KR102426163B1 - Crucible for linear evaporation source - Google Patents

Crucible for linear evaporation source Download PDF

Info

Publication number
KR102426163B1
KR102426163B1 KR1020200181422A KR20200181422A KR102426163B1 KR 102426163 B1 KR102426163 B1 KR 102426163B1 KR 1020200181422 A KR1020200181422 A KR 1020200181422A KR 20200181422 A KR20200181422 A KR 20200181422A KR 102426163 B1 KR102426163 B1 KR 102426163B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
crucible
evaporation source
linear evaporation
connection pipe
prevention device
Prior art date
Application number
KR1020200181422A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20220090334A (en
Inventor
김성문
이택기
지대준
고경오
Original Assignee
(주)데포랩
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)데포랩 filed Critical (주)데포랩
Priority to KR1020200181422A priority Critical patent/KR102426163B1/en
Publication of KR20220090334A publication Critical patent/KR20220090334A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102426163B1 publication Critical patent/KR102426163B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 상부가 개방되고 내부에 증발 물질이 저장되는 진공 가열 증착용 선형 증발원의 도가니에 관한 것으로서, 상기 도가니의 저장 공간을 다수 개로 분할하는 격벽과, 상기 격벽에 형성되어 격벽에 의해서 분할되는 양쪽 공간을 연결하는 연결관과, 상기 연결관의 관로에 위치하는 쏠림 방지장치가 형성되어, 상시 선형 증발원이 정지 내지 등속 운동 상태에서는 상기 연결관이 개방되고 선형 증발원이 가속 내지 감속 운동 상태에서는 상기 쏠림 방지장치에 의하여 연결관이 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니를 제공한다.
이상과 같은 본 발명은 선형 증발원이 정지 내지는 등속 운동 상태에서는 연결관이 개방되어 액상의 물질이 자유롭게 이동할 수 있도록 하여 도가니 내부 잔류 물질이 균일하게 잔류하도록 할 수 있으며, 동시에 가속 내지는 감속 운동 상태에서는 쏠림 방지장치에 의해 연결관이 폐쇄되어 액상의 물질이 관성에 의해 이동되는 것을 막아 물질 쏠림에 의한 증착률 변화를 최소화 할 수 있는 효과가 있는 선형 증발원의 도가니를 제공한다.
The present invention relates to a crucible of a linear evaporation source for vacuum heating deposition having an open top and storing evaporation materials therein. A connecting pipe connecting the space and an anti-slip device located in the pipe of the connecting pipe are formed, so that the connecting pipe is always opened when the linear evaporation source is stationary or in a constant velocity motion state, and the linear evaporation source is in a state of acceleration or deceleration motion, the tilting It provides a crucible of a linear evaporation source, characterized in that the connection pipe is closed by the prevention device.
In the present invention as described above, when the linear evaporation source is stationary or in constant velocity motion, the connection pipe is opened so that the liquid material can freely move so that the residual material inside the crucible remains uniformly, and at the same time, it is tilted in the acceleration or deceleration motion state. Provided is a crucible of a linear evaporation source that is effective in minimizing the change in deposition rate due to material concentration by preventing the liquid material from moving due to inertia by closing the connection pipe by the prevention device.

Description

선형 증발원의 도가니 {Crucible for linear evaporation source}Crucible for linear evaporation source

본 발명은 진공 가열 증착 방식의 선형 증발원에 사용되는 도가니에 관한 것으로, 상기 도가니의 내부 공간을 나누는 격벽에 쏠림 방지장치를 추가로 구성하여 도가니 내부의 잔류 물질량을 균일하게 하면서도, 증발원의 가속 운동 시 물질의 쏠림을 방지할 수 있는 선형 증발원의 도가니에 관한 것이다.The present invention relates to a crucible used for a linear evaporation source of a vacuum heating deposition method, wherein an anti-strain device is additionally configured on a partition wall dividing the inner space of the crucible to make the amount of residual material inside the crucible uniform while the evaporation source accelerates movement It relates to a crucible of a linear evaporation source capable of preventing the material from drifting.

진공 가열 증착(Vacuum Thermal Evaporation) 방식은 화학 기상 증착(CVD), E-beam 증착, Sputtering 증착 등과 함께 사용되는 박막 형성 방법이다. 진공 가열 증착 방식은 고진공의 진공 챔버 내에 박막을 코팅할 기판을 위치시키고 상기 기판 아래에 증착 물질을 담는 도가니, 분출 노즐이 형성된 노즐부, 그리고 상기 도가니와 노즐부를 감싸는 가열체로 이루어진 증발원을 위치시키고, 상기 가열부를 가열하여 도가니 내의 증착 물질이 증발되어 노즐부를 통해 분출되고 상기 기판의 표면에 응축되어 증착되는 방식으로 박막을 형성하는 방식이다. The vacuum thermal evaporation method is a thin film forming method used together with chemical vapor deposition (CVD), E-beam deposition, sputtering deposition, and the like. In the vacuum heating deposition method, a substrate to be coated with a thin film is placed in a vacuum chamber of high vacuum, and a crucible containing a deposition material under the substrate, a nozzle portion having a jet nozzle formed therein, and an evaporation source consisting of a heating body surrounding the crucible and the nozzle portion, This is a method of forming a thin film in such a way that the deposition material in the crucible is evaporated by heating the heating unit, is ejected through the nozzle unit, and is condensed and deposited on the surface of the substrate.

