KR20120119546A - Mother of oganic electro-luminesence display device substate and manufactucring metod of the same - Google Patents

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KR20120119546A
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Abstract

PURPOSE: A motherboard of an organic electroluminescence display device and a manufacturing method thereof are provided to prevent static electricity generated by a third shorting bar from being inserted to a display area of the panel and to reduce probability to generate a bad pixel. CONSTITUTION: A first shorting bar(110) is formed on a plurality of organic electroluminescence display panels. The first shorting bar is formed in the same material as both electrodes of the organic electroluminescence display device. A second shorting bar covers a display area of the organic electroluminescence display panels. The second shorting bar is formed as a gate line. A third shorting bar(116) is formed in a mesh shape. The third shorting bar is formed as a data line.

Description

유기전계발광 표시패널의 모기판 및 그의 제조방법{MOTHER OF OGANIC ELECTRO-LUMINESENCE DISPLAY DEVICE SUBSTATE AND MANUFACTUCRING METOD OF THE SAME}Mother board of organic electroluminescent display panel and manufacturing method thereof {MOTHER OF OGANIC ELECTRO-LUMINESENCE DISPLAY DEVICE SUBSTATE AND MANUFACTUCRING METOD OF THE SAME}

본 발명은 유기 전계 발광 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 박막 트랜지스터 공정이 완료되는 공정 이전까지 쇼팅바들과 표시 영역의 소자들이 서로 이격되게 형성되어 정전기를 방지할 수 있는 유기전계발광 표시 패널의 모기판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display device and a method of manufacturing the organic light emitting display device. In particular, the organic light emitting display panel may prevent the static electricity by forming the shorting bars and the elements of the display area spaced apart from each other until the thin film transistor process is completed. It relates to a mother substrate and a method for producing the same.

다양한 정보를 화면으로 구현해 주는 영상 표시 장치는 정보 통신 시대의 핵심 기술로 더 얇고 더 가볍고 휴대가 가능하면서도 고성능의 방향으로 발전하고 있다. 이에 음극선관(CRT)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 평판 표시 장치로 유기 전계 발광 소자의 발광량을 제어하여 영상을 표시하는 유기전계발광 표시패널이 각광받고 있다. 유기 전계 발광 소자는 전극 사이의 얇은 발광층을 이용한 자발광 소자로 종이와 같이 박막화가 가능하다는 장점을 갖고 있다. The image display device that realizes various information on the screen is a core technology of the information communication age and it is becoming thinner, lighter, more portable and higher performance. Accordingly, an organic light emitting display panel that displays an image by controlling the amount of light emitted from the organic light emitting diode has been spotlighted as a flat panel display that can reduce weight and volume, which is a disadvantage of a cathode ray tube (CRT). The organic electroluminescent device is a self-luminous device using a thin light emitting layer between the electrodes has the advantage that it can be thinned like a paper.

유기전계발광 표시패널은 3색(R, G, B) 서브 화소로 구성된 화소들이 매트릭스 형태로 배열되어 화상을 표시하게 된다. 각 서브 화소는 유기 전계 발광 소자와, 그 유기 전계 발광 소자를 구동하는 셀 구동부를 포함한다. 셀 구동부는 스캔 신호를 공급하는 게이트 라인과, 비디오 데이터 신호를 공급하는 데이터 라인과, 공통 전원 신호를 공급하는 공통 전원 라인 사이에 접속된 적어도 2개의 박막 트랜지스터와 스토리지 캐패시터로 구성되어 유기 발광 소자의 양극을 구동한다. In the organic light emitting display panel, pixels including three color (R, G, B) sub-pixels are arranged in a matrix to display an image. Each sub-pixel includes an organic electroluminescent element and a cell driver for driving the organic electroluminescent element. The cell driver includes at least two thin film transistors and a storage capacitor connected between a gate line for supplying a scan signal, a data line for supplying a video data signal, and a common power line for supplying a common power signal. Drive the anode.

이러한, 유기전계발광 표시패널은 하나의 모기판 상에 다수의 유기전계발광 표시패널을 형성한 후, 스크라이빙 공정으로 분리하여 형성된다. 이때, 유기전계발광 표시패널의 공정 중에 발생하는 정전기를 방지하기 위해 모기판 상에는 쇼팅바를 형성한다. 쇼팅바는 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위를 만들어 주기 위해 게이트 라인 또는 데이터 라인과 모두 연결되어 있으며, 게이트 라인 또는 데이터 라인으로 형성된다. The organic light emitting display panel is formed by forming a plurality of organic light emitting display panels on one mother substrate and then separating them by a scribing process. In this case, a shorting bar is formed on the mother substrate to prevent static electricity generated during the process of the organic light emitting display panel. The shorting bar is connected to both the gate line or the data line to distribute the static electricity generated during the manufacturing process to each line to create an equipotential, and is formed of the gate line or the data line.

하지만, 게이트 라인과 데이터 라인, 절연막은 스퍼터링 방법 또는 CVD 방법으로 형성하게 되는데 이러한 스퍼터링 방법 또는 CVD 방법은 플라즈마 상태에서 형성하게 되므로 양전하나 음전하들이 발생된다. 이와 같이, 플라즈마 상태에서 많은 전하들로 인해 오히려 정전기가 발생하게 되어 쇼팅바를 통해 정전기가 게이트 라인 또는 데이터 라인으로 유입되어 표시 영역의 화소 불량이 발생된다. However, the gate line, the data line, and the insulating film are formed by the sputtering method or the CVD method. Since the sputtering method or the CVD method is formed in the plasma state, positive or negative charges are generated. As such, due to the large charges in the plasma state, static electricity is generated, and thus static electricity flows into the gate line or the data line through the shorting bar, thereby causing pixel defects in the display area.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 박막 트랜지스터 공정이 완료되는 공정 이전까지 쇼팅바들과 표시 영역의 소자들이 서로 이격되게 형성되어 정전기를 방지할 수 있는 유기전계발광 표시 패널의 모기판 및 그의 제조 방법을 제공하는 것이다. The present invention has been made to solve the above problems, and the mother substrate of the organic light emitting display panel which can prevent the static electricity by forming the shorting bars and the elements of the display area spaced apart from each other until the process of the thin film transistor process is completed and It is to provide a method for producing the same.

이를 위하여, 본 발명은 게이트 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 기준 전압 라인 및 에미션 라인과 접속된 화소들이 매트릭스 형태로 배치되며, 상기 각 화소에 유기 전계 발광 소자를 포함하는 다수의 유기전계발광 표시패널들과, 상기 다수의 유기전계발광 패널들의 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위로 만들어 정전기를 방지하는 다수의 쇼팅바들과, 각각의 유기전계발광 표시패널을 절단하기 위한 스크라이빙 라인을 포함하는 유기전계발광 표시패널의 모기판에 있어서, 상기 다수의 쇼팅바는 상기 다수의 유기전계발광 표시패널들의 외곽 영역에 형성되며, 상기 유기 전계 발광 소자의 양극과 동일 재질로 동일층에 형성되는 제1 쇼팅바와, 상기 유기전계발광 표시패널의 표시 영역을 둘러싸도록 형성되며, 상기 게이트 라인으로 형성되는 제2 쇼팅바와, 상기 제2 쇼팅바와 메쉬(Mesh)형으로 이루어지도록 교차하도록 접속되며, 상기 데이터 라인으로 형성되는 제3 쇼팅바를 포함하는 것을 특징으로 한다. To this end, according to the present invention, a plurality of organic light emitting displays including pixels connected to a gate line, a data line, a power line, a reference voltage line, and an emission line are arranged in a matrix form, and each of the pixels includes an organic electroluminescent element. Panels, a plurality of shorting bars to prevent static electricity by distributing static electricity generated during the manufacturing process of the organic light emitting panels in each line to equipotential, and a screen for cutting each organic light emitting display panel In the mother substrate of the organic light emitting display panel including an ice line, the plurality of shorting bars are formed in the outer region of the plurality of organic light emitting display panels, the same layer of the same material as the anode of the organic light emitting display device A first shorting bar formed on the display panel and surrounding the display area of the organic light emitting display panel; Second shorting bar is formed of the second shorting is connected so as to intersect to occur as described mesh (Mesh) type, characterized in that it comprises a third shorting bar formed from the second data line.

여기서, 상기 각각의 유기전계발광 표시패널은 상기 다수의 화소들을 포함하는 표시 영역과, 상기 유기전계발광 표시패널들이 공정 중에 발생되는 정전기를 방지하기 위한 다수의 정전기 방지 패턴들과, 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인으로 검사 신호를 인가하여 상기 표시 영역의 소자들의 점등 검사를 하기 위한 테스트 패드부 및 상기 쇼팅바들이 형성된 비표시 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다. The organic light emitting display panel may include a display area including the plurality of pixels, a plurality of antistatic patterns for preventing static electricity generated during the process, the gate line, And a non-display area in which the test pad unit and the shorting bars are formed to test the lighting of the devices of the display area by applying a test signal to the data line and the emission line.

그리고, 상기 제3 쇼팅바와 연결된 연결 라인들을 더 포함하며, 상기 연결 라인들은 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인 각각과 연결 전극 패턴부를 통해 연결되는 것을 특징으로 한다. The display device may further include connection lines connected to the third shorting bar, wherein the connection lines are connected to each of the gate line, the data line, and the emission line through a connection electrode pattern part.

또한, 상기 연결 전극 패턴부는 제1 내지 제3 연결 전극 패턴부를 포함하며, 상기 제1 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 에미션 라인이 연결해주는 제1 연결전극과, 상기 연결 라인과 게이트 라인과 연결해주는 제2 연결전극을 포함하며, 상기 제2 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 데이터 라인을 연결해주는 제1 연결 전극을 포함하며, 상기 제3 연결 전극 패턴부는 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 교차하는 지점에서 서로 연결해주는 제1 연결 전극과, 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 평행하는 지점에서 서로 연결해주는 제2 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다. The connection electrode pattern part may include first to third connection electrode pattern parts, and the first connection electrode pattern part includes a first connection electrode connected by the connection line and the emission line, the connection line and the gate line; And a second connection electrode for connecting, wherein the second connection electrode pattern portion includes a first connection electrode for connecting the connection line and the data line, and the third connection electrode pattern portion includes the second shorting bar and the third connection electrode. And a second connection electrode connected to each other at a point where the shorting bars cross each other, and a second connection electrode connected to each other at a point where the second shorting bar and the third shorting bar are parallel to each other.

