JP6259270B2 - Thermosetting conductive paste composition - Google Patents

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Description

本発明は、熱硬化型導電性ペースト組成物に関し、特に、フィルム、基板、電子部品等の基材に塗布または印刷し、加熱硬化させることにより、優れた接着性および導電性を備えた塗膜を形成することのできる熱硬化型導電性ペースト組成物に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermosetting conductive paste composition, and in particular, a coating film having excellent adhesion and conductivity by applying or printing on a substrate such as a film, a substrate, and an electronic component, and heat curing. It is related with the thermosetting conductive paste composition which can form.

従来から、フィルム、基板、電子部品等の基材に電極または電気配線(配線)等を形成する方法の一つとして、熱硬化型導電性ペーストを用いる方法が広く知られている。この方法において、比較的低温で導体パターンを形成する場合には、導電性金属粉末(導電性粉末)と熱硬化型樹脂とを含有する熱硬化型のものが用いられる。そして、この熱硬化型導電性ペースト組成物を基材上に所定の導体パターンで塗布または印刷し、その後に基材上の導体パターンを乾燥硬化させるために加熱が行われ、これにより、所定の導体パターンの電極や配線等が基材上に形成される。   2. Description of the Related Art Conventionally, a method using a thermosetting conductive paste is widely known as one of methods for forming electrodes or electric wiring (wiring) on a substrate such as a film, a substrate, or an electronic component. In this method, when the conductor pattern is formed at a relatively low temperature, a thermosetting type containing a conductive metal powder (conductive powder) and a thermosetting resin is used. Then, the thermosetting conductive paste composition is applied or printed on the base material with a predetermined conductor pattern, and then heating is performed to dry and cure the conductor pattern on the base material. Conductor pattern electrodes, wiring, and the like are formed on the substrate.

熱硬化型導電性ペースト組成物において、熱硬化型樹脂としては、エポキシ樹脂、ブロック化ポリイソシアネート化合物等、また、導電性粉末としては、主に銀が用いられる。   In the thermosetting conductive paste composition, an epoxy resin, a blocked polyisocyanate compound or the like is used as the thermosetting resin, and silver is mainly used as the conductive powder.

例えば、特許文献1には、銀粉末と、ブロック化ポリイソシアネート化合物と、エポキシ樹脂と、硬化剤とを含む熱硬化型導電性ペースト組成物が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses a thermosetting conductive paste composition containing silver powder, a blocked polyisocyanate compound, an epoxy resin, and a curing agent.

一方で、銀は高価なため、より安価な銅、銅合金、銅または銅合金を銀でコートした銀コート銅または銀コート銅合金等を導電性粉末として用いた熱硬化型導電性ペーストの開発も行われており、特許文献2および3には、銀粉末と同等で、安価なものとして銀粉末と銅粉末を機械的に強制接合させた銀−銅複合粉末を合成樹脂・溶剤に分散させてなる導電性塗料が開示されている。   On the other hand, since silver is expensive, the development of thermosetting conductive pastes using less expensive copper, copper alloys, silver-coated copper or copper-coated copper alloys coated with silver, etc. as conductive powder In Patent Documents 2 and 3, silver-copper composite powder obtained by mechanically forcibly joining silver powder and copper powder is dispersed in a synthetic resin / solvent as an inexpensive material equivalent to silver powder. A conductive paint is disclosed.

特開2002−161123号公報JP 2002-161123 A 特開昭56−155259号公報JP 56-155259 A 特公昭60−017392号公報Japanese Patent Publication No. 60-017392

本発明者らは、特許文献1に開示される熱硬化型導電性ペースト組成物における銀粉末に替え、特許文献2および3に開示されるような銀−銅複合粉末を用いた熱硬化型導電性ペーストとして、熱硬化型樹脂にブロック化ポリイソシアネート化合物、またはブロック化ポリイソシアネート化合物およびエポキシ樹脂を用い、導電性粉末として、銅、銅合金、銅を銀でコートした銀コート銅、または銅合金を銀でコートしたコート銅合金を用いた熱硬化型導電性ペーストの開発を検討した。   The present inventors replaced the silver powder in the thermosetting conductive paste composition disclosed in Patent Document 1 with the thermosetting conductivity using silver-copper composite powder as disclosed in Patent Documents 2 and 3. As a conductive paste, a block-coated polyisocyanate compound or a blocked polyisocyanate compound and an epoxy resin are used as a thermosetting resin, and copper, a copper alloy, silver-coated copper in which copper is coated with silver, or a copper alloy as a conductive powder Development of a thermosetting conductive paste using coated copper alloy coated with silver was investigated.

しかし、導電性粉末として銀のみを用いた場合に比べ、熱硬化型導電性ペーストの保存により経時的に粘度が増大し、導電性が低下するという問題があった。   However, compared with the case where only silver is used as the conductive powder, there is a problem that the viscosity increases with time due to the storage of the thermosetting conductive paste, and the conductivity decreases.

本発明は、このような課題を解決するためになされたものであって、保存による粘度の増大や導電性の低下を防ぎ、優れた保存安定性を有する熱硬化型導電性ペースト組成物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve such problems, and provides a thermosetting conductive paste composition having excellent storage stability by preventing increase in viscosity and decrease in conductivity due to storage. The purpose is to do.

本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物は、前記の課題を解決するため、(A)導電性粉末と、(B)熱硬化型樹脂と、(C)硬化剤と、(D)無機イオン交換体とを含有し、(A)導電性粉末として、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種を用い、(B)熱硬化型樹脂として、ブロック化ポリイソシアネート化合物、またはブロック化ポリイソシアネート化合物およびエポキシ樹脂を含有する構成である。   In order to solve the above problems, the thermosetting conductive paste composition according to the present invention has (A) conductive powder, (B) thermosetting resin, (C) curing agent, and (D) inorganic. An ion exchanger, and (A) at least one selected from the group consisting of copper, a copper alloy, silver-coated copper, and a silver-coated copper alloy is used as the conductive powder, and (B) a thermosetting resin As a structure containing a blocked polyisocyanate compound or a blocked polyisocyanate compound and an epoxy resin.

前記構成において、前記(D)無機イオン交換体が、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、アンチモン、およびビスマスのうちいずれか1種を主成分としてもよい。   In the above-described configuration, the (D) inorganic ion exchanger may contain any one of zirconium, magnesium, aluminum, silicon, antimony, and bismuth as a main component.

また、前記構成において、前記(D)無機イオン交換体の含有量が、前記(A)導電性粉末に対し、0.01〜3質量%であってもよい。   Moreover, in the said structure, 0.01-3 mass% may be sufficient with respect to said (A) electroconductive powder content of the said (D) inorganic ion exchanger.

そして、前記構成において、前記(A)導電性粉末として、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種、並びに銀を用い、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種と銀との配合比率が質量比で100:0〜1:99(100:0を除く。)であってもよい。   And in the said structure, as said (A) electroconductive powder, at least 1 sort (s) selected from the group which consists of copper, a copper alloy, silver coat copper, and a silver coat copper alloy, and silver, copper, a copper alloy, The compounding ratio of at least one selected from the group consisting of silver-coated copper and silver-coated copper alloy and silver may be 100: 0 to 1:99 (excluding 100: 0) by mass ratio.

