KR20150114099A - Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation - Google Patents

Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation Download PDF

Info

Publication number
KR20150114099A
KR20150114099A KR1020140037889A KR20140037889A KR20150114099A KR 20150114099 A KR20150114099 A KR 20150114099A KR 1020140037889 A KR1020140037889 A KR 1020140037889A KR 20140037889 A KR20140037889 A KR 20140037889A KR 20150114099 A KR20150114099 A KR 20150114099A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shutter
nozzle
shaft
fixing
heating chamber
Prior art date
Application number
KR1020140037889A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102227314B1 (en
Inventor
윤종갑
Original Assignee
주식회사 선익시스템
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 선익시스템 filed Critical 주식회사 선익시스템
Priority to KR1020140037889A priority Critical patent/KR102227314B1/en
Publication of KR20150114099A publication Critical patent/KR20150114099A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102227314B1 publication Critical patent/KR102227314B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

According to an aspect of the present invention, provided is an evaporator which comprises: two or more nozzles connected to a source storing liquid for deposition for spraying the liquid for deposition; a heating chamber for heating the liquid for deposition sprayed from the nozzle, and evaporating to gas for deposition; a shutter module provided to one side of the heating chamber for controlling to only open any one among the nozzles; and an exhaust pipe for emitting the gas for deposition outside the heating chamber. According to the present invention, provided is the evaporator which can replace a source during an operation.

Description

가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 노즐을 개폐하는 셔터를 가진 증발기{Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation}[0001] The present invention relates to an evaporator having a shutter for opening and closing a nozzle so as to replace an exhausted source during operation,

본 발명은 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 노즐을 개폐하는 셔터를 가진 증발기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가동 중 소진된 소스를 교체할 수 있도록 하기 위하여, 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 노즐을 개폐하는 셔터를 가진 증발기에 관한 것이다.The present invention relates to an evaporator having a shutter for opening and closing a nozzle so as to replace an exhausted source during operation, and more particularly, to an evaporator for replacing an exhausted source during operation To an evaporator having a shutter for opening and closing the nozzle.

반도체를 에피택셜하게 증착하는 상용화된 방법으로 CVD(Chamical Vapor Deposition)가 있다. CVD는 증착용 화학품을 기화시켜서 기상으로 반응시켜 기판에 증착하는 방법이다.CVD (Chamical Vapor Deposition) is a commercially available method for epitaxially depositing semiconductors. CVD is a method of vaporizing a chemical vapor deposition material and reacting it in a gas phase to deposit on a substrate.

이때 증착용 화학품을 증발시키는 기구가 증발기이다.At this time, evaporator is the mechanism that evaporates evaporation chemicals.

도 1은 증발기의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an evaporator.

증발기는 증착용 기체의 액체상태인 증착용 액체를 노즐(10)을 통해 분사 받아서 히팅 챔버(20)에서 열을 가하여 증발시킨다. 증착용 액체는 증착용 기체로 증발하여 배기구(30)를 통해 반응이 일어나는 곳으로 배기된다. 이때 증착용 액체는 노즐(10)로부터 분사받으며 노즐(10)은 소스(미도시)와 연결된다. 이 소스는 증착용 액체를 밀폐된 용기에 담은 것으로 증착용 액체는 소스로서 유통된다. 따라서 소스는 한정된 양의 증착용 액체만을 담고 있기 때문에 소스가 모두 소진되면 소스를 교체하기 위하여 기기의 작동을 멈추어야 한다.The evaporator injects the evaporation liquid, which is a liquid state of the vapor deposition gas, through the nozzle 10 and evaporates by applying heat in the heating chamber 20. The vaporizing liquid evaporates to the vaporizing gas and is exhausted to the place where the reaction takes place through the exhaust port (30). At this time, the vapor-depositing liquid is jetted from the nozzle 10, and the nozzle 10 is connected to a source (not shown). This source contains the vaporizing liquid in a closed container and the vaporizing liquid is circulated as a source. Therefore, since the source contains only a limited amount of evaporation fluid, the device must be deactivated to replace the source when the source is exhausted.

증발기와 관련한 종래의 기술로서, 유량을 조절하기 위한 한국공개특허 제2006-043838호가 출원된 바 있다.As a conventional technique related to an evaporator, Korean Patent Publication No. 2006-043838 for controlling the flow rate has been filed.

그러나, 이와 같은 종래의 기술에서도 역시 소스 교체시 공정 전체를 중지시켜야 하는 문제점이 있었다.However, even in such a conventional technology, there is a problem that the entire process must be stopped when the source is replaced.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 노즐을 개폐하는 셔터를 가진 증발기를 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an evaporator having a shutter for opening and closing a nozzle so that the exhausted source can be replaced even during operation.

본 발명의 일 측면에 의하면, 증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개 이상의 노즐; 상기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버; 상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 노즐 중 어느 하나만을 열리도록 제어하는 셔터 모듈; 및 상기 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording head comprising: at least two or more nozzles connected to a source for storing a vapor deposition liquid to jet the vapor deposition liquid; A heating chamber for heating the vapor deposition liquid sprayed from the nozzle to evaporate the vapor deposition liquid into a vapor deposition gas; A shutter module provided at one side of the heating chamber and controlling only one of the nozzles to be opened; And an exhaust port for discharging the vapor deposition gas to the outside of the heating chamber.

여기서, 상기 셔터 모듈은 상기 노즐을 개폐하는 셔터; 상기 셔터를 고정하는 고정수단; 및 상기 셔터와 상기 고정수단을 일방으로 움직이는 이송수단을 포함할 수 있다.Here, the shutter module may include a shutter for opening and closing the nozzle; Fixing means for fixing the shutter; And a transfer means for moving the shutter and the fixing means in one direction.

여기서, 상기 셔터는 하나 이상의 구멍을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단과 연결될 수 있다.Here, the shutter is in the form of a thin sheet having one or more holes and one side can be connected to the fixing means.

여기서, 상기 고정수단은 상기 셔터의 일측과 일단이 연결되어 상기 셔터와 함께 움직이는 중심 샤프트; 상기 중심 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실; 상기 벨로우 실의 양측에 고정되며 상기 중심 샤프트와 평행하게 구비된 사이드 샤프트; 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 사이드 샤프트를 따라 움직이는 리니어 부쉬; 상기 중심 샤프트의 타단 및 상기 리니어 부쉬와 연결되고 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트를 포함할 수 있다.Here, the fixing means may include a center shaft connected to one end of the shutter and moving together with the shutter; A bellows seal penetrating the center shaft to fix the center shaft so as to move only in a penetrating direction and to seal the heating chamber while maintaining a vacuum while moving; A side shaft fixed to both sides of the bellows chamber and disposed parallel to the center shaft; A linear bushing penetrating through the side shafts and moving along the side shafts; And a moving plate connected to the other end of the center shaft and to the linear bushing and penetrating the side shaft to fix the center shaft so as to move without rotating.