그리고, 상기 정전기 방지 패턴들은 상기 각 연결 라인에 다수의 제너 다이오드로 형성되는 것을 특징으로 한다. The antistatic patterns may be formed of a plurality of zener diodes in each connection line.

또한, 상기 정전기 방지 패턴들은 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인 각각에 다수의 다이오드로 형성된 것을 특징으로 한다. The antistatic patterns may be formed of a plurality of diodes on each of the gate line, the data line, and the emission line.

본 발명은 게이트 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 기준 전압 라인 및 에미션 라인과 접속된 화소들이 매트릭스 형태로 배치되며, 상기 각 화소에 유기 전계 발광 소자를 포함하는 다수의 유기전계발광 표시패널들과, 상기 다수의 유기전계발광 표시패널들의 외곽 영역에 형성되는 제1 쇼팅바와, 상기 유기전계발광 표시패널의 표시 영역을 둘러싸도록 형성되는 제2 쇼팅바와, 상기 제2 쇼팅바와 메쉬(Mesh)형으로 이루어지도록 교차하도록 형성되는 제3 쇼팅바를 포함하는 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조 방법에 있어서, 상기 모기판의 유기전계발광 표시패널의 화소들에 다수의 박막 트랜지스터가 형성되며, 상기 게이트 라인과 동일 재질로 제2 쇼팅바와, 상기 데이터 라인과 동일 재질로 제3 쇼팅바와, 상기 게이트 라인 또는 상기 데이터 라인으로 형성된 연결 라인들을 형성하는 단계와, 상기 박막 트랜지스터와, 제2 쇼팅바, 상기 제3 쇼팅바, 상기 연결 라인들이 형성된 모기판 상에 다수의 컨택홀을 포함하는 보호막을 형성하는 단계와, 상기 유기 전계 발광 소자의 양극과, 상기 제1 쇼팅바와, 상기 연결 라인들과 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인을 연결하며, 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바를 연결 전극 패턴부들 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a plurality of organic light emitting display panels including pixels connected to a gate line, a data line, a power line, a reference voltage line, and an emission line in a matrix form, each pixel including an organic electroluminescent element. And a first shorting bar formed in an outer region of the plurality of organic light emitting display panels, a second shorting bar formed to surround a display area of the organic light emitting display panel, and a second shorting bar and a mesh type. A method of manufacturing a mother substrate of an organic light emitting display panel including a third shorting bar formed to cross each other, the plurality of thin film transistors being formed in pixels of the organic light emitting display panel of the mother substrate, wherein the gate line is formed. A second shorting bar of the same material as the material, a third shorting bar of the same material as the data line, the gate line or the data line. Forming a connection line, forming a passivation layer including a plurality of contact holes on the thin film transistor, the second shorting bar, the third shorting bar, and the mother substrate on which the connection lines are formed; Connecting the anode of the EL device, the first shorting bar, the connection lines, the gate line, the data line, and the emission line, and forming the connection electrode pattern parts between the second shorting bar and the third shorting bar. It is characterized by including.

여기서, 상기 제1 쇼팅바가 형성되기 이전 공정까지 상기 제1 쇼팅바와 상기 제2 쇼팅바는 서로 이격되어 형성되는 것을 특징으로 한다. The first shorting bar and the second shorting bar may be formed to be spaced apart from each other until a process before the first shorting bar is formed.

그리고, 상기 연결 전극 패턴부는 제1 내지 제3 연결 전극 패턴부를 포함하며, 상기 제1 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 에미션 라인이 연결해주는 제1 연결전극과, 상기 연결 라인과 게이트 라인과 연결해주는 제2 연결전극을 포함하며, 상기 제2 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 데이터 라인을 연결해주는 제1 연결 전극을 포함하며, 상기 제3 연결 전극 패턴부는 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 교차하는 지점에서 서로 연결해주는 제1 연결 전극과, 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 평행하는 지점에서 서로 연결해주는 제2 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다. The connection electrode pattern part may include first to third connection electrode pattern parts, and the first connection electrode pattern part includes a first connection electrode connected by the connection line and the emission line, the connection line and the gate line; And a second connection electrode for connecting, wherein the second connection electrode pattern portion includes a first connection electrode for connecting the connection line and the data line, and the third connection electrode pattern portion includes the second shorting bar and the third connection electrode. And a second connection electrode connected to each other at a point where the shorting bars cross each other, and a second connection electrode connected to each other at a point where the second shorting bar and the third shorting bar are parallel to each other.

본 발명은 다수의 유기전계발광 표시패널들의 외곽 영역에 형성된 제1 쇼팅바와, 유기전계발광 표시패널의 표시 영역을 둘러싸도록 형성된 제2 쇼팅바와, 제2 쇼팅바와 메쉬형으로 이루어지도록 교차한 제3 쇼팅바를 포함한다. 이때, 제1 내지 제3 쇼팅바는 표시 영역의 박막 트랜지스터 공정이 완료되기 전까지 서로 연결되지 않은 레이 아웃 형태로 형성되며, 유기 전계 발광 소자의 양극이 형성될 때, 제1 쇼팅바가 형성되며, 제1 내지 제3 쇼팅바가 연결 전극을 통해 접속된다. According to the present invention, a first shorting bar formed in an outer region of a plurality of organic light emitting display panels, a second shorting bar formed to surround a display area of an organic light emitting display panel, and a third crossing the second shorting bar to have a mesh shape are provided. It includes a shorting bar. In this case, the first to third shorting bars are formed in a layout that is not connected to each other until the thin film transistor process of the display area is completed. When the anode of the organic light emitting diode is formed, the first shorting bars are formed. The first to third shorting bars are connected via the connecting electrode.

이에 따라, 제1 내지 제3 쇼팅바에 의해 발생되었던 정전기가 유기발광표시패널의 표시 영역으로 유입되는 것이 방지되므로 불량 화소가 발생될 확률이 감소됨으로써 유기전계발광 표시패널의 표시 품질과 신뢰성이 향상될 수 있다. Accordingly, since the static electricity generated by the first to third shorting bars is prevented from flowing into the display area of the organic light emitting display panel, the probability of generating defective pixels is reduced, thereby improving display quality and reliability of the organic light emitting display panel. Can be.

도 1은 본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시 패널의 모기판을 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 유기 전계 발광 표시 패널의 모기판의 일부를 확대한 평면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 A 영역 및 B 영역을 확대한 평면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 유기 전계 발광 표시 패널을 Ⅰ-Ⅰ', Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.
도 5는 한 화소에 대한 회로도를 나타낸 도면이다.
도 6a 내지 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조방법을 나타낸 평면도들 및 단면도들이다.
1 is a plan view illustrating a mother substrate of an organic light emitting display panel according to the present invention.
FIG. 2 is an enlarged plan view of a mother substrate of the organic light emitting display panel illustrated in FIG. 1.
3 is an enlarged plan view of a region A and a region B illustrated in FIG. 2.
4 is a cross-sectional view of the organic light emitting display panel illustrated in FIG. 3 taken along lines II ′ and II-II ′.
5 is a circuit diagram of one pixel.
6A to 9 are plan views and cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a mother substrate of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세하게 설명한다. 본 발명의 구성 및 그에 따른 작용 효과는 이하의 상세한 설명을 통해 명확하게 이해될 것이다. 본 발명의 상세한 설명에 앞서, 동일한 구성 요소에 대해서는 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호로 표시하며, 공지된 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 구체적인 설명은 생략하기로 함에 유의한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The configuration of the present invention and the operation and effect thereof will be clearly understood through the following detailed description. Before describing the present invention in detail, the same components are denoted by the same reference symbols as possible even if they are displayed on different drawings. In the case where it is judged that the gist of the present invention may be blurred to a known configuration, do.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 도 1 내지 도 9를 참조하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 9.

도 1은 본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시 패널의 모기판을 나타내는 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 유기 전계 발광 표시 패널의 모기판의 일부를 확대한 평면도이다. 도 3은 도 2에 도시된 A 영역 및 B 영역을 확대한 평면도이며, 도 4는 도 3에 도시된 유기 전계 발광 표시 패널을 Ⅰ-Ⅰ', Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다. 그리고, 도 5는 한 화소에 대한 회로도를 나타낸 도면이다. 1 is a plan view illustrating a mother substrate of an organic electroluminescent display panel according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged plan view of a part of the mother substrate of the organic electroluminescent display panel illustrated in FIG. 1. 3 is an enlarged plan view of region A and region B shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the organic light emitting display panel illustrated in FIG. 3 taken along lines II ′ and II-II ′. to be. 5 is a circuit diagram of one pixel.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 유기전계발광 표시패널의 모기판(100)은 매트릭스 타입으로 배열되는 다수의 유기전계발광 표시패널들과, 다수의 유기전계발광 표시패널들의 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위로 만들어 정전기를 방지하는 다수의 쇼팅바들(110,114a,114,116)과, 각각의 유기전계발광 표시패널을 절단하기 위한 스크라이빙 라인(112)을 포함한다. As shown in FIGS. 1 and 2, the mother substrate 100 of the organic light emitting display panel according to the exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of organic light emitting display panels arranged in a matrix type, and a plurality of organic light emitting display panels. A plurality of shorting bars 110, 114a, 114, and 116 for preventing static electricity by distributing static electricity generated during the manufacturing process of the panels in each line to equipotential, and a scribing line 112 for cutting each organic electroluminescent display panel. ).

각각의 유기전계발광 표시패널은 화상을 표시하는 표시 영역(102)과, 다수의 정전기 방지 패턴부와, 테스트 패드부(120,122) 및 쇼팅바(114a,114,116)가 형성된 비표시 영역을 포함한다.Each organic light emitting display panel includes a display area 102 for displaying an image, a plurality of antistatic pattern parts, and a non-display area in which test pad parts 120 and 122 and shorting bars 114a, 114 and 116 are formed.

유기전계발광 표시패널의 표시 영역(Active area)에는 게이트 라인(GL), 데이터 라인(DL), 전원 라인(PL), 기준 전압 라인(Vref) 및 에미션 라인(EML)과 접속된 화소들이 매트릭스 형태로 배치된다. 전원 라인(PL)은 화소들 각각에 고전위 구동전압(Vdd)을 공급하며, 기준 전압 라인(VLref)은 화소들 각각에 기준 전압(Vref)을 공급한다. 화소들 각각은 신호 라인들의 교차 영역에 형성된 다수의 스위칭 트랜지스터(T1 내지 T5), 구동 트랜지스터(DT) 및 유기 전계 발광 소자를 포함한다.In the active area of the organic light emitting display panel, pixels connected to the gate line GL, the data line DL, the power line PL, the reference voltage line Vref, and the emission line EML are arranged in a matrix. It is arranged in the form. The power supply line PL supplies a high potential driving voltage Vdd to each of the pixels, and the reference voltage line VLref supplies a reference voltage Vref to each of the pixels. Each of the pixels includes a plurality of switching transistors T1 to T5, a driving transistor DT, and an organic light emitting diode formed in an intersection region of the signal lines.

구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극은 제1 노드(N1)를 통해 스위칭 회로에 접속되고, 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극은 전원 라인(PL)과 접속되고, 구동 트랜지스터(DT)의 드레인 전극은 제6 노드(N6)를 통해 스위치 회로에 접속된다. 구동 트랜지스터(DT)는 게이트 전극과 소스 전극 간의 차전압에 따라 유기 전계 발광 소자에 흐르는 전류량을 제어한다. The gate electrode of the driving transistor DT is connected to the switching circuit through the first node N1, the source electrode of the driving transistor DT is connected to the power supply line PL, and the drain electrode of the driving transistor DT is It is connected to a switch circuit via the 6th node N6. The driving transistor DT controls the amount of current flowing through the organic EL device according to the difference voltage between the gate electrode and the source electrode.

유기 발광 소자는 제4 트랜지스터(T4)의 드레인 전극(210)과 접속하는 양극(222)과, 양극(222)을 노출시키는 뱅크홀(235)이 형성된 뱅크 절연막(230)과, 뱅크홀(235)을 통해 노출된 양극(222) 위에 형성된 유기층(232)과, 유기층(232) 위에 형성된 음극(234)으로 구성된다. 유기층(232)은 양극(222)으로부터 적층된 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층으로 구성된다. 이러한, 유기층(232)은 양극(222)에 공급된 전류량에 따라 발광한다. 음극(234) 및 양극(222)의 재질에 따라 기판의 전면으로 발광하는 전면 발광, 기판의 후면으로 발광하는 후면 발광 또는 기판 전면 및 후면으로 발광하는 양면 발광을 할 수 있다. 이때, 양극(222)은 투명 전극 재질로 형성되며, 투명 전극 재질로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다.The organic light emitting diode includes an anode 222 connected to the drain electrode 210 of the fourth transistor T4, a bank insulating film 230 having a bank hole 235 exposing the anode 222, and a bank hole 235. And an organic layer 232 formed on the anode 222 exposed through), and a cathode 234 formed on the organic layer 232. The organic layer 232 includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer stacked from the anode 222. The organic layer 232 emits light according to the amount of current supplied to the anode 222. Depending on the material of the cathode 234 and the anode 222, the front light emitting to the front of the substrate, the rear light emitting to the rear of the substrate or the double-sided light emitting to the front and rear of the substrate can be. In this case, the anode 222 is formed of a transparent electrode material, and materials such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and antimony tin oxide (ATO) may be used as the transparent electrode material. It can be formed as.

다수의 스위칭 트랜지스터는 제1 내지 제5 스위칭 트랜지스터(T1 내지 T5)를 포함한다. The plurality of switching transistors include first to fifth switching transistors T1 to T5.

제1 스위칭 트랜지스터(T1)의 게이트 전극은 제2 노드(N2)와 접속되며, 제1 스위칭 트랜지스터(T1)의 소스 전극은 데이터 라인(DL)과 접속되며, 제1 스위칭 트랜지스터(T1)의 드레인 전극은 제3 노드(N3)와 접속된다. A gate electrode of the first switching transistor T1 is connected to the second node N2, a source electrode of the first switching transistor T1 is connected to the data line DL, and a drain of the first switching transistor T1. The electrode is connected to the third node N3.

제2 스위칭 트랜지스터(T2)의 게이트 전극은 에미션 라인(EML)과 접속되며, 제2 스위칭 트랜지스터(T2)의 소스 전극은 제3 노드(N3)와 접속되며, 제2 스위칭 트랜지스터(T2)의 드레인 전극은 기준 전압 라인(VLref)와 접속된다. The gate electrode of the second switching transistor T2 is connected to the emission line EML, the source electrode of the second switching transistor T2 is connected to the third node N3, and the gate electrode of the second switching transistor T2 The drain electrode is connected to the reference voltage line VLref.

제3 스위칭 트랜지스터(T3)의 게이트 전극은 게이트 라인(GL)과 접속되며, 제3 스위칭 트랜지스터(T3)의 소스 전극은 제1 노드(N1)와 접속되며, 제3 스위칭 트랜지스터(T3)의 드레인 전극은 제6 노드(N6)와 접속된다.A gate electrode of the third switching transistor T3 is connected to the gate line GL, a source electrode of the third switching transistor T3 is connected to the first node N1, and a drain of the third switching transistor T3. The electrode is connected to the sixth node N6.

제4 스위칭 트랜지스터(T4)의 게이트 전극은 에미션 라인(EML)과 접속되며, 제4 스위칭 트랜지스터(T4)의 소스 전극은 제6 노드(N6)과 접속되며, 제4 스위칭 트랜지스터(T4)의 드레인 전극은 유기 전계 발광 소자의 양극과 접속된다. 이에 대해, 제4 트랜지스터(T4)는 도 4에 도시된 바와 같이 하부 기판 상에 버퍼막(216), 액티브층(214)이 형성되며, 게이트 전극(206)은 액티브층의 채널 영역(214C)과 게이트 절연막(212)을 사이에 두고 중첩되게 형성된다. 소스 전극(208) 및 드레인 전극(210)은 게이트 전극(206)과 층간 절연막(226)을 사이에 두고 절연되게 형성된다. 소스 전극(208) 및 드레인 전극(210)은 층간 절연막(226) 및 게이트 절연막(212)을 관통하는 소스 컨택홀(224S) 및 드레인 컨택홀(224D) 각각을 통해 n+ 불순물이 주입된 액티브층(214)의 소스 영역(214S) 및 드레인 영역(214D) 각각과 접속된다. 또한, 액티브층(214)은 오프 전류를 감소시키기 위해 채널 영역(214C)과 소스 및 드레인 영역(214S,214D) 사이에 n- 불순물이 주입된 엘디디(Light Droped Drain; LDD) 영역(미도시) 더 구비하기도 한다. 제5 트랜지스터를 덮도록 형성되는 보호막을 포함하며, 보호막은 드레인 전극을 노출시키는 화소 컨택홀을 포함한다. A gate electrode of the fourth switching transistor T4 is connected to the emission line EML, a source electrode of the fourth switching transistor T4 is connected to the sixth node N6, and a gate electrode of the fourth switching transistor T4 is connected. The drain electrode is connected to the anode of the organic electroluminescent element. In contrast, as shown in FIG. 4, in the fourth transistor T4, the buffer layer 216 and the active layer 214 are formed on the lower substrate, and the gate electrode 206 is formed in the channel region 214C of the active layer. And the gate insulating film 212 are interposed therebetween. The source electrode 208 and the drain electrode 210 are formed to be insulated with the gate electrode 206 and the interlayer insulating film 226 interposed therebetween. The source electrode 208 and the drain electrode 210 are active layers in which n + impurities are injected through the source contact hole 224S and the drain contact hole 224D, which pass through the interlayer insulating film 226 and the gate insulating film 212. It is connected to each of the source region 214S and the drain region 214D of 214. Also, the active layer 214 (LDD) region (not shown) in which n- impurity is implanted between the channel region 214C and the source and drain regions 214S and 214D to reduce the off current. ) It is also equipped with more. A passivation layer is formed to cover the fifth transistor, and the passivation layer includes a pixel contact hole exposing the drain electrode.

제5 스위칭 트랜지스터(T5)의 게이트 전극은 게이트 라인(GL)과 접속되며, 제5 스위칭 트랜지스터(T5)의 소스 전극은 기준 전압 라인(VLref)과 접속되며, 제5 스위칭 트랜지스터(T5)의 드레인 전극은 제7 노드(N7)와 접속된다.A gate electrode of the fifth switching transistor T5 is connected to the gate line GL, a source electrode of the fifth switching transistor T5 is connected to the reference voltage line VLref, and a drain of the fifth switching transistor T5. The electrode is connected to the seventh node N7.

유기전계발광 표시패널의 비표시 영역에는 정전기 방지 패턴부(130,132,134,136,138,150,152,154,156)와, 테스트 패턴부(120,122) 및 다수의 쇼팅바(114a,114,116)를 포함한다. 여기서, 쇼팅바에 대한 구체적인 설명은 후술하기로 한다. The non-display area of the organic light emitting display panel includes antistatic pattern parts 130, 132, 134, 136, 138, 150, 152, 154 and 156, test pattern parts 120 and 122, and a plurality of shorting bars 114a, 114, and 116. Here, a detailed description of the shorting bar will be described later.