진공 가열 증착 방식은 순수한 박막을 얻을 수 있고 박막 정밀한 두께 제어가 가능하여 전통적으로 실험실에서 많이 사용되었으나 최근 들어 유기전계발광소자 (Organic Light Emitting Device; OLED)의 유기 박막 증착에 사용되면서 그 산업적인 중요성이 커지고 있다. OLED는 기존의 대표적인 평판 디스플레이 소자인 LCD에 비해 휘도 및 시야각 특성이 우수하고 백라이트(Back light)를 필요로 하지 않아 효율이 높고 두께를 얇게 구현할 수 있다는 장점이 있다. 이러한 OLED는 모바일 휴대전화를 위한 소형 디스플레이에서 TV를 위한 대형 디스플레이로 점차 그 시장을 확대해 나가고 있으며, 이를 위해 OLED 소자 제작을 위한 기판도 점차 대형화되어 가고 있다.The vacuum heating deposition method has traditionally been widely used in laboratories because it can obtain a pure thin film and enables precise control of the thickness of the thin film. this is getting bigger Compared to LCD, which is a typical flat panel display device, OLED has superior luminance and viewing angle characteristics, and does not require a backlight, so it has high efficiency and can be implemented with a thin thickness. These OLEDs are gradually expanding their market from small displays for mobile phones to large displays for TVs.

이러한 대형 OLED 소자의 박막을 코팅하기 위해서 길이 방향으로 긴 노즐이 형성되어 있는 선형 증발원을 노즐에 수직인 방향으로 이동시키면서 증착시키는 선형 증착 방식이 개발되어 이용되고 있다. 이러한 선형 증발원은 상부가 개방되고 내부에 증착용 물질이 담기는 길이 방향으로 긴 박스 형태의 도가니를 사용하며, 상기 도가니에는 내부 공간을 분할하고 도가니 벽면의 변형을 방지하는 격벽이 형성되는데 일반적으로 격벽의 하부에는 도가니 내 격벽으로 나누어진 각 공간의 잔류 물질이 균일하게 남을 수 있도록 하는 관통 홀이 형성되어 있다.In order to coat the thin film of such a large OLED device, a linear deposition method in which a linear evaporation source having a long nozzle formed in the longitudinal direction is deposited while moving in a direction perpendicular to the nozzle has been developed and used. Such a linear evaporation source uses a long box-shaped crucible with an open top and a material for deposition therein. The crucible has a partition wall that divides the interior space and prevents deformation of the crucible wall surface. Generally, a partition wall is formed. A through hole is formed in the lower part of the crucible so that the residual material of each space divided by the partition wall in the crucible can remain uniformly.

한편, 선형 증발원을 이용한 증착기에서 선형 증발원은 기판 하부의 증착되지 않는 회피 위치에서 출발하여 기판 하부를 왕복 운동하면서 증착하게 되는데, 기판이 이동하고 기판과 증착 패턴을 형성하기 위해 마스크를 정렬하는 시간 동안의 물질 낭비를 막기 위해 기판을 2열로 배치하고 증발원은 각 열로 순차적으로 이동하면서 증착을 진행한다. 이렇게 각 열의 증착 회피 위치로 이동하는 동작을 스윙(swing)동작이라고 하며 증착을 위한 왕복 이동 동작을 스캔(scan)동작이라고 한다. 스윙 동작에서는 증발원이 증발원의 길이 방향으로 이동을 하며 스캔 동작에서는 증발원이 길이 방향과 수직인 방향으로 이동을 하게 된다. 그런데 증착 물질이 액체 상태에서 증발되는 물질인 경우에 스윙 동작을 진행할 때, 도 1에 도시된 바와 같이 가속 혹은 감속운동 구간에서 내부의 액상 물질이 관성에 의해 도가니의 한쪽 방향으로 쏠리는 현상이 발생할 수 있으며, 상기와 같은 쏠림 현상이 발생하게 되면 물질 표면의 요동으로 도가니 내부의 증기 압력이 순간적으로 낮아지게 되고 이에 따라 증착률의 변화가 발생하게 된다. 이러한 현상은 박막 두께의 제어에 문제를 일으키게 되며, 연속 공정으로 진행되는 OLED 소자 제작 과정에서 심각한 손해를 끼치게 된다.On the other hand, in an evaporator using a linear evaporation source, the linear evaporation source starts from a non-deposited position under the substrate and deposits while reciprocating under the substrate. During the time when the substrate moves and the mask is aligned to form a deposition pattern with the substrate Substrates are arranged in two rows to prevent material wastage of The movement of each column to the deposition avoidance position is called a swing operation, and the reciprocating movement for deposition is called a scan operation. In the swing operation, the evaporation source moves in the longitudinal direction of the evaporation source, and in the scan operation, the evaporation source moves in a direction perpendicular to the longitudinal direction. However, when the deposition material is a material that evaporates from a liquid state, when a swing operation is performed, as shown in FIG. 1 , a phenomenon in which the liquid material inside is drawn in one direction of the crucible due to inertia may occur in the acceleration or deceleration motion section. In addition, when the above-mentioned biasing phenomenon occurs, the vapor pressure inside the crucible is momentarily lowered due to fluctuations in the surface of the material, and accordingly, a change in the deposition rate occurs. This phenomenon causes a problem in the control of the thickness of the thin film, and causes serious damage in the process of manufacturing an OLED device in a continuous process.