여기서, 상기 이송수단은 상기 고정수단과 연결되어 상기 고정수단을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트; 상기 실린더 플레이트와 연결되어 상기 고정수단 및 실린더 플레이트를 움직이는 힘을 제공하는 실린더를 포함할 수 있다.Here, the conveying means includes a cylinder plate connected to the fixing means to fix and move the fixing means, And a cylinder connected to the cylinder plate to provide a force for moving the fixing means and the cylinder plate.

여기서, 상기 셔터 모듈은 상기 노즐을 개폐하는 셔터; 상기 셔터를 회전하는 로타리 엑츄에이터; 및 상기 셔터와 상기 로타리 엑츄에이터를 고정하여 연결하는 연결수단을 포함할 수 있다.Here, the shutter module may include a shutter for opening and closing the nozzle; A rotary actuator for rotating the shutter; And a connecting means for fixing and connecting the shutter and the rotary actuator.

여기서, 상기 셔터는 단면이 원의 호 형태인 얇은 판이며 호에 해당하는 부분 중 일측에 상기 원의 중심에 이르는 결합부를 구비할 수 있다.Here, the shutter may be a thin plate having a circular arc shape in cross section, and may include a coupling portion extending from one side of the arc to the center of the circle.

여기서, 상기 결합부는 상기 연결수단과 연결되고 상기 연결수단의 회전에 의해 상기 셔터가 회전될 수 있다.Here, the coupling portion is connected to the coupling means, and the shutter can be rotated by the rotation of the coupling means.

여기서, 상기 연결수단은 상기 셔터와 연결되어 상기 셔터로 돌림힘을 전달하는 회전 샤프트; 상기 회전 샤프트에 관통되고 외주면이 상기 히팅 챔버에 고정되며 상기 회전 샤프트의 진동을 감쇠하는 가이드 부쉬; 상기 회전 샤프트에 관통되고 상기 회전 샤프트의 회전 중 외부의 공기를 차폐하는 차폐수단; 상기 로타리 엑츄에이터와 상기 회전 샤프트를 고정하는 카플링; 및 상기 카플링을 고정하는 엑츄에이터 플레이트를 포함할 수 있다.Here, the connecting means may include a rotary shaft connected to the shutter and transmitting the rotation to the shutter; A guide bushing penetrating the rotating shaft and having an outer circumferential surface fixed to the heating chamber and attenuating vibration of the rotating shaft; Shielding means penetrating the rotating shaft and shielding air outside the rotation of the rotating shaft; A coupling for fixing the rotary actuator and the rotary shaft; And an actuator plate for fixing the coupling.

여기서, 상기 노즐은 상기 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 상기 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 상기 셔터로 막은 상태에서 다음 노즐이 분사할 수 있다.Here, the nozzle may spray the vapor-depositing liquid until all of the vapor-depositing liquid is exhausted, and then the next nozzle may be sprayed with the shutter closed.

여기서, 상기 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 상기 소스와 상기 노즐의 연결이 탈착식으로 구성될 수 있다.Here, the connection of the source and the nozzle may be detachably configured so that the exhausted source of all of the sources is replaced while the next source is being injected.

여기서, 상기 히팅 챔버는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator)를 더 구비할 수 있다.The heating chamber may further include a pressure indicator for measuring an internal pressure of the heating chamber.

여기서, 상기 노즐은 분사용 열선을 더 구비할 수 있다.Here, the nozzle may further include a dispersive heating wire.

이상에서 살펴본 본 발명에 의하면, 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터 모듈을 구비함으로써, 노즐이 닫히는 동안 소스를 교체할 수 있다. According to the present invention described above, it is possible to replace the source while the nozzle is closed by providing the shutter module for selectively opening and closing the nozzle.

또한, 노즐의 분사용 열선을 더 구비함으로써, 노즐에 증착용 액체가 굳어서 막히는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. Further, by further providing the hot wire for distributing the nozzle, it is possible to prevent the nozzle from being clogged by the hardening of the evaporation liquid.

도 1은 증발기의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발기의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면형인 셔터 모듈의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 로타리 타입인 셔터 모듈을 포함한 증발기의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 로타리 타입인 셔터 모듈을 가진 증발기의 정면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전식 셔터의 사시도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전식 셔터가 포함된 증발기의 측면도이다.1 is a cross-sectional view of an evaporator.
2 is a cross-sectional view of an evaporator according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a shutter module in plan view according to an embodiment of the present invention.
4 is a sectional view of an evaporator including a shutter module of a rotary type according to an embodiment of the present invention.
5 is a front view of an evaporator having a shutter module of rotary type according to another embodiment of the present invention.
6 is a perspective view of a rotary shutter according to another embodiment of the present invention.
7 is a side view of an evaporator including a rotary shutter according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 이때 도면에 도시되고 또 이것에 의해서 설명되는 본 발명의 구성과 작용은 적어도 하나의 실시예로서 설명되는 것이며, 이것에 의해서 본 발명의 기술적 사상과 그 핵심 구성 및 작용이 제한되지는 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. The structure and operation of the present invention shown in the drawings and described by the drawings are described as at least one embodiment, and the technical ideas and the core structure and operation of the present invention are not limited thereby.

본 발명에서는 둘 이상의 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터 모듈을 추가한 증발기를 제안한다. 이렇게 택일적으로 노즐을 개폐한 경우 적어도 하나의 노즐이 열려 있어서 가동을 유지할 수 있다. 또한 하나의 노즐이 열려 있을 때, 닫힌 노즐에 연결된 소스를 교체할 수 있다.The present invention proposes an evaporator to which a shutter module for selectively opening and closing two or more nozzles is added. In this case, when the nozzle is opened or closed, at least one nozzle is opened and the operation can be maintained. Also, when one nozzle is open, you can replace the source connected to the closed nozzle.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발기의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of an evaporator according to an embodiment of the present invention.

증발기는 2개 이상의 노즐(100, 102), 히팅 챔버(110), 셔터 모듈(200) 및 배기구(130)를 포함한다.The evaporator includes two or more nozzles 100 and 102, a heating chamber 110, a shutter module 200, and an exhaust port 130.

