KR102227334B1 - Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray - Google Patents

Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 측면에 의하면, 증착용 액체를 보관하는 소스들에 각각 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개의 노즐; 상이기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버; 상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 적어도 두개의 노즐 중 하나를 열리도록 제어하는 셔터 모듈; 상기 증착용 액체가 상기 히팅 챔버의 천장 한 가운데에서 분사되도록 상기 히팅 챔버의 천장에 부착되어 유로를 제공하는 중앙 유로및 상기 히팅 챔버에서 상기 증착용 액체로부터 형성된 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기를 제공한다.
본 발명에 따르면, 적어도 2개의 노즐 중 어느 것이 열린다 하더라도 히팅 챔버에서 동일한 증발 상태를 유지할 수 있는 증발기를 제공할 수 있다.According to an aspect of the present invention, at least two nozzles respectively connected to sources storing the deposition liquid to spray the deposition liquid; A heating chamber for heating the deposition liquid sprayed from the upper nozzle and evaporating it into a deposition gas; A shutter module provided on one side of the heating chamber and controlling one of the at least two nozzles to open; A central flow path that is attached to the ceiling of the heating chamber to provide a flow path so that the deposition liquid is sprayed from the center of the ceiling of the heating chamber, and a deposition gas formed from the deposition liquid in the heating chamber to the outside of the heating chamber. It provides an evaporator, characterized in that it comprises an exhaust port to discharge.
According to the present invention, it is possible to provide an evaporator capable of maintaining the same evaporation state in a heating chamber even if any of the at least two nozzles are opened.

Description

다수의 노즐을 개폐하는 셔터와 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 증발기{Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray}Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray.

본 발명은 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 다수의 노즐을 개폐하는 셔터와 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 증발기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가동 중 소진된 소스를 교체할 수 있도록 하기 위하여, 다수의 소스에 각각 연결된 다수의 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터와 어느 노즐이 개방된다 하여도 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 다수의 노즐을 개폐하는 셔터와 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 증발기에 관한 것이다.The present invention relates to an evaporator having a shutter for opening and closing a plurality of nozzles so that exhausted sources can be replaced during operation, and a central flow path for maintaining a single injection state, and more particularly, replacement of exhausted sources during operation. In order to be able to do so, a shutter that selectively opens and closes a plurality of nozzles each connected to a plurality of sources, and a shutter that opens and closes a plurality of nozzles having a central flow path for maintaining a single spray state even if any nozzle is opened. And it relates to an evaporator having a central flow path for maintaining a single injection state.

반도체를 에피택셜하게 증착하는 상용성 있는 방법으로 CVD(Chamical Vapor Deposition)가 있다. CVD는 증착용 화학품을 기화시켜서 기상으로 반응시켜 기판에 증착하는 방법이다.A compatible method of epitaxially depositing a semiconductor is CVD (Chamical Vapor Deposition). CVD is a method of vaporizing a vapor deposition chemical and reacting in a vapor phase to deposit on a substrate.

이때 증착용 화학품을 증발시키는 기구가 증발기(Evaporator)이다.At this time, an evaporator is an evaporator that evaporates the evaporation chemicals.

도 1은 증발기의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an evaporator.

증발기는 증착용 기체의 액체상태인 증착용 액체를 노즐(10)을 통해 분사 받아서 히팅 챔버(20)에서 열을 가하여 증발시킨다. 증착용 액체는 증착용 기체로 증발하여 배기구(30)를 통해 반응이 일어나는 곳으로 배기된다. 이때 증착용 액체는 노즐(10)로부터 분사받으며 노즐(10)은 소스(미도시)와 연결된다. 이 소스는 증착용 액체를 밀폐된 용기에 담은 것으로 증착용 액체는 소스로서 유통된다. 따라서 소스는 한정된 양의 증착용 액체만을 담고 있기 때문에 소스가 모두 소진되면 소스를 교체하기 위하여 기기의 작동을 멈추어야 한다.The evaporator receives the vapor deposition liquid in the liquid state of the vapor deposition gas through the nozzle 10 and evaporates it by applying heat in the heating chamber 20. The vapor deposition liquid is evaporated into a vapor deposition gas and is exhausted to a place where a reaction occurs through the exhaust port 30. At this time, the deposition liquid is sprayed from the nozzle 10 and the nozzle 10 is connected to a source (not shown). This source contains a vapor deposition liquid in a sealed container, and the vapor deposition liquid is circulated as a source. Therefore, since the source contains only a limited amount of liquid for deposition, when the source is exhausted, the operation of the device must be stopped to replace the source.

증발기와 관련한 종래의 기술로서, 유량을 조절하기 위한 한국공개특허 제2006-043838호가 출원된 바 있다.As a conventional technology related to an evaporator, Korean Patent Publication No. 2006-043838 has been filed for controlling the flow rate.

그러나, 이와 같은 종래의 기술에서도 역시 소스 교체시 공정 전체를 중지시켜야 하는 문제점이 있었다.However, even in such a conventional technique, there is a problem in that the entire process must be stopped when the source is replaced.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 다수의 노즐을 개폐하는 셔터를 구비하고, 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 추가로 구비한 증발기를 제공하는 데에 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve the above problems, and includes a shutter for opening and closing a plurality of nozzles so that exhausted sources can be replaced even during operation, and an additional central flow path for maintaining a single spraying state. Its purpose is to provide an evaporator.