테스트 패턴부는 제1 및 제2 테스트 패턴부(120,122)를 포함하며, 유기전계발광 표시패널의 각종 신호 라인 및 트랜지스터들이 형성된 후에 실시되는 전기적인 점등검사와 각 화소의 불량을 검사한다. 구체적으로, 제1 및 제2 테스트 패턴부(120,122) 각각에 형성된 다수의 점등 검사용 패드는 오토 프로브 장치의 핀과 전기적으로 접촉되어 신호가 인가된다. 다수의 점등 검사용 패드에 인가되는 신호에 의해 유기전계발광 표시 패널의 점등 여부를 검사한다. The test pattern unit includes first and second test pattern units 120 and 122 and inspects an electrical lighting test performed after various signal lines and transistors of the organic light emitting display panel are formed and defects of each pixel. Specifically, the plurality of lighting test pads formed in each of the first and second test pattern units 120 and 122 are electrically contacted with the pins of the auto probe device to receive a signal. The lighting of the organic light emitting display panel is checked by signals applied to the plurality of lighting test pads.

제1 테스트 패턴부(120)는 제1 내지 제3 검사용 패드(120a,120b,120c)를 포함하며, 제1 검사용 패드(120c)는 에미션 라인(EML)으로 검사 신호를 공급하며, 제2 검사용 패드(120b)는 게이트 라인(GL)으로 검사 신호를 공급하며, 제3 검사용 패드(120c)는 제1 스위칭 라인(SWL1)으로 검사 신호를 공급한다. 제1 테스트 패턴부(120)의 제1 내지 제3 검사용 패드(120a,120b,120c) 각각은 제3 쇼팅바(116)로부터 연장되어 형성된 상부 전극과, 상부 전극과 컨택홀을 통해 접속된 연결 라인들(CL1, CL2, CL3)로부터 연장되어 형성된 하부 전극으로 이루어진다. The first test pattern unit 120 includes first to third inspection pads 120a, 120b and 120c, and the first inspection pad 120c supplies a test signal to the emission line EML. The second test pad 120b supplies the test signal to the gate line GL, and the third test pad 120c supplies the test signal to the first switching line SWL1. Each of the first to third inspection pads 120a, 120b, and 120c of the first test pattern unit 120 is connected to an upper electrode formed through the third shorting bar 116, and an upper electrode and a contact hole. The lower electrode extends from the connection lines CL1, CL2 and CL3.

제2 테스트 패턴부(122)는 제1 및 제2 검사용 패드(122a,112b)를 포함하며, 제1 검사용 패드(122b)는 데이터 라인(DL)으로 검사 신호를 공급하며, 제2 검사용 패드(122a)는 제2 스위칭 라인(SWL2)으로 검사 신호를 공급한다. 제2 테스트 패턴부(122)의 제1 및 제2 검사용 패드 각각은 도 3과 같이 도시되지 않았지만, 제1 테스트 패턴부(120)와 마찬가지로 제3 쇼팅바(116)로부터 연장되어 형성된 상부 전극과, 상부 전극과 컨택홀을 통해 접속된 연결 라인들(CL4,CL4)로부터 연장되어 형성된 하부 전극으로 이루어진다. The second test pattern unit 122 includes first and second test pads 122a and 112b, and the first test pad 122b supplies a test signal to the data line DL and a second test. The pad 122a supplies a test signal to the second switching line SWL2. Each of the first and second inspection pads of the second test pattern unit 122 is not illustrated as shown in FIG. 3, but like the first test pattern unit 120, the upper electrode is formed to extend from the third shorting bar 116. And a lower electrode extending from the connection lines CL4 and CL4 connected through the upper electrode and the contact hole.

정전기 방지 패턴부는 정전기가 표시 영역의 트랜지스터로 전달되어 손상되지 않도록 제1 내지 제10 정전기 방지 패턴(130,132,134,136,138,150,152,154,156)을 포함한다. 이러한, 제1 내지 제10 정전기 방지 패턴(130,132,134,136,138,150,152,154,156)은 각 신호 라인들에 다수의 다이오드로 형성되며, 정전기가 발생되면 다수의 다이오드를 통해 방전시켜 표시 영역의 소자들로 영향을 주지 않도록 한다. 이와 같이, 정전기를 방지하기 위해 다수의 정전기 방지 패턴 외의 쇼팅바들을 통해 정전기를 방지한다. 이러한, 쇼팅바들은 표시 영역의 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인과 모두 연결되어 있다. 쇼팅바는 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위로 만들어 정전기를 방지하지만, 스크라이빙 공정시 쇼팅바들 중 제3 쇼팅바(116)가 스크라이빙 되면서 정전기가 발생된다. 이밖에 패널 제조 공정 시 쇼팅바를 통해 정전기가 유입되는 경우가 많으므로 유입된 정전기를 방지하기 위해 다수의 정전기 방지 패턴을 형성한다. The antistatic pattern portion includes first to tenth antistatic patterns 130, 132, 134, 136, 138, 150, 152, 154, and 156 so that static electricity is transmitted to the transistors in the display area so as not to be damaged. The first to tenth antistatic patterns 130, 132, 134, 136, 138, 150, 152, 154 and 156 are formed of a plurality of diodes in each signal line, and when static electricity is generated, the first to tenth antistatic patterns 130, 132, 134, 136, 138, 150, 154, 156 are discharged through the plurality of diodes so as not to affect the elements of the display area. As such, the static electricity is prevented through shorting bars other than the plurality of antistatic patterns to prevent static electricity. The shorting bars are connected to all of the gate line, the data line, and the emission line of the display area. The shorting bar prevents static electricity by distributing static electricity in each line to equipotential, but static electricity is generated as the third shorting bar 116 of the shorting bars is scribed during the scribing process. In addition, since the static electricity is often introduced through the shorting bar during the panel manufacturing process, a plurality of antistatic patterns are formed to prevent the static electricity.

구체적으로, 제1 내지 제5 정전기 방지 패턴(130,132,134,150,154)은 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1) 사이에 형성되어 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1)으로 유입되는 정전기를 방전시켜 표시 영역의 소자들로 정전기를 유입되는 것을 방지한다. 제1 정전기 방지 패턴(130)은 제1 테스트 패턴부(120)의 검사용 패드들(120a,120b,102c)과 오토 프로브 장치의 핀과 전기적으로 접속될 경우에도 정전기가 발생될 수 있는데 이러한 정전기 유입을 막기 위해 제1 테스트 패턴부(120)와 연결 라인들(CL1 내지 CL3) 사이에 형성된다. 또한, 제1 정전기 방지 패턴(130)은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 각 연결 라인에 다수의 제너 다이오드(ZDn)로 형성된다. 정전기가 유입되면 전류의 극성에 관계없이 수 KV 이상의 정전기 전압이 제너 다이오드에 인가되면, 제너 다이오드가 턴온되어 정전기가 분산된다. 즉, 제너 다이오드(ZD)는 정전압의 극성에 관계없이 일정 전압 이상에서 도통되어 정전기를 방지한다. Specifically, the first to fifth antistatic patterns 130, 132, 134, 150, and 154 are formed between the gate line GL, the emission line EML, and the first switching line SWL1 to form the gate line GL and the emission line EML. ), The static electricity flowing into the first switching line SWL1 is discharged to prevent static electricity from flowing into the elements of the display area. The first antistatic pattern 130 may generate static electricity even when it is electrically connected to the test pads 120a, 120b and 102c of the first test pattern unit 120 and the pins of the auto probe device. In order to prevent the inflow, the first test pattern unit 120 and the connection lines CL1 to CL3 are formed. In addition, the first antistatic pattern 130 is formed of a plurality of zener diodes ZDn in each connection line as shown in FIGS. 2 and 3. When static electricity flows in, when a static voltage of several KV or more is applied to the zener diode regardless of the polarity of the current, the zener diode is turned on to dissipate the static electricity. That is, the zener diode ZD is conducted at a predetermined voltage or higher regardless of the polarity of the constant voltage to prevent static electricity.

제2 정전기 방지 패턴(132)은 제1 정전기 방지 패턴(130)을 통해 정전기 유입을 막지 못한 경우 2차적으로 정전기를 방지할 수 있도록 각 신호 라인들에 다수의 다이오드(Dn)로 형성된다. 구체적으로, 제2 정전기 방지 패턴(132)은 도 3에 도시된 바와 같이 에미션 라인(EML)에 다수의 다이오드로 형성되어 에미션 라인(EML)으로 유입된 정전기를 방지하며, 게이트 라인(GL)에 다수의 다이오드로 형성되어 게이트 라인(GL)으로 유입된 정전기를 방지하며, 제1 스위칭 라인(SWL1)에 다수의 다이오드로 형성되어 제1 스위칭 라인(SWL1)으로 유입된 정전기를 방지한다. 제3 정전기 방지 패턴(134)은 제2 정전기 방지 패턴(132)과 동일하게 각 라인에 다수의 다이오드로 형성되므로 생략하기로 한다. 제4 및 제5 정전기 방지 패턴(150,154)은 표시 영역(102)에 인접하게 형성되어 정전기를 방지한다. 이와 같이, 제1 내지 제5 정전기 방지 패턴(130,132,134,150,154)은 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1)과 접속되어 각 신호 라인으로 유입되는 정전기를 제1 정전기 방지 패턴(130)--> 제2 정전기 방지 패턴(132)--> 제3 정전기 방지 패턴(134)-->제4 정전기 방지 패턴(154)--> 제5 정전기 방지 패턴(150)으로 5단계로 방전시켜 표시 영역의 소자들로 정전기 유입을 막을 수 있다. The second antistatic pattern 132 is formed of a plurality of diodes Dn in each signal line so as to prevent static electricity when the static electricity is not prevented through the first antistatic pattern 130. Specifically, as shown in FIG. 3, the second antistatic pattern 132 is formed of a plurality of diodes in the emission line EML to prevent static electricity flowing into the emission line EML, and the gate line GL ) Is formed of a plurality of diodes to prevent static electricity flowing into the gate line GL, and is formed of a plurality of diodes in the first switching line SWL1 to prevent static electricity flowing into the first switching line SWL1. Since the third antistatic pattern 134 is formed of a plurality of diodes in each line in the same manner as the second antistatic pattern 132, it will be omitted. The fourth and fifth antistatic patterns 150 and 154 may be formed adjacent to the display area 102 to prevent static electricity. As such, the first to fifth antistatic patterns 130, 132, 134, 150, and 154 are connected to the gate line GL, the emission line EML, and the first switching line SWL1 to prevent static electricity flowing into each signal line. Pattern 130-> second antistatic pattern 132-> third antistatic pattern 134-> fourth antistatic pattern 154-> fifth antistatic pattern 150 By discharging in a step, inflow of static electricity to the devices of the display area may be prevented.

또한, 제6 내지 제10 정전기 방지 패턴(135,136,138,152,156)은 데이터 라인(DL), 제2 스위칭 라인(SWL2) 사이에 형성되어 데이터 라인(DL), 제2 스위칭 라인(SWL2)으로 유입되는 정전기를 방전시켜 표시 영역의 소자들로 정전기를 유입되는 것을 방지한다. 제6 정전기 방지 패턴(138)은 제2 테스트 패턴부(122)의 검사용 패드들(122a,122b)과 오토 프로브 장치의 핀과 전기적으로 접속될 경우에도 정전기가 발생될 수 있는데 이러한 정전기 유입을 막기 위해 제1 테스트 패턴부(122)와 연결 라인들(CL4 및 CL5) 사이에 형성된다. 또한, 제6 정전기 방지 패턴(138)은 제1 정전기 방지 패턴과 마찬가지로 각 연결 라인에 다수의 제너 다이오드(ZDn)로 형성된다. 정전기가 유입되면 전류의 극성에 관계없이 수 KV 이상의 정전기 전압이 제너 다이오드에 인가되면, 제너 다이오드가 턴온되어 정전기가 분산된다. 즉, 제너 다이오드(ZD)는 정전압의 극성에 관계없이 일정 전압 이상에서 도통되어 정전기를 방지한다. In addition, the sixth to tenth antistatic patterns 135, 136, 138, 152 and 156 are formed between the data line DL and the second switching line SWL2 to discharge static electricity flowing into the data line DL and the second switching line SWL2. This prevents static electricity from flowing into the elements of the display area. The sixth antistatic pattern 138 may generate static electricity even when the sixth antistatic pattern 138 is electrically connected to the test pads 122a and 122b of the second test pattern unit 122 and the pin of the auto probe device. It is formed between the first test pattern portion 122 and the connection lines CL4 and CL5 to prevent it. In addition, like the first antistatic pattern, the sixth antistatic pattern 138 is formed of a plurality of zener diodes ZDn in each connection line. When static electricity flows in, when a static voltage of several KV or more is applied to the zener diode regardless of the polarity of the current, the zener diode is turned on to dissipate the static electricity. That is, the zener diode ZD is conducted at a predetermined voltage or higher regardless of the polarity of the constant voltage to prevent static electricity.

제7 정전기 방지 패턴(136)은 제6 정전기 방지 패턴(138)을 통해 정전기 유입을 막지 못한 경우 2차적으로 정전기를 방지할 수 있도록 각 신호 라인들에 다수의 다이오드(Dn)로 형성된다. 구체적으로, 제7 정전기 방지 패턴(136)은 제2 정전기 방지 패턴과 마찬가지로 데이터 라인(DL)에 다수의 다이오드로 형성되어 데이터 라인(DL)으로 유입된 정전기를 방지하며, 제2 스위칭 라인(SWL2)에 다수의 다이오드로 형성되어 제2 스위칭 라인(SWL2)으로 유입된 정전기를 방지한다. 제8 정전기 방지 패턴(135)은 제7 정전기 방지 패턴(136)과 동일하게 각 라인에 다수의 다이오드로 형성되므로 생략하기로 한다. 제9 및 제10 정전기 방지 패턴(152,156)은 표시 영역(102)에 인접하게 형성되어 정전기를 방지한다. 이와 같이, 제6 내지 제10 정전기 방지 패턴(135,136,138,152,156)은 데이터 라인(DL), 제2 스위칭 라인(SWL2)과 접속되어 각 신호 라인으로 유입되는 정전기를 제6 정전기 방지 패턴(138)--> 제7 정전기 방지 패턴(136)--> 제8 정전기 방지 패턴(135)-->제9 정전기 방지 패턴(156)--> 제10 정전기 방지 패턴(152)으로 5단계로 방전시켜 표시 영역의 소자들로 정전기 유입을 막을 수 있다. The seventh antistatic pattern 136 is formed of a plurality of diodes Dn in each signal line so as to prevent static electricity when the electrostatic charge is not prevented through the sixth antistatic pattern 138. In detail, the seventh antistatic pattern 136 is formed of a plurality of diodes on the data line DL, like the second antistatic pattern, to prevent static electricity flowing into the data line DL, and the second switching line SWL2. ) Is formed of a plurality of diodes to prevent static electricity flowing into the second switching line SWL2. Since the eighth antistatic pattern 135 is formed of a plurality of diodes in each line in the same manner as the seventh antistatic pattern 136, it will be omitted. The ninth and tenth antistatic patterns 152 and 156 may be formed adjacent to the display area 102 to prevent static electricity. As such, the sixth to tenth antistatic patterns 135, 136, 138, 152, and 156 are connected to the data line DL and the second switching line SWL2 to prevent static electricity flowing into each signal line. The seventh antistatic pattern 136-> the eighth antistatic pattern 135-> the ninth antistatic pattern 156-> the tenth antistatic pattern 152 may be discharged in five steps. The device can prevent static electricity from entering.

쇼팅바들은 제1 내지 제3 쇼팅바(110,114a,114,116)를 포함하며, 제1 내지 제3 쇼팅바(110,114a,114,116)는 박막 트랜지스터 공정이 완료된 후 서로 연결된다. 이러한, 쇼팅바들(110,114a,114,116)은 다수의 유기전계발광 패널들의 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위로 만들어 정전기를 방지한다. The shorting bars include first to third shorting bars 110, 114a, 114, and 116, and the first to third shorting bars 110, 114a, 114, and 116 are connected to each other after the thin film transistor process is completed. The shorting bars 110, 114a, 114, and 116 disperse static electricity generated during the manufacturing process of the plurality of organic electroluminescent panels in each line to equipotential to prevent static electricity.

구체적으로, 제1 쇼팅바(110)는 모기판(100)에 형성된 다수의 유기전계발광 표시패널들의 외곽 영역에 형성되며, 유기전계발광소자의 양극(222)이 형성될 때 동시에 형성된다. 즉, 제1 쇼팅바(110)는 투명 전극으로 형성되며, 투명 전극 재질로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다. 종래 제1 쇼팅바는 게이트 라인이나 데이터 라인 형성시 동시에 동일 재질로 형성되었으나, 본 발명은 표시 영역에 형성된 박막 트랜지스터 공정이 완료된 뒤, 양극(222) 형성시 형성된다. In detail, the first shorting bar 110 is formed at an outer region of the plurality of organic light emitting display panels formed on the mother substrate 100, and is simultaneously formed when the anode 222 of the organic light emitting diode is formed. That is, the first shorting bar 110 is formed of a transparent electrode, and as the transparent electrode material, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and antimony tin oxide (ATO) It can be formed from the material of. Conventionally, although the first shorting bar is formed of the same material at the same time when forming the gate line or the data line, the present invention is formed when the anode 222 is formed after the thin film transistor process formed in the display area is completed.

다시 말하여, 게이트 라인이나 데이터 라인 형성시 스퍼터링 방법으로 증착하게 되는데 이러한 스퍼터링 방법은 플라즈마 상태에서 형성하게 되므로 양전하나 음전하들이 발생된다. 이러한, 플라즈마 상태에서 많은 전하들로 인해 오히려 정전기가 발생하게 된다. 즉, 제1 쇼팅바를 게이트 라인이나 데이터 라인으로 형성하게 되면, 제1 쇼팅바 형성시 발생된 정전기가 게이트 라인 또는 데이터 라인을 통해 각 패널로 유입하게 된다. 이에 따라, 본 발명은 표시 영역의 박막 트랜지스터 공정이 완료된 후, 유기전계발광 소자의 양극(222) 형성시 제1 쇼팅바(110)를 형성하도록 한다. In other words, when the gate line or the data line is formed, it is deposited by the sputtering method. Since the sputtering method is formed in the plasma state, positive or negative charges are generated. In this plasma state, a lot of charges are rather generated static electricity. That is, when the first shorting bar is formed as a gate line or a data line, static electricity generated when the first shorting bar is formed is introduced into each panel through the gate line or the data line. Accordingly, after the thin film transistor process in the display area is completed, the first shorting bar 110 is formed when the anode 222 of the organic light emitting diode is formed.

이와 같이, 표시 영역(102)의 박막 트랜지스터 공정이 완료되기 전까지는 제1 쇼팅바(110)가 형성되지 않으므로 모기판에 형성된 다수의 유기전계발광 표시패널들 각각의 제1 내지 제3 쇼팅바(110,114a,114,116)는 서로 접속되지 않은 상태이다. 이에 따라, 인접한 유기전계발광 표시패널 간의 제2 쇼팅바(114a,114) 및 제3 쇼팅바(116)가 이격된 상태이다. 또한, 표시 영역(102)의 박막 트랜지스터가 완성된 후, 양극(222) 형성시 제1 쇼팅바(110)가 형성되며, 제1 내지 제3 쇼팅바(110,114a,114,116)가 연결되게 된다. 이와 같이, 제1 내지 제3 쇼팅바(110,114a,114,116)가 연결된 후, 표시 영역의 박막 트랜지스터 공정시 내부에 발생되었던 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위로 만들어 정전기를 방지한다.As described above, since the first shorting bar 110 is not formed until the thin film transistor process of the display area 102 is completed, the first to third shorting bars of each of the organic light emitting display panels formed on the mother substrate ( 110, 114a, 114, and 116 are not connected to each other. Accordingly, the second shorting bars 114a and 114 and the third shorting bar 116 between adjacent organic light emitting display panels are spaced apart from each other. In addition, after the thin film transistor of the display area 102 is completed, the first shorting bar 110 is formed when the anode 222 is formed, and the first to third shorting bars 110, 114a, 114, and 116 are connected to each other. As such, after the first to third shorting bars 110, 114a, 114, and 116 are connected, the static electricity generated during the thin film transistor process of the display area is dispersed in each line to be equipotential to prevent static electricity.

제2 쇼팅바(114a,114)는 유기전계발광 표시패널의 표시 영역(102)을 둘러싸도록 형성되며, 게이트 라인(GL)이 형성될 때 동시에 형성된다. 제2 쇼팅바(114a,114)는 U자형으로 표시 영역을 둘러싸도록 형성되어 컨택홀(110a)을 통해 제1 쇼팅바(110)와 접속된다. 이를 위해, 제2 쇼팅바(114a)는 테스트 패턴부들(2120,122)와 인접한 영역에 형성되며, 컨택홀(110a)을 통해 제1 쇼팅바(110)와 접속된 제1 라인(114)과 표시 영역(102)을 둘러싸도록 형성된 제2 라인(114a)을 포함한다. 제2 라인(114a)은 제1 라인(114)보다 폭을 넓게 형성하여 라인 저항을 줄일 수 있다. The second shorting bars 114a and 114 are formed to surround the display area 102 of the organic light emitting display panel, and are simultaneously formed when the gate line GL is formed. The second shorting bars 114a and 114 are formed to surround the display area in a U shape and are connected to the first shorting bar 110 through the contact hole 110a. To this end, the second shorting bar 114a is formed in an area adjacent to the test pattern parts 2120 and 122, and the first line 114 connected to the first shorting bar 110 through the contact hole 110a. The second line 114a may be formed to surround the display area 102. The second line 114a may have a width wider than that of the first line 114 to reduce line resistance.

제3 쇼팅바(116)는 제2 쇼팅바들(116)과 메쉬(Mesh)형으로 교차하도록 접속되며, 데이터 라인(DL)이 형성될 때 동시에 형성된다. 제3 쇼팅바(116)는 제2 쇼팅바(116)와 제3 연결전극 패턴부(144,146)를 통해 접속하게 되며, 테스트 패턴부들(120,122)의 검사용 패드들(120a 내지 120c,122a 및 122b)의 상부 전극과 연결된다. The third shorting bars 116 are connected to intersect the second shorting bars 116 in a mesh shape, and are simultaneously formed when the data lines DL are formed. The third shorting bar 116 is connected to the second shorting bar 116 through the third connection electrode pattern parts 144 and 146, and the test pads 120a to 120c, 122a and 122b of the test pattern parts 120 and 122. Is connected to the upper electrode.

연결전극 패턴부(140,142,144,146)는 다수의 연결 라인(CL1 내지 CL3)과 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1)과 연결해주는 제1 연결전극 패턴부(140)와, 다수의 연결 라인(CL4 및 CL5)과 데이터 라인(DL) 및 제2 스위칭 라인(SWL2)과 연결해주는 제2 연결전극 패턴부(142)와, 제2 쇼팅바(114,114a)와 제3 쇼팅바(116)를 연결해주는 제3 연결전극 패턴부(144,146)를 포함한다. 이러한, 연결전극 패턴부(140,142,144,146)는 유기전계발광소자의 양극(222) 형성시 동시에 형성되며, 투명 전극 재질로 형성된다. The connection electrode pattern parts 140, 142, 144, and 146 may be connected to the plurality of connection lines CL1 to CL3, the gate lines GL, the emission lines EML, and the first switching line SWL1. And a second connection electrode pattern part 142 connecting the plurality of connection lines CL4 and CL5, the data line DL, and the second switching line SWL2, and the second shorting bars 114 and 114a and the third connection electrode. And third connection electrode pattern parts 144 and 146 connecting the shorting bar 116. The connection electrode pattern parts 140, 142, 144, and 146 are simultaneously formed when the anode 222 of the organic light emitting diode is formed, and are formed of a transparent electrode material.

제1 연결전극 패턴부(140)는 도 3에 도시된 바와 같이 제1 연결 라인(CL1)과 에미션 라인(EML)과 연결해주는 제1 연결전극(140c)과, 제2 연결 라인(CL2)과 게이트 라인(GL)과 연결해주는 제2 연결전극(140b)과, 제3 연결 라인(CL3)과 제1 스위칭 라인(SWL1)과 접속된 제3 연결 전극(140c)을 포함한다. 상술한 바와 같이, 연결전극 패턴부는 양극 형성시 형성되므로 양극 형성 공정 전까지는 제1 내지 제3 연결 라인들(CL1 내지 CL3)과 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1)이 서로 이격된 형태이다. As shown in FIG. 3, the first connection electrode pattern part 140 includes a first connection electrode 140c and a second connection line CL2 that connect the first connection line CL1 and the emission line EML. And a second connection electrode 140b connected to the gate line GL, and a third connection electrode 140c connected to the third connection line CL3 and the first switching line SWL1. As described above, since the connection electrode pattern part is formed during the formation of the anode, the first to third connection lines CL1 to CL3, the gate line GL, the emission line EML, and the first switching line are formed until the anode formation process. SWL1 is spaced apart from each other.

제2 연결전극 패턴부(142)는 제4 연결 라인(CL4)과 데이터 라인(DL)과 연결해주는 제1 연결 전극(142a)과, 제5 연결 라인(CL5)과 제2 스위칭 라인(SWL2)과 연결해주는 제5 연결 전극(142b)을 포함한다. 상술한 바와 같이, 연결전극 패턴부는 양극 형성시 형성되므로 양극(222) 형성 공정 전까지는 제4 및 제5 연결 라인들(CL4, CL5)과 데이터 라인(DL), 제2 스위칭 라인(SWL2)이 서로 이격된 형태이다. The second connection electrode pattern part 142 includes a first connection electrode 142a connecting the fourth connection line CL4 and the data line DL, a fifth connection line CL5 and the second switching line SWL2. And a fifth connection electrode 142b which connects with the second connection electrode. As described above, since the connection electrode pattern part is formed when the anode is formed, the fourth and fifth connection lines CL4 and CL5, the data line DL, and the second switching line SWL2 are not formed until the process of forming the anode 222. Spaced apart from each other.

제3 연결전극 패턴부(144,146)는 제2 쇼팅바의 제1 라인(114)과 제3 쇼팅바(116)가 서로 교차하는 지점에서 서로 연결해주는 제1 연결 전극(144a)과, 제2 쇼팅바의 제2 라인(114a)과 제3 쇼팅바(116)가 서로 평행하는 지점에서 서로 연결해주는 제2 연결 전극(144b)을 포함한다. 이와 같이, 연결전극 패턴부는 양극(222) 형성시 형성되므로 양극 형성 공정 전까지는 제2 쇼팅바(114,114a)와 제3 쇼팅바(116)는 서로 연결되지 않은 상태이다. 이와 같이, 양극 형성시 제2 쇼팅바(114,114a)와 제3 쇼팅바(116)가 연결되며, 양극 형성시 제1 쇼팅바(110)도 형성되어 제2 쇼팅바(114a,114)와 연결되므로 표시 영역의 박막 트랜지스터 공정시 발생되었던 정전기가 각 라인에 분산되어 등전위가 되어 정전기가 방지된다. The third connection electrode pattern parts 144 and 146 may include a first connection electrode 144a connecting to each other at a point where the first line 114 and the third shorting bar 116 of the second shorting bar cross each other, and the second show. The second line 114a of the putting bar and the third shorting bar 116 include a second connection electrode 144b connected to each other at a point parallel to each other. As such, since the connection electrode pattern part is formed when the anode 222 is formed, the second shorting bars 114 and 114a and the third shorting bar 116 are not connected to each other until the formation of the anode. As such, when the anode is formed, the second shorting bars 114 and 114a and the third shorting bar 116 are connected, and when the anode is formed, the first shorting bar 110 is also formed to be connected to the second shorting bars 114a and 114. Therefore, the static electricity generated during the thin film transistor process in the display area is dispersed in each line to become an equipotential to prevent static electricity.

도 6a 내지 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조방법을 나타낸 단면도들 및 평면도들이다. 6A through 9 are cross-sectional views and plan views illustrating a method of manufacturing a mother substrate of an organic light emitting display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 모기판(100)의 유기전계발광 표시패널의 표시 영역에 다수의 박막 트랜지스터가 형성되며, 다수의 연결 라인(CL1 내지 CL5)과, 제2 및 제3 쇼팅바(114a,114,116)가 형성되며, 보호막(219)이 형성된다. 6A and 6B, a plurality of thin film transistors are formed in a display area of an organic light emitting display panel of a mother substrate 100, a plurality of connection lines CL1 to CL5, and second and third shorting bars. 114a, 114, and 116 are formed, and a protective film 219 is formed.

구체적으로, 모기판(100)의 유기전계발광 표시패널의 표시 영역에 버퍼막(216), 액티브층(214)이 형성되며, 게이트 전극(206)은 액티브층의 채널 영역(214C)과 게이트 절연막(212)을 사이에 두고 중첩되게 형성된다. 소스 전극(208) 및 드레인 전극(210)은 게이트 전극(206)과 층간 절연막(226)을 사이에 두고 절연되게 형성된다. 소스 전극(208) 및 드레인 전극(210)은 층간 절연막(226) 및 게이트 절연막(212)을 관통하는 소스 컨택홀(224S) 및 드레인 컨택홀(224D) 각각을 통해 n+ 불순물이 주입된 액티브층(214)의 소스 영역(214S) 및 드레인 영역(214D) 각각과 접속된다. 이때, 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1), 제1 내지 제3 연결 라인(CL1 내지 CL3), 제2 쇼팅바(114a,114)는 게이트 전극(206) 형성시 동일 재질로 동일층에 형성된다. 에미션 라인(EML)과 제1 연결 라인(CL1)은 서로 이격된 형태로 형성되며, 게이트 라인(GL)과 제2 연결 라인(CL2)은 서로 이격된 형태로 형성되며, 제1 스위칭 라인(SWL1)과 제3 연결 라인(CL3)은 서로 이격된 형태로 형성된다. Specifically, the buffer layer 216 and the active layer 214 are formed in the display area of the organic light emitting display panel of the mother substrate 100, and the gate electrode 206 is formed of the channel region 214C and the gate insulating layer of the active layer. 212 is formed to overlap each other. The source electrode 208 and the drain electrode 210 are formed to be insulated with the gate electrode 206 and the interlayer insulating film 226 interposed therebetween. The source electrode 208 and the drain electrode 210 are active layers in which n + impurities are injected through the source contact hole 224S and the drain contact hole 224D, which pass through the interlayer insulating film 226 and the gate insulating film 212. It is connected to each of the source region 214S and the drain region 214D of 214. In this case, the gate line GL, the emission line EML, the first switching line SWL1, the first to third connection lines CL1 to CL3, and the second shorting bars 114a and 114 are gate electrodes 206. ) Formed on the same layer with the same material. The emission line EML and the first connection line CL1 are formed to be spaced apart from each other, the gate line GL and the second connection line CL2 are formed to be spaced apart from each other, and the first switching line SWL1 and the third connection line CL3 are formed to be spaced apart from each other.

그리고, 데이터 라인(DL), 제2 스위칭 라인(SWL2), 제4 및 제5 연결 라인(CL4,CL5), 제3 쇼팅바(116)는 소스 전극(208) 및 드레인 전극(210) 형성시 동일 재질로 동일층에 형성된다. 데이터 라인(DL)과 제4 연결 라인(CL4)은 서로 이격된 형태로 형성되며, 제2 스위칭 라인(SWL2)과 제5 연결 라인(CL5)은 서로 이격된 형태로 형성된다. The data line DL, the second switching line SWL2, the fourth and fifth connection lines CL4 and CL5, and the third shorting bar 116 are formed when the source electrode 208 and the drain electrode 210 are formed. The same material is formed on the same layer. The data line DL and the fourth connection line CL4 are formed to be spaced apart from each other, and the second switching line SWL2 and the fifth connection line CL5 are formed to be spaced apart from each other.

또한, 제2 쇼팅바(114a,114)와 제3 쇼팅바(116)는 층간 절연막(226)을 사이에 두고 서로 메쉬(Mesh) 형태로 교차하여 형성되며, 서로 연결되지는 않는다. In addition, the second shorting bars 114a and 114 and the third shorting bar 116 are formed to cross each other in a mesh form with the interlayer insulating layer 226 interposed therebetween, and are not connected to each other.

한편, 게이트 전극(206), 소스 및 드레인 전극(208,210)은 금속 재질로 형성되며, 스퍼터링 방법으로 형성된다. 그리고, 액티브층(214), 게이트 절연막(212), 층간 절연막(226), 버퍼층(216)은 PECVD 또는 CVD 등과 같은 방법으로 증착된다. 이와 같이, 스퍼터링 방법이나 PECVD, CVD 방법은 플라즈마 상태로 형성되어 전하들이 많이 발생되어 전하가 축적되어 각 정전기가 발생될 우려가 있지만, 제2 및 제3 쇼팅바(114a,114,116)가 서로 연결되지 않으며, 제1 내지 제5 연결 라인(CL1 내지 CL5)과, 각 신호 라인들(게이트 라인, 에미션 라인, 제1 스위칭 라인, 데이터 라인, 제2 스위칭 라인)이 서로 이격되어 있으므로 제2 및 제3 쇼팅바(114a,114,116)에서 발생된 정전기가 유입되지 않는다. On the other hand, the gate electrode 206, the source and drain electrodes 208, 210 are formed of a metal material, it is formed by a sputtering method. The active layer 214, the gate insulating film 212, the interlayer insulating film 226, and the buffer layer 216 are deposited by a method such as PECVD or CVD. As such, the sputtering method, the PECVD, and the CVD method may be formed in a plasma state, and thus a lot of charges may be generated to accumulate charges, thereby generating static electricity. The first to fifth connection lines CL1 to CL5 and the signal lines (gate line, emission line, first switching line, data line, and second switching line) are spaced apart from each other. 3 Static electricity generated from the shorting bars 114a, 114, and 116 does not flow.

도 7a 및 도 7b를 참조하면, 모기판(100) 상에 형성된 보호막(219)을 관통하는 다수의 컨택홀(220,160,162,164,166,110a)이 형성된다. 7A and 7B, a plurality of contact holes 220, 160, 162, 164, 166 and 110a penetrating through the passivation layer 219 formed on the mother substrate 100 are formed.

구체적으로, 모기판(100) 상에 형성된 보호막(219)은 박막 트랜지스터의 드레인 전극(210)이 노출되도록 화소 컨택홀(220)과, 연결 라인들(CL1 내지 CL5)을 노출하도록 형성된 제1 연결 컨택홀(160)들과, 게이트 라인(GL), 에미션 라인(EML), 제1 스위칭 라인(SWL1), 데이터 라인(DL), 제2 스위칭 라인(SWL2)을 노출하도록 형성된 제2 연결 컨택홀들(162)과, 제2 쇼팅바(114a)가 노출되도록 형성된 제3 연결 컨택홀(164)과, 제3 쇼팅바(116)가 노출되도록 형성된 제4 연결 컨택홀(166)이 형성된다. In detail, the passivation layer 219 formed on the mother substrate 100 may include the pixel contact hole 220 to expose the drain electrode 210 of the thin film transistor and the first connection formed to expose the connection lines CL1 to CL5. A second connection contact formed to expose the contact holes 160, the gate line GL, the emission line EML, the first switching line SWL1, the data line DL, and the second switching line SWL2. The third connection contact hole 164 formed to expose the holes 162, the second shorting bar 114a, and the fourth connection contact hole 166 formed to expose the third shorting bar 116 are formed. .

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 모기판(100) 상에 양극(222)과, 연결 전극 패턴부(140,142,144,146), 제1 쇼팅바(110)가 형성된다. 8A and 8B, the anode 222, the connection electrode pattern parts 140, 142, 144, and 146, and the first shorting bar 110 are formed on the mother substrate 100.

구체적으로, 박막 트랜지스터의 드레인 전극(201)과 접속되도록 화소 컨택홀(220) 상에 양극(222)이 형성된다. 제1 연결 라인(CL1)과 에미션 라인(EML)을 연결해주는 제1 연결 전극(140c)과, 제2 연결 라인(CL2)과 게이트 라인(GL)을 연결해주는 제2 연결 전극(140b)과, 제3 연결 라인(CL3)과 제1 스위칭 라인(SWL1)을 연결해주는 제3 연결 전극(140a)을 포함하는 제1 연결 전극 패턴부(140)가 형성된다. 그리고, 제4 연결 라인(CL4)과 데이터 라인(DL)을 연결해주는 제1 연결 전극(142a)과, 제5 연결 라인(CL5)과 제2 스위칭 라인(SWL2)을 연결해주는 제2 연결 전극(142b)을 포함하는 제2 연결 전극 패턴부(142)가 형성된다. 또한, 제2 쇼팅바(114a,114)와 제3 쇼팅바(116)가 서로 교차하는 지점에서 연결해주는 제1 연결 전극(144a)과, 제2 쇼팅바(114,114a)와 제3 쇼팅바(116)가 서로 평행하는 지점에서 연결해주는 제2 연결 전극(144b)을 포함하는 제3 연결 전극 패턴부(144,146)가 형성된다. 제2 쇼팅바(114,114a)와 컨택홀(110a)을 통해 접속된 제1 쇼팅바(110)가 다수의 유기전계발광 표시패널의 외곽에 형성된다. 이와 같이, 모기판(100) 상에 양극과, 제1 내지 제3 연결 전극 패턴부(140,142,144,146)를 포함하는 연결 전극 패턴부, 제1 쇼팅바(110)가 투명 전극 재질로 형성된다. 투명 전극 재질은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다. In detail, the anode 222 is formed on the pixel contact hole 220 to be connected to the drain electrode 201 of the thin film transistor. A first connection electrode 140c connecting the first connection line CL1 and the emission line EML, a second connection electrode 140b connecting the second connection line CL2 and the gate line GL; The first connection electrode pattern part 140 including the third connection electrode 140a connecting the third connection line CL3 and the first switching line SWL1 is formed. The first connection electrode 142a connecting the fourth connection line CL4 and the data line DL and the second connection electrode connecting the fifth connection line CL5 and the second switching line SWL2 ( A second connection electrode pattern portion 142 including 142b is formed. In addition, the first connecting electrode 144a and the second shorting bars 114 and 114a and the third shorting bar (114a, 114a, 114) connecting at the point where the second shorting bar (114a, 114) and the third shorting bar (116) cross each other. Third connection electrode pattern parts 144 and 146 including second connection electrodes 144b connecting to each other at points 116 parallel to each other are formed. The first shorting bars 110 connected to the second shorting bars 114 and 114a and the contact holes 110a are formed on the outer sides of the organic light emitting display panels. As such, the anode, the connection electrode pattern part including the first to third connection electrode pattern parts 140, 142, 144, and 146, and the first shorting bar 110 are formed of a transparent electrode material on the mother substrate 100. The transparent electrode material may be formed of materials such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and antimony tin oxide (ATO).

도 9를 참조하면, 양극(222)이 형성된 모기판 상에 뱅크 절연막(230)이 형성되며, 뱅크 절연막(230)을 관통하는 뱅크홀(235), 유기층(232), 음극(234)을 포함하는 유기 전계 발광 소자가 형성된다. 유기층은 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 수송층을 포함한다. Referring to FIG. 9, a bank insulating layer 230 is formed on a mother substrate on which an anode 222 is formed, and includes a bank hole 235, an organic layer 232, and a cathode 234 penetrating through the bank insulating layer 230. An organic electroluminescent element is formed. The organic layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron transport layer.