노즐(100, 102)은 증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 증착용 액체를 분사한다. 노즐(100, 102)은 증착용 액체를 분사하기 위해 비활성 기체(예컨대 Noble Gas나 질소)를 증착용 액체의 운반체로 사용할 수 있다. 여기서 증착용 액체는 단위체(Monomer)일 수 있다. 둘 이상의 노즐(100, 102)은 서로 다른 소스와 연결되며, 동일한 종류의 증착용 액체를 분사한다. 노즐(100, 102)은 분사용 열선(106)을 더 구비하여 증착용 액체가 굳어서 노즐(100, 102)을 막는 것을 방지할 수 있다. 노즐(100, 102)은 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 셔터 모듈(200)로 막은 상태에서 다음 노즐(100, 102)이 분사할 수 있다. 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 소스와 노즐(100, 102)의 연결이 탈착식으로 구성될 수 있다. The nozzles 100 and 102 are connected to a source for storing the evaporation liquid to eject the evaporation liquid. The nozzles 100 and 102 may use an inert gas (for example, Noble gas or nitrogen) as a carrier of the vapor deposition liquid to inject the vapor deposition liquid. Here, the liquid for vapor deposition may be a monomer. Two or more nozzles 100, 102 are connected to different sources and inject the same kind of vapor deposition liquid. The nozzles 100 and 102 may further include a hot wire 106 for distributing the hot water to prevent the nozzles 100 and 102 from clogging due to the hardening of the evaporation liquid. The nozzles 100 and 102 may spray the evaporation liquid until all the evaporation liquid is consumed and then the next nozzles 100 and 102 may be sprayed with the shutter module 200 blocked. The source exhausted from the sources 100 and 102 can be detachably connected so that the exhausted source is replaced while the next source is ejected.

히팅 챔버(110)는 고열로 달궈진 반응로로서, 노즐(100, 102)에서 분사되는 증착용 액체를 기화시키는 역할을 한다. 히팅 챔버(110) 내부는 기화된 증착용 액체와 증착용 액체의 운반체인 비활성 기체로 채워져 있으며, 이들은 가열되면서 노즐(100, 102)로부터 주입되는 증착용 액체 및 비활성 기체로 인해 배기구(130)로 빠져나간다. 히팅 챔버(110)는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator; 114)를 더 구비할 수 있다. 물론, 내부의 압력은 노즐(100, 102)의 분사속도를 제어하여 조절된다.The heating chamber 110 is a high-temperature reaction furnace and serves to vaporize the vapor deposition liquid sprayed from the nozzles 100 and 102. The inside of the heating chamber 110 is filled with a vaporized vapor deposition liquid and an inert gas which is a carrier of the vapor deposition liquid. The vaporization liquid and the inert gas injected from the nozzles 100 and 102 while being heated, I get out. The heating chamber 110 may further include a pressure indicator 114 for measuring an internal pressure. Of course, the internal pressure is controlled by controlling the injection speed of the nozzles 100, 102.

셔터 모듈(200)은 본 발명의 핵심이 되는 구성요소로서, 2개 이상의 노즐(100, 102)을 택일적으로 열고 닫는 역할을 한다. 셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 고정하는 고정수단(220) 및 셔터(210)와 고정수단(220)을 일방으로 움직이는 이송수단(230)을 포함할 수 있다.The shutter module 200 serves as a key element of the present invention and serves to open and close two or more nozzles 100 and 102 alternatively. The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a fixing means 220 for fixing the shutter 210, a conveying means for moving the shutter 210 and the fixing means 220 in one direction 230).

셔터(210)는 하나 이상의 구멍을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단(220)과 연결될 수 있다. The shutter 210 is in the form of a thin sheet having one or more holes and may be connected to the fixing means 220 on one side.

고정수단(220)은 셔터(210)의 일측과 일단이 연결되어 셔터(210)와 함께 움직이는 중심 샤프트(221), 중심 샤프트(221)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버(110)의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실(226), 벨로우 실(226)의 양측에 고정되며 중심 샤프트(221)와 평행하게 구비된 사이드 샤프트(222), 사이드 샤프트(222)에 관통되어 사이드 샤프트(222)를 따라 움직이는 리니어 부쉬(224), 중심 샤프트(221)의 타단 및 리니어 부쉬(224)와 연결되고 사이드 샤프트(222)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트(228)를 포함할 수 있다.The fixing means 220 includes a center shaft 221 which is connected to one side of the shutter 210 so as to move together with the shutter 210 and a center shaft 221 which penetrates through the center shaft 221 so that the center shaft 221 moves only in the through direction A side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226 and is provided in parallel with the center shaft 221, a side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226, A linear bushing 224 penetrating through the shaft 222 and moving along the side shaft 222, a center shaft 221 connected to the other end of the center shaft 221 and the linear bush 224, And a moving plate 228 that is fixed to move without rotating.

이송수단(230)은 고정수단(220)과 연결되어 고정수단(220)을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트(232), 실린더 플레이트(232)를 관통하여 고정수단(220)을 움직이는 실린더(234)를 포함할 수 있다.The conveying means 230 includes a cylinder plate 232 connected to the fixing means 220 for fixing and moving the fixing means 220, a cylinder 234 for moving the fixing means 220 through the cylinder plate 232 .

다른 실시예로서 셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 회전하는 로타리 엑츄에이터 및 셔터(210)와 로타리 엑츄에이터를 고정하여 연결하는 연결수단을 포함할 수 있다. 셔터(210)는 단면이 원의 호 형태인 얇은 판이며 호에 해당하는 부분 중 일측에 원의 중심에 이르는 결합부를 구비할 수 있다. 결합부는 연결수단과 연결되고 연결수단의 회전에 의해 셔터(210)가 회전될 수 있다.The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a rotary actuator for rotating the shutter 210, and a connecting means for fixing and connecting the rotary actuator to the rotary actuator 210 can do. The shutter 210 may be a thin plate having a circular arc shape in cross section, and may include a coupling portion that extends to the center of the circle on one side of the arc. The coupling portion is connected to the coupling means and the shutter 210 can be rotated by the rotation of the coupling means.

연결수단은 셔터(210)와 연결되어 셔터(210)로 돌림힘을 전달하는 회전 샤프트, 회전 샤프트에 관통되고 외주면이 히팅 챔버(110)에 고정되며 회전 샤프트의 진동을 감쇠하는 가이드 부쉬, 회전 샤프트에 관통되고 회전 샤프트의 회전 중 외부의 공기를 차폐하는 차폐수단, 로타리 엑츄에이터와 회전 샤프트를 고정하는 카플링 및 카플링을 고정하는 엑츄에이터 플레이트를 포함할 수 있다.The connecting means includes a rotating shaft connected to the shutter 210 to transmit the rotation to the shutter 210, a guide bushing penetrating the rotating shaft and having an outer circumferential surface fixed to the heating chamber 110 and damping vibration of the rotating shaft, Shielding means that penetrates and shields the outside air during rotation of the rotary shaft, a coupling for fixing the rotary actuator and the rotary shaft, and an actuator plate for fixing the coupling.