본 발명의 일 측면에 의하면, 증착용 액체를 보관하는 소스들에 각각 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개의 노즐; 상이기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버; 상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 적어도 2개의 노즐 중 하나를 열리도록 제어하는 셔터 모듈; 상기 증착용 액체가 상기 히팅 챔버의 천장 한 가운데에서 분사되도록 상기 히팅 챔버의 천장에 부착되어 유로를 제공하는 중앙 유로 및 상기 히팅 챔버에서 상기 증착용 액체로부터 형성된 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기를 제공한다.According to an aspect of the present invention, at least two nozzles respectively connected to sources storing the deposition liquid to spray the deposition liquid; A heating chamber for heating the deposition liquid sprayed from the upper nozzle and evaporating it into a deposition gas; A shutter module provided on one side of the heating chamber and controlling one of the at least two nozzles to open; A central flow path that is attached to the ceiling of the heating chamber to provide a flow path so that the deposition liquid is sprayed from the center of the ceiling of the heating chamber, and a deposition gas formed from the deposition liquid in the heating chamber to the outside of the heating chamber. It provides an evaporator, characterized in that it comprises an exhaust port to discharge.

여기서, 상기 셔터 모듈은 상기 적어도 2개의 노즐 중 상기 하나를 개폐하는 셔터; 상이기 셔터를 고정하는 고정수단;및 상기 셔터와 상기 고정수단을 일방으로 움직이는 이송수단을 포함할 수 있다.Here, the shutter module may include a shutter for opening and closing the one of the at least two nozzles; Fixing means for fixing the upper shutter; And it may include a transfer means for moving the shutter and the fixing means in one direction.

여기서, 상기 셔터는 하나 이상의 구멍을 가진 얇은 판(Sheet)이고 일측이 상기 고정수단과 연결될 수 있다.Here, the shutter is a thin plate (Sheet) having one or more holes and one side may be connected to the fixing means.

여기서, 상기 고정수단은 상기 셔터의 일측과 일단이 연결되어 상기 셔터와 함께 움직이는 중심 샤프트; 상기 중심 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실; 상이기 벨로우 실의 양측에 고정되며 상기 중심 샤프트와 평행하게 구비된 사이드 샤프트; 상이기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 사이드 샤프트를 따라 움직이는 리니어 부쉬; 상이기 중심 샤프트의 타단 및 상기 리니어 부쉬와 연결되고 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트를 포함할 수 있다.Here, the fixing means is a central shaft that is connected to one end and one end of the shutter to move together with the shutter; A bellow seal penetrating the central shaft to fix the central shaft so as to move only in the through direction, and to seal the heating chamber so as to maintain a vacuum while moving; Side shafts fixed to both sides of the upper bellow seal and provided in parallel with the center shaft; A linear bush penetrating through the upper side shaft and moving along the side shaft; It may include a moving plate connected to the other end of the center shaft and the linear bushing and penetrating the side shaft to fix the center shaft to move without rotating.

여기서, 상기 이송수단은 상기 고정수단과 연결되어 상기 고정수단을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트; 상이기 실린더 플레이트와 연결되어 상기 고정수단 및 실린더 플레이트를 움직이는 힘을 제공하는 실린더를 포함할 수 있다.Here, the transfer means is a cylinder plate connected to the fixing means to fix and move the fixing means; It may include a cylinder connected to the upper cylinder plate to provide a force to move the fixing means and the cylinder plate.

여기서, 상기 적어도 2개의 노즐 중 상기 하나는 상기 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 상기 증착용 액체를 분사하고, 상기 하나의 노즐이 소진된 후에 상기 하나의 노즐을 상기 셔터로 막은 상태에서 나머지 노즐이 분사할 수 있다.Here, one of the at least two nozzles sprays the deposition liquid until all of the deposition liquid is exhausted, and after the one nozzle is exhausted, the one nozzle is closed with the shutter, and the remaining nozzles This can be sprayed.

여기서, 상기 소스들 중 하나의 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 개별 소스와 개별 노즐의 연결이 탈착식으로 구성될 수 있다.Here, a connection between an individual source and an individual nozzle may be detachably configured so that the exhausted source of one of the sources is replaced while the next source is sprayed.

여기서, 상기 히팅 챔버는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator)를 더 구비할 수 있다.Here, the heating chamber may further include a pressure indicator for measuring internal pressure.

여기서, 상기 적어도 2개의 노즐은 분사용 열선을 더 구비할 수 있다.Here, the at least two nozzles may further include a heating wire for spraying.

여기서, 상기 중앙 유로는 상기 적어도 2개의 노즐에 입구들이 각각 연결될 수 있다.Here, the central flow path may have inlets connected to the at least two nozzles, respectively.

여기서, 상기 중앙 유로는 상기 히팅 챔버의 천정 중앙에 출구가 구비될 수 있다.Here, the central flow path may have an outlet at the center of the ceiling of the heating chamber.

여기서, 상기 중앙 유로는 상기 적어도 2개의 노즐로부터 상기 출구에 이르는 둘 이상의 공간을 구비할 수 있다.Here, the central flow path may have two or more spaces extending from the at least two nozzles to the outlet.

여기서, 상기 공간은 동일한 형태와 부피를 갖는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the space has the same shape and volume.

여기서, 상기 공간은 나눔판으로 구분될 수 있다.Here, the space may be divided into a dividing plate.

여기서, 상기 나눔판은 상기 히팅 챔버의 천정으로부터 상기 셔터 모듈의 두께만큼 이격된 채 구비될 수 있다.Here, the dividing plate may be provided while being spaced apart from the ceiling of the heating chamber by the thickness of the shutter module.

이상에서 살펴본 본 발명에 의하면, 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터 모듈을 구비함으로써, 노즐이 닫히는 동안 소스를 교체할 수 있다. According to the present invention described above, by providing a shutter module that selectively opens and closes the nozzle, the source can be replaced while the nozzle is closed.

또한, 중앙 유로를 더 구비함으로써, 개방된 노즐의 위치와 관계없이 증착용 액체의 분사를 동일하게 유지할 수 있는 효과가 있다. In addition, by further providing the central flow path, there is an effect of maintaining the same spraying of the deposition liquid regardless of the position of the opened nozzle.

