KR20150060704A - Coating device and coating method - Google Patents

Coating device and coating method Download PDF

Info

Publication number
KR20150060704A
KR20150060704A KR1020157006929A KR20157006929A KR20150060704A KR 20150060704 A KR20150060704 A KR 20150060704A KR 1020157006929 A KR1020157006929 A KR 1020157006929A KR 20157006929 A KR20157006929 A KR 20157006929A KR 20150060704 A KR20150060704 A KR 20150060704A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating liquid
slit
temperature
coating
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020157006929A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102110628B1 (en
Inventor
겐지 하야시다
요시유키 기타무라
히로시 가와타케
유키히코 오시모
고이치 무라오
Original Assignee
토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 filed Critical 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드
Publication of KR20150060704A publication Critical patent/KR20150060704A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102110628B1 publication Critical patent/KR102110628B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1007—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/001—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work incorporating means for heating or cooling the liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1015—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to a conditions of ambient medium or target, e.g. humidity, temperature ; responsive to position or movement of the coating head relative to the target
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1042—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material provided with means for heating or cooling the liquid or other fluent material in the supplying means upstream of the applying apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0208—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to separate articles

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

점도가 비교적 높은 도포액을 기판에 대해 도포하는 경우라도, 도막을 기판 상에 고정밀도로, 또한 고속으로 형성한다. 구체적으로는, 도포 장치(1)는 도포액을 저류하는 탱크(9)와, 이 탱크(9)로부터 공급된 도포액을 토출하는 슬릿(21)이 형성되어 있는 노즐(3)을 구비하고, 슬릿(21)으로부터 도포액을 토출함으로써 기판에 대해 도포액을 도포한다. 도포 장치(1)는, 탱크(9)로부터 공급된 도포액을 승온시키는 승온부(30)와, 이 승온부에 의해 승온시킨 도포액을 슬릿(21)으로부터 토출하기 전에, 이 도포액의 온도를 균일화시키는 균온부(40)를 구비하고 있다.Even when the coating liquid having a relatively high viscosity is applied to the substrate, the coating film is formed on the substrate with high accuracy and at high speed. Specifically, the coating apparatus 1 includes a tank 9 for storing a coating liquid, and a nozzle 3 having slits 21 for discharging the coating liquid supplied from the tank 9, The coating liquid is applied to the substrate by discharging the coating liquid from the slit (21). The coating device 1 is provided with a temperature increasing section 30 for increasing the temperature of the coating liquid supplied from the tank 9 and a temperature sensor for detecting the temperature of the coating liquid before discharging the coating liquid heated by the temperature rising section from the slit 21. [ (40) for uniformizing the temperature of the gas.

Figure P1020157006929
Figure P1020157006929

Description

도포 장치 및 도포 방법 {COATING DEVICE AND COATING METHOD}[0001] COATING DEVICE AND COATING METHOD [0002]

본 발명은, 노즐에 형성되어 있는 슬릿으로부터 도포액을 토출함으로써 기판에 대해 도포액을 도포하는 도포 장치 및 도포 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a coating liquid on a substrate by discharging a coating liquid from a slit formed in a nozzle.

글래스 기판이나 필름 등의 기판에 대해 도포액을 도포하는 장치로서, 도포액을 토출하는 슬릿이 형성된 노즐을 구비하고 있는 도포 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 도포 장치는, 도포액을 저류하는 탱크와, 이 탱크 내의 도포액을 노즐의 슬릿까지 공급하기 위한 펌프를 구비하고 있다.2. Description of the Related Art An apparatus for applying a coating liquid to a substrate such as a glass substrate or a film has a nozzle provided with a slit for discharging a coating liquid (for example, refer to Patent Document 1). This coating apparatus is provided with a tank for storing the coating liquid and a pump for supplying the coating liquid in the tank to the slit of the nozzle.

슬릿은 기판의 폭 방향을 따라 길게 형성되어 있고, 예를 들어 스테이지 상에 적재된 기판에 대해 노즐을 수평 이동시키면서, 슬릿으로부터 도포액을 토출함으로써 기판의 표면에 도포액의 박막(도막)을 형성할 수 있다.The slit is formed long along the width direction of the substrate. For example, a thin film (coating film) of the coating liquid is formed on the surface of the substrate by discharging the coating liquid from the slit while moving the nozzle horizontally with respect to the substrate placed on the stage can do.

이러한 도포 장치를 사용하여, 점도가 비교적 높은 도포액을 기판에 대해 도포 개시하는 경우, 펌프로부터 노즐까지의 수지제 배관 및 노즐 내의 슬릿에 있어서의 저항에 의해, 펌프의 동작 개시에 대해 도포액의 흐름 및 슬릿으로부터의 도포액의 토출 동작에 지연이 발생하고, 이 지연에 의해 도포 개시시에 도막 두께가 저하되어 도포 품질에 영향을 미친다.When applying the coating liquid having a relatively high viscosity to the substrate using such a coating apparatus, the resin piping from the pump to the nozzle and the resistance in the slit in the nozzle cause the coating liquid A delay occurs in the discharge operation of the coating liquid from the flow and the slit, and the coating film thickness decreases at the start of coating due to this delay, thereby affecting the coating quality.

또한, 점도가 비교적 높은 도포액을 고속으로 도포하기 위해, 펌프로부터의 도포액의 공급 속도를 높게 하면, 노즐 내의 슬릿에서 저항이 커져, 내압이 높아진다. 이 내압의 높아짐에 의해, 가늘고 긴 직선 형상인 슬릿이 가늘고 긴 북 형상으로 변형되고, 슬릿의 길이 방향(폭 방향) 중앙부로부터 토출된 도포액에 의한 막 두께가, 단부의 막 두께보다도 두꺼워져, 막 두께가 폭 방향으로 서로 다른 결과로 되어, 막 두께의 정밀도가 대폭 저하되어 버린다. 또한, 점도가 높은 도포액과 점도가 낮은 도포액으로 각각 동일한 두께의 도막을 형성하기 위해서는, 점도가 높은 도포액의 쪽이 점도가 낮은 도포액보다도 도포 속도(노즐의 이동 속도)를 낮게 하지 않으면, 이러한 도막을 형성할 수 없다고 하는 원리적인 문제도 있다.In addition, if the supply speed of the coating liquid from the pump is increased so as to apply the coating liquid having a relatively high viscosity at a high speed, the resistance at the slit in the nozzle increases and the withstand voltage increases. As a result of this increase in internal pressure, the slit, which is in the shape of an elongated straight line, is deformed into a slender and long drum shape and the film thickness of the coating liquid discharged from the central portion in the longitudinal direction (width direction) of the slit becomes thicker than the film thickness of the end portion, The film thicknesses are different from each other in the width direction, and the accuracy of the film thickness is significantly lowered. In order to form a coating film having the same thickness with a coating liquid having a higher viscosity and a coating liquid having a lower viscosity, it is preferable that the coating liquid having a higher viscosity is used for a coating liquid having a lower viscosity than a coating liquid having a lower viscosity , There is a fundamental problem that such a coating film can not be formed.

따라서, 점도가 비교적 높은 도포액을 기판에 대해 도포하는 경우, 도포 품질의 확보를 제1 우선으로 하면, 도포액의 공급 속도를 낮추어, 노즐의 이동 속도를 낮출 필요가 있다고 생각된다. 도포액의 공급 속도(도포액의 유속)를 낮게 하면, 유로의 저항을 작게 할 수 있어, 상기한 바와 같은 지연의 발생이나 폭 방향의 막 두께 정밀도의 저하를 억제하는 것이 가능해진다.Therefore, when the coating liquid having a relatively high viscosity is applied to the substrate, it is considered necessary to reduce the feeding speed of the coating liquid and to reduce the moving speed of the nozzle by setting the quality of the coating first as the first priority. When the supply rate of the coating liquid (the flow rate of the coating liquid) is made low, the resistance of the flow path can be made small, and it is possible to suppress the occurrence of the above-described delay and the decrease in the film thickness accuracy in the width direction.

또한, 다른 수단으로서, 도포액의 공급 속도를 낮추지 않고 노즐까지의 배관 직경을 크게 하고, 또한 슬릿의 간극량(평행한 간극의 폭)을 크게 함으로써, 유로의 저항을 작게 하여, 상기한 바와 같은 지연의 발생이나 슬릿의 변형에 의한 폭 방향의 막 두께 정밀도의 저하를 억제하는 것이 가능해진다.As another means, by increasing the pipe diameter to the nozzle without lowering the supply rate of the coating liquid and increasing the gap amount (width of the parallel gap) of the slit, the resistance of the flow path is reduced, It is possible to suppress deterioration in film thickness accuracy in the width direction due to occurrence of delay or deformation of the slit.

일본 특허 공개 제2000-157906호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-157906

그러나, 상기한 바와 같이, 도포액의 공급 속도를 늦추어, 노즐의 이동 속도를 늦춘 경우, 도포 시간이 증가하게 되어 생산성이 손상되어 버린다.However, as described above, when the feeding speed of the coating liquid is slowed down and the moving speed of the nozzle is slowed down, the coating time is increased and the productivity is impaired.

또한, 상기한 바와 같이, 노즐까지의 배관 직경을 크게 하면, 예를 들어 배관을 U자형으로 구부릴 필요가 있는 경우에 그 곡률 반경을 크게 설정할 필요가 있고, 또한 배관을 위한 조인트 등도 크게 할 필요가 있어, 펌프로부터 노즐까지의 설비가 대형화되어 버린다. 그리고, 유로 저항을 작게 하기 위해 노즐의 슬릿의 간극량을 지나치게 크게 하면, 슬릿으로부터 도포액이 균일하게 토출되지 않게 되어 버려, 기판 상에 형성되는 도막의 폭 방향의 막 두께 정밀도가 저하되어, 도포 품질을 현저하게 저하시킨다.Further, as described above, when the diameter of the pipe to the nozzle is made large, for example, when it is necessary to bend the pipe into a U-shape, it is necessary to set the radius of curvature to be large and also it is necessary to increase the joint for the pipe And the facilities from the pump to the nozzle become larger. If the gap amount of the slit of the nozzle is excessively increased in order to reduce the flow path resistance, the coating liquid is not uniformly discharged from the slit, and the film thickness precision in the width direction of the coating film formed on the substrate is lowered, Thereby significantly degrading the quality.

이상의 문제는 도포액의 점도가 높아짐으로써 발생한다. 따라서 도포액을 가열하고 온도를 높게 하여 점도를 낮추면, 이상의 문제는 방지된다. 또한 점도가 저하됨으로써, 동일한 막 두께를 얻기 위해, 도포 속도를 향상시킬 수 있다고 하는 효과도 발생한다. 단, 도포액이 균일하게 가열되지 않고, 온도 불균일에 의해 점도 불균일이 존재하면, 슬릿으로부터 폭 방향으로 도포액이 균일하게 토출되지 않게 되어, 폭 방향의 막 두께 정밀도가 저하되어, 도포 품질이 손상되어 버린다.The above problem is caused by the viscosity of the coating liquid being increased. Therefore, if the coating liquid is heated and the temperature is raised to lower the viscosity, the above problems can be prevented. Further, since the viscosity is lowered, an effect that the coating speed can be improved in order to obtain the same film thickness also occurs. However, if the coating liquid is not uniformly heated and there is viscosity unevenness due to temperature unevenness, the coating liquid is not uniformly discharged from the slit in the width direction, and the film thickness accuracy in the width direction is lowered, .

따라서, 본 발명의 목적은, 점도가 비교적 높은 도포액을 기판에 대해 도포하는 경우라도, 도포액에 의한 박막(도막)을 기판 상에 고정밀도로, 또한 고속으로 형성하는 것에 있다.Therefore, an object of the present invention is to form a thin film (coating film) on a substrate with high accuracy and at a high speed even when a coating liquid having a relatively high viscosity is applied to a substrate.

본 발명은, 도포액을 저류하는 탱크와, 이 탱크로부터 공급된 도포액을 토출하는 슬릿이 형성되어 있는 노즐을 구비하고, 당해 슬릿으로부터 도포액을 토출함으로써 기판에 대해 도포액을 도포하는 도포 장치이며, 상기 탱크로부터 공급된 상기 도포액을 승온시키는 승온부와, 상기 승온부에 의해 승온시킨 도포액을 상기 슬릿으로부터 토출하기 전에, 당해 도포액의 온도를 균일화시키는 균온부를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a coating apparatus for coating a coating liquid on a substrate by discharging the coating liquid from the slit, comprising a tank for storing the coating liquid and a nozzle having a slit for discharging the coating liquid supplied from the tank, A temperature raising section for raising the temperature of the coating liquid supplied from the tank and a temperature section for equalizing the temperature of the coating liquid before discharging the coating liquid heated by the temperature raising section from the slit do.

