎫ 이상, 600 ㎫ 이하인 것이 바람직하고, 150 ㎫ 이상, 500 ㎫ 이하인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of flexibility, the cured product formed using the conductive composition of the present invention preferably has a storage modulus of 50 MPa or more and 600 MPa or less at 25°C, as measured using a viscoelasticity measuring device, and is 150 MPa or more. It is more preferable that it is more than MPa and less than 500 MPa.

상기 경화물은, 도전성의 관점에서, 비저항이 2.0×10-4 Ω·㎝ 미만인 것이 바람직하고, 1.0×10-4 Ω·㎝ 미만인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of conductivity, the cured product preferably has a specific resistance of less than 2.0×10 -4 Ω·cm, and more preferably less than 1.0×10 -4 Ω·cm.

상기 경화물은, 접착성의 관점에서, 피착체에 무산소 동판을 사용할 때의 전단 접착력이 2.0 ㎫ 이상인 것이 바람직하고, 2.5 ㎫ 이상인 것이 더욱 바람직하다.From the viewpoint of adhesiveness, the cured product preferably has a shear adhesive force of 2.0 MPa or more, and more preferably 2.5 MPa or more when an oxygen-free copper plate is used as the adherend.

본 실시형태에 따른 전자 기기는, 배선을 갖는 기판과, 전자 부품을 갖고, 상기 도전성 조성물의 경화물이 전자 부품과 배선 사이에 개재되어 있다. 이에 의해, 기판에 형성된 배선과 전자 부품이 물리적 및 전기적으로 접속할 수 있다. 도 1은 상기 전자 기기의 일례를 나타내는 모식 단면도이고, 해당 전자 기기는, 기판(10)과, 기판(10)의 표면에 형성된 배선(20)과, 전자 부품(30)을 구비하고, 상기 배선(20)과 전자 부품(30)(보다 정확하게는 전자 부품(30)에 형성된 전극(31)) 사이에 도전성 조성물의 경화물(40)이 개재된다. 그 경화물(40)에 의해 전자 부품(30)과 배선(20)이 전기적으로 접속되어 있다.The electronic device according to the present embodiment has a substrate having wiring and electronic components, and a cured product of the conductive composition is interposed between the electronic components and wiring. As a result, the wiring formed on the substrate and the electronic components can be physically and electrically connected. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electronic device, and the electronic device includes a substrate 10, wiring 20 formed on the surface of the substrate 10, and electronic components 30, and the wiring A cured product 40 of the conductive composition is interposed between 20 and the electronic component 30 (more precisely, the electrode 31 formed on the electronic component 30). The electronic component 30 and the wiring 20 are electrically connected by the cured material 40.

본 실시형태에 따른 전자 기기에 있어서의 기판은, 신축 및/또는 굴곡 가능한 기판이어도 좋다. 상기 도전성 조성물의 경화물은 유연성을 갖기 때문에, 기판의 신축이나 절곡에 추종할 수 있어, 전자 부품과 배선의 접속부에서의 박리나 크랙의 발생이 억제된다. 따라서, 본 실시형태에 따른 전자 기기는, 플렉시블하여도, 높은 접속 신뢰성을 갖는다.The substrate in the electronic device according to this embodiment may be a substrate capable of stretching and/or bending. Since the cured product of the conductive composition has flexibility, it can follow the stretching and bending of the substrate, and the occurrence of peeling and cracks at the connection between electronic components and wiring is suppressed. Therefore, the electronic device according to this embodiment has high connection reliability even if it is flexible.

본 발명에 사용되는 신축 및/또는 굴곡 가능한 기판은 특별히 한정되지 않지만, 섬유 구조체, 수지 필름, 고무 등을 들 수 있다. 섬유 구조체로서는. 예컨대 편물, 직물, 부직포, 종이 등을 들 수 있다. 수지 필름으로서는, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리염화비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리우레탄, 폴리이미드, 폴리메타크릴산메틸, 실리콘 등을 들 수 있다. 고무로서는, 우레탄 고무, 아크릴 고무, 실리콘 고무, 부타디엔 고무, 니트릴 고무, 수소화 니트릴 고무 등의 니트릴기 함유 고무, 이소프렌 고무, 황화 고무, 스티렌부타디엔 고무, 부틸 고무, 에틸렌프로필렌 고무 등을 들 수 있다.The stretchable and/or bendable substrate used in the present invention is not particularly limited, but includes fiber structures, resin films, rubber, etc. As a fiber structure. Examples include knitted fabrics, fabrics, non-woven fabrics, and paper. Examples of the resin film include polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyethylene naphthalate, polyurethane, polyimide, polymethyl methacrylate, and silicone. Examples of the rubber include nitrile-containing rubbers such as urethane rubber, acrylic rubber, silicone rubber, butadiene rubber, nitrile rubber, and hydrogenated nitrile rubber, isoprene rubber, sulfide rubber, styrene-butadiene rubber, butyl rubber, and ethylene propylene rubber.