이상의 설명은 본 발명을 예시적으로 설명한 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 명세서에 개시된 실시 예들은 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 특허청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석해야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the present invention, and various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the specification of the present invention are not intended to limit the present invention. The scope of the present invention should be construed according to the following claims, and all the techniques within the scope of equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.

100 : 모기판 102 : 표시 영역
110 : 제1 쇼팅바 112 : 스크라이빙 라인
114a,114 : 제2 쇼팅바 116 : 제3 쇼팅바
130,132,134,136,138,150,152,154,156; 정전기 방지 패턴부
120,122: 테스트 패턴부
140,142,144,146 : 연결전극 패턴부
100: mother substrate 102: display area
110: first shorting bar 112: scribing line
114a, 114: second shorting bar 116: third shorting bar
130,132,134,136,138,150,152,154,156; Antistatic pattern part
120,122: test pattern part
140,142,144,146: connecting electrode pattern portion

Claims (9)

게이트 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 기준 전압 라인 및 에미션 라인과 접속된 화소들이 매트릭스 형태로 배치되며, 상기 각 화소에 유기 전계 발광 소자를 포함하는 다수의 유기전계발광 표시패널들과, 상기 다수의 유기전계발광 패널들의 제조 공정 중에 발생하는 정전기를 각 라인에 분산시켜 등전위로 만들어 정전기를 방지하는 다수의 쇼팅바들과, 각각의 유기전계발광 표시패널을 절단하기 위한 스크라이빙 라인을 포함하는 유기전계발광 표시패널의 모기판에 있어서,
상기 다수의 쇼팅바는
상기 다수의 유기전계발광 표시패널들의 외곽 영역에 형성되며, 상기 유기 전계 발광 소자의 양극과 동일 재질로 동일층에 형성되는 제1 쇼팅바와;
상기 유기전계발광 표시패널의 표시 영역을 둘러싸도록 형성되며, 상기 게이트 라인으로 형성되는 제2 쇼팅바와;
상기 제2 쇼팅바와 메쉬(Mesh)형으로 이루어지도록 교차하도록 접속되며, 상기 데이터 라인으로 형성되는 제3 쇼팅바를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판.
Pixels connected to gate lines, data lines, power lines, reference voltage lines, and emission lines are arranged in a matrix, and each of the plurality of organic light emitting display panels includes an organic electroluminescent element; The organic light emitting panel includes a plurality of shorting bars for preventing static electricity by distributing static electricity generated during the manufacturing process of the organic light emitting panels of each organic light line to equipotential, and a scribing line for cutting each organic light emitting display panel. In the mother substrate of the electroluminescent display panel,
The plurality of shorting bars
A first shorting bar formed in an outer region of the plurality of organic light emitting display panels and formed on the same layer as the anode of the organic light emitting diode;
A second shorting bar formed to surround the display area of the organic light emitting display panel and formed of the gate line;
And a third shorting bar connected to the second shorting bar so as to have a mesh shape and formed of the data line.
제1항에 있어서,
상기 각각의 유기전계발광 표시패널은 상기 다수의 화소들을 포함하는 표시 영역과,
상기 유기전계발광 표시패널들이 공정 중에 발생되는 정전기를 방지하기 위한 다수의 정전기 방지 패턴들과, 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인으로 검사 신호를 인가하여 상기 표시 영역의 소자들의 점등 검사를 하기 위한 테스트 패드부 및 상기 쇼팅바들이 형성된 비표시 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판.
The method of claim 1,
Each of the organic light emitting display panels includes: a display area including the plurality of pixels;
The organic light emitting display panels apply a plurality of antistatic patterns to prevent static electricity generated during the process and a test signal applied to the gate line, the data line, and the emission line to test the lighting of the devices of the display area. And a non-display area in which the test pad unit and the shorting bars are formed.
제2항에 있어서,
상기 제3 쇼팅바와 연결된 연결 라인들을 더 포함하며, 상기 연결 라인들은 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인 각각과 연결 전극 패턴부를 통해 연결되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판.
The method of claim 2,
And a connection line connected to the third shorting bar, wherein the connection lines are connected to each of the gate line, the data line, and the emission line through a connection electrode pattern unit.
제3항에 있어서,
상기 연결 전극 패턴부는 제1 내지 제3 연결 전극 패턴부를 포함하며,
상기 제1 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 에미션 라인이 연결해주는 제1 연결전극과, 상기 연결 라인과 게이트 라인과 연결해주는 제2 연결전극을 포함하며,
상기 제2 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 데이터 라인을 연결해주는 제1 연결 전극을 포함하며,
상기 제3 연결 전극 패턴부는 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 교차하는 지점에서 서로 연결해주는 제1 연결 전극과, 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 평행하는 지점에서 서로 연결해주는 제2 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판.
The method of claim 3,
The connection electrode pattern part includes first to third connection electrode pattern parts,
The first connection electrode pattern portion includes a first connection electrode connecting the connection line and the emission line, and a second connection electrode connecting the connection line and the gate line.
The second connection electrode pattern part includes a first connection electrode connecting the connection line and the data line.
The third connecting electrode pattern part may be connected to each other at a point where the second shorting bar and the third shorting bar are connected to each other at a point where the second shorting bar and the third shorting bar cross each other. A mother substrate of an organic light emitting display panel comprising two connecting electrodes.
제3항에 있어서,
상기 정전기 방지 패턴들은 상기 각 연결 라인에 다수의 제너 다이오드로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판.
The method of claim 3,
And the antistatic patterns are formed of a plurality of zener diodes on each of the connection lines.
제3항에 있어서,
상기 정전기 방지 패턴들은 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인 각각에 다수의 다이오드로 형성된 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판.
The method of claim 3,
The antistatic patterns may be formed of a plurality of diodes on each of the gate line, the data line, and the emission line, the mother substrate of the organic light emitting display panel.
게이트 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 기준 전압 라인 및 에미션 라인과 접속된 화소들이 매트릭스 형태로 배치되며, 상기 각 화소에 유기 전계 발광 소자를 포함하는 다수의 유기전계발광 표시패널들과, 상기 다수의 유기전계발광 표시패널들의 외곽 영역에 형성되는 제1 쇼팅바와, 상기 유기전계발광 표시패널의 표시 영역을 둘러싸도록 형성되는 제2 쇼팅바와, 상기 제2 쇼팅바와 메쉬(Mesh)형으로 이루어지도록 교차하도록 형성되는 제3 쇼팅바를 포함하는 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조 방법에 있어서,
상기 모기판의 유기전계발광 표시패널의 화소들에 다수의 박막 트랜지스터가 형성되며, 상기 게이트 라인과 동일 재질로 제2 쇼팅바와, 상기 데이터 라인과 동일 재질로 제3 쇼팅바와, 상기 게이트 라인 또는 상기 데이터 라인으로 형성된 연결 라인들을 형성하는 단계와;
상기 박막 트랜지스터와, 제2 쇼팅바, 상기 제3 쇼팅바, 상기 연결 라인들이 형성된 모기판 상에 다수의 컨택홀을 포함하는 보호막을 형성하는 단계와;
상기 유기 전계 발광 소자의 양극과, 상기 제1 쇼팅바와, 상기 연결 라인들과 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 에미션 라인을 연결하며, 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바를 연결 전극 패턴부들 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조방법.
Pixels connected to gate lines, data lines, power lines, reference voltage lines, and emission lines are arranged in a matrix, and each of the plurality of organic light emitting display panels includes an organic electroluminescent element; A first shorting bar formed in an outer region of the organic light emitting display panels of the organic light emitting display panel, a second shorting bar formed to surround the display area of the organic light emitting display panel, and the second shorting bar and a mesh type. In the manufacturing method of the mother substrate of the organic light emitting display panel comprising a third shorting bar formed so as to,
A plurality of thin film transistors are formed in the pixels of the organic light emitting display panel of the mother substrate, the second shorting bar made of the same material as the gate line, the third shorting bar made of the same material as the data line, the gate line or the Forming connection lines formed of data lines;
Forming a passivation layer including a plurality of contact holes on the thin film transistor, the second shorting bar, the third shorting bar, and the mother substrate on which the connection lines are formed;
Connecting the anode of the organic light emitting diode, the first shorting bar, the connection lines, the gate line, the data line, and the emission line, and forming the connection electrode pattern portions between the second shorting bar and the third shorting bar. A method of manufacturing a mother substrate of an organic light emitting display panel comprising the step of.
제7항에 있어서,
상기 제1 쇼팅바가 형성되기 이전 공정까지 상기 제1 쇼팅바와 상기 제2 쇼팅바는 서로 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조방법.
The method of claim 7, wherein
The first shorting bar and the second shorting bar is formed to be spaced apart from each other until the process before the first shorting bar is formed.
제7항에 있어서,
상기 연결 전극 패턴부는 제1 내지 제3 연결 전극 패턴부를 포함하며,
상기 제1 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 에미션 라인이 연결해주는 제1 연결전극과, 상기 연결 라인과 게이트 라인과 연결해주는 제2 연결전극을 포함하며,
상기 제2 연결 전극 패턴부는 상기 연결 라인과 상기 데이터 라인을 연결해주는 제1 연결 전극을 포함하며,
상기 제3 연결 전극 패턴부는 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 교차하는 지점에서 서로 연결해주는 제1 연결 전극과, 상기 제2 쇼팅바와 상기 제3 쇼팅바가 서로 평행하는 지점에서 서로 연결해주는 제2 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광 표시패널의 모기판의 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
The connection electrode pattern part includes first to third connection electrode pattern parts,
The first connection electrode pattern portion includes a first connection electrode connecting the connection line and the emission line, and a second connection electrode connecting the connection line and the gate line.
The second connection electrode pattern part includes a first connection electrode connecting the connection line and the data line.
The third connecting electrode pattern part may be connected to each other at a point where the second shorting bar and the third shorting bar are connected to each other at a point where the second shorting bar and the third shorting bar cross each other. 2. A method of manufacturing a mother substrate of an organic light emitting display panel comprising a connecting electrode.
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