본 발명에 따르면, 점도가 비교적 높은 도포액을 기판에 대해 도포하는 경우라도, 탱크로부터 공급된 도포액을 승온시킴으로써, 슬릿으로부터 토출되는 도포액의 점도를 낮추어, 흐르는 도포액의 저항을 작게 할 수 있다. 또한, 슬릿으로부터 토출되는 도포액에, 그 슬릿의 길이 방향에 대해 온도차(온도 불균일)가 발생되어 있는 경우, 점도 불균일에 의한 막 두께 불균일이 발생해 버리지만, 본 발명에 의하면, 승온시킨 도포액을 슬릿으로부터 토출하기 전에, 이 도포액의 온도를 균일화시킴으로써 점도도 낮은 값으로 균일화시킬 수 있으므로, 기판 상에 균일한 두께의 도막을 형성할 수 있다. 이 결과, 도막을 기판 상에 고정밀도로 형성하는 것이 가능해진다. 또한 점도가 낮아짐으로써, 보다 고속으로 도포하는 것도 가능해진다.According to the present invention, even when a coating liquid having a relatively high viscosity is applied to a substrate, the viscosity of the coating liquid discharged from the slit can be lowered by raising the temperature of the coating liquid supplied from the tank to reduce the resistance of the flowing coating liquid have. In addition, when a temperature difference (temperature variation) is generated in the coating liquid discharged from the slit in the longitudinal direction of the slit, unevenness in the film thickness due to unevenness in viscosity occurs, but according to the present invention, The viscosity can be made uniform to a low value by homogenizing the temperature of the coating liquid before discharging the coating liquid from the slit, so that a coating film having a uniform thickness can be formed on the substrate. As a result, it becomes possible to form the coating film on the substrate with high accuracy. Further, since the viscosity is lowered, it is possible to coat at a higher speed.

또한, 상기 균온부는, 가열 수단과, 상기 승온부에 의해 승온시킨 도포액을 흘리는 유로이며, 도포액의 흐름 방향에 직교하는 유로 단면이 적어도 일방향으로 좁아져 있는 열전달용 유로를 갖고, 상기 가열 수단에 의해 발생시킨 열을, 상기 열전달용 유로를 흐르는 도포액에 전달시켜, 상기 승온부에 의해 승온시킨 도포액의 온도를 균일화시키는 것이 바람직하다.The heating section has a heating means and a heat transfer passage for flowing a coating liquid heated by the temperature rising section and having a flow passage cross section perpendicular to the flow direction of the coating liquid narrowed in at least one direction, Is transferred to the coating liquid flowing through the heat transfer passage so that the temperature of the coating liquid heated by the temperature raising unit is made uniform.

이 경우, 승온부에 의해 승온시킨 도포액은, 유로 단면이 좁아져 있는 열전달용 유로를 흐르고, 이 열전달용 유로를 흐르는 도포액에, 가열 수단에 의해 발생시킨 열을 유로 단면이 좁아져 있는 일방향으로 전달시켜, 도포액의 온도를 도포액 내부까지 균일화시킨다. 이와 같이, 유로 단면이 좁아지는 열전달용 유로를 도포액이 흐를 때, 열전달이 행해지므로, 도포액의 온도를 폭 방향뿐만 아니라, 내부까지 균일화시키기 쉽다.In this case, the coating liquid that has been heated by the temperature rising portion flows through the heat transfer passage having a narrowed cross-section of the flow passage, and heat generated by the heating means is supplied to the coating liquid flowing through the heat transfer passage in one direction And the temperature of the coating liquid is uniformed to the inside of the coating liquid. As described above, since the heat transfer is performed when the coating liquid flows through the heat transfer passage where the flow path cross-section is narrowed, the temperature of the coating liquid can be uniformized not only in the width direction but also inside.

또한, 상기 열전달용 유로는, 상기 슬릿과는 다른 유로이며, 상기 열전달용 유로와 상기 슬릿 사이에는, 도포액을 저류하는 확대 공간 유로가 형성되어 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the heat transfer passage is a flow passage different from the slit, and an enlarged space passage for storing the coating solution is formed between the heat transfer passage and the slit.