도 1은 증발기의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발기의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면형인 셔터 모듈의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 중앙 유로의 사시도이다.1 is a cross-sectional view of an evaporator.
2 is a cross-sectional view of an evaporator according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a flat shutter module according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a central flow path according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 이때 도면에 도시되고 또 이것에 의해서 설명되는 본 발명의 구성과 작용은 적어도 하나의 실시예로서 설명되는 것이며, 이것에 의해서 본 발명의 기술적 사상과 그 핵심 구성 및 작용이 제한되지는 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First of all, in adding reference numerals to elements of each drawing, it should be noted that the same elements are assigned the same numerals as possible, even if they are indicated on different drawings. At this time, the configuration and operation of the present invention shown in the drawings and described by it are described as at least one embodiment, by which the technical idea of the present invention and its core configuration and operation are not limited.

본 발명에서는 둘 이상의 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터 모듈을 추가한 증발기를 제안한다. 이렇게 택일적으로 노즐을 개폐한 경우 적어도 하나의 노즐이 열려 있어서 가동을 유지할 수 있다. 또한 하나의 노즐이 열려 있을 때, 닫힌 노즐에 연결된 소스를 교체할 수 있다. 그러나 서로 다른 노즐로부터 증착용 액체가 분사되므로 증발기는 동일한 증착용 기체 공급상태를 유지하지 못한다. 노즐의 위치가 상이하여, 증착용 액체가 기화되는 위치가 달라지기 때문이다. 따라서 중앙 유로를 추가하여 증착용 액체가 동일한 위치에 분사될 수 있도록 구성하였다.In the present invention, an evaporator is proposed in which a shutter module for selectively opening and closing two or more nozzles is added. When the nozzle is opened and closed in this way, at least one nozzle can be opened to maintain operation. Also, when one nozzle is open, the source connected to the closed nozzle can be replaced. However, since the deposition liquid is sprayed from different nozzles, the evaporator cannot maintain the same deposition gas supply state. This is because the position of the nozzle is different, so that the position at which the liquid for deposition is vaporized is different. Therefore, by adding a central flow path, the deposition liquid was configured to be sprayed at the same location.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발기의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of an evaporator according to an embodiment of the present invention.

증발기는 2개 이상의 노즐(100, 102), 히팅 챔버(110), 셔터 모듈(200), 중앙 유로(400) 및 배기구(130)를 포함한다.The evaporator includes two or more nozzles 100 and 102, a heating chamber 110, a shutter module 200, a central flow path 400, and an exhaust port 130.

노즐(100, 102)은 증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 증착용 액체를 분사한다. 노즐(100, 102)은 증착용 액체를 분사하기 위해 비활성 기체(예컨대 Noble Gas나 질소)를 증착용 액체의 운반체로 사용할 수 있다. 여기서 증착용 액체는 단위체(Monomer)일 수 있다. 둘 이상의 노즐(100, 102)은 서로 다른 소스와 연결되며, 동일한 종류의 증착용 액체를 분사한다. 노즐(100, 102)은 분사용 열선(106)을 더 구비하여 증착용 액체가 굳어서 노즐(100, 102)을 막는 것을 방지할 수 있다. 노즐(100, 102)은 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 셔터 모듈(200)로 막은 상태에서 다음 노즐(100, 102)이 분사할 수 있다. 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 소스와 노즐(100, 102)의 연결이 탈착식으로 구성될 수 있다. The nozzles 100 and 102 are connected to a source storing the deposition liquid to spray the deposition liquid. The nozzles 100 and 102 may use an inert gas (eg, Noble Gas or nitrogen) as a carrier of the deposition liquid to spray the deposition liquid. Here, the deposition liquid may be a monomer. Two or more nozzles 100 and 102 are connected to different sources and spray the same type of liquid for deposition. The nozzles 100 and 102 may further include a heating wire 106 for spraying to prevent the deposition liquid from being hardened and blocking the nozzles 100 and 102. The nozzles 100 and 102 spray the deposition liquid until all of the deposition liquid is exhausted, and after exhaustion, the next nozzles 100 and 102 may spray while being closed with the shutter module 200. The source and the nozzles 100 and 102 may be connected to each other in a detachable manner so that the source, which is exhausted from the source, is replaced while the next source is sprayed.

히팅 챔버(110)는 고열로 달궈진 반응로로서, 노즐(100, 102)에서 분사되는 증착용 액체를 기화시키는 역할을 한다. 히팅 챔버(110) 내부는 기화된 증착용 액체와 증착용 액체의 운반체인 비활성 기체로 채워져 있으며, 이들은 가열되면서 노즐(100, 102)로부터 주입되는 증착용 액체 및 비활성 기체로 인해 배기구(130)로 빠져나간다. 히팅 챔버(110)는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator; 114)를 더 구비할 수 있다. 물론, 내부의 압력은 노즐(100, 102)의 분사속도를 제어하여 조절된다.The heating chamber 110 is a reaction furnace heated with high heat and serves to vaporize the deposition liquid sprayed from the nozzles 100 and 102. The inside of the heating chamber 110 is filled with a vaporized deposition liquid and an inert gas, which is a carrier of the deposition liquid, and they are heated to the exhaust port 130 due to the deposition liquid and inert gas injected from the nozzles 100 and 102. Exit. The heating chamber 110 may further include a pressure indicator 114 that measures internal pressure. Of course, the internal pressure is controlled by controlling the injection speed of the nozzles 100 and 102.

셔터 모듈(200)은 본 발명의 핵심이 되는 구성요소로서, 도 3을 고려해 볼 때, 2개 이상의 노즐(100, 102)을 택일적으로 열고 닫는 역할을 한다. 셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 고정하는 고정수단(220) 및 셔터(210)와 고정수단(220)을 일방으로 움직이는 이송수단(230)을 포함할 수 있다.The shutter module 200 is a core component of the present invention, and when considering FIG. 3, it serves to selectively open and close two or more nozzles 100 and 102. The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a fixing means 220 for fixing the shutter 210, and a transfer means for moving the shutter 210 and the fixing means 220 in one direction ( 230).