배기구(130)는 기화된 증착용 액체가 증착을 위해 히팅 챔버(110)에서 빠져나가는 경로이다. 배기구(130)에서 증착용 액체가 액화되거나 굳는 것을 막기 위해 배기용 열선(112)이 추가로 구비될 수 있다.The exhaust port 130 is a path through which vaporized vapor deposition liquid escapes from the heating chamber 110 for deposition. The exhaust heat line 112 may be additionally provided to prevent the vaporizing liquid from liquefying or solidifying at the exhaust port 130.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면형인 셔터 모듈의 사시도이다.3 is a perspective view of a shutter module in plan view according to an embodiment of the present invention.

셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 고정하는 고정수단(220) 및 셔터(210)와 고정수단(220)을 일방으로 움직이는 이송수단(230)을 포함할 수 있다.The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a fixing means 220 for fixing the shutter 210, a conveying means for moving the shutter 210 and the fixing means 220 in one direction 230).

셔터(210)는 하나 이상의 개폐용 구멍(215)을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단(220)과 연결될 수 있다. 개폐용 구멍(215)은 노즐(100, 102)을 여는 역할을 하며, 셔터(210)가 일측으로 움직이면서 노즐(100, 102)에 개폐용 구멍(215)이 위치하면 개폐용 구멍(215)이 위치한 제2노즐(102)이 열리게 된다. 따라서, 셔터(210)의 크기가 한정되어 있으므로 셔터(210)의 말단을 벗어난 위치에 제1노즐(100)이 위치하면 열리게 된다. 따라서 (a)와 같이 셔터(210)의 말단 안쪽에 제1노즐(100)이 위치할 때 제1노즐(100)은 닫히게 되며, 제2노즐(102)은 이때 개폐용 구멍(215)에 위치하여 열리게 된다. 반대로, 셔터(210)의 말단을 벗어난 위치에 제1노즐(100)이 위치하면 제1노즐(100)은 열리게 되며 제2노즐(102)은 개폐용 구멍(215)을 벗어난 곳에 위치하므로 닫히게 된다.The shutter 210 is in the form of a thin sheet having one or more opening and closing holes 215 and may be connected to the fixing means 220 on one side. The opening and closing holes 215 serve to open the nozzles 100 and 102. When the opening and closing holes 215 are located in the nozzles 100 and 102 while the shutter 210 moves to one side, The second nozzle 102 positioned is opened. Accordingly, since the size of the shutter 210 is limited, when the first nozzle 100 is located at a position away from the end of the shutter 210, the shutter 210 is opened. Therefore, when the first nozzle 100 is positioned inside the distal end of the shutter 210, the first nozzle 100 is closed, and the second nozzle 102 is positioned at the opening 215 . On the contrary, when the first nozzle 100 is positioned at a position away from the end of the shutter 210, the first nozzle 100 is opened and the second nozzle 102 is located outside the opening 215 so that the second nozzle 102 is closed .

이렇게 셔터 모듈(200)의 한가지 동작으로 두 노즐(100, 102)을 택일적으로 닫을 수 있다. 물론 셔터(210)의 개폐용 구멍(215)을 키우거나 늘려서 셋 이상의 셔터(210)를 택일적으로 닫을 수 있다.In this manner, the two nozzles 100 and 102 can be selectively closed by one operation of the shutter module 200. Of course, three or more shutters 210 can be alternatively closed by increasing or decreasing the opening / closing holes 215 of the shutter 210.

고정수단(220)은 셔터(210)의 일측과 일단이 연결되어 셔터(210)와 함께 움직이는 중심 샤프트(221), 중심 샤프트(221)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버(110)의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실(226), 벨로우 실(226)의 양측에 고정되며 중심 샤프트(221)와 평행하게 구비된 사이드 샤프트(222), 사이드 샤프트(222)에 관통되어 사이드 샤프트(222)를 따라 움직이는 리니어 부쉬(224), 중심 샤프트(221)의 타단 및 리니어 부쉬(224)와 연결되고 사이드 샤프트(222)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트(228)를 포함할 수 있다. 중심 샤프트(221)는 벨로우 실(226)과 무빙 플레이트(228) 사이에서 신축성 있는 보호대로 쌓여서 윤활액이 오염되는 것을 막을 수 있다. 벨로우 실(226)과 사이드 샤프트(222)는 히팅 챔버(110)의 벽면에 고정되어 셔터 모듈(200)이 흔들리거나 회전하는 것을 막는다. 무빙 플레이트(228)는 리니어 부쉬(224)와 중심샤프트가 일직선상에 고정되도록 유지하며 이송수단(230)이 제공하는 힘을 고르게 전달하는 역할도 한다.The fixing means 220 includes a center shaft 221 which is connected to one side of the shutter 210 so as to move together with the shutter 210 and a center shaft 221 which penetrates through the center shaft 221 so that the center shaft 221 moves only in the through direction A side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226 and is provided in parallel with the center shaft 221, a side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226, A linear bushing 224 penetrating through the shaft 222 and moving along the side shaft 222, a center shaft 221 connected to the other end of the center shaft 221 and the linear bush 224, And a moving plate 228 that is fixed to move without rotating. The center shaft 221 is stacked with a flexible protector between the bellows chamber 226 and the moving plate 228 to prevent contamination of the lubricant. The bellows chamber 226 and the side shaft 222 are fixed to the wall surface of the heating chamber 110 to prevent the shutter module 200 from shaking or rotating. The moving plate 228 keeps the linear bush 224 and the center shaft fixed in a straight line and also serves to uniformly transmit the force provided by the conveying means 230.

리니어 부쉬(224)는 이동간에 회전이 일어나는 것을 사이드 샤프트(222)에 의지하여 견디며 무빙 플레이트(228) 및 셔터(210)가 동일 평면상을 움직이도록 한다. 리니어 부쉬(224)는 사이드 샤프트(222)를 따라서 무빙 플레이트(228)와 함께 이동한다. 또한 리니어 부쉬(224)는 일정 길이만큼 사이드 샤프트(222)를 감싸는 구조로서, 무빙 플레이트(228)가 기울게 되었을 때 반대 방향으로 토크를 생성하여 이에 저항하는 역할을 한다.The linear bushing 224 rests against the side shaft 222 that rotation occurs between movements and moves the moving plate 228 and the shutter 210 on the same plane. The linear bush 224 moves along with the moving plate 228 along the side shaft 222. In addition, the linear bush 224 has a structure that surrounds the side shaft 222 by a predetermined length, and functions to resist and generate a torque in the opposite direction when the moving plate 228 is inclined.