이 경우, 온도를 균일화한 도포액을, 일단, 확대 공간 유로에 저류하여 온도를 유지하면서, 보다 균일하게 분배할 수 있고, 그리고 이 도포액을, 확대 공간 유로로부터 슬릿으로 흘려 토출시킬 수 있다. 이로 인해, 도막을 기판 상에 보다 고정밀도로 균일하게 형성할 수 있다.In this case, the coating liquid having a uniform temperature can be uniformly distributed while temporarily retaining the coating liquid in the enlarged space flow path, and the coating liquid can be discharged from the enlarged space flow path to the slit and discharged. As a result, the coating film can be uniformly formed on the substrate with higher precision.

또한, 상기 노즐 내에, 제1 슬릿으로 되는 상기 슬릿, 이 제1 슬릿과 연결되는 제1 매니폴드, 제2 매니폴드, 이들 제1 매니폴드와 제2 매니폴드를 연결하고 있는 제2 슬릿이 형성되어 있고, 상기 제2 슬릿이 상기 열전달용 유로로서 상기 노즐 내에 형성되고, 상기 가열 수단은, 상기 노즐을 가열하는 것이 바람직하다.In the nozzle, a slit serving as a first slit, a first manifold connected to the first slit, a second manifold, and a second slit connecting the first manifold and the second manifold are formed And the second slit is formed in the nozzle as the heat transfer passage, and the heating means heats the nozzle.

이 경우, 노즐에 균온부가 설치된 구성으로 되어, 노즐에 있어서 도포액의 온도를 균일화시켜, 온도가 균일화된 도포액을 제1 슬릿으로부터 토출한다.In this case, there is provided a uniform temperature portion in the nozzle, and the temperature of the coating liquid in the nozzle is made uniform, and the coating liquid having the uniform temperature is discharged from the first slit.

또한, 본 발명은 탱크로부터 공급된 도포액을 토출시키는 슬릿이 형성되어 있는 노즐을 구비한 도포 장치에 의해 행해지고, 당해 슬릿으로부터 도포액을 토출시킴으로써 기판에 대해 도포액을 도포하는 도포 방법이며, 상기 탱크로부터 공급된 상기 도포액을 승온시키고, 이 승온시킨 도포액을 상기 슬릿으로부터 토출하기 전에, 당해 도포액의 온도를 균일화시키는 것을 특징으로 한다.Further, the present invention is a coating method for coating a coating liquid on a substrate by discharging a coating liquid from the slit by a coating apparatus having a nozzle provided with a slit for discharging a coating liquid supplied from a tank, The temperature of the coating liquid supplied from the tank is raised and the temperature of the coating liquid is made uniform before discharging the heated coating liquid from the slit.

본 발명에 따르면, 상기 도포 장치와 마찬가지의 작용 효과를 발휘하는 것이 가능해진다.According to the present invention, it is possible to exhibit the same operational effect as that of the above-described coating device.

본 발명에 따르면, 점도가 비교적 높은 도포액을 기판에 대해 도포하는 경우라도, 탱크로부터 공급된 도포액을 승온시킴으로써, 슬릿으로부터 토출되는 도포액의 점도를 낮추어, 흐르는 도포액의 저항을 작게 할 수 있고, 또한 이 승온시킨 도포액을 슬릿으로부터 토출하기 전에, 이 도포액의 온도를 균일화시킴으로써 점도도 낮은 값으로 균일화시켜, 이에 의해 기판 상에 균일한 두께의 도막을 고속으로 형성할 수 있다. 이 결과, 도막을 기판 상에 고정밀도로 균일하게, 또한 고속 도포에 의한 높은 생산성으로 형성하는 것이 가능해진다.According to the present invention, even when a coating liquid having a relatively high viscosity is applied to a substrate, the viscosity of the coating liquid discharged from the slit can be lowered by raising the temperature of the coating liquid supplied from the tank to reduce the resistance of the flowing coating liquid And the viscosity of the coating liquid is made uniform by uniformizing the temperature of the coating liquid before discharging the heated coating liquid from the slit, whereby a coating film having a uniform thickness can be formed on the substrate at high speed. As a result, it becomes possible to form the coating film uniformly on the substrate with high accuracy and with high productivity by high-speed coating.