셔터(210)는 하나 이상의 구멍을 가지면서 둥그스름한 형태인 얇은 판(Sheet)이고 일측이 고정수단(220)과 연결될 수 있다.The shutter 210 is a thin plate having one or more holes and has a rounded shape, and one side may be connected to the fixing means 220.

고정수단(220)은 셔터(210)의 일측과 일단이 연결되어 셔터(210)와 함께 움직이는 중심 샤프트(221), 중심 샤프트(221)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버(110)의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실(226), 벨로우 실(226)의 양측에 고정되며 중심 샤프트(221)와 평행하게 구비된 사이드 샤프트(222), 사이드 샤프트(222)에 관통되어 사이드 샤프트(222)를 따라 움직이는 리니어 부쉬(224), 중심 샤프트(221)의 타단 및 리니어 부쉬(224)와 연결되고 사이드 샤프트(222)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트(228)를 포함할 수 있다.The fixing means 220 is connected to one side and one end of the shutter 210 and penetrates through the central shaft 221 and the central shaft 221 moving together with the shutter 210 so that the central shaft 221 moves only in the through direction. A bellow seal 226 that seals to maintain the vacuum of the heating chamber 110 while it is fixed and moves, a side shaft 222 fixed to both sides of the bellow seal 226 and provided parallel to the central shaft 221, a side The linear bush 224 that penetrates through the shaft 222 and moves along the side shaft 222, the other end of the central shaft 221 and the linear bush 224 are connected to the side shaft 222 and penetrates the central shaft 221 It may include a moving plate 228 fixed to move without rotating.

이송수단(230)은 고정수단(220)과 연결되어 고정수단(220)을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트(232), 실린더 플레이트(232)를 관통하여 고정수단(220)을 움직이는 실린더(234)를 포함할 수 있다.Transfer means 230 is connected to the fixing means 220, a cylinder plate 232 for fixing and moving the fixing means 220, a cylinder 234 that moves the fixing means 220 through the cylinder plate 232 Can include.

중앙 유로(400)는 히팅 챔버(110)의 천장에 부착되어 노즐(100, 102)로부터 나온 증착용 액체가 히팅 챔버(110)의 천장 한 가운데에서 분사되도록 유로를 제공한다. 노즐(100, 102)이 복수 개가 됨에 따라 증착용 액체가 나오는 위치가 상이하게 된다. 따라서 증착용 액체가 기화되는 위치가 달라진다. 이는 히팅 챔버(110)에서 생성되는 증착용 기체의 분압이 일정하지 않다는 것을 의미한다. 이를 보완하기 위하여 노즐(100, 102)의 끝에서 히팅 챔버(110)의 천장 중앙으로 중앙 유로(400)를 구비하여 노즐(100, 102)로부터 분사되는 증착용 액체의 분사 위치를 일정하게 유지할 수 있다.The central flow path 400 is attached to the ceiling of the heating chamber 110 and provides a flow path so that the liquid for deposition from the nozzles 100 and 102 is sprayed from the center of the ceiling of the heating chamber 110. As the number of the nozzles 100 and 102 becomes plural, the locations where the deposition liquid comes out are different. Therefore, the location where the deposition liquid is vaporized varies. This means that the partial pressure of the deposition gas generated in the heating chamber 110 is not constant. To compensate for this, a central flow path 400 is provided from the ends of the nozzles 100 and 102 to the center of the ceiling of the heating chamber 110, so that the spraying position of the deposition liquid sprayed from the nozzles 100 and 102 can be kept constant. have.

중앙 유로(400)는 둘 이상의 노즐(100, 102)에 입구가 각각 연결되며, 히팅 챔버(110)의 천정 중앙에 출구가 구비될 수 있다. 이때 중앙 유로(400)는 서로 다른 노즐(100, 102)로부터 출구에 이르는 공간을 각각 별개로 구비할 수 있다. 이 공간은 동일한 형태와 부피를 갖는 것이 바람직하다. 다시 말해서 입구와 출구를 잇는 경로와 또 다른 입구와 또 다른 출구를 잇는 경로를 동일한 형태가 되도록 경로 사이에 나눔판을 구비하여 공간을 구분할 수 있다. 셔터 모듈(200)은 나눔판과 히팅 챔버(110)의 천정 사이에서 움직일 수 있어야 한다. 따라서 나눔판은 히팅 챔버(110)의 천정으로부터 셔터 모듈(200)의 두께만큼 이격된 채 구비되어야 한다. 이후로, 노즐(100, 102)은 제1 노즐에 부호 100과 제2 노즐에 부호 102를 대응시키기로 한다.The central flow path 400 has an inlet connected to two or more nozzles 100 and 102, respectively, and an outlet may be provided at the center of the ceiling of the heating chamber 110. At this time, the central flow path 400 may have separate spaces from different nozzles 100 and 102 to the outlet. It is desirable that these spaces have the same shape and volume. In other words, it is possible to divide the space by providing a dividing plate between the paths so that the path connecting the inlet and the exit and the path connecting another inlet and another exit have the same shape. The shutter module 200 must be movable between the dividing plate and the ceiling of the heating chamber 110. Therefore, the dividing plate must be provided while being spaced apart from the ceiling of the heating chamber 110 by the thickness of the shutter module 200. Thereafter, for the nozzles 100 and 102, a reference numeral 100 is associated with the first nozzle and a reference numeral 102 is associated with the second nozzle.

나눔판은 내부에 증착용 액체가 굳는 것을 막기 위하여 나눔판용 열선을 추가로 구비할 수 있다.The divider plate may additionally include a heating wire for the divider plate to prevent the deposition liquid from hardening therein.

배기구(130)는 기화된 증착용 액체가 증착을 위해 히팅 챔버(110)에서 빠져나가는 경로이다. 배기구(130)에서 증착용 액체가 액화되거나 굳는 것을 막기 위해 배기용 열선(112)이 추가로 구비될 수 있다.The exhaust port 130 is a path through which the vaporized deposition liquid exits the heating chamber 110 for deposition. In order to prevent the vapor deposition liquid from being liquefied or hardened in the exhaust port 130, an exhaust heating wire 112 may be additionally provided.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 셔터 모듈의 사시도이다.3 is a perspective view of a shutter module according to an embodiment of the present invention.

셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 고정하는 고정수단(220) 및 셔터(210)와 고정수단(220)을 일방으로 움직이는 이송수단(230)을 포함할 수 있다.The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a fixing means 220 for fixing the shutter 210, and a transfer means for moving the shutter 210 and the fixing means 220 in one direction ( 230).

셔터(210)는 하나 이상의 개폐용 구멍(215)을 가진 얇은 판(Sheet)이고 일측이 고정수단(220)과 연결될 수 있다. 개폐용 구멍(215)은 제1 및 제2 노즐(100, 102)을 여는 역할을 하며, 셔터(210)가, 도 3(a) 또는 도 3(b)와 같이, 일측 또는 타측으로 움직이면서 제1 노즐(100) 또는 제2 노즐(102) 아래에 개폐용 구멍(215)이 위치하면, 제1 노즐(100) 또는 제2노즐(102)이 개폐용 구멍(215)에 의해 열리게 된다. 즉, 셔터(210)의 크기가 한정되어 있으므로, 도 3(a)와 같이, 셔터(210)의 말단을 벗어난 위치에 제1노즐(100)이 위치하면, 제1노즐(100)이 열리게 된다. 좀 더 구체적으로는, 도 3(b)와 같이, 셔터(210)의 말단 안쪽에 제1노즐(100)이 위치할 때, 제1노즐(100)은 닫히게 되며, 그리고 제2노즐(102)은 이때 개폐용 구멍(215)에 위치하여 열리게 된다. 반대로, 도 3(a)와 같이, 셔터(210)의 말단을 벗어난 위치에 제1노즐(100)이 위치하면, 제1노즐(100)은 열리게 되며, 그리고 제2노즐(102)은 개폐용 구멍(215)을 벗어난 곳에 위치하므로 닫히게 된다.The shutter 210 is a thin plate having one or more opening and closing holes 215 and one side may be connected to the fixing means 220. The opening/closing hole 215 serves to open the first and second nozzles 100 and 102, and the shutter 210 moves to one side or the other side, as shown in FIG. 3(a) or 3(b). When the opening/closing hole 215 is located under the 1 nozzle 100 or the second nozzle 102, the first nozzle 100 or the second nozzle 102 is opened by the opening/closing hole 215. That is, since the size of the shutter 210 is limited, as shown in FIG. 3(a), when the first nozzle 100 is positioned outside the end of the shutter 210, the first nozzle 100 is opened. . More specifically, as shown in FIG. 3(b), when the first nozzle 100 is positioned inside the end of the shutter 210, the first nozzle 100 is closed, and the second nozzle 102 At this time, it is located in the opening and closing hole 215 and is opened. Conversely, as shown in FIG. 3(a), when the first nozzle 100 is positioned outside the end of the shutter 210, the first nozzle 100 is opened, and the second nozzle 102 is opened and closed. Since it is located outside the hole 215, it is closed.

이렇게 셔터 모듈(200)의 한가지 동작으로 셔터(210)를 통해 제1 및 제2 노즐(100, 102)을 택일적으로 닫을 수 있다. 물론 셔터(210)의 개폐용 구멍(215)을 키우거나 늘려서 셋 이상의 노즐을 택일적으로 닫을 수 있다.In this way, one operation of the shutter module 200 may selectively close the first and second nozzles 100 and 102 through the shutter 210. Of course, three or more nozzles may be selectively closed by increasing or increasing the opening/closing hole 215 of the shutter 210.

고정수단(220)은 셔터(210)의 일측과 일단이 연결되어 셔터(210)와 함께 움직이는 중심 샤프트(221), 중심 샤프트(221)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버(110)의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실(226), 벨로우 실(226)의 양측에 고정되며 중심 샤프트(221)와 평행하게 구비된 사이드 샤프트(222), 사이드 샤프트(222)에 관통되어 사이드 샤프트(222)를 따라 움직이는 리니어 부쉬(224), 중심 샤프트(221)의 타단 및 리니어 부쉬(224)와 연결되고 사이드 샤프트(222)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트(228)를 포함할 수 있다. 중심 샤프트(221)는 벨로우 실(226)과 무빙 플레이트(228) 사이에서 신축성 있는 보호대로 쌓여서 윤활액이 오염되는 것을 막을 수 있다. 벨로우 실(226)과 사이드 샤프트(222)는 히팅 챔버(110)의 벽면에 고정되어 셔터 모듈(200)이 흔들리거나 회전하는 것을 막는다. 무빙 플레이트(228)는 리니어 부쉬(224)와 중심샤프트가 일직선상에 고정되도록 유지하며 이송수단(230)이 제공하는 힘을 고르게 전달하는 역할도 한다.The fixing means 220 is connected to one side and one end of the shutter 210 and penetrates through the central shaft 221 and the central shaft 221 moving together with the shutter 210 so that the central shaft 221 moves only in the through direction. A bellow seal 226 that seals to maintain the vacuum of the heating chamber 110 while it is fixed and moves, a side shaft 222 fixed to both sides of the bellow seal 226 and provided parallel to the central shaft 221, a side The linear bush 224 that penetrates through the shaft 222 and moves along the side shaft 222, the other end of the central shaft 221 and the linear bush 224 are connected to the side shaft 222 and penetrates the central shaft 221 It may include a moving plate 228 fixed to move without rotating. The central shaft 221 is stacked with an elastic guard between the bellow seal 226 and the moving plate 228 to prevent contamination of the lubricating fluid. The bellow seal 226 and the side shaft 222 are fixed to the wall of the heating chamber 110 to prevent the shutter module 200 from shaking or rotating. The moving plate 228 maintains the linear bush 224 and the center shaft to be fixed in a straight line, and also serves to evenly transmit the force provided by the transfer means 230.