이송수단(230)은 고정수단(220)과 연결되어 고정수단(220)을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트(232), 실린더 플레이트(232)를 관통하여 고정수단(220)을 움직이는 실린더(234)를 포함할 수 있다.The conveying means 230 includes a cylinder plate 232 connected to the fixing means 220 for fixing and moving the fixing means 220, a cylinder 234 for moving the fixing means 220 through the cylinder plate 232 .

실린더 플레이트(232)는 실린더(234)가 정해진 길을 움직일 수 있는 경로를 제시하며, 무빙 플레이트(228)가 움직일 수 있는 한계점의 역할을 한다. 무빙 플레이트(228)는 사이드 샤프트(222)가 관통할 수 있는 구멍을 구비하며, 실린더 플레이트(232)는 실린더(234)가 관통할 수 있는 구멍을 구비한다.The cylinder plate 232 presents a path through which the cylinder 234 can move in a predetermined path, and serves as a limit to which the moving plate 228 can move. The moving plate 228 has an opening through which the side shaft 222 can pass, and the cylinder plate 232 has a hole through which the cylinder 234 can pass.

실린더(234)는 외부의 동력원으로부터 실린더 플레이트(232)를 관통하는 과정에서 직선운동이 강제되므로 정밀한 운동을 필요로 하지는 않는다. 따라서 실린더(234)의 타측이 캠축과 같이 회전운동을 정교하지 않은 직선운동으로 바꿔주는 수단과 연결되어도 무방하다. 실린더 플레이트(232)및 고정수단(220)이 회전 및 기울어짐을 방지하기 때문이다.The cylinder 234 is forced to linearly move in the course of penetrating the cylinder plate 232 from an external power source, so that precise movement is not required. Therefore, the other side of the cylinder 234 may be connected to a means for converting the rotational motion to a non-precise linear motion like the camshaft. This is because the cylinder plate 232 and the fixing means 220 are prevented from rotating and tilting.

(a)는 노즐(100, 102) 중 제1노즐(100)은 개방하고 제2노즐(102)을 폐쇄한 상태를 나타낸 셔터 모듈(200)의 사시도이다. 셔터 모듈(200)이 접혀 있는 경우 제1노즐(100)은 셔터(210)와 떨어져 있기 때문에 셔터(210)에 가려지지 않는다.(a) is a perspective view of the shutter module 200 showing a state in which the first nozzle 100 of the nozzles 100 and 102 is opened and the second nozzle 102 is closed. When the shutter module 200 is folded, the first nozzle 100 is not covered by the shutter 210 because the first nozzle 100 is away from the shutter 210.

(b)는 노즐(100, 102) 중 제1노즐(100)은 폐쇄하고 제2노즐(102)은 개방한 상태를 나타낸 셔터 모듈(200)의 사시도이다. 셔터 모듈(200)이 뻗은 경우 제1노즐(100)의 출구까지 셔터(210)가 이동하기 때문에 셔터(210)에 가려진다. 따라서 제1노즐(100)이 폐쇄된다. 그러나 제2노즐(102)의 출구에 개폐용 구멍(215)이 이동하기 때문에 제2노즐(102)의 출구가 열린다. 따라서 제2노즐(102)은 개방된다.(b) is a perspective view of the shutter module 200 showing a state in which the first nozzle 100 of the nozzles 100 and 102 is closed and the second nozzle 102 is opened. When the shutter module 200 is extended, it is covered by the shutter 210 because the shutter 210 moves to the exit of the first nozzle 100. Thus, the first nozzle 100 is closed. However, since the opening / closing hole 215 moves to the outlet of the second nozzle 102, the outlet of the second nozzle 102 is opened. Thus, the second nozzle 102 is opened.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 로타리 타입인 셔터 모듈을 포함한 증발기의 단면도이다.4 is a sectional view of an evaporator including a shutter module of a rotary type according to an embodiment of the present invention.

구성은 도 1과 동일하며, 다만 셔터 모듈(200)이 회전을 통해 개폐를 제어하므로 구조가 상이하다.The configuration is the same as that of FIG. 1 except that the shutter module 200 controls opening and closing through rotation, and thus the structure is different.

셔터 모듈(200)이 확대된 도면인 도 5, 6을 참조하여 설명한다.The shutter module 200 will be described with reference to Figs. 5 and 6, which are enlarged views.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 로타리 타입인 셔터 모듈의 사시도이다.5 is a perspective view of a rotary type shutter module according to an embodiment of the present invention.

평면형인 셔터(210)의 경우 직선운동을 사용하고 셔터(210)의 회전을 방지하기 위하여 사이드 샤프트(222)를 사용하였다. 그러나 직선운동을 방지하고 셔터(210)의 회전을 통해 노즐(100, 102)을 택일적으로 개방하는 구조도 도시된 바와 같이 일 실시예로서 강구할 수 있다.In the case of the planar shutter 210, a side shaft 222 is used to prevent the rotation of the shutter 210 by using linear motion. However, the structure for preventing the linear movement and opening the nozzles 100 and 102 alternatively through the rotation of the shutter 210 can also be adopted as one embodiment as shown in the figure.

셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 회전시키는 로타리 엑츄에이터(620) 및 셔터(210)와 로타리 엑츄에이터(620)를 고정하여 연결하는 연결수단(610)을 포함할 수 있다. 셔터(210)는 단면이 원의 호 형태인 얇은 판이며 호에 해당하는 부분 중 일측이 원의 중심에 이르는 결합부(730)를 구비할 수 있다. 결합부(730)는 연결수단(610)과 연결되고 연결수단(610)의 회전에 의해 셔터(210)가 회전될 수 있다. 노즐(100, 102)은 회전 샤프트(612)의 회전각에 따라 개폐가 결정된다. 특정 각도로 회전했을 때 구멍에 위치하는 제1노즐(100)은 열리고 그렇지 않은 구멍에서 벗어난 제2노즐(102)은 닫힌다. 도 4에서 노즐(100, 102)들이 동일 평면상에 존재한다고 가정한다. 이때, 구멍들은 동일 평면과 접선상에 존재하지만 않으면 노즐(100, 102)들이 모두 개방되지 않을 수 있다. 다시 말해서 셔터(210)는 천정과 만나는 위치에 구멍을 구비하되, 회전각을 변화하면서 천정과 만나는 위치에 구멍을 각각 구비한다.The shutter module 200 includes a shutter 210 that opens and closes the nozzles 100 and 102, a rotary actuator 620 that rotates the shutter 210, and a connection unit that fixes and connects the shutter 210 and the rotary actuator 620, Gt; 610 < / RTI > The shutter 210 may be a thin plate whose cross section is a circular arc, and may include a coupling portion 730 having one side corresponding to the arc leading to the center of the circle. The engaging portion 730 is connected to the connecting means 610 and the shutter 210 can be rotated by the rotation of the connecting means 610. The nozzles 100 and 102 are determined to be opened or closed according to the rotation angle of the rotating shaft 612. The first nozzle 100 located in the hole is opened when rotated at a certain angle, and the second nozzle 102 which is out of the hole is closed. It is assumed in FIG. 4 that the nozzles 100 and 102 are on the same plane. At this time, the nozzles 100 and 102 may not be opened unless the holes exist on the same plane and tangent line. In other words, the shutter 210 is provided with a hole at a position where it meets the ceiling, and has a hole at a position where it meets the ceiling while changing the rotation angle.