상기와 같이, 선형 증발원의 도가니는 내부 공간을 분할하며 도가니 벽의 변형을 방지하기 위한 격벽이 형성되는데, 상기 격벽의 하부에는 도가니 내의 잔류 물질이 균일하게 남게 하기 위하여 액상의 물질이 통과할 수 있는 관통 홀을 형성하게 된다. 그런데 선형 증발원의 스윙 동작에서 가속 혹은 감속 운동을 하게 되면 관성에 의해 상기 관통 홀로 액상의 물질이 통과하면서 순간적으로 증착률이 변화하게 되고 박막의 증착 두께 제어가 어려워지게 된다.As described above, the crucible of the linear evaporation source divides the internal space and a partition wall is formed to prevent deformation of the crucible wall, and a liquid material can pass through the lower portion of the partition wall so that the residual material in the crucible remains uniformly A through hole is formed. However, when an acceleration or deceleration motion is performed in the swing operation of the linear evaporation source, the deposition rate changes instantaneously as the liquid material passes through the through hole due to inertia, and it becomes difficult to control the deposition thickness of the thin film.

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 진공 가열 증착용 선형 증발원의 도가니에 관한 것으로서, 도가니 내부의 잔류 물질이 균일하게 남게 하면서도, 스윙 동작 중 가속 운동 혹은 감속 운동 조건에서 물질의 쏠림을 최소화하여 정밀한 증착률 제어가 가능한 선형 증발원용 도가니를 제공하고자 한다.The present invention relates to a crucible of a linear evaporation source for vacuum heating deposition in order to solve the above problems, and while allowing the residual material inside the crucible to remain uniformly, while minimizing the concentration of the material in the conditions of acceleration or deceleration during swing operation, An object of the present invention is to provide a crucible for a linear evaporation source that can precisely control the deposition rate.

이러한 본 발명은 상기와 같은 기술적 과제를 해결할 수 있는 진공 가열 증착용 선형 증발원용 도가니를 제공함에 목적이 있다. An object of the present invention is to provide a crucible for a linear evaporation source for vacuum heating deposition that can solve the above technical problems.

본 발명의 상기 목적은 상부가 개방되고 내부에 증발 물질이 저장되는 진공 가열 증착용 선형 증발원의 도가니로서, 상기 도가니의 저장 공간을 다수 개로 분할하는 격벽과, 상기 격벽에 형성되어 격벽에 의해서 분할되는 양쪽 공간을 연결하는 연결관과, 상기 연결관의 관로에 위치하는 쏠림 방지장치가 형성되어, 상기 선형 증발원이 정지 내지 등속 운동 상태에서는 상기 연결관이 개방되고 선형 증발원이 가속 내지 감속 운동 상태에서는 상기 쏠림 방지장치에 의하여 연결관이 폐쇄되는 것을 특징으로하는 선형 증발원의 도가니에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a crucible of a linear evaporation source for vacuum heating deposition having an open top and storing an evaporation material therein, a partition wall dividing the storage space of the crucible into a plurality of pieces, and a partition wall formed on the partition wall to be divided by the partition wall A connecting pipe connecting both spaces and an anti-slip device positioned in the conduit of the connecting pipe are formed, so that the connecting pipe is opened when the linear evaporation source is stationary or in a constant velocity motion state, and the linear evaporation source is accelerated or decelerated in a state of acceleration or deceleration. It is achieved by a crucible of a linear evaporation source, characterized in that the connecting pipe is closed by means of an anti-slip device.