본원은, 2021년 4월 9일에 출원된 일본국 특허 출원 제2021-066506호에 기초한 우선권의 이익을 주장하는 것이다. 2021년 4월 9일에 출원된 일본국 특허 출원 제2021-066506호의 명세서의 전체 내용이 본원에 참고를 위해 원용된다.This application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2021-066506 filed on April 9, 2021. The entire content of the specification of Japanese Patent Application No. 2021-066506 filed on April 9, 2021 is incorporated herein by reference.

실시예Example

이하에서는, 실시예를 제시하여, 본 발명을 보다 상세하고 또한 구체적으로 설명한다. 또한 실시예 중의 조작, 평가 결과 등은 이하의 방법으로 측정하였다.Below, examples will be presented to explain the present invention in more detail and detail. In addition, the operations and evaluation results in the examples were measured by the following methods.

<탄성률><Elastic modulus>

도전성 조성물을 테플론(등록상표) 필름 상에, 200 ㎛ 갭의 애플리케이터를 사용하여 도포하였다. 열풍 건조기로 130℃ 60분 가열 경화시킨 후, 실온까지 냉각하였다. 그 후, 도막을 4 ㎜×300 ㎜로 컷트하고, 테플론(등록상표) 필름으로부터 박리하여 탄성률의 평가용 시험편을 얻었다. 점탁성 측정 장치(아이티게이소쿠세이교사 제조 DVA-200)에 시험편을 셋트하고, 변형: 0.1%, 주파수: 10 ㎐, 승온 속도: 4℃/min, 측정 온도 범위: -10℃ 내지 100℃의 조건에서 장치를 운전하여, 25℃의 저장 탄성률을 구하였다.The conductive composition was applied on a Teflon (registered trademark) film using an applicator with a gap of 200 μm. After curing by heating at 130°C for 60 minutes using a hot air dryer, it was cooled to room temperature. After that, the coating film was cut to 4 mm x 300 mm and peeled from the Teflon (registered trademark) film to obtain a test piece for evaluating the elastic modulus. The test piece was set in a viscosity measuring device (DVA-200 manufactured by IT Keisoku Seiko Co., Ltd.), strain: 0.1%, frequency: 10 Hz, temperature increase rate: 4°C/min, measurement temperature range: -10°C to 100°C. By operating the device under these conditions, the storage modulus of elasticity at 25°C was determined.

<비저항><Resistivity>

도전성 조성물을 PET 필름 상에, 50 ㎛ 갭의 애플리케이터를 사용하여 도포하였다. 열풍 건조기로 130℃ 60분 가열 경화시킨 후, 실온까지 냉각하였다. 그 후, 도막을 10 ㎜×35 ㎜로 컷트하여 비저항의 평가용 시험편을 얻었다. 시험편의 막 두께를 시크니스 게이지(TECLOCK사 제조 SMD-565L)로 측정하고, 시험편의 시트 저항을 Loresta-GP(미쓰비시가가쿠애널리테크사 제조 MCP-T610)를 사용하여 측정하였다. 각각 시험편 4장에 대해서 측정하고, 그 평균값을 이용하여 비저항을 산출하였다.The conductive composition was applied onto the PET film using an applicator with a 50 μm gap. After curing by heating at 130°C for 60 minutes using a hot air dryer, it was cooled to room temperature. After that, the coating film was cut into 10 mm x 35 mm to obtain a test piece for evaluation of specific resistance. The film thickness of the test piece was measured using a thickness gauge (SMD-565L manufactured by TECLOCK), and the sheet resistance of the test piece was measured using Loresta-GP (MCP-T610 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech). Measurements were made on four test pieces each, and the resistivity was calculated using the average value.