연결수단(610)은 회전 샤프트(612), 가이드 부쉬(614), 차폐수단(616) 및 카플링(618)을 포함할 수 있다.The connecting means 610 may include a rotating shaft 612, a guide bushing 614, a shielding means 616 and a coupling 618.

회전 샤프트(612)는 셔터(210)랑 연결되어 로터리 엑츄에이터(620)의 돌림힘을 전달하는 회전 샤프트(612)는 회전힘에 대하여 탄성이 작아서 돌리는 만큼 모두 돌아갈 수 있어야 한다.The rotary shaft 612 is connected to the shutter 210 so that the rotary shaft 612, which transmits the rotation of the rotary actuator 620, must be able to rotate as much as it is small in elasticity with respect to the rotary force.

가이드 부쉬(614)는 회전 샤프트(612)에 관통되고 외주면이 히팅 챔버(110)에 고정하는 회전 샤프트(612)의 진동을 감쇠하는 역할을 한다.The guide bush 614 penetrates the rotating shaft 612 and serves to attenuate the vibration of the rotating shaft 612 whose outer circumferential surface fixes to the heating chamber 110.

차폐수단(616)은 회전 샤프트(612)에 관통되고 회전 샤프트(612)의 회전 중 외부의 공기를 차폐한다. 차폐수단(616)은 페로 실(Ferro Seal)과 같이 전기적인 방법으로 밀폐성을 유지하면서 마찰력이 낮은 상태를 유지할 수 있는 수단일 수 있다.The shielding means 616 penetrates the rotating shaft 612 and shields the outside air during rotation of the rotating shaft 612. The shielding means 616 may be a means for maintaining a low frictional force while maintaining airtightness by an electrical method such as a ferro seal.

카플링(618)은 로타리 엑츄에이터(620)와 회전 샤프트(612)를 고정한다. 카플링(618)은 로터리 엑츄에이터(620)의 일단과 회전 샤프트(612)의 끝을 동시에 고정하는 역할을 한다. 이때 로터리 엑츄에이터(620)의 일단과 회전 샤프트(612)의 끝이 상보적인 구조를 취하여 회전에 미끌어지는 것을 막을 수 있다. The coupling 618 fixes the rotary actuator 620 and the rotating shaft 612. The coupling 618 serves to fix one end of the rotary actuator 620 and the end of the rotary shaft 612 at the same time. At this time, the one end of the rotary actuator 620 and the end of the rotating shaft 612 have a complementary structure and can be prevented from slipping on rotation.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 로타리 타입인 셔터 모듈을 가진 증발기의 정면도이다.6 is a front view of an evaporator having a shutter module of rotary type according to an embodiment of the present invention.

로타리 엑츄에이터(620)는 90도 만큼 회전하는 것이 일반적이다. 따라서, (a)와 (b)처럼 원통형을 반으로 자른 형태의 셔터(210)가 90도 회전하여 노즐(100, 102)을 개폐할 수 있다. 이때, 셔터(210)의 회전각을 30도씩 나누어 회전시키는 방법으로 세 개의 노즐(100, 102)에 대하여 택일적인 개폐를 수행할 수도 있다.The rotary actuator 620 generally rotates by 90 degrees. Therefore, the shutters 210, which are cut in half in a cylindrical shape as shown in FIGS. 5A and 5B, rotate 90 degrees to open and close the nozzles 100 and 102. At this time, the three nozzles 100 and 102 may be alternately opened and closed by rotating the shutter 210 by 30 degrees.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전식 셔터의 사시도이다.7 is a perspective view of a rotary shutter according to an embodiment of the present invention.

셔터(210)는 단면이 원주의 일부인 원통의 일부 형태로서, 일측은 결합부(730)가 구비되어 회전 샤프트(612)와 결합된다. 결합부는 원의 중심에 회전 샤프트(612)와 결합되어 회전 샤프트(612)가 회전함에 따라 셔터(210) 전체가 회전할 수 있다. 노즐(100, 102)은 길이방향으로 상이한 위치에 접해 있으므로 구멍(710, 720)은 길이방향으로 각각 상이한 위치에 구비된다. 제1구멍(710)은 제2구멍(720)과 서로 다른 회전각에 구비되어야 회전각에 따라 택일적인 개폐가 가능하다.The shutter 210 is a part of a cylinder whose cross section is a part of the circumference, and one side is provided with a coupling portion 730 to be engaged with the rotation shaft 612. The engaging portion is engaged with the rotating shaft 612 at the center of the circle so that the entire shutter 210 can rotate as the rotating shaft 612 rotates. Since the nozzles 100 and 102 are in contact with different positions in the longitudinal direction, the holes 710 and 720 are provided at different positions in the longitudinal direction. The first hole 710 must be provided at a different rotation angle from the second hole 720 so that the first hole 710 can be selectively opened and closed according to the rotation angle.

(a)와 (b)는 각각 제1노즐(100)과 제2노즐(102)이 열리는 상태를 나타낸 도면이다.(a) and (b) are views showing a state in which the first nozzle 100 and the second nozzle 102 are opened, respectively.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전식 셔터가 포함된 증발기의 측면도이다.8 is a side view of an evaporator including a rotary shutter according to an embodiment of the present invention.

회전식 셔터가 회전함에 따라 셔터(210)의 상단이 천장에 닿는 위치가 옮겨진다. 따라서 노즐이 닿는 위치에 맞게 구멍을 구비하면 택일적인 개폐가 가능하다.As the rotary shutter rotates, the position where the upper end of the shutter 210 touches the ceiling is shifted. Therefore, it is possible to open and close alternately if a hole is provided at the position where the nozzle touches.