따라서, 본 발명의 선형 증발원의 도가니는 상기 도가니의 내부 공간을 나누는 격벽에 연결관과 상기 연결관의 관로에 쏠림 방지장치를 형성함으로써, 평상시에는 연결관을 통해 액상의 재료 물질이 자유롭게 이동하여 도가니 내부 잔류 물질을 균일하게 할 수 있으면서도, 스윙 동작의 가속 내지 감속 운동 상태에서는 상기 쏠림 방지장치에 의해 연결관이 폐쇄되어 스윙 동작시 증착률 변화를 최소화할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, the crucible of the linear evaporation source of the present invention forms a connecting pipe and an anti-strain device in the pipe line of the connecting pipe on the partition wall dividing the inner space of the crucible, so that the liquid material freely moves through the connecting pipe in normal times to the crucible While it is possible to make the internal residual material uniform, the connection tube is closed by the tilt prevention device in the state of acceleration or deceleration of the swing motion, thereby minimizing the change in the deposition rate during the swing motion.

도 1은 증발원의 스윙 동작으로 인한 물질 쏠림을 나타낸 개략도이다.
도 2는 종래의 도가니와 격벽을 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 선형 증발원 도가니를 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명의 쏠림 방지 장치의 1실시예를 나타낸 개략도이다.
도 5는 본 발명의 쏠림 방지 장치의 2실시예를 나타낸 개략도이다.
도 6은 본 발명의 선형 증발원 도가니를 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명의 쏠림 방지 장치의 동작 예를 나타낸 단면도이다.
1 is a schematic diagram illustrating material concentration due to a swing operation of an evaporation source.
2 is a perspective view showing a conventional crucible and a partition wall.
3 is a perspective view showing a linear evaporation source crucible of the present invention.
Figure 4 is a schematic view showing an embodiment of the tilt prevention device of the present invention.
5 is a schematic view showing two embodiments of the tilt prevention device of the present invention.
6 is a cross-sectional view showing a linear evaporation source crucible of the present invention.
7 is a cross-sectional view showing an operation example of the tilt prevention device of the present invention.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 이에 따른 작용 효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시 예를 도시하고 있는 도면을 참고한 이하 상세한 설명에 의해 더욱 명확하게 이해될 것이다. 또한, 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 동일한 구성요소를 나타내는 것이며, 도면에서 층 및 영역, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다.Details regarding the above object and technical configuration of the present invention and the effects thereof will be more clearly understood by the following detailed description with reference to the drawings showing preferred embodiments of the present invention. In addition, the same reference numerals throughout the specification indicate the same components, and in the drawings, layers, regions, thicknesses, etc. may be exaggerated for convenience.

도 2는 종래의 선형 증발원 도가니를 나타낸 사시도이다.2 is a perspective view showing a conventional linear evaporation source crucible.

도 2에 도시된 바와 같이 종래의 선형 증발원은 상부가 개방되고 길이 방향이 긴 직육면체의 용기인 도가니(110)에 도가니 외벽의 변형을 방지하고 도가니 내부 공간을 분할하는 격벽(120)이 형성되어 있으며, 상기 격벽의 하부에는 물질이 통과할 수 있도록 연결관(121)이 형성되어 있다. 상기 도가니의 개방된 상부에는 다수 개의 분출부가 형성된 노즐부(200)가 결합되고, 상기 도가니와 노즐부를 감싸는 미도시된 가열부가 설치된다.As shown in FIG. 2, the conventional linear evaporation source prevents deformation of the outer wall of the crucible and divides the inner space of the crucible in the crucible 110, which is a container of a rectangular parallelepiped with an open top and a long longitudinal direction. A partition wall 120 is formed. , a connection pipe 121 is formed in the lower portion of the partition wall to allow the material to pass therethrough. A nozzle unit 200 having a plurality of ejection units is coupled to the open upper portion of the crucible, and a heating unit (not shown) surrounding the crucible and the nozzle unit is installed.

