KR102062607B1 - Apparatus and Method for Supplying Chemical Solution by Using Sense - Google Patents

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Abstract

약액 공급 장치는 약액을 저장하고 일측에 약액의 잔량을 감지하는 센서가 형성된 하나 이상의 약액 저장 용기; 약액 저장 용기와 연결되어 약액을 흡입하여 배출하는 약액 펌프; 약액 펌프와 연결되어 약액을 공급받아 저장하고, 저장된 약액을 글라스 위에 약액을 분사하는 노즐측으로 배출하며, 약액 수위에 따라 상기 약액 펌프를 구동시키는 버퍼 탱크; 및
약액 저장 용기의 센서의 온오프 동작에 따라 약액의 잔류량을 감지하고 약액 저장 용기의 교체 시점을 판단하여 약액 저장 용기, 트랩 탱크, 약액 펌프 및 버퍼 탱크 중 어느 하나 이상의 장치를 제어하여 약액의 공급, 중단 및 상기 약액 저장 용기의 교체를 제어하는 제어부를 포함한다.
본 발명은 약액 저장 용기의 하부에 위치한 하부 센서, 약액 펌프 및 질소 가스 공급 장치를 이용하여 약액 저장 용기가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지할 수 있으므로 반도체 소자의 불량을 방지하는 효과가 있다.The chemical liquid supply apparatus may include one or more chemical liquid storage containers configured to store a chemical liquid and detect a residual amount of the chemical liquid on one side thereof; A chemical liquid pump connected to the chemical liquid storage container to suck and discharge the chemical liquid; A buffer tank connected to the chemical liquid pump to receive and store the chemical liquid, and discharge the stored chemical liquid to the nozzle side for injecting the chemical liquid onto the glass, and driving the chemical liquid pump according to the chemical liquid level; And
Detects the remaining amount of the chemical liquid according to the on-off operation of the sensor of the chemical liquid storage container and determines the time of replacement of the chemical liquid storage container to control any one or more devices of the chemical liquid storage container, the trap tank, the chemical liquid pump and the buffer tank to supply the chemical liquid, And a control unit for stopping and replacing the chemical storage container.
The present invention can prevent the inflow of the air in the pipe at the time when the chemical liquid storage container is replaced by using the lower sensor, the chemical pump and the nitrogen gas supply device located in the lower portion of the chemical liquid storage container to prevent the defect of the semiconductor device There is.

Description

센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법{Apparatus and Method for Supplying Chemical Solution by Using Sense}Apparatus and Method for Supplying Chemical Solution by Using Sense}

본 발명은 약액 공급 장치로서, 특히 약액 저장 용기의 센서를 이용하여 약액 저장 용기가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지하는 센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid supply apparatus, and more particularly, to a chemical liquid supply apparatus and a method using a sensor that prevents the inflow of air into a pipe at the time when the chemical liquid storage container is replaced using the sensor of the chemical liquid storage container.

일반적으로 반도체 소자는 웨이퍼 상에 사진, 식각, 확산, 화학 기상 증착, 이온 주입 및 금속 증착 등의 공정을 반복적이고 선택적으로 수행하여 회로 패턴을 형성하여 이루어진다.In general, a semiconductor device is formed by repeatedly and selectively performing a process such as photographing, etching, diffusion, chemical vapor deposition, ion implantation, and metal deposition on a wafer to form a circuit pattern.

반도체 장치를 이루기 위해 적층되는 막을 가공하는 방법 중 가장 대표적인 것이 패터닝 작업이다.Patterning is the most representative of the methods for processing the stacked films to form a semiconductor device.

이러한 패터닝 작업은 포토리소그래피와 에칭을 결합시켜 이루어진다.This patterning operation is accomplished by combining photolithography and etching.

포토리소그래피는 막 위에 포토 레지스트막을 도포하고 일정 패턴을 가진 포토 마스크를 위에 놓고 노광한 후, 다음 현상하여 포토 레지스트 패턴을 형성하는 작업으로 포토 마스크상의 미세한 패턴을 광화학적인 반응을 이용하여 포토 레지스트막에 전사하는 공정이다.In photolithography, a photoresist film is coated on a film, a photo mask having a predetermined pattern is placed on the film, exposed, and then developed to form a photoresist pattern. The fine pattern on the photo mask is applied to the photoresist film using a photochemical reaction. It is a process of transferring.

이때 형성된 포토 레지스트 패턴은 에칭 공정에서 에칭 마스크로 작용하게 된다.The photoresist pattern formed at this time acts as an etching mask in the etching process.

이러한 포토리소그래피 공정은 광화학적으로 가교화 반응 또는 광분해 반응을 일으키는 감광성 물질이 있기 때문에 가능한 것이다.This photolithography process is possible because there is a photosensitive material which photochemically causes a crosslinking reaction or a photolysis reaction.

반도체 장치에 도입되어 사용되는 대표적인 감광성 물질이 포토 레지스트이다.Representative photosensitive materials introduced and used in semiconductor devices are photoresists.

반도체 장치의 제조 공정에 사용되는 포토 레지스트는 일정한 노광을 통해 정밀한 패턴을 형성해야 하므로 노출되는 광에 대한 감도 즉, 반응이 일정해야 한다.Since the photoresist used in the manufacturing process of the semiconductor device must form a precise pattern through constant exposure, the sensitivity to the exposed light, that is, the reaction, must be constant.

이러한 일정한 감광성의 조건을 맞추기 위해서는 포토 레지스트의 제조도 정밀한 주의를 요하는 공정을 통해서 이루어진다.In order to meet such constant photosensitive conditions, the production of photoresist is also performed through a process requiring close attention.

포토 레지스트의 도포를 담당하는 설비는 주로 스핀레스 코터(Spinless Coater)가 이용되고 있다. 포토 레지스트는 일반적으로 버틀(Bottle)형 저장 용기에 담겨 이동되고 설비에 장착된다. 저장 용기는 일반적으로 포토 레지스트를 저장하는 용기로 스텐인레스 스틸 드럼(Drum)을 많이 사용한다.Spinless Coater is mainly used for the equipment in charge of application of photoresist. The photoresist is typically moved in a bottle-type storage container and mounted on a facility. The storage container generally uses a stainless steel drum as a container for storing photoresist.

도 1은 종래 기술에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 일례를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an example of a photoresist supply apparatus according to the prior art.

저장 용기(12)와 중간 버퍼 탱크(14)는 케미컬 블록(10) 내에 구비된다. 케미컬 블록(10)은 웨이퍼에 대한 처리 공정이 진행되는 메인 코팅블록(20)과 일정 거리 이상 떨어져 있기 때문에 메인 코팅블록(20) 내의 처리 장치의 웨이퍼에 포토 레지스트가 공급되기 위해서 포토 레지스트 라인이 길어져야 한다. 여기서, 메인 코팅블록(20)은 웨이퍼의 이송이나 처리(예를 들면 포토 공정을 위한 장치가 구비되어 있는 블록을 나타내며 로봇암이나 웨이퍼 스테이지 등의 장치가 구비된다.The storage vessel 12 and the intermediate buffer tank 14 are provided in the chemical block 10. Since the chemical block 10 is separated from the main coating block 20 where the wafer processing process is performed by a predetermined distance or more, the photoresist line is long to supply the photoresist to the wafer of the processing apparatus in the main coating block 20. You must lose. Here, the main coating block 20 represents a block in which a device for transferring or processing a wafer (for example, a photo process) is provided, and a device such as a robot arm or a wafer stage is provided.

포토 레지스트 공급 장치는 메인 코팅블록(20)의 처리 장치의 가동을 위하여 저장 용기(12)에 질소(N2) 가스를 가압해서 하나의 중간 버퍼 탱크(14)까지 보낸다.The photoresist supply device pressurizes nitrogen (N 2 ) gas to the storage container 12 and sends it to one intermediate buffer tank 14 to operate the processing device of the main coating block 20.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 하나의 중간 버퍼 탱크(14)에 장착된 센서(16)에 의해 약액의 유무를 감지하여 스텐인레스 스틸 드럼이 체인지(Change) 되는 시점을 파악한다.As shown in FIG. 1, the conventional photoresist supply device detects the presence or absence of a chemical liquid by a sensor 16 mounted in one intermediate buffer tank 14 to determine a time point at which a stainless steel drum is changed. do.

종래의 포토 레지스트 장치는 중간 버퍼 탱크(14)에 설치된 센서(16)가 악액이 아닌 에어(Air)가 유입되어야 스텐인레스 스틸 드럼이 교체되는 시점을 판단한다.In the conventional photoresist device, the sensor 16 installed in the intermediate buffer tank 14 determines when a stainless steel drum is to be replaced when air is introduced rather than a cache liquid.

따라서, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 드럼이 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입이 발생하며 메인 코팅블록(20)의 처리 장치까지 에어 유입이 발생한다.Therefore, in the conventional photoresist supply apparatus, air inflow occurs in the pipe at the time of the drum replacement, and air inflow occurs to the processing device of the main coating block 20.

다시 말해, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 드럼이 교체되는 시점에 메인 코팅블록(20) 내의 글라스 위에 포토 레지스트를 코팅하는 노즐(22) 내부에 에어가 유입되며, 노즐(22)의 포토 레지스트의 토출시 에어에 의한 노즐(22)의 토출 압력 저하로 코팅 두께가 일정하지 않고 두께차가 발생한다.In other words, in the conventional photoresist supply apparatus, air flows into the nozzle 22 coating the photoresist on the glass in the main coating block 20 at the time when the drum is replaced, and the toss of the photoresist of the nozzle 22 is introduced. The coating thickness is not constant and a thickness difference occurs because the discharge pressure of the nozzle 22 caused by the released air decreases.

따라서, 글라스 내 포토 레지스트의 코팅 두께의 차이로 공정 에러 및 반도체 소자의 불량을 초래하여 버려지게 되므로 생산성 저하와 반도체 생산 비용이 증가되는 문제점이 발생하였다.Therefore, a process error and a defect of the semiconductor device are caused by the difference in the coating thickness of the photoresist in the glass, resulting in a decrease in productivity and an increase in semiconductor production cost.

도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 약액 저장 용기(12)에 0.2 Mpa 압력의 질소 가스를 상시 가압하는 방식으로 질소 가스의 압력에 의해 약액 저장 용기(12)의 내부 약액을 중간 버퍼 탱크(14)를 통해 메인 코팅블록(20)의 노즐(22)에 근접한 버퍼 탱크까지 공급하게 된다.As shown in FIG. 2, the conventional photoresist supply apparatus is configured to supply the internal chemical liquid of the chemical liquid storage container 12 by the pressure of the nitrogen gas in a manner of constantly pressurizing the nitrogen gas of 0.2 Mpa pressure to the chemical liquid storage container 12. The intermediate buffer tank 14 supplies the buffer tank close to the nozzle 22 of the main coating block 20.

따라서, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 약액 저장 용기(12)의 교체 시점에 질소 가스의 압력으로 인하여 약액 뿐만 아니라 에어의 유입에 취약한 구조적 문제점을 가지고 있다.Therefore, the conventional photoresist supply apparatus has a structural problem vulnerable to the inflow of not only the chemical liquid but also air due to the pressure of the nitrogen gas at the time of replacing the chemical liquid storage container 12.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 약액 저장 용기의 센서, 약액 펌프, 질소 가스 공급 장치를 이용하여 약액 저장 용기가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지하는 센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve the above problems, the present invention provides a chemical liquid supply apparatus using a sensor of the chemical liquid storage container, a chemical liquid pump, and a sensor which prevents the inflow of air into the pipe at the time when the chemical liquid storage container is replaced by using a nitrogen gas supply device. And to provide a method.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 특징에 따른 약액 공급 장치는 약액을 저장하고 일측에 약액의 잔량을 감지하는 센서가 형성된 하나 이상의 약액 저장 용기; 약액 저장 용기와 연결되어 약액을 흡입하여 배출하는 약액 펌프; 약액 펌프와 연결되어 약액을 공급받아 저장하고, 저장된 약액을 글라스 위에 약액을 분사하는 노즐측으로 배출하며, 약액 수위에 따라 상기 약액 펌프를 구동시키는 버퍼 탱크; 및In order to achieve the above object, the chemical liquid supply apparatus according to the characteristics of the present invention comprises at least one chemical storage container for storing the chemical liquid and a sensor for sensing the remaining amount of the chemical liquid on one side; A chemical liquid pump connected to the chemical liquid storage container to suck and discharge the chemical liquid; A buffer tank connected to the chemical liquid pump to receive and store the chemical liquid, and discharge the stored chemical liquid to the nozzle side for injecting the chemical liquid onto the glass, and driving the chemical liquid pump according to the chemical liquid level; And

약액 저장 용기의 센서의 온오프 동작에 따라 약액의 잔류량을 감지하고 약액 저장 용기의 교체 시점을 판단하여 약액 저장 용기, 트랩 탱크, 약액 펌프 및 버퍼 탱크 중 어느 하나 이상의 장치를 제어하여 약액의 공급, 중단 및 상기 약액 저장 용기의 교체를 제어하는 제어부를 포함한다.Detects the remaining amount of the chemical liquid according to the on-off operation of the sensor of the chemical liquid storage container and determines the time of replacement of the chemical liquid storage container to control any one or more devices of the chemical liquid storage container, the trap tank, the chemical liquid pump and the buffer tank to supply the chemical liquid, And a control unit for stopping and replacing the chemical storage container.

또한, 약액 저장 용기는 딥 튜브 하단 일측의 내부 통공에 약액이 채워져 있는 상태에서 교체되는 것을 특징으로 한다.In addition, the chemical storage container is characterized in that the chemical liquid is replaced in the state filled with the inner through-hole of the lower side of the dip tube.

약액 저장 용기의 외부 바닥면과 하부 센서 간의 거리는 0-20mm로 이격되어 있는 것을 특징으로 한다.The distance between the outer bottom surface of the chemical storage container and the lower sensor is characterized in that spaced apart 0-20mm.

본 발명의 특징에 따른 약액 공급 방법은 전술한 약액 저장 용기, 약액 펌프, 버퍼 탱크 및 제어부를 포함하는 약액 공급 장치로 구성되고, 약액 저장 용기는 제1 약액 저장 용기와 제2 약액 저장 용기로 이루어지며,The chemical liquid supplying method according to a feature of the present invention comprises a chemical liquid supply device including the chemical liquid storage container, the chemical liquid pump, a buffer tank, and a controller, and the chemical liquid storage container includes a first chemical liquid storage container and a second chemical liquid storage container. Lose,

제어부는 제1 약액 저장 용기에 설치된 센서에 의해 기설정된 약액 잔류량 미만을 감지하는 신호를 수신하는 단계; 및The control unit receives a signal for detecting less than the predetermined residual amount of the chemical liquid by a sensor installed in the first chemical storage container; And

제어부는 제1 약액 저장 용기의 약액 공급을 중단시키고 제2 약액 저장 용기의 약액 공급을 교체하고 약액 펌프의 구동에 의해 제2 약액 저장 용기의 약액을 상기 버퍼 탱크로 전송하는 단계를 포함한다.The control unit includes stopping the chemical liquid supply of the first chemical liquid storage container, replacing the chemical liquid supply of the second chemical liquid storage container, and transferring the chemical liquid of the second chemical liquid storage container to the buffer tank by driving the chemical liquid pump.

전술한 구성에 의하여, 본 발명은 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 하부 센서의 신호를 감지하여 약액의 잔류량 유무를 감지하고, 이에 따라 약액 저장 용기의 교체 시점을 판단하게 되므로 약액 사용량을 저감 및 최소화한다.By the above-described configuration, the present invention detects the residual amount of the chemical liquid by detecting the signal of the lower sensor at a specific position spaced apart from the lower surface of the chemical storage container by a certain distance, and thus determines the time of replacement of the chemical storage container Reduce and minimize the amount of chemicals used

본 발명은 저압의 질소 가스(0.01Mpa)를 약액 저장 용기로 공급하므로 질소 가스의 양을 줄일 수 있는 효과가 있다. The present invention is to supply a low pressure nitrogen gas (0.01Mpa) to the chemical storage container has the effect of reducing the amount of nitrogen gas.

본 발명은 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격되어 위치한 하부 센서, 약액 펌프, 질소 가스 공급 장치를 이용하여 약액 저장 용기가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지할 수 있으므로 반도체 소자의 불량을 방지하는 효과가 있다.The present invention can prevent the inflow of air into the pipe at the time when the chemical liquid storage container is replaced by using a lower sensor, a chemical pump, and a nitrogen gas supply device which are spaced apart from the lower surface of the chemical liquid storage container. It is effective in preventing defects.

본 발명은 약액 공급 장치에 기액 분리 탱크를 적용하여 약액 공급 장치에서 안정적인 약액 공급과 약액 저장 용기의 교체시 유입된 에어, 버블을 에어벤트를 통해 제거하며 약액 안정화 역할을 수행하는 효과가 있다.The present invention has the effect of applying a gas-liquid separation tank to the chemical liquid supply device to remove the air, bubbles introduced during the stable chemical liquid supply in the chemical liquid supply device and the replacement of the chemical liquid storage container through the air vent and to stabilize the chemical liquid.

도 1은 종래 기술에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 일례를 나타낸 도면이다.
도 2는 종래 기술에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 질소 가스의 공급 형태를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 버퍼 탱크에 일측에 형성된 센서를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기의 하부에 위치한 하부 센서의 동작 상태를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 센서를 약액 저장 용기에 부착된 모습을 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기를 나타낸 도면이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 실시예에 따른 질소 가스 공급 장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법을 나타낸 도면이다.1 is a view showing an example of a photoresist supply apparatus according to the prior art.
2 is a view showing a supply form of nitrogen gas in the photoresist supply apparatus according to the prior art.
3 is a view showing a chemical liquid supply apparatus and method using a sensor according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a sensor formed on one side in a buffer tank according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing the operating state of the lower sensor located in the lower portion of the chemical storage container according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing a state in which a sensor according to an embodiment of the present invention is attached to the chemical storage container.
7 is a view showing a chemical storage container according to an embodiment of the present invention.
8A and 8B are views illustrating a configuration of a nitrogen gas supply device according to an embodiment of the present invention.
9 is a view showing a chemical liquid supply apparatus and method using a sensor according to another embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.

전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In total, when a part is said to "include" a certain component, this means that it may further include other components, except to exclude other components unless specifically stated otherwise.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법을 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 버퍼 탱크에 일측에 형성된 센서를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기의 하부에 위치한 하부 센서의 동작 상태를 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 센서를 약액 저장 용기에 부착된 모습을 나타낸 도면이고, 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기를 나타낸 도면이다.Figure 3 is a view showing a chemical liquid supply apparatus and method using a sensor according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a view showing a sensor formed on one side in the buffer tank according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is the present invention FIG. 6 is a view illustrating an operation state of a lower sensor disposed below a chemical storage container according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a view illustrating a state in which a sensor according to an embodiment of the present invention is attached to a chemical storage container, and FIG. A diagram showing a chemical storage container according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 센서를 이용한 약액 공급 장치는 질소 가스 공급 장치(170), 약액 저장 용기 A(100a), 약액 저장 용기 B(100b)와, 트랩 탱크(Trap Tank) A(200a), 트랩 탱크 B(200b), 약액 펌프(220), 버퍼 탱크(Buffer Tank)(300), 벨로우즈 펌프(Bellows Pump)(400), 정량 토출 펌프(500) 및 노즐(600)을 포함한다. 이외에 제어부(미도시)는 약액 공급 장치의 일측에 설치되고 약액 공급 장치의 각 구성 장치와 연결되어 각 구성 장치의 제어 신호를 송수신하며 이에 따른 약액의 공급과 차단 및 약액 저장 용기의 교체를 제어한다.Chemical liquid supply apparatus using a sensor according to an embodiment of the present invention is nitrogen gas supply device 170, chemical liquid storage container A (100a), chemical liquid storage container B (100b), trap tank (Trap Tank) A (200a), A trap tank B 200b, a chemical pump 220, a buffer tank 300, a bellows pump 400, a metered discharge pump 500, and a nozzle 600 are included. In addition, the control unit (not shown) is installed on one side of the chemical liquid supply device and is connected to each component of the chemical liquid supply device to transmit and receive control signals of each component, thereby controlling the supply and blocking of the chemical liquid and replacement of the chemical liquid storage container. .

질소 가스 공급 장치(170)는 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)의 내부 압력을 0.01Mpa로 유지하도록 일정 압력의 질소 가스를 공급한다.The nitrogen gas supply device 170 supplies nitrogen gas at a constant pressure to maintain the internal pressure of the chemical liquid storage container A 100a or the chemical liquid storage container B 100b at 0.01 Mpa.

질소 가스 공급 장치(170)는 N2 밸브(Valve)(172), N2 3Way 밸브(174), N2 콘트롤러(176), 레귤레이터(178)를 포함하며 이하의 도 8에서 상세한 설명을 한다.The nitrogen gas supply device 170 includes an N2 valve 172, an N2 3Way valve 174, an N2 controller 176, and a regulator 178 and will be described in detail with reference to FIG. 8 below.

약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)는 폴리에틸렌으로 이루어지진 폐쇄된 용기로서, 포토 레지스트를 저장하는 200L PE(Polyathylen) Drum을 나타낸것으로 이에 한정하지 않고, 포토 레지스트 이외의 다양한 약물의 저장 용기를 포함한다.The chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) are closed containers made of polyethylene, and represent a 200L PE (Polyathylen) drum for storing photoresist, but not limited thereto. It includes a storage container of.

본 발명의 질소 가스 공급 장치(170)는 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 내부 용적을 펴주는 퍼지(Purge) 기능을 위해 저압의 질소 가스(0.01Mpa)를 사용한다.Nitrogen gas supply device 170 of the present invention uses a low pressure nitrogen gas (0.01Mpa) for the purge (Purge) function to expand the internal volume of the chemical liquid storage container A (100a) and chemical liquid storage container B (100b). .

여기서, 저압의 질소 가스(0.01Mpa)는 폴리에틸렌의 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)가 압력으로 인해 내부의 면적이 줄어드는 경우, 내부 용적을 다시 펴주는 기능을 하는 것이다.Here, the nitrogen gas (0.01 Mpa) of the low pressure is to function to expand the internal volume again when the internal area of the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) of polyethylene is reduced due to the pressure.

본 발명은 약액 사용량을 최소화하고, 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 내부의 약액의 잔류량 유/무를 감지하도록 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 하부 센서(160)를 고정한다. The present invention minimizes the amount of chemical liquid used, and the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) to detect the presence or absence of the remaining amount of the chemical liquid in the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) The lower sensor 160 is fixed to a specific position spaced apart from the lower surface of the predetermined distance.

하부 센서(160)는 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 약액 잔류량을 감지하고 이에 따라 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 교체되는 시점을 판단한다. The lower sensor 160 detects the remaining amount of the chemical liquid in the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b), and determines the time point at which the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) are replaced. do.

도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)는 상부면에 질소 주입부(110)와 포토 레지스트 통로부(120)가 형성되고, 포토 레지스트 통로부(120)에서 수직으로 세워져 내부 하단부까지 소정의 길이로 딥 튜브(Dip Tube)(130)가 형성된다.As shown in FIG. 7, the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) according to an embodiment of the present invention is formed with a nitrogen injection unit 110 and a photoresist passage portion 120 on the upper surface As a result, the dip tube 130 is formed to a predetermined length upright from the photoresist passage part 120 to an inner lower end thereof.

딥 튜브(130)는 약액이 통과되도록 내부가 통공되어 있다.The dip tube 130 has a through hole to allow the chemical to pass therethrough.

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)는 포토 레지스터의 잔량이 모일 수 있도록 내부의 하부면이 딥 튜브(130)의 하부 끝단부까지 경사지도록 형성되고 딥 튜브(130)의 하부 끝단부와 일정 거리 이격되어 하부면에 일정 깊이로 파인 바닥홈(140)이 형성된다. 따라서, 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)는 바닥홈(140) 쪽으로 잔량의 포토 레지스터가 모이게 된다.5 and 6, the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) has a lower surface of the inside to the lower end of the dip tube 130 so that the remaining amount of the photoresist is collected. The bottom groove 140 is formed to be inclined and is spaced apart from the lower end of the dip tube 130 by a predetermined distance to the bottom surface. Therefore, the remaining amount of photoresist is collected in the chemical storage container A (100a) and the chemical storage container B (100b) toward the bottom groove 140.

약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)는 상단부가 딥 튜브(130)를 기준으로 좌측 439mm, 우측 93mm으로 구성되고, 하단부가 딥 튜브(130)를 기준으로 좌측 437mm, 우측 91mm로 이루어져 있다.The chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) has an upper end of 439 mm and a right 93 mm with respect to the dip tube 130, and a lower end of 437 mm and 91 mm of right with respect to the dip tube 130. Consists of

하부 센서(160)의 위치는 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 내부 하부면에 일정 깊이로 파인 바닥홈(140)의 좌측 경계면을 나타낸다. 그러나 이에 한정하지 않고, 우측 경계면 또는 다른 위치도 가능하다.The position of the lower sensor 160 indicates a left boundary surface of the bottom groove 140 which is dug to a predetermined depth on the inner lower surfaces of the chemical storage container A 100a and the chemical storage container B 100b. However, the present invention is not limited thereto, and the right boundary surface or another position is also possible.

약액 저장 용기(100a, 100b)의 하부 바닥면과 하부 센서(160) 간의 거리는 20mm를 나타내며, 약액 저장 용기(100a, 100b)의 하부 바닥면으로부터 하부 방향으로 일정 거리 이격된 하부 센서(160) 간의 거리를 항상 일정하게 유지한다.The distance between the lower bottom surfaces of the chemical storage containers 100a and 100b and the lower sensor 160 represents 20 mm, and between the lower sensors 160 spaced a predetermined distance downward from the lower bottom surfaces of the chemical storage containers 100a and 100b. Keep the distance constant at all times.

즉, 하부 센서(160)의 감지 거리를 고정하는 것은 하부 센서(160)의 오작동 방지와 정밀한 감지를 가능하게 하기 위한 것이다.That is, fixing the sensing distance of the lower sensor 160 is to enable a malfunction detection and precise sensing of the lower sensor 160.

하부 센서(160)는 정전 용량형 근접 센서로 약액 저장 용기(100a, 100b)의 약액의 잔류량을 감지하여 약액이 남아 있으면 온으로 동작하고 약액이 일정 기준으로 줄어들면 오프로 동작한다.The lower sensor 160 is a capacitive type proximity sensor that senses the remaining amount of the chemical liquid in the chemical storage containers (100a, 100b) to operate on if the remaining liquid and to turn off when the chemical is reduced by a certain reference.

제어부는 하부 센서(160)의 신호를 감지하여 약액의 잔류량 유무를 판단하고, 이에 따라 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 시점을 판단하게 된다.The controller detects the residual amount of the chemical liquid by sensing a signal from the lower sensor 160, and thus determines the replacement time of the chemical liquid storage containers 100a and 100b.

트랩 탱크 A(200a) 및 트랩 탱크 B(200b)는 일측에 부착된 센서를 통해 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 시점을 결정하고 일측이 오토 밸브 AV-A1(202)에 연결되고 타측이 약액 펌프(220)와 연결된다.Trap tank A (200a) and trap tank B (200b) is a sensor attached to one side to determine the replacement time of the chemical liquid storage containers (100a, 100b), one side is connected to the auto valve AV-A1 (202) and the other side It is connected to the chemical pump 220.

트랩 탱크 A(200a) 및 트랩 탱크 B(200b)는 약액 저장 용기(100a, 100b)와 연결되어 약액 저장 용기(100a, 100b)의 약액을 약액 펌프(220)로 공급하거나 오토 밸브 AV-A1(202)를 통해 약액 저장 용기(100a, 100b)의 에어와 잔량의 약액을 외부로 배출한다.The trap tank A 200a and the trap tank B 200b are connected to the chemical liquid storage containers 100a and 100b to supply the chemical liquids in the chemical liquid storage containers 100a and 100b to the chemical liquid pump 220 or the auto valve AV-A1 ( The air and the remaining amount of the chemical liquid in the chemical liquid storage containers 100a and 100b are discharged to the outside through the 202.

약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 결정은 주로 하부 센서(160)에 의해 결정되며, 트랩 탱크 A(200a) 및 트랩 탱크 B(200b)는 하부 센서(160)의 오동작을 대비한 센서이다.The determination of replacement of the chemical liquid storage containers 100a and 100b is mainly determined by the lower sensor 160, and the trap tank A 200a and the trap tank B 200b are sensors for the malfunction of the lower sensor 160.

트랩 탱크 A(200a) 및 트랩 탱크 B(200b)는 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 결정시 약액의 수위에 의해 결정된다.The trap tank A 200a and the trap tank B 200b are determined by the level of the chemical liquid in determining the replacement of the chemical liquid storage containers 100a and 100b.

제어부는 약액 저장 용기 A(100a)의 약액을 사용 중 트랩 탱크 A(200a)의 약액 수위가 기설정된 범위 이하로 감소되면, AV-A2(204)를 닫고, AV-B2(206)를 열어서 약액 저장 용기 B(100b)에 연결된 질소 가스 공급 장치(170)의 질소 가스의 압력으로 약액을 버퍼 탱크(300)까지 공급한다.The control unit closes the AV-A2 204 and opens the AV-B2 206 when the chemical liquid level in the trap tank A 200a decreases below a preset range while the chemical liquid in the chemical liquid storage container A 100a is in use. The chemical liquid is supplied to the buffer tank 300 at the pressure of the nitrogen gas of the nitrogen gas supply device 170 connected to the storage container B 100b.

약액 펌프(220)는 필러(Pillar) 저맥압 펌프로 트랩 탱크 A(200a) 및 트랩 탱크 B(200b)와 연결되어 버퍼 탱크(300)의 구동 신호에 따라 작동하고 트랩 탱크 A(200a) 또는 트랩 탱크 B(200b)로부터 약액을 흡입하여 버퍼 탱크(300)로 배출한다.The chemical liquid pump 220 is a pillar low pressure pump connected to the trap tank A 200a and the trap tank B 200b to operate according to the drive signal of the buffer tank 300 and to operate the trap tank A 200a or the trap. The chemical liquid is sucked from the tank B 200b and discharged to the buffer tank 300.

버퍼 탱크(Buffer Tank)(300)는 약액 펌프(220)와 연결되어 일측에 형성된 센서를 이용하여 약액 수위를 감지하여 약액 수위에 따라 약액 펌프(220)를 구동한다.The buffer tank 300 is connected to the chemical liquid pump 220 to sense the chemical liquid level using a sensor formed on one side, and drives the chemical liquid pump 220 according to the chemical liquid level.

벨로우즈 펌프(Bellows Pump)(400)는 버퍼 탱크(300)와 연결되어 벨로우즈를 신장, 압축시켜서 동작하게 하여 약액을 흡입, 배출시킨다.The bellows pump 400 is connected to the buffer tank 300 to extend and compress the bellows so that the bellows pump 400 operates to suck and discharge the chemical liquid.

정량 토출 펌프(CT Pump)(500)는 1회전당 토출량이 항상 일정하고 회전수를 바꾸지 않으면 토출량이 변하지 않는 펌프로서, 벨로우즈 펌프(400)와 연결되어 있다.The CT pump 500 is a pump in which the discharge amount per revolution is always constant and the discharge amount does not change unless the rotation speed is changed. The CT pump 500 is connected to the bellows pump 400.

노즐(600)은 정량 토출 펌프(500)를 통해 글라스 위에 포토 레지스트를 일정한 두께로 코팅한다.The nozzle 600 coats the photoresist with a predetermined thickness on the glass through the metering discharge pump 500.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 실시예에 따른 질소 가스 공급 장치의 구성을 나타낸 도면이다.8A and 8B are views illustrating a configuration of a nitrogen gas supply device according to an embodiment of the present invention.

도 8a와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 질소 가스 공급 장치(170)는 약액 저장 용기 A(100a), 약액 저장 용기 B(100b)의 각각에 N2 밸브(Valve)(172), N2 3Way 밸브(174), N2 콘트롤러(176)가 포함된다.As shown in FIG. 8A, the nitrogen gas supply device 170 according to the exemplary embodiment of the present invention includes an N2 valve 172 and an N2 3Way valve in each of the chemical liquid storage container A 100a and the chemical liquid storage container B 100b. 174, an N2 controller 176 is included.

도 8b의 (a)와 같이, 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체시 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부를 가압하기 위하여 0.2Mpa 압력의 질소 가스를 약액 저장 용기 A(100a)로 공급한다.As shown in (a) of FIG. 8B, in order to pressurize the inside of the chemical storage containers 100a and 100b when the chemical storage containers 100a and 100b are replaced, nitrogen gas having a 0.2 Mpa pressure is supplied to the chemical storage container A 100a. do.

다시 말해, 작업자가 메뉴얼 밸브(Manual Valve)를 누르면, N2 밸브(172)가 오픈되어 0.2Mpa 압력의 질소 가스를 약액 저장 용기 A(100a)로 공급한다. 이때, 오토 밸브인 AV-A1(202)를 열어 약액 저장 용기 A(100a)와 트랩 탱크 A(200a) 사이의 배관에 존재하는 에어 및 약액이 AV-A1(202)를 통해 빠져 나간다.In other words, when the operator presses a manual valve, the N2 valve 172 is opened to supply nitrogen gas with a pressure of 0.2 MPa to the chemical storage container A 100a. At this time, the AV-A1 202, which is an auto valve, is opened, and the air and the chemical liquid present in the pipe between the chemical liquid storage container A 100a and the trap tank A 200a are discharged through the AV-A1 202.

이후에, AV-A1(202)를 닫으면, N2 밸브(172)가 닫히면서 0.2Mpa의 질소 가스의 유입이 차단된다.Subsequently, when the AV-A1 202 is closed, the inflow of 0.2 Mpa of nitrogen gas is blocked while the N2 valve 172 is closed.

도 8b의 (b)와 같이, 약액 저장 용기의 교체 작업한 후, N2 콘트롤러(176)는 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부의 압력을 유지하기 위하여 N2 3Way 밸브(174)를 오픈(Open)하여 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부에 형성된 질소 가스를 외부로 방출한다.As shown in (b) of FIG. 8B, after replacing the chemical storage container, the N2 controller 176 opens the N2 3Way valve 174 to maintain the pressure inside the chemical storage containers 100a and 100b. ) To release the nitrogen gas formed inside the chemical storage containers 100a and 100b to the outside.

N2 콘트롤러(176)는 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부 압력을 체크하여 0.01Mpa로 유지되면 N2 3Way 밸브(174)를 클로즈(Close)한다.The N2 controller 176 checks the internal pressure of the chemical liquid storage containers 100a and 100b and closes the N2 3Way valve 174 when it is maintained at 0.01 Mpa.

도 8b의 (c)와 같이, 약액 저장 용기(100a, 100b)의 약액 공급시, N2 콘트롤러(176)는 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부 압력을 체크하여 0.01Mpa로 유지하며, 0.01Mpa 이하의 압력일 때, 0.2Mpa 압력으로 들어오는 질소 가스를 레귤레이터(178)를 이용하여 적절한 압력으로 조절하여 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)로 공급한다.As shown in (c) of FIG. 8B, when supplying the chemical liquid of the chemical liquid storage containers 100a and 100b, the N2 controller 176 checks the internal pressure of the chemical liquid storage containers 100a and 100b and maintains it at 0.01 Mpa, and 0.01Mpa. When the pressure is lower than or equal to 0.2 Mpa, the nitrogen gas coming in at a pressure of 0.2 Mpa is adjusted to an appropriate pressure using the regulator 178 and supplied to the chemical liquid storage container A 100a or the chemical liquid storage container B 100b.

따라서, 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)의 압력은 항상 0.01Mpa로 유지된다.Therefore, the pressure of the chemical liquid storage container A 100a or the chemical liquid storage container B 100b is always maintained at 0.01 Mpa.

다음으로, 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 장치를 이용하여 약액 공급 제어 방법을 설명하면 다음과 같다.Next, the chemical liquid supply control method using the chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention will be described.

약액 저장 용기(100a, 100b)로부터 노즐(600)의 약액 공급 경로는 약액 저장 용기(100a, 100b) -> 트랩 탱크(200a, 200b) -> 약액 펌프(220) -> 버퍼 탱크(300) -> 벨로우즈 펌프(400) -> 정량 토출 펌프(500) -> 노즐(600)로 형성된다.The chemical liquid supply path of the nozzle 600 from the chemical liquid storage containers 100a and 100b is chemical liquid storage containers 100a and 100b-> trap tanks 200a and 200b-> chemical liquid pump 220-> buffer tank 300- > Bellows pump 400-> metered discharge pump 500-> nozzle 600.

약액 저장 용기(100a, 100b)에서 버퍼 탱크(300)의 약액 공급은 약액 펌프(220)에 의해 이루어진다.The chemical liquid supply of the buffer tank 300 in the chemical liquid storage containers 100a and 100b is performed by the chemical liquid pump 220.

질소 가스 공급 장치(170)는 약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 내부를 퍼지(Purge) 기능을 위해 일정 압력의 질소 가스를 공급한다.The nitrogen gas supply device 170 supplies nitrogen gas at a predetermined pressure to purge the inside of the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b).

즉, 기존의 약액 공급 장치는 0.2Mpa의 질소 가스를 상시 공급하지만, 본 발명의 약액 공급 장치는 N2 콘트롤러(176)에 의해 0.01Mpa 미만일 때를 감지하여 질소 가스를 공급하여 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부 압력을 0.01Mpa로 유지한다.That is, the conventional chemical liquid supply device always supplies 0.2Mpa of nitrogen gas, but the chemical liquid supply device of the present invention detects when less than 0.01Mpa by the N2 controller 176 to supply nitrogen gas to supply the chemical liquid storage container 100a, The internal pressure of 100b) is maintained at 0.01 Mpa.

제어부(미도시)는 버퍼 탱크(300)의 일측에 형성된 센서로부터 약액 수위가 'L' Position 정보를 수신하면, 약액 펌프(220)를 구동시키면서 오토 밸브인 AV-A2(204)를 오픈한다.The controller (not shown) opens the AV-A2 204 which is an auto valve while driving the chemical liquid pump 220 when the chemical liquid level receives 'L' position information from a sensor formed at one side of the buffer tank 300.

약액 저장 용기 A(100a)의 약액은 약액 펌프(220)의 흡입과 배출에 의해 트랩 탱크 A(200a), 약액 펌프(220)를 거쳐 버퍼 탱크(300)로 공급된다.The chemical liquid in the chemical storage container A 100a is supplied to the buffer tank 300 via the trap tank A 200a and the chemical liquid pump 220 by suction and discharge of the chemical liquid pump 220.

제어부는 버퍼 탱크(300)의 약액 수위가 'H' Position 정보가 수신되면, 약액 펌프(220)의 구동을 정지시키고 오토 밸브인 AV-A2(204)를 클로즈하여 약액 공급을 차단한다.When the chemical liquid level of the buffer tank 300 receives the 'H' position information, the controller stops the driving of the chemical liquid pump 220 and closes the AV-A2 204 which is an auto valve to block the chemical liquid supply.

즉, 약액 공급 여부의 결정은 버퍼 탱크(300)의 'H' Position 센서와 'L' Position 센서에 의해 동작하게 된다.That is, the determination of whether the chemical liquid is supplied is operated by the 'H' position sensor and the 'L' position sensor of the buffer tank 300.

다음으로, 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 장치를 이용하여 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체를 결정하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Next, a method of determining replacement of the chemical liquid storage containers 100a and 100b using the chemical liquid supply device according to an embodiment of the present invention will be described.

약액 저장 용기의 교체 결정은 하부 센서(160)와 트랩 탱크 A(200a), 트랩 탱크 B(200b)의 약액 수위에 의해 결정된다.The determination of replacement of the chemical storage container is determined by the chemical level of the lower sensor 160, the trap tank A 200a and the trap tank B 200b.

그러나 약액 저장 용기의 교체 결정은 하부 센서(160)의 센싱에 의해 결정되고 트랩 탱크 A(200a), 트랩 탱크 B(200b)는 하부 센서(160)의 오동작을 대비한 센서이다.However, the replacement of the chemical storage container is determined by the sensing of the lower sensor 160, and the trap tank A 200a and the trap tank B 200b are sensors for the malfunction of the lower sensor 160.

약액 저장 용기(100a, 100b)의 바닥홈의 경계면에 위치한 하부 센서(160)는 약액 잔량이 300cc 미만시 센서 오프(Sensor Off)된다.The lower sensor 160 located at the interface between the bottom grooves of the chemical liquid storage containers 100a and 100b is sensored off when the remaining amount of the chemical liquid is less than 300cc.

제어부는 하부 센서(160)의 센서 오프 신호를 수신하는 경우, 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 시점을 감지하여 오토 밸브인 AV-A2(204)를 클로즈하고 AV-B2(206)를 오픈하며 약액 저장 용기 B(100b)의 약액을 약액 펌프(220)의 구동에 의해 버퍼 탱크(300)로 공급한다.When the control unit receives the sensor off signal of the lower sensor 160, the controller detects a time of replacing the chemical liquid storage containers 100a and 100b to close the auto valve AV-A2 204 and open the AV-B2 206. The chemical liquid of the chemical storage container B (100b) is supplied to the buffer tank 300 by the driving of the chemical liquid pump 220.

이때, 약액 저장 용기 A(100a)는 약액 저장 용기 A(100a)의 교환시 딥 튜브(130)의 하단에 약액이 존재하며, 딥 튜브(130)의 하단 일측의 내부 통공에 약액이 채워져 있는 상태에서 약액 저장 용기 A(100a)에서 약액 저장 용기 B(100b)로 교환되므로 배관 내 에어 유입이 발생하지 않는다.At this time, the chemical liquid storage container A (100a) is a chemical liquid is present at the lower end of the dip tube 130 when the chemical liquid storage container A (100a) is exchanged, the chemical liquid is filled in the inner through-hole of the lower side of the dip tube 130 In the chemical liquid storage container A (100a) is replaced with the chemical liquid storage container B (100b) in the air does not occur in the pipe.

제어부는 트랩 탱크(200a, 200b)의 약액 수위를 감지하여 약액 수위가 기설정된 범위 미만인 경우 트랩 탱크(200a, 200b)의 AV-A2(204) 및 AV-B2(206)를 개폐하여 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)의 약액 경로를 변경하도록 제어할 수 있다.The control unit detects the chemical liquid level of the trap tanks 200a and 200b and opens and closes the AV-A2 204 and AV-B2 206 of the trap tanks 200a and 200b when the chemical liquid level is less than a preset range. The chemical liquid path of the A 100a or the chemical liquid storage container B 100b may be controlled to be changed.

본 발명은 하부 센서(160)의 신호를 감지하여 약액의 잔류량 유무를 감지하고, 이에 따라 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 시점을 판단하게 되므로 약액 사용량을 저감 및 최소화한다.The present invention detects the residual amount of the chemical liquid by sensing the signal from the lower sensor 160, and thus determines the replacement time of the chemical liquid storage containers 100a and 100b, thereby reducing and minimizing the amount of chemical liquid used.

또한, 본 발명의 질소 가스 공급 장치(170)는 약액 저장 용기(100a, 100b)의 내부 압력이 0.01Mpa 미만일 때 질소 가스를 약액 저장 용기(100a, 100b)로 공급하므로 질소 가스의 양을 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, the nitrogen gas supply device 170 of the present invention can supply the nitrogen gas to the chemical liquid storage container (100a, 100b) when the internal pressure of the chemical liquid storage container (100a, 100b) is less than 0.01Mpa can reduce the amount of nitrogen gas It has an effect.

본 발명은 약액 저장 용기(100a, 100b)의 하부면과 일정 거리 이격되어 위치한 하부 센서(160), 약액 펌프(220), 질소 가스 공급 장치(170)를 이용하여 약액 저장 용기(100a, 100b)가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지할 수 있게 된다.The present invention uses the lower sensor 160, the chemical liquid pump 220, the nitrogen gas supply device 170 is spaced a predetermined distance from the lower surfaces of the chemical liquid storage containers (100a, 100b) chemical storage containers (100a, 100b) It is possible to prevent the occurrence of air intake in the pipe at the time when is replaced.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 센서를 이용한 약액 공급 장치 및 방법을 나타낸 도면이다.9 is a view showing a chemical liquid supply apparatus and method using a sensor according to another embodiment of the present invention.

도 9는 전술한 도 3의 약액 공급 장치와 동일한 구성요소의 설명을 생략하고 약액 공급 장치의 차이점을 중심으로 설명한다.FIG. 9 omits description of the same components as the above-described chemical solution supply device of FIG. 3 and focuses on differences between the chemical solution supply devices.

또한, 전술한 본 발명의 실시예의 질소 가스 공급 장치(170)에서 이루어지는 질소 가스 공급 프로세스는 동일하게 적용되므로 상세한 설명을 생략한다.In addition, since the nitrogen gas supply process made in the nitrogen gas supply apparatus 170 of the above-mentioned embodiment of the present invention is applied in the same manner, detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 다른 실시예에 따른 센서를 이용한 약액 공급 장치는 질소 가스 공급 장치(170), 약액 저장 용기 A(100a), 약액 저장 용기 B(100b)와, 버블 감지 센서(700, 710), 3way 밸브(730), 약액펌프 A(740), 기액 분리 탱크 A(Air Remove Tank)(750), 정량 센서(752), 약액 보충 개시 센서 A(754), 약액펌프 B(760), 기액 분리 탱크 B(770), 약액 보충 개시 센서 B(772), 트랩 탱크(Trap Tank) A(200a), 트랩 탱크 B(200b), 버퍼 탱크(Buffer Tank)(300), 벨로우즈 펌프(Bellows Pump)(400), 정량 토출 펌프(500) 및 노즐(600)을 포함한다.Chemical liquid supply apparatus using a sensor according to another embodiment of the present invention is nitrogen gas supply device 170, chemical liquid storage container A (100a), chemical liquid storage container B (100b), bubble detection sensors 700, 710, 3way Valve 730, chemical liquid pump A 740, gas liquid separation tank A (Air Remove Tank) 750, quantitative sensor 752, chemical liquid replenishment start sensor A 754, chemical liquid pump B 760, gas liquid separation tank B (770), chemical replenishment start sensor B (772), Trap Tank A (200a), Trap Tank B (200b), Buffer Tank (300), Bellows Pump (400) ), The metering discharge pump 500 and the nozzle 600.

도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예는 버퍼 탱크(300)에 연결된 벨로우즈 펌프(400), 정량 토출 펌프(500) 및 노즐(600)의 기재를 설명의 편의를 위해 생략한다.As shown in FIG. 9, another embodiment of the present invention omits description of the bellows pump 400, the metered discharge pump 500, and the nozzle 600 connected to the buffer tank 300 for convenience of description.

약액 저장 용기 A(100a) 및 약액 저장 용기 B(100b)의 출력단은 배관 내의 기포 또는 에어의 유입을 감지하는 버블 감지 센서(700, 710)에 각각 연결되어 있다.Output terminals of the chemical liquid storage container A (100a) and the chemical liquid storage container B (100b) are connected to bubble detection sensors (700, 710) for detecting the inflow of bubbles or air in the pipe, respectively.

버블 감지 센서(700, 710)는 경로를 전환시키는 3way 밸브(730)와 맞물려 있으며, 3way 밸브(730)는 약액펌프 A(740)와 연결되어 있다.Bubble detection sensors 700 and 710 are engaged with a 3way valve 730 for switching the path, and the 3way valve 730 is connected with the chemical liquid pump A 740.

기액 분리 탱크 A(750)는 입력단에 약액펌프 A(740)가 연결되고 출력단에 약액펌프 B(760)가 연결된다.The gas-liquid separation tank A 750 is connected to the chemical liquid pump A 740 at the input and the chemical liquid pump B 760 is connected to the output.

기액 분리 탱크 A(750)는 외측면 일측에 약액 보충 개시 센서 A(754)와 그 위에 일정 거리 이격되어 정량 센서(752)를 형성한다.The gas-liquid separation tank A 750 is spaced apart from the chemical liquid replenishing start sensor A 754 on one side thereof by a predetermined distance to form a quantitative sensor 752.

약액 보충 개시 센서 A(754)는 기액 분리 탱크 A(750)에 저장된 약액이 버퍼 탱크(300)로 공급된 후, 약액의 수위가 기설정된 제1 기준 수위(B) 미만을 감지하여 약액의 보충을 알리는 센서 온 신호를 생성하고, 제1 기준 수위(B) 이상을 감지하는 경우 센서 오프 신호를 생성한다.The chemical liquid replenishment start sensor A 754 replenishes the chemical liquid by sensing the level of the chemical liquid below the predetermined first reference level B after the chemical liquid stored in the gas liquid separation tank A 750 is supplied to the buffer tank 300. A sensor on signal for generating a signal is generated, and a sensor off signal is generated when detecting a first reference level B or more.

정량 센서(752)는 기액 분리 탱크 A(750)의 내부에 저장된 약액의 수위가 기설정된 제2 기준 수위(A) 이상을 감지하는 경우 약액이 정량으로 내부에 저장되었음을 나타내는 센서 온 신호를 생성하고 제2 기준 수위(A) 미만을 감지하는 경우 오프 제어 신호를 생성한다.The quantitative sensor 752 generates a sensor on signal indicating that the chemical liquid is quantitatively stored when the level of the chemical liquid stored in the gas-liquid separation tank A 750 is above the preset second reference water level A. When detecting less than the second reference water level A, an off control signal is generated.

약액펌프 A(740)와 약액펌프 B(760)는 전술한 약액 펌프(220)와 동일한 장치이다.The chemical liquid pump A 740 and the chemical liquid pump B 760 are the same apparatus as the chemical liquid pump 220 described above.

기액 분리 탱크 B(770)의 출력단은 트랩 탱크 A(200a)와 연결되어 있다.The output end of the gas-liquid separation tank B 770 is connected to the trap tank A 200a.

기액 분리 탱크 B(770)는 외측면 일측에 약액 보충 개시 센서 B(772)를 형성한다.The gas-liquid separation tank B 770 forms a chemical liquid replenishment start sensor B 772 on one side of the outer surface.

기액 분리 탱크 A(750)와 기액 분리 탱크 B(770)는 약액 저장 용기의 전환시 유입된 에어나 기포를 기액 분리 탱크 A(750)와 기액 분리 탱크 B(770)에 설치된 에어벤트(Air Vent)(751, 771)를 통해 제거되고 약액을 안정화시키는 역할을 담당한다.The gas-liquid separation tank A (750) and the gas-liquid separation tank B (770) are used to convert air or bubbles introduced during the changeover of the chemical liquid storage container into an air vent installed in the gas-liquid separation tank A (750) and the gas-liquid separation tank B (770). 751, 771 are removed through the role of stabilizing the chemical.

다음으로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 공급 장치를 이용하여 약액 공급 제어 방법을 설명하면 다음과 같다.Next, the chemical liquid supply control method using the chemical liquid supply apparatus according to another embodiment of the present invention will be described.

약액 저장 용기(100a, 100b)로부터 노즐(600)의 약액 공급 경로는 약액 저장 용기(100a, 100b) -> 약액펌프 A(740) -> 기액 분리 탱크 A(750) -> 약액펌프 B(760) -> 기액 분리 탱크 B(770) -> 트랩 탱크(200a, 200b) -> 버퍼 탱크(300) -> 벨로우즈 펌프(400) -> 정량 토출 펌프(500) -> 노즐(600)로 형성된다.The chemical liquid supply path of the nozzle 600 from the chemical liquid storage containers 100a and 100b is chemical liquid storage containers 100a and 100b-> chemical liquid pump A 740-> gas liquid separation tank A 750-> chemical liquid pump B 760 )-> Gas-liquid Separation Tank B (770)-> Trap Tanks (200a, 200b)-> Buffer Tank (300)-> Bellows Pump (400)-> Metering Discharge Pump (500)-> Nozzle (600) .

약액 저장 용기(100a, 100b)에서 버퍼 탱크(300)의 약액 공급은 약액펌프 A(740)와 약액펌프 B(760)에 의해 이루어진다.The chemical liquid supply of the buffer tank 300 in the chemical liquid storage containers 100a and 100b is performed by the chemical liquid pump A 740 and the chemical liquid pump B 760.

제어부는 버퍼 탱크(300)의 일측에 형성된 센서로부터 약액 수위가 'L' Position 정보를 수신하면, 약액펌프 B(760)를 구동시켜 기액 분리 탱크 A(750)에 저장된 약액을 기액 분리 탱크 B(770), 트랩 탱크(200a, 200b)를 거쳐 버퍼 탱크(300)로 공급하도록 제어한다.When the controller receives the 'L' position information from the sensor formed at one side of the buffer tank 300, the controller drives the chemical pump B 760 to store the chemical liquid stored in the gas-liquid separation tank A 750 in the gas-liquid separation tank B ( 770, the control is supplied to the buffer tank 300 via the trap tanks 200a and 200b.

제어부는 버퍼 탱크(300)의 약액 수위 뿐만 아니라 기액 분리 탱크 B(770)의 약액 보충 개시 센서 B(772)에서 약액의 수위가 기설정된 제1 기준 수위(B) 미만을 감지하여 약액의 보충을 알리는 센서 온 신호를 생성하는 경우 약액펌프 B(760)를 구동할 수 있다.The controller detects not only the level of the chemical liquid in the buffer tank 300 but also the level of the chemical liquid in the chemical liquid replenishment start sensor B 772 of the gas-liquid separation tank B 770 below the predetermined first reference level B, thereby replenishing the chemical liquid. When the notification generates a sensor on signal, the chemical liquid pump B 760 may be driven.

제어부는 약액을 공급한 후 기액 분리 탱크 A(750)에서 약액 수위가 떨어지면 즉, 약액 보충 개시 센서 A(754)로부터 센서 온 신호를 수신하고 정량 센서(752)로부터 센서 오프 신호를 수신하는 경우, 약액펌프 A(740)를 구동하여 약액을 공급하도록 제어한다.When the controller drops the chemical liquid level in the gas-liquid separation tank A 750 after supplying the chemical liquid, that is, when receiving the sensor on signal from the chemical liquid replenishment start sensor A 754 and receiving the sensor off signal from the quantitative sensor 752, The chemical liquid pump A 740 is controlled to supply the chemical liquid.

약액펌프 A(740)는 기액 분리 탱크 A(750)의 약액 수위에 따라 작동된다.The chemical liquid pump A 740 operates according to the chemical liquid level of the gas liquid separation tank A 750.

제어부는 정량 센서(752)로부터 센서 온 신호를 수신하고 약액 보충 개시 센서 A(754)로부터 센서 오프 신호를 수신하는 경우, 약액펌프 A(740)를 정지시키며 에어벤트(751)를 구동하여 기액 분리 탱크 A(750)의 내부에 존재하는 에어 및 기포를 외부로 토출시키도록 제어한다.When the controller receives the sensor on signal from the quantitative sensor 752 and receives the sensor off signal from the chemical liquid replenishment start sensor A 754, the controller stops the chemical liquid pump A 740 and drives the air vent 751 to separate the gas liquid. Control to discharge the air and bubbles present in the tank A (750) to the outside.

약액 저장 용기 A(100a)의 약액은 약액펌프 A(740)와 약액펌프 B(760)의 흡입과 배출에 의해 트랩 탱크 A(200a)를 거쳐 버퍼 탱크(300)로 공급된다.The chemical liquid of the chemical liquid storage container A 100a is supplied to the buffer tank 300 via the trap tank A 200a by suction and discharge of the chemical liquid pump A 740 and the chemical liquid pump B 760.

제어부는 버퍼 탱크(300)의 일측에 형성된 센서로부터 약액 수위가 'H' Position 정보를 수신하면, 약액펌프 B(760)의 구동을 정지시켜 약액 공급을 차단하도록 제어한다.The controller controls the chemical liquid supply to be blocked by stopping the driving of the chemical liquid pump B 760 when the chemical liquid level receives 'H' position information from a sensor formed at one side of the buffer tank 300.

즉, 약액 공급 여부의 결정은 버퍼 탱크(300)의 'H' Position 센서와 'L' Position 센서에 의해 동작하게 된다.That is, the determination of whether the chemical liquid is supplied is operated by the 'H' position sensor and the 'L' position sensor of the buffer tank 300.

다음으로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 공급 장치를 이용하여 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체를 결정하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Next, a method of determining replacement of the chemical liquid storage containers 100a and 100b using the chemical liquid supply device according to another embodiment of the present invention will be described.

약액 저장 용기의 교체 결정은 하부 센서(160)와 버블 감지 센서(700, 710) 및 트랩 탱크 A(200a), 트랩 탱크 B(200b)의 약액 수위에 의해 결정된다.The replacement of the chemical storage container is determined by the chemical level of the lower sensor 160, the bubble detection sensors 700 and 710, the trap tank A 200a and the trap tank B 200b.

그러나 약액 저장 용기의 교체 결정은 하부 센서(160)의 센싱에 의해 결정되고 버블 감지 센서(700, 710) 및 트랩 탱크 A(200a), 트랩 탱크 B(200b)는 하부 센서(160)의 오동작을 대비한 센서이다.However, the replacement of the chemical storage container is determined by the sensing of the lower sensor 160, and the bubble detection sensors 700 and 710, the trap tank A 200a, and the trap tank B 200b detect the malfunction of the lower sensor 160. It is a sensor.

약액 저장 용기(100a, 100b)의 바닥홈의 경계면에 위치한 하부 센서(160)는 약액 잔량이 300cc 미만시 센서 오프(Sensor Off)된다.The lower sensor 160 located at the interface between the bottom grooves of the chemical liquid storage containers 100a and 100b is sensored off when the remaining amount of the chemical liquid is less than 300cc.

제어부는 하부 센서(160)의 센서 오프 신호를 수신하는 경우, 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 시점을 감지하고 3way 밸브(730)가 동작되어 약액 저장 용기 A(100a)의 약액 경로를 차단하고 약액 저장 용기 B(100b)의 약액 경로를 오픈하도록 제어한다.When the control unit receives the sensor off signal of the lower sensor 160, the controller detects the time of replacement of the chemical storage containers 100a and 100b, and the 3-way valve 730 is operated to block the chemical liquid path of the chemical storage container A 100a. And control to open the chemical liquid path of the chemical storage container B (100b).

제어부는 약액 저장 용기 B(100b)의 약액을 약액펌프 A(740)와 약액펌프 B(760)를 동작시켜 트랩 탱크(200a, 200b)를 거쳐 버퍼 탱크(300)로 공급되도록 제어한다.The controller controls the chemical liquid of the chemical liquid storage container B (100b) to be supplied to the buffer tank 300 through the trap tanks 200a and 200b by operating the chemical liquid pump A 740 and the chemical liquid pump B 760.

이때, 약액 저장 용기 A(100a)는 약액 저장 용기 A(100a)의 교환시 딥 튜브(130)의 하단에 약액이 존재하며, 딥 튜브(130)의 하단 일측의 내부 통공에 약액이 채워져 있는 상태에서 약액 저장 용기 A(100a)에서 약액 저장 용기 B(100b)로 교환되므로 배관 내 에어 유입이 발생하지 않는다.At this time, the chemical liquid storage container A (100a) is a chemical liquid is present in the lower end of the dip tube 130 during the exchange of the chemical liquid storage container A (100a), the chemical liquid is filled in the inner through-hole of the lower side of the dip tube 130 In the chemical liquid storage container A (100a) is replaced with the chemical liquid storage container B (100b) in the air does not occur in the pipe.

본 발명은 하부 센서(160)의 신호를 감지하여 약액의 잔류량 유무를 감지하고, 이에 따라 약액 저장 용기(100a, 100b)의 교체 시점을 판단하게 되므로 약액 사용량을 저감 및 최소화한다.The present invention detects the residual amount of the chemical liquid by sensing the signal from the lower sensor 160, and thus determines the replacement time of the chemical liquid storage containers 100a and 100b, thereby reducing and minimizing the amount of chemical liquid used.

제어부는 버블 감지 센서(700, 710)가 동작되어 에어나 기포가 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)의 출력단에서 감지되면, 3way 밸브(730)를 동작시켜 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)의 약액 경로를 변경하도록 제어한다.When the bubble detection sensors 700 and 710 are operated to detect air or air bubbles at the output of the chemical storage container A 100a or the chemical storage container B 100b, the controller operates the 3-way valve 730 to operate the chemical storage container A. Or control to change the chemical liquid path of the chemical liquid storage container B (100b).

제어부는 트랩 탱크(200a, 200b)의 약액 수위를 감지하여 약액 수위가 기설정된 범위 미만인 경우 약액 저장 용기 A(100a) 또는 약액 저장 용기 B(100b)의 약액 경로를 변경하도록 제어한다.The controller detects the chemical liquid level of the trap tanks 200a and 200b and controls to change the chemical liquid path of the chemical liquid storage container A 100a or the chemical liquid storage container B 100b when the chemical liquid level is less than a preset range.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 장치 및/또는 방법을 통해서만 구현이 되는 것은 아니며, 본 발명의 실시예의 구성에 대응하는 기능을 실현하기 위한 프로그램, 그 프로그램이 기록된 기록 매체 등을 통해 구현될 수도 있으며, 이러한 구현은 앞서 설명한 실시예의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 전문가라면 쉽게 구현할 수 있는 것이다.The embodiments of the present invention described above are not implemented only through the apparatus and / or method, but may be implemented through a program for realizing a function corresponding to the configuration of the embodiments of the present invention, a recording medium on which the program is recorded, and the like. In addition, such an implementation can be easily implemented by those skilled in the art from the description of the above-described embodiments.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights.

100a: 약액 저장 용기 A
100b: 약액 저장 용기 B
110: 질소 주입부
120: 포토 레지스트 통로부
130: 딥 튜브
140: 바닥홈
160: 하부 센서
170: 질소 가스 공급 장치
172: N2 밸브
174: N2 3Way 밸브
176: N2 콘트롤러
178: 레귤레이터
200a: 트랩 탱크 A
200b: 트랩 탱크 B
202: AV-A1
204: AV-A2
206: AV-B2
220: 약액 펌프
300: 버퍼 탱크
400: 벨로우즈 펌프
500: 정량 토출 펌프
600: 노즐
700, 710: 버블 감지 센서
730: 3way 밸브
740: 약액펌프 A
750: 기액 분리 탱크 A
752: 정량 센서
754: 약액 보충 개시 센서 A
760: 약액펌프 B
770: 기액 분리 탱크 B
772: 약액 보충 개시 센서 B
751. 771: 에어벤트100a: chemical storage container A
100b: chemical storage container B
110: nitrogen injection unit
120: photoresist passage portion
130: dip tube
140: floor groove
160: lower sensor
170: nitrogen gas supply device
172: N2 valve
174: N2 3Way Valve
176: N2 controller
178: regulator
200a: Trap Tank A
200b: trap tank B
202: AV-A1
204: AV-A2
206: AV-B2
220: chemical pump
300: buffer tank
400: bellows pump
500: metering discharge pump
600: nozzle
700, 710: bubble detection sensor
730: 3way valve
740: chemical pump A
750: gas-liquid separation tank A
752: quantitative sensor
754: chemical replenishment start sensor A
760: chemical pump B
770: gas-liquid separation tank B
772: chemical replenishment start sensor B
751. 771: Air vents

Claims (19)

약액을 저장하고 일측에 약액의 잔량을 감지하는 센서가 형성된 하나 이상의 약액 저장 용기;
상기 약액 저장 용기와 연결되어 약액을 흡입하여 배출하는 약액 펌프;
상기 약액 펌프와 연결되어 약액을 공급받아 저장하고, 상기 저장된 약액을 글라스 위에 약액을 분사하는 노즐측으로 배출하며, 약액 수위에 따라 상기 약액 펌프를 구동시키는 버퍼 탱크; 및
상기 약액 저장 용기의 센서의 온오프 동작에 따라 약액의 잔류량을 감지하고 상기 약액 저장 용기의 교체 시점을 판단하여 상기 약액 저장 용기, 상기 약액 펌프 및 상기 버퍼 탱크 중 어느 하나 이상의 장치를 제어하여 약액의 공급, 중단 및 상기 약액 저장 용기의 교체를 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 약액 저장 용기는 상부면에 약액이 주입 및 배출되는 약액 통로부가 형성되고 상기 약액 통로부에서 수직으로 세워져 상기 약액 저장 용기의 내부 하단부까지 소정의 길이로 형성되고 상기 약액이 통과되도록 내부가 통공되어 있는 딥 튜브(Dip Tube)가 삽입되며,
상기 약액 저장 용기는 상기 약액의 잔량이 일측에 모일 수 있도록 상부에서 하부로 갈수록 경사지도록 형성되고 상기 딥 튜브의 하부 끝단면이 위치되도록 일정 깊이로 파져 있는 바닥홈을 형성하며,
상기 센서는 상기 바닥홈의 경계면에 위치하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.At least one chemical liquid storage container for storing the chemical liquid and having a sensor configured to detect a residual amount of the chemical liquid on one side;
A chemical liquid pump connected to the chemical liquid storage container to suck and discharge the chemical liquid;
A buffer tank connected to the chemical liquid pump to receive and store the chemical liquid, discharge the stored chemical liquid to a nozzle side injecting the chemical liquid onto a glass, and drive the chemical liquid pump according to the chemical liquid level; And
The chemical liquid storage container, the chemical liquid pump and the buffer tank to control any one or more devices of the chemical liquid by detecting the residual amount of the chemical liquid in accordance with the on-off operation of the sensor of the chemical storage container and determining the replacement time of the chemical liquid storage container A control unit for controlling supply, interruption and replacement of the chemical storage container,
The chemical liquid storage container has a chemical liquid passage part for injecting and discharging the chemical liquid on an upper surface thereof and is vertically erected from the chemical liquid passage part so as to have a predetermined length up to an inner lower end of the chemical liquid storage container, and the inside of the chemical liquid storage container passes through the chemical liquid storage container. Dip Tube is inserted,
The chemical storage container is formed to be inclined from the top to the bottom so that the remaining amount of the chemical liquid is collected on one side and forms a bottom groove which is dug to a predetermined depth so that the lower end surface of the dip tube is located,
The sensor is a chemical supply device, characterized in that located on the interface of the bottom groove. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 교체는 상기 딥 튜브의 하단 일측의 내부 통공에 약액이 채워져 있는 상태에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
The chemical liquid supplying device is characterized in that the replacement of the chemical storage container is made in the state that the chemical liquid is filled in the inner through-hole of the lower side of the dip tube. 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 하부 바닥면과 상기 센서는 0-20mm로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
The bottom surface of the chemical storage container and the sensor is a chemical supply device, characterized in that spaced apart 0-20mm. 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기에 형성된 질소 주입부와 연결되어 상기 약액 저장 용기의 교체시, 상기 약액 저장 용기의 내부 가압을 나타내는 제1 압력의 질소 가스를 상기 약액 저장 용기로 공급하고, 상기 약액 저장 용기를 교체한 이후 또는 약액 공급시, 상기 약액 저장 용기의 내부 용적을 펴주는 기능을 위해 상기 제1 압력보다 낮은 저압의 제2 압력으로 상기 약액 저장 용기의 내부 압력을 유지하도록 제어하는 질소 가스 공급 장치
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
Connected to the nitrogen inlet formed in the chemical storage container, when the chemical liquid storage container is replaced, nitrogen gas having a first pressure indicating internal pressure of the chemical liquid storage container is supplied to the chemical liquid storage container, and the chemical liquid storage container is replaced. Or after supplying the chemical liquid, the nitrogen gas supply device controlling to maintain the internal pressure of the chemical storage container at a second pressure lower than the first pressure for the function of expanding the internal volume of the chemical storage container.
Chemical supply device further comprising a. 제5항에 있어서,
상기 질소 가스 공급 장치는 상기 약액 저장 용기의 내부 압력이 0.01Mpa 미만일 때를 감지하여 질소 가스를 가압하여 0.01Mpa를 유지하도록 제어하고 상기 약액 저장 용기의 교체시, 상기 약액 저장 용기의 내부를 가압하기 위하여 0.2Mpa의 질소 가스를 상기 약액 저장 용기로 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 5,
The nitrogen gas supply device detects when the internal pressure of the chemical storage container is less than 0.01Mpa to control to pressurize the nitrogen gas to maintain 0.01Mpa and pressurize the inside of the chemical storage container when the chemical storage container is replaced. In order to supply 0.2Mpa of nitrogen gas to the chemical liquid storage container, characterized in that the chemical supply device. 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 센서는 상기 약액 저장 용기의 하부 바닥면으로부터 하부 방향으로 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시키는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
The sensor of the chemical storage container is a chemical liquid supply device, characterized in that fixed to a specific position spaced a predetermined distance in the downward direction from the bottom bottom surface of the chemical storage container. 제1항에 있어서,
상기 제어부는 상기 버퍼 탱크의 일측에 형성된 센서로부터 약액 수위가 기설정된 범위 미만의 정보가 수신되면, 상기 약액 펌프를 구동하여 상기 약액 저장 용기로부터 상기 버퍼 탱크로 약액이 공급되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
The control unit controls the chemical liquid to be supplied from the chemical storage container to the buffer tank by driving the chemical liquid pump when information of the chemical liquid level is less than a predetermined range is received from a sensor formed at one side of the buffer tank. Chemical liquid supply device. 제1항에 있어서,
상기 약액 펌프에 연결되고 상부면 일측에 내부의 에어 및 기포를 배출하는 에어벤트(Air Vent)를 형성하며 상기 약액 펌프의 구동에 따라 저장된 약액을 상기 버퍼 탱크로 전송하는 기액 분리 탱크(Air Remove Tank)
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
An air remove tank connected to the chemical liquid pump and forming an air vent for discharging air and bubbles therein on one side of the upper surface and transferring the stored chemical liquid to the buffer tank according to the driving of the chemical liquid pump. )
Chemical supply device further comprising a. 제9항에 있어서,
상기 기액 분리 탱크는,
일측에 내부에 저장된 약액이 상기 버퍼 탱크로 공급된 후, 약액의 수위가 기설정된 제1 기준 수위(B) 미만을 감지하여 약액의 보충을 알리는 센서 온 신호를 생성하는 약액 보충 개시 센서; 및
상기 약액 보충 개시 센서의 위에 일정 거리 이격되어 설치되고 내부에 저장된 약액의 수위가 기설정된 제2 기준 수위(A) 이상을 감지하는 경우 약액이 정량으로 내부에 저장되었음을 나타내는 센서 온 신호를 생성하는 정량 센서
를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 9,
The gas-liquid separation tank,
A chemical liquid replenishment initiation sensor configured to generate a sensor-on signal for informing the replenishment of the chemical liquid by sensing the level of the chemical liquid below a predetermined first reference level B after the chemical liquid stored therein is supplied to the buffer tank; And
Quantitative to generate a sensor-on signal indicating that the chemical liquid is stored in the quantitative amount when the liquid level of the chemical liquid installed above the chemical liquid replenishment start sensor is detected at a predetermined distance and above the second reference level A. sensor
Chemical liquid supply apparatus comprising a. 제10항에 있어서,
상기 제어부는 상기 정량 센서로부터 센서 온 신호를 수신하는 경우, 상기 약액 펌프를 정지시키며 상기 에어벤트를 구동하여 상기 기액 분리 탱크의 내부에 존재하는 에어 및 기포를 외부로 토출시키도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 10,
When the control unit receives a sensor on signal from the quantitative sensor, the controller stops the chemical liquid pump and drives the air vent to control to discharge air and bubbles existing in the gas-liquid separation tank to the outside. Chemical liquid supply device. 제1항에 있어서,
상기 약액 펌프에 연결되어 일측에 내부의 에어를 배출하는 제1 에어벤트(Air Vent)를 형성하며 상기 약액 펌프의 구동에 따라 저장된 약액을 전송하는 제1 기액 분리 탱크(Air Remove Tank);
상기 제1 기액 분리 탱크에 연결되어 상기 제1 기액 분리 탱크의 약액을 흡입하여 배출되는 제2 약액 펌프; 및
상기 제2 약액 펌프에 연결되어 일측에 내부의 에어를 배출하는 제2 에어벤트(Air Vent)를 형성하고 상기 제2 약액 펌프의 구동에 따라 상기 제1 기액 분리 탱크의 약액을 전송받아 저장하며 상기 저장된 약액을 상기 버퍼 탱크로 전송하는 제2 기액 분리 탱크
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
A first gas-liquid separation tank connected to the chemical liquid pump to form a first air vent for discharging internal air at one side, and transmitting the chemical liquid stored according to the driving of the chemical liquid pump;
A second chemical liquid pump connected to the first gas liquid separation tank to suck and discharge the chemical liquid of the first gas liquid separation tank; And
It is connected to the second chemical pump to form a second air vent (Air Vent) for discharging the internal air on one side and receives and stores the chemical liquid of the first gas-liquid separation tank according to the driving of the second chemical pump A second gas-liquid separation tank for transferring the stored chemical liquid to the buffer tank
Chemical supply device further comprising a. 제12항에 있어서,
상기 제어부는 상기 버퍼 탱크의 약액 수위에 따라 상기 제2 약액 펌프를 구동시켜 상기 제1 기액 분리 탱크에 저장된 약액을 상기 제2 기액 분리 탱크를 거쳐 상기 버퍼 탱크로 공급하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 12,
The controller controls the chemical liquid stored in the first gas-liquid separation tank to be supplied to the buffer tank through the second gas-liquid separation tank by driving the second chemical liquid pump according to the chemical liquid level of the buffer tank. Feeding device. 제1항 또는 제12항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 출력단에 배관 내의 에어 및 기포의 유입을 감지하는 버블 감지 센서를 설치하고,
상기 제어부는 상기 버블 감지 센서에서 에어 및 기포의 유입이 감지되면 약액 경로를 변경하도록 약액 저장 용기의 교체를 결정하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method according to claim 1 or 12, wherein
A bubble detection sensor is installed at the output end of the chemical storage container to detect the inflow of air and bubbles in the pipe,
The control unit is a chemical liquid supply device, characterized in that for determining the replacement of the chemical liquid storage container to change the chemical liquid path when the inflow of air and bubbles from the bubble detection sensor. 제12항에 있어서,
상기 제어부는 상기 제2 기액 분리 탱크의 약액 수위가 기설정된 기준 수위 미만인 경우 상기 제2 약액 펌프를 구동하고, 상기 제1 기액 분리 탱크에서 약액 수위가 떨어지면 상기 약액 펌프를 구동하여 상기 약액 저장 용기의 약액을 공급받도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 12,
The control unit drives the second chemical liquid pump when the chemical liquid level of the second gas-liquid separation tank is less than a predetermined reference level, and when the chemical liquid level drops from the first gas-liquid separation tank, the controller operates the chemical liquid pump to operate the chemical liquid storage container. Chemical liquid supply apparatus characterized in that the control to receive the chemical liquid. 약액 펌프의 흡입과 배출에 의해, 약액을 저장하고 일측에 약액의 잔량을 감지하는 센서가 형성된 제1 약액 저장 용기와 제2 약액 저장 용기 중 하나로부터 버퍼 탱크로 약액이 공급되는 단계;
제어부가 상기 제1 약액 저장 용기에 설치된 센서에 의해 기설정된 약액 잔류량 미만을 감지하는 신호를 수신하는 단계; 및
상기 제어부는 상기 제1 약액 저장 용기의 약액 공급을 중단시키고 상기 제2 약액 저장 용기의 약액 공급을 교체하고 상기 약액 펌프의 구동에 의해 상기 제2 약액 저장 용기의 약액을 상기 버퍼 탱크로 전송하는 단계를 포함하고,
상기 제1 및 제2 약액 저장 용기는 상부면에 약액이 주입 및 배출되는 약액 통로부가 형성되고 상기 약액 통로부에서 수직으로 세워져 상기 제1 및 제2 약액 저장 용기의 내부 하단부까지 소정의 길이로 형성되고 상기 약액이 통과되도록 내부가 통공되어 있는 딥 튜브(Dip Tube)가 삽입되며,
상기 제1 및 제2 약액 저장 용기는 상기 약액의 잔량이 일측에 모일 수 있도록 상부에서 하부로 갈수록 경사지도록 형성되고 상기 딥 튜브의 하부 끝단면이 위치되도록 일정 깊이로 파져 있는 바닥홈을 형성하며,
상기 센서는 상기 바닥홈의 경계면에 위치하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.Supplying the chemical liquid to the buffer tank from one of the first chemical liquid storage container and the second chemical liquid storage container having a sensor configured to store the chemical liquid and detect a residual amount of the chemical liquid on one side by suction and discharge of the chemical liquid pump;
Receiving, by the control unit, a signal for detecting less than a predetermined residual amount of chemical solution by a sensor installed in the first chemical storage container; And
The control unit stops the chemical liquid supply of the first chemical liquid storage container, replace the chemical liquid supply of the second chemical liquid storage container and transfer the chemical liquid of the second chemical liquid storage container to the buffer tank by driving the chemical liquid pump. Including,
The first and second chemical storage containers are formed on the upper surface of the chemical liquid passage portion for injecting and discharging the chemical liquid is formed vertically from the chemical liquid passage portion to a predetermined length up to the inner lower end of the first and second chemical liquid storage containers And a dip tube (Dip Tube) through which the inside of the through so that the chemical is passed is inserted,
The first and second chemical storage containers are formed to be inclined from the top to the bottom so that the remaining amount of the chemical liquid is collected on one side and forms a bottom groove which is dug to a predetermined depth so that the lower end surface of the dip tube is located,
The sensor is a chemical liquid supply method, characterized in that located on the interface of the bottom groove. 제16항에 있어서,
상기 제1 및 제2 약액 저장 용기의 하부 바닥면으로부터 하부 방향으로 일정 거리 이격되어 상기 센서가 설치되고,
상기 딥 튜브의 하단 일측의 내부 통공에 약액이 채워져 있는 상태에서 상기 제2 약액 저장 용기로 교체되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.The method of claim 16,
The sensor is installed spaced apart a predetermined distance from the lower bottom surface of the first and second chemical storage containers in the downward direction,
The chemical solution supply method, characterized in that for replacing the second chemical storage container in the state that the chemical liquid is filled in the inner through-hole of the lower side of the dip tube. 제16항에 있어서,
상기 약액 펌프에 연결되어 일측에 내부의 에어 및 기포를 배출하는 에어벤트(Air Vent)를 형성하는 기액 분리 탱크(Air Remove Tank)가, 상기 약액 펌프의 구동에 따라 저장된 약액을 상기 버퍼 탱크로 전송하는 단계; 및
상기 제어부는 상기 버퍼 탱크의 약액 수위에 따라 상기 약액 펌프를 구동시켜 상기 기액 분리 탱크에 저장된 약액을 상기 버퍼 탱크로 공급하도록 제어하는 단계
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.The method of claim 16,
An air remove tank connected to the chemical pump to form an air vent for discharging air and bubbles therein, and transmits the stored chemical to the buffer tank according to the driving of the chemical pump. Doing; And
The controller controls the chemical liquid stored in the gas-liquid separation tank to be supplied to the buffer tank by driving the chemical liquid pump according to the chemical liquid level of the buffer tank.
Chemical liquid supply method further comprising a. 제18항에 있어서,
상기 기액 분리 탱크는 일측에 약액의 수위가 기설정된 기준 수위의 미만을 감지하여 약액의 보충을 알리는 약액 보충 개시 센서와 약액의 정량으로 내부에 저장되어 있는지 감지하는 정량 센서를 형성하고,
상기 제어부는 상기 약액 보충 개시 센서의 센싱에 따라 상기 약액 펌프를 구동시켜 상기 제1 및 제2 약액 저장 용기로부터 약액을 공급받아 상기 기액 분리 탱크에 저장하고, 상기 정량 센서의 센싱에 따라 상기 약액 펌프를 정지시키며 상기 에어벤트를 구동하여 상기 기액 분리 탱크의 내부의 에어 및 기포를 외부로 토출하도록 제어하는 단계
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.
The method of claim 18,
The gas-liquid separation tank forms a chemical liquid replenishment initiation sensor for detecting the replenishment of the chemical liquid by detecting the level of the chemical liquid below one of the preset reference levels on one side, and a quantitative sensor for detecting whether the chemical liquid is stored therein as a quantitative amount of the chemical liquid,
The control unit drives the chemical liquid pump according to the sensing of the chemical liquid replenishing start sensor, receives the chemical liquid from the first and second chemical liquid storage containers, stores the chemical liquid in the gas-liquid separation tank, and stores the chemical liquid pump according to the sensing of the quantitative sensor. Driving the air vent to stop the air and bubbles in the gas-liquid separation tank to the outside;
Chemical liquid supply method further comprising a.
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