KR20150093565A - 수정진동자 및 그의 제조방법 - Google Patents

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KR20150093565A KR1020140065315A KR20140065315A KR20150093565A KR 20150093565 A KR20150093565 A KR 20150093565A KR 1020140065315 A KR1020140065315 A KR 1020140065315A KR 20140065315 A KR20140065315 A KR 20140065315A KR 20150093565 A KR20150093565 A KR 20150093565A
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Abstract

본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 수정진동자는 X축 방향의 장변을 갖고, Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에 제1 결정면 및 제2 결정면이 형성된 AT-커트 수정자편과, 상기 AT-커트 수정자편에 형성된 전극층을 포함한다.

Description

수정진동자 및 그의 제조방법{Quartz Vibrator and manufacturing method of the same}
본 발명은 수정진동자 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 수정을 이용한 진동편은 높은 주파수를 얻을 수 있을 뿐만 아니라 안정적인 주파수 특성을 지니고 있어, 다양한 전자기기의 기준 주파수원이나 발진원등에 이용되고 있다. 이를 위해 수정 원석을 특성에 알맞은 방향으로 수정편을 만들고 이를 진동자 등으로 사용한다.
이 중에서, AT-컷으로 잘려진 수정기판은 수정 결정의 X축과 Z축을 포함하는 평면을 X축의 둘레로X축으로부터 반시계방향으로 약 35도 15분의 각도로 회전시킨 면이 주면이 되도록 커팅된 것으로서, 이를 이용한 진동편은 주파수 온도특성이 우수하여 이동통신단말기 등에 널리 이용되고 있는 실정이다.
그러나, 하기의 선행기술문헌과 같이 종래기술에 따른 AT-컷 수정기판은 측면을 가공함에 있어 wet 에칭방법을 이용하고 있으나, 에칭액의 종류, 온도에 따라 발현되는 면의 순서가 달라지고, 식각된 면이 평평한 주면에 대하여 수직하지 않고 비스듬히 기울어진 형상을 갖고, 다양한 면으로 발현됨에 따라 정밀한 소자로 구현할 수 없는 문제점이 있다.
US 8581476
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 관점은 AT-커트 수정자편의 측면가공시 마스크의 위치편차를 통해 가공함으로써, 측면에 불규칙한 다면이 형성되지 않아, 정확한 칩 설계가 가능하고, 안정적인 구조로 이루어짐에 따라 에너지 트랩(energy trap)의 효과가 증대되고, Low ESR(Equivalent Serial Resistance)가 가능하고, 안정적인 고유진동수를 갖는 수정진동자 및 그의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 수정진동자는 X축 방향의 장변을 갖고, Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에 제1 결정면 및 제2 결정면이 형성된 AT-커트 수정자편과, 상기 AT-커트 수정자편에 형성된 전극층을 포함한다.
또한, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 수정진동자는 X축 방향의 장변을 갖고, Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에 제1 결정면이 형성된 AT-커트 수정자편과, 상기 AT-커트 수정자편에 형성된 전극층을 포함한다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자를 개략적으로 도시한 사시도.
도 2는 도 1에 도시한 수정진동자의 개략적인 A-A' 단면도.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자를 개략적으로 도시한 단면도.
도 4는 본 발명의 제1 실시예 및 제2 실시예에 따른 수정진동자의 가공전 모재인 AT- 커트 수정자편을 개략적으로 도시한 사시도
도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제1 실시예에 따른 제조공정도.
도 6a 내지 도 6f는 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제2 실시예에 따른 제조공정도.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제1 실시예에 따른 제조공정도.
도 8a 내지 도 8h는 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제2 실시예에 따른 제조공정도.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. 그리고, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자를 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시한 수정진동자의 개략적인 A-A' 단면도이다.
도시한 바와 같이, 상기 수정진동자(100)는 AT-컷(cut)으로 잘려진 수정자편(110)과 상기 수정자편에 형성되는 전극층(120)을 포함한다. 그리고, 상기 AT-커트 수정자편(110)은 X축 방향의 장변, Y'축의 단변 및 Z'축 방향의 두께를 갖는다. 즉, X축 및 Y'축으로 이루어진 면과 이에 직교방향으로 연장된 Z'축 방향의 두께를 갖는 직육면체 형상으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 AT-커트 수정자편(110)은 Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에 제1 결정면 및 제2 결정면이 형성되고, 도 1 및 도 2는 이에 대한 일실시예로서 상기 AT-커트 수정자편(110)의 양측면은 각각 제1 결정면(110a', 110a") 및 제2 결정면(110b', 110b")이 형성된 것을 도시한 것이다.
그리고 상기 AT-커트 수정자편(110)의 일측에 형성된 상기 제1 결정면(110a')과 타측에 형성된 제1 결정면(110a")은 상기 AT-커트 수정자편(110)의 중심부를 기준으로 점대칭되도록 형성되고, 상기 제2 결정면(110b')과 제2 결정면(110b") 역시 상기 AT-커트 수정자편(110)의 중심부를 기준으로 점대칭되도록 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 결정면(110a', 110a")은 m면인 경사면으로 이루어질 수 있고, 상기 제2 결정면(110b', 110b")은 r면으로 이루어질 수 있다. 여기서 상기 m면 및 r면은 AT-커트 수정자편의 고유결정면이고, 이는 본 발명의 기술분야의 당업자에게 자명한 사항이다.
그리고 상기 AT-커트 수정자편(110)는 Z'축 방향에 대한 양측면, 즉 X축 및 Y'축으로 이루어진 상면 및 하면에 각각 돌출부(110c', 110c")가 형성되고, 상기 돌출부(110c', 110c")에는 각각 전극(120)이 형성되어 베벨이 이루어진다.
이와 같이 이루어짐에 따라, 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자(100)는 진동성능에 주요인자인 측면에 불규칙한 다면이 형성되지 않아, 정확한 칩 설계가 가능하고 이로인해 생산성이 향상될 뿐만 아니라, 안정적인 구조로 에너지 트랩(energy trap)의 효과가 증대되고, Low ESR(Equivalent Serial Resistance)가 가능하고, 안정적인 고유진동수를 갖는다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자를 개략적으로 도시한 단면도이다. 도시한 바와 같이, 상기 수정진동자(200) 역시 AT-컷(cut)으로 잘려진 AT-커트 수정자편(210)과 상기 수정자편에 형성된 전극층(220)을 포함한다. 그리고, 상기 AT-커트 수정자편(210)은 X축 방향의 장변, Y'축의 단변 및 Z'축 방향의 두께를 갖는다. 즉, X축 및 Y'축으로 이루어진 면과 이에 직교방향으로 연장된 Z'축 방향의 두께를 갖는 직육면체 형상으로 이루어질 수 있다.
또한, 제1 실시예에 따른 수정진동자(100)의 AT-커트 수정자편(110)과 달리 제 2 실시예에 따른 수정진동자(200)의 AT-커트 수정자편(210)은 Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에 제1 결정면만이 형성되고, 도 3은 이에 대한 일실시예로서 상기 AT-커트 수정자편(210)의 양측면에 제1 결정면(210a', 210a")이 형성된 것을 도시한 것이다. 그리고, 상기 AT-커트 수정자편(210)의 일측에 형성된 상기 제1 결정면(210a')과 타측에 형성된 제1 결정면(210a")은 상기 수정진동자(200)의 중심부를 기준으로 점대칭되도록 형성될 수 있다.
또한, 도 3의 확대도에 도시한 바와 같이 상기 제1 결정면(210a', 210a")은Z'축 방향에 대해 θ3 만큼 각각 경사지고 D3의 이격거리가 형성된 r면으로 이루어질 수 있다.
그리고 상기 AT-커트 수정자편(210)는 X축 및 Y'축으로 이루어진 상면 및 하면에 각각 돌출부(210c', 210c")가 형성되고, 상기 돌출부(210c', 210c")에 각각 전극(220)이 형성되어 베벨이 이루어진다.
이와 같이 이루어짐에 따라, 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자(200)역시 진동성능에 주요인자인 측면에 불규칙한 다면이 형성되지 않아, 정확한 칩 설계가 가능하고 이로인해 생산성이 향상될 뿐만 아니라, 안정적인 구조로 에너지 트랩(energy trap)의 효과가 증대되고, Low ESR(Equivalent Serial Resistance)가 가능하고, 안정적인 고유진동수를 갖는다.
이하, 도 4 내지 도 8h를 통해 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자(100)와 제2 실시예에 따른 수정진동자(200)의 제조공정에 대하여 보다 자세히 기술한다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예 및 제2 실시예에 따른 수정진동자의 가공전 모재인 AT-커트 수정자편을 개략적으로 도시한 사시도이다. 도시한 바와 같이, 상기 AT-커트 수정자편(10)은 X축 방향의 장변, Y'축의 단변 및 Z축 방향의 두께를 갖는 직육면체 형상을 갖는다. 그리고 Y'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편(10)의 양측면을 에칭가공하여 원하는 설계치의 개별 AT-커트 수정자편을 얻을 수 있다.
이를 위한 에칭공정으로서 도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 일실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제1 실시예에 따른 제조공정도를 도시한 것이다.
우선, 도 5a에 도시한 바와 같이 Z'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편(10)의 상하면에 Y'축 방향으로 △M 만큼 위치편차를 갖도록 제1 마스크(20a) 및 제2 마스크(20b)를 각각 형성시킨다. 그리고 도 5b에 도시한 바와 같이 상기 제1 마스크(20a) 및 제2 마스크(20b)에 의해 AT-커트 수정자편(10)의 측면을 에칭한다. 이때, 에칭에 사용되는 에칭액은 불화암모늄 용액(ammonium fluoride solution)이 이용될 수 있다.
또한, 도 5b에 도시한 바와 같이 AT-커트 수정자편(10)의 측면은 잔부(10a')가 형성되고, 상기 잔부(10a')는 추후의 베벨형성을 위한 에칭공정시 제거하여 공정시간을 단축시킬 수 있다.
다음으로 도 5c에 도시한 바와같이, 상기 AT-커트 수정자편(10)은 제1 마스크(20a) 및 제2 마스크(20b)를 각각 제거하고 베벨(bevel) 형성을 위한 돌출부를 형성시키기 위해 제3 마스크(30a) 및 제4 마스크(30b)를 AT-커트 수정자편(10)의 상하면의 소정영역에 각각 형성시킨다.
그리고, 상기 AT-커트 수정자편(10)은 제3 마스크(30a) 및 제4 마스크(30b)에 대해 에칭되어, 상기 잔부(10a')는 제거되고 도 5d에 도시한 바와 같이 상기 AT-커트 수정자편(10)에는 돌출부(10c)가 형성되고, AT-커트 수정자편(10)의 일측면은 제1 결정면(10a')과 제2 결정면(10b')이 형성된다.
한편, 상기 잔부(10a')는 상기 AT-커트 수정자편(10)의 두께 1/2정도로 이루어질 수 있고, 제1 마스크(20a) 및 제2 마스크(20b)의 위치편차인 △M 의 두배 즉, 2△M을 칩 최소간격으로 설정하여 개별 AT-커트 수정자편의 수를 증가시킬 수 있다.
다음으로, 도 5e에 도시한 바와 같이 제3 마스크(30a) 및 제4 마스크(30b)를 제거한다. 그리고 추후에 상기 돌출부(10c)에 전극이 도포되어 도 1 및 도 2에 도시한 제1 실시예에 따른 수정진동자가 완성된다.
이하, 상기 제1 마스크(20a) 및 제2 마스크(20b)의 이격거리인 △M의 설정에 대하여 자세히 기술한다.
상기한 △M의 설정을 위해 Va는 수직방향(Z'축 방향) AT-커트 수정자편의 에칭속도이고, Vb는 수평방향(Y'축 방향) AT-커트 수정자편의 에칭속도이고, TQ 는 수직방향(Z'축 방향) AT-커트 수정자편의 두께이고, Tb 는 수직방향(Z'축 방향) 베벨의 두께이고, θ1 은 AT-커트 수정자편의 AT-cut 기준면과 AT-커트 수정자편의 에칭된 제1 결정면이 이루는 각이고, θ2 는 AT-커트 수정자편의 AT-cut 기준면과 AT-커트 수정자편의 에칭된 제2 결정면이 이루는 각으로 정의할 경우, AT-커트 수정자편의 측면 에칭시간은(TQ-2Tb)/2Va 이고, 베벨의 에칭시간은 Tb/Va이다.
또한, 상기 제1 마스크 및 제2 마스크의 이격거리인 △M은 AT-커트 수정자편의 측면이 관통될 시간에 제1 결정면이 Vb 의 속도로 에칭된 수평거리 + D1(4d에 도시됨) - D2(4d에 도시됨)로 산출할 수 있다.
즉, 제1 마스크 및 제2 마스크의 이격거리인
Figure pat00001
이다.
한편, θ1 은 AT-cut의 Z축에 경사진 각도인 35°15'이므로 90°-35°15'에 의해 54°45'이 되고, θ2 는 제1 경사면과 제2 경사면의 이론적 각도가 141°48'이므로, 180°-141°48'-35°15'에 의해 2°57'이 될 수 있다.
또한, 상기 제1 마스크 및 제2 마스크의 이격거리인 △M의 마진(margin)은 20% 정도로 설정될 수 있다.
도 6a 내지 도 6f는 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제2 실시예에 따른 제조공정도이다. 도시한 바와 같이, 제2 실시예에 따른 제조공정은 도 5a 내지 도 5e에 도시한 제1 실시예와 비교하여 베벨을 위한 돌출부를 먼저 형성시키고 AT-커트 수정자편의 측면을 에칭하는 점이 상이하다.
보다 구체적으로, 도 6a는 Z'축 방향에 대하여 상기 AT-커트 수정자편(10')의 상하면에 제3 마스크(30a') 및 제4 마스크(30b')를 각각 형성시킨 것을 도시한 것이다. 또한, 상기 제3 마스크(30a') 및 제4 마스크(30b')은 베벨을 위한 돌출부를 AT-커트 수정자편(10')에 형성시키기 위한 것이다.
그리고 제3 마스크(30a') 및 제4 마스크(30b')에 의해 상기 AT-커트 수정자편(10')을 에칭시킬 경우, 도 6b에 도시한 바와 같이, 상기 AT-커트 수정자편(10')에는 돌출부(10'c)가 형성된다.
다음으로 도 6c에 도시한 바와 같이 상기 제3 마스크(30a') 및 제4 마스크(30b')를 제거하고, 제 Y'축 방향으로 △M 만큼 이격되도록 제1 마스크(20'a) 및 제2 마스크(20'b)를 각각 형성시킨다.
다음으로 도 6d 및 도 6e에 도시한 바와 같이 AT-커트 수정자편(10')의 측면이 순차적으로 에칭시키고, 상기 AT-커트 수정자편(10')의 측면은 제1 결정면(10'a)과 제2 결정면(10'b)으로 형성된다.
다음으로, 도 6f에 도시한 바와 같이 제1 마스크(20'a), 제2 마스크(20'b)를 제거한다. 그리고 추후에 상기 돌출부(10c')에 전극이 도포되어 도 1 및 도 2에 도시한 제1 실시예에 따른 수정진동자가 완성된다.
그리고 상기 제1 마스크(20'a) 및 제2 마스크(20'b)의 이격거리인 △M의 설정은 제1 실시예에 따른 제조공정을 통해 전술한 △M 산술식과 동일하다.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제1 실시예에 따른 제조공정도이다.
보다 구체적으로, 도 7a는 Z'축 방향에 대한 AT-커트 수정자편(10")의 상하면에 Y'축 방향으로 △M 만큼 이격되도록 제1 마스크(20"a) 및 제2 마스크(20"b)를 각각 형성시킨다. 그리고 불화암모늄용액(ammonium fluoride solution)등의 에칭액을 통해 미에칭 돌출부가 최소화될 때까지 에칭시킬 경우, 도 7b, 도 7c 및 도 7d에 도시된 바와 같이 순차적으로 에칭된다. 그리고 도 7d에 도시한 바와 같이, 상기 AT-커트 수정자편(10")의 측면에는 미에칭 돌출부(10"d)이 잔존된다.
다음으로 도 7e에 도시한 바와 같이, 상기 제1 마스크(20"a) 및 제2 마스크(20"b)를 제거하고 베벨(bevel)을 위한 돌출부를 형성시키기 위해 제3 마스크(30"a) 및 제4 마스크(30"b)를 Z'축 방향에 대한 AT-커트 수정자편(10")의 상하면에 각각 형성시킨다.
그리고 상기 제3 마스크(30"a) 및 제4 마스크(30"b)에 대해 상기 AT-커트 수정자편(10")를 에칭할 경우, 도 7f에 도시한 바와 같이 단차를 갖는 돌출부(10"c)가 형성됨과 동시에 측면의 미에칭 돌출부(10"d)이 에칭되어 AT-커트 수정자편(10")의 측면은 결정면(10"a)이 형성된다.
다음으로, 도 7g에 도시한 바와 같이, 상기 제3 마스크(30"a) 및 제4 마스크(30"b)를 제거한다.
그리고 추후에 상기 돌출부(10"c)에 전극이 도포되어 도 3에 도시한 제2 실시예에 따른 수정진동자가 완성된다.
도 8a 내지 도 8h는 본 발명의 제1 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제2 실시예에 따른 제조공정도이다. 도시한 바와 같이, 제2 실시예에 따른 제조공정은 도 7a 내지 도 7g에 도시한 제1 실시예와 비교하여 베벨을 위한 돌출부를 먼저 형성시키고 AT-커트 수정자편의 측면을 에칭하는 점이 상이하다.
보다 구체적으로, 도 7a는 Z'축 방향으로 상기 AT-커트 수정자편(10"')의 상하면에 베벨을 위한 돌출부를 형성시키기 위한 제3 마스크(30''a) 및 제4 마스크(30"'b)를 각각 형성시킨 것을 도시한 것이다.
그리고, 상기 제3 마스크(30"'a) 및 제4 마스크(30"'b)에 대하여 상기 AT-커트 수정자편(10"')을 에칭할 경우, 도 8b에 도시한 바와 같이, 상기 AT-커트 수정자편(10"')에는 단차를 갖는 돌출부(10"'c)가 형성된다.
다음으로 도 8c에 도시한 바와 같이 상기 제3 마스크(30''a) 및 제4 마스크(30"'b)를 제거하고, 상기 AT-커트 수정자편(10"')에 Y'축 방향으로 △M 만큼 이격되도록 제1 마스크(20"'a) 및 제2 마스크(20"'b)를 각각 형성시킨다. 그리고 상기 제1 마스크(20"'a) 및 제2 마스크(20"'b)에 대해 상기 AT-커트 수정자편(10"')의 측면을 에칭할 경우, 도 8d 내지 도 8f에 도시한 바와 같이 AT-커트 수정자편(10"')의 측면은 순차적으로 에칭된다.
그리고 도 8f에 도시한 바와 같이, 상기 AT-커트 수정자편(10"')의 측면에는 미에칭 돌출부(10"'d)이 잔존된다.
다음으로 도 8g에 도시한 바와 같이 상기 AT-커트 수정자편(10"')의 측면은 미에칭 돌출부(10"'d)이 에칭되어 결정면(10"'a)이 형성된다.
다음으로, 도 8h에 도시한 바와 같이 상기 제1 마스크(20"'a), 제2 마스크(20"'b)를 제거한다. 그리고 추후에 상기 돌출부(10c"')에 전극이 도포되어 도 3에 도시한 제2 실시예에 따른 수정진동자가 완성된다.
또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 수정진동자를 제조하기 위한 제1 실시예 및 제2 실시예에 따른 제조공정을 구현하기 위해 제1 마스크(20"a, 20"'a) 및 제2 마스크(20"b, 20"'b)의 이격거리인 △M의 설정을 위해 Va는 수직방향(Z'축 방향) AT-커트 수정자편의 에칭속도이고, Vb는 수평방향(Y'축 방향) AT-커트 수정자편의 에칭속도이고, TQ 는 수직방향(Z'축 방향) AT-커트 수정자편의 두께이고, Tb 는 수직방향(Z'축 방향) 베벨의 두께로 정의할 경우, AT-커트 수정자편의 측면 에칭시간은(TQ-2Tb)/Va 이고, 베벨의 에칭시간은 Tb/Va이다.
또한, 상기 제1 마스크 및 제2 마스크의 이격거리인 △M은 Vb(TQ-2Tb)/Va 이다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다. 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
100 : 수정진동자
110 : AT- 커트 수정자편
110a', 110a" : 제1 결정면
110b', 110b" : 제2 결정면
110c', 110c" : 베벨
120 : 전극
200 : 수정진동자
210 : AT- 커트 수정자편
210a', 210a" : 제1 결정면
210c', 210c" : 베벨
120 : 전극
10, 10', 10", 10"' : AT-커트 수정자편
20a, 20'a, 20"a, 20"'a : 제1 마스크
20b, 20'b, 20"b, 20"'b : 제2 마스크
30a, 30'a, 30"a, 30"'a: 제3 마스크
30b, 30'b, 30"b, 30"'b : 제4 마스크
10a, 10'a : 제1 결정면
10b, 10'b : 제2 결정면
10"a, 10"'a : 결정면
10"d, 10"'d : 미에칭 돌출부
10a' : 잔부

Claims (18)

  1. X축 방향의 장변을 갖고, Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에 제1 결정면 및 제2 결정면이 형성된 AT-커트 수정자편; 및
    상기 AT-커트 수정자편에 형성된 전극층을 포함하는 수정진동자.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Y'축 방향에 대한 일측면과 타측면에 각각 제1 결정면 및 제2 결정면이 형성된 수정진동자.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편의 제1 결정면은 경사면으로 이루어진 수정진동자.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 결정면은 m면으로 이루어진 수정진동자.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편의 제2 결정면은 r면으로 이루어진 수정진동자.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Y'축의 단변 및 Z'축 방향의 두께를 갖는 수정진동자.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Z'축 방향에 대한 일면과 타면에 Y'축 방향으로 △M 만큼 위치편차를 갖도록 제1 마스크와 제2 마스크가 각각 형성되고, 상기 제1 마스크와 제2 마스크에 의해 상기 AT-커트 수정자편이 에칭되어 상기 AT-커트 수정자편의 Y'축 방향에 대한 적어도 일측면은 제1 결정면 및 제2 결정면이 형성된 수정진동자.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Z'축의 방향에 대한 양면에 돌출부가 형성되고, 상기 돌출부에 상기 전극층이 각각 형성된 수정진동자.
  9. X축 방향의 장변을 갖고, Y'축 방향에 대한 적어도 일측면에는 제1 결정면이 형성된 AT-커트 수정자편; 및
    상기 AT-커트 수정자편에 형성된 전극층을 포함하는 수정진동자.
  10. 상기 제2 결정면은 r면으로 이루어진 수정진동자.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Y'축의 단변 및 Z'축 방향의 두께를 갖는 수정진동자.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Z'축 방향에 대한 일면과 타면에 Y'축 방향으로 △M 만큼 위치편차를 갖도록 제1 마스크와 제2 마스크가 형성되고, 상기 제1 마스크와 제2 마스크에 의해 상기 AT-커트 수정자편이 에칭되어 제1 결정면이 형성된 수정진동자.
  13. 청구항 9에 있어서,
    상기 AT-커트 수정자편은 Z'축의 방향에 대한 양면에 돌출부가 형성되고, 상기 돌출부에 상기 전극층이 각각 형성된 수정진동자.
  14. X축이 장변인 AT-커트 수정자편을 마련하고,
    Z'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편의 양면에 제1 마스크 및 제2 마스크를 Y'축 방향에 대하여 이격되도록 위치시키고,
    상기 제1 마스크 및 제2 마스크에 의해 Y'축 방향에 대한 AT-커트 수정자편의 적어도 일측면을 에칭하여 제1 결정면 및 제2 결정면을 형성시킨 수정진동자의 제조방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 제1 마스크 및 제2 마스크에 의해 Y'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편의 적어도 일측면을 에칭하고,
    Z'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편의 양면에 베벨 형성을 위한 제3 마스크를 형성시키고, 상기 제3 마스크에 의해 AT-커트 수정자편을 에칭하여 돌출부를 형성시키고, 상기 돌출부에 전극층을 형성시키는 단계를 더 포함하는 수정진동자의 제조방법.
  16. X축이 장변인 AT-커트 수정자편을 마련하고,
    Z'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편의 양면에 제1 마스크 및 제2 마스크를 Y'축 방향에 대하여 이격되도록 위치시키고,
    상기 제1 마스크 및 제2 마스크에 의해 Y'축 방향에 대한 AT-커트 수정자편의 적어도 일측면을 에칭하여 제1 결정면을 형성시킨 수정진동자의 제조방법.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 제1 마스크 및 제2 마스크에 의해 Y'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편의 적어도 일측면을 에칭해서 미에칭 돌출부를 형성시키고, Z'축 방향에 대한 상기 AT-커트 수정자편의 양면에 베벨 형성을 위한 제3 마스크를 형성시키고, 상기 제3 마스크에 의해 상기 AT-커트 수정자편을 에칭하는 단계를 더 포함하고,
    상기 제3 마스크에 의해 상기 AT-커트 수정자편의 에칭에 의해 상기 미에칭 돌출부가 제거되어 제1 결정면이 형성되고, Z'축 방향으로 돌출부가 형성된 수정진동자의 제조방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 돌출부에 전극층을 형성시키는 단계를 더 포함하는 수정진동자의 제조방법.
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