이와 같은 종래의 선형 증발원 도가니(110)는 격벽(120) 하부에 형성된 연결관(212)을 통해 액상의 증착 물질이 자유롭게 이동할 수 있으므로 일부 구역에만 더 많은 물질이 잔류할 경우 유체에 작용하는 중력에 의해 자연스럽게 균일하게 조정이 된다. 그러나, 발명이 해결하고자 하는 과제에서 언급한 바와 같이 선형 증발원이 가속 운동을 할 경우, 관성력이 작용하여 상기 연결관을 통해 액상의 물질이 이동하게 되며 이로 인해 순간적으로 도가니 내부 압력이 낮아지면서 증착률이 낮아지게 된다. 이로 인해 선형 증발원이 만드는 박막의 두께가 변화하게 되며 이는 정확한 두께 제어가 필요한 OLED 소자의 성능을 저하시키게 된다.In the conventional linear evaporation source crucible 110 such as this, the liquid deposition material can freely move through the connection pipe 212 formed under the partition wall 120, so that when more material remains in only some areas, the gravity acting on the fluid It is naturally and uniformly adjusted by However, as mentioned in the problem to be solved by the invention, when the linear evaporation source accelerates, the inertial force acts to move the liquid material through the connection pipe, which causes the internal pressure of the crucible to momentarily lower and the deposition rate this will be lowered Due to this, the thickness of the thin film made by the linear evaporation source changes, which deteriorates the performance of the OLED device, which requires accurate thickness control.

이와 같은 종래의 선형 증발원 도가니의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 1 실시예가 도 3과 도 4에 도시되어 있다.One embodiment of the present invention for solving the problems of the conventional linear evaporation source crucible is shown in FIGS. 3 and 4 .

도 3에 따르면, 본 발명의 1 실시예는, 상부가 개방되고 내부에 증발 물질이 저장되는 진공 가열 증착용 선형 증발원의 도가니(110)로서, 상기 도가니의 저장 공간을 다수 개로 분할하는 격벽(120)과, 상기 격벽에 형성되어 격벽에 의해서 분할되는 양쪽 공간을 연결하는 연결관(121)과, 상기 연결관의 관로에 위치하는 쏠림 방지장치(300)가 형성되어, 상기 선형 증발원이 정지 내지 등속 운동 상태에서는 상기 연결관이 개방되고 선형 증발원이 가속 내지 감속 운동 상태에서는 상기 쏠림 방지장치에 의하여 연결관이 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니를 제공한다. Referring to FIG. 3 , an embodiment of the present invention is a crucible 110 of a linear evaporation source for vacuum heating deposition having an open top and storing an evaporation material therein, and a partition wall 120 dividing the storage space of the crucible into a plurality of pieces. ), a connection pipe 121 formed on the partition wall to connect both spaces divided by the partition wall, and a tilt prevention device 300 located in the pipe line of the connection pipe are formed, so that the linear evaporation source stops or has a constant velocity. Provided is a crucible of a linear evaporation source, characterized in that the connection pipe is opened in the motion state and the connection pipe is closed by the tilt prevention device in the state of acceleration or deceleration of the linear evaporation source.

또한, 도 4에 따르면, 상기 쏠림 방지장치(310)는 양측으로 관통되고 중간 지점에서 아래로 오목한 곡면(312)이 형성되는 원형의 관통(311) 홀과, 상기 원형 관통 홀의 내부에 투입되어 곡면을 따라 구를 수 있으며 양 측면의 관통 홀보다 지름이 큰 쏠림 방지용 구(313)를 포함하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니를 제공한다. In addition, according to FIG. 4, the anti-slip device 310 has a circular through 311 hole that penetrates on both sides and has a curved surface 312 that is concave downward at the middle point, and a curved surface inserted into the circular through hole. It can be rolled along and provides a crucible of a linear evaporation source, characterized in that it includes a sphere 313 for preventing the tilting having a larger diameter than the through-holes on both sides.

이상과 같은 본 발명의 1 실시예의 동작 방법을 설명하면 다음과 같다. 도 4의 정지 상태를 나타내는 그림을 보면, 쏠림 방지장치(310) 내부에 형성된 오목한 곡면(312)에 쏠림 방지용 구(313)가 위치하고 있으며 이 경우 쏠림 방지용 구는 중력에 의해 오목한 곡면이 최저점에 위치하게 되어 관통 홀(311)은 개방되게 된다. 반면에 가속 운동 상태를 나타내는 그림을 보면, 쏠림 방지용 구(313)는 관성에 의하여 가속도의 반대 방향으로 이동하게 되며, 여기에 더해서 관성에 의해 이동하려는 유체에 의해 가속도의 반대 방향으로 힘을 받게 된다. 쏠림 방지용 구(313)에 비해 관통 홀(311)의 지름이 작기 때문에 가속도 반대 방향으로 힘을 받는 쏠림 방지용 구는 상기 관통 홀을 폐쇄하게 되어 액상의 재료 물질의 이동을 막게 된다.The operation method of the embodiment of the present invention as described above will be described as follows. Referring to the figure showing the stationary state of FIG. 4, the anti-slip sphere 313 is located on the concave curved surface 312 formed inside the anti-slip device 310, and in this case, the anti-slip sphere is located at the lowest point by the concave curved surface due to gravity. Thus, the through hole 311 is opened. On the other hand, looking at the figure showing the accelerated motion state, the sphere 313 for preventing tilt is moved in the opposite direction of the acceleration due to inertia, and in addition to this, a force is received in the opposite direction of the acceleration by the fluid to move due to inertia. . Since the diameter of the through hole 311 is smaller than that of the pulling prevention sphere 313 , the pulling preventing sphere receiving a force in the opposite direction to the acceleration closes the through hole to prevent the movement of the liquid material.