전술한 바와 같이 하나의 동작으로 두 노즐(100, 102)을 택일적으로 개폐할 수 있는 수단이 구비되면, 노즐(100, 102) 하나에 연결된 소스가 모두 소모되었을 때 소모된 소스의 노즐(100, 102)을 막고 다른 노즐(100, 102)을 열 수 있다. 폐쇄된 노즐(100, 102)은 소스가 연결되지 않아도 무방하므로 소스를 교체할 수 있다. 다시 말해서 단순하고 간단한 구성요소와 동작을 추가하여 공정의 중단없이 소스를 교체할 수 있다. 정면도의 구조를 쉽게 인식하도록 배기구(130), 히팅 챔버(110), 압력 지시기(114)를 표시하였다.As described above, when the means for selectively opening and closing the two nozzles 100 and 102 are provided by one operation, when the source connected to one of the nozzles 100 and 102 is exhausted, , 102, and open the other nozzles 100, 102. Closed nozzles 100 and 102 can be replaced because the source is not connected. In other words, you can replace the source without interruption by adding simple and simple components and operations. The exhaust port 130, the heating chamber 110, and the pressure indicator 114 are shown to easily recognize the structure of the front view.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. This is possible.

따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명의 사상적 범주에 속한다.Accordingly, it is intended that the scope of the invention be defined solely by the claims appended hereto, and that all equivalents or equivalent variations thereof fall within the spirit and scope of the invention.

100: 제1노즐 102: 제2노즐
106: 분사용 열선 112: 배기용 열선
114: 압력 지시기 200: 셔터 모듈
210: 셔터 215: 개폐용 구멍
220: 고정수단 221: 중심 샤프트
222: 사이드 샤프트 224: 리니어 부쉬
226: 벨로우 실 228: 무빙 플레이트
230: 이송수단 232: 실린더 플레이트
234: 실린더 610: 연결수단
612: 회전 샤프트 614: 가이드 부쉬
616: 차폐수단 618: 카플링
620: 로타리 엑츄에이터 710: 제1구멍
720: 제2구멍100: first nozzle 102: second nozzle
106: Minute use heat line 112: Heat exhaust line
114: pressure indicator 200: shutter module
210: shutter 215: opening / closing hole
220: fixing means 221: center shaft
222: Side shaft 224: Linear Bushing
226: bellows seal 228: moving plate
230: transfer means 232: cylinder plate
234: cylinder 610: connecting means
612: Rotation shaft 614: Guide bush
616: Shielding means 618: Coupling
620: Rotary actuator 710: First hole
720: Second hole

Claims (13)

증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개 이상의 노즐;
상기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버;
상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 노즐 중 어느 하나만을 열리도록 제어하는 셔터 모듈; 및
상기 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.At least two or more nozzles connected to a source for storing the vapor-depositing liquid to spray the vapor-depositing liquid;
A heating chamber for heating the vapor deposition liquid sprayed from the nozzle to evaporate the vapor deposition liquid into a vapor deposition gas;
A shutter module provided at one side of the heating chamber and controlling only one of the nozzles to be opened; And
And an exhaust port for discharging the evaporation gas to the outside of the heating chamber. 제1항에 있어서,
상기 셔터 모듈은
상기 노즐을 개폐하는 셔터;
상기 셔터를 고정하는 고정수단; 및
상기 셔터와 상기 고정수단을 일방으로 움직이는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
The shutter module
A shutter for opening and closing the nozzle;
Fixing means for fixing the shutter; And
And a conveying means for moving the shutter and the fixing means in one direction. 제2항에 있어서,
상기 셔터는 하나 이상의 개폐용 구멍을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단과 연결된 것을 특징으로 하는 증발기.3. The method of claim 2,
Wherein the shutter is in the form of a thin sheet having at least one opening and closing hole and one side is connected to the fixing means. 제2항에 있어서,
상기 고정수단은
상기 셔터의 일측과 일단이 연결되어 상기 셔터와 함께 움직이는 중심 샤프트;
상기 중심 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실;
상기 벨로우 실의 양측에 고정되며 상기 중심 샤프트와 평행하게 구비된 사이드 샤프트;
상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 사이드 샤프트를 따라 움직이는 리니어 부쉬;
상기 중심 샤프트의 타단 및 상기 리니어 부쉬와 연결되고 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.3. The method of claim 2,
The fixing means
A center shaft connected to one end of the shutter and moving together with the shutter;
A bellows seal penetrating the center shaft to fix the center shaft so as to move only in a penetrating direction and to seal the heating chamber while maintaining a vacuum while moving;
A side shaft fixed to both sides of the bellows chamber and disposed parallel to the center shaft;
A linear bushing penetrating through the side shafts and moving along the side shafts;
And a moving plate connected to the other end of the center shaft and to the linear bushing and penetrating the side shaft to fix the center shaft so as to move without rotating. 제2항에 있어서,
상기 이송수단은
상기 고정수단과 연결되어 상기 고정수단을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트;
상기 실린더 플레이트를 관통하고 상기 고정수단을 움직이는 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.3. The method of claim 2,
The conveying means
A cylinder plate connected to the fixing means for fixing and moving the fixing means;
And a cylinder penetrating the cylinder plate and moving the fixing means. 제1항에 있어서,
상기 셔터 모듈은
상기 노즐을 개폐하는 셔터;
상기 셔터를 회전하는 로타리 엑츄에이터; 및
상기 셔터와 상기 로타리 엑츄에이터를 고정하여 연결하는 연결수단
을 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
The shutter module
A shutter for opening and closing the nozzle;
A rotary actuator for rotating the shutter; And
A connecting means for fixing and connecting the shutter and the rotary actuator,
And an evaporator. 제6항에 있어서,
상기 셔터는 단면이 원의 호 형태인 얇은 판이며 호에 해당하는 부분 중 일측에 상기 원의 중심에 이르는 결합부를 구비한 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 6,
Wherein the shutter is a thin plate having a circular arc shape in cross section and has a coupling portion that reaches a center of the circle on one side of a portion corresponding to the arc. 제7항에 있어서,
상기 결합부는 상기 연결수단과 연결되고 상기 연결수단의 회전에 의해 상기 셔터가 회전되는 것을 특징으로 하는 증발기.8. The method of claim 7,
Wherein the coupling portion is connected to the coupling means and the shutter is rotated by rotation of the coupling means. 제6항에 있어서,
상기 연결수단은
상기 셔터와 연결되어 상기 셔터로 돌림힘을 전달하는 회전 샤프트;
상기 회전 샤프트에 관통되고 외주면이 상기 히팅 챔버에 고정되며 상기 회전 샤프트의 진동을 감쇠하는 가이드 부쉬;
상기 회전 샤프트에 관통되고 상기 회전 샤프트의 회전 중 외부의 공기를 차폐하는 차폐수단;
상기 로타리 엑츄에이터와 상기 회전 샤프트를 고정하는 카플링; 및
상기 카플링을 고정하는 엑츄에이터 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 6,
The connecting means
A rotary shaft connected to the shutter to transmit the rotation to the shutter;
A guide bushing penetrating the rotating shaft and having an outer circumferential surface fixed to the heating chamber and attenuating vibration of the rotating shaft;
Shielding means penetrating the rotating shaft and shielding air outside the rotation of the rotating shaft;
A coupling for fixing the rotary actuator and the rotary shaft; And
And an actuator plate for fixing the coupling. 제1항에 있어서,
상기 노즐은 상기 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 상기 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 상기 셔터로 막은 상태에서 다음 노즐이 분사하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the nozzle injects the vapor-deposition liquid until the evaporation-use liquid is exhausted, and the next nozzle is ejected in a state that the evaporation-use liquid is exhausted after the exhaustion of the evaporation-use liquid. 제1항에 있어서,
상기 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 상기 소스와 상기 노즐의 연결이 탈착식으로 구성되는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the connection of the source and the nozzle is detachably configured so that the exhausted source of all of the sources is replaced while the next source is being injected. 제1항에 있어서,
상기 히팅 챔버는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the heating chamber further comprises a pressure indicator for measuring an internal pressure of the evaporator. 제1항에 있어서,
상기 노즐은 분사용 열선을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the nozzle further comprises a dispensing hot wire.
KR1020140037889A 2014-03-31 2014-03-31 Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation KR102227314B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140037889A KR102227314B1 (en) 2014-03-31 2014-03-31 Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140037889A KR102227314B1 (en) 2014-03-31 2014-03-31 Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150114099A true KR20150114099A (en) 2015-10-12
KR102227314B1 KR102227314B1 (en) 2021-03-15