리니어 부쉬(224)는 이동간에 회전이 일어나는 것을 사이드 샤프트(222)에 의지하여 견디며 무빙 플레이트(228) 및 셔터(210)가 동일 평면상을 움직이도록 한다. 리니어 부쉬(224)는 사이드 샤프트(222)를 따라서 무빙 플레이트(228)와 함께 이동한다. 또한 리니어 부쉬(224)는 일정 길이만큼 사이드 샤프트(222)를 감싸는 구조로서, 무빙 플레이트(228)가 기울게 되었을 때 반대 방향으로 토크를 생성하여 이에 저항하는 역할을 한다.The linear bush 224 relies on the side shaft 222 to withstand rotation between movements, and allows the moving plate 228 and the shutter 210 to move on the same plane. The linear bush 224 moves along with the moving plate 228 along the side shaft 222. In addition, the linear bush 224 has a structure that surrounds the side shaft 222 by a predetermined length, and when the moving plate 228 is inclined, it generates torque in the opposite direction to resist this.

이송수단(230)은 고정수단(220)과 연결되어 고정수단(220)을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트(232), 실린더 플레이트(232)를 관통하여 고정수단(220)을 움직이는 실린더(234)를 포함할 수 있다.Transfer means 230 is connected to the fixing means 220, a cylinder plate 232 for fixing and moving the fixing means 220, a cylinder 234 that moves the fixing means 220 through the cylinder plate 232 Can include.

실린더 플레이트(232)는 실린더(234)가 정해진 길을 움직일 수 있는 경로를 제시하며, 무빙 플레이트(228)가 움직일 수 있는 한계점의 역할을 한다. 무빙 플레이트(228)는 사이드 샤프트(222)가 관통할 수 있는 구멍을 구비하며, 실린더 플레이트(232)는 실린더(234)가 관통할 수 있는 구멍을 구비한다.The cylinder plate 232 presents a path through which the cylinder 234 can move a predetermined path, and serves as a limit point at which the moving plate 228 can move. The moving plate 228 has a hole through which the side shaft 222 can pass, and the cylinder plate 232 has a hole through which the cylinder 234 can pass.

실린더(234)는 외부의 동력원으로부터 실린더 플레이트(232)를 관통하는 과정에서 직선운동이 강제되므로 정밀한 운동을 필요로 하지는 않는다. 따라서 실린더(234)의 타측이 캠축과 같이 회전운동을 정교하지 않은 직선운동으로 바꿔주는 수단과 연결되어도 무방하다. 실린더 플레이트(232)및 고정수단(220)이 회전 및 기울어짐을 방지하기 때문이다.The cylinder 234 does not require precise movement because a linear motion is forced in the process of passing through the cylinder plate 232 from an external power source. Therefore, the other side of the cylinder 234 may be connected with a means for converting the rotational motion into a non-precise linear motion, such as a camshaft. This is because the cylinder plate 232 and the fixing means 220 prevent rotation and inclination.

도 3(a)는 제1 및 제2 노즐(100, 102)에서 제1노즐(100)을 셔터(210)로부터 이격시켜 개방하고 제2노즐(102)을 셔터(210)와 밀접하게 접촉시켜 폐쇄한 상태를 나타낸 셔터 모듈(200)의 사시도이다. 셔터 모듈(200)이 접혀 있는 경우 제1노즐(100)은 셔터(210)와 떨어져 있기 때문에 셔터(210)에 가려지지 않는다.3(a) shows the first nozzle 100 in the first and second nozzles 100 and 102 to be opened apart from the shutter 210 and the second nozzle 102 in close contact with the shutter 210 It is a perspective view of the shutter module 200 showing the closed state. When the shutter module 200 is folded, the first nozzle 100 is not covered by the shutter 210 because it is separated from the shutter 210.

도 3(b)는 제1 및 제2 노즐(100, 102)에서 제1노즐(100)을 셔터(210)와 밀접하게 접촉시켜 폐쇄하고 제2노즐(102)을 개폐용 구멍(215)에 삽입시켜 개방한 상태를 나타낸 셔터 모듈(200)의 사시도이다. 셔터 모듈(200)이 뻗은 경우 제1노즐(100)의 출구까지 셔터(210)가 이동하기 때문에 셔터(210)에 가려진다. 따라서 제1노즐(100)이 폐쇄된다. 그러나 제2노즐(102)의 출구에 개폐용 구멍(215)이 이동하기 때문에 제2노즐(102)의 출구가 열린다. 따라서 제2노즐(102)은 개방된다.3(b) shows the first nozzle 100 in close contact with the shutter 210 in the first and second nozzles 100 and 102 to be closed, and the second nozzle 102 in the opening/closing hole 215 It is a perspective view of the shutter module 200 showing the inserted and opened state. When the shutter module 200 is extended, the shutter 210 moves to the exit of the first nozzle 100 and thus is covered by the shutter 210. Therefore, the first nozzle 100 is closed. However, since the opening/closing hole 215 moves to the outlet of the second nozzle 102, the outlet of the second nozzle 102 is opened. Accordingly, the second nozzle 102 is opened.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 중앙 유로의 사시도이다.4 is a perspective view of a central flow path according to an embodiment of the present invention.

중앙 유로(400)는 히팅 챔버(110)의 천장에 부착되어 제1 및 제2 노즐(100, 102)로부터 나온 증착용 액체가 히팅 챔버(110)의 천장 한 가운데에서 분사되도록 유로를 제공한다. 제1 및 제2 노즐(100, 102)이 복수 개가 됨에 따라 증착용 액체가 나오는 위치가 상이하게 된다. 따라서 증착용 액체가 기화되는 위치가 달라진다. 이는 히팅 챔버(110)에서 생성되는 증착용 기체의 분압이 일정하지 않다는 것을 의미한다. 이를 보완하기 위하여 제1 및 제2 노즐(100, 102)의 끝에서 히팅 챔버(110)의 천장 중앙으로 중앙 유로(400)를 구비하여 제1 및 제2 노즐(100, 102)로부터 분사되는 증착용 액체의 분사 위치를 일정하게 유지할 수 있다.The central flow path 400 is attached to the ceiling of the heating chamber 110 and provides a flow path so that the deposition liquid from the first and second nozzles 100 and 102 is sprayed from the center of the ceiling of the heating chamber 110. As the number of the first and second nozzles 100 and 102 becomes plural, the locations where the deposition liquid comes out are different. Therefore, the location where the deposition liquid is vaporized varies. This means that the partial pressure of the deposition gas generated in the heating chamber 110 is not constant. In order to compensate for this, a central flow path 400 is provided from the ends of the first and second nozzles 100 and 102 to the center of the ceiling of the heating chamber 110, and is sprayed from the first and second nozzles 100 and 102. The spraying position of the wearing liquid can be kept constant.

중앙 유로(400)는 제1 및 제2 노즐(100, 102)에 입구가 각각 연결되며, 히팅 챔버(110)의 천정 중앙에 출구(420)가 구비될 수 있다. 이때 중앙 유로(400)는 제1 및 제2 노즐(100, 102)로부터 출구(420)에 이르는 공간(430)을 각각 별개로 구비할 수 있다. 이 공간(430)은 동일한 형태와 부피를 갖는 것이 바람직하다. 증착용 기체 또는 액체가 동일한 경로를 거쳐서 분사되도록 하기 위해서이다. 다시 말해서 입구와 출구(420)를 잇는 경로와 또 다른 입구와 또 다른 출구(420)를 잇는 경로를 동일한 형태가 되도록 경로 사이에 나눔판(410)을 구비하여 공간(430)을 구분할 수 있다. 셔터 모듈(200)은 나눔판(410)과 히팅 챔버(110)의 천정 사이에서 움직일 수 있어야 한다. 따라서 나눔판(410)은 히팅 챔버(110)의 천정으로부터 셔터 모듈(200)의 두께만큼 이격된 채 구비되어야 한다.The central flow path 400 has an inlet connected to the first and second nozzles 100 and 102, respectively, and an outlet 420 may be provided at the center of the ceiling of the heating chamber 110. In this case, the central flow path 400 may separately have a space 430 extending from the first and second nozzles 100 and 102 to the outlet 420, respectively. It is preferable that the space 430 has the same shape and volume. This is to ensure that the vapor deposition gas or liquid is sprayed through the same path. In other words, the space 430 may be separated by providing a dividing plate 410 between the paths so that the path connecting the inlet and the outlet 420 and the path connecting the inlet and the outlet 420 have the same shape. The shutter module 200 must be movable between the dividing plate 410 and the ceiling of the heating chamber 110. Therefore, the dividing plate 410 must be provided while being spaced apart from the ceiling of the heating chamber 110 by the thickness of the shutter module 200.

나눔판(410)은 내부에 증착용 액체가 굳는 것을 막기 위하여 나눔판용 열선(미도시)을 추가로 구비할 수 있다.The dividing plate 410 may additionally include a dividing plate heating wire (not shown) to prevent the deposition liquid from hardening therein.

전술한 바와 같이 하나의 동작으로 제1 및 제2 노즐(100, 102)을 택일적으로 개폐할 수 있는 수단이 구비되면, 제1 및 제2 노즐(100, 102) 중 하나(100)에 연결된 소스가 모두 소모되었을 때 소모된 소스의 노즐(100)을 막고 나머지 노즐(102)을 열 수 있다. 폐쇄된 노즐(100)은 소스가 연결되지 않아도 무방하므로 소스를 교체할 수 있다. 다시 말해서 단순하고 간단한 구성요소와 동작을 추가하여 공정의 중단없이 소스를 교체할 수 있다.As described above, if a means for selectively opening and closing the first and second nozzles 100 and 102 in one operation is provided, it is connected to one of the first and second nozzles 100 and 102 When the source is exhausted, the nozzle 100 of the consumed source may be blocked and the remaining nozzle 102 may be opened. Since the closed nozzle 100 does not have to be connected to the source, the source can be replaced. In other words, by adding simple and straightforward components and operations, sources can be replaced without interrupting the process.

또한, 중앙 유로(400)를 구비하여 제1 및 제2 노즐(100, 102) 중 어느 하나가 개폐된다 하더라도 증착용 기체가 동일한 위치에 분사되기 때문에 증착용 기체를 동일한 조건으로 가열하여 공급할 수 있다.In addition, even if one of the first and second nozzles 100 and 102 is opened or closed by providing the central flow path 400, since the deposition gas is sprayed at the same position, the deposition gas can be heated and supplied under the same conditions. .

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.As described above, although the present invention has been described by the limited embodiments and drawings, the present invention is not limited to the above embodiments, which is, if one of ordinary skill in the field to which the present invention belongs, various modifications and Transformation is possible.

따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명의 사상적 범주에 속한다.Therefore, the idea of the present invention should be grasped only by the claims set forth below, and all equivalent or equivalent modifications thereof belong to the scope of the present invention.