상기 격(120)벽의 높이는 도가니 깊이와 같거나 낮을 수 있으나, 너무 낮으면 액상 재료가 자유롭게 이동할 수 있으므로 도가니 깊이의 절반보다는 높은 것이 좋다. The height of the wall of the partition 120 may be equal to or lower than the depth of the crucible, but if it is too low, the liquid material may freely move, so it is preferable to be higher than half the depth of the crucible.

상기 쏠림 방지용 구(313)는 연결관 폐쇄 시 기밀성을 높이기 위해 매끄럽게 가공되어야 하며 재질로는 고온에서 견딜 수 있는 금속이나 세라믹 재질을 사용할 수 있다. 또한, 상기 쏠림 방지용 구를 투입하기 위한 별도의 미도시된 투입용 홀을 형성할 수 있으나 상기 투입용 홀은 쏠림 방지용 구를 투입 후 폐쇄하는 것이 좋다.The sphere 313 for preventing the tilting should be processed smoothly to increase airtightness when the connection pipe is closed, and a metal or ceramic material that can withstand high temperatures may be used as a material. In addition, although it is possible to form a separate, not shown for inputting the hole for putting the sphere for preventing the tilting, it is preferable to close the hole for the input after inserting the sphere for preventing the tilting.

상기 쏠림 방지장치(310)는 격벽의 연결관(121)에 탈착이 가능하게 하여 도가니 세정 시 탈착하여 별도로 세정할 수 있도록 구성할 수 있다.The tilting prevention device 310 may be detachably attached to the connecting pipe 121 of the partition wall so that it can be detached and cleaned separately when cleaning the crucible.

본 발명의 선형 증발원용 도가니의 제 2 실시예가 도 5와 도 6과 도 7에 도시되어 있다.A second embodiment of a crucible for a linear evaporation source of the present invention is shown in FIGS. 5, 6 and 7 .

도 6과 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예는, 상부가 개방되고 내부에 증발 물질이 저장되는 진공 가열 증착용 선형 증발원의 도가니(110)로서, 상기 도가니의 저장 공간을 다수 개로 분할하는 격벽(120)과, 상기 격벽에 형성되어 격벽에 의해서 분할되는 양쪽 공간을 연결하는 연결관(121)과, 상기 연결관의 관로에 위치하는 쏠림 방지장치(320)가 형성되어, 상기 선형 증발원이 정지 내지 등속 운동 상태에서는 상기 연결관이 개방되고 선형 증발원이 가속 내지 감속 운동 상태에서는 상기 쏠림 방지장치에 의하여 연결관이 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니를 제공한다. As shown in Figures 6 and 8, the second embodiment of the present invention is a crucible 110 of a linear evaporation source for vacuum heating deposition having an open top and storing an evaporation material therein, and the storage space of the crucible is A partition wall 120 divided into a plurality of pieces, a connection pipe 121 formed on the partition wall to connect both spaces divided by the partition wall, and a tilt prevention device 320 located in the pipe line of the connection pipe are formed, Provided is a crucible of a linear evaporation source, characterized in that the connection pipe is opened when the linear evaporation source is stationary or in a constant velocity motion state, and the connection pipe is closed by the tilt prevention device when the linear evaporation source is in an acceleration or deceleration motion state.

또한, 도 5에 따르면, 상기 쏠림 방지장치(320)는 연결관(121)의 양 측에 각각 위치하며, 회전축(322)과, 상기 회전축을 중심으로 회전하는 회전판(321)과, 회전판의 일 측면에 설치되는 무게추(323)와, 회전판의 반대 측면에 설치되고 연결관에 삽입될 수 있는 마개(324)로 구성되는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니를 제공한다.In addition, according to FIG. 5 , the tilt prevention device 320 is located on both sides of the connection pipe 121 , respectively, and a rotating shaft 322 , a rotating plate 321 rotating about the rotating shaft, and one of the rotating plates It provides a crucible of a linear evaporation source, characterized in that it consists of a weight 323 installed on the side, and a stopper 324 that is installed on the opposite side of the rotating plate and can be inserted into the connector.