さらに、前記構成において、前記(A)導電性粉末として、金、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、鉛およびカーボンからなる群より選択される少なくとも1種をさらに含有してもよい。   Furthermore, in the said structure, you may further contain at least 1 sort (s) selected from the group which consists of gold | metal | money, palladium, nickel, aluminum, lead, and carbon as said (A) electroconductive powder.

本発明では、以上の構成により、導電性粉末に、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金を用いても、保存による粘度の増大や導電性の低下を防ぎ、優れた保存安定性を有する熱硬化型導電性ペースト組成物を提供することができる、という効果を奏する。   In the present invention, with the above configuration, even when copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy are used as the conductive powder, the increase in viscosity due to storage and the decrease in conductivity are prevented, and excellent storage stability is achieved. The thermosetting conductive paste composition having the property can be provided.

本発明に係る加熱硬化型導電性ペースト組成物の特性(導体抵抗)を評価するための導電パターンの形状を示す平面図である。It is a top view which shows the shape of the conductive pattern for evaluating the characteristic (conductor resistance) of the thermosetting conductive paste composition which concerns on this invention.

以下、本発明の好ましい実施の形態の一例を具体的に説明する。   Hereinafter, an example of a preferred embodiment of the present invention will be specifically described.

[(A)導電性粉末]
本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物における(A)導電性粉末は、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種を用いるものであるが、これらの具体的な配合種およびその配合比率は特に限定されることなく、本発明により、保存による粘度の増大や導電性の低下を防ぎ、優れた保存安定性を実現することができる。
[(A) Conductive powder]
The conductive powder (A) in the thermosetting conductive paste composition according to the present invention uses at least one selected from the group consisting of copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy. However, these specific blending species and blending ratios thereof are not particularly limited, and according to the present invention, an increase in viscosity due to storage and a decrease in conductivity can be prevented, and excellent storage stability can be realized.

本発明における銅合金とは、銅を主体とし、種々元素(銀、亜鉛、ニッケル、コバルト、錫、鉛、アルミニウム、クロム、カドミウム、ベリリウム、テルル等)を添加した合金であり、銀コート銅または銀コート銅合金とは、還元メッキ被覆法や置換メッキ被覆法等によって銅または銅合金の粒子表面に銀を被覆した粒子である。   The copper alloy in the present invention is an alloy mainly composed of copper and added with various elements (silver, zinc, nickel, cobalt, tin, lead, aluminum, chromium, cadmium, beryllium, tellurium, etc.). The silver-coated copper alloy is a particle in which the surface of copper or a copper alloy particle is coated with silver by a reduction plating coating method, a displacement plating coating method, or the like.

また、銅を主体としたとは、合金のうち銅を50質量%以上含有するものをいう。   Moreover, having copper as a main component means an alloy containing 50% by mass or more of copper.

(A)導電性粉末として、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種に加え、銀を含有してもよい。   (A) In addition to at least one selected from the group consisting of copper, copper alloys, silver-coated copper, and silver-coated copper alloys, the conductive powder may contain silver.

この場合、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種と銀との配合比率は、質量比で100:0〜1:99(100:0を除く。)の範囲となるようにする。   In this case, the compounding ratio of at least one selected from the group consisting of copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy and silver is 100: 0 to 1:99 (100: 0). Excluding)).

また、(A)導電性粉末として、金、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、鉛およびカーボンからなる群より選択される少なくとも1種をさらに含有してもよい。   Further, (A) the conductive powder may further contain at least one selected from the group consisting of gold, palladium, nickel, aluminum, lead and carbon.

本発明においては、(A)導電性粉末に含まれるアルカリ金属イオン量の上限が定められていることが好ましい。具体的には、(A)導電性粉末に含まれるナトリウムイオン量およびカリウムイオン量はいずれも200ppm未満であることが好ましく、100ppm未満であることがより好ましく、10ppm未満であることがさらに好ましい。本発明では、少なくともナトリウムイオン量が200ppm未満であることが好ましい。これらイオン量が200ppmを超えれば、熱硬化型導電性ペーストにより電極や配線等を形成した電子部品または電子装置において、その電気特性や信頼性に問題が生じ易くなる。一方、これらイオンの下限は低ければ低い程良い。   In the present invention, it is preferable that the upper limit of the amount of alkali metal ions contained in (A) the conductive powder is determined. Specifically, the amount of sodium ions and potassium ions contained in the conductive powder (A) is preferably less than 200 ppm, more preferably less than 100 ppm, and even more preferably less than 10 ppm. In the present invention, it is preferable that at least the amount of sodium ions is less than 200 ppm. If the amount of these ions exceeds 200 ppm, problems are likely to occur in the electrical characteristics and reliability of an electronic component or electronic device in which electrodes and wirings are formed with a thermosetting conductive paste. On the other hand, the lower the lower limit of these ions, the better.

本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物における(A)導電性粉末は、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種を用いるものであるが、これら(A)導電性粉末の形状は、フレーク状粉末および球状粉末を用いることができる。   The conductive powder (A) in the thermosetting conductive paste composition according to the present invention uses at least one selected from the group consisting of copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy. However, flake powder and spherical powder can be used for the shape of these (A) conductive powders.

本発明におけるフレーク状粉末とは、部分的に凹凸があり変形が見られても、全体として見た場合に、平板または厚みの薄い直方体に近い形状の粉末であればよい。なお、フレーク状とは、薄片状または鱗片状と言い換えることができる。また、本発明における球状粉末とは、部分的に凹凸があり変形が見られても、全体として見た場合に、直方体よりは立方体に近い立体形状の粉末であればよい。なお、球状とは、粒状と言い換えることができる。   The flaky powder in the present invention may be a powder having a shape close to a flat plate or a thin rectangular parallelepiped when viewed as a whole, even if there is unevenness and deformation is seen partially. In addition, flake shape can be paraphrased as flake shape or scale shape. In addition, the spherical powder in the present invention may be a three-dimensional powder that is closer to a cube than a rectangular parallelepiped when viewed as a whole, even if there are irregularities and deformation is observed. Note that the spherical shape can be restated as granular.

本発明における導電性粉末のうちフレーク状粉末の好ましい構成について具体的に説明する。フレーク状粉末の平均粒径D50は2〜20μmの範囲内であることが好ましく、BET比表面積は0.1〜1m2 /gの範囲内であることが好ましく、タップ密度は3〜7g/cm3 の範囲内であることが好ましく、アスペクト比は5〜15の範囲内であることが好ましい。 Of the conductive powder in the present invention, a preferred configuration of the flaky powder will be specifically described. The average particle diameter D50 of the flaky powder is preferably in the range of 2 to 20 μm, the BET specific surface area is preferably in the range of 0.1 to 1 m 2 / g, and the tap density is 3 to 7 g / cm. It is preferable to be within the range of 3 , and the aspect ratio is preferably within the range of 5 to 15.

より具体的には、フレーク状粉末の平均粒径D50は、前記の通り2〜20μmの範囲内が好ましいが、2〜12μmの範囲内であればより好ましく、6〜10μmの範囲内であればさらに好ましい。フレーク状粉末の平均粒径D50が2μmより小さければ、導電性粉末同士の接触抵抗が大きくなる傾向にあり、十分な導電性が得られなくなるおそれがある。一方、平均粒径D50が20μmより大きければ、導電性粉末同士の接触抵抗は小さくなるが、メッシュスクリーンを用いて導体パターンを印刷する場合、メッシュスクリーンの目詰まりが生じたり、微細配線の形成が困難となったりするおそれがある。   More specifically, the average particle diameter D50 of the flaky powder is preferably in the range of 2 to 20 μm as described above, more preferably in the range of 2 to 12 μm, and in the range of 6 to 10 μm. Further preferred. If the average particle diameter D50 of the flaky powder is smaller than 2 μm, the contact resistance between the conductive powders tends to increase, and sufficient conductivity may not be obtained. On the other hand, if the average particle diameter D50 is larger than 20 μm, the contact resistance between the conductive powders becomes small. However, when a conductor pattern is printed using a mesh screen, the mesh screen is clogged or fine wiring is formed. It may be difficult.