100: 제1노즐 102: 제2노즐
106: 분사용 열선 112: 배기용 열선
114: 압력 지시기 200: 셔터 모듈
210: 셔터 215: 개폐용 구멍
220: 고정수단 221: 중심 샤프트
222: 사이드 샤프트 224: 리니어 부쉬
226: 벨로우 실 228: 무빙 플레이트
230: 이송수단 232: 실린더 플레이트
234: 실린더 400: 중앙 유로
410: 나눔판 420: 출구
430: 공간100: first nozzle 102: second nozzle
106: heating wire for spraying 112: heating wire for exhaust
114: pressure indicator 200: shutter module
210: shutter 215: opening and closing hole
220: fixing means 221: center shaft
222: side shaft 224: linear bush
226: bellow seal 228: moving plate
230: transfer means 232: cylinder plate
234: cylinder 400: central flow path
410: division board 420: exit
430: space

Claims (15)

증착용 액체를 보관하는 소스들에 각각 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개의 노즐;
상기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버;
상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 적어도 2개의 노즐 중 하나를 열리도록 제어하는 셔터 모듈;
상기 증착용 액체가 상기 히팅 챔버의 천장 한 가운데에서 분사되도록 상기 히팅 챔버의 천장에 부착되어 유로를 제공하는 중앙 유로; 및
상기 히팅 챔버에서 상기 증착용 액체로부터 형성된 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.At least two nozzles respectively connected to sources storing the deposition liquid to spray the deposition liquid;
A heating chamber for heating the deposition liquid sprayed from the nozzle and evaporating it into a deposition gas;
A shutter module provided on one side of the heating chamber and controlling one of the at least two nozzles to open;
A central flow path attached to the ceiling of the heating chamber so that the deposition liquid is sprayed from the center of the ceiling of the heating chamber to provide a flow path; And
And an exhaust port for discharging the deposition gas formed from the deposition liquid in the heating chamber to the outside of the heating chamber. 제1항에 있어서,
상기 셔터 모듈은 상기 적어도 2개의 노즐 중 상기 하나를 개폐하는 셔터;
상기 셔터를 고정하는 고정수단; 및
상기 셔터와 상기 고정수단을 일방으로 움직이는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
The shutter module may include a shutter for opening and closing the one of the at least two nozzles;
Fixing means for fixing the shutter; And
And a conveying means for moving the shutter and the fixing means in one direction. 제2항에 있어서,
상기 셔터는 하나 이상의 개폐용 구멍을 가진 얇은 판(Sheet)이고 일측이 상기 고정수단과 연결된 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 2,
The shutter is an evaporator, characterized in that a thin plate (Sheet) having one or more opening and closing holes and one side is connected to the fixing means. 제2항에 있어서,
상기 고정수단은
상기 셔터의 일측과 일단이 연결되어 상기 셔터와 함께 움직이는 중심 샤프트;
상기 중심 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실;
상기 벨로우 실의 양측에 고정되며 상기 중심 샤프트와 평행하게 구비된 사이드 샤프트;
상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 사이드 샤프트를 따라 움직이는 리니어 부쉬;
상기 중심 샤프트의 타단 및 상기 리니어 부쉬와 연결되고 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 2,
The fixing means
A central shaft connected to one side and one end of the shutter and moving together with the shutter;
A bellow seal penetrating the central shaft to fix the central shaft so as to move only in the through direction, and to seal the heating chamber to maintain a vacuum while moving;
Side shafts fixed to both sides of the bellow seal and provided in parallel with the center shaft;
A linear bush penetrating through the side shaft and moving along the side shaft;
And a moving plate connected to the other end of the center shaft and the linear bushing and penetrating the side shaft to fix the center shaft to move without rotating. 제2항에 있어서,
상기 이송수단은
상기 고정수단과 연결되어 상기 고정수단을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트;
상기 실린더 플레이트를 관통하고 상기 고정수단을 움직이는 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 2,
The transfer means
A cylinder plate connected to the fixing means to fix and move the fixing means;
And a cylinder passing through the cylinder plate and moving the fixing means. 제1항에 있어서,
상기 적어도 2개의 노즐 중 상기 하나는 상기 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 상기 증착용 액체를 분사하고, 상기 하나의 노즐이 소진된 후에 상기 하나의 노즐을 상기 셔터로 막은 상태에서 나머지 노즐이 분사하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
One of the at least two nozzles sprays the deposition liquid until all of the deposition liquid is exhausted, and after the one nozzle is exhausted, the remaining nozzles are sprayed while the one nozzle is closed with the shutter. An evaporator, characterized in that. 제1항에 있어서,
상기 소스들 중 하나의 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 개별 소스와 개별 노즐의 연결이 탈착식으로 구성되는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
An evaporator, characterized in that the connection between the individual source and the individual nozzle is configured detachably so that the exhausted source of one of the sources is replaced while the next source is sprayed. 제1항에 있어서,
상기 히팅 챔버는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
The evaporator, characterized in that the heating chamber further comprises a pressure indicator (Pressure Indicator) for measuring the internal pressure. 제1항에 있어서,
상기 적어도 2개의 노즐은 분사용 열선을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
The evaporator, characterized in that the at least two nozzles further comprise a hot wire for spraying. 제1항에 있어서,
상기 중앙 유로는 상기 적어도 2개의 노즐에 입구들이 각각 연결된 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
The central flow path is an evaporator, characterized in that the inlets are respectively connected to the at least two nozzles. 제1항에 있어서,
상기 중앙 유로는 상기 히팅 챔버의 천정 중앙에 출구가 구비되는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 1,
The central flow path is an evaporator, characterized in that the outlet is provided in the center of the ceiling of the heating chamber. 제11항에 있어서,
상기 중앙 유로는 상기 적어도 2개의 노즐로부터 상기 출구에 이르는 둘 이상의 공간을 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 11,
The evaporator, characterized in that the central flow path has two or more spaces extending from the at least two nozzles to the outlet. 제12항에 있어서,
상기 공간은 동일한 형태와 부피를 갖는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 12,
The evaporator, characterized in that the space has the same shape and volume. 제13항에 있어서,
상기 공간은 나눔판으로 구분되는 것을 특징으로 하는 증발기.The method of claim 13,
The evaporator, characterized in that the space is divided by a dividing plate. 제14항에 있어서,
상기 나눔판은 상기 히팅 챔버의 천정으로부터 상기 셔터 모듈의 두께만큼 이격된 채 구비된 것을 특징으로 하는 증발기.

The method of claim 14,
The dividing plate is an evaporator, characterized in that the spaced apart from the ceiling of the heating chamber by the thickness of the shutter module.
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