이상과 같은 본 발명의 2 실시예의 동작 방법을 설명하면 다음과 같다. 도 5 내지 도 7에 도시된 바와 본 발명의 쏠림 방지장치(320)는 격벽(120)에 형성된 연결관(121)의 양측에 각각 설치되며, 정지 상태의 그림에 나타낸 바와 같이 정지 상태에서는 무게추(323)의 무게로 인해 회전판(321)이 뒤로 젖혀지게 되어 연결관(121)은 개방되고 액상의 재료 물질은 자유롭게 이동이 가능하다. 반면에 가속 상태의 그림에 나타낸 바와 같이 가속 상태에서는 가속도와 반대 방향으로 관성력이 작용하여 회전축(322)을 중심으로 회전판(321)이 회전하게 되며, 관성력에 의해 액상 물질이 흐르려고 하는 힘에 의해 회전판(321)은 격벽(120)에 밀착되며 마개(324)는 연결관에 삽입되어 연결관(121)은 폐쇄되게 된다.The operation method of the second embodiment of the present invention as described above will be described as follows. As shown in FIGS. 5 to 7 , the tilt prevention device 320 of the present invention is installed on both sides of the connection pipe 121 formed on the bulkhead 120 , respectively, and as shown in the figure of the stationary state, the weight is in the stationary state. Due to the weight of 323, the rotating plate 321 is tilted back so that the connecting pipe 121 is opened and the liquid material is freely movable. On the other hand, as shown in the figure of the accelerated state, in the accelerated state, the inertial force acts in the opposite direction to the acceleration and the rotating plate 321 rotates around the rotating shaft 322. The rotating plate 321 is in close contact with the partition wall 120 , and the stopper 324 is inserted into the connection tube, so that the connection tube 121 is closed.

상기 쏠림 방지장치는 도가니에서 탈착이 가능하게 하여 도가니의 세정 시 쏠림 방지장치를 탈착하여 별도의 세정이 가능하게 하는 것이 좋다.It is preferable that the tilt-preventing device is detachable from the crucible to enable separate cleaning by detaching the tilt-preventing device during cleaning of the crucible.

상기 무게추는 회전축을 중심으로 회전축과 일정 각도를 이루는 면이 형성되어 정지 상태에서 뒤로 젖혀지는 경우 너무 많이 젖혀지지 않도록 하는 것이 좋다. 각도의 범위는 90도 미만 80도 이상이 적당하다.The weight is formed with a surface forming a predetermined angle with the rotation axis around the rotation axis, so that when it is turned back in a stationary state, it is preferable not to bend it too much. The range of angle is less than 90 degrees and more than 80 degrees is suitable.

상기 마개는 연결관을 폐쇄할 때 기밀성을 높이기 위해 연결관의 단면과 유사한 형상으로 제작할 수 있다.The stopper may be manufactured in a shape similar to the cross-section of the connector to increase airtightness when closing the connector.

이상과 같은 본 발명은 상기 구체적인 실시 예에만 한정되지 않으며 본 발명의 기술적 사상을 구현할 수 있는 다양한 방식으로 실시할 수 있다.The present invention as described above is not limited to the above specific embodiments and can be implemented in various ways that can implement the technical idea of the present invention.

110 도가니 400 증착 물질
200 노즐부 120 격벽
121 연결관 300 쏠림 방지 장치
110 crucible 400 deposition material
200 nozzle part 120 bulkhead
121 connector 300 anti-tip device

Claims (3)

상부가 개방되고 내부에 증발 물질이 저장되는 진공 가열 증착용 선형 증발원의 도가니로서,
상기 도가니의 저장 공간을 다수 개로 분할하는 격벽과,
상기 격벽에 형성되어 격벽에 의해서 분할되는 양쪽 공간을 연결하는 연결관과,
상기 연결관의 관로에 위치하는 쏠림 방지장치가 형성되어,
상기 선형 증발원이 정지 내지 등속 운동 상태에서는 상기 연결관이 개방되고 선형 증발원이 가속 내지 감속 운동 상태에서는 상기 쏠림 방지장치에 의하여 연결관이 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니
As a crucible of a linear evaporation source for vacuum heating deposition in which the upper part is opened and the evaporation material is stored therein,
a partition wall dividing the storage space of the crucible into a plurality of pieces;
a connecting pipe formed on the partition wall to connect both spaces divided by the partition wall;
A tilt prevention device located in the conduit of the connection pipe is formed,
Crucible of a linear evaporation source, characterized in that the connection pipe is opened when the linear evaporation source is stationary or in a constant velocity motion state, and the connection pipe is closed by the tilt prevention device when the linear evaporation source is in an acceleration or deceleration motion state
청구항 1에 있어서, 쏠림 방지장치는,
양측으로 관통되고 중간 지점에 아래로 오목한 곡면이 형성되는 원형 관통 홀과,
상기 원형 관통 홀의 내부에 투입되어 곡면을 따라 구를 수 있으며 양 측면의 관통 홀보다 지름이 큰 쏠림 방지용 구를 포함하는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니
The method according to claim 1, wherein the tilt prevention device,
a circular through-hole that penetrates on both sides and has a downwardly concave curved surface at the midpoint;
Crucible of a linear evaporation source, characterized in that it is put into the inside of the circular through-hole and can be rolled along a curved surface, and it includes a sphere for preventing tilting having a larger diameter than the through-holes on both sides.
청구항 1에 있어서, 쏠림 방지장치는,
상기 연결관의 양 측에 각각 위치하며,
회전축과,
상기 회전축을 중심으로 회전하는 회전판과,
회전판의 일 측면에 설치되는 무게추로 구성되는 것을 특징으로 하는 선형 증발원의 도가니
The method according to claim 1, wherein the tilt prevention device,
respectively located on both sides of the connector,
rotating shaft,
a rotating plate rotating about the rotating shaft;
A crucible of a linear evaporation source, characterized in that it consists of a weight installed on one side of the rotating plate
KR1020200181422A 2020-12-22 2020-12-22 Crucible for linear evaporation source KR102426163B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200181422A KR102426163B1 (en) 2020-12-22 2020-12-22 Crucible for linear evaporation source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200181422A KR102426163B1 (en) 2020-12-22 2020-12-22 Crucible for linear evaporation source

