KR20150078609A - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예는 기판을 건조 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판처리장치는 내부에 처리공간을 제공하는 하우징, 상기 처리공간에서 기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드, 그리고 상기 스핀헤드에 지지된 기판 상으로 제1유체 및 제2유체를 공급하는 유체공급유닛을 포함하되, 상기 유체공급유닛은 상기 제1유체를 공급하는 제1노즐을 가지는 제1공급부재, 상기 제2유체를 공급하는 제2노즐을 가지는 제2공급부재, 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐을 지지하는 아암, 상기 하우징의 일측에 위치되며, 상기 아암으로부터 아래방향으로 연장되는 지지축, 그리고 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 스윙이동되도록 상기 지지축을 회전시키는 구동부재를 포함하되, 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐은 상기 아암이 스윙이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 순차적으로 배열되게 위치된다. 유기용제노즐 및 가스노즐은 아암의 스윙 이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 배열되도록 상기 아암에 결합되고, 기판의 회전방향과 동일한 방향으로 스윙 이동되면서 유기용제 및 가스를 공급한다. 이로 인해 가스는 유기용제액이 기판의 역방향으로 되튀는 것을 방지할 수 있다.

Description

기판처리장치{Apparatus for treating substrate}
본 발명은 기판을 세정 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 건조 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체 제조 또는 평판 표시 디스플레이 제조 공정에는 사진, 식각, 애싱, 박막 증착, 그리고 세정 등 다양한 공정들이 수행된다. 이들 각각의 공정의 진행 전 또는 후 단계에는 공정들이 수행되는 과정에서 발생되는 각종 오염물을 제거하기 위한 세정공정이 수행된다.
일반적으로 세정공정으로는 기판 상에 케미칼을 공급하는 케미칼단계, 린스액을 공급하는 린스단계, 그리고, 기판 상에 잔류된 린스액을 건조하는 건조단계를 포함한다. 현재에는 소자의 미세화에 따라 오염물 및 파티클 또한 함께 미세화되고 있으며, 이를 제거하기 위한 세정액이 많이 사용된다. 세정액의 사용량이 증가됨에 따라 그 세정액을 건조하는 공정에 소요되는 시간 또한 증가된다. 도1은 낱장의 기판에 대해 공정을 수행하는 일반적인 매엽식 세정 장치를 보여주는 단면도이다. 도1을 참조하면, 아암(2)에는 제1노즐(4) 및 제2노즐(6)이 결합된다. 아암(2)은 제1노즐(4) 및 제2노즐(6)이 기판(W)의 중앙영역에 대응되도록 위치된다. 아암(2)은 제1노즐(4)이 기판(W)의 중앙영역에서 가장자리영역으로 이동하면서 유기용제액을 공급하도록 스윙이동된다. 이후, 아암(2)은 제자리로 돌아와 제2노즐(6)이 기판(W)의 중앙영역에서 가장자리영역으로 이동하면서 건조가스를 공급하도록 스윙이동된다.
그러나 기판(W)을 건조 처리 시 공급되는 유기용제액은 회전되는 기판(W) 간의 저항에 의해 회전방향의 역방향으로 되튀고, 기판(W)을 역오염시킨다.
본 발명은 회전되는 기판 상에 공급되는 유기용제액이 되튀어 기판을 역오염시키는 것을 방지할 수 있는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 기판의 건조 처리공정을 신속하게 수행할 수 있는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 유기용제액 및 건조가스를 동시 공급하면서 기판을 건조처리할 수 있는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 건조 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판처리장치는 내부에 처리공간을 제공하는 하우징, 상기 처리공간에서 기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드, 그리고 상기 스핀헤드에 지지된 기판 상으로 제1유체 및 제2유체를 공급하는 유체공급유닛을 포함하되, 상기 유체공급유닛은 상기 제1유체를 공급하는 제1노즐을 가지는 제1공급부재, 상기 제2유체를 공급하는 제2노즐을 가지는 제2공급부재, 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐을 지지하는 아암, 상기 하우징의 일측에 위치되며, 상기 아암으로부터 아래방향으로 연장되는 지지축, 그리고 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 스윙이동되도록 상기 지지축을 회전시키는 구동부재를 포함하되, 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐은 상기 아암이 스윙이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 순차적으로 배열되게 위치된다.
상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 상기 기판의 중앙영역에서 가장자리영역으로 이동하면서 상기 제1유체 및 상기 제2유체가 공급되도록 상기 제1공급부재, 상기 제2공급부재, 그리고 상기 구동부재를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상부에서 바라볼 때, 상기 제1노즐은 그 이동되는 경로를 그리는 포물선이 상기 스핀헤드에 지지된 기판의 중앙영역을 지나도록 상기 아암에 위치되고, 상기 제2노즐은 상기 제1노즐과 인접하게 위치될 수 있다. 상기 제어기는 상기 기판의 회전방향에 대해 상기 제1노즐이 전단에 위치되고 상기 제2노즐이 후단에 위치되도록 상기 구동부재를 제어할 수 있다. 상기 제어기는 상기 기판의 회전방향에 대해 상기 제2노즐이 전단에 위치되고 상기 제1노즐이 후단에 위치되도록 상기 구동부재를 제어할 수 있다. 상기 제1공급부재는 상기 제1노즐에 상기 제1유체를 공급하는 제1공급라인 및 상기 제1공급라인을 개폐하는 제1밸브를 포함하고, 상기 제2공급부재는 상기 제2노즐에 상기 제2유체를 공급하는 제2공급라인 및 상기 제2공급라인을 개폐하는 제2밸브를 포함하되, 상기 제어기는 상기 제1유체 및 상기 제2유체가 동시 공급되도록 상기 제1밸브 및 상기 제2밸브를 제어할 수 있다. 상기 제1유체는 액이고, 상기 제2유체는 가스로 제공될 수 있다.
기판을 건조처리하는 방법으로는 스핀헤드에 지지된 기판을 회전시키는 회전단계 및 상기 기판 상에 제1유체를 공급하는 제1노즐 및 제2유체를 공급하는 제2노즐이 각각 결합된 아암을 스윙 이동시켜 유체공급단계를 포함하되, 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐은 상기 아암의 스윙 이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 일렬로 나열되도록 상기 아암에 결합된다.
상기 유체공급단계에는 상기 제1노즐이 상기 기판의 중앙영역에 대향되는 위치에서 가장자리영역으로 이동되도록 상기 아암을 스윙 이동하되, 상기 제2노즐은 상기 제1노즐과 인접하게 위치될 수 있다. 상기 유체공급단계에는 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 상기 기판의 회전방향과 동일한 방향으로 이동되도록 상기 아암을 스윙이동시킬 수 있다. 상기 유체공급단계에는 상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 상기 기판의 회전방향과 반대되는 방향으로 이동되도록 상기 아암을 스윙이동시킬 수 있다. 상기 제1노즐과 상기 제2노즐은 상기 기판 상에 상기 제1유체 및 상기 제2유체를 동시 공급할 수 있다. 상기 제1유체는 액이고, 상기 제2유체는 가스로 제공될 수 있다. 상기 회전단계 및 상기 유체공급단계 사이에는, 상기 기판 상에 약액을 공급하는 약액공급단계를 더 포함하되, 상기 약액은 케미칼 및 린스액 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 제1유체는 유기용제액이며, 상기 제2유체는 비활성 가스로 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 유기용제노즐 및 가스노즐은 아암의 스윙 이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 배열되도록 상기 아암에 결합되고, 기판의 회전방향과 동일한 방향으로 스윙 이동되면서 유기용제 및 가스를 공급한다. 이로 인해 가스는 유기용제액이 기판의 역방향으로 되튀는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 유기용제액 및 건조가스는 동시 공급되므로, 기판을 건조처리공정을 신속히 수행할 수 있다.
도1은 일반적인 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리설비를 보여주는 평면도이다.
도3은 도2의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도4 및 도5는 도3의 기판처리장치를 이용하여 기판을 건조처리하는 과정을 보여주는 평면도들이다.
도6 및 도7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판을 건조처리하는 과정을 보여주는 평면도들이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
이하, 도2 내지 도7을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리설비를 보여주는 평면도이다. 도2를 참조하면, 기판처리설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정챔버(260)들이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정챔버(260)들은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정챔버(260)들이 제공된다. 공정챔버(260)들 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정챔버(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정챔버(260) 간에, 그리고 공정챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정챔버(260) 내에는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판처리장치(300)가 제공된다. 기판처리장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
기판처리장치(300)는 기판(W)을 액 처리한다. 도3은 도2의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다. 기판처리장치(300)은 하우징(320), 스핀헤드(340), 승강유닛(360), 분사유닛(380), 제어기(500)를 포함한다. 하우징(320)은 기판처리공정이 수행되는 공간을 가지며, 그 상부는 개방된다. 하우징(320)은 내부회수통(322), 및 외부회수통(328)을 가진다. 각각의 회수통(322,328)은 공정에 사용된 액 중 서로 상이한 액을 회수한다. 내부회수통(322)은 스핀헤드(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부회수통(328)은 내부회수통(322)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부회수통(322)의 내측공간(322a) 및 내부회수통(322)과 외부회수통(328)의 사이공간(328a)은 각각 내부회수통(322) 및 외부회수통(328)으로 액이 유입되는 유입구로서 기능한다. 각각의 회수통(322,328)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수라인(322b,328b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,328b)은 각각의 회수통(322,328)을 통해 유입된 액을 배출한다. 배출된 액은 액 재생시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다. 일 예에 의하면, 액 재생시스템(미도시)은 내부회수통(322)의 회수라인(322b)에만 연결될 수 있다. 외부회수통(328)을 통해 배출된 액은 폐기될 수 있다.
스핀헤드(340)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 스핀헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 모터(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기위치와 지지위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지위치에 위치된다. 지지위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.
승강유닛(360)은 하우징(320)을 상하 방향으로 직선이동시킨다. 하우징(320)이 상하로 이동됨에 따라 스핀헤드(340)에 대한 하우징(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 하우징(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀헤드(340)가 하우징(320)의 상부로 돌출되도록 하우징(320)은 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 액의 종류에 따라 액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 하우징(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강유닛(360)은 스핀헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
분사유닛(380)은 기판(W) 상으로 액을 분사한다. 분사유닛(380)은 약액공급유닛(390) 및 유체공급유닛(400)을 포함한다. 약액공급유닛(390)은 복수 개로 제공된다. 각각의 약액공급유닛(390)은 기판 상에 서로 상이한 종류의 약액을 공급한다. 일 예에 의하면, 약액은 케미칼 또는 린스액일 수 있다. 약액공급유닛(390)은 약액노즐(396), 아암(392), 지지축(394), 그리고 구동기를 포함한다. 아암(392)은 약액노즐(396)을 지지한다. 아암(392)의 일단 저면에는 약액노즐(396)이 결합된다. 지지축(394)은 하우징(320)의 일측에 위치된다. 지지축(394)은 아암(392)의 타단으로부터 수직한 아래방향으로 연장되게 제공된다. 구동기(398)는 지지축(394)을 회전시킨다. 지지축(394)의 회전에 의해 아암(392) 및 약액노즐(396)은 공정위치와 대기위치로 이동된다. 공정위치는 약액노즐(396)이 스핀헤드(340)의 상면과 대향되는 위치이고, 대기위치는 공정위치를 벗어난 위치이다. 예컨대, 케미칼은 황산(H2SO4) 또는 인산(H3PO4)을 포함하는 액일 수 있다. 린스액은 순수일 수 있다.
유체공급유닛(400)은 기판 상에 잔류된 약액을 제거한다. 일 예에 의하면. 유체공급유닛(400)은 기판(W) 상에 잔류된 액을 건조하는 건조유닛으로 제공될 수 있다. 유체공급유닛(400)은 기판(W) 상에 제1유체 및 제2유체를 공급한다. 유체공급유닛(400)은 아암(402), 지지축(404), 구동부재(408), 제1공급부재(410), 그리고 제2공급부재(420)를 포함한다. 지지축(404)은 하우징(320)의 일측에 위치된다. 지지축(404)은 그 길이방향이 상하방향을 향하도록 제공된다. 지지축(404)은 구동부재(408)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 아암(402)은 지지축(404)의 상단으로부터 수직한 방향으로 길게 연장된다. 아암(402)은 지지축(404)은 아암(402)으로부터 수직한 아래방향으로 연장되게 제공된다. 아암(402)은 제1공급부재(410)의 제1노즐(412) 및 제2공급부재(420)의 제2노즐(422)을 각각 지지한다. 지지축(404)의 회전에 의해 아암(402), 제1노즐(412), 그리고 제2노즐(422)은 스윙 이동 가능하다. 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)은 지지축(404)의 회전에 의해 스윙 이동되어 공정위치 및 대기위치로 이동가능하다. 공정위치는 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)이 스핀헤드의 상면과 대향되는 위치이고, 대기위치는 공정위치를 벗어난 위치이다. 또한 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)은 공정위치에서 기판(W)의 중앙영역과 가장자리영역에 각각 대향되도록 스윙이동 가능하다. 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)은 그 스윙 이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 일렬로 아암(402)에 위치된다. 제2노즐(422)은 제1노즐(412)과 인접하게 위치된다. 일 예에 의하면, 상부에서 바라볼 때 제1노즐(412)이 스윙이동되어 그려지는 포물선은 스핀헤드에 지지된 기판(W)의 중앙영역을 지나도록 제공될 수 있다. 제2노즐(422)은 제1노즐(412)에 비해 아암(402)의 끝단과 가깝게 위치될 수 있다.
제1공급부재(410)는 제1노즐(412), 제1공급라인(414), 그리고 제1밸브(416)를 포함한다. 제1공급라인(414)은 제1노즐(412)에 제1유체를 공급한다. 제1밸브(416)는 제1공급라인(414)을 개폐한다. 제2공급부재(420)는 제2노즐(422), 제2공급라인(424), 그리고 제2밸브(426)를 포함한다. 제2공급라인(424)은 제2노즐(422)에 제2유체를 공급한다. 제2밸브(426)는 제2공급라인(424)을 개폐한다. 예컨대, 제1유체는 유기용제액이고, 제2유체는 건조가스일 수 있다. 유기용제액은 이소프로필알코올(IPA)액이고, 건조가스는 비활성 가스일 수 있다.
제어기(500)는 제1공급부재(410), 제2공급부재(420), 그리고 구동부재(408)를 제어한다. 제어기(500)는 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)이 기판(W)의 중앙영역에서 가장자리영역으로 스윙 이동하면서 제1유체 및 제2유체를 공급하도록 한다. 제어기(500)는 제1유체 및 제2유체를 동시 공급하도록 한다. 제어기(500)는 기판(W)의 회전방향에 대해 제1노즐(412)이 전단에 위치되고 제2노즐(422)이 후단에 위치되도록 구동부재(408)를 제어한다.
다음은 상술한 기판처리장치를 이용하여 기판(W)을 세정처리하는 방법을 설명한다. 도4 및 도5는 도3의 기판처리장치를 이용하여 기판을 건조처리하는 과정을 보여주는 평면도들이다. 도4 및 도5를 참조하면, 약액공급유닛은 회전되는 기판(W) 상에 케미칼 및 린스액을 순차적으로 공급한다. 린스액의 공급이 완료되면, 건조공정이 수행된다. 약액노즐(396)은 공정위치에서 대기위치로 이동된다. 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)은 공정위치로 이동된다. 제어기(500)는 제1노즐(412)이 기판(W)의 중앙영역과 대향되도록 지지축(404)을 회전시킨다. 제어기(500)는 제1유체 및 제2유체가 동시 공급되도록 제1밸브(416) 및 제2밸브(426)를 개방한다. 제어기(500)는 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)이 기판(W)의 중앙영역에 대향되는 위치에서 기판(W)의 가장자리영역에 대향되는 위치로 이동되도록 스윙 이동시킨다. 제어기(500)는 기판(W)의 회전방향에 대해 제1노즐(412)이 전단에 위치되고, 제2노즐(422)이 후단에 위치되도록 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)을 스윙 이동시킨다. 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)이 기판(W)의 가장자리영역에 대향되는 위치로 이동되면, 제어기(500)는 제1밸브(416) 및 제2밸브(426)를 닫아 제1유체 및 제2유체의 공급을 중지한다. 이 같은 건조공정은 작업자에 의해 수차례 반복 진행될 수 있다.
상술한 실시예에는 제1노즐(412)이 기판(W)의 회전방향에 대해 전단에 위치되고, 제2노즐(422)이 후단에 위치되도록 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)을 스윙 이동시킨다. 이로 인해 유기용제액를 공급 시 기판(W)과의 저항에 의해 기판(W)의 회전방향의 역방향으로 되튈 수 있다. 그러나 건조가스는 그 유기용제가 역방향으로 되튀는 것을 차단하여 기판(W)이 역오염되는 것을 방지할 수 있다.
상술한 실시예와 달리 제어기(500)는 도6 및 도7과 같이, 제1노즐(412)이 기판(W)의 회전방향에 대해 전단에 위치되고, 제2노즐(422)이 후단에 위치되도록 제1노즐(412) 및 제2노즐(422)을 스윙 이동시킬 수 있다. 기판(W)의 회전에 의해 제1유체가 공급된 영역에는 제2유체가 공급되고, 그 건조공정을 보다 신속하게 수행할 수 있다.
또한 제2노즐(422)은 그 분사구가 경사진 방향을 향하도록 제공될 수 있다. 제2노즐(422)은 제1노즐(412)과 가까워질수록 하향경사지게 제공될 수 있다. 제2노즐(422)은 제1유체가 공급되는 기판(W)의 영역에 제2유체가 공급되도록 제2유체를 분사할 수 있다.
400: 유체공급유닛 402: 아암
404: 지지축 408: 구동부재
410: 제1공급부재 412: 제1노즐
420: 제2공급부재 422: 제2노즐

Claims (2)

  1. 내부에 처리공간을 제공하는 하우징과;
    상기 처리공간에서 기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드와;
    상기 스핀헤드에 지지된 기판 상으로 제1유체 및 제2유체를 공급하는 유체공급유닛을 포함하되,
    상기 유체공급유닛은,
    상기 제1유체를 공급하는 제1노즐을 가지는 제1공급부재와;
    상기 제2유체를 공급하는 제2노즐을 가지는 제2공급부재와;
    상기 제1노즐 및 상기 제2노즐을 지지하는 아암과;
    상기 하우징의 일측에 위치되며, 상기 아암으로부터 아래방향으로 연장되는 지지축과;
    상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 스윙이동되도록 상기 지지축을 회전시키는 구동부재를 포함하되,
    상기 제1노즐 및 상기 제2노즐은 상기 아암이 스윙이동되는 방향과 수직한 방향을 따라 순차적으로 배열되게 위치되는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1노즐 및 상기 제2노즐이 상기 기판의 중앙영역에서 가장자리영역으로 이동하면서 상기 제1유체 및 상기 제2유체가 공급되도록 상기 제1공급부재, 상기 제2공급부재, 그리고 상기 구동부재를 제어하는 제어기를 더 포함하되,
    상부에서 바라볼 때, 상기 제1노즐은 그 이동되는 경로를 그리는 포물선이 상기 스핀헤드에 지지된 기판의 중앙영역을 지나도록 상기 아암에 위치되고, 상기 제2노즐은 상기 제1노즐과 인접하게 위치되는 기판처리장치.

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