<접착성><Adhesiveness>

도전성 조성물의 접착성을 평가하기 위해, 피착체에 2장의 무산소 동판(치수: 25 ㎜×100 ㎜×1 ㎜, 재질: C1020P, 경도: 1/2H)을 사용하였다. 피착체의 표면을 아세톤으로 세정한 후, 도전성 조성물을 한쪽의 동판에 25 ㎜×12.5 ㎜의 면적이 되도록 도포하고, 다른 한쪽의 동판을 맞붙였다. 열풍 건조기로 130℃ 60분 가열 경화시킨 후, 실온까지 냉각하였다. 접착력은 정밀 만능 시험기(시마즈세이사쿠쇼사 제조 AG-20kNXDplus)를 사용하여, 전단 방향으로 인장 속도 10 ㎜/min으로, 23℃ RH 50% 환경 하에 있어서 측정하였다.To evaluate the adhesion of the conductive composition, two oxygen-free copper plates (dimensions: 25 mm x 100 mm x 1 mm, material: C1020P, hardness: 1/2H) were used as the adherend. After washing the surface of the adherend with acetone, the conductive composition was applied to one copper plate to an area of 25 mm x 12.5 mm, and the other copper plate was bonded together. After curing by heating at 130°C for 60 minutes using a hot air dryer, it was cooled to room temperature. Adhesion was measured using a precision universal tester (AG-20kNXDplus manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd.) in an environment of 23°C and RH 50% at a tensile speed of 10 mm/min in the shear direction.

실시예 1∼4, 비교예 1∼2Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 2

<도전성 조성물의 제조예><Example of manufacturing conductive composition>

각종 성분을 표 1의 배합비에 따라 첨가하고, 예비 혼합 후, 3본롤 밀로 분산함으로써 페이스트화하여, 도전성 조성물을 얻었다. 얻어진 도전성 조성물의 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.Various components were added according to the mixing ratio in Table 1, and after preliminary mixing, they were dispersed in a three-roll mill to form a paste, thereby obtaining a conductive composition. The evaluation results of the obtained conductive composition are shown in Table 1 below.

Figure pct00001
Figure pct00001

또한 표 1에 있어서의 각 성분은 이하와 같다.In addition, each component in Table 1 is as follows.

폴리올: 가부시키가이샤 쿠라레 폴리에스테르폴리올 P-510(활성 수소 당량: 250 g/eq, 수산기가: 224 KOHmg/g, 중량 평균 분자량: 500 g/㏖)Polyol: Kuraray Corporation polyester polyol P-510 (active hydrogen equivalent: 250 g/eq, hydroxyl value: 224 KOHmg/g, weight average molecular weight: 500 g/mol)

폴리아민 1: 가부시키가이샤 T&K TOKA 변성 지방족 폴리아민 FXJ-859-C(활성 수소 당량: 190 g/eq, 아민가: 170 KOHmg/g, 점도: 450 m㎩·s)Polyamine 1: T&K TOKA Co., Ltd. modified aliphatic polyamine FXJ-859-C (active hydrogen equivalent: 190 g/eq, amine value: 170 KOHmg/g, viscosity: 450 mPa·s)

폴리아민 2: 가부시키가이샤 T&K TOKA 변성 지방족 폴리아민 FXD-821-F(활성 수소 당량: 85 g/eq, 아민가: 300 KOHmg/g, 점도: 65 m㎩·s)Polyamine 2: T&K TOKA Co., Ltd. modified aliphatic polyamine FXD-821-F (active hydrogen equivalent: 85 g/eq, amine value: 300 KOHmg/g, viscosity: 65 mPa·s)

이소시아네이트: Baxenden사 블록 이소시아네이트 BI7992(NCO: 당량 456 g/eq)Isocyanate: Baxenden block isocyanate BI7992 (NCO: equivalent weight 456 g/eq)

도전성 입자 1: 메탈로테크놀로지즈 재팬 가부시키가이샤 플레이크 은 P791-24(D50: 0.7 ㎛)Conductive particle 1: Metallo Technologies Japan Co., Ltd. flake silver P791-24 (D50: 0.7 ㎛)

도전성 입자 2: 메탈로테크놀로지즈 재팬 가부시키가이샤 괴상 은 P318-41(D50: 9.0 ㎛)Conductive particles 2: Metallo Technologies Japan Co., Ltd., bulk silver P318-41 (D50: 9.0 ㎛)

도전성 입자 3: 메탈로테크놀로지즈 재팬 가부시키가이샤 괴상 은 P853-11(D50: 8.0 ㎛)Conductive particle 3: Metallo Technologies Japan Co., Ltd., bulk silver P853-11 (D50: 8.0 ㎛)

