KR20150067564A - Display Panel For Display Device - Google Patents

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KR20150067564A
KR20150067564A KR1020130153145A KR20130153145A KR20150067564A KR 20150067564 A KR20150067564 A KR 20150067564A KR 1020130153145 A KR1020130153145 A KR 1020130153145A KR 20130153145 A KR20130153145 A KR 20130153145A KR 20150067564 A KR20150067564 A KR 20150067564A
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display panel
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박용찬
김경아
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a display panel for a display device, which comprises: a GIP shorting bar of a first unit display panel placed on separation space between two unit display panels; and a touch electrode shorting bar of a second unit display panel, wherein the touch electrode shorting bar and the GIP shorting bar are formed on different layers, thus increasing layout efficiency of the display panels on a large substrate, minimizing the space between the two display panels to reduce a defect rate, and making the process simple because a cutting process can be done with a single scribing line.

Description

표시장치용 표시패널{Display Panel For Display Device}[0001] The present invention relates to a display panel for a display device,

본 발명은 표시장치용 표시패널에 관한 것으로서, 특히 터치 전극이 패널 내부에 위치하는 터치 일체형 표시패널에 관한 것이다. The present invention relates to a display panel for a display device, and more particularly to a touch-integrated display panel in which a touch electrode is positioned inside a panel.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기전계발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Diode Display Device)와 같은 여러 가지 표시장치가 활용되고 있다.2. Description of the Related Art [0002] As an information-oriented society develops, there have been various demands for display devices for displaying images. Recently, liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs) Various display devices such as an OLED (Organic Light Emitting Diode Display Device) have been utilized.

이러한 표시장치 중 액정 표시장치(LCD)는 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 컬러필터 및/또는 블랙매트릭스 등을 구비한 상부기판과, 그 사이에 형성되는 액정물질층을 포함하여 구성되며, 화소 영역의 양 전극 사이에 인가되는 전계에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다.Among these display devices, a liquid crystal display (LCD) includes an array substrate including a thin film transistor, an upper substrate provided with a color filter and / or a black matrix, and a liquid crystal material layer formed therebetween, The alignment of the liquid crystal layer is adjusted according to an electric field applied between both electrodes of the region, and the transmittance of light is controlled thereby to display an image.

이러한 액정 표시장치의 표시패널은 사용자에게 이미지를 제공하는 표시 영역(active area, AA)과 상기 표시영역(AA)의 주변 영역인 비표시 영역(non-active area, NA)으로 정의되며, 표시 패널은 통상 박막 트랜지스터 등이 형성되어 화소영역이 정의되는 어레이기판인 제1기판과, 블랙매트릭스 및/또는 칼라필터층 등이 형성된 상부 기판으로서의 제2기판이 합착되어 제조된다.The display panel of such a liquid crystal display device is defined by a non-display area (NA), which is a peripheral area of the display area AA, and a display area (AA) A first substrate, which is an array substrate in which a thin film transistor or the like is formed and in which a pixel region is defined, and a second substrate, which is an upper substrate on which a black matrix and / or a color filter layer are formed.

박막 트랜지스터가 형성되는 어레이기판 또는 제1기판은 다시, 제1방향으로 연장되는 다수의 게이트 라인(GL)과, 제1방향과 수직인 제2방향으로 연장되는 다수의 데이터 라인(DL)을 포함하며, 각각의 게이트 라인과 데이터 라인에 의하여 하나의 화소영역(Pixel; P)이 정의된다. 하나의 화소영역(P) 내에는 1 이상의 박막 트랜지스터가 형성되며, 각 박막 트랜지스터의 게이트 또는 소스 전극은 각각 게이트 라인 및 데이터 라인과 연결될 수 있다.The array substrate or the first substrate on which the thin film transistors are formed further includes a plurality of gate lines GL extending in a first direction and a plurality of data lines DL extending in a second direction perpendicular to the first direction , And one pixel region (Pixel P) is defined by the respective gate lines and data lines. In one pixel region P, at least one thin film transistor is formed, and the gate or source electrode of each thin film transistor may be connected to a gate line and a data line, respectively.

또한, 각 게이트 라인과 데이터 라인에 각 화소의 구동에 필요한 게이트 신호 및 데이트 신호를 제공하기 위하여 비표시영역 또는 패널 외부의 게이트 구동부(구동회로) 또는 데이터 구동회로 등이 포함된다.A gate driver (drive circuit) or a data driver circuit outside the non-display region or the panel is included in each gate line and the data line in order to provide a gate signal and a data signal necessary for driving each pixel.

이 중에서, 게이트 구동회로는 표시패널의 각종 신호라인과 화소를 형성하는 과정에서 표시패널의 비표시 영역상에 동시에 형성되어서, 결과적으로 게이트 구동회로가 패널 내부에 포함되는 게이트-인-패널(Gate-In-Panel; 이하 “GIP”라고도 함) 형태로 구현될 수도 있다.Among them, the gate drive circuit is formed simultaneously on the non-display region of the display panel in the process of forming the various signal lines and pixels of the display panel, and consequently, the gate drive circuit is connected to the gate- -In-Panel (hereinafter also referred to as " GIP ").

또한, 최근의 표시패널은 사용자의 손가락 등의 입력을 감지하는 터치 기능을 구비하는 것이 일반적이며, 터치 스크린을 별도로 제작하여 표시패널 상에 설치하는 타입과, 터치 인식에 필요한 터치 전극 등을 표시패널 제조시 표시패널 내부에 포함시키는 터치 일체형 표시패널 등이 개발되고 있다.In addition, a recent display panel generally has a touch function for sensing the input of a user's finger or the like, and a type in which a touch screen is separately manufactured and installed on a display panel, a type in which a touch electrode necessary for touch recognition, A touch-integrated type display panel which is incorporated into a display panel during manufacturing is being developed.

이 중에서, 터치 일체형 표시패널은 소위 “인셀 터치패널(In-Cell Touch)”로 불리기도 하며, 이러한 터치 일체형 표시패널은 보통 표시패널의 화소에 공통전압을 제공하는 공통전극(Vcom)을 특정한 형태 등으로 가공하여 터치 전극으로서 사용할 수 있다.The touch-integrated display panel may be referred to as a so-called " In-Cell Touch ". The touch-integrated display panel usually has a common electrode (Vcom) And can be used as a touch electrode.

한편, 이러한 표시패널은 다수가 한꺼번에 하나의 글라스 모기판 상에 형성된 후에, 각각의 개별 제품으로서의 표시패널로 절단(Cutting) 또는 스크라이브(Scribe)될 수 있다. On the other hand, a large number of such display panels may be formed on one glass mother substrate at a time, and then cut or scribed by display panels as respective individual products.

이러한 표시패널의 경우, 다수의 제조공정에서 여러 제조장비들과 접촉하기 때문에 정전기가 발생할 수 있고, 각종 신호라인 또는 전극 들이 도전성 재질로 형성되어 있기 때문에, 발생한 정전기가 대전되어 표시패널의 일부를 손상시킬 가능성이 있다.In the case of such a display panel, since static electricity may be generated due to contact with various manufacturing equipment in many manufacturing processes, and various signal lines or electrodes are formed of a conductive material, static electricity generated is charged, .

따라서, 표시패널의 제조공정에서 발생되는 정전기를 방전 또는 해결하기 위하여 도전성 소자들을 전기적으로 연결하는 소위 쇼팅바(Shorting Bar)와 같은 정전기 방지구조가 사용될 수 있으나, 이러한 정전기 방지구조가 다수 사용되는 경우에는 그 형성위치나 구조에 있어서 중복이 발생될 수 있어서 이에 대한 해결이 필요한 실정이다. Therefore, an antistatic structure such as a so-called shorting bar that electrically connects the conductive elements to discharge or solve the static electricity generated in the manufacturing process of the display panel may be used. However, when a large number of such antistatic structures are used It is necessary to solve the problem that overlapping may occur in the formation position and structure.

이러한 배경에서, 본 발명의 목적은, 정전기 방지 구조를 포함하는 터치형 표시패널을 제공하는 것이다. In view of the foregoing, it is an object of the present invention to provide a touch-type display panel including an antistatic structure.

본 발명의 다른 목적은 정전기 방지 등을 위하여 1 이상의 쇼팅바를 포함하는 표시패널에서 1 이상의 쇼팅바의 형성 위치 및 재료 등을 최적화함으로써 표시패널 제작시의 글래스(Glass) 효율을 유지하고 및 불량율을 최소화하는 표시패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to optimize the formation positions and materials of at least one shot bar in a display panel including at least one shot bar for the purpose of preventing static electricity and the like, thereby maintaining the glass efficiency at the time of manufacturing the display panel and minimizing the defect rate And a display panel.

본 발명의 다른 목적은, 표시패널의 게이트 구동을 위한 각종 신호의 인가 배선(GIP 배선)의 쇼팅바와, 터치 일체형 표시패널 내부의 터치 전극의 쇼팅바를 서로 상이한 레이어로 형성함으로써, 글래스 효율을 유지하고, 제조공정을 간단히 할 수 있는 표시패널을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a display device in which a shorting bar of various signal application wirings (GIP wirings) for driving a gate of a display panel and a shorting bar of a touch electrode inside the touch-integrated display panel are formed in different layers from each other, And a display panel which can simplify the manufacturing process.

전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는, 2 이상의 단위 표시패널을 포함하는 표시장치용 표시패널로서, 각각 다수의 터치 전극과 게이트 구동부로의 신호 배선인 GIP 라인을 포함하는 제 1 단위 표시패널 및 제 2 단위표시 패널과, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하며, 상기 제1 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되는 표시패널을 제공한다. In order to achieve the above object, an embodiment of the present invention is a display panel for a display device including two or more unit display panels, each of the display panels including a plurality of touch electrodes and a plurality of GIP lines A first unit display panel, a second unit display panel, a GIP shorting bar of the first unit display panel and a touch electrode shorting bar of the second unit display panel arranged in a spaced-apart space between both unit display panels, The touch electrode shorting bar of the panel and the GIP shorting bar of the second unit display panel provide a display panel formed of different layers.

본 발명의 다른 실시예에서는, 스크라이빙 공정에 의하여 단위별로 분리되는 표시패널로서, 다수의 화소가 정의된 표시영역에 배치된 다수의 터치 전극과, 게이트 구동부로 신호를 인가하기 위하여 비표시 영역에 형성된 다수의 GIP 라인과, 스크라이브 공정 이전에 상기 터치 전극 및 GIP 라인을 각각 터치 전극 쇼팅바 및 GIP 쇼팅바로 연결하기 위한 터치 전극 연결배선 및 GIP 연결배선을 포함하며, 상기 단위 표시패널의 일측에는 상기 터치 전극 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 GIP 쇼팅바를 포함하고, 대향측에는 상기 GIP 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 터치전극 쇼팅바를 포함하는 표시패널을 제공한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a display panel divided into units by a scribing process, comprising: a plurality of touch electrodes arranged in a display region in which a plurality of pixels are defined; And a GIP connection line for connecting the touch electrode and the GIP line directly to the touch electrode shorting bar and the GIP shortening line before the scribing process, And a remaining GIP shorting bar of another unit display panel formed on a different layer from the touch electrode connecting wiring, and a display including a remaining GIP shorting bar on the GIP connecting wiring and another unit display panel formed on a different layer from the GIP shorting bar Panel.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 터치 일체형 표시패널의 제조 또는 패터닝 과정에서 발생하는 정전기에 의한 표시패널 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the display panel from being damaged by the static electricity generated during the manufacturing or patterning process of the touch-integrated display panel.

또한, 본 발명에 의하면, 터치형 표시패널에서 1 이상의 쇼팅바의 형성 위치, 재료 등을 최적화함으로써, 터치 일체형 표시패널의 제조과정에서의 글래스 효율을 유지하면서, 불량율을 최소화할 수 있는 효과가 있다.Further, according to the present invention, there is an effect that the defective rate can be minimized while maintaining the glass efficiency in the manufacturing process of the touch-integrated display panel by optimizing the formation position, material, and the like of at least one shot bar in the touch display panel .

본 발명에 의하면, 터치형 표시패널에서 신호배선용 쇼팅바와 터치 전극용 쇼팅바의 패널상에서의 형성 위치와 레이어 등을 상이하게 함으로써, 다수의 단위 표시패널을 포함하는 대표시패널 상에서의 배치 효율을 높이고, 스크라이브(Scribe) 공정 등을 단순화할 수 있는 등의 효과가 있다. According to the present invention, in the touch-type display panel, the forming positions and layers of the shorting bar and the touching electrode for the signal wiring on the panel are different from each other, so that the arrangement efficiency on the representative- , A scribe process, and the like can be simplified.

또한, 비터치 표시패널의 제조공정에 사용되었던 포토 마스크 등을 그대로 이용할 수 있다는 효과도 있다.Further, there is an effect that the photomask used in the manufacturing process of the non-touch display panel can be used as it is.

도 1은 다수의 단위 표시패널이 형성되는 대표시패널의 평면도이다.
도 2는 2개의 단위 표시패널을 포함하는 표시패널의 상태로로서, 도 2의 (a)는 확대 평면도, 도 2의 (b)는 양 단위 표시패널 배치 상태를 도시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 터치형 표시패널의 평면 확대도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 표시패널의 각 화소에 대한 평면도 및 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치형 표시패널의 부분 평면도를 도시한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 부분 단면도로서, 도 6의 (a) 내지 (c)는 각각 도 5의 I-I’, II-II’, III-III’ 단면을 도시한다.
도 7은 본 발명의 여러 변형예를 도시한다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 평면도로서, 스크라이빙 공정에 의하여 절단된 이후의 단위 표시패널을 도시한다.
1 is a plan view of a representative panel in which a plurality of unit display panels are formed.
Fig. 2 shows a state of a display panel including two unit display panels. Fig. 2 (a) is an enlarged plan view, and Fig. 2 (b) shows the arrangement of both unit display panels.
3 is an enlarged plan view of a touch-type display panel according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view and a cross-sectional view of each pixel of a display panel to which an embodiment of the present invention is applied.
5 is a partial plan view of a touch-type display panel according to another embodiment of the present invention.
6 is a partial cross-sectional view of a unit display panel according to an embodiment of the present invention. FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views taken along line I-I ', II-II', and III-III ' Respectively.
Figure 7 shows several variants of the invention.
FIG. 8 is a plan view of a unit display panel according to an embodiment of the present invention, showing a unit display panel after being cut by a scribing process.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In the drawings, like reference numerals are used to denote like elements throughout the drawings, even if they are shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are intended to distinguish the components from other components, and the terms do not limit the nature, order, order, or number of the components. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, Quot; intervening "or that each component may be" connected, "" coupled, "or " connected" through other components.

도 1은 다수의 단위 표시패널이 형성되는 대표시패널의 평면도이다.1 is a plan view of a representative panel in which a plurality of unit display panels are formed.

본 발명이 적용될 수 있는 표시패널을 터치형 표시패널로서, 더 구체적으로는 터치 전극이 표시패널 내부에 포함되는 터치 일체형(In-Cell) 표시패널이다.The display panel to which the present invention can be applied is a touch-type display panel, more specifically, a touch-integrated display (In-Cell) display panel in which a touch electrode is included in the display panel.

또한, 이러한 표시패널은 다수가 한꺼번에 하나의 글라스 모기판 상에 형성된 후에, 각각의 개별 제품으로서의 표시패널로 절단(Cutting) 또는 스크라이브(Scribe)될 수 있다. 이 때, 대형 모기판 상에서 각각의 패널을 절단 또는 분리하기 위한 경계선을 스크라이브 라인 또는 커팅 라인이라 부를 수 있으며, 제조과정에서 다수의 표시기판이 형성된 대기판으로서의 표시패널과 구분하기 위하여, 절단되어 하나의 단일 제품으로 사용되는 표시패널을 “단위 표시패널”로 표현하기로 한다.In addition, such a display panel may be formed on one glass mother substrate at a time, and then cut or scribed by a display panel as each individual product. At this time, a boundary line for cutting or separating each panel on the large mother substrate can be called a scribe line or a cutting line. In order to distinguish it from a display panel as a standby plate on which a plurality of display substrates are formed in the manufacturing process, A display panel used as a single product of the present invention will be referred to as a " unit display panel ".

이러한 단위 표시패널은 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역으로 정의되되 1 이상의 박막 트랜지스터를 포함하는 화소영역이 있는 어레이기판으로서의 제1기판과, 블랙매트릭스 및/또는 칼라필터층 등이 형성된 상부 기판으로서의 제2기판이 합착되어 제조된다.The unit display panel includes a first substrate as an array substrate having pixel regions defined by intersecting regions of gate lines and data lines, the pixel regions including at least one thin film transistor, and a second substrate as a top substrate having a black matrix and / And the substrates are bonded together.

한편, 단위 표시패널은 표시영역내에 다수의 공통전극(Vcom)을 포함하되 이러한 공통전극은 각 화소에 공통전압을 인가하여 화소전극과의 전위차에 의하여 액정재료에 전계를 인가하도록 이용된다.On the other hand, the unit display panel includes a plurality of common electrodes (Vcom) in a display area, and the common electrodes are used to apply an electric field to the liquid crystal material by applying a common voltage to each pixel by a potential difference with the pixel electrode.

일반적인 표시패널에서는 이러한 공통전극(Vcom)은 큰 평면상으로 형성될 수 있으나, 터치 일체형 표시패널에서는 이러한 공통전극이 터치 감지를 위한 터치 전극으로도 이용되기 때문에, 터치 위치별로 터치 전극이 분리되어 있어야 하므로 도 1과 같이 공통전극이 표시영역에 다수의 터치 전극으로 분리되어 형성된다.In a general display panel, such a common electrode Vcom can be formed on a large plane. However, in a touch-integrated type display panel, since such a common electrode is also used as a touch electrode for touch detection, Therefore, as shown in FIG. 1, the common electrode is divided into a plurality of touch electrodes in the display area.

도 1과 같이, GIP 방식의 터치 일체형 단위 표시패널은 다수의 터치전극(110)을 포함하고 있고, 이러한 다수의 터치 전극은 터치 구동배선(112)을 통해서 패널일측(도 1의 하부)에 있는 데이터/터치 구동부(D-IC 또는 T-IC; 120)에 연결되어 있다. 1, the touch-integrated unit display panel of the GIP type includes a plurality of touch electrodes 110. The plurality of touch electrodes are arranged on one side (lower side in Fig. 1) of the panel through the touch driving wiring 112 And is connected to the data / touch driver (D-IC or T-IC) 120.

데이터/터치 구동부(120)는 다수의 터치 전극(110)에 특정한 신호 또는 전압을 인가한 후 터치 조작에 의한 정전용량을 감지함으로써 터치 위치를 감지하는 제어부로서의 기능을 하는 것이며, 본 명세서에서는 터치 구동부가 데이터 구동회로(D-IC)에 통합되어 데이터/터치 구동부(120)로 설명하지만 그에 한정되는 것은 아니며, 경우에 따라서 데이트 구동부와 터치 구동부는 별개로 구별될 수 있다.The data / touch driver 120 functions as a controller for sensing a touch position by sensing a capacitance by a touch operation after applying a specific signal or voltage to the plurality of touch electrodes 110. In this specification, The data / touch driver 120 is integrated into the data driver circuit (D-IC), but the present invention is not limited thereto. In some cases, the data driver and the touch driver may be distinguished from each other.

한편, 단위 표시패널은 패널 일측(도 1에서는 좌측)의 비표시 영역에 게이트 구동회로로서 표시패널에 직접 형성되는 GIP 방식의 GIP 구동부(130)를 포함한다.On the other hand, the unit display panel includes a GIP driving unit 130 of a GIP type which is formed directly on a display panel as a gate driving circuit in a non-display area on one side (left side in FIG.

이러한 GIP 구동부(130)는 각 게이트 라인에 대응되어 각 게이트 라인에 화소를 구동하기 위한 게이트 출력신호(Vout 또는 Gout)를 생성하여 제공하는 다수의 GIP 제어블록을 포함할 수 있다. 이러한 GIP 제어블록은 시프트 레지스터의 각 스테이지 등으로 구현될 수 있지만 그에 한정되는 것은 아니다.The GIP driver 130 may include a plurality of GIP control blocks corresponding to the respective gate lines and generating and providing a gate output signal Vout or Gout for driving the pixels in each gate line. Such a GIP control block may be implemented in each stage of the shift register and the like, but is not limited thereto.

한편, 이러한 GIP 구동부(130)에는 게이트 출력신호 생성에 사용되는 다수의 신호 또는 펄스가 제공되어야 하며, 이러한 신호는 전술한 데이터/터치 구동부(120) 또는 타이밍 제어장치나, 패널 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)등에서 생성되어 게이트 구동부(130)로 인가되며, 이러한 신호의 전달을 위하여 사용되는 배선을 본 명세서에서는“GIP 라인”이라고 부를 수 있다.A plurality of signals or pulses used for generating a gate output signal must be provided to the GIP driver 130. These signals are supplied to the data / touch driver 120 or the timing controller, Printed Circuit or the like and applied to the gate driver 130. The wiring used for transferring such a signal may be referred to as a " GIP line " in this specification.

즉, 도 1에서 데이터/터치 구동부(130)에서 게이트 구동부(120)로 신호를 전달하기 위하여 다수의 GIP 라인(131)이 도시되어 있다.That is, in FIG. 1, a plurality of GIP lines 131 are shown for transferring signals from the data / touch driver 130 to the gate driver 120.

따라서, 본 명세서에서 사용하는 GIP 배선 또는 GIP 라인은 표시패널에서 게이트 구동회로 또는 게이트 구동부로 인가되는 각종 전기적 신호 또는 펄스를 전송하기 위하여 패널에 형성된 모든 종류의 배선, 도선 또는 라인을 의미하는 포괄적인 것으로 이해되어야 한다.Accordingly, the GIP line or GIP line used in the present specification is a comprehensive line that refers to all kinds of wires, conductors or lines formed on the panel for transmitting various electrical signals or pulses applied to the gate drive circuit or the gate driver in the display panel .

한편, 이러한 GIP 라인(131)이나 터치 전극(110)은 모두 도전성 재료이며, 이러한 표시패널의 제조과정에서 다수 장비에 접촉되면서 정전기가 발생될 수 있으며, 이러한 정전기는 대전량이 커서 패널 제조과정에서 다른 소자에 손상을 일으킬 가능성이 있다.Meanwhile, the GIP line 131 and the touch electrode 110 are both made of a conductive material. In the manufacturing process of such a display panel, static electricity may be generated by contact with a plurality of devices. Such static electricity has a large charge amount, There is a possibility of causing damage to the device.

따라서, 이러한 정전기로부터의 손상을 방지하기 위해서는 발생된 정전기를 외부로 방전 또는 소실시킬 필요가 있으며, 이를 위하여 각 도전성 소자들을 전기적으로 연결할 필요가 있었다. Therefore, in order to prevent damage from such static electricity, it is necessary to discharge or eliminate the generated static electricity to the outside, and it is necessary to electrically connect the respective conductive elements.

이를 위해, 도 1과 같이, 다수의 GIP 라인(131)을 전기적으로 연결하는 쇼팅바로서의 GIP 쇼팅바(140)와 다수의 터치 전극(110)을 전기적으로 연결하는 터치 전극 쇼팅바(150)를 포함할 수 있다.1, a GIP shorting bar 140 electrically connects a plurality of GIP lines 131 to a shorting bar and a plurality of touch electrode shorting bars 150 electrically connecting the plurality of touch electrodes 110, . ≪ / RTI >

물론, 이러한 쇼팅바는 반드시 정전기 방출을 위한 용도로 제한되는 것은 아니며, 예를 들어 GIP 라인 또는 데이터 패드 또는 게이트 패드 등을 일체로 연결하여 어레이 테스트(Array Test; ART)와 같은 검사공정에 사용될 수도 있다.Of course, such a shot bar is not necessarily limited to use for static discharge, and may be used in an inspection process such as an array test (ART) by integrally connecting, for example, a GIP line or a data pad or a gate pad have.

따라서, 본 명세서에서 사용하는 쇼팅바(Shorting Bar)라는 표현은 용도를 불문하고 동일 또는 유사한 성질의 도전성 소자 또는 부품을 전기적으로 일체로 연결하기 위하여 긴 막대 또는 선형으로 형성되는 도전성 패턴을 의미하며, 검사배선, 정전기 방출배선 등 다른 용어 또는 표현으로 사용될 수 있다.Therefore, the expression "shorting bar" as used herein means a conductive pattern formed in a long rod or linear shape to electrically connect together conductive elements or parts of the same or similar property regardless of the application, Inspection wiring, electrostatic discharge wiring, and the like.

또한, 각 GIP 라인(131)과 GIP 쇼팅바(140)를 연결하는 GIP 연결배선(142)을 포함할 수 있으며, 마찬가지로 터치 전극(110)을 터치전극 쇼팅바(150)까지 연결하는 연결배선으로서의 터치전극 연결배선(152)를 포함할 수 있다.And a GIP connection wiring 142 connecting each GIP line 131 and the GIP shorting bar 140. The GIP connection wiring 142 may be formed as a connection wiring for connecting the touch electrode 110 to the touch electrode shorting bar 150 And a touch electrode connection wiring 152.

이 때, 전술한 바와 같이, 터치 전극(110)은 터치 구동배선(112)을 통해 패널 하부의 터치 구동부로 연결되어야 하므로 전술한 터치 전극 쇼팅바(150) 및 터치 전극연결배선(152)은 도 1을 기준으로 패널 상부로 형성된다.Since the touch electrode 110 must be connected to the touch driving unit under the panel through the touch driving wiring 112 as described above, the touch electrode shorting bar 150 and the touch electrode connecting wiring 152 are also connected to the touch driving electrode 1 < / RTI >

즉, 도 1과 같이, 하나의 단위 표시패널 기준으로 GIP 쇼팅바(140)는 단위 표시패널 일측(하부)에, 터치 전극 쇼팅바(150)는 단위 표시패널의 대향측(상부)에 형성된다.1, the GIP shorting bar 140 is formed on one side (lower side) of the unit display panel and the touch electrode shortening bar 150 is formed on the opposite side (upper side) of the unit display panel on the basis of one unit display panel .

도 2는 2개의 단위 표시패널을 포함하는 표시패널의 상태로로서, 도 2의 (a)는 확대 평면도, 도 2의 (b)는 양 단위 표시패널 배치 상태를 도시한다. Fig. 2 shows a state of a display panel including two unit display panels. Fig. 2 (a) is an enlarged plan view, and Fig. 2 (b) shows the arrangement of both unit display panels.

다수의 단위 표시패널(100, 100’)이 하나의 대기판으로서의 표시패널에 한꺼번에 형성된 이후에 커팅 또는 스크라이브(Scribe) 공정에 의하여 단위 표시기판으로 절단되는 공정으로 제작되는데, 이 때 도 2의 (a)와 같이, 제1 단위 표시패널(100)의 GIP 쇼팅바(140)와 제2 단위 표시패널(100’)의 터치 전극 쇼팅바(150)가 동일한 패널간 이격 공간에 위치하게 된다.A plurality of unit display panels 100 and 100 'are formed at one time on a display panel as an atmospheric plate, and then cut into a unit display substrate by a cutting or scribing process. At this time, the GIP shorting bar 140 of the first unit display panel 100 and the touch electrode shortening bar 150 of the second unit display panel 100 'are positioned in the same panel-to-panel spacing space as in FIG.

또한, 특별한 조건이 없는 한 각 쇼팅바는 동일한 레이어 또는 재질, 예를 들면, 화소전극 또는 공통전극의 형성재료인 투명전극(ITO 등) 재료로 형성될 수 있다.In addition, unless otherwise specified, each Schottenba can be formed of the same layer or material, for example, a transparent electrode (such as ITO) which is a material for forming a pixel electrode or a common electrode.

이 때, 만일 표시패널이 터치형이 아닌 비터치형 표시패널인 경우에 터치 전극 및 그를 위한 쇼팅바가 필요없으며, 따라서 제조과정에서 도 2의 (b)의 좌측과 같이 양 단위 표시패널(100, 100’) 사이의 간격을 D 만큼만 확보하면 되며, 스크라이브 라인(Scribe Line; 170) 역시 1개만 필요하다.In this case, when the display panel is a non-touch type non-touch type display panel, a touch electrode and a shorting bar for the touch electrode are not required. ', And only one scribe line 170 is required.

그러나, 표시패널이 터치 일체형 표시패널인 경우에는, 도 2의 (b) 우측 도면과 같이, 상부 단위 표시패널(100)의 하부에 있는 GIP 쇼팅바(140)와 하부 단위 표시패널(100’)의 상부에 있는 터치 전극 쇼팅바(150)가 동일한 이격 공간에 위치하게 되며, 양 쇼팅바가 동일한 레이어인 경우에는 중첩될 수 없기 때문에 비터치 표시패널의 경우보다 이격 거리가 D’로써 더 증가하여야 하며, 2개의 단위 표시패널을 스크라이브 하기 위하여 2개의 스크라이브 라인(170’, 170”)이 필요하게 된다. However, when the display panel is a touch-integrated display panel, the GIP shorting bar 140 and the lower unit display panel 100 'located below the upper unit display panel 100, as shown in the right drawing of FIG. Since the touch electrode shorting bars 150 on the upper portion of the touch screen display panel 150 are located in the same spacing space and can not overlap when both shorting bars are the same layer, , Two scribe lines 170 'and 170 " are required to scribe two unit display panels.

이 경우, 비터치 표시패널의 제조공정과 비교할 때, 일정 면적의 대기판(Glass Substrate)에 에 집적할 수 있는 단위 표시기판의 개수가 감소하므로 글래스 이용 효율이 감소하게 되고, 양 표시패널 사이의 이격 거리가 커짐에 따른 불량율도 증가하게 된다.In this case, as compared with the manufacturing process of the non-touch display panel, the number of unit display substrates that can be integrated in a glass substrate of a certain area is reduced, so that the glass utilization efficiency is reduced. And the defect rate increases as the spacing distance increases.

또한, 비터치 표시패널의 포토 리소그래피 공정 등에 사용하던 포토 마스크 등을 이용할 수 없으므로 별도의 터치 표시패널용 마스크를 마련하여야 할 뿐 아니라, 스크라이브 공정 역시 2배로 증가하므로 제조 효율이 감소하는 등 여러 문제점이 있을 수 있다.In addition, since a photomask used in a photolithography process or the like of the non-touch display panel can not be used, not only a mask for a separate touch panel but also a scribing process is doubled, Can be.

따라서, 본 발명의 일 실시예는 이러한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 1 이상의 단위 표시패널을 포함하는 표시패널로서, 각각 다수의 터치 전극과 게이트 구동부로의 신호 배선인 GIP 라인을 포함하는 제 1 단위 표시패널 및 제 2 단위표시 패널을 포함하되, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하며, 제1 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되고, 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 제2 단위 표시패널에 가깝게 배치됨 단일의 스크라이브 라인을 가질 수 있는 구성을 가진다. Therefore, an embodiment of the present invention has been proposed in order to solve such a problem, and it is a display panel including at least one unit display panel, which includes a plurality of touch electrodes and a plurality of GIP lines A GIP shorting bar of the first unit display panel and a touch electrode shorting bar of the second unit display panel, the first unit display panel including a first unit display panel and a second unit display panel, The GIP shorting bar of the second unit display panel is formed in a different layer, and the GIP shorting bar of the first unit display panel is formed in the second unit display panel And can have a single scribe line.

이 때, GIP 쇼팅바와 터치 전극 쇼팅바는 각각 게이트 레이어, 소스/드레인 레이어, 화소전극 레이어 및 터치전극(공통전극) 레이어 중 선택된 2개 레이어로 각각 형성될 수 있으며, 양 쇼팅바는 1 이상의 절연막에 의하여 절연 분리되어 있다.In this case, the GIP shorting bar and the touch electrode shorting bar may be respectively formed of two layers selected from a gate layer, a source / drain layer, a pixel electrode layer, and a touch electrode (common electrode) layer, As shown in FIG.

이하에서는 본 발명의 여러 실시예를 도면을 참고로하여 더 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 터치형 표시패널의 평면 확대도이다.3 is an enlarged plan view of a touch-type display panel according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 의한 표시패널은 제1 단위 표시패널(300)과 제2 단위 표시패널(300’)을 포함하고, 각 단위 표시패널은 다수의 터치 전극(310)과, 데이터/터치 구동부(320) 및 GIP 구동부(미도시)를 포함할 수 있으며, 데이터/터치 구동부에서 생성되어 GIP 구동부로 전달되는 각종 신호 또는 펄스를 전달하기 위한 GIP 라인(331)이 다수 형성되어 있다.The display panel according to an embodiment of the present invention includes a first unit display panel 300 and a second unit display panel 300 '. Each unit display panel includes a plurality of touch electrodes 310, a data / A plurality of GIP lines 331 for transmitting various signals or pulses generated in the data / touch driver and transferred to the GIP driver are formed.

이 때, GIP 라인(331)은 게이트 클럭(CLK), 전원신호(Vdd, Vss), 스타트 신호(VST), 엔드신호(END) 등을 전달하기 위한 배선 등을 포함할 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. At this time, the GIP line 331 may include wiring for transmitting the gate clock CLK, the power supply signals Vdd and Vss, the start signal VST, the end signal END and the like, no.

또한, 이러한 GIP 라인들은 통상 게이트 전극 형성과 동일한 레이어 또는 재료, 즉 저저항 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo) 및 몰리브덴 합금(MoTi) 중 하나 또는 둘 이상의 물질 등으로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. These GIP lines are usually formed of the same layer or material as the gate electrode, that is, a low resistance metal material such as aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), copper alloy, molybdenum (MoTi), or the like, but the present invention is not limited thereto.

한편, 제1 단위표시패널(300)의 일측(도 3의 하측)에는 다수의 GIP 라인들을 쇼팅하기 위한 GIP 쇼팅바(340)가 길게 형성되어 있으며, 각 GIP 라인(331)과 GIP 쇼팅바(340)를 연결하기 위하여 GIP 연결배선(342)을 포함할 수 있다.On the other hand, a GIP shorting bar 340 for shorting a plurality of GIP lines is formed in a long side of the first unit display panel 300, and each GIP line 331 and a GIP shorting bar 340). ≪ / RTI >

또한, 제2 단위 표시패널(300’)의 타측(도 3의 상측)에는 제2 단위 표시패널(300’)의 모든 터치 전극(310)을 전기적으로 연결하기 위한 터치 전극 쇼팅바(350)가 길게 형성되어 있으며, 터치 전극(310)과 터치 전극 쇼팅바(350)를 전기적으로 연결하기 위하여 1 이상의 터치 전극 연결배선(352, 352’)을 포함할 수 있다.A touch electrode shortening bar 350 for electrically connecting all the touch electrodes 310 of the second unit display panel 300 'is formed on the other side of the second unit display panel 300' And may include one or more touch electrode connection wirings 352 and 352 'for electrically connecting the touch electrode 310 and the touch electrode shortening bar 350. [

본 실시예에서의 터치 전극(310)은 구동 터치 전극(Tx)과 센싱 터치 전극(Rx)로 구분되어 그 사이의 정전용량 차이를 측정하는 상호 정전용량 방식(Mutual Cap.)의 터치 전극일 수도 있고, 동일 평면상에 송수신 구분없이 격자 형태로 배치되어 자기 정전용량을 측정하는 셀프 정전용량 방식(Self Cap.)의 터치 전극일 수도 있다. The touch electrode 310 may be a mutual capacitance type touch electrode which is divided into a driving touch electrode Tx and a sensing touch electrode Rx so as to measure a capacitance difference therebetween And may be a self-capacitance type (Self Cap) touch electrode arranged on the same plane in a lattice-like form without discriminating between transmission and reception, and measuring the self-capacitance.

이 때, GIP 쇼팅바(340)와 터치 전극 쇼팅바(350)는 서로 상이한 레이어로 형성되며, 제1 단위 표시패널(300)의 GIP 쇼팅바(340)는 제2 단위 표시패널(300’)의 터치 전극 쇼팅바(350)보다 더 제2 단위 표시패널(300’)에 가깝게 배치되고, 그 결과로 제 2 단위 표시패널(300’)의 터치 전극 쇼팅바(350)는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바(340)보다 더 제1 단위 표시패널(340)에 가깝게 배치된다.In this case, the GIP shorting bar 340 and the touch electrode shortening bar 350 are formed in different layers from each other, and the GIP shorting bar 340 of the first unit display panel 300 is connected to the second unit display panel 300 ' The touch electrode shorting bar 350 of the second unit display panel 300 'is disposed closer to the second unit display panel 300' than the touch electrode shorting bar 350 of the first unit display panel 300 ' The first unit display panel 340 is disposed closer to the first unit display panel 340 than the GIP shorting bar 340 of FIG.

따라서, 제1단위 표시패널과 제2 단위 표시패널을 절단 또는 스크라이빙하는 공정에서 단일의 스크라이브 라인(370)을 통해 1회만 절단하는 것으로 충분하게 되는 것이다.Therefore, it is sufficient to cut only once through a single scribe line 370 in the process of cutting or scribing the first unit display panel and the second unit display panel.

이러한 본 발명의 실시예의 구성을 요약하면, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하되, 터치 전극 쇼팅바와 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되며, 자신 패널을 위한 GIP 쇼팅바가 인접한 다른 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 다른 단위 표시패널에 가깝게 배치하는 것이다.The GIP shorting bar of the first unit display panel and the touch electrode shorting bar of the second unit display panel, which are disposed in the spacing space between the two unit display panels, include a touch electrode shorting bar and a GIP show The Tin bar is formed in a different layer, and the GIP shorting bar for its own panel is disposed closer to the other unit display panel than the touch electrode shorting bar of the adjacent unit display panel.

이 때, GIP 쇼팅바(340)는 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, 터치 전극 쇼팅바(350)는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성될 수 있으며, 반대로 터치 전극 쇼팅바(350)가 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, GIP 쇼팅바(340)는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.In this case, the GIP shorting bar 340 may be formed of the same layer and material as the pixel electrode or the common electrode, and the touch electrode shorting bar 350 may be formed of the same layer and material as the gate layer, The GIP shorting bar 340 may be formed of the same layer and material as the pixel electrode or the common electrode, and the GIP shorting bar 340 may be formed of the same layer and material as the gate layer, but is not limited thereto.

즉, 아래의 도 5 이하에서 설명할 바와 같이, GIP 쇼팅바(340)와 터치 전극 쇼팅바(350)는 도전성 재료로서 1 이상의 절연층을 사이에 두고 서로 상이한 레이어로 형성되는 것으로 충분하며, GIP 쇼팅바(340)와 터치 전극 쇼팅바(350)는 게이트 전극 레이어, 소스/드레인 전극 레이어, 화소전극, 터치 구동배선, 터치 전극(공통전극) 레이어 중 하나로서 선택될 수 있다.5, it is sufficient that the GIP shorting bar 340 and the touch electrode shorting bar 350 are formed of different layers with at least one insulating layer interposed therebetween as a conductive material, and GIP The shorting bar 340 and the touch electrode shorting bar 350 may be selected as one of a gate electrode layer, a source / drain electrode layer, a pixel electrode, a touch driving wiring, and a touch electrode (common electrode) layer.

본 발명의 실시예에서의 터치 전극은 표시영역의 화소에 공통전압을 인가하기 위한 공통전극의 일부로서, 다수의 화소를 커버하는 공통전극 영역을 하나의 터치전극으로 활용하는 것이 가능하다.The touch electrode in the embodiment of the present invention can utilize a common electrode region covering a plurality of pixels as one touch electrode as a part of a common electrode for applying a common voltage to the pixels in the display region.

또한, GIP 라인(331)과 GIP 쇼팅바(340)를 연결하는 GIP 연결배선(342)은 GIP 쇼팅바(340)와 동일한 레이어 및 재료로 형성되는 것이 일반적이며, 이러한 경우 GIP 쇼팅바(340)와 GIP 연결배선(342)은 일체로서 하나의 구성요소로 볼 수도 있을 것이다.The GIP connection wiring 342 connecting the GIP line 331 and the GIP shorting bar 340 is generally formed of the same layer and material as the GIP shorting bar 340. In this case, And the GIP connection wiring 342 may be regarded as one component as a whole.

물론, GIP 쇼팅바(340)와 GIP 연결배선(342)은 전기적으로 연결되어 있는 한 반드시 동일한 레이어 및 재료로 형성될 필요는 없다.Of course, the GIP shorting bar 340 and the GIP connecting wiring 342 do not necessarily have to be formed of the same layer and material as long as they are electrically connected.

마찬가지로, 터치 전극(310)과 터치 전극 쇼팅바(350)를 연결하는 터치 전극 연결배선(352, 352’) 역시 터치 전극 쇼팅바(350)와 동일한 레이어 및 재료로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것을 아니다.Similarly, the touch electrode connection wirings 352 and 352 'for connecting the touch electrode 310 and the touch electrode shortening bar 350 may be formed of the same layer and material as the touch electrode shortening bar 350, no.

예를 들어, 도 3에서와 같이, 터치 전극(310)과 터치 전극 쇼팅바(350)를 연결하는 터치 전극 연결배선이 터치 전극과 동일 레이어로 터치전극에서 연장되는 제1 터치 전극 연결배선(352’)과, 터치전극 쇼팅바와 동일한 레이어 및 재료로서 일단이 터치 전극 쇼팅바(350)와 연결되어 그로부터 연장되는 제 2 터치 전극 연결배선(352)을 포함할 수 있다.For example, as shown in FIG. 3, the touch electrode connection wiring connecting the touch electrode 310 and the touch electrode shortening bar 350 may include a first touch electrode connection wiring 352 And a second touch electrode connection wiring 352 that is connected to the touch electrode shorting bar 350 and extends from the touch electrode shortening bar 350 as one layer and material of the touch electrode shorting bar.

이 경우, 제1 터치 전극 연결배선(352’) 및 제 2 터치 전극 연결배선(352)은 컨택홀(354)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다.In this case, the first touch electrode connection wiring 352 'and the second touch electrode connection wiring 352 may be electrically connected through the contact hole 354.

도 4는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 표시패널의 각 화소에 대한 평면도 및 단면도이다.4 is a plan view and a cross-sectional view of each pixel of a display panel to which an embodiment of the present invention is applied.

본 발명의 일 실시예가 적용되는 터치형 표시패널은 제1 기판(SUBS1) 상에 형성되는 게이트 라인(G1) 및 게이트 라인(G1)으로부터 연장되는 게이트 전극(G)을 포함하며, 게이트 전극(G)을 구비하는 게이트 라인(G1)이 형성된 기판(SUBS1)상에 형성되는 게이트 절연막(GI)과, 게이트 전극(G)의 일부와 중첩되도록 게이트 절연막(GI) 상에 형성되는 반도체 패턴(A)을 포함한다. A touch type display panel to which an embodiment of the present invention is applied includes a gate line G1 formed on a first substrate SUBS1 and a gate electrode G extending from a gate line G1, And a semiconductor pattern A formed on the gate insulating film GI so as to overlap a part of the gate electrode G. The gate electrode G1 is formed on the substrate SUBS1, .

반도체 패턴(A)은 박막 트랜지스터(TFT)의 활성영역을 구성하며, 반도체 패턴(A)의 재료로서 비정질 실리콘(a-Si), 산화물 반도체 등이 가능하지만, 본 발명의 일실시예에서는 높은 전하이동도를 가지는 소자 특성이 좋은 산화물 반도체를 이용하는 것이 바람직하다. The semiconductor pattern A constitutes the active region of the thin film transistor TFT and the amorphous silicon (a-Si), the oxide semiconductor and the like can be used as the material of the semiconductor pattern A. However, in one embodiment of the present invention, It is preferable to use an oxide semiconductor having good mobility and good device characteristics.

이러한, 산화물 반도체 물질의 예로서 징크 옥사이드(ZnO) 계열의 산화물 예를들면 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), ZIO(Zinc Indium Oxide) 등이 포함될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.Examples of the oxide semiconductor material include zinc oxide (ZnO) -based oxides such as IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO (Zinc Tin Oxide), ZIO (Zinc Indium Oxide), and the like, but the present invention is not limited thereto .

또한, 본 실시예에 의한 표시패널은 게이트 절연막(GI)을 사이에 두고 게이트 라인(G1)과 교차되는 데이터 라인(D1, D2), 데이터 라인(D1, D2)으로부터 연장된 소스 전극(S), 소스 전극(S)과 대향하는 드레인 전극(D)을 포함하는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함한다. 그리고, 게이트 라인(G1)과 데이터 라인(D1)의 교차에 의해 정의되는 영역에 형성되며, 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극과 접속되는 화소전극(P11, P12)을 포함한다.The display panel according to the present embodiment has the data lines D1 and D2 intersecting the gate line G1 and the source electrode S extending from the data lines D1 and D2 with the gate insulating film GI interposed therebetween. And a thin film transistor (TFT) including a source electrode (S) and a drain electrode (D) facing the source electrode (S). And pixel electrodes P11 and P12 formed in a region defined by the intersection of the gate line G1 and the data line D1 and connected to the drain electrode of the thin film transistor TFT.

또한, 데이터 라인(D1, D2)과 트랜지스터(TFT) 및 화소전극(P11, P12)이 형성된 게이트 절연막(GI)의 전면 상에 형성된 층간 절연막(INS)과, 층간 절연막(INS) 상에 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되는 터치 구동배선으로서의 제1 신호라인(TY11) 및 제2 신호라인(TY12)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 신호라인(TY11) 및 제2 신호라인(TY12)은 알루미늄(Al), 알루미늄-네오디뮴(AlNd), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 몰리브덴-티타늄(MoTi), 크롬(Cr) 등의 저저항 금속 또는 합금으로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.An interlayer insulating film INS is formed on the entire surface of the gate insulating film GI on which the data lines D1 and D2 and the transistor TFT and the pixel electrodes P11 and P12 are formed. And a first signal line TY11 and a second signal line TY12 as touch driving wirings overlapping the first and second signal lines D1 and D2. Here, the first signal line TY11 and the second signal line TY12 may be formed of a metal such as aluminum (Al), aluminum-neodymium (AlNd), copper (Cu), molybdenum (Mo), molybdenum- ) Or the like, but it is not limited thereto.

또한, 제1 신호라인(TY11) 및 제2 신호라인(TY12)이 형성된 층간 절연막(INS)의 전면 상에 형성된 패시베이션막(PL)과, 패시베이션막(PL) 상에 형성되는 공통전극(터치전극)(C11)을 포함한다. 공통전극(터치전극)(C11)은 패시베이션막(PL)을 관통하는 콘택홀(CH)을 통해 제2 신호라인(TY12)과 연결될 수 있다.The passivation film PL formed on the front surface of the interlayer insulating film INS in which the first signal line TY11 and the second signal line TY12 are formed and the common electrode formed on the passivation film PL ) C11. The common electrode (touch electrode) C11 may be connected to the second signal line TY12 through the contact hole CH passing through the passivation film PL.

이 때, 게이트 라인 또는 게이트 전극의 게이트 금속층 또는 소스/드레인 금속층은 저저항 특성을 가지는 금속재료로서 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo) 및 몰리브덴 합금(MoTi) 중 하나 또는 둘 이상의 물질일 수 있다.At this time, the gate metal layer or the source / drain metal layer of the gate line or gate electrode may be formed of a metal material having low resistance characteristics such as aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), copper alloy, molybdenum Alloys (MoTi), and the like.

또한, 본 실시예에서 화소전극 및 공통전극(터치전극)은 투명 전극일 수 있으며, 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질, 예를 들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)과 같은 금속 산화물, ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합으로 이루어질 수 있다.In this embodiment, the pixel electrode and the common electrode (touch electrode) may be transparent electrodes, and a transparent conductive material having a relatively large work function value such as indium-tin-oxide (ITO) or indium- IZO), or a combination of a metal and an oxide such as ZnO: Al or SnO2: Sb.

또한, 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL) 등은 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx) 등과 같은 무기절연물질로 이루어질 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니며, 전기적으로 절연된 기타 다른 재료로 형성될수도 있을 것이다.The gate insulating film GI, the interlayer insulating film INS and the passivation film PL may be made of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride (SiNx), but the present invention is not limited thereto. Or may be formed of other materials.

또한, 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL) 각각은 단일층으로 도시하였으나, 각각 다른 재료로 이루어진 2 이상의 복수층 구조를 가질 수도 있고, 경우에 따라서 일부 레이어가 생략될 수도 있을 것이다.Although the gate insulating film GI, the interlayer insulating film INS, and the passivation film PL are shown as a single layer, they may have two or more multi-layer structures made of different materials. In some cases, some layers may be omitted It might be.

이상에서는 설명의 편의상 본 발명의 다양한 실시예에 따른 터치형 표시장치가 액정표시장치인 것으로 일례를 들어 설명하기로 하며, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 전계 방출 표시장치, 플라즈마 디스플레이 패널, 전계발광 표시장치, 유기발광 표시장치, 전기영동 표시장치 등 다양한 표시장치에 적용될 수 있다.In the above description, the touch-type display device according to various embodiments of the present invention is a liquid crystal display device for convenience of description, and the present invention is not limited thereto. For example, a field emission display device, a plasma display panel, Display devices, organic light emitting display devices, electrophoretic display devices, and the like.

또한, 도 5에서는 편의상 공통 전극 및 터치 전극의 기능을 수행하는 전극이 화소 전극과 함께 패널의 하부 기판 상에 형성된 것으로 IPS(In Plane Switching) 모드와 FFS(Fringe Field Switching) 모드와 같은 수평 전계 구동 방식을 예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, TN(Twisted Nematic) 모드와 VA(Vertical Alignment) 모드와 같이 터치 전극이 상부 기판에 형성되는 다양한 구조에도 적용할 수 있을 것이다.5, electrodes for performing functions of a common electrode and a touch electrode are formed on a lower substrate of a panel together with a pixel electrode for convenience, and a horizontal electric field drive such as an IPS (In Plane Switching) mode and an FFS (Fringe Field Switching) However, the present invention is not limited thereto, and may be applied to various structures in which a touch electrode is formed on an upper substrate, such as a TN (Twisted Nematic) mode and VA (Vertical Alignment) mode.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치형 표시패널의 부분 평면도를 도시한다.5 is a partial plan view of a touch-type display panel according to another embodiment of the present invention.

도 3의 실시예에서는 GIP 쇼팅바(340)가 GIP 연결배선(342)을 통해 바로 GIP 라인(331)과 연결되는 것으로 예시하였으나, 도 5와 같이, 각 GIP 라인(331)과 연결되는 별도의 GIP 패드(333)를 포함하고, GIP 연결배선(342)이 이러한 GIP 패드(333)에 연결되는 것도 가능할 것이다. 3, the GIP shorting bar 340 is directly connected to the GIP line 331 via the GIP connection line 342. However, as shown in FIG. 5, It would also be possible to include the GIP pad 333 and connect the GIP connection wiring 342 to such a GIP pad 333. [

즉, 본 발명에서의 GIP 쇼팅바(340) 및 GIP 연결배선(342)은 GIP 라인(331)과 전기적으로 연결되는 한 여하한 형태도 가능할 것이다.That is, the GIP shorting bar 340 and the GIP connecting wiring 342 in the present invention may be of any form as long as they are electrically connected to the GIP line 331.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 부분 단면도로서, 도 6의 (a) 내지 (c)는 각각 도 5의 I-I’, II-II’, III-III’ 단면을 도시한다.6 is a partial cross-sectional view of a unit display panel according to an embodiment of the present invention. FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views taken along line I-I ', II-II', and III-III ' Respectively.

도 6의 실시예에서는 터치 전극 쇼팅바(350) 및 터치 전극 연결배선(352) 중 일부는 게이트 금속층으로 형성되고, GIP 쇼팅바(340) 및 GIP 연결배선(342)은 화소전극과 동일한 레이어로 형성되는 예를 도시하지만, 그에 한정되는 것은 아니다.6, a portion of the touch electrode shorting bar 350 and the touch electrode connecting wiring 352 is formed of a gate metal layer, and the GIP shorting bar 340 and the GIP connecting wiring 342 are formed on the same layer as the pixel electrode But the present invention is not limited thereto.

도 5의 I-I’ 단면인 도 6의 (a)와 같이, 먼저 절연 기판(380) 상에 터치 전극 연결배선(352)이 게이트 레이어로 형성되어 있고, 그 상부에 게이트 절연막(GI)가 형성되며, 게이트 절연막 상부에 화소전극 레이어로 GIP 쇼팅바(340)가 형성되도록 도시되어 있다.6A, which is a sectional view taken along the line I-I 'of FIG. 5, first, a touch electrode connecting wiring 352 is formed as a gate layer on an insulating substrate 380, and a gate insulating film GI is formed thereon And a GIP shorting bar 340 is formed as a pixel electrode layer on the gate insulating film.

또한, 도 5의 II-II’ 단면인 도 6의 (b)와 같이, 터치 전극 연결배선(352) 및 GIP 연결배선(342)가 게이트 절연막(GI)를 사이에 두고 서로 평행하게 형성되어 있다. 6B, the touch electrode connecting wiring 352 and the GIP connecting wiring 342 are formed parallel to each other with the gate insulating film GI sandwiched therebetween (see FIG. 6B) .

또한, 도 5의 III-III’ 단면인 도 6의 (c)에서와 같이, 절연기판(380) 상에 게이트 금속층으로 터치 전극 쇼팅바(350) 및 제2 터치전극 연결배선(352)을 형성한 후, 그 상부에 게이트 절연막(GI)이 형성되고, 게이트 절연막(GI)의 일부를 개구하여 제2 터치 전극 연결배선(352)의 일단이 노출되도록 하는 컨택홀(354)을 형성한다. 컨택홀이 형성된 패널 전면 상부에 화소전극 레이어로 제1 터치 전극 연결배선(352’) 및 그와 연결된 터치 전극(미도시)를 패터닝함으로써, 제1 및 제 2 터치 전극 연결배선이 전기적으로 연결된다.6 (c), the touch electrode shorting bar 350 and the second touch electrode connecting wiring 352 are formed as a gate metal layer on the insulating substrate 380 A gate insulating film GI is formed on the gate insulating film GI and a contact hole 354 is formed to expose one end of the second touch electrode connecting wiring 352 by opening a part of the gate insulating film GI. The first and second touch electrode connection wirings 352 'and the touch electrode (not shown) connected thereto are patterned by a pixel electrode layer on the front surface of the panel where the contact holes are formed, thereby electrically connecting the first and second touch electrode connection wirings .

세부 공정을 좀 더 상세하게 설명하면, 투명한 절연기판(380) 예를 들어 유리 또는 플라스틱으로 이루어진 기판 상에 저저항 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo) 및 몰리브덴 합금(MoTi) 중 하나 또는 둘 이상의 물질로 구성되는 게이트 금속재료를 기판 전면에 증착하여 제 1 금속층을 형성하고, 제 1 금속층을 포토레지스트의 도포, 포토 마스크를 이용한 노광, 노광된 포토레지스트의 현상, 제 1 금속층의 일부 식각 및 포토레지스트의 스트립(strip) 등의 일련의 단위 공정을 포함하는 마스크 공정 또는 포토리소그래피 공정을 진행하여 패터닝함으로써 터치 전극 쇼팅바(350) 및 제2 터치 전극 연결배선(352) 등을 형성한다. For example, a low-resistance metal material such as aluminum (Al), an aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), or the like may be formed on a transparent insulating substrate 380, A first metal layer is formed by depositing a gate metal material composed of one or two or more materials selected from copper alloy, molybdenum (Mo) and molybdenum alloy (MoTi) on the entire surface of the substrate, A mask process or a photolithography process including a series of unit processes such as exposure using, development of exposed photoresist, partial etching of the first metal layer, and strip of photoresist is performed and patterned to form a touch electrode shorting bar 350 And a second touch electrode connection wiring 352 are formed.

물론, 이 과정에서 동시에 각 화소영역으로 연결되는 게이트 라인(미도시)과, 구동 TFT 또는 화소 TFT의 게이트 전극도 함께 형성될 수 있으며, 필요한 경우 GIP 라인, GIP 패드(333) 등도 이러한 게이트 레이어로 형성될 수 있다. Of course, a gate line (not shown) connected to each pixel region at the same time and a gate electrode of a driving TFT or a pixel TFT may be formed at the same time in this process. If necessary, a GIP line, a GIP pad 333, .

다음으로, 필요한 영역에 투과영역을 갖는 마스크를 위치시킨 후, 제 1 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx) 중 어느 하나를 증착함으로써 무기절연물질로 이루어진 게이트 절연막(GI)을 형성한다. Next, a mask having a transmissive region is placed in a necessary region, and then a gate insulating film (GI) made of an inorganic insulating material is formed by depositing a first inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride (SiNx) ).

다음으로, 화소영역의 트랜지스터 영역에 반도체층, 소스/드레인 전극층 및 필요한 경우 반도체층과 소스/드레인의 접촉저항을 줄이기 위한 오믹접촉층 등이 형성된다. Next, a semiconductor layer, a source / drain electrode layer and, if necessary, an ohmic contact layer for reducing the contact resistance between the semiconductor layer and the source / drain are formed in the transistor region of the pixel region.

이 때, 반도체층은 게이트 절연막 상부로 산화물 반도체 물질로서 징크 옥사이드(ZnO) 계열의 산화물 예를들면 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), ZIO(Zinc Indium Oxide) 중 어느 하나를 증착하거나 또는 도포하여 산화물 반도체 물질층을 형성하고, 산화물 반도체 물질층(미도시)을 마스크 공정을 진행하여 패터닝함으로써각 TFT의 게이트 전극 상부에 아일랜드 형태로 형성될 수 있다. At this time, the semiconductor layer may be formed of an oxide semiconductor material such as IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO (Zinc Tin Oxide), or ZIO (Zinc Indium Oxide) Or may be formed in an island shape on the gate electrode of each TFT by patterning the oxide semiconductor material layer (not shown) by conducting a masking process.

물론, 반도체층은 산화물 반도체에 한정되지 않고, 폴리실리콘 또는 순수 및 불순물 비정질 실리콘 중 하나로 구성될 수도 있다.Of course, the semiconductor layer is not limited to an oxide semiconductor, but may be composed of polysilicon or pure water and impurity amorphous silicon.

한편, 소스/드레인층의 재료 역시 저저항 특성을 가지는 구리(Cu), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴 합금(Mo alloy)등이 이용될 수 있으며, 이러한 재료의 소스/드레인 금속층을 기판 전면에 증착하여 제 2 금속층을 형성하고, 제 2 금속층을 마스크 공정 또는 포토리소그래피 공정을 진행하여 패터닝함으로써 소스/드레인 전극을 형성한다. The material of the source / drain layer may be copper (Cu), chromium (Cr), molybdenum (Mo), titanium (Ti), tantalum (Ta), molybdenum alloy A source / drain electrode is formed by depositing a source / drain metal layer of such a material on the entire surface of the substrate to form a second metal layer, and then performing a mask process or a photolithography process to pattern the second metal layer.

이 과정에서 동시에 각 화소영역으로 연결되는 데이터 라인(미도시) 이 함께 형성될 수 있다.In this process, data lines (not shown) connected to the respective pixel regions may be formed at the same time.

다음으로, 소스/드레인 금속패턴 형성 이후에, 드레인 전극과 전기적으로 연결되는 핑거 형태의 화소전극이 형성되고, 그 상부에 층간 절연막(INS) 및/또는 패시베이션막(PL)이 형성될 수 있다. Next, after forming the source / drain metal pattern, a finger-shaped pixel electrode electrically connected to the drain electrode is formed, and an interlayer insulating film (INS) and / or a passivation film (PL) may be formed thereon.

물론, 도 4등에는 화소전극이 게이트 절연막(GI)와 접촉하여 상부에 형성된 것으로 도시하였으나, 게이트 절연막 상부에 추가적인 층간 절연막이 형성되고, 그 층간 절연막의 일부를 개구하여 드레인 전극 일부를 노출하는 컨택홀을 형성한 후, 그 상부에 화소전극을 형성할 수도 있을 것이다. Although the pixel electrodes are illustrated as being formed on the upper portion in contact with the gate insulating film GI, an additional interlayer insulating film may be formed on the gate insulating film, a portion of the interlayer insulating film may be opened, After the hole is formed, the pixel electrode may be formed on the hole.

화소영역에 화소전극을 형성하는 상기 과정에서, 도 6과 같은 GIP 쇼팅바(340)와 GIP 연결배선(342) 등이 동시에 형성된다. In the process of forming the pixel electrode in the pixel region, the GIP shorting bar 340 and the GIP connecting wiring 342 as shown in FIG. 6 are simultaneously formed.

이 과정에서 필요한 경우, 게이트 레이어의 GIP 패드(333) 상의 게이트 절연막(GI) 일부를 개구한 컨택홀(344)이 형성되고, 그 상부에 화소전극 레이어의 GIP 연결배선(342)이 형성됨으로써, GIP 패드(333)와 GIP 연결배선(342)이 전기적으로 연결될 수 있다. A contact hole 344 having a part of the gate insulating film GI on the GIP pad 333 of the gate layer is formed and a GIP connection wiring 342 of the pixel electrode layer is formed on the contact hole 344, The GIP pad 333 and the GIP connection wiring 342 can be electrically connected.

다음으로, 패시베이션막(PL) 상부에 공통전극(터치 전극)이 형성되며, 이러한 공통전극은 디스플레이 모드에서는 화소전극과의 사이에서 횡전계를 형성하기 위하여 공통전압을 인가하는 용도로 사용되며, 터치 센싱 모드에서는 정전용량 변화를 감지함으로써 터치 입력을 인식하기 위한 터치 전극으로 사용된다.Next, a common electrode (touch electrode) is formed on the passivation film PL. In the display mode, the common electrode is used to apply a common voltage to form a transverse electric field with the pixel electrode, In the sensing mode, it is used as a touch electrode for recognizing a touch input by detecting a capacitance change.

이 때, 화소전극 및 공통전극(터치 전극)은 패널 후방의 백라이트의 광이 통과하여야 하므로, 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질, 예를 들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)과 같은 금속 산화물, ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합 등으로 이루어질 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.Since the backlight of the backlight of the panel must pass through the pixel electrode and the common electrode (touch electrode), a transparent conductive material having a relatively large work function value such as indium-tin-oxide (ITO) Oxide (IZO), a combination of a metal and an oxide such as ZnO: Al or SnO2: Sb, but the present invention is not limited thereto.

도 7은 본 발명의 여러 변형예를 도시한다.Figure 7 shows several variants of the invention.

도 7과 같이 본 발명의 실시예에 의한 터치 전극 쇼팅바(350) 및 터치 전극 연결배선(352)는 반드시 게이트 금속재료로 한정되지 않으며 도 7의 (a)와 같이 소스/드레인 전극과 동일 레이어 및 재료로 형성될 수 있고, 마찬가지로 GIP 쇼팅바(340) 및 GIP 연결배선(342)는 화소전극이 아닌 터치 전극(공통전극)과 동일한 레이어 및 재료로 형성되며, 이 경우 GIP 연결배선(342) 및 터친 전극 연결배선(352)는 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL)에 의하여 절연 분리되어 있다.As shown in FIG. 7, the touch electrode shorting bar 350 and the touch electrode connecting wiring 352 according to the embodiment of the present invention are not necessarily limited to the gate metal material, but may be formed of the same material as the source / And the GIP shorting bar 340 and the GIP connecting wiring 342 are formed of the same layer and material as the touch electrode (common electrode), not the pixel electrode. In this case, And the turbulent electrode connection wiring 352 are insulated and separated by the interlayer insulating film INS and the passivation film PL.

또한, 도 7의 (b)에서는 터치 전극 연결배선(352) 및 터치 전극 쇼팅바(350)가 게이트 레이어로, GIP 연결배선(342) 및 GIP 쇼팅바(340)는 터치 전극(공통전극) 레이어로 형성된 예를 도시하며, 이 경우 양 쇼팅바는 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL)과 같은 3개의 절연층에 의하여 절연 분리되어 있다.7B, the touch electrode connection wiring 352 and the touch electrode shortening bar 350 are used as the gate layer, the GIP connection wiring 342 and the GIP shorting bar 340 are connected to the touch electrode In this case, the two Schotten bars are insulated and separated by three insulating layers such as a gate insulating film (GI), an interlayer insulating film (INS) and a passivation film (PL).

도 7의 (c)의 실시예는 터치 전극 연결배선(352) 및 터치 전극 쇼팅바(350)가 화소전극 레이어로, GIP 연결배선(342) 및 GIP 쇼팅바(340)는 터치 전극(공통전극) 레이어로 형성된 예를 도시하며, 이 경우 양 쇼팅바는 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL)과 같은 2개의 절연층에 의하여 절연 분리되어 있다.7C, the touch electrode connection wiring 352 and the touch electrode shortening bar 350 are pixel electrode layers, the GIP connection wiring 342 and the GIP shorting bar 340 are connected to the touch electrode ) Layer. In this case, both the Schotten bars are insulated and separated by two insulating layers such as an interlayer insulating film (INS) and a passivation film (PL).

도 8은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 평면도로서, 스크라이빙 공정에 의하여 절단된 이후의 단위 표시패널을 도시한다.FIG. 8 is a plan view of a unit display panel according to an embodiment of the present invention, showing a unit display panel after being cut by a scribing process.

도 3, 5와 같은 실시예의 표시패널에는 다수의 단위 표시패널이 형성되며, 이들의 단위 표시패널은 스크라이브 라인 또는 커팅 라인(370, 370’)에 의하여 절단됨으로써 각각의 단위 제품으로서의 단위 표시패널로 제작된다.3 and 5, a plurality of unit display panels are formed. The unit display panels are cut by scribe lines or cutting lines 370 and 370 ', thereby forming unit display panels as unit products .

이렇게 도 5와 같은 스크라이브 라인(370)을 통해 절단된 후의 단위 표시패널은 도 8과 같이, 다수의 화소가 정의된 표시영역에 배치된 다수의 터치 전극과, 게이트 구동부로 신호를 인가하기 위하여 비표시 영역에 형성된 다수의 GIP 라인을 포함하되, 스크라이브 공정 이전에 터치 전극 및 GIP 라인을 각각 터치 전극 쇼팅바(미도시) 및 GIP 쇼팅바(미도시)로 연결하기 위한 터치 전극 연결배선(352) 및 GIP 연결배선(342)을 포함하며, 단위 표시패널의 일측(도 8의 패널 상부)에는 터치 전극 연결배선(352) 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 GIP 쇼팅바(340’)를 포함하고, 대향측(도 8의 패널 하부)에는 GIP 연결배선(342) 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 터치전극 쇼팅바(350’)를 포함하게 된다.The unit display panel after cutting through the scribe line 370 as shown in FIG. 5 includes a plurality of touch electrodes arranged in a display area in which a plurality of pixels are defined, and a plurality of touch electrodes arranged in a non- A touch electrode connection wiring 352 for connecting the touch electrode and the GIP line to the touch electrode shorting bar (not shown) and the GIP shorting bar (not shown) before the scribing process, and a plurality of GIP lines formed in the display region, And a GIP connecting wiring 342. The remaining GIP shorting bars 340 'of the unit display panels formed on the touch electrode connecting wiring 352 and the different layer therefrom are formed on one side of the unit display panel And a GIP connection wiring 342 and a remaining touch electrode shorting bar 350 'of another unit display panel formed on a different layer from the GIP connection wiring 342 are included on the opposite side (the lower panel of FIG. 8).

즉, 스크라이빙 공정에 의하여 절단된 이후에는 각 단위 표시패널에는 자기 자신의 터치 전극 및 GIP 라인의 정전기 방지를 위한 터치 전극 쇼팅바 및 GIP 쇼팅바는 포함하지 않게 되며, 대신 절단 이전에 자신의 상부에 있었던 다른 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바(340’)를 패널 상부에 포함하고, 절단 이전에 자신의 하부에 있었던 다른 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바(350’)를 패널 하부에 포함하게 된다.That is, after cutting by the scribing process, each unit display panel does not include its own touch electrode, the touch electrode shorting bar for preventing static electricity of the GIP line, and the GIP shorting bar. Instead, A GIP shorting bar 340 'of another unit display panel in the upper part is included in the upper part of the panel and a touch electrode shorting bar 350' of another unit display panel in the lower part of the lower part is included in the lower part of the panel .

본 명세서에서는 다른 단위 표시패널을 위하여 형성되었다가 절단 이후에 남게 되는 다른 표시패널의 쇼팅바라는 의미로서 “잔존 쇼팅바”라는 표현을 사용한다.In this specification, the term " remaining shot bar " is used to mean a short bar of another display panel formed for another unit display panel and remaining after cutting.

이러한 잔존 터치 전극 쇼팅바(350’) 및 GIP 쇼팅바(340’)는 스크라이빙 이전에는 각각 상하부의 다른 단위 표시패널에서 발생할 수 있었던 정전기를 방전하는데 사용되었으나, 절단 공정 이후에는 단지 더미 패턴으로서 단위 표시패널에 포함될 뿐이다.These remaining touch electrode shorting bars 350 'and GIP shorting bars 340' are used for discharging static electricity which was generated in the upper and lower unit display panels before scribing. However, after the cutting process, It is only included in the unit display panel.

이와 같은 본 발명의 실시예를 이용하면, 터치형 표시패널의 GIP 쇼팅바와 인접 표시패널의 터치 전극 쇼팅바 또는 공통전극 쇼팅바를 동일한 공간에 레이어를 달리하여 중첩 배치할 수 있으므로, 대기판 상에서의 표시패널 배치효율을 높일 수 있고, 양 표시패널 사이의 이격 공간을 최소화함으로써 불량율을 감소시킬 수 있는 것이다.According to the embodiment of the present invention, since the GIP shorting bar of the touch-type display panel and the touch electrode shorting bar of the adjacent display panel or the common electrode shorting bar can be overlapped in the same space with different layers, It is possible to increase the panel arrangement efficiency and to reduce the defective ratio by minimizing the spacing space between the display panels.

또한, 각 단위 표시패널의 절단 기준선인 스크라이브 라인을 이중으로 할 필요없이 단일의 절단 라인만으로 가능하므로 공정이 단순해질 수 있으며, 비터치 표시패널의 제조공정에 사용되었던 포토 마스크 등을 그대로 이용할 수 있다는 장점도 포함한다. In addition, since the scribe line serving as a cutting reference line of each unit display panel can be formed by only a single cutting line without being duplicated, the process can be simplified and the photomask used in the manufacturing process of the non-touch display panel can be used as it is It also includes advantages.

이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. , Separation, substitution, and alteration of the invention will be apparent to those skilled in the art. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

300 : 제1 단위표시패널 300’: 제2단위 표시패널
310 : 터치전극 320 : 데이터/터치 구동부
331 : GIP 라인 333 : GIP 패드
340 : GIP 쇼팅바 342 : GIP 연결배선
350 : 터치전극 쇼팅바 352, 352’: 터치전극 연결배선
344, 354 : 컨택홀
300: first unit display panel 300 ': second unit display panel
310: touch electrode 320: data / touch driver
331: GIP line 333: GIP pad
340: GIP Shotingba 342: GIP connection wiring
350: Touch electrode shorting bar 352, 352 ': Touch electrode connecting wiring
344, 354: Contact hole

Claims (10)

2 이상의 단위 표시패널을 포함하는 표시장치용 표시패널로서,
각각 다수의 터치 전극과 게이트 구동부로의 신호 배선인 GIP 라인을 포함하는 제 1 단위 표시패널 및 제 2 단위표시 패널;
양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바;를 포함하며,
상기 제1 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널.
A display panel for a display device comprising two or more unit display panels,
A first unit display panel and a second unit display panel including a plurality of touch electrodes and a GIP line which is signal wiring to the gate driver;
A GIP shorting bar of the first unit display panel and a touch electrode shorting bar of the second unit display panel disposed in the spacing space between the both unit display panels,
Wherein the touch electrode shorting bar of the first unit display panel and the GIP shorting bar of the second unit display panel are formed in different layers.
제1항에 있어서,
상기 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 제2 단위 표시패널에 가깝게 배치되고, 상기 제 2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바는 상기 제1 단위 표시패널 GIP 쇼팅바보다 더 제1 단위 표시패널에 가깝게 배치됨으로써, 단일의 스크라이브 라인을 가지는 것을 특징으로 하는 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein the GIP shorting bars of the first unit display panel are disposed closer to the second unit display panel than the touch electrode shorting bars of the second unit display panel, Wherein the display panel is disposed closer to the first unit display panel than the panel GIP showing bar, thereby having a single scribe line.
제1항에 있어서,
상기 GIP 쇼팅바는 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, 상기 터치 전극 쇼팅바는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein the GIP shorting bar is formed of the same layer and material as the pixel electrode or the common electrode, and the touch electrode shorting bar is formed of the same layer and material as the gate layer.
제1항에 있어서,
상기 터치 전극 쇼팅바는 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, 상기 GIP 쇼팅바는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein the touch electrode shorting bar is formed of the same layer and material as the pixel electrode or the common electrode, and the GIP shorting bar is formed of the same layer and material as the gate layer.
제1항에 있어서,
상기 터치 전극과 상기 터치 전극 쇼팅바를 연결하는 터치 전극 연결배선을 추가로 포함하며, 상기 터치 전극 연결배선은 상기 터치 전극과 동일 레이어로 터치전극에서 연장되는 제1 터치 전극 연결배선과, 터치전극 쇼팅바와 동일한 레이어 및 재료로서 일단이 터치 전극 쇼팅바와 연결되어 그로부터 연장되는 제 2 터치 전극 연결배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널.
The method according to claim 1,
The touch electrode connection wiring may further include a first touch electrode connection wiring extending from the touch electrode in the same layer as the touch electrode, And a second touch electrode connection wiring having one end connected to and extending from the touch electrode shorting bar as the same layer and material.
제5항에 있어서,
제1 터치 전극 연결배선은 공통전극과 동일한 레이어 및 재료로 형성되고, 상기 제2 터치 전극 연결배선은 게이트 레이어와 동일한 레이어 및 재료로 형성되며, 상기 제1 및 제2 터치 전극 연결배선은 컨택홀을 통해 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시패널.
6. The method of claim 5,
The first and second touch electrode connection wirings are formed of the same layer and material as the common electrode, the second touch electrode connection wirings are formed of the same layer and material as the gate layer, Are electrically connected to each other through a plurality of through-holes.
스크라이빙 공정에 의하여 단위별로 분리되는 표시패널로서,
다수의 화소가 정의된 표시영역에 배치된 다수의 터치 전극과, 게이트 구동부로 신호를 인가하기 위하여 비표시 영역에 형성된 다수의 GIP 라인;
스크라이브 공정 이전에 상기 터치 전극 및 GIP 라인을 각각 터치 전극 쇼팅바 및 GIP 쇼팅바로 연결하기 위한 터치 전극 연결배선 및 GIP 연결배선;을 포함하며,
상기 단위 표시패널의 일측에는 상기 터치 전극 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 GIP 쇼팅바를 포함하고, 대향측에는 상기 GIP 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 터치전극 쇼팅바를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널.
A display panel divided into units by a scribing process,
A plurality of touch electrodes arranged in a display region in which a plurality of pixels are defined; a plurality of GIP lines formed in a non-display region for applying a signal to the gate driver;
And a touch electrode connection wiring and a GIP connection wiring for directly connecting the touch electrode and the GIP line to the touch electrode shorting bar and the GIP shortening respectively before the scribing process,
A GIP shorting bar of another unit display panel formed on the touch electrode connecting wiring and a different unit display panel formed on one side of the unit display panel, and a remaining GIP shorting bar of another unit display panel formed on a different layer from the GIP connecting wiring on the opposite side. And a touch electrode shorting bar.
제7항에 있어서,
상기 터치 전극 연결배선은 게이트 레이어이고 상기 잔존 GIP 쇼팅바는 화소전극 또는 공통전극 레이어인 것을 특징으로 하는 표시패널.
8. The method of claim 7,
Wherein the touch electrode connection wiring is a gate layer and the remaining GIP shorting bar is a pixel electrode or a common electrode layer.
제7항에 있어서,
상기 GIP 쇼팅바 및 터치 전극 쇼팅바는 1 이상의 절연막에 의하여 절연 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 표시패널.
8. The method of claim 7,
Wherein the GIP shorting bars and the touch electrode shorting bars are insulated and separated by at least one insulating film.
제9항에 있어서,
상기 절연막은 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS), 패시베이션막(PL) 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 표시패널.
10. The method of claim 9,
Wherein the insulating film is at least one of a gate insulating film (GI), an interlayer insulating film (INS), and a passivation film (PL).
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