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220090334A KR20220090334A (en) 2022-06-29
KR102426163B1 true KR102426163B1 (en) 2022-07-27

Family

ID=82270185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200181422A KR102426163B1 (en) 2020-12-22 2020-12-22 Crucible for linear evaporation source

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102426163B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240007433A (en) * 2022-07-08 2024-01-16 엘지전자 주식회사 Linear Deposition Source
KR20240013936A (en) 2022-07-21 2024-01-31 주식회사 엘지에너지솔루션 Lithium secondary battery with improved safety property

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110266146A1 (en) 2010-04-29 2011-11-03 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Sputtering apparatus
CN109055899A (en) 2018-10-31 2018-12-21 京东方科技集团股份有限公司 Crucible, vapor deposition source device and evaporated device is deposited

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102182114B1 (en) * 2013-12-16 2020-11-24 삼성디스플레이 주식회사 Evaporation apparatus
KR20180016693A (en) * 2016-08-05 2018-02-19 삼성디스플레이 주식회사 Linear evaporation source and deposition apparatus including the same
KR20190134155A (en) * 2018-05-25 2019-12-04 주성엔지니어링(주) Source Material Evaporator

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110266146A1 (en) 2010-04-29 2011-11-03 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Sputtering apparatus
CN109055899A (en) 2018-10-31 2018-12-21 京东方科技集团股份有限公司 Crucible, vapor deposition source device and evaporated device is deposited

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220090334A (en) 2022-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102426163B1 (en) Crucible for linear evaporation source
KR100980729B1 (en) Multiple nozzle evaporator for vacuum thermal evaporation
TWI252872B (en) Thin film-forming apparatus
KR20220123336A (en) Nozzle for a distribution assembly of a material deposition source arrangement, material deposition source arrangement, vacuum deposition system and method for depositing material
KR20170095371A (en) Material deposition arrangement, a vacuum deposition system and method for depositing material
JP2009114550A (en) Drive shaft of vapor deposition source for deposition system and deposition system having the same
KR20110069418A (en) Linear evaporating source and deposition apparatus having the same
KR101990619B1 (en) Apparatus for depositing evaporated material, distribution pipe, vacuum deposition chamber, and method for depositing an evaporated material
WO2018025637A1 (en) Vacuum deposition device
JP2006225725A (en) Vapor deposition apparatus
JP2018538429A (en) Measuring assembly, evaporation source, deposition apparatus and method therefor for measuring deposition rate
KR20110024223A (en) Linear type evaporator and vacuum evaporation apparatus having the same
KR101030005B1 (en) Deposition source
JP4827953B2 (en) Vapor deposition equipment
KR100881434B1 (en) Downward Type Linear Deposition Source
EP2536869B1 (en) Constant volume closure valve for vapor phase deposition source
JP2019534938A (en) Material deposition apparatus, vacuum deposition system, and method for performing vacuum deposition
TW201641730A (en) Nozzle for a material source arrangement, material source arrangement for vacuum deposition, vacuum deposition system therefor, and method for depositing material
JP4454387B2 (en) Vapor deposition equipment
KR101474363B1 (en) Linear source for OLED deposition apparatus
KR20120090650A (en) Organic material nozzle, crucible assembly for depositing organic thin film and thin film deposition apparatus with the same
KR100637180B1 (en) Method of deposition and deposition apparatus for that method
KR102144790B1 (en) Linear deposition unit and deposition apparutus coprising the same
KR20210093863A (en) A deposition source, deposition apparatus, and methods for depositing an evaporation material
TWI816883B (en) Deposition apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant