KR20150114100A - Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray - Google Patents

Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray Download PDF

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KR20150114100A
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Abstract

According to an embodiment of the present invention, an evaporator includes: two or more nozzles which are connected to a source storing deposition liquid to spray the deposition liquid; a heating chamber which heats the deposition liquid sprayed from the nozzles and evaporates the deposition liquid to deposition gas; a shutter module which is arranged on a side of the heating chamber to control one of the nozzles to be opened; and a center path which is attached on the ceiling of the heating chamber to provide a path in order to spray the deposition gas to the center of the heating chamber′s ceiling; and an exhaust port for discharging the deposition gas to the outside of the heating chamber. The present invention can provide an evaporator capable of maintaining the same evaporation state regardless of which one of the shutters is open.

Description

다수의 노즐을 개폐하는 셔터와 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 증발기{Evaporator having a shutter for opening and closing and central passage for holding the state of a single spray}[0001] The present invention relates to an evaporator having a shutter for opening and closing a plurality of nozzles and a central flow path for maintaining a single spray state.

본 발명은 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 다수의 노즐을 개폐하는 셔터와 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 증발기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가동 중 소진된 소스를 교체할 수 있도록 하기 위하여, 다수의 소스에 각각 연결된 다수의 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터와 어느 노즐이 개방된다 하여도 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 다수의 노즐을 개폐하는 셔터와 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 구비한 증발기에 관한 것이다.The present invention relates to an evaporator having a shutter for opening and closing a plurality of nozzles and a central flow path for maintaining a single injection state so as to replace exhausted sources even during operation, and more particularly, A shutter for selectively opening and closing a plurality of nozzles respectively connected to a plurality of sources and a shutter for opening and closing a plurality of nozzles having a central flow path for maintaining a single injection state even when any nozzle is opened, And a central flow path for maintaining a single injection state.

반도체를 에피택셜하게 증착하는 상용성 있는 방법으로 CVD(Chamical Vapor Deposition)가 있다. CVD는 증착용 화학품을 기화시켜서 기상으로 반응시켜 기판에 증착하는 방법이다.CVD (Chamical Vapor Deposition) is a compatible method for epitaxially depositing semiconductors. CVD is a method of vaporizing a chemical vapor deposition material and reacting it in a gas phase to deposit on a substrate.

이때 증착용 화학품을 증발시키는 기구가 증발기(Evaporator)이다.At this time, the evaporator is the mechanism for evaporating the evaporation chemicals.

도 1은 증발기의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an evaporator.

증발기는 증착용 기체의 액체상태인 증착용 액체를 노즐(10)을 통해 분사 받아서 히팅 챔버(20)에서 열을 가하여 증발시킨다. 증착용 액체는 증착용 기체로 증발하여 배기구(30)를 통해 반응이 일어나는 곳으로 배기된다. 이때 증착용 액체는 노즐(10)로부터 분사받으며 노즐(10)은 소스(미도시)와 연결된다. 이 소스는 증착용 액체를 밀폐된 용기에 담은 것으로 증착용 액체는 소스로서 유통된다. 따라서 소스는 한정된 양의 증착용 액체만을 담고 있기 때문에 소스가 모두 소진되면 소스를 교체하기 위하여 기기의 작동을 멈추어야 한다.The evaporator injects the evaporation liquid, which is a liquid state of the vapor deposition gas, through the nozzle 10 and evaporates by applying heat in the heating chamber 20. The vaporizing liquid evaporates to the vaporizing gas and is exhausted to the place where the reaction takes place through the exhaust port (30). At this time, the vapor-depositing liquid is jetted from the nozzle 10, and the nozzle 10 is connected to a source (not shown). This source contains the vaporizing liquid in a closed container and the vaporizing liquid is circulated as a source. Therefore, since the source contains only a limited amount of evaporation fluid, the device must be deactivated to replace the source when the source is exhausted.

증발기와 관련한 종래의 기술로서, 유량을 조절하기 위한 한국공개특허 제2006-043838호가 출원된 바 있다.As a conventional technique related to an evaporator, Korean Patent Publication No. 2006-043838 for controlling the flow rate has been filed.

그러나, 이와 같은 종래의 기술에서도 역시 소스 교체시 공정 전체를 중지시켜야 하는 문제점이 있었다.However, even in such a conventional technology, there is a problem that the entire process must be stopped when the source is replaced.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 가동 중에도 소진된 소스를 교체할 수 있도록 다수의 노즐을 개폐하는 셔터를 구비하고, 단일한 분사 상태를 유지하기 위한 중앙 유로를 추가로 구비한 증발기를 제공하는 데에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a shutter for opening and closing a plurality of nozzles in order to replace exhausted sources during operation, The purpose is to provide an evaporator.

본 발명의 일 측면에 의하면, 증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개 이상의 노즐; 상이기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버; 상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 노즐 중 어느 하나만을 열리도록 제어하는 셔터 모듈; 상기 증착용 기체가 상기 히팅 챔버의 천장 한 가운데에서 분사되도록 상기 히팅 챔버의 천장에 부착되어 유로를 제공하는 중앙 유로및 상기 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording head comprising: at least two or more nozzles connected to a source for storing a vapor deposition liquid to jet the vapor deposition liquid; A heating chamber for heating the vapor deposition liquid sprayed from the upper nozzle and evaporating the vapor deposition liquid to vapor deposition gas; A shutter module provided at one side of the heating chamber and controlling only one of the nozzles to be opened; And a central flow path attached to the ceiling of the heating chamber so as to spray the vapor deposition gas in the center of the ceiling of the heating chamber, and an exhaust port for discharging the vapor deposition base to the outside of the heating chamber. To the evaporator.

여기서, 상기 셔터 모듈은 상기 노즐을 개폐하는 셔터; 상이기 셔터를 고정하는 고정수단;및 상기 셔터와 상기 고정수단을 일방으로 움직이는 이송수단을 포함할 수 있다.Here, the shutter module may include a shutter for opening and closing the nozzle; A fixing means for fixing the shutter and the shutter, and a conveying means for moving the shutter and the fixing means in one direction.

여기서, 상기 셔터는 하나 이상의 구멍을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단과 연결될 수 있다.Here, the shutter is in the form of a thin sheet having one or more holes and one side can be connected to the fixing means.

여기서, 상기 고정수단은 상기 셔터의 일측과 일단이 연결되어 상기 셔터와 함께 움직이는 중심 샤프트; 상기 중심 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실; 상이기 벨로우 실의 양측에 고정되며 상기 중심 샤프트와 평행하게 구비된 사이드 샤프트; 상이기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 사이드 샤프트를 따라 움직이는 리니어 부쉬; 상이기 중심 샤프트의 타단 및 상기 리니어 부쉬와 연결되고 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트를 포함할 수 있다.Here, the fixing means may include a center shaft connected to one end of the shutter and moving together with the shutter; A bellows seal penetrating the center shaft to fix the center shaft so as to move only in a penetrating direction and to seal the heating chamber while maintaining a vacuum while moving; A side shaft fixed to both sides of the upper bellows chamber and disposed parallel to the center shaft; A linear bushing passing through the side shafts and moving along the side shafts; And a moving plate connected to the other end of the center shaft and to the linear bushing and penetrating the side shaft to fix the center shaft so as to move without rotating.

여기서, 상기 이송수단은 상기 고정수단과 연결되어 상기 고정수단을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트; 상이기 실린더 플레이트와 연결되어 상기 고정수단 및 실린더 플레이트를 움직이는 힘을 제공하는 실린더를 포함할 수 있다.Here, the conveying means includes a cylinder plate connected to the fixing means to fix and move the fixing means, And a cylinder connected to the upper and lower cylinder plates to provide a force for moving the fixing means and the cylinder plate.

여기서, 상기 노즐은 상기 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 상기 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 상기 셔터로 막은 상태에서 다음 노즐이 분사할 수 있다.Here, the nozzle may spray the vapor-depositing liquid until all of the vapor-depositing liquid is exhausted, and then the next nozzle may be sprayed with the shutter closed.

여기서, 상기 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 상기 소스와 상기 노즐의 연결이 탈착식으로 구성될 수 있다.Here, the connection of the source and the nozzle may be detachably configured so that the exhausted source of all of the sources is replaced while the next source is being injected.

여기서, 상기 히팅 챔버는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator)를 더 구비할 수 있다.The heating chamber may further include a pressure indicator for measuring an internal pressure of the heating chamber.

여기서, 상기 노즐은 분사용 열선을 더 구비할 수 있다.Here, the nozzle may further include a dispersive heating wire.

여기서, 상기 중앙 유로는 둘 이상의 상기 노즐에 입구가 각각 연결될 수 있다.Here, the central passage may be connected to two or more of the nozzles, respectively.

여기서, 상기 중앙 유로는 상기 히팅 챔버의 천정 중앙에 출구가 구비될 수 있다.The central passage may have an outlet at the center of the ceiling of the heating chamber.

여기서, 상기 중앙 유로는 서로 다른 노즐로부터 상기 출구에 이르는 둘 이상의 공간을 구비할 수 있다.Here, the central passage may have two or more spaces from different nozzles to the outlet.

여기서, 상기 공간은 동일한 형태와 부피를 갖는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the space has the same shape and volume.

여기서, 상기 공간은 나눔판으로 구분될 수 있다.Here, the space may be divided into a section board.

여기서, 상기 나눔판은 상기 히팅 챔버의 천정으로부터 상기 셔터 모듈의 두께만큼 이격된 채 구비될 수 있다.Here, the partition may be spaced apart from the ceiling of the heating chamber by the thickness of the shutter module.

이상에서 살펴본 본 발명에 의하면, 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터 모듈을 구비함으로써, 노즐이 닫히는 동안 소스를 교체할 수 있다. According to the present invention described above, it is possible to replace the source while the nozzle is closed by providing the shutter module for selectively opening and closing the nozzle.

또한, 중앙 유로를 더 구비함으로써, 개방된 노즐의 위치와 관계없이 증착용 액체의 분사를 동일하게 유지할 수 있는 효과가 있다. Further, since the central flow path is further provided, there is an effect that the injection of the vapor-deposition liquid can be kept the same regardless of the position of the opened nozzle.

도 1은 증발기의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발기의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면형인 셔터 모듈의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 중앙 유로의 사시도이다.1 is a cross-sectional view of an evaporator.
2 is a cross-sectional view of an evaporator according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a shutter module in plan view according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a central passage according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 이때 도면에 도시되고 또 이것에 의해서 설명되는 본 발명의 구성과 작용은 적어도 하나의 실시예로서 설명되는 것이며, 이것에 의해서 본 발명의 기술적 사상과 그 핵심 구성 및 작용이 제한되지는 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. The structure and operation of the present invention shown in the drawings and described by the drawings are described as at least one embodiment, and the technical ideas and the core structure and operation of the present invention are not limited thereby.

본 발명에서는 둘 이상의 노즐을 택일적으로 개폐하는 셔터 모듈을 추가한 증발기를 제안한다. 이렇게 택일적으로 노즐을 개폐한 경우 적어도 하나의 노즐이 열려 있어서 가동을 유지할 수 있다. 또한 하나의 노즐이 열려 있을 때, 닫힌 노즐에 연결된 소스를 교체할 수 있다. 그러나 서로 다른 노즐로부터 증착용 액체가 분사되므로 증발기는 동일한 증착용 기체 공급상태를 유지하지 못한다. 노즐의 위치가 상이하여, 증착용 액체가 기화되는 위치가 달라지기 때문이다. 따라서 중앙 유로를 추가하여 증착용 액체가 동일한 위치에 분사될 수 있도록 구성하였다.The present invention proposes an evaporator to which a shutter module for selectively opening and closing two or more nozzles is added. In this case, when the nozzle is opened or closed, at least one nozzle is opened and the operation can be maintained. Also, when one nozzle is open, you can replace the source connected to the closed nozzle. However, since evaporation liquid is sprayed from different nozzles, the evaporator does not maintain the same evaporation gas supply state. The positions of the nozzles are different from each other, and the vaporization position of the vapor-depositing liquid varies. Therefore, the central flow path is added so that the vaporizing liquid can be injected at the same position.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발기의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of an evaporator according to an embodiment of the present invention.

증발기는 2개 이상의 노즐(100, 102), 히팅 챔버(110), 셔터 모듈(200), 중앙 유로(400) 및 배기구(130)를 포함한다.The evaporator includes at least two nozzles 100 and 102, a heating chamber 110, a shutter module 200, a central flow passage 400 and an exhaust port 130.

노즐(100, 102)은 증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 증착용 액체를 분사한다. 노즐(100, 102)은 증착용 액체를 분사하기 위해 비활성 기체(예컨대 Noble Gas나 질소)를 증착용 액체의 운반체로 사용할 수 있다. 여기서 증착용 액체는 단위체(Monomer)일 수 있다. 둘 이상의 노즐(100, 102)은 서로 다른 소스와 연결되며, 동일한 종류의 증착용 액체를 분사한다. 노즐(100, 102)은 분사용 열선(106)을 더 구비하여 증착용 액체가 굳어서 노즐(100, 102)을 막는 것을 방지할 수 있다. 노즐(100, 102)은 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 셔터 모듈(200)로 막은 상태에서 다음 노즐(100, 102)이 분사할 수 있다. 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 소스와 노즐(100, 102)의 연결이 탈착식으로 구성될 수 있다. The nozzles 100 and 102 are connected to a source for storing the evaporation liquid to eject the evaporation liquid. The nozzles 100 and 102 may use an inert gas (for example, Noble gas or nitrogen) as a carrier of the vapor deposition liquid to inject the vapor deposition liquid. Here, the liquid for vapor deposition may be a monomer. Two or more nozzles 100, 102 are connected to different sources and inject the same kind of vapor deposition liquid. The nozzles 100 and 102 may further include a hot wire 106 for distributing the hot water to prevent the nozzles 100 and 102 from clogging due to the hardening of the evaporation liquid. The nozzles 100 and 102 may spray the evaporation liquid until all the evaporation liquid is consumed and then the next nozzles 100 and 102 may be sprayed with the shutter module 200 blocked. The source exhausted from the sources 100 and 102 can be detachably connected so that the exhausted source is replaced while the next source is ejected.

히팅 챔버(110)는 고열로 달궈진 반응로로서, 노즐(100, 102)에서 분사되는 증착용 액체를 기화시키는 역할을 한다. 히팅 챔버(110) 내부는 기화된 증착용 액체와 증착용 액체의 운반체인 비활성 기체로 채워져 있으며, 이들은 가열되면서 노즐(100, 102)로부터 주입되는 증착용 액체 및 비활성 기체로 인해 배기구(130)로 빠져나간다. 히팅 챔버(110)는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator; 114)를 더 구비할 수 있다. 물론, 내부의 압력은 노즐(100, 102)의 분사속도를 제어하여 조절된다.The heating chamber 110 is a high-temperature reaction furnace and serves to vaporize the vapor deposition liquid sprayed from the nozzles 100 and 102. The inside of the heating chamber 110 is filled with a vaporized vapor deposition liquid and an inert gas which is a carrier of the vapor deposition liquid. The vaporization liquid and the inert gas injected from the nozzles 100 and 102 while being heated, I get out. The heating chamber 110 may further include a pressure indicator 114 for measuring an internal pressure. Of course, the internal pressure is controlled by controlling the injection speed of the nozzles 100, 102.

셔터 모듈(200)은 본 발명의 핵심이 되는 구성요소로서, 2개 이상의 노즐(100, 102)을 택일적으로 열고 닫는 역할을 한다. 셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 고정하는 고정수단(220) 및 셔터(210)와 고정수단(220)을 일방으로 움직이는 이송수단(230)을 포함할 수 있다.The shutter module 200 serves as a key element of the present invention and serves to open and close two or more nozzles 100 and 102 alternatively. The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a fixing means 220 for fixing the shutter 210, a conveying means for moving the shutter 210 and the fixing means 220 in one direction 230).

셔터(210)는 하나 이상의 구멍을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단(220)과 연결될 수 있다. The shutter 210 is in the form of a thin sheet having one or more holes and may be connected to the fixing means 220 on one side.

고정수단(220)은 셔터(210)의 일측과 일단이 연결되어 셔터(210)와 함께 움직이는 중심 샤프트(221), 중심 샤프트(221)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버(110)의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실(226), 벨로우 실(226)의 양측에 고정되며 중심 샤프트(221)와 평행하게 구비된 사이드 샤프트(222), 사이드 샤프트(222)에 관통되어 사이드 샤프트(222)를 따라 움직이는 리니어 부쉬(224), 중심 샤프트(221)의 타단 및 리니어 부쉬(224)와 연결되고 사이드 샤프트(222)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트(228)를 포함할 수 있다.The fixing means 220 includes a center shaft 221 which is connected to one side of the shutter 210 so as to move together with the shutter 210 and a center shaft 221 which penetrates through the center shaft 221 so that the center shaft 221 moves only in the through direction A side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226 and is provided in parallel with the center shaft 221, a side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226, A linear bushing 224 penetrating through the shaft 222 and moving along the side shaft 222, a center shaft 221 connected to the other end of the center shaft 221 and the linear bush 224, And a moving plate 228 that is fixed to move without rotating.

이송수단(230)은 고정수단(220)과 연결되어 고정수단(220)을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트(232), 실린더 플레이트(232)를 관통하여 고정수단(220)을 움직이는 실린더(234)를 포함할 수 있다.The conveying means 230 includes a cylinder plate 232 connected to the fixing means 220 for fixing and moving the fixing means 220, a cylinder 234 for moving the fixing means 220 through the cylinder plate 232 .

중앙 유로(400)는 히팅 챔버(110)의 천장에 부착되어 노즐(100, 102)로부터 나온 증착용 기체가 히팅 챔버(110)의 천장 한 가운데에서 분사되도록 유로를 제공한다. 노즐(100, 102)이 복수 개가 됨에 따라 증착용 액체가 나오는 위치가 상이하게 된다. 따라서 증착용 액체가 기화되는 위치가 달라진다. 이는 히팅 챔버(110)에서 생성되는 증착용 기체의 분압이 일정하지 않다는 것을 의미한다. 이를 보완하기 위하여 노즐(100, 102)의 끝에서 히팅 챔버(110)의 천장 중앙으로 중앙 유로(400)를 구비하여 노즐(100, 102)로부터 분사되는 증착용 액체의 분사 위치를 일정하게 유지할 수 있다.The central passage 400 is attached to the ceiling of the heating chamber 110 to provide a flow path so that the evaporation gas from the nozzles 100 and 102 is injected in the center of the ceiling of the heating chamber 110. As the number of the nozzles 100, 102 is increased, the position where the vapor-depositing liquid exits becomes different. Therefore, the vaporization liquid is vaporized at different positions. This means that the partial pressure of the vapor deposition gas generated in the heating chamber 110 is not constant. In order to compensate for this, a central flow passage 400 is provided from the end of the nozzles 100 and 102 to the center of the ceiling of the heating chamber 110 so as to keep the spraying position of the vaporizing liquid sprayed from the nozzles 100 and 102 constant have.

중앙 유로(400)는 둘 이상의 노즐(100, 102)에 입구가 각각 연결되며, 히팅 챔버(110)의 천정 중앙에 출구가 구비될 수 있다. 이때 중앙 유로(400)는 서로 다른 노즐(100, 102)로부터 출구에 이르는 공간을 각각 별개로 구비할 수 있다. 이 공간은 동일한 형태와 부피를 갖는 것이 바람직하다. 다시 말해서 입구와 출구를 잇는 경로와 또 다른 입구와 또 다른 출구를 잇는 경로를 동일한 형태가 되도록 경로 사이에 나눔판을 구비하여 공간을 구분할 수 있다. 셔터 모듈(200)은 나눔판과 히팅 챔버(110)의 천정 사이에서 움직일 수 있어야 한다. 따라서 나눔판은 히팅 챔버(110)의 천정으로부터 셔터 모듈(200)의 두께만큼 이격된 채 구비되어야 한다.The central passage 400 is connected to two or more nozzles 100 and 102, respectively, and an outlet may be provided at the center of the ceiling of the heating chamber 110. At this time, the central passage 400 may have separate spaces from the different nozzles 100 and 102 to the outlet. It is preferable that this space has the same shape and volume. In other words, the spaces between the paths connecting the entrance and the exit and the path connecting another entrance and another exit can be divided into spaces by providing a partition between the paths. The shutter module 200 must be movable between the net and the ceiling of the heating chamber 110. Therefore, the partition plate must be spaced apart from the ceiling of the heating chamber 110 by the thickness of the shutter module 200.

나눔판은 내부에 증착용 액체가 굳는 것을 막기 위하여 나눔판용 열선을 추가로 구비할 수 있다.The bookbinding plate may further include a heat line for the heat-dissipating plate to prevent the vaporizing liquid from solidifying therein.

배기구(130)는 기화된 증착용 액체가 증착을 위해 히팅 챔버(110)에서 빠져나가는 경로이다. 배기구(130)에서 증착용 액체가 액화되거나 굳는 것을 막기 위해 배기용 열선(112)이 추가로 구비될 수 있다.The exhaust port 130 is a path through which vaporized vapor deposition liquid escapes from the heating chamber 110 for deposition. The exhaust heat line 112 may be additionally provided to prevent the vaporizing liquid from liquefying or solidifying at the exhaust port 130.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면형인 셔터 모듈의 사시도이다.3 is a perspective view of a shutter module in plan view according to an embodiment of the present invention.

셔터 모듈(200)은 노즐(100, 102)을 개폐하는 셔터(210), 셔터(210)를 고정하는 고정수단(220) 및 셔터(210)와 고정수단(220)을 일방으로 움직이는 이송수단(230)을 포함할 수 있다.The shutter module 200 includes a shutter 210 for opening and closing the nozzles 100 and 102, a fixing means 220 for fixing the shutter 210, a conveying means for moving the shutter 210 and the fixing means 220 in one direction 230).

셔터(210)는 하나 이상의 개폐용 구멍(215)을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단(220)과 연결될 수 있다. 개폐용 구멍(215)은 노즐(100, 102)을 여는 역할을 하며, 셔터(210)가 일측으로 움직이면서 노즐(100, 102)에 개폐용 구멍(215)이 위치하면 개폐용 구멍(215)이 위치한 제2노즐(102)이 열리게 된다. 따라서, 셔터(210)의 크기가 한정되어 있으므로 셔터(210)의 말단을 벗어난 위치에 제1노즐(100)이 위치하면 열리게 된다. 따라서 (a)와 같이 셔터(210)의 말단 안쪽에 제1노즐(100)이 위치할 때 제1노즐(100)은 닫히게 되며, 제2노즐(102)은 이때 개폐용 구멍(215)에 위치하여 열리게 된다. 반대로, 셔터(210)의 말단을 벗어난 위치에 제1노즐(100)이 위치하면 제1노즐(100)은 열리게 되며 제2노즐(102)은 개폐용 구멍(215)을 벗어난 곳에 위치하므로 닫히게 된다.The shutter 210 is in the form of a thin sheet having one or more opening and closing holes 215 and may be connected to the fixing means 220 on one side. The opening and closing holes 215 serve to open the nozzles 100 and 102. When the opening and closing holes 215 are located in the nozzles 100 and 102 while the shutter 210 moves to one side, The second nozzle 102 positioned is opened. Accordingly, since the size of the shutter 210 is limited, when the first nozzle 100 is located at a position away from the end of the shutter 210, the shutter 210 is opened. Therefore, when the first nozzle 100 is positioned inside the distal end of the shutter 210, the first nozzle 100 is closed, and the second nozzle 102 is positioned at the opening 215 . On the contrary, when the first nozzle 100 is positioned at a position away from the end of the shutter 210, the first nozzle 100 is opened and the second nozzle 102 is located outside the opening 215 so that the second nozzle 102 is closed .

이렇게 셔터 모듈(200)의 한가지 동작으로 두 노즐(100, 102)을 택일적으로 닫을 수 있다. 물론 셔터(210)의 개폐용 구멍(215)을 키우거나 늘려서 셋 이상의 셔터(210)를 택일적으로 닫을 수 있다.In this manner, the two nozzles 100 and 102 can be selectively closed by one operation of the shutter module 200. Of course, three or more shutters 210 can be alternatively closed by increasing or decreasing the opening / closing holes 215 of the shutter 210.

고정수단(220)은 셔터(210)의 일측과 일단이 연결되어 셔터(210)와 함께 움직이는 중심 샤프트(221), 중심 샤프트(221)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버(110)의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실(226), 벨로우 실(226)의 양측에 고정되며 중심 샤프트(221)와 평행하게 구비된 사이드 샤프트(222), 사이드 샤프트(222)에 관통되어 사이드 샤프트(222)를 따라 움직이는 리니어 부쉬(224), 중심 샤프트(221)의 타단 및 리니어 부쉬(224)와 연결되고 사이드 샤프트(222)에 관통되어 중심 샤프트(221)가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트(228)를 포함할 수 있다. 중심 샤프트(221)는 벨로우 실(226)과 무빙 플레이트(228) 사이에서 신축성 있는 보호대로 쌓여서 윤활액이 오염되는 것을 막을 수 있다. 벨로우 실(226)과 사이드 샤프트(222)는 히팅 챔버(110)의 벽면에 고정되어 셔터 모듈(200)이 흔들리거나 회전하는 것을 막는다. 무빙 플레이트(228)는 리니어 부쉬(224)와 중심샤프트가 일직선상에 고정되도록 유지하며 이송수단(230)이 제공하는 힘을 고르게 전달하는 역할도 한다.The fixing means 220 includes a center shaft 221 which is connected to one side of the shutter 210 so as to move together with the shutter 210 and a center shaft 221 which penetrates through the center shaft 221 so that the center shaft 221 moves only in the through direction A side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226 and is provided in parallel with the center shaft 221, a side shaft 222 which is fixed to both sides of the bellows chamber 226, A linear bushing 224 penetrating through the shaft 222 and moving along the side shaft 222, a center shaft 221 connected to the other end of the center shaft 221 and the linear bush 224, And a moving plate 228 that is fixed to move without rotating. The center shaft 221 is stacked with a flexible protector between the bellows chamber 226 and the moving plate 228 to prevent contamination of the lubricant. The bellows chamber 226 and the side shaft 222 are fixed to the wall surface of the heating chamber 110 to prevent the shutter module 200 from shaking or rotating. The moving plate 228 keeps the linear bush 224 and the center shaft fixed in a straight line and also serves to uniformly transmit the force provided by the conveying means 230.

리니어 부쉬(224)는 이동간에 회전이 일어나는 것을 사이드 샤프트(222)에 의지하여 견디며 무빙 플레이트(228) 및 셔터(210)가 동일 평면상을 움직이도록 한다. 리니어 부쉬(224)는 사이드 샤프트(222)를 따라서 무빙 플레이트(228)와 함께 이동한다. 또한 리니어 부쉬(224)는 일정 길이만큼 사이드 샤프트(222)를 감싸는 구조로서, 무빙 플레이트(228)가 기울게 되었을 때 반대 방향으로 토크를 생성하여 이에 저항하는 역할을 한다.The linear bushing 224 rests against the side shaft 222 that rotation occurs between movements and moves the moving plate 228 and the shutter 210 on the same plane. The linear bush 224 moves along with the moving plate 228 along the side shaft 222. In addition, the linear bush 224 has a structure that surrounds the side shaft 222 by a predetermined length, and functions to resist and generate a torque in the opposite direction when the moving plate 228 is inclined.

이송수단(230)은 고정수단(220)과 연결되어 고정수단(220)을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트(232), 실린더 플레이트(232)를 관통하여 고정수단(220)을 움직이는 실린더(234)를 포함할 수 있다.The conveying means 230 includes a cylinder plate 232 connected to the fixing means 220 for fixing and moving the fixing means 220, a cylinder 234 for moving the fixing means 220 through the cylinder plate 232 .

실린더 플레이트(232)는 실린더(234)가 정해진 길을 움직일 수 있는 경로를 제시하며, 무빙 플레이트(228)가 움직일 수 있는 한계점의 역할을 한다. 무빙 플레이트(228)는 사이드 샤프트(222)가 관통할 수 있는 구멍을 구비하며, 실린더 플레이트(232)는 실린더(234)가 관통할 수 있는 구멍을 구비한다.The cylinder plate 232 presents a path through which the cylinder 234 can move in a predetermined path, and serves as a limit to which the moving plate 228 can move. The moving plate 228 has an opening through which the side shaft 222 can pass, and the cylinder plate 232 has a hole through which the cylinder 234 can pass.

실린더(234)는 외부의 동력원으로부터 실린더 플레이트(232)를 관통하는 과정에서 직선운동이 강제되므로 정밀한 운동을 필요로 하지는 않는다. 따라서 실린더(234)의 타측이 캠축과 같이 회전운동을 정교하지 않은 직선운동으로 바꿔주는 수단과 연결되어도 무방하다. 실린더 플레이트(232)및 고정수단(220)이 회전 및 기울어짐을 방지하기 때문이다.The cylinder 234 is forced to linearly move in the course of penetrating the cylinder plate 232 from an external power source, so that precise movement is not required. Therefore, the other side of the cylinder 234 may be connected to a means for converting the rotational motion to a non-precise linear motion like the camshaft. This is because the cylinder plate 232 and the fixing means 220 are prevented from rotating and tilting.

(a)는 노즐(100, 102) 중 제1노즐(100)은 개방하고 제2노즐(102)을 폐쇄한 상태를 나타낸 셔터 모듈(200)의 사시도이다. 셔터 모듈(200)이 접혀 있는 경우 제1노즐(100)은 셔터(210)와 떨어져 있기 때문에 셔터(210)에 가려지지 않는다.(a) is a perspective view of the shutter module 200 showing a state in which the first nozzle 100 of the nozzles 100 and 102 is opened and the second nozzle 102 is closed. When the shutter module 200 is folded, the first nozzle 100 is not covered by the shutter 210 because the first nozzle 100 is away from the shutter 210.

(b)는 노즐(100, 102) 중 제1노즐(100)은 폐쇄하고 제2노즐(102)은 개방한 상태를 나타낸 셔터 모듈(200)의 사시도이다. 셔터 모듈(200)이 뻗은 경우 제1노즐(100)의 출구까지 셔터(210)가 이동하기 때문에 셔터(210)에 가려진다. 따라서 제1노즐(100)이 폐쇄된다. 그러나 제2노즐(102)의 출구에 개폐용 구멍(215)이 이동하기 때문에 제2노즐(102)의 출구가 열린다. 따라서 제2노즐(102)은 개방된다.(b) is a perspective view of the shutter module 200 showing a state in which the first nozzle 100 of the nozzles 100 and 102 is closed and the second nozzle 102 is opened. When the shutter module 200 is extended, it is covered by the shutter 210 because the shutter 210 moves to the exit of the first nozzle 100. Thus, the first nozzle 100 is closed. However, since the opening / closing hole 215 moves to the outlet of the second nozzle 102, the outlet of the second nozzle 102 is opened. Thus, the second nozzle 102 is opened.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 중앙 유로의 사시도이다.4 is a perspective view of a central passage according to an embodiment of the present invention.

중앙 유로(400)는 히팅 챔버(110)의 천장에 부착되어 노즐(100, 102)로부터 나온 증착용 기체가 히팅 챔버(110)의 천장 한 가운데에서 분사되도록 유로를 제공한다. 노즐(100, 102)이 복수 개가 됨에 따라 증착용 액체가 나오는 위치가 상이하게 된다. 따라서 증착용 액체가 기화되는 위치가 달라진다. 이는 히팅 챔버(110)에서 생성되는 증착용 기체의 분압이 일정하지 않다는 것을 의미한다. 이를 보완하기 위하여 노즐(100, 102)의 끝에서 히팅 챔버(110)의 천장 중앙으로 중앙 유로(400)를 구비하여 노즐(100, 102)로부터 분사되는 증착용 액체의 분사 위치를 일정하게 유지할 수 있다.The central passage 400 is attached to the ceiling of the heating chamber 110 to provide a flow path so that the evaporation gas from the nozzles 100 and 102 is injected in the center of the ceiling of the heating chamber 110. As the number of the nozzles 100, 102 is increased, the position where the vapor-depositing liquid exits becomes different. Therefore, the vaporization liquid is vaporized at different positions. This means that the partial pressure of the vapor deposition gas generated in the heating chamber 110 is not constant. In order to compensate for this, a central flow passage 400 is provided from the end of the nozzles 100 and 102 to the center of the ceiling of the heating chamber 110 so as to keep the spraying position of the vaporizing liquid sprayed from the nozzles 100 and 102 constant have.

중앙 유로(400)는 둘 이상의 노즐(100, 102)에 입구가 각각 연결되며, 히팅 챔버(110)의 천정 중앙에 출구(420)가 구비될 수 있다. 이때 중앙 유로(400)는 서로 다른 노즐(100, 102)로부터 출구(420)에 이르는 공간(430)을 각각 별개로 구비할 수 있다. 이 공간(430)은 동일한 형태와 부피를 갖는 것이 바람직하다. 증착용 기체 또는 액체가 동일한 경로를 거쳐서 분사되도록 하기 위해서이다. 다시 말해서 입구와 출구(420)를 잇는 경로와 또 다른 입구와 또 다른 출구(420)를 잇는 경로를 동일한 형태가 되도록 경로 사이에 나눔판(410)을 구비하여 공간(430)을 구분할 수 있다. 셔터 모듈(200)은 나눔판(410)과 히팅 챔버(110)의 천정 사이에서 움직일 수 있어야 한다. 따라서 나눔판(410)은 히팅 챔버(110)의 천정으로부터 셔터 모듈(200)의 두께만큼 이격된 채 구비되어야 한다.The center channel 400 is connected to two or more nozzles 100 and 102 and the outlet 420 may be provided at the center of the ceiling of the heating chamber 110. At this time, the central flow path 400 may include a space 430 extending from the different nozzles 100 and 102 to the outlet 420, respectively. It is preferable that the space 430 has the same shape and volume. So that the vaporizing gas or liquid is sprayed through the same path. In other words, the space 430 can be divided by providing the spreading plate 410 between the paths connecting the entrance and the exit 420 and the path connecting another entrance and the exit 420. The shutter module 200 must be movable between the partition plate 410 and the ceiling of the heating chamber 110. [ Therefore, the partition plate 410 should be spaced apart from the ceiling of the heating chamber 110 by the thickness of the shutter module 200.

나눔판(410)은 내부에 증착용 액체가 굳는 것을 막기 위하여 나눔판용 열선(미도시)을 추가로 구비할 수 있다.The partition plate 410 may further include a heat ray (not shown) for preventing the evaporation of the evaporation liquid inside.

전술한 바와 같이 하나의 동작으로 두 노즐(100, 102)을 택일적으로 개폐할 수 있는 수단이 구비되면, 노즐(100, 102) 하나에 연결된 소스가 모두 소모되었을 때 소모된 소스의 노즐(100, 102)을 막고 다른 노즐(100, 102)을 열 수 있다. 폐쇄된 노즐(100, 102)은 소스가 연결되지 않아도 무방하므로 소스를 교체할 수 있다. 다시 말해서 단순하고 간단한 구성요소와 동작을 추가하여 공정의 중단없이 소스를 교체할 수 있다.As described above, when the means for selectively opening and closing the two nozzles 100 and 102 are provided by one operation, when the source connected to one of the nozzles 100 and 102 is exhausted, , 102, and open the other nozzles 100, 102. Closed nozzles 100 and 102 can be replaced because the source is not connected. In other words, you can replace the source without interruption by adding simple and simple components and operations.

또한, 중앙 유로(400)를 구비하여 어떠한 노즐(100, 102)이 개폐된다 하더라도 증착용 기체가 동일한 위치에 분사되기 때문에 증착용 기체를 동일한 조건으로 가열하여 공급할 수 있다.In addition, since the vaporizing gas is injected at the same position regardless of which nozzle 100 or 102 is opened or closed with the central flow passage 400, the vaporizing gas can be heated and supplied under the same conditions.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, Modification is possible.

따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명의 사상적 범주에 속한다.Accordingly, it is intended that the scope of the invention be defined solely by the claims appended hereto, and that all equivalents or equivalent variations thereof fall within the spirit and scope of the invention.

100: 제1노즐 102: 제2노즐
106: 분사용 열선 112: 배기용 열선
114: 압력 지시기 200: 셔터 모듈
210: 셔터 215: 개폐용 구멍
220: 고정수단 221: 중심 샤프트
222: 사이드 샤프트 224: 리니어 부쉬
226: 벨로우 실 228: 무빙 플레이트
230: 이송수단 232: 실린더 플레이트
234: 실린더 400: 중앙 유로
410: 나눔판 420: 출구
430: 공간100: first nozzle 102: second nozzle
106: Minute use heat line 112: Heat exhaust line
114: pressure indicator 200: shutter module
210: shutter 215: opening / closing hole
220: fixing means 221: center shaft
222: Side shaft 224: Linear Bushing
226: bellows seal 228: moving plate
230: transfer means 232: cylinder plate
234: cylinder 400: central flow path
410: Drawing 420: exit
430: Space

Claims (15)

증착용 액체를 보관하는 소스에 연결되어 상기 증착용 액체를 분사하는 적어도 2개 이상의 노즐;
상기 노즐로부터 분사된 상기 증착용 액체를 가열하여 증착용 기체로 증발시키는 히팅 챔버;
상기 히팅 챔버의 일측에 구비되고 상기 노즐 중 어느 하나만을 열리도록 제어하는 셔터 모듈;
상기 증착용 기체가 상기 히팅 챔버의 천장 한 가운데에서 분사되도록 상기 히팅 챔버의 천장에 부착되어 유로를 제공하는 중앙 유로 및
상기 증착용 기체를 상기 히팅 챔버의 외부로 배출하는 배기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.At least two or more nozzles connected to a source for storing the vapor-depositing liquid to spray the vapor-depositing liquid;
A heating chamber for heating the vapor deposition liquid sprayed from the nozzle to evaporate the vapor deposition liquid into a vapor deposition gas;
A shutter module provided at one side of the heating chamber and controlling only one of the nozzles to be opened;
A center flow path attached to a ceiling of the heating chamber to provide a flow path so that the evaporation donor substrate is injected in the center of the ceiling of the heating chamber,
And an exhaust port for discharging the evaporation gas to the outside of the heating chamber. 제1항에 있어서,
상기 셔터 모듈은 상기 노즐을 개폐하는 셔터;
상기 셔터를 고정하는 고정수단; 및
상기 셔터와 상기 고정수단을 일방으로 움직이는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the shutter module comprises: a shutter for opening and closing the nozzle;
Fixing means for fixing the shutter; And
And a conveying means for moving the shutter and the fixing means in one direction. 제2항에 있어서,
상기 셔터는 하나 이상의 개폐용 구멍을 가진 얇은 면(Sheet) 형태이고 일측이 고정수단과 연결된 것을 특징으로 하는 증발기.3. The method of claim 2,
Wherein the shutter is in the form of a thin sheet having at least one opening and closing hole and one side is connected to the fixing means. 제2항에 있어서,
상기 고정수단은
상기 셔터의 일측과 일단이 연결되어 상기 셔터와 함께 움직이는 중심 샤프트;
상기 중심 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 관통방향으로만 움직이도록 고정하고, 움직이는 동안 히팅 챔버의 진공이 유지되도록 밀폐하는 벨로우 실;
상기 벨로우 실의 양측에 고정되며 상기 중심 샤프트와 평행하게 구비된 사이드 샤프트;
상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 사이드 샤프트를 따라 움직이는 리니어 부쉬;
상기 중심 샤프트의 타단 및 상기 리니어 부쉬와 연결되고 상기 사이드 샤프트에 관통되어 상기 중심 샤프트가 회전하지 않은 채 움직이도록 고정하는 무빙 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.3. The method of claim 2,
The fixing means
A center shaft connected to one end of the shutter and moving together with the shutter;
A bellows seal penetrating the center shaft to fix the center shaft so as to move only in a penetrating direction and to seal the heating chamber while maintaining a vacuum while moving;
A side shaft fixed to both sides of the bellows chamber and disposed parallel to the center shaft;
A linear bushing penetrating through the side shafts and moving along the side shafts;
And a moving plate connected to the other end of the center shaft and to the linear bushing and penetrating the side shaft to fix the center shaft so as to move without rotating. 제2항에 있어서,
상기 이송수단은
상기 고정수단과 연결되어 상기 고정수단을 고정하여 이동시키는 실린더 플레이트;
상기 실린더 플레이트를 관통하고 상기 고정수단을 움직이는 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 증발기.3. The method of claim 2,
The conveying means
A cylinder plate connected to the fixing means for fixing and moving the fixing means;
And a cylinder penetrating the cylinder plate and moving the fixing means. 제1항에 있어서,
상기 노즐은 상기 증착용 액체가 모두 소진될 때까지 상기 증착용 액체를 분사하고, 소진된 후에 상기 셔터로 막은 상태에서 다음 노즐이 분사하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the nozzle injects the vapor-deposition liquid until the evaporation-use liquid is exhausted, and the next nozzle is ejected in a state that the evaporation-use liquid is exhausted after the exhaustion of the evaporation-use liquid. 제1항에 있어서,
상기 소스 중 모두 소진된 소스는 다음 소스가 분사되는 동안 교체되도록 상기 소스와 상기 노즐의 연결이 탈착식으로 구성되는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the connection of the source and the nozzle is detachably configured so that the exhausted source of all of the sources is replaced while the next source is being injected. 제1항에 있어서,
상기 히팅 챔버는 내부의 압력을 측정하는 압력 지시기(Pressure Indicator)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the heating chamber further comprises a pressure indicator for measuring an internal pressure of the evaporator. 제1항에 있어서,
상기 노즐은 분사용 열선을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the nozzle further comprises a dispensing hot wire. 제1항에 있어서,
상기 중앙 유로는 둘 이상의 상기 노즐에 입구가 각각 연결된 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the central passage is connected to at least two of the nozzles. 제1항에 있어서,
상기 중앙 유로는 상기 히팅 챔버의 천정 중앙에 출구가 구비되는 것을 특징으로 하는 증발기.The method according to claim 1,
Wherein the central passage has an outlet at the center of the ceiling of the heating chamber. 제11항에 있어서,
상기 중앙 유로는 서로 다른 노즐로부터 상기 출구에 이르는 둘 이상의 공간을 구비하는 것을 특징으로 하는 증발기.12. The method of claim 11,
Wherein the central passage has two or more spaces from different nozzles to the outlet. 제12항에 있어서,
상기 공간은 동일한 형태와 부피를 갖는 것을 특징으로 하는 증발기.13. The method of claim 12,
Wherein said space has the same shape and volume. 제13항에 있어서,
상기 공간은 나눔판으로 구분되는 것을 특징으로 하는 증발기.14. The method of claim 13,
And the space is divided into a partition plate. 제14항에 있어서,
상기 나눔판은 상기 히팅 챔버의 천정으로부터 상기 셔터 모듈의 두께만큼 이격된 채 구비된 것을 특징으로 하는 증발기.

15. The method of claim 14,
Wherein the partition plate is spaced apart from the ceiling of the heating chamber by a thickness of the shutter module.

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