また、フレーク状粉末のBET比表面積は、前記の通り0.1〜1m2 /gの範囲内が好ましいが、0.2〜0.8m2 /gの範囲内であればより好ましく、0.2〜0.5m2 /gの範囲内であればさらに好ましい。フレーク状粉末のBET比表面積が0.1m2 /gより小さければ、フレーク厚みが厚くなりすぎてフレーク状粉末の形状が球形に近くなるため、導電性粉末同士の接触面積が小さくなる傾向にあり、十分な導電性が得られなるおそれがある。一方、BET比表面積が1m2 /gを超えれば、導電性粉末同士の接触面積は大きくなるが、ペースト粘度が高くなるため、高充填化が困難となる(すなわち、導電性ペースト組成物中の導電性粉末の含有量を向上することが困難となる)傾向にあるので、十分な導電性が得られないおそれがある。 The BET specific surface area of the flaky powder is preferably in the range of 0.1 to 1 m 2 / g as described above, but more preferably in the range of 0.2 to 0.8 m 2 / g. More preferably, it is in the range of 2 to 0.5 m 2 / g. If the BET specific surface area of the flaky powder is smaller than 0.1 m 2 / g, the flake thickness becomes too thick and the shape of the flaky powder becomes nearly spherical, so the contact area between the conductive powders tends to be small. Sufficient conductivity may be obtained. On the other hand, if the BET specific surface area exceeds 1 m 2 / g, the contact area between the conductive powders becomes large, but the paste viscosity becomes high, so that high filling becomes difficult (that is, in the conductive paste composition). There is a tendency that it is difficult to improve the content of the conductive powder), so that sufficient conductivity may not be obtained.

また、フレーク状粉末のタップ密度は、前記の通り3〜7g/cm3 の範囲内が好ましいが、3〜6g/cm3 の範囲内であればより好ましく、3.5〜5.5g/cm3 の範囲内であればさらに好ましい。フレーク状粉末のタップ密度が3g/cm3 未満であれば、フレーク状粉末が嵩高くなり、高充填化が困難となる傾向にあるので、十分な導電性が得られないおそれがある。一方、タップ密度が7g/cm3 を超えれば、フレーク状粉末を工業的に生産することが通常困難となる。 The tap density of the flaky powder is preferably in the range of 3 to 7 g / cm 3 as described above, more preferably in the range of 3 to 6 g / cm 3 , and 3.5 to 5.5 g / cm. If it is in the range of 3 , it is more preferable. If the tap density of the flaky powder is less than 3 g / cm 3 , the flaky powder tends to be bulky and high filling tends to be difficult, so that sufficient conductivity may not be obtained. On the other hand, if the tap density exceeds 7 g / cm 3 , it is usually difficult to industrially produce the flaky powder.

また、フレーク状粉末のアスペクト比は、前記の通り5〜15の範囲内が好ましいが、6〜12の範囲内であればより好ましく、6〜10の範囲内であればさらに好ましい。フレーク状粉末のアスペクト比が5未満であれば、フレーク化が不十分なため導電性粉末同士の接触面積が小さくなる傾向にあり、十分な導電性が得られないおそれがある。一方、アスペクト比が15を超えれば、導電性粉末同士の接触面積は大きくなるが、高充填化が困難となる傾向にあるので、十分な導電性が得られないおそれがある。   The aspect ratio of the flaky powder is preferably in the range of 5 to 15 as described above, more preferably in the range of 6 to 12, and further preferably in the range of 6 to 10. If the aspect ratio of the flaky powder is less than 5, flaking is insufficient and the contact area between the conductive powders tends to be small, and sufficient conductivity may not be obtained. On the other hand, if the aspect ratio exceeds 15, the contact area between the conductive powders becomes large, but it tends to be difficult to achieve high filling, so there is a possibility that sufficient conductivity cannot be obtained.

前記フレーク状粉末の製造方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば、公知の方法で製造された球状粉末(後述)を元粉として、当該元粉に公知の機械的処理を施すことによりフレーク状粉末を製造することができる。元粉の粒径や凝集度等の物性は、導電性ペースト組成物の使用目的(電極や配線等の種類、あるいはこれら電極や配線等を備える電子部品または電子装置等の種類)に応じて適宜選択することができる。   The manufacturing method of the said flaky powder is not specifically limited, A well-known method can be used. Specifically, for example, a flaky powder can be produced by using a spherical powder (described later) produced by a known method as a base powder and subjecting the base powder to a known mechanical treatment. The physical properties such as the particle size and cohesion of the base powder are appropriately determined according to the purpose of use of the conductive paste composition (types of electrodes, wirings, etc., or types of electronic components or electronic devices equipped with these electrodes, wirings, etc.) You can choose.

次に、本発明における(A)導電性粉末のうち球状粉末の好ましい構成について具体的に説明する。球状粉末の平均粒径D50は0.1〜10μmの範囲内であることが好ましく、BET比表面積は0.5〜1.7m2 /gの範囲内であることが好ましく、タップ密度は1.5〜5g/cm3 であることが好ましく、凝集度D50/DSEMが2〜15の範囲内であることが好ましい。 Next, a preferable configuration of the spherical powder among the conductive powder (A) in the present invention will be specifically described. The average particle diameter D50 of the spherical powder is preferably in the range of 0.1 to 10 μm, the BET specific surface area is preferably in the range of 0.5 to 1.7 m 2 / g, and the tap density is 1. It is preferable that it is 5-5 g / cm < 3 >, and it is preferable that the aggregation degree D50 / DSEM exists in the range of 2-15.

より具体的には、球状粉末の平均粒径D50は、前記の通り0.1〜10μmの範囲内が好ましいが、1〜5μmの範囲内であればより好ましく、1〜3μmの範囲内であればさらに好ましい。球状粉末の平均粒径D50が0.1μmより小さければ、熱硬化型導電性ペーストが高粘度化して、ペースト化することが困難になるおそれがある。一方、平均粒径D50が10μmより大きければ、フレーク状粉末の場合と同様に、メッシュスクリーンを用いて導体パターンを印刷する場合、メッシュスクリーンの目詰まりが生じたり、微細配線の形成が困難となったりするおそれがある。   More specifically, the average particle diameter D50 of the spherical powder is preferably in the range of 0.1 to 10 μm as described above, more preferably in the range of 1 to 5 μm, and in the range of 1 to 3 μm. More preferred. If the average particle diameter D50 of the spherical powder is smaller than 0.1 μm, the thermosetting conductive paste has a high viscosity, which may make it difficult to form a paste. On the other hand, if the average particle diameter D50 is larger than 10 μm, as in the case of the flaky powder, when a conductor pattern is printed using a mesh screen, the mesh screen is clogged or it is difficult to form fine wiring. There is a risk of

また、球状粉末のBET比表面積は、前記の通り0.5〜1.7m2 /gの範囲内が好ましいが、0.6〜1.6m2 /gの範囲内であればより好ましく、0.9〜1.6m2 /gの範囲内であればさらに好ましい。球状粉末のBET比表面積が0.5m2 /gより小さければ、(A)導電性粉末同士の接触面積が小さくなる傾向にあり、十分な導電性が得られないおそれがある。一方、BET比表面積が1.7m2 /gを超えれば、(A)導電性粉末同士の接触面積は大きくなるが、ペースト粘度が高くなり高充填化が困難となる傾向にあるので、十分な導電性が得られないおそれがある。 The BET specific surface area of the spherical powder is preferably in the range of 0.5 to 1.7 m 2 / g as described above, but more preferably in the range of 0.6 to 1.6 m 2 / g, 0 More preferably, it is in the range of 1.9 to 1.6 m 2 / g. If the BET specific surface area of the spherical powder is smaller than 0.5 m 2 / g, the contact area between the conductive powders (A) tends to be small, and sufficient conductivity may not be obtained. On the other hand, if the BET specific surface area exceeds 1.7 m 2 / g, the contact area between the conductive powders (A) increases, but the paste viscosity tends to be high and high filling tends to be difficult. There is a possibility that conductivity cannot be obtained.

また、球状粉末のタップ密度は、前記の通り1.5〜5g/cm3 の範囲内が好ましいが、2〜5g/cm3 の範囲内であればより好ましく、3〜4g/cm3 の範囲内であればさらに好ましい。球状粉末のタップ密度が1.5g/cm3 未満であれば、(A)導電性粉末が嵩高くなり、高充填化が困難となる傾向にあるので、十分な導電性が得られないおそれがある。一方、タップ密度が5g/cm3 を超えれば、球状粉末の分散性が良好になり過ぎ、(A)導電性粉末の間に樹脂成分が回りこみ易くなるため、(A)導電性粉末同士の界面抵抗が大きくなる傾向にあり、十分な導電性が得られないおそれがある。 Moreover, the tap density of the spherical powder is in the range of as 1.5 to 5 g / cm 3 of the preferably, more preferably be within the range of 2-5 g / cm 3, a range of 3 to 4 g / cm 3 If it is in, it is more preferable. If the tap density of the spherical powder is less than 1.5 g / cm 3 , (A) the conductive powder tends to be bulky and high filling tends to be difficult, so that sufficient conductivity may not be obtained. is there. On the other hand, if the tap density exceeds 5 g / cm 3 , the dispersibility of the spherical powder becomes too good, and the resin component tends to wrap around between the (A) conductive powders. The interface resistance tends to increase, and there is a possibility that sufficient conductivity cannot be obtained.

また、球状粉末の凝集度D50/DSEMは、前記の通り2〜15の範囲内が好ましいが、3〜11の範囲内であればより好ましく、3〜7.5の範囲内であればさらに好ましい。凝集度D50/DSEMが2より小さければ、球状粉末の分散性が良好になり過ぎ、(A)導電性粉末の間に樹脂成分が回りこみ易くなるため、(A)導電性粉末同士の界面抵抗が大きくなる傾向にあり、十分な導電性が得られないおそれがある。一方、凝集度D50/DSEMが15より大きければ、(A)導電性粉末が嵩高くなり、高充填化が困難となる傾向にあるので、十分な導電性が得られないおそれがある。   Further, as described above, the aggregation degree D50 / DSEM of the spherical powder is preferably in the range of 2 to 15, more preferably in the range of 3 to 11, and further preferably in the range of 3 to 7.5. . If the degree of aggregation D50 / DSEM is less than 2, the dispersibility of the spherical powder becomes too good, and (A) the resin component tends to wrap around between the conductive powders, so (A) the interfacial resistance between the conductive powders Tends to be large, and sufficient conductivity may not be obtained. On the other hand, if the degree of aggregation D50 / DSEM is greater than 15, (A) the conductive powder tends to be bulky and high filling tends to be difficult, so that sufficient conductivity may not be obtained.

前記球状粉末の製造方法は特に限定されるものではなく、本実施の形態では、例えば、湿式還元法により製造したものを好適に用いることができるが、電解法やアトマイズ法等、公知の他の方法により製造した球状粉末も用いることができる。   The method for producing the spherical powder is not particularly limited, and in the present embodiment, for example, a product produced by a wet reduction method can be suitably used, but other known methods such as an electrolytic method and an atomizing method can be used. A spherical powder produced by the method can also be used.

[(B)熱硬化型樹脂]
本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物に用いられる(B)熱硬化型樹脂は、加熱硬化型導電性ペースト組成物の分野で公知の成分を好適に用いることができる。代表的には、(B1)エポキシ樹脂、並びに、(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を挙げることができる。良好な導体抵抗を実現するため、(B)熱硬化型樹脂としては、(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を含有するか、または(B1)エポキシ樹脂および(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を含有することが好ましい。
[(B) Thermosetting resin]
As the (B) thermosetting resin used in the thermosetting conductive paste composition according to the present invention, components known in the field of the thermosetting conductive paste composition can be suitably used. Typically, (B1) an epoxy resin and (B2) a blocked polyisocyanate compound can be mentioned. In order to realize good conductor resistance, (B) thermosetting resin contains (B2) a blocked polyisocyanate compound, or (B1) contains an epoxy resin and (B2) a blocked polyisocyanate compound. It is preferable.

(B)熱硬化型樹脂として、これら(B1)エポキシ樹脂および(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を用いる場合には、後述するように、これらは、所定の配合比で配合されて用いられることが好ましい。   (B) When these (B1) epoxy resin and (B2) blocked polyisocyanate compound are used as the thermosetting resin, these may be used after being blended at a predetermined blending ratio, as will be described later. preferable.

(B1)エポキシ樹脂の具体的な種類や構造は特に限定されないが、いずれも1分子中に2個以上のオキシラン環(エポキシ基)を有する多価エポキシ樹脂であることが好ましい。例えば、エピクロルヒドリンと、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等のノボラック、ビスフェノールA、水添ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、レゾルシン等の多価フェノール、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の多価アルコールと、を反応させて得られるグリシジルエテールタイプ;エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、アニリン等のポリアミノ化合物と、を反応させて得られるグリシジルアミンタイプ;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸等の多価カルボキシル化合物と、を反応させて得られるグリシジルエステルタイプ、オレフィンの酸化等から合成される脂環式タイプ等を挙げることができる。これらエポキシ樹脂は単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。   (B1) Although the specific kind and structure of an epoxy resin are not specifically limited, It is preferable that all are polyvalent epoxy resins which have a 2 or more oxirane ring (epoxy group) in 1 molecule. For example, epichlorohydrin, novolak such as phenol novolak and cresol novolak, polyphenol such as bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, and resorcin, ethylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol Glycidyl ether type obtained by reacting polyhydric alcohol such as triethylene glycol and polypropylene glycol; glycidyl amine type obtained by reacting polyamino compound such as ethylenediamine, triethylenetetramine and aniline; adipic acid Glycidyl ester type obtained by reacting with polyvalent carboxyl compounds such as phthalic acid and isophthalic acid, oxidation of olefin, etc. Alicyclic type, etc. to be can be given. These epoxy resins may be used alone or in combination.

また、(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物としては、熱硬化型導電性ペーストの分野で公知の化合物を好適に用いることができる。   Further, as the (B2) blocked polyisocyanate compound, a compound known in the field of thermosetting conductive paste can be suitably used.

具体的には、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタリンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネート;等を挙げることができる。これらポリイソシアネート化合物は1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。また、これらのポリイソシアネート化合物の中でも、3核体以上のポリメチレンポリフェニルポリイソシアネートがより好ましく用いられる。   Specifically, for example, aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, dicyclohexyl And aliphatic polyisocyanates such as methane diisocyanate, octamethylene diisocyanate, and trimethylhexamethylene diisocyanate. These polyisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more. Of these polyisocyanate compounds, polymethylene polyphenyl polyisocyanates having three or more nuclei are more preferably used.

また、本実施の形態では、公知のポリイソシアネートと公知のポリオールとを公知の方法により反応させて合成した末端イソシアネート基含有化合物も、本発明におけるポリイソシアネート化合物として好適に用いることができる。この場合に用いられるポリオールについては特に限定されず、一般的なポリエーテルポリオール類、ポリエステルポリオール類、ポリカーボネートポリオール類等を好適に用いることができる。   In the present embodiment, a terminal isocyanate group-containing compound synthesized by reacting a known polyisocyanate and a known polyol by a known method can also be suitably used as the polyisocyanate compound in the present invention. The polyol used in this case is not particularly limited, and general polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols and the like can be suitably used.

本発明における(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物は、前述したポリイソシアネート化合物をブロック化したものであるが、ポリイソシアネート化合物のブロック化剤についても特に限定されず、イミダゾール類、フェノール類、オキシム類等を好適に用いることができる。   The (B2) blocked polyisocyanate compound in the present invention is obtained by blocking the polyisocyanate compound described above, but the blocking agent for the polyisocyanate compound is not particularly limited, and imidazoles, phenols, oximes, etc. Can be suitably used.

本発明に係る熱硬化型導電性ペーストでは、(B)熱硬化型樹脂として、(B1)エポキシ樹脂および(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を併用する場合、これらの混合比(配合比)は特に限定されないが、質量比で、B1:B2=0:100〜90:10(0:100を除く。)の範囲内で配合されることが好ましく、10:90〜80:20の範囲内で配合されることがより好ましい。   In the thermosetting conductive paste according to the present invention, when (B1) epoxy resin and (B2) blocked polyisocyanate compound are used in combination as (B) thermosetting resin, the mixing ratio (mixing ratio) is particularly Although not limited, it is preferable to mix | blend within the range of B1: B2 = 0: 100-90: 10 (except 0: 100) by mass ratio, and mix | blended within the range of 10: 90-80: 20. More preferably.

(B1)エポキシ樹脂と(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物との合計を100質量部とした場合に、(B1)エポキシ樹脂が90質量部以下であれば、すなわち(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物が10質量部以上であれば、(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物の硬化収縮による(A)導電性粉末同士の接触を促進させる効果が大きく、十分な導電性を得ることができるため好ましい。   When the total of (B1) epoxy resin and (B2) blocked polyisocyanate compound is 100 parts by mass, if (B1) epoxy resin is 90 parts by mass or less, that is, (B2) blocked polyisocyanate compound is If it is 10 parts by mass or more, (B2) the effect of accelerating the contact between the conductive powders (A) due to curing shrinkage of the blocked polyisocyanate compound is great, and it is preferable because sufficient conductivity can be obtained.

(B)熱硬化型樹脂の含有量は特に限定されないが、本実施の形態では、(A)導電性粉末100質量部に対して1〜40質量部の範囲内であることが好ましく、1〜30質量部の範囲内であることがより好ましく、1〜20質量部の範囲内であることがさらに好ましい。(B)熱硬化型樹脂の含有量が1質量部以上であれば、基板との密着性良好であり、40質量部以下であれば、十分な導電性を得ることができるため好ましい。   (B) Although content of thermosetting resin is not specifically limited, In this Embodiment, it is preferable that it exists in the range of 1-40 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) electroconductive powder, More preferably within the range of 30 parts by mass, and even more preferably within the range of 1 to 20 parts by mass. (B) If the content of the thermosetting resin is 1 part by mass or more, the adhesion to the substrate is good, and if it is 40 parts by mass or less, it is preferable because sufficient conductivity can be obtained.

また、本発明に係る熱硬化型導電性ペーストは、(B)熱硬化型樹脂として、(B1)エポキシ樹脂、並びに、(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物以外に、バインダー樹脂として公知の他の樹脂を含有してもよい。バインダー樹脂として使用可能な他の樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられるが特に限定されない。   Further, the thermosetting conductive paste according to the present invention includes (B) a thermosetting resin, (B1) an epoxy resin, and (B2) other resins known as binder resins in addition to the blocked polyisocyanate compound. It may contain. Examples of other resins that can be used as the binder resin include, but are not limited to, phenol resins, polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, melamine resins, polyimide resins, and silicone resins.

[(C)硬化剤]
本発明に係る熱硬化型導電性ペーストに用いられる(C)硬化剤は、(B)熱硬化型樹脂を硬化させることができる化合物であれば特に限定されない。本実施の形態では、(B)熱硬化型樹脂として、(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を含有するか、または(B1)エポキシ樹脂および(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を含有することが好ましいので、(C)硬化剤としては、少なくとも(B1)エポキシ樹脂または(B2)ブロック化ポリイソシアネート化合物を硬化させるものであれば、その種類等は特に限定されず、熱硬化型導電性ペーストの分野で公知の各種化合物を挙げることができる。
[(C) Curing agent]
The (C) curing agent used in the thermosetting conductive paste according to the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that can cure the (B) thermosetting resin. In the present embodiment, (B) thermosetting resin preferably contains (B2) a blocked polyisocyanate compound, or (B1) an epoxy resin and (B2) a blocked polyisocyanate compound. The (C) curing agent is not particularly limited as long as it cures at least the (B1) epoxy resin or the (B2) blocked polyisocyanate compound. In the field of thermosetting conductive paste, Well-known various compounds can be mentioned.

具体的には、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸等の酸無水物類;イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール等のイミダゾール類;ジメチルオクチルアミン、ジメチルデシルアミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチルミリスチルアミン、ジメチルパルミチルアミン、ジメチルステアリルアミン、ジメチルベヘニルアミン、ジラウリルモノエチルアミン、メチルジデシルアミン、メチルジオレイルアミン、トリアリルアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエチルアミン、3−(ジブチルアミノ)プロピルアミン、トリ−n−オクチルアミン、2,4,6−トリスジメチルアミノメチルフェノール、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジアザビシクロウンデセン等の第三級アミン類;三フッ化ホウ素エチルエーテル、三フッ化ホウ素フェノール、三フッ化ホウ素ピペリジン、酢酸三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素モノエチルアミン、三フッ化ホウ素トリエタノールアミン、三フッ化ホウ素モノエタノールアミン等のフッ化ホウ素を含むルイス酸あるいはその化合物;味の素ファインテクノ株式会社から市販されているアミキュアシリーズPN−23またはMY−24等、富士化成工業株式会社から市販されているフジキュアシリーズFXR−1020またはFXR−1030等のアミンアダクト類;ジシアンジアミド;等が挙げられる。これら化合物は1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。   Specifically, for example, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride Acid anhydrides such as acids; imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4methyl Imidazoles such as imidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1-methylimidazole, 2-ethylimidazole; dimethyloctylamine, dimethyldecylamine, dimethyllaurylamine, dimethyl Listylamine, dimethylpalmitylamine, dimethylstearylamine, dimethylbehenylamine, dilaurylmonoethylamine, methyldidecylamine, methyldioleylamine, triallylamine, triisopropanolamine, triethylamine, 3- (dibutylamino) propylamine, tri-n -Tertiary amines such as octylamine, 2,4,6-trisdimethylaminomethylphenol, triethanolamine, methyldiethanolamine, diazabicycloundecene; boron trifluoride ethyl ether, boron trifluoride phenol, three Contains boron fluoride such as boron fluoride piperidine, boron acetate trifluoride, boron trifluoride monoethylamine, boron trifluoride triethanolamine, boron trifluoride monoethanolamine Suic acid or its compounds; such as Amicure series PN-23 or MY-24 commercially available from Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., Fujicure series FXR-1020 or FXR-1030 commercially available from Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. Amine adducts; dicyandiamide; and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

(C)硬化剤の添加量は特に限定されないが、本実施の形態では、(B)熱硬化型樹脂100質量部に対して1〜30質量部の範囲内であることが好ましく、1〜15質量部の範囲内であることがより好ましく、1〜10質量部の範囲内であることがさらに好ましい。(C)硬化剤の添加量が1質量部未満であれば、(B)熱硬化型樹脂の硬化が不十分となるおそれがあり、また、硬化物(電極や配線等)に良好な導電性が得られないおそれがある。一方、30質量部を超えれば、ペースト粘度が高くなるおそれがあり、また、コスト的にも好ましくない。   (C) Although the addition amount of a hardening | curing agent is not specifically limited, In this Embodiment, it is preferable to exist in the range of 1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of (B) thermosetting resin, and 1-15 More preferably within the range of parts by mass, and even more preferably within the range of 1 to 10 parts by mass. (C) If the addition amount of the curing agent is less than 1 part by mass, (B) the thermosetting resin may be insufficiently cured, and the cured product (electrode, wiring, etc.) has good conductivity. May not be obtained. On the other hand, if it exceeds 30 parts by mass, the paste viscosity may be increased, and it is not preferable in terms of cost.

[(D)無機イオン交換体]
本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物に用いられる(C)無機イオン交換体は、熱硬化型導電性ペースト組成物中の銅イオンを捕捉できるものであれば、特に限定されないが、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、アンチモン、およびビスマスのうちいずれか1種を主成分とすることが好ましい。
本発明において(D)無機イオン交換の主成分とは、(D)無機イオン交換体を構成する成分のうち、50質量%以上含有するものをいう。
[(D) Inorganic ion exchanger]
The (C) inorganic ion exchanger used in the thermosetting conductive paste composition according to the present invention is not particularly limited as long as it can capture copper ions in the thermosetting conductive paste composition, but is not limited to zirconium. It is preferable that any one of magnesium, aluminum, silicon, antimony, and bismuth is a main component.
In the present invention, the main component of (D) inorganic ion exchange means that (D) 50% by mass or more of the components constituting the inorganic ion exchanger.

このような(D)無機イオン交換体としては、具体的には、例えば、東亜合成株式から市販されているIXEPLASシリーズ、IXEシリーズの陽イオン交換もしくは両イオン交換タイプ(IXEPLAS A−1、A−2、B−1、IXE−100、300、600、633、6107、6136等)、または協和化学工業株式会社から市販されているキョーワードシリーズの陽イオン交換もしくは両イオン交換タイプ(キョーワード 600、700、1000、2000等)が挙げられる。これらは、1種のみを用いてもよいし、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Specific examples of such (D) inorganic ion exchangers include, for example, the IXEPLAS series, IXE series cation exchange or both ion exchange types (IXEPLAS A-1, A-) commercially available from Toa Gosei Co., Ltd. 2, B-1, IXE-100, 300, 600, 633, 6107, 6136, etc.), or the Kyoward series cation exchange or both ion exchange types (Kyoword 600, 700, 1000, 2000, etc.). These may use only 1 type and may use it in combination of 2 or more type as appropriate.

本発明においては、(D)無機イオン交換体を、(A)導電性粉末に対し0.01〜3質量%の量で含有することが好ましく、0.02〜2質量%の量で含有することがより好ましく、0.03〜1質量%の量で含有することがさらに好ましい。(D)無機イオン交換体の含有量が0.01質量%以上であれば、銅イオンを十分捕捉でき、より優れた保存安定性を有し、3質量%以下であれば、十分な導電性を得ることができるため好ましい。   In this invention, it is preferable to contain (D) an inorganic ion exchanger in the quantity of 0.01-3 mass% with respect to (A) electroconductive powder, and it contains in the quantity of 0.02-2 mass%. It is more preferable that it is contained in an amount of 0.03 to 1% by mass. (D) If the content of the inorganic ion exchanger is 0.01% by mass or more, copper ions can be sufficiently captured, and it has better storage stability, and if it is 3% by mass or less, sufficient conductivity is obtained. Is preferable.

[熱硬化型導電性ペースト組成物の製造]
本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物の製造方法は特に限定されず、熱硬化型導電性ペーストの分野で公知の方法を好適に用いることができる。代表的な一例としては、前述した各成分を所定の配合割合(質量基準)で配合し、公知の混練装置を用いてペースト化する方法が挙げられる。混練装置としては、例えば、3本ロールミル等を挙げることができる。
[Production of thermosetting conductive paste composition]
The manufacturing method of the thermosetting conductive paste composition according to the present invention is not particularly limited, and a known method in the field of thermosetting conductive paste can be suitably used. As a typical example, there is a method in which the above-described components are blended at a predetermined blending ratio (mass basis) and formed into a paste using a known kneading apparatus. Examples of the kneading apparatus include a three roll mill.

なお、本発明に係る熱硬化型導電性ペーストにおいては、必要に応じて、前述した各成分((A)導電性粉末と、(B)熱硬化型樹脂と、(C)硬化剤と、(D)無機イオン交換体)以外に、熱硬化型導電性ペーストの分野で公知の各種添加剤を含有してもよい。当該添加剤としては特に限定されないが、具体的には、例えば、分散剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、消泡剤、粘度調整剤等を挙げることができる。これら添加剤は本発明の作用効果を妨げない範囲において添加することができる。   In the thermosetting conductive paste according to the present invention, each component ((A) conductive powder, (B) thermosetting resin, (C) curing agent, ( In addition to D) inorganic ion exchangers, various additives known in the field of thermosetting conductive pastes may be contained. Although it does not specifically limit as the said additive, Specifically, a dispersing agent, a leveling agent, antioxidant, a ultraviolet absorber, a silane coupling agent, an antifoamer, a viscosity modifier etc. can be mentioned, for example. These additives can be added as long as the effects of the present invention are not hindered.

また、本発明に係る熱硬化型導電性ペースト組成物により導体パターンの形成方法は特に限定されず、公知の種々の方法を好適に用いることができる。代表的には、後述する実施例に示すように、スクリーン印刷法が挙げられ、特に、このスクリーン印刷法による導体パターンの形成に好適に用いられるが、本発明はこれに限定されず、インクジェット法やディスペンサー法等、他の印刷法にも適用することができる。
[熱硬化型導電性ペースト組成物の用途]
本発明に係る熱硬化型導電性ペーストは、高精細な電極や配線等の形成に広く利用することができる。具体的には、例えば、太陽電池セルの集電電極;チップ型電子部品の外部電極;RFID(Radio Frequency IDentification)、電磁波シールド、振動子接着、メンブレンスイッチ、またはエレクトロルミネセンス等に用いられる部品の電極または配線;等の用途に好適に用いることができる。これら用途の中でも特に好ましい用途の1つとして、太陽電池セルの集電電極を挙げることができる。
Moreover, the formation method of a conductor pattern is not specifically limited by the thermosetting conductive paste composition which concerns on this invention, A well-known various method can be used suitably. Typically, as shown in the examples described later, there is a screen printing method, and particularly, it is suitably used for forming a conductor pattern by this screen printing method, but the present invention is not limited to this, and an ink jet method. It can also be applied to other printing methods such as the dispenser method and the dispenser method.
[Use of thermosetting conductive paste composition]
The thermosetting conductive paste according to the present invention can be widely used for forming high-definition electrodes and wirings. Specifically, for example, a collector electrode of a solar battery cell; an external electrode of a chip-type electronic component; an RFID (Radio Frequency IDentification), an electromagnetic wave shield, a vibrator adhesive, a membrane switch, or a component used for electroluminescence It can be suitably used for applications such as electrodes or wirings. Among these applications, one of particularly preferable applications is a collecting electrode of a solar battery cell.

本発明について、実施例、比較例および参考例に基づいてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。当業者は本発明の範囲を逸脱することなく、種々の変更、修正、および改変を行うことができる。なお、以下の実施例における各種合成反応や物性等の測定・評価は次に示すようにして行った。   The present invention will be described more specifically based on examples, comparative examples, and reference examples, but the present invention is not limited thereto. Those skilled in the art can make various changes, modifications, and alterations without departing from the scope of the present invention. In addition, measurement / evaluation of various synthesis reactions and physical properties in the following examples were performed as follows.

(測定・評価方法)
[導電性粉末の評価方法]
(1)平均粒径D50
フレーク状粉末および球状粉末の平均粒径D50はレーザー回折法により評価した。フレーク状粉末または球状粉末の試料0.3gを50mlビーカーに秤量し、イソプロピルアルコール30mlを加えた後、超音波洗浄器(アズワン株式会社製USM−1)により5分間処理することで分散させ、マイクロトラック粒度分布測定装置(日機装株式会社製のマイクロトラック粒度分布測定装置9320−HRA X−100)を用いて、平均粒径D50を測定して評価した。
(Measurement and evaluation method)
[Evaluation method of conductive powder]
(1) Average particle diameter D50
The average particle diameter D50 of the flaky powder and the spherical powder was evaluated by a laser diffraction method. A sample of 0.3 g of flaky powder or spherical powder was weighed into a 50 ml beaker, 30 ml of isopropyl alcohol was added, and then dispersed by treating with an ultrasonic cleaner (USM-1 manufactured by As One Co., Ltd.) for 5 minutes. The average particle size D50 was measured and evaluated using a track particle size distribution measuring device (Microtrack particle size distribution measuring device 9320-HRA X-100 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

(2)BET比表面積の評価
フレーク状粉末または球状粉末のBET比表面積は、試料1gをモノソーブ(カウンタクローム(Quanta Chrome)社製)を用いて窒素吸着によるBET1点法で測定して評価した。なお、当該BET比表面積測定において、測定前の脱気条件は60℃にて10分間とした。
(2) Evaluation of BET specific surface area The BET specific surface area of flaky powder or spherical powder was evaluated by measuring 1 g of a sample using a monosorb (manufactured by Quanta Chrome) by a BET one-point method by nitrogen adsorption. In the measurement of the BET specific surface area, the deaeration conditions before the measurement were 10 minutes at 60 ° C.

(3)タップ密度の評価
フレーク状粉末または球状粉末のタップ密度は、タップ密度測定装置(株式会社柴山科学器械製作所製のカサ比重測定装置SS−DA−2)を使用し、試料15gを計量して20mlの試験管に入れ、落差20mmで1,000回タッピングし、次の式によりタップ密度を算出して評価した。
(3) Evaluation of tap density The tap density of the flaky powder or spherical powder was measured using a tap density measuring device (Casa specific gravity measuring device SS-DA-2 manufactured by Shibayama Scientific Instruments Co., Ltd.) and weighing 15 g of the sample. And tapped 1,000 times with a drop of 20 mm, and evaluated by calculating the tap density according to the following equation.

タップ密度=試料質量(15g)/タッピング後の試料容積(cm3Tap density = sample mass (15 g) / sample volume after tapping (cm 3 )

[ペースト粘度の測定]
熱硬化型導電性ペースト組成物のペースト粘度は、Brookfield社製DV−III粘度計を用いて測定した。測定時のコーンとしてはCP−52を用い、1rpm回転時(ずり速度2s−1)のペースト粘度(η1rpm)を測定した。
[Measurement of paste viscosity]
The paste viscosity of the thermosetting conductive paste composition was measured using a DV-III viscometer manufactured by Brookfield. CP-52 was used as the cone at the time of measurement, and the paste viscosity (η1 rpm) at 1 rpm rotation (shear rate 2 s-1) was measured.

[導体抵抗の測定]
基材としてはアルミナ基板を用いた。そして、図1に示すように、このアルミナ基板の表面に、実施例または比較例の熱硬化型導電性ペースト組成物を用いて、両端に端子11aおよび11bを有し配線部分11cがつづら折り状となっている導体パターン11をスクリーン印刷した。その後、アルミナ基板を180℃の熱風乾燥機中で60分間加熱し、導体パターン11(熱硬化型導電性ペースト組成物)を硬化させた。これにより導体抵抗評価用サンプルを作製した。
[Measurement of conductor resistance]
An alumina substrate was used as the base material. As shown in FIG. 1, the thermosetting conductive paste composition of the example or comparative example is used on the surface of the alumina substrate, and terminals 11a and 11b are provided at both ends, and the wiring portion 11c has a zigzag shape. The resulting conductor pattern 11 was screen printed. Thereafter, the alumina substrate was heated in a hot air dryer at 180 ° C. for 60 minutes to cure the conductor pattern 11 (thermosetting conductive paste composition). This produced a sample for conductor resistance evaluation.

各実施例または比較例の導体抵抗評価用サンプルについて、導体パターン11の膜厚を表面粗さ計(株式会社東京精密製サーフコム480A)で、電気抵抗をデジタルマルチメータ(株式会社アドバンテスト製R6551)で測定し、それら膜厚と電気抵抗と配線パターンのアスペクト比に基づいて導体抵抗を算出して評価した。   About the sample for conductor resistance evaluation of each Example or Comparative Example, the film thickness of the conductor pattern 11 is a surface roughness meter (Surfcom 480A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.), and the electrical resistance is a digital multimeter (R6551 manufactured by Advantest Corporation). The conductor resistance was calculated and evaluated based on the film thickness, electrical resistance, and aspect ratio of the wiring pattern.

Figure 0006259270
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Figure 0006259270
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Figure 0006259270
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(実施例1〜18)(比較例1〜6)(参考例1〜2)
[熱硬化型導電性ペースト組成物作製方法]
表1に示す(A)導電性粉末、表2に示す(B)熱硬化型樹脂、(C)硬化剤、および(D)無機イオン交換体を用いて、(A)導電性粉末/(B)熱硬化型樹脂/(C)硬化剤は、質量比で90/10/0.5の割合で配合し、(D)無機イオン交換体を(A)導電性粉末に対し、表3に示すような配合比で、添加して3本ロールミルで混練した後、ブチルジグリコールアセテートを加えてペーストの粘度を100Pa・s(1rpm)に調整して熱硬化型導電性ペースト組成物を作製した。
(Examples 1-18) (Comparative Examples 1-6) (Reference Examples 1-2)
[Method for preparing thermosetting conductive paste composition]
Using (A) conductive powder shown in Table 1, (B) thermosetting resin shown in Table 2, (C) curing agent, and (D) inorganic ion exchanger, (A) conductive powder / (B ) Thermosetting resin / (C) curing agent is blended at a mass ratio of 90/10 / 0.5, and (D) inorganic ion exchanger is shown in Table 3 with respect to (A) conductive powder. After adding and kneading with a three-roll mill at such a blending ratio, butyl diglycol acetate was added to adjust the viscosity of the paste to 100 Pa · s (1 rpm) to prepare a thermosetting conductive paste composition.

表1中、銅合金は、ニッケルと亜鉛を添加した合金である。   In Table 1, the copper alloy is an alloy to which nickel and zinc are added.

得られた熱硬化型導電性ペースト組成物について、初期の導体抵抗、30℃下3日間保存後および0℃下3ヶ月保存後の粘度及び導体抵抗を測定した。結果は、表4に示した。   About the obtained thermosetting type conductive paste composition, the initial conductor resistance, the viscosity and the conductor resistance after storage at 30 ° C. for 3 days and after storage at 0 ° C. for 3 months were measured. The results are shown in Table 4.

表4に示す所定の保存期間経過後の粘度および導体抵抗は、熱硬化型導電性ペースト組成物作製直後の粘度および導体抵抗を1.0とした相対値を示す。   The viscosity and conductor resistance after elapse of a predetermined storage period shown in Table 4 show relative values with the viscosity and conductor resistance immediately after preparation of the thermosetting conductive paste composition being 1.0.

Figure 0006259270
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実施例1〜18および比較例1〜5の結果を比較すると、実施例1〜18の粘度および導体抵抗は、1.0または1.1であり、比較例1〜5の粘度はいずれも1.4以上、導体抵抗はいずれも1.2以上となっており、(D)無機イオン交換体を含有することにより、(A)導電性粉末として銅、銀コート銅、銅合金または銀コート銅合金を用いた熱硬化型導電性ペーストの粘度および導体抵抗の変化が小さく、良好な結果が得られることがわかる。 Comparing the results of Examples 1-18 and Comparative Examples 1-5, the viscosity and conductor resistance of Examples 1-18 are 1.0 or 1.1, and the viscosities of Comparative Examples 1-5 are both 1 .4 or more, both conductor resistance is 1.2 or more, (D) By containing an inorganic ion exchanger, (A) copper, silver-coated copper, copper alloy or silver-coated copper as conductive powder It can be seen that the thermosetting conductive paste using the alloy has small changes in viscosity and conductor resistance, and good results are obtained.

このように本発明によれば、(D)無機イオン交換体を用いることで、導電性粉末に、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金を用いても、保存による粘度の増大や導電性の低下を防ぎ、優れた保存安定性を有する熱硬化型導電性ペースト組成物を提供することが可能となる。   As described above, according to the present invention, by using the inorganic ion exchanger (D), even when copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy are used as the conductive powder, the viscosity increases due to storage. In addition, it is possible to provide a thermosetting conductive paste composition that prevents deterioration in electrical conductivity and has excellent storage stability.

なお、本発明は前記実施の形態の記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲内で種々の変更が可能であり、異なる実施例や複数の変形例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施の形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   It should be noted that the present invention is not limited to the description of the above-described embodiment, and various modifications are possible within the scope shown in the scope of claims, and each disclosed in different embodiments and a plurality of modifications. Embodiments obtained by appropriately combining technical means are also included in the technical scope of the present invention.

本発明は、各種電子機器や電子部品を製造する分野に好適に用いることができ、特に、太陽電池の集電電極、チップ型電子部品の外部電極、RFID、電磁波シールド、振動子接着、メンブレンスイッチ、またはエレクトロルミネセンス等に用いられる部品の電極や配線等、より高精細な電極や配線を形成することが求められる分野に好適に用いることができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be suitably used in the field of manufacturing various electronic devices and electronic components, and in particular, collecting electrodes for solar cells, external electrodes for chip-type electronic components, RFID, electromagnetic wave shields, vibrator adhesives, membrane switches Alternatively, it can be suitably used in fields where it is required to form higher-definition electrodes and wiring such as electrodes and wiring of parts used for electroluminescence and the like.

11 導体パターン
11a 端子
11b 端子
11c 配線部分
11 Conductor pattern 11a Terminal 11b Terminal 11c Wiring part

Claims (5)

(A)導電性粉末と、(B)熱硬化型樹脂と、(C)硬化剤と、(D)無機イオン交換体とを含有し、
(A)導電性粉末として、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種を用い、
(B)熱硬化型樹脂として、ブロック化ポリイソシアネート化合物、またはブロック化ポリイソシアネート化合物およびエポキシ樹脂を含有することを特徴とする、熱硬化型導電性ペースト組成物。
(A) conductive powder, (B) thermosetting resin, (C) a curing agent, and (D) an inorganic ion exchanger,
(A) As the conductive powder, using at least one selected from the group consisting of copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy,
(B) A thermosetting conductive paste composition containing a blocked polyisocyanate compound or a blocked polyisocyanate compound and an epoxy resin as a thermosetting resin.
前記(D)無機イオン交換体が、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、アンチモン、およびビスマスのうちいずれか1種を主成分とすることを特徴とする、
請求項1に記載の熱硬化型導電性ペースト組成物。
The (D) inorganic ion exchanger is mainly composed of any one of zirconium, magnesium, aluminum, silicon, antimony, and bismuth,
The thermosetting conductive paste composition according to claim 1.
前記(D)無機イオン交換体の含有量が、前記(A)導電性粉末に対し、0.01〜3質量%であることを特徴とする、
請求項1または2に記載の熱硬化型導電性ペースト組成物。
The content of the (D) inorganic ion exchanger is 0.01 to 3% by mass with respect to the (A) conductive powder,
The thermosetting conductive paste composition according to claim 1 or 2.
前記(A)導電性粉末として、銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種、並びに銀を用い、
銅、銅合金、銀コート銅、および銀コート銅合金からなる群より選択される少なくとも1種と銀との配合比率が質量比で100:0〜1:99(100:0を除く。)であることを特徴とする、
請求項1から3のいずれか1項に記載の熱硬化型導電性ペースト組成物。
As the conductive powder (A), at least one selected from the group consisting of copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy, and silver,
The compounding ratio of at least one selected from the group consisting of copper, copper alloy, silver-coated copper, and silver-coated copper alloy and silver is 100: 0 to 1:99 (excluding 100: 0) in mass ratio. It is characterized by being,
The thermosetting conductive paste composition according to any one of claims 1 to 3.
前記(A)導電性粉末として、金、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、鉛およびカーボンからなる群より選択される少なくとも1種をさらに含有することを特徴とする、
請求項1から4のいずれか1項に記載の熱硬化型導電性ペースト組成物。
The (A) conductive powder further contains at least one selected from the group consisting of gold, palladium, nickel, aluminum, lead and carbon,
The thermosetting conductive paste composition according to any one of claims 1 to 4.
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