실시예 1∼4는 폴리올과 블록 이소시아네이트에 더하여, 폴리아민과 0.4 ㎛≤D50≤2.0 ㎛의 도전성 입자를 포함하고 있기 때문에, 유연하고 또한 높은 도전성과 접착성을 갖는 경화물을 얻을 수 있었다. 실시예 1 및 2의 비교로부터, 폴리올에 대한 폴리아민의 혼합량을 감소시킴으로써, 보다 유연한 경화물이 된다는 것을 알았다. 또한 실시예 3 및 4의 비교로부터, 0.4 ㎛≤D50≤2.0 ㎛의 도전성 입자에 대하여 5.0 ㎛≤D50≤15.0 ㎛의 도전성 입자를 혼합함으로써, 도전성과 접착성을 유지하고 또한 유연한 경화물이 얻어진다는 것을 알았다.Since Examples 1 to 4 contained polyamine and conductive particles of 0.4 μm≤D50≤2.0 μm in addition to polyol and blocked isocyanate, cured products that were flexible and had high conductivity and adhesiveness were obtained. From the comparison of Examples 1 and 2, it was found that reducing the mixing amount of polyamine to polyol resulted in a more flexible cured product. Furthermore, from the comparison of Examples 3 and 4, by mixing conductive particles of 5.0 μm≤D50≤15.0 μm with conductive particles of 0.4 μm≤D50≤2.0 μm, a flexible cured product that maintains conductivity and adhesiveness can be obtained. I knew that

비교예 1은 폴리아민을 포함하지 않기 때문에, 유연하지만 도전성과 접착성이 저하하였다. 비교예 2에서는 0.4 ㎛≤D50≤2.0 ㎛의 은 입자를 포함하지 않기 때문에 접착성이 대폭 감소하였다.Since Comparative Example 1 did not contain polyamine, it was flexible but had poor conductivity and adhesiveness. In Comparative Example 2, the adhesiveness was significantly reduced because it did not contain silver particles of 0.4 ㎛ ≤ D 50 ≤ 2.0 ㎛.

이상 나타낸 바와 같이, 본 발명의 도전성 조성물은, 유연하고 도전성과 접착성이 우수한 경화물을 저온에서 형성 가능하고, 특히 플렉시블 기재 상에 형성된 배선과 전자 부품의 접합 재료로서 매우 적합하다.As shown above, the conductive composition of the present invention can form a cured product that is flexible and has excellent conductivity and adhesiveness at low temperatures, and is particularly suitable as a bonding material for wiring and electronic components formed on a flexible substrate.

10. 기판
20. 배선
30. 전자 부품
31. 전극
40. 도전성 조성물의 경화물
10. Substrate
20. Wiring
30. Electronic components
31. Electrode
40. Cured product of conductive composition

Claims (10)

폴리올과, 폴리아민과, 블록 이소시아네이트와, 도전성 입자를 포함하고, 상기 도전성 입자가, 적어도 평균 입경(D50)이 0.4 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인 입자 I를 포함하는, 도전성 조성물.A conductive composition comprising polyol, polyamine, blocked isocyanate, and conductive particles, wherein the conductive particles include at least particles I having an average particle diameter (D50) of 0.4 μm or more and 2.0 μm or less. 제1항에 있어서, 상기 입자 I가 은인 것을 특징으로 하는, 도전성 조성물.The conductive composition according to claim 1, wherein the particles I are silver. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 도전성 입자로서, 평균 입경(D50)이 5.0 ㎛ 이상, 15.0 ㎛ 이하인 입자 II를 더 포함하는, 도전성 조성물.The conductive composition according to claim 1 or 2, wherein the conductive particles further include particles II having an average particle diameter (D50) of 5.0 μm or more and 15.0 μm or less. 제3항에 있어서, 상기 입자 II가 은인 것을 특징으로 하는, 도전성 조성물.The conductive composition according to claim 3, wherein the particles II are silver. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리아민은, 활성 수소 당량이 80∼200 g/eq인 것을 특징으로 하는, 도전성 조성물.The conductive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyamine has an active hydrogen equivalent of 80 to 200 g/eq. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리올 및 상기 폴리아민의 혼합비(폴리올/폴리아민)가, 활성 수소기의 물질량 기준으로 7/3∼2/8인 것을 특징으로 하는, 도전성 조성물.The conductive composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the mixing ratio (polyol/polyamine) of the polyol and the polyamine is 7/3 to 2/8 based on the amount of active hydrogen group. . 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 도전성 조성물 전체 질량에 대하여, 용제의 함유량이 10 질량% 미만인 것을 특징으로 하는, 도전성 조성물.The conductive composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the solvent content is less than 10% by mass based on the total mass of the conductive composition. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 조성물의 경화물.A cured product of the conductive composition according to any one of claims 1 to 7. 배선을 갖는 기판과, 전자 부품을 갖고, 제8항에 기재된 도전성 조성물의 경화물이 전자 부품과 배선 사이에 개재되어 있는 전자 기기.An electronic device comprising a substrate having wiring, electronic components, and a cured product of the conductive composition according to claim 8 interposed between the electronic components and wiring. 제9항에 있어서, 상기 기판이, 신축 및/또는 굴곡 가능한 기판인 것을 특징으로 하는, 전자 기기.The electronic device according to claim 9, wherein the substrate is a flexible and/or bendable substrate.
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