KR20150078700A - 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 베이스 구간의 두께가 얇으면서도, 패턴의 크기가 큰 거대 패턴이 형성된 도광판을 압출 인각 방식으로 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 T-다이의 다이립을 개선하여 요철 패턴을 가지는 수지 시트를 제조하고 이를 이용함으로써 거대 패턴의 형성시 패턴의 파열이나 랙킹(lacking) 현상이 발생되지 않으면서도 베이스 구간의 두께가 얇은 박형 도광판을 압출 인각 방식으로 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.

Description

압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법{Preparing of light guide plate with wide pattern by extruding-engraving-process}
본 발명은 T-다이의 다이립을 개선하여 제조된 요철 패턴을 가지는 수지 시트를 이용하여 거대 패턴을 압출 인각하는 방법에 관한 것으로, 거대 패턴을 형성함에 있어서, 기계적 강도와 광선투과율이 우수하고 패턴의 파열이나 랙킹(lacking) 현상이 발생되지 않으면서도 베이스 구간의 두께가 얇은 박형 도광판을 압출 인각 방식으로 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.
최근의 휴대전화, 텔레비젼 및 소형 디스플레이의 도광판은 지속적으로 두께를 얇게 하는 방향으로 개발이 진행되고 있으며, 입광되는 광을 액정 표시 측으로 균일하고 효율적으로 이끌기 위한 목적으로 경사면을 갖는 도광판이나 평판 형상의 도광판이 구비되어 있다.
TV, 소형 디스플레이 및 휴대전화 등에 사용되고 있는 액정표시 장치의 두께는 현재 3 mm 정도인데, 이것에 조립되어 있는 도광판의 두께는 가장 얇은 것이 0.7 mm 정도이다. 최근의 연구 방향은 액정 표시장치의 두께를 더 얇게 하고자 하며, 이를 구현하기 위해 도광판의 두께를 더 얇게 제조하는 기술이 요구되고 있다.
박형의 패턴 도광판을 생산하기 위하여 한국공개특허 2008-0032356호에서는 수지가 주입되는 캐비티 공간을 가지는 하부 형틀 및 돌출된 압하부를 가지는 상부 형틀을 서로 압착시켜 베이스 필름을 이용하지 않고 미세패턴을 가지는 초박형 도광판을 제조하고 있으나, 상기와 같은 방법은 생산성이 떨어져 상용화하기 어려우며, 한국등록특허 295,505호에서는 베이스 필름에 자외선에 의해 경화되는 수지를 도포하여 박형의 도광판을 제조하고 있으나, 상기와 같은 경우, UV 레진을 얇은 두께로 도포하기 위해서 점도가 낮은 UV 레진을 이용해야 하나, 상기 점도가 낮으면 필름에 도포 시 오버플로우 문제가 발생하여 균일한 박막으로 도포가 불가능하며, 자외선 경화과정에서 기포 발생과 딤플 현상이 일어날 수 있으며 생산성이 떨어진다.
또한, 종래의 LED 백라이트 유닛에 적용되는 도광판을 제조하는 방법의 하나인 사출 성형법은 공법상의 한계로 수지가 들어갈 수 있는 공간이 협소하여 전사성이 확보되기 힘들어 10인치 이상 사이즈를 갖는 0.5 mm 이하의 초박형 도광판을 제작하는 것이 사실상 불가능하다.
한편, 압출 패턴 도광판은 사출공정의 도광판보다 생산성은 확보되지만 패턴의 크기와 베이스 두께 간의 적정 비율의 한계가 있어 패턴의 크기를 크게 하면서 베이스 구간의 두께를 초박형으로 제조하기 어려운 단점이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 도광판을 생산함에 있어서 생산 효율이 향상 될 수 있도록 압출 인각 방식을 사용하되, 패턴의 크기를 크게 할 수 있으면서도 베이스 구간의 두께를 얇게 하여 초박형인 도광판을 제조할 수 있는 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 도광판의 제조방법에 있어서, 상면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향과 평행한 볼록 줄 요철 패턴을 가지도록 고분자 수지를 용융 압출하여 수지 시트를 제조하는 용융 압출 단계; 거대 패턴이 음각으로 형성된 패턴 롤러를 이용하여 상기 수지 시트에 거대 패턴을 형성시키는 롤 프레싱 단계; 및 상기 거대 패턴이 형성된 수지 시트를 냉각하는 냉각 단계;를 포함하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 거대 패턴의 단면은 거대 패턴의 폭 대 거대 패턴의 높이 비율이 10 대 1 내지 200 대 1일 수 있으며,
특히, 상기 거대 패턴의 폭이 2,000 내지 10,000 ㎛의 범위일 수 있고,
상기 거대 패턴의 높이가 50 내지 200 ㎛의 범위일 수 있으며,
상기 거대 패턴의 단면 모양은 곡면형, 프리즘형 및 다각형 중에서 선택될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 거대 패턴은 상기 수지 시트에 형성된 볼록 줄 요철 패턴(이하 요철 패턴이라고 한다)의 볼록하게 솟은 부위 상에 형성되는 것이 바람직한데,
상기 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 볼록하게 솟은 부분의 단면적은 상기 거대 패턴의 단면적 보다 같거나 큰 것이 바람직하며, 구체적으로 상기 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 볼록하게 솟은 부분의 단면적 대 상기 거대 패턴의 단면적의 비율은 1 대 1 내지 1 대 1.5일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 도광판에 압출 인각 방식으로 거대 패턴을 인각하기 위하여 상기 거대 패턴은 패턴 롤러에 음각으로 형성되되, 패턴의 폭 방향이 패턴 롤러의 축 방향과 평행하게 형성될 수 있다.
수지 시트는 고분자 수지가 투입되는 실린더, 상기 실린더에 투입된 수지를 용융시키는 가열장치 및 용융된 수지를 시트 형태로 배출하는 다이립을 포함하여 구성되는 T-다이를 통해 제조될 수 있는데,
상기 다이립은 상부 립과 하부 립으로 구성되고,
상기 상부 립이 용융된 고분자 수지와 접하는 상부 립의 하단은 평평한 구조이고, 상기 하부 립이 용융된 고분자 수지와 접하는 하부 립의 상단은 수지 시트가 배출되는 방향과 평행한 오목 줄(Line) 요철 패턴을 가지도록 설계함으로써 본 발명에 따른 일면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향의 단면이 볼록 줄 요철 패턴을 가지는 수지 시트를 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법은 수지 시트의 단면이 볼록 줄 요철 패턴을 가지도록 수지 시트를 제조하고, 상기 수지 시트의 볼록 줄 요철 패턴 중 볼록하게 솟은 부위에 패턴을 형성시킴으로써 거대 패턴의 압출 인각 시 패턴부분의 수지량이 부족하여 발생될 수 있는 랙킹(lacking) 현상이나 패턴의 파열 발생을 방지할 수 있으며, 압출 인각 방식을 사용함으로써 일공정으로 처리하여 생산효율을 향상시킬 수 있고, 패턴의 크기가 크면서도 베이스 두께가 얇은 도광판을 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 곡면형 거대 패턴이 형성된 도광판의 이미지이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 프리즘형 거대 패턴이 형성된 도광판의 이미지이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 압출 인각 방식에 의한 도광판의 제조공정 개요도를 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 수지 시트를 제조할 수 있는 T-다이의 단면도이다.
도 5은 본 발명의 일 실시예에 의한 수지 시트의 배면이 볼록 줄 요철 패턴을 가지도록 제조할 수 있는 하부 립의 사시도이다.
도 6는 본 발명의 일 실시예에 의한 수지 시트의 배면이 볼록 줄 요철 패턴을 가지도록 제조할 수 있는 하부 립의 정면도이다.
도 7는 본 발명의 일 실시예에 따라서 일면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향의 단면이 볼록 줄 요철 패턴을 가지는 수지 시트의 형상을 나타낸 것이다.
도 8는 본 발명의 일 실시예에 의한 거대 패턴이 음각으로 형성된 패턴 롤러를 나타낸 것이다. 도 8a는 패턴 롤러의 정면도이며, 도 8b는 패턴 롤러의 사시도이다.
도 9은 본 발명의 일 실시예에 의한 수지 시트의 볼록 줄 요철 패턴 중 볼록하게 솟은 부위에 거대 패턴을 형성시키는 공정 개요도를 나타낸 것이다.
도 10은 본 발명의 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조된 도광판의 광학이미지이다(스케일바 = 541㎛).
도 11은 본 발명의 실시예 2에 따라 제조된 도광판의 광학이미지이다.
이하 본 발명에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. 우선, 도면들 중, 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 동일한 참조 부호를 나타내고 있음에 유의하여야 한다. 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향과 평행한 볼록 줄(line) 요철 패턴을 가지도록 고분자 수지를 용융 압출하여 수지 시트를 제조하는 용융 압출 단계; 거대 패턴이 음각으로 형성된 패턴 롤러를 이용하여 상기 수지 시트에 거대 패턴을 형성시키는 롤 프레싱 단계; 및 상기 거대 패턴이 형성된 수지 시트를 냉각하는 냉각 단계;를 포함하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 상기 거대 패턴은 거대 패턴의 단면이 곡면형, 프리즘형 및 다각형 중에서 선택될 수 있다.
상기 곡면은 반원형 또는 반 타원형 일 수 있고, 상기 다각형은 사각형, 오각형 또는 육각형일 수 있다.
도 1 내지 도 2는 본 발명에 따라 제조된 거대 패턴이 형성된 도광판의 단면도이다. 도 1 내지 도 2를 참고로 하면, B는 도광판의 베이스 두께이며, H는 패턴의 높이이고, W는 패턴의 폭이다.
도 1은 거대 패턴이 곡면형으로 형성된 도광판의 단면도이며, 도 2는 거대패턴이 프리즘형으로 형성된 도광판의 단면도이다.
본 발명에 따른 거대 패턴의 단면은 거대 패턴의 폭(W) 대 거대 패턴의 높이(H) 비율이 10 대 1 내지 200 대 1일 수 있으며,
특히, 상기 거대 패턴의 폭(W)이 2,000 내지 10,000 ㎛의 범위일 수 있고, 거대 패턴의 높이(H)가 50 내지 200 ㎛의 범위일 수 있다. 이때, 최종 도광판의 베이스 두께(B)는 150 내지 1000 ㎛의 범위일 수 있으며, 좀 더 바람직하게는 200 내지 400 ㎛의 범위일 수 있다.
상기 용융 압출된 수지시트의 베이스(220) 두께는 상기 최종 도광판 두께의 1.2배 내지 10배일 수 있으며, 롤 프레싱 단계에서 더욱 박막화되면서 높은 인각율을 유지할 수 있게 된다.
상기 고분자 수지로는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들어 도광판의 재료로 일반적으로 사용되는 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트) 수지 또는 PC(폴리카보네이트) 수지일 수 있는데, 최근의 트렌드는 보다 선명한 화상을 투영하면서 초박형의 두께를 가지는 표시 장치가 요구되고 있어, 이를 구현하고, 광원 근방에서 발생되는 열에 대하여 안정성을 나타내기 위하여 투명도 및 굴절률이 우수하면서, 내열성이 높은 재료인 PC 수지를 사용하는 것이 좀 더 바람직하다.
종래 기술에 따라 고분자 수지를 융해하여 판상으로 수지 시트를 제조하고 상기 수지 시트에 패턴을 압출 인각하여 도광판을 제조 방법은 생산성은 우수하다는 장점이 있으나, 상기 고분자 수지가 가진 높은 점성으로 인하여 흐름성이 떨어진다는 단점이 있다. 상기 단점은 도광판의 베이스의 두께(B)가 두껍거나, 패턴의 크기(W)가 작은 경우 크게 문제되지 않는다. 하지만, 패턴의 크기(W)가 크면서 베이스의 두께(B)가 박형인 도광판, 예를 들어 베이스의 두께가 10,000 ㎛ 이하, 특히 400 ㎛ 이하인 도광판의 제조 시 고분자 수지의 높은 점성 및 낮은 흐름성은 패턴 롤러에 음각으로 형성된 거대 패턴 안으로 고분자 수지가 원활히 공급되는 것을 방해하는데, 높은 점성 및 낮은 흐름성으로 인하여 패턴 형성에 필요한 고분자 수지량에 비하여 공급되는 고분자 수지량이 적거나 공급량이 불균일하여 패턴의 형상이 제대로 형성되지 못하는 랙킹(lacking) 현상이 발생하거나, 형성된 패턴이 무너지는 문제가 발생될 수 있고, 이로 인하여 투명도 및 휘도가 나빠지고 집광효율이 떨어지는 문제가 있다.
예를 들어, PC 수지는 250 ℃에서 융해되어 액체화되기는 하나 점성이 높아 흐름성이 떨어지므로, 베이스의 두께가 10,000 ㎛이하, 특히 400 ㎛ 이하이면서 패턴의 폭(W)이 2,000 내지 10,000 ㎛의 범위이고 패턴의 높이(H)가 50 내지 200 ㎛의 범위인 거대 패턴을 가지는 도광판의 제조 시, 수지의 흐름이 원활하지 않아 패턴 형성에 필요한 만큼의 고분자 수지를 충분히 공급하기 어려워 패턴 형성이 용이하지 않고, 성형 시 형성된 잔류 응력으로 패턴이 깨지는 현상이 발생하는 등 문제점을 가지고 있다. 이에, PC 수지의 점성을 낮추고 흐름성을 높이기 위하여 용융 온도를 높이는 경우에는 점성이 일부 낮아질 수는 있으나, 고분자 수지의 투명성이 유지되지 못하고 황색화 현상이 발생될 수 있으며, 이로 인하여 광학성이 떨어지게 되므로 바람직하지 않다.
또한, 고온으로 고분자 수지를 용융시켜 수지 시트를 제조하였다 하더라도, 패턴 인각 시 용융 온도보다 낮은 온도의 템플레이트인 패턴 롤러 및 가압 롤러에 닿으면 냉각이 진행되어 점성이 높아져 흐름성이 떨어지므로 패턴 롤러에 음각으로 형성된 패턴으로 고분자 수지의 흐름이 원활하지 않아 단면적이 넓은 거대 패턴의 형성하기에는 수지 공급량이 충분하지 못하며, 이로 인하여 랙킹 현상이 발생되고, 형성된 패턴이 무너지는 문제가 발생될 수 있다.
본 발명에서는 일면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향의 단면이 볼록 줄 요철 패턴(이하, 요철 패턴이라고 한다)을 가지도록 고분자 수지를 용융 압출하여 수지 시트를 제조하는 수지 시트 제조하고 이를 압출 인각에 이용함으로써 상기 문제를 해결하였다.
구체적으로, 본 발명에 의하면 상기 거대 패턴을 상기 수지 시트의 요철 패턴 중 볼록하게 솟은 부위 상에 형성시킬 수 있다. 즉 거대 패턴 사이의 피치(Pitch)와 볼록 줄 요철 패턴 사이의 피치는 일치시켜 공정을 진행하는 것이 랙킹 현상을 완전히 없앨 수 있어 바람직하다. 본 발명에서 피치란 한 패턴의 최고봉과 바로 인접한 패턴의 최고봉 사이의 거리를 의미한다.
이때, 상기 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 볼록한 부분의 단면적은 상기 거대 패턴의 단면적 보다 같거나 클 수 있는데, 바람직하게는 상기 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 볼록한 부분의 단면적 대 상기 거대 패턴의 단면적의 비율은 1 대 1 내지 1 대 1.5일 수 있으며, 보다 바람직하게는 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 폭(W')이 거대 패턴의 폭(W)보다 같거나 크고, 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 높이(H')가 거대 패턴의 높이(H)보다 같거나 크며, 수지 시트에 형성된 요철 패턴의 볼록한 부분의 단면적 대 상기 거대 패턴의 단면적의 비율이 1 대 1 내지 1 대 1.5 범위인 조건을 모두 만족하는 것일 수 있다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의한 용융 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조공정도를 나타낸 것이다.
도 3을 참조하면, T-다이(110)에서 고분자 수지를 용융 압출하여 수지 시트를 제조하고, 가압 롤러(120)와 거대 패턴이 음각으로 형성된 패턴 롤러(130) 사이에 공급하여 샌드위치로 가압하여 거대 패턴이 형성된 패턴 시트를 제조할 수 있으며, 냉각 롤러(140)로 급냉각시켜 거대 패턴을 형성된 도광판을 제조할 수 있다.
도 4를 참조하면, 상기 T-다이(110)는 고분자 수지가 투입되는 실린더(113), 상기 실린더에 투입된 수지를 용융시키는 가열장치 및 용융된 수지를 시트 형태로 배출하는 다이립을 포함하여 구성된다.
상기 다이립은 상부 립(111)과 하부 립(112)으로 구성되며, 상기 상부 립이 용융된 고분자 수지와 접하는 상부 립의 하단은 평평한 구조이고, 도 5 및 도 6에 나타낸 바와 같이, 상기 하부 립이 용융된 고분자 수지와 접하는 하부 립의 상단은 수지 시트가 배출되는 방향과 평행한 오목 줄(Line) 요철 패턴을 가진다.
상기 오목 줄 요철 패턴의 단면 모양은 특별히 한정은 없으나, 패턴 롤러에 음각으로 형성된 거대 패턴의 모양과 같은 것이 인각율이 우수하며, 형성된 패턴의 랙킹 현상이 발생되지 않으므로 바람직하다. 즉, 예를 들어 거대 패턴이 곡면 또는 프리즘 모양이면 오목 줄 요철 패턴 역시 각각 곡면 또는 프리즘 모양인 경우가 바람직하다는 의미이다.
상기 상부 립은 수지 시트 제조장치에 일체형으로 고정되며, 하부 립은 탈부착 및 부착 위치의 조절이 가능한 것으로, 하부 립의 부착 위치를 조절하여 상부 립과 하부 립 사이의 간격을 조절할 수 있다.
상기 하부 립에 형성된 오목 줄 요철 패턴 및 패턴 롤러에 형성된 거대 패턴의 개수는 특별히 한정되지 않는다. 다만, 하부립에 형성된 오목 줄 요철 패턴의 개수와 패턴 롤러에 형성된 거대 패턴의 개수는 일치하는 것이 바람직하다. 또한 상기 오목 줄 요철 패턴과 상기 거대 패턴 사이의 간격(pitch)는 일치시키는 것이 인각율을 극대화할 수 있다는 점에서 바람직하다.
상기 T-다이를 통해 제조되는 수지 시트는 상면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향과 평행한 볼록 줄 요철 패턴을 가질 수 있으며, 상기 요철 패턴이 곡면형을 나타내는 수지 시트를 도 7에 나타내었다. 상기 도 7에서 상부 립과 하부 립 사이의 간격은 수지 시트의 베이스(220)이며, 요철 패턴의 돌출된 부분(210)이 다음 공정인 패턴 롤러에 음각으로 형성된 거대 패턴의 위치로 투입될 수 있다.
도 8은 거대 패턴(131)이 음각으로 형성된 패턴 롤러의 이미지로, 도 8a는 단면도이며, 도 8b는 사시도이다. 상기 수지 시트의 돌출된 부분(210)이 패턴 롤러의 거대 패턴(131)과 일치하는 위치로 투입된다. 이때, 수지 시트에서 돌출된 부분(210)의 돌출 방향은 패턴 롤러(130)을 향할 수도 있으나, 가압 롤러(120)을 향해도 무방하다. 상기 공정을 도 9에 개략적으로 나타내었다.
상기 급냉각은 도광판이 경화되면서 고분자 사슬이 잔류스트레스로 인한 고분자 사슬의 유동성을 제한함으로써 형상변화가 발생할 여지를 최소화한다.
이하, 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시적인 것으로서, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1.
고분자 수지로 PC 수지를 사용하여 도광판을 제조하였다. 상기 PC 수지를 본 발명에 따른 다이립을 장착한 T-다이로 용융 압출한 후, 가압 롤러와 패턴 롤러로 샌드위치 가압하여 패턴을 인각하고, 냉각 롤러로 냉각시켜 베이스 두께(B)가 400 ㎛이고, 패턴의 높이가 110 ㎛이며, 패턴의 폭이 3000 ㎛인 거대패턴이 인각된 도광판을 제조하였다.
실시예 2.
실시예 1과 동일하게 실시하되, 베이스 두께(B)가 200 ㎛이고, 패턴의 높이가 110 ㎛이며, 패턴의 폭이 6000 ㎛인 거대패턴이 인각된 도광판을 제조하였다.
비교예 1.
실시예 1과 동일하게 실시하되, 요철 패턴을 구비하지 않고, 평평한 상부를 가지는 하부 립을 장착한 T-다이로 용융 압출한 수지 시트를 사용하여 도광판을 제조하였다.
시험예 1.
실시예 1 내지 2 및 비교예 1에서 제조한 도광판을 광학현미경으로 측정하여 형상을 비교하였으며, 이를 도 10 및 도 11에 나타내었다.
도 10a는 실시예 1에서 제조한 도광판이며, 도 10b는 비교예 1에서 제조한 도광판이다. 실시예 1의 도광판은 패턴의 형상이 매끄럽고 균일하게 인각된 반면, 비교예 1의 도광판은 왼쪽 부분에 랙킹(수지 부족) 현상이 발생한 것을 확인할 수 있다.
도 11은 실시예 2에서 제조한 도광판의 이미지이다. 베이스의 두께가 더 얇아지고 패턴이 더 커졌음에도 불구하고 매끄럽고 균일하게 인각된 것을 확인할 수 있다.
110 T-다이 111 상부 립
112 하부 립 113 실린지
120 가압 롤러
130 패턴 롤러 131 거대 패턴
140 냉각 롤러
200 수지 시트
210 수지 시트 요철 패턴 220 수지 시트 베이스부
300 도광판

Claims (12)

  1. 도광판의 제조방법에 있어서,
    상면은 판상이며 배면은 용융 압출 진행방향과 평행한 볼록 줄(line) 요철 패턴을 가지도록 고분자 수지를 용융 압출하여 수지 시트를 제조하는 용융 압출 단계;
    거대 패턴이 음각으로 형성된 패턴 롤러를 이용하여 상기 수지 시트에 거대 패턴을 형성시키는 롤 프레싱 단계; 및
    상기 거대 패턴이 형성된 수지 시트를 냉각하는 냉각 단계;를 포함하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 거대 패턴의 단면은 거대 패턴의 폭 대 거대 패턴의 높이 비율이 10 대 1 내지 200 대 1인 것을 특징으로 하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 거대 패턴의 단면이 곡면형, 프리즘형 및 다각형 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 거대 패턴을 상기 수지 시트에 형성된 볼록 줄(line) 요철 패턴 상에 형성시키는 것을 특징으로 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 거대 패턴의 단면은 거대 패턴의 폭이 2,000 내지 10,000 ㎛인 것을 특징으로 하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 거대패턴의 단면은 거대 패턴의 높이가 50 내지 200 ㎛인 것을 특징으로 하는 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 수지 시트에 형성된 볼록 줄 요철 패턴의 단면적은 상기 거대 패턴의 단면적 보다 같거나 큰 것을 특징으로 하는 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 수지 시트에 형성된 볼록 줄 요철 패턴의 단면적 대 상기 거대 패턴의 단면적의 비율은 1 대 1 내지 1 대 1.5인 것을 특징으로 하는 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    패턴 롤러에 음각으로 형성된 거대 패턴은 거대 패턴의 폭 방향이 패턴 롤러의 축 방향과 평행한 것을 특징으로 하는 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 수지 시트는 고분자 수지가 투입되는 실린더, 상기 실린더에 투입된 고분자 수지를 용융시키는 가열장치 및 용융된 고분자 수지를 시트 형태로 배출하는 다이립을 포함하여 구성되는 T-다이를 통해 제조되되,
    상기 다이립은 상부 립과 하부 립으로 구성되고,
    상기 상부 립이 용융된 고분자 수지와 접하는 상부 립의 하단은 평평한 구조이고, 상기 하부 립이 용융된 고분자 수지와 접하는 하부 립의 상단은 수지 시트 배출 방향과 평행한 오목 줄(line) 요철 패턴을 가지는 것을 특징으로 하는 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 상부 립은 T-다이에 일체형으로 고정되며, 하부 립은 탈부착 및 부착 위치의 조절이 가능한 것으로, 하부 립의 부착 위치를 조절하여 상부 립과 하부 립 사이의 간격을 조절하는 것을 특징으로 하는 압출 인각 방식에 의한 거대 패턴이 형성된 도광판의 제조방법.
  12. 배면은 평면이고, 상면은 거대 패턴을 포함하는 도광판으로서,
    상기 거대 패턴의 단면은 거대 패턴의 폭 대 거대 패턴의 높이의 비율이 10 대 1 내지 200 대 1이고,
    상기 거대 패턴의 폭은 2,000 내지 10,000 ㎛이며,
    상기 거대 패턴의 높이는 50 내지 200 ㎛이고,
    도광판의 베이스 두께가 150 내지 1000 ㎛인 거대 패턴을 포함하는 도광판.
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