Family

ID=54346874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140037889A KR102227314B1 (en) 2014-03-31 2014-03-31 Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102227314B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102385449B1 (en) * 2021-08-03 2022-04-13 주식회사 하이웰 Walking-through tunnel type quarantine device

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970059563A (en) * 1996-01-19 1997-08-12 김광호 Temporary storage of new gas containers waiting for replacement
KR100204343B1 (en) * 1996-05-29 1999-06-15 윤종용 Management system of gas tank for semiconductor device fabrication
KR19990041379U (en) * 1998-05-18 1999-12-15 김영환 Photoresist Feeder
KR20000003332A (en) * 1998-06-27 2000-01-15 김영환 Solution supplying structure of evaporator for semiconductor chemical vapor deposition apparatus
JP2001152343A (en) * 1999-11-26 2001-06-05 Nec Corp Vaporizer
KR20030054723A (en) * 2001-12-26 2003-07-02 주성엔지니어링(주) Gas injector suitable for ald process
JP2006083441A (en) * 2004-09-17 2006-03-30 Tokyo Electron Ltd Pressure measuring method and maintenance method for gaseous starting material feed system, pressure measuring method and maintenance method for film deposition system, vaporizer and film deposition system
KR20130071037A (en) * 2011-12-20 2013-06-28 주식회사 지기 System for indentifying a containment vessel which holds a solution used in the semiconductor manufacturing process
KR20130124205A (en) * 2012-05-03 2013-11-13 주식회사 동진쎄미켐 Apparatus and method for supplying chemical solution by using sense

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970059563A (en) * 1996-01-19 1997-08-12 김광호 Temporary storage of new gas containers waiting for replacement
KR100204343B1 (en) * 1996-05-29 1999-06-15 윤종용 Management system of gas tank for semiconductor device fabrication
KR19990041379U (en) * 1998-05-18 1999-12-15 김영환 Photoresist Feeder
KR20000003332A (en) * 1998-06-27 2000-01-15 김영환 Solution supplying structure of evaporator for semiconductor chemical vapor deposition apparatus
JP2001152343A (en) * 1999-11-26 2001-06-05 Nec Corp Vaporizer
KR20030054723A (en) * 2001-12-26 2003-07-02 주성엔지니어링(주) Gas injector suitable for ald process
JP2006083441A (en) * 2004-09-17 2006-03-30 Tokyo Electron Ltd Pressure measuring method and maintenance method for gaseous starting material feed system, pressure measuring method and maintenance method for film deposition system, vaporizer and film deposition system
KR20130071037A (en) * 2011-12-20 2013-06-28 주식회사 지기 System for indentifying a containment vessel which holds a solution used in the semiconductor manufacturing process
KR20130124205A (en) * 2012-05-03 2013-11-13 주식회사 동진쎄미켐 Apparatus and method for supplying chemical solution by using sense

Also Published As

Publication number Publication date
KR102227314B1 (en) 2021-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101128745B1 (en) Vapor emission device, organic thin-film vapor deposition apparatus and method of organic thin-film vapor deposition
JP5140382B2 (en) Vapor release apparatus, organic thin film deposition apparatus, and organic thin film deposition method
EP1803836B1 (en) Evaporation source and method of depositing thin film using the same
JP5261404B2 (en) Evaporation source and vapor deposition apparatus equipped with the same
KR20060069272A (en) Arrangement for coating a substrate
JP2006225725A (en) Vapor deposition apparatus
KR20150114099A (en) Evaporator with Shutter for Opening and Closing Nozzle so that Exhausted Source can be Replaced During Operation
KR20060085494A (en) Vapor deposition apparatus for organic material
KR20110024223A (en) Linear type evaporator and vacuum evaporation apparatus having the same
KR20110084644A (en) Susceptor and apparatus for chemical vapor deposition including the same
WO2016161872A1 (en) Film forming device and method
JP5625070B2 (en) Constant volume closure valve for vapor deposition source
KR102227334B1 (en) Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray
KR100666571B1 (en) Apparatus for Deposition by use of Propeller-Type Injector
KR102426163B1 (en) Crucible for linear evaporation source
KR20150118393A (en) Device for providing deposition material and Deposition apparatus including the same
WO2013111833A1 (en) Film forming device, and film forming method
KR101325481B1 (en) Evaporating apparatus capable of making patterns
KR101839879B1 (en) Deposition apparatus
KR20150118691A (en) Device for providing deposition material and Deposition apparatus including the same
JP2006312765A (en) Vacuum vapor deposition device
KR20060084248A (en) Vapor deposition source for organic material and evaporating apparatus for organic material
JP2000243672A (en) Vacuum deposition apparatus
KR102231603B1 (en) Apparatus for depositing thin film
KR100611670B1 (en) Vapor deposition apparatus for organic material

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant