KR20150112814A - Laser processing apparatus and laser processing method - Google Patents
Laser processing apparatus and laser processing method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20150112814A KR20150112814A KR1020150037920A KR20150037920A KR20150112814A KR 20150112814 A KR20150112814 A KR 20150112814A KR 1020150037920 A KR1020150037920 A KR 1020150037920A KR 20150037920 A KR20150037920 A KR 20150037920A KR 20150112814 A KR20150112814 A KR 20150112814A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pulse
- laser
- path
- machining
- energy
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
- H05K3/0017—Etching of the substrate by chemical or physical means
- H05K3/0026—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0626—Energy control of the laser beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
- B23K26/0673—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing into independently operating sub-beams, e.g. beam multiplexing to provide laser beams for several stations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
본 출원은, 2014년 3월 27일에 출원된 일본 특허출원 제2014-064974호에 근거하여 우선권을 주장한다. 그 출원의 전체 내용은 이 명세서 중에 참고로 원용되어 있다.The present application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2014-064974 filed on March 27, 2014. The entire contents of which are incorporated herein by reference.
본 발명은, 가공 대상물의 표면에 획정된 복수의 피가공점에 차례로 펄스레이저빔을 입사시켜 레이저 가공을 행하는 레이저 가공장치, 및 레이저 가공방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laser machining apparatus and a laser machining method for performing laser machining by sequentially applying a pulsed laser beam to a plurality of machining points defined on the surface of an object to be machined.
펄스레이저빔을 이용하여 프린트기판에 펀칭 가공을 행하는 기술이, 하기의 특허문헌 1에 개시되어 있다. 특허문헌 1에 개시된 방법에서는, 허용치보다 작은 펄스에너지를 가지는 레이저펄스가 프린트기판에 입사한 경우, 그 개소에 추가의 레이저펄스를 입사함으로써, 펄스에너지의 부족분이 보상된다.A technique for punching a printed substrate using a pulsed laser beam is disclosed in Patent Document 1 below. In the method disclosed in Patent Document 1, when a laser pulse having a pulse energy smaller than an allowable value is incident on a printed circuit board, an additional laser pulse is incident on the portion, thereby compensating for the shortage of pulse energy.
하기의 특허문헌 2에 개시된 방법에서는, 레이저펄스의 상승부분의 에너지를 검출한다. 검출결과가 허용범위 내이면, 그 레이저펄스의 후속부분을 가공 대상물에 입사시켜, 가공을 행한다. 검출결과가 허용범위로부터 벗어나 있는 경우에는, 그 레이저펄스는 가공 대상물에 입사시키지 않는다. 이로써, 에너지 부족이나 에너지 과다의 불량 레이저펄스가 가공 대상물에 입사하는 것을 방지할 수 있다.In the method disclosed in the following Patent Document 2, the energy of the rising portion of the laser pulse is detected. If the detection result is within the permissible range, the succeeding portion of the laser pulse is made incident on the object to be machined. When the detection result is out of the permissible range, the laser pulse is not incident on the object to be processed. This makes it possible to prevent a deficient laser pulse of energy shortage or energy from being incident on the object to be processed.
레이저펄스의 펄스에너지의 허용범위나, 레이저펄스의 상승부분의 에너지의 허용범위를 적절히 결정하기 위해서는, 상이한 펄스에너지로 다양한 평가실험을 행하지 않으면 안 된다. 레이저광원이 정상적으로 동작하고 있을 때의 펄스에너지의 불균일에 근거하여, 펄스에너지의 허용범위를 결정하는 것도 가능하다. 이 방법이면, 허용범위를 용이하게 결정할 수 있다.Various evaluation experiments must be performed with different pulse energies in order to appropriately determine the allowable range of the pulse energy of the laser pulse and the allowable range of the energy of the rising portion of the laser pulse. It is also possible to determine the permissible range of the pulse energy based on the non-uniformity of the pulse energy when the laser light source is normally operating. With this method, the allowable range can be easily determined.
펄스에너지는, 펄스의 반복주파수(이하, 간단히 "주파수"라고 함.)에 의존한다. 이로 인하여, 레이저 가공 시의 주파수가 불균일하면, 펄스에너지의 불균일이 커진다. 펄스에너지의 불균일이 커지면, 레이저광원이 정상 동작하고 있어도, 펄스에너지가 당초 결정된 허용범위로부터 벗어나 버리는 경우가 있다. 당초 결정된 허용범위를 기준으로 하여, 레이저펄스의 양호, 불량을 판정하면, 정상 동작 중에 출력된 레이저펄스가 불량으로 판정되어 버리는 경우가 있다.The pulse energy depends on the repetition frequency of the pulse (hereinafter simply referred to as "frequency"). As a result, if the frequency at the time of laser processing is nonuniform, the nonuniformity of the pulse energy becomes large. If the nonuniformity of the pulse energy is large, the pulse energy may deviate from the initially determined allowable range even if the laser light source operates normally. Judging whether the laser pulse is good or bad based on the initially determined allowable range, the laser pulse output during normal operation may be judged to be defective.
본 발명의 목적은, 주파수가 변동해도, 레이저펄스의 양호, 불량을 적절히 판정하는 것이 가능한 레이저 가공장치, 및 레이저 가공방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a laser machining apparatus and a laser machining method capable of appropriately determining a good or bad laser pulse even when the frequency varies.
본 발명의 일 관점에 의하면,According to one aspect of the present invention,
펄스레이저빔을 출력하는 레이저광원과,A laser light source for outputting a pulsed laser beam,
가공 대상물을 지지하는 스테이지와,A stage for supporting an object to be processed,
상기 레이저광원으로부터 출력된 상기 펄스레이저빔을, 상기 가공 대상물에 입사시킴과 함께, 상기 가공 대상물의 표면에 있어서의 입사위치를 이동시키는 빔주사기와,A beam syringe for causing the pulsed laser beam outputted from the laser light source to enter the object to be processed and moving the incident position on the surface of the object,
상기 레이저광원으로부터 출력된 상기 펄스레이저빔의 각 레이저펄스의 펄스에너지에 의존하는 물리량을 측정하는 광검출기와,A photodetector for measuring a physical quantity depending on pulse energy of each laser pulse of the pulse laser beam output from the laser light source;
상기 레이저광원으로부터 출력된 상기 펄스레이저빔의 경로를, 상기 가공 대상물에 입사하는 제1 경로와, 상기 가공 대상물에 입사하지 않는 제2 경로와의 사이에서 전환시키는 경로전환기와,A path switching unit for switching the path of the pulse laser beam output from the laser light source between a first path for entering the object to be processed and a second path for not entering the object to be processed,
상기 가공 대상물의 표면의 복수의 피가공점의 위치, 및 가공순서를 기억하고 있으며, 상기 피가공점의 위치, 상기 가공순서, 및 상기 광검출기의 검출결과에 근거하여, 상기 빔주사기 및 상기 경로전환기를 제어하는 제어장치Wherein the position of the plurality of processing points on the surface of the object to be processed and the machining order are memorized and based on the position of the machining point, the machining order, and the detection result of the photodetector, Control device for controlling the switching device
를 가지고,Lt; / RTI &
상기 제어장치는,The control device includes:
상기 가공순서에 근거하여 상기 피가공점의 위치에 상기 펄스레이저빔이 입사하도록 상기 빔주사기를 제어하면서, 상기 광검출기로 레이저펄스의 각각의 펄스에너지에 의존하는 상기 물리량을 측정하며, 상기 물리량의 분포에 근거하여, 상기 물리량의 허용범위를 결정하는 가공 전 준비절차를 실행하고,The beam detector is controlled so that the pulse laser beam is incident on the position of the processing point based on the machining order, and the physical quantity depending on each pulse energy of the laser pulse is measured by the optical detector, Executes a preprocess preparation procedure for determining an allowable range of the physical quantity based on the distribution,
상기 가공 전 준비절차 후, 상기 가공 대상물의 가공 중에, 상기 광검출기로 측정된 상기 물리량이, 상기 허용범위에 들어가 있는 레이저펄스의 적어도 일부를, 상기 제1 경로를 따라 전반시키며, 상기 허용범위로부터 벗어나 있는 레이저펄스는, 상기 제2 경로를 따라 전반시키는 레이저 가공장치가 제공된다.Wherein the physical quantity measured by the photodetector propagates at least a part of the laser pulse falling within the allowable range along the first path during the machining of the object after the preprocessing preparation procedure, The laser processing apparatus is provided for causing an outgoing laser pulse to propagate along the second path.
본 발명의 다른 관점에 의하면,According to another aspect of the present invention,
펄스레이저빔이, 정해진 피가공점의 위치에, 정해진 가공순서로 입사하도록, 빔주사기를 제어하면서, 각 레이저펄스의, 펄스에너지에 의존하는 물리량을 측정하는 공정과,A step of measuring a physical quantity depending on pulse energy of each laser pulse while controlling the beam syringe so that the pulsed laser beam is incident on a predetermined processing position at a predetermined processing order;
측정된 상기 물리량의 분포에 근거하여, 상기 물리량의 허용범위를 결정하는 공정과,Determining a permissible range of the physical quantity based on the measured distribution of the physical quantity;
가공 대상물 상의 상기 피가공점의 위치에, 상기 가공순서로 펄스레이저빔을 입사시켜, 레이저 가공을 행하는 공정A step of irradiating a pulse laser beam to the position of the work point on the object to be processed in the machining order to perform laser machining
을 가지고,To have,
상기 레이저 가공을 행하는 공정에 있어서, 상기 펄스레이저빔의 각 레이저펄스의 상기 물리량을 측정하여, 측정 결과가 상기 허용범위에 들어가 있는 경우에는, 당해 레이저펄스의 적어도 일부를 상기 가공 대상물에 입사시키며, 측정 결과가 상기 허용범위로부터 벗어나 있는 경우에는, 당해 레이저펄스를 상기 가공 대상물에 입사시키지 않는 레이저 가공방법이 제공된다.In the step of performing the laser processing, the physical quantity of each laser pulse of the pulse laser beam is measured. When the measurement result falls within the allowable range, at least a part of the laser pulse is incident on the object, And when the measurement result is out of the allowable range, the laser pulse is not incident on the object to be processed.
실제로 빔주사기를 제어하면서 펄스레이저빔을 출력하여, 펄스에너지에 의존하는 물리량을 측정하기 때문에, 가공 시의 펄스레이저빔의 주파수의 불균일에 의한 펄스에너지의 불균일이, 허용범위의 결정에 반영된다. 이로 인하여, 레이저펄스의 양호, 불량을 적절히 판정하는 것이 가능하게 된다.The pulse laser beam is actually outputted while controlling the beam syringe to measure the physical quantity depending on the pulse energy. Therefore, the non-uniformity of the pulse energy due to the non-uniformity of the frequency of the pulsed laser beam at the time of processing is reflected in the determination of the allowable range. This makes it possible to appropriately judge whether the laser pulse is good or bad.
도 1은, 실시예에 의한 레이저 가공장치의 개략도이다.
도 2는, 트리거신호(trg), 경로전환기에 입사하는 레이저펄스(Lp1), 가공경로를 전반하는 레이저펄스(Lp2), 댐퍼경로를 전반하는 레이저펄스(Lp3), 경로전환기를 제어하는 제어신호(con), 및 광검출기로부터 제어장치로 송신되는 검출신호(det)의 타이밍차트 및 파형의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 3에 있어서, 도 3A는, 레이저광원으로부터 레이저펄스가 일정 주파수로 출력되고 있는 경우의 타이밍차트이며, 도 3B는, 레이저펄스가 일정 주파수로 출력되고 있는 경우의, 판정에너지의 히스토그램이다.
도 4에 있어서, 도 4A는, 가공 대상물의 개략 평면도이고, 도 4B는, 가공 중의 레이저펄스의 타이밍차트이며, 도 4C는, 가공 중의 레이저펄스의 판정에너지의 히스토그램이다.
도 5는, 실시예에 의한 레이저 가공방법의 플로차트이다.
도 6에 있어서, 도 6A는, 스텝 S1에서 레이저광원으로부터 출력되는 레이저펄스의 타이밍차트이고, 도 6B는, 도 6A에 나타낸 타이밍에 출력되는 레이저펄스의 판정에너지의 히스토그램이다.
도 7은, 피가공점의 배치패턴과, 허용범위와의 대응관계를 나타내는 도표이다.1 is a schematic view of a laser machining apparatus according to an embodiment.
Fig. 2 is a schematic diagram showing the configuration of the laser control apparatus according to the first embodiment of the present invention. The laser pulse Lp1 is a laser pulse Lp1 which propagates through a machining path, a laser pulse Lp3 which propagates a damper path, (con), and a detection chart (det) transmitted from the photodetector to the control apparatus.
In Fig. 3, Fig. 3A is a timing chart when laser pulses are output from a laser light source at a constant frequency, and Fig. 3B is a histogram of judgment energy when laser pulses are output at a constant frequency.
Fig. 4A is a schematic plan view of the object to be processed, Fig. 4B is a timing chart of laser pulses during processing, and Fig. 4C is a histogram of judgment energy of laser pulses during processing.
5 is a flowchart of a laser machining method according to the embodiment.
6A is a timing chart of laser pulses output from the laser light source in step S1, and FIG. 6B is a histogram of determination energy of laser pulses output at the timing shown in FIG. 6A.
7 is a chart showing the correspondence relationship between the arrangement pattern of the machining points and the allowable range.
도 1에, 실시예에 의한 레이저 가공장치의 개략도를 나타낸다. 실시예에 의한 레이저 가공장치는, 예를 들면 프린트기판에 펀칭 가공하는 레이저드릴이다. 레이저광원(10)이, 제어장치(50)로부터 트리거신호(trg)를 수신함으로써, 펄스레이저빔을 출력한다. 레이저광원(10)에는, 예를 들면 탄산가스 레이저가 이용된다.Fig. 1 shows a schematic view of a laser machining apparatus according to an embodiment. The laser machining apparatus according to the embodiment is, for example, a laser drill for punching a printed substrate. The
레이저광원(10)으로부터 출력된 펄스레이저빔이 조사광학계(11)에 입사한다. 조사광학계(11)는, 펄스레이저빔의 확산각 및 빔직경 중 적어도 일방을 변화시킨다. 조사광학계(11)를 투과한 펄스레이저빔이 애퍼처(13)에 입사한다. 조사광학계(11)는, 애퍼처(13)의 위치에 있어서의 빔프로파일을 균일화하는 기능도 가진다. 애퍼처(13)는, 빔단면을 정형한다.The pulse laser beam output from the
애퍼처(13)를 투과한 펄스레이저빔이 경로전환기(15)에 입사한다. 경로전환기(15)는, 제어장치(50)로부터 제어신호(con)를 수신함으로써, 펄스레이저빔의 경로를, 가공경로(16)와 댐퍼경로(17)와의 사이에서 전환한다. 경로전환기(15)에는, 예를 들면 음향광학소자(AOD)가 이용된다. 입력된 레이저펄스(Lp1)가 직진하는 경로가, 댐퍼경로(17)에 상당하고, 레이저펄스가 회절된 경로가, 가공경로(16)에 상당한다.The pulse laser beam transmitted through the
가공경로(16)를 따라 전반하는 레이저펄스(Lp2)는, 폴드미러(18)에 의하여 편향되어, 빔주사기(20)에 입사한다. 빔주사기(20)는, 제어장치(50)에 의하여 제어되어, 펄스레이저빔의 진행방향을 이차원방향으로 바꾼다. 빔주사기(20)에는, 예를 들면 한 쌍의 갈바노스캐너가 이용된다.The laser pulse Lp2 propagating along the
빔주사기(20)를 통과한 펄스레이저빔이, 대물렌즈(21)를 투과하여 가공 대상물(40)에 입사한다. 대물렌즈(21)에는, 예를 들면 fθ렌즈가 이용된다. 가공 대상물(40)은, 예를 들면 펀칭 가공해야 하는 프린트기판이다. 가공 대상물(40)은, 스테이지(23)에 지지되어 있다. 스테이지(23)는, 이동기구(24)에 의하여, 가공 대상물(40)의 표면에 평행한 이차원방향으로 이동한다. 이동기구(24)는, 제어장치(50)에 의하여 제어된다.The pulse laser beam having passed through the
대물렌즈(21)에 의하여, 애퍼처(13)의 개구부가, 가공 대상물(40)의 표면에 축소 투영된다. 빔주사기(20)에 의하여 펄스레이저빔의 진행방향을 바꿈으로써, 가공 대상물(40)의 표면에 있어서, 펄스레이저빔의 입사위치를 이동시킬 수 있다.The aperture of the
댐퍼경로(17)를 따라 전반하는 레이저펄스(Lp3)는, 부분반사미러(30)에 입사한다. 부분반사미러(30)를 투과한 레이저펄스가 빔댐퍼(31)에 입사한다. 부분반사미러(30)에서 반사된 레이저펄스가, 광검출기(32)에 입사한다. 광검출기(32)에는, 예를 들면, 레이저광원(10)으로부터 출력되는 펄스레이저빔의 파장역에 대하여 감도를 가지는 에너지미터가 이용된다. 광검출기(32)에 의한 검출신호(det)가, 제어장치(50)에 입력된다.The laser pulse Lp3 propagating along the
제어장치(50)는, 기억장치(51)를 포함한다. 기억장치(51)에는, 가공 대상물(40)의 복수의 피가공점의 위치정보, 가공순서, 및 제어에 필요한 다양한 정보가 기억되어 있다.The control device (50) includes a storage device (51). The
도 2에, 트리거신호(trg), 경로전환기(15)에 입사하는 레이저펄스(Lp1), 가공경로(16)를 전반하는 레이저펄스(Lp2), 댐퍼경로(17)를 전반하는 레이저펄스(Lp3), 경로전환기(15)를 제어하는 제어신호(con), 및 광검출기(32)로부터 제어장치(50)에 송신되는 검출신호(det)의 타이밍차트 및 파형의 일례를 나타낸다.A laser pulse Lp1 that propagates through the
시각 t1에 있어서, 트리거신호(trg)가 상승하면, 약간 늦게 시각 t2에 레이저펄스(Lp1)가 상승한다. 이 시점에서는, 경로전환기(15)의 출력경로는, 댐퍼경로(17)로 전환되어 있다. 이로 인하여, 댐퍼경로(17)를 전반하는 레이저펄스(Lp3)가 상승한다.At time t1, when the trigger signal trg rises, the laser pulse Lp1 rises slightly at time t2. At this point of time, the output path of the
광검출기(32)가 레이저펄스(Lp3)를 검출하여, 검출신호(det)를 제어장치(50)에 송신한다. 검출신호(det)의 크기는, 레이저펄스(Lp3)의 파워에 대략 비례한다. 제어장치(50)는, 상승시각 t2부터 일정한 시간이 경과한 시각 t3까지, 검출신호(det)를 적분한다. 적분 결과는 기억장치(51)에 기억된다.The
시각 t4에 있어서, 제어장치(50)가 경로전환기(15)에, 가공경로(16)로 전환하는 제어신호(con)를 송신한다. 경로전환기(15)의 출력경로가 댐퍼경로(17)로부터 가공경로(16)로 전환됨으로써, 레이저펄스(Lp3)가 하강하고, 레이저펄스(Lp2)가 상승한다. 레이저펄스(Lp3)가 하강함으로써, 광검출기(32)의 검출신호(det)도 0이 된다.At time t4, the
시각 t5에 있어서, 제어장치(50)가 경로전환기(15)에, 댐퍼경로(17)로 전환하는 제어신호(con)를 송신한다. 경로전환기(15)의 출력경로가 가공경로(16)로부터 댐퍼경로(17)로 전환됨으로써, 레이저펄스(Lp3)가 상승하고, 레이저펄스(Lp2)가 하강한다. 레이저펄스(Lp3)가 상승함으로써, 광검출기(32)의 검출신호(det)도 상승한다.At time t5, the
시각 t6에 있어서, 트리거신호(trg)가 하강한다. 이로써, 레이저펄스(Lp1) 및 레이저펄스(Lp3)가 하강한다. 레이저펄스(Lp3)가 하강함으로써, 광검출기(32)의 검출신호(det)도 하강한다.At time t6, the trigger signal trg falls. As a result, the laser pulse Lp1 and the laser pulse Lp3 fall. As the laser pulse Lp3 falls, the detection signal det of the
광검출기(32)의 검출신호(det)를, 시각 t2부터 t3까지 적분한 값(도 2에 있어서 해칭한 부분의 면적)은, 레이저펄스(Lp1)의 상승부분의 에너지에 상당한다. 레이저펄스(Lp1)로부터 가공용으로서 잘려 나온 레이저펄스(Lp2)의 펄스폭이 일정하면, 레이저펄스(Lp2)의 펄스에너지와, 레이저펄스(Lp1)의 상승부분의 에너지는, 상관관계를 가지고 있다. 이로 인하여, 레이저펄스(Lp1)의 상승부분의 에너지에 의하여, 레이저펄스(Lp2)의 펄스에너지의 정상성을 판정할 수 있다. 레이저펄스(Lp1)의 상승부분의 에너지를, "판정에너지"로 하는 것으로 한다. 판정에너지는, 펄스에너지에 의존하는 물리량이다.The value obtained by integrating the detection signal det of the
시각 t2부터 시각 t3까지의 시간은, 레이저펄스(Lp1)의 평균적인 상승시간에 근거하여 결정된다. 시각 t2부터 시각 t3까지의 시간으로서, 레이저펄스(Lp1)의 파워가 정상 상태에 이를 때까지의 평균 시간을 채용해도 되고, 레이저펄스(Lp2)의 파워가, 정상 상태의 파워의 90%에 이를 때까지의 평균 시간을 채용해도 된다.The time from time t2 to time t3 is determined based on the average rise time of the laser pulse Lp1. The average time until the power of the laser pulse Lp1 reaches the steady state may be employed as the time from the time t2 to the time t3 and the power of the laser pulse Lp2 may reach 90% May be employed.
펄스에너지에 의존하는 물리량으로서, 상승부분의 에너지 대신에, 레이저펄스(Lp1)의 상승부분의 파워를 채용해도 된다. 상승부분 중, 시간축 상에서 1점의 파워만을, 펄스에너지에 의존하는 물리량으로서 채용하면, 파워로부터 추측되는 펄스에너지의 신뢰성이 낮아진다. 상승부분 중, 시간축 상에서 복수 개소의 파워를, 펄스에너지에 의존하는 물리량으로서 채용함으로써, 파워로부터 추측되는 펄스에너지의 신뢰성을 높일 수 있다.As the physical quantity depending on the pulse energy, the power of the rising portion of the laser pulse Lp1 may be employed instead of the energy of the rising portion. If only one point of power on the time axis among the rising portions is employed as a physical quantity depending on the pulse energy, the reliability of the pulse energy estimated from the power is lowered. The reliability of the pulse energy estimated from the power can be enhanced by employing a plurality of power sources on the time axis as physical quantities depending on the pulse energy.
도 3A에, 레이저광원(10)으로부터 레이저펄스(Lp1)가 일정 주파수로 출력되고 있는 경우의 타이밍차트를 나타낸다.Fig. 3A shows a timing chart when the laser pulse Lp1 is output from the
도 3B에, 레이저펄스(Lp1)가 일정 주파수로 출력되고 있는 경우의, 판정에너지의 히스토그램을 나타낸다. 가로축은 판정에너지를 나타내고, 세로축은 도수를 나타낸다. 레이저광원(10)이 정상적으로 동작하고 있는 경우에는, 판정에너지의 분포는, 대략 정규 분포에 따른다. 판정에너지의 평균치를 m, 표준편차를 σ로 나타내면, 대부분의 레이저펄스(Lp1)의 판정에너지는, m±3σ의 범위(이하, 정상범위(R0)라고 함.)에 들어간다.Fig. 3B shows a histogram of judgment energy when the laser pulse Lp1 is outputted at a constant frequency. The horizontal axis represents determination energy, and the vertical axis represents frequency. In the case where the
도 4A에, 가공 대상물(40)의 개략 평면도를 나타낸다. 가공 대상물(40)의 표면에 복수의 피가공점(41)이 획정되어 있다. 피가공점(41)에 레이저펄스(Lp2)(도 1)를 입사시킴으로써, 펀칭 가공이 행해진다. 피가공점(41)의 가공순서는 미리 정해져 있다. 도 4A에 있어서, 가공순서의 일례를 화살표로 나타내고 있다. 도 4A에 나타낸 바와 같이, 가공된 피가공점(41)으로부터, 다음으로 가공해야 하는 피가공점(41)까지의 거리는, 일정하지 않고, 불균일하다. 펄스레이저빔의 입사위치의 이동거리가 길어지면, 빔주사기(20)의 정정(整定)시간도 길어진다. 이로 인하여, 가공 대상물(40)의 가공 중에는, 펄스레이저빔의 주파수는 일정하지 않고, 펄스레이저빔의 입사위치의 이동거리에 따라 변동한다.Fig. 4A shows a schematic plan view of the
도 4B에, 레이저광원(10)으로부터 출력되는 펄스레이저빔의, 가공기간 중에 있어서의 타이밍차트의 일례를 나타낸다. 도 4B에 나타내는 바와 같이, 펄스레이저빔의 주파수가 불균일하다.4B shows an example of a timing chart of the pulse laser beam output from the
도 4C에, 펄스레이저빔의 주파수가 불균일할 때의 판정에너지의 히스토그램을 나타낸다. 비교를 위하여, 펄스레이저빔의 주파수가 일정할 때의 판정에너지의 히스토그램을 파선으로 나타낸다. 일반적으로, 레이저광원(10)으로부터 출력되는 펄스레이저빔의 펄스에너지는, 주파수에 의존한다. 예를 들면, 탄산가스 레이저에 있어서는, 주파수가 높아지면, 펄스에너지가 저하되는 경향을 가진다.Fig. 4C shows a histogram of judgment energy when the frequency of the pulse laser beam is non-uniform. For comparison, the histogram of the judgment energy when the frequency of the pulsed laser beam is constant is shown by a broken line. Generally, the pulse energy of the pulsed laser beam output from the
주파수가 불균일할 때의 판정에너지의 불균일에는, 주파수가 일정할 때의 판정에너지의 불균일에, 주파수가 불균일한 것에 기인하는 판정에너지의 불균일이 중첩된다. 이로 인하여, 주파수가 불균일하면, 판정에너지의 불균일이 커진다. 주파수가 일정하지 않은 경우에는, 레이저광원(10)이 정상적으로 동작하고 있는 경우이더라도, 판정에너지가 정상범위(R0)로부터 벗어나 버리는 경우가 발생한다.Unevenness of the judgment energy when the frequency is uneven is superimposed on non-uniformity of the judgment energy when the frequency is constant and non-uniformity of the judgment energy due to non-uniformity of the frequency. As a result, if the frequency is not uniform, unevenness of determination energy becomes large. In the case where the frequency is not constant, even when the
판정에너지가 정상범위(R0)에 포함되는 레이저펄스만을 레이저 가공에 이용하는 제어를 행하는 경우, 레이저광원(10)이 정상적으로 동작하고 있음에도 불구하고, 정상범위(R0)로부터 벗어난 판정에너지를 가지는 레이저펄스가 가공에 이용되지 않게 된다. 이로 인하여, 레이저에너지의 이용 효율이 저하되어 버린다. 이하에 설명하는 실시예에서는, 레이저광원(10)이 정상적으로 동작하고 있는 조건하에서의 판정에너지의 불균일에 기인하는 레이저에너지의 이용 효율의 저하를 억제할 수 있다.A laser pulse having a determination energy deviating from the normal range R0 is used even when the laser energy is within the normal range R0 and only the laser pulse included in the normal range R0 is used for laser processing. It is not used for processing. As a result, the utilization efficiency of the laser energy is lowered. In the embodiments described below, it is possible to suppress the deterioration of the utilization efficiency of the laser energy due to the non-uniformity of the determination energy under the condition that the
도 5에, 실시예에 의한 레이저 가공방법의 플로차트를 나타낸다. 스텝 S1에 있어서, 가공 대상물(40)의 피가공점(41)(도 4A)의 위치, 및 가공순서에 근거하여, 레이저광원(10) 및 빔주사기(20)를 제어함으로써, 레이저광원(10)으로부터 펄스레이저빔을 출력한다. 이 때, 경로전환기(15)는, 출력경로가 댐퍼경로(17)로 전환된 상태에 유지해 둔다. 이로 인하여, 스테이지(23)에는, 펄스레이저빔이 입사하지 않는다. 단, 빔주사기(20)를 제어하고 있기 때문에, 펄스레이저빔의 주파수에는, 빔주사기(20)의 정정시간의 불균일이 반영된다.Fig. 5 shows a flowchart of a laser machining method according to the embodiment. The
도 6A에, 스텝 S1에서 레이저광원(10)으로부터 출력되는 레이저펄스(Lp1)의 타이밍차트를 나타낸다. 스텝 S1에 있어서의 펄스레이저빔의 주파수는, 도 4B에 나타낸 가공기간 중의 펄스레이저빔의 주파수와 마찬가지로, 불균일하다. 빔주사기(20)가, 실제의 피가공점(41)의 위치, 및 가공순서에 근거하여 제어되고 있기 때문에, 스텝 S1에 있어서의 펄스레이저빔의 주파수의 불균일의 정도는, 가공 시의 펄스레이저빔의 주파수의 불균일의 정도와 동일하다.6A shows a timing chart of the laser pulse Lp1 outputted from the
광검출기(32)의 측정 결과가 제어장치(50)에 입력된다. 제어장치(50)는, 각 레이저펄스(Lp1)의 판정에너지를 구하고, 구해진 판정에너지를 기억장치(51)에 격납한다.The result of the measurement of the
스텝 S2에 있어서, 판정에너지의 분포에 근거하여, 판정에너지의 허용범위 R1을 결정한다.In step S2, the allowable range R1 of the determination energy is determined based on the distribution of the determination energy.
도 6B를 참조하여, 판정에너지의 허용범위 R1의 결정방법에 대하여 설명한다. 도 6B에, 판정에너지의 히스토그램을 나타낸다. 비교를 위하여, 펄스레이저빔의 주파수가 일정할 때의 판정에너지의 분포를 파선으로 나타낸다. 스텝 S1에서 구해진 판정에너지의 분포의 평균치를 m1로 나타내고, 표준편차를 σ1로 나타낸다. 일례로서, 허용범위 R1의 상한치를 m1+3σ1로 하고, 하한치를 m1-3σ1로 한다. 판정에너지의 불균일의 확산에 따라, 주파수가 일정할 때의 정상범위 R0보다, 주파수가 불균일할 때의 허용범위 R1이 넓게 되어 있다.A method of determining the allowable range R1 of the determination energy will be described with reference to Fig. 6B. Fig. 6B shows a histogram of judgment energy. For comparison, the distribution of the determination energy when the frequency of the pulsed laser beam is constant is shown by a broken line. The mean value of the distribution of the determination energy obtained in step S1 is denoted by m1, and the standard deviation is denoted by? 1. As an example, the upper limit value of the permissible range R1 is m1 + 3σ1, and the lower limit value is m1-3σ1. The allowable range R1 when the frequency is uneven is wider than the normal range R0 when the frequency is constant in accordance with the diffusion of the non-uniformity of the judgment energy.
스텝 S3(도 5)에 있어서, 가공 대상물(40)을 스테이지(23)(도 1)에 싣는다. 스텝 S4에 있어서, 빔주사기(20)를 동작시켜, 펄스레이저빔의 빔주사기(20)가 정정될 때까지 대기한다. 빔주사기(20)가 정정되면, 스텝 S5에 있어서 레이저광원(10)으로부터 1개의 레이저펄스(Lp1)를 출력한다. 레이저펄스(Lp1)의 출력 개시시점에서는, 경로전환기(15)의 출력경로가 댐퍼경로(17)로 전환되어 있다. 이로 인하여, 광검출기(32)에 의한 광강도의 검출신호(det)가 제어장치(50)에 입력된다. 제어장치(50)는, 광검출기(32)로부터 입력된 검출신호(det)에 근거하여, 판정에너지를 산출한다.In step S3 (Fig. 5), the object to be processed 40 is placed on the stage 23 (Fig. 1). In step S4, the
스텝 S6에 있어서, 판정에너지가, 허용범위 R1에 들어가 있는지 아닌지를 판정한다. 판정에너지가 허용범위 R1로부터 벗어나 있는 경우에는, 레이저펄스(Lp1)의 하강 후, 스텝 S5로 되돌아가, 다음의 레이저펄스(Lp1)를 출력한다. 판정에너지가 허용범위 R1에 들어가 있는 경우에는, 스텝 S7에 있어서, 경로전환기(15)를 제어함으로써, 레이저펄스(Lp1)로부터 레이저펄스(Lp2)(도 2)를 잘라내, 가공경로(16)를 따라 전반시킨다. 레이저펄스(Lp2)가 가공 대상물(40)에 입사하여, 펀칭 가공이 행해진다.In step S6, it is determined whether or not the determination energy falls within the allowable range R1. If the determination energy is out of the allowable range R1, the process returns to step S5 after the fall of the laser pulse Lp1 to output the next laser pulse Lp1. 2) from the laser pulse Lp1 and cuts off the laser beam Lp2 (Fig. 2) by controlling the
스텝 S8에 있어서, 모든 피가공점(41)의 가공이 종료되었는지 아닌지를 판정한다. 미가공의 피가공점(41)이 남아 있는 경우에는, 스텝 S4로 되돌아가, 다음의 피가공점(41)의 가공을 행한다. 1개의 피가공점(41)당 복수의 레이저펄스를 입사시켜 가공을 행하는 경우에는, 사이클모드 가공, 또는 버스트모드 가공이 적용된다.In step S8, it is determined whether machining of all the machining points 41 has been completed. If the
사이클모드 가공에 있어서는, 1개의 피가공점(41)에 1개의 레이저펄스를 입사시킬 때마다, 다음의 피가공점(41)으로 입사위치를 이동시킨다. 모든 피가공점(41)에 대하여 1쇼트의 레이저펄스를 입사시키는 순서를 1사이클로 하고, 이 사이클을 복수 회 반복함으로써, 원하는 쇼트 수의 레이저펄스를, 피가공점(41)에 입사시킬 수 있다. 사이클모드 가공을 행하는 경우에는, 스텝 S8에 있어서, 원하는 횟수만큼 사이클이 반복되었을 때, 가공이 종료되었다고 판정된다.In the cycle mode processing, the incident position is moved to the
버스트모드 가공에 있어서는, 1개의 피가공점(41)에, 원하는 쇼트 수의 레이저펄스를 연속 입사시킨 후, 다음으로 가공해야 하는 피가공점(41)의 가공을 행한다. 버스트모드 가공을 행하는 경우에, 직전의 레이저펄스와, 다음의 레이저펄스를 동일한 피가공점(41)에 입사시킬 때에는, 스텝 S4에 있어서 빔주사기(20)를 동작시킬 필요가 없다.In the burst mode machining, the laser beam of a desired number of shots is successively incident on one
모든 피가공점(41)의 가공이 완료된 경우에는, 스텝 S9에 있어서, 피가공점(41)의 배치패턴이 동일한 미가공의 가공 대상물(40)이 남아 있는지 아닌지를 판정한다. 미가공의 가공 대상물(40)이 남아 있는 경우에는, 스텝 S3로 되돌아가, 다음으로 가공해야 하는 가공 대상물(40)을 스테이지(23)에 싣는다. 미가공의 가공 대상물(40)이 남아 있지 않은 경우에는, 가공순서를 종료시킨다.When all of the machining points 41 have been machined, it is determined in step S9 whether or not the
직전에 가공한 가공 대상물(40)의 피가공점(41)의 배치패턴과 상이한 배치패턴을 가지는 가공 대상물(40)을 가공하는 경우에는, 스텝 S1~스텝 S2의 가공 전 준비절차를 실행하여, 허용범위 R1을 새롭게 결정한다.In the case of machining the
상기 실시예에서는, 도 6B에 나타낸 정상범위 R0으로부터 벗어난 판정에너지를 가지는 레이저펄스(Lp1)이더라도, 판정에너지가 허용범위 R1에 들어가 있는 레이저펄스는, 가공용으로서 이용된다. 이로 인하여, 레이저에너지의 이용 효율의 저하를 억제할 수 있다. 또, 레이저광원(10)의 동작이 불안정해져, 판정에너지가 허용범위 R1로부터 벗어난 경우에는, 그 레이저펄스(Lp1)는 가공에 이용되지 않는다. 이로 인하여, 펄스에너지가 부족 또는 과잉인 레이저펄스(Lp2)의 입사에 기인하는 가공품질의 저하를 방지할 수 있다.In the above embodiment, even if the laser pulse Lp1 having the determination energy deviates from the normal range R0 shown in Fig. 6B, the laser pulse whose determination energy falls within the allowable range R1 is used for processing. As a result, the deterioration of the utilization efficiency of the laser energy can be suppressed. When the operation of the
상기 실시예에서는, 피가공점(41)의 배치패턴이 동일한 복수의 가공 대상물(40)의 가공을 개시하기 전에, 스텝 S1~스텝 S2(도 5)의 가공 전 순서를 실시하여, 허용범위 R1을 결정했다. 결정된 허용범위 R1과, 피가공점(41)의 배치패턴을 관련지은 대응관계를, 기억장치(51)에 기억해 두어도 된다.In the above embodiment, before starting the machining of the plurality of
도 7에, 이 대응관계의 일례를 나타낸다. 피가공점(41)의 배치패턴마다, 허용범위 R1의 하한치 및 상한치가 기억되어 있다. 다음으로 가공해야 하는 가공 대상물(40)의 피가공점(41)의 배치패턴이, 도 7의 대응표에 기억되어 있는 경우에는, 스텝 S1~스텝 S2(도 2)를 생략할 수 있다. 스텝 S6에 있어서, 판정에너지가, 기억장치(51)에 기억되어 있는 허용범위 R1에 들어가 있는지 아닌지를 판정하면 된다.Fig. 7 shows an example of this correspondence relationship. The lower limit value and the upper limit value of the allowable range R1 are stored for each arrangement pattern of the
이상 실시예를 따라 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 이들에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 다양한 변경, 개량, 조합 등이 가능한 것은 당업자에게 자명할 것이다.While the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited thereto. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like are possible.
10 레이저광원
11 조사광학계
13 애퍼처
15 경로전환기
16 가공경로
17 댐퍼경로
18 폴드미러
20 빔주사기
21 대물렌즈
23 스테이지
24 이동기구
30 부분반사미러
31 빔댐퍼
32 광검출기
40 가공 대상물
41 피가공점
50 제어장치
51 기억장치
Lp1, Lp2, Lp3 레이저펄스
con 제어신호
det 검출신호
trg 트리거신호
R0 정상범위
R1 허용범위10 laser light source
11 irradiation optical system
13 Aperture
15 Path switcher
16 machining path
17 Damper path
18 fold mirror
20 beam syringe
21 objective lens
23 stage
24 mobile device
30 partial reflection mirror
31 beam damper
32 photodetector
40 Object to be processed
41 Work point
50 control device
51 Memory
Lp1, Lp2, Lp3 laser pulses
con control signal
det detection signal
trg trigger signal
R0 normal range
R1 allowable range
Claims (7)
가공 대상물을 지지하는 스테이지와,
상기 레이저광원으로부터 출력된 상기 펄스레이저빔을, 상기 가공 대상물에 입사시킴과 함께, 상기 가공 대상물의 표면에 있어서의 입사위치를 이동시키는 빔주사기와,
상기 레이저광원으로부터 출력된 상기 펄스레이저빔의 각 레이저펄스의 펄스에너지에 의존하는 물리량을 측정하는 광검출기와,
상기 레이저광원으로부터 출력된 상기 펄스레이저빔의 경로를, 상기 가공 대상물에 입사하는 제1 경로와, 상기 가공 대상물에 입사하지 않는 제2 경로와의 사이에서 전환시키는 경로전환기와,
상기 가공 대상물의 표면의 복수의 피가공점의 위치, 및 가공순서를 기억하고 있으며, 상기 피가공점의 위치, 상기 가공순서, 및 상기 광검출기의 검출결과에 근거하여, 상기 빔주사기 및 상기 경로전환기를 제어하는 제어장치
를 가지고,
상기 제어장치는,
상기 가공순서에 근거하여 상기 피가공점의 위치에 상기 펄스레이저빔이 입사하도록 상기 빔주사기를 제어하면서, 상기 광검출기로 레이저펄스의 각각의 펄스에너지에 의존하는 상기 물리량을 측정하며, 상기 물리량의 분포에 근거하여, 상기 물리량의 허용범위를 결정하는 가공 전 준비절차를 실행하고,
상기 가공 전 준비절차 후, 상기 가공 대상물의 가공 중에, 상기 광검출기로 측정된 상기 물리량이, 상기 허용범위에 들어가 있는 레이저펄스의 적어도 일부를, 상기 제1 경로를 따라 전반시키며, 상기 허용범위로부터 벗어나 있는 레이저펄스는, 상기 제2 경로를 따라 전반시키는 레이저 가공장치.A laser light source for outputting a pulsed laser beam,
A stage for supporting an object to be processed,
A beam syringe for causing the pulsed laser beam outputted from the laser light source to enter the object to be processed and moving the incident position on the surface of the object,
A photodetector for measuring a physical quantity depending on pulse energy of each laser pulse of the pulse laser beam output from the laser light source;
A path switching unit for switching the path of the pulse laser beam output from the laser light source between a first path for entering the object to be processed and a second path for not entering the object to be processed,
Wherein the position of the plurality of processing points on the surface of the object to be processed and the machining order are memorized and based on the position of the machining point, the machining order, and the detection result of the photodetector, Control device for controlling the switching device
Lt; / RTI &
The control device includes:
The beam detector is controlled so that the pulse laser beam is incident on the position of the processing point based on the machining order, and the physical quantity depending on each pulse energy of the laser pulse is measured by the optical detector, Executes a preprocess preparation procedure for determining an allowable range of the physical quantity based on the distribution,
Wherein the physical quantity measured by the photodetector propagates at least a part of the laser pulse falling within the allowable range along the first path during the machining of the object after the preprocessing preparation procedure, And deviating the laser pulse along the second path.
상기 제어장치는, 상기 물리량의 표준편차에 근거하여, 상기 허용범위의 상한치와 하한치를 결정하는 레이저 가공장치.The method according to claim 1,
Wherein the control device determines an upper limit value and a lower limit value of the allowable range based on a standard deviation of the physical quantity.
상기 제어장치는, 다음으로 가공해야 하는 가공 대상물의 피가공점의 배치패턴이, 직전에 가공한 가공 대상물의 피가공점의 배치패턴과 다른 경우, 다음으로 가공해야 하는 가공 대상물의 가공을 행하기 전에, 상기 가공 전 준비절차를 실행하여, 상기 허용범위를 새롭게 결정하는 레이저 가공장치.The method according to claim 1 or 2,
The control device performs processing of the object to be processed next when the arrangement pattern of the processing point of the object to be processed next is different from the arrangement pattern of the processing point of the object to be processed immediately before Wherein the pre-machining preparation procedure is executed beforehand to newly determine the allowable range.
상기 물리량은, 상기 레이저펄스의 상승부분의 에너지인 레이저 가공장치.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the physical quantity is the energy of the rising portion of the laser pulse.
측정된 상기 물리량의 분포에 근거하여, 상기 물리량의 허용범위를 결정하는 공정과,
가공 대상물 상의 상기 피가공점의 위치에, 상기 가공순서로 펄스레이저빔을 입사시켜, 레이저 가공을 행하는 공정
을 가지고,
상기 레이저 가공을 행하는 공정에 있어서, 상기 펄스레이저빔의 각 레이저펄스의 상기 물리량을 측정하여, 측정 결과가 상기 허용범위에 들어가 있는 경우에는, 당해 레이저펄스의 적어도 일부를 상기 가공 대상물에 입사시키며, 측정 결과가 상기 허용범위로부터 벗어나 있는 경우에는, 당해 레이저펄스를 상기 가공 대상물에 입사시키지 않는 레이저 가공방법.A step of measuring a physical quantity depending on pulse energy of each laser pulse while controlling the beam syringe so that the pulsed laser beam is incident on a predetermined processing position at a predetermined processing order;
Determining a permissible range of the physical quantity based on the measured distribution of the physical quantity;
A step of irradiating a pulse laser beam to the position of the work point on the object to be processed in the machining order to perform laser machining
To have,
In the step of performing the laser processing, the physical quantity of each laser pulse of the pulse laser beam is measured. When the measurement result falls within the allowable range, at least a part of the laser pulse is incident on the object, And when the measurement result is out of the allowable range, the laser pulse is not incident on the object to be processed.
상기 물리량의 표준편차에 근거하여, 상기 허용범위의 상한치와 하한치를 결정하는 레이저 가공방법.The method of claim 5,
And the upper limit value and the lower limit value of the allowable range are determined based on the standard deviation of the physical quantities.
상기 물리량은, 상기 레이저펄스의 상승부분의 에너지인 레이저 가공방법.The method according to claim 5 or 6,
Wherein the physical quantity is the energy of the rising portion of the laser pulse.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2014-064974 | 2014-03-27 | ||
JP2014064974A JP6234296B2 (en) | 2014-03-27 | 2014-03-27 | Laser processing apparatus and laser processing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150112814A true KR20150112814A (en) | 2015-10-07 |
KR102002200B1 KR102002200B1 (en) | 2019-07-19 |
Family
ID=54157781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150037920A KR102002200B1 (en) | 2014-03-27 | 2015-03-19 | Laser processing apparatus and laser processing method |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6234296B2 (en) |
KR (1) | KR102002200B1 (en) |
CN (1) | CN104942430B (en) |
TW (1) | TWI577482B (en) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6732613B2 (en) | 2016-09-07 | 2020-07-29 | 住友重機械工業株式会社 | Laser light source and laser processing apparatus using the same |
JP6682146B2 (en) * | 2016-12-12 | 2020-04-15 | 住友重機械工業株式会社 | Laser pulse cutting device and laser processing method |
JP7066368B2 (en) * | 2017-10-24 | 2022-05-13 | 住友重機械工業株式会社 | Laser machining machine control device, laser machining method, and laser machining machine |
JP7190808B2 (en) * | 2017-11-08 | 2022-12-16 | 住友重機械工業株式会社 | LASER PROCESSING APPARATUS AND LASER PROCESSING METHOD |
CN109323761B (en) * | 2018-10-31 | 2020-12-25 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | Laser power online monitoring method and device |
JP7262410B2 (en) * | 2020-03-11 | 2023-04-21 | 住友重機械工業株式会社 | Processing sequence determination device, laser processing device, and laser processing method |
CN111707359A (en) * | 2020-05-12 | 2020-09-25 | 固高科技(深圳)有限公司 | Laser processing detection system and method |
CN112108775A (en) * | 2020-09-09 | 2020-12-22 | 湖南鼎一致远科技发展有限公司 | Device and method for controlling lasers in parallel and laser marking machine |
JP2022063595A (en) * | 2020-10-12 | 2022-04-22 | 住友重機械工業株式会社 | Control device of laser processing machine, laser processing machine, and laser processing method |
TWI755109B (en) * | 2020-10-23 | 2022-02-11 | 新代科技股份有限公司 | Laser processing system and laser processing method thereof |
CN114799572B (en) * | 2022-06-14 | 2024-07-23 | 广东宏石激光技术股份有限公司 | Laser cutting processing method based on energy distribution control of scanning path |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2858236B2 (en) | 1996-03-19 | 1999-02-17 | 住友重機械工業株式会社 | Laser processing equipment |
JP2008068288A (en) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining apparatus and laser beam machining method |
JP2009006369A (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining apparatus and laser beam machining method |
JP2009148812A (en) | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining device and method |
KR20130102011A (en) * | 2012-03-06 | 2013-09-16 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Laser processing apparatus and laser processing method |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3733489A1 (en) * | 1987-10-03 | 1989-04-20 | Telemit Electronic Gmbh | METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING MATERIALS WITH THE AID OF A LASER |
JP3356681B2 (en) * | 1998-03-31 | 2002-12-16 | 住友重機械工業株式会社 | Laser processing method and apparatus |
JP3945951B2 (en) * | 1999-01-14 | 2007-07-18 | 日立ビアメカニクス株式会社 | Laser processing method and laser processing machine |
CN1907633B (en) * | 2001-10-16 | 2012-09-26 | 株式会社片冈制作所 | Laser machining apparatus |
JP4074485B2 (en) * | 2002-06-28 | 2008-04-09 | 住友重機械工業株式会社 | Laser processing method and apparatus |
JP4221204B2 (en) * | 2002-10-11 | 2009-02-12 | 日立ビアメカニクス株式会社 | Printed circuit board processing machine |
JP4356817B2 (en) * | 2005-03-16 | 2009-11-04 | 住友重機械工業株式会社 | Laser irradiation apparatus and laser irradiation method |
JP4937011B2 (en) * | 2007-06-26 | 2012-05-23 | 住友重機械工業株式会社 | Laser processing apparatus and laser processing method |
US8388609B2 (en) * | 2008-12-01 | 2013-03-05 | Amo Development, Llc. | System and method for multibeam scanning |
-
2014
- 2014-03-27 JP JP2014064974A patent/JP6234296B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-03-19 KR KR1020150037920A patent/KR102002200B1/en active IP Right Grant
- 2015-03-23 TW TW104109187A patent/TWI577482B/en not_active IP Right Cessation
- 2015-03-27 CN CN201510141679.0A patent/CN104942430B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2858236B2 (en) | 1996-03-19 | 1999-02-17 | 住友重機械工業株式会社 | Laser processing equipment |
JP2008068288A (en) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining apparatus and laser beam machining method |
JP2009006369A (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining apparatus and laser beam machining method |
JP2009148812A (en) | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining device and method |
KR20130102011A (en) * | 2012-03-06 | 2013-09-16 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Laser processing apparatus and laser processing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102002200B1 (en) | 2019-07-19 |
TW201540406A (en) | 2015-11-01 |
TWI577482B (en) | 2017-04-11 |
JP2015186818A (en) | 2015-10-29 |
CN104942430B (en) | 2017-06-27 |
CN104942430A (en) | 2015-09-30 |
JP6234296B2 (en) | 2017-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102002200B1 (en) | Laser processing apparatus and laser processing method | |
US9776280B2 (en) | Laser welding method | |
US9463529B2 (en) | Laser machining apparatus that monitors material thickness and type by reflected light intensity | |
US11065721B2 (en) | Method for determining the reference focal position of a laser beam | |
KR102411865B1 (en) | Laser processing apparatus | |
KR101035199B1 (en) | Laser processing controlling apparatus and laser processing apparatus | |
JP2011003630A (en) | Laser irradiator and method for irradiating laser | |
KR20160127461A (en) | Laser apparatus and method of manufacturing the same | |
KR102333897B1 (en) | Laser Processing Apparatus | |
JP4356817B2 (en) | Laser irradiation apparatus and laser irradiation method | |
KR20160073785A (en) | Laser processing system and laser processing method using the laser processing system | |
KR101640348B1 (en) | Apparatus of high precision optical scanning | |
KR20190045817A (en) | Control Device of Laser Processing Apparatus, Laser Processing Method, and Laser Processing Apparatus | |
JP6324151B2 (en) | Laser processing apparatus and laser processing method | |
KR20160059739A (en) | Laser processing system and Laser processing method | |
JP6713203B2 (en) | Laser processing equipment | |
CN111458022B (en) | Laser beam divergence angle measuring method combining trepanning method with cross line scanning | |
CN110099768B (en) | Laser processing apparatus | |
KR102557672B1 (en) | Peak power measurement method for laser | |
KR100870710B1 (en) | Method of monitoring malfunction of galvano scanner | |
JP2020527291A (en) | Sensor system for direct calibration of high power density lasers used in direct metal laser melting | |
KR101659858B1 (en) | Laser measuring apparatus, laser processing system and laser measuring method | |
KR20220048448A (en) | Control device of laser processing apparatus, laser processing apparatus, and laser processing method | |
JPH04244906A (en) | Method for adjusting sensitivity of shape-measuring device | |
JPH03175325A (en) | Method and apparatus for measuring laser beam |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2017101003351; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20170712 Effective date: 20190527 |
|
S901 | Examination by remand of revocation | ||
GRNO | Decision to grant (after opposition) | ||
GRNT | Written decision to grant |