도 1은 본 발명의 도포 장치의 실시 일 형태를 도시하는 개략도이다.
도 2는 노즐 및 액 공급부 등의 구성을 설명하는 개략 설명도로, 노즐의 길이 방향에 직교하는 단면에 의해 노즐 내부를 나타내고 있다.
도 3은 노즐의 길이 방향에 직교하는 단면도이다. 1 is a schematic view showing an embodiment of a coating device of the present invention.
2 is a schematic view for explaining the configuration of the nozzle and the liquid supply unit, and shows the inside of the nozzle by a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the nozzle.
3 is a cross-sectional view perpendicular to the longitudinal direction of the nozzle.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 기초하여 설명한다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

〔도포 장치의 구성에 대해〕[Configuration of Coating Apparatus]

도 1은, 본 발명의 도포 장치(1)의 일 실시 형태를 도시하는 개략도이다. 이 도포 장치(1)는, 글래스 등의 기판(W)을 적재 가능한 스테이지(2)와, 슬릿(21)이 내부에 형성되어 있는 노즐(3)과, 스테이지(2) 상의 기판(W)에 대한 노즐(3)의 수평 이동(X 방향 이동)과 수직 이동(Z 방향 이동)을 독립적으로 자유롭게 행하게 하는 구동 장치(4)를 구비하고 있다. 또한, 이 도포 장치(1)는, 액 공급부로서, 도포액을 저류하는 탱크(9)와, 탱크(9) 내의 도포액을 노즐(3)에 공급하기 위한 펌프(8) 등으로 이루어지는 송액 수단을 더 구비하고 있다. 펌프(8)와 노즐(3) 사이에는, 도포액의 유로를 구성하는 수지제의 배관(튜브)(17)이 설치되어 있다.1 is a schematic view showing an embodiment of a coating device 1 of the present invention. This coating apparatus 1 is provided with a stage 2 on which a substrate W such as a glass can be loaded, a nozzle 3 in which a slit 21 is formed and a substrate W on a stage 2 And a driving device 4 for freely performing horizontal movement (X-direction movement) and vertical movement (Z-direction movement) of the nozzle 3 freely. The coating device 1 is provided with a tank 9 for storing a coating liquid and a liquid supply means 8 including a pump 8 for supplying the coating liquid in the tank 9 to the nozzle 3, Respectively. Between the pump 8 and the nozzle 3, a resin pipe (tube) 17 constituting a flow path of the coating liquid is provided.

본 실시 형태에서는, 탱크(9) 내의 도포액은 상온[도포 장치(1)가 설치되어 있는 실내의 온도]에 있다. 또한, 이 도포 장치(1)에 의해 도포를 행하는 도포액은, 상온에서, 비교적 점도가 높은 액체이다. 도포액으로서는 예를 들어, 평탄화막용의 폴리이미드 용액, 플라즈마 디스플레이 배면판의 격벽을 형성하는 글래스 입자를 함유한 격벽용 분산액 등이 있다. 여기서 말하는 비교적 높은 점도라 함은, 100mPas 이상을 말한다.In the present embodiment, the coating liquid in the tank 9 is at room temperature (the temperature of the room in which the coating device 1 is installed). The coating liquid to be coated by the coating device 1 is a liquid having a relatively high viscosity at room temperature. Examples of the coating liquid include a polyimide solution for a planarizing film, a dispersion for barrier ribs containing glass particles forming partition walls of a plasma display back plate, and the like. The relatively high point referred to herein means at least 100 mPas.

이 도포 장치(1)에 의하면, 펌프(8)가 탱크(9) 내의 도포액을 노즐(3)에 공급하고, 구동 장치(4)에 의해 노즐(3)을 수직으로 하강시켜 선단부(23)와 기판(W) 사이의 평행 간극이 소정의 값으로 되도록 한 후에, 노즐(3)을 수평 이동시키면서, 슬릿(21)으로부터 도포액을 토출함으로써, 기판(W) 상에 도포액에 의한 박막(도막)(M)을 형성하고, 도포액을 도포할 수 있다. 이로 인해, 노즐(3)의 이동 방향이 도포 방향(X 방향)으로 된다.According to this coating device 1, the pump 8 supplies the coating liquid in the tank 9 to the nozzle 3, and the nozzle 3 is vertically lowered by the driving device 4, The coating liquid is ejected from the slit 21 while horizontally moving the nozzle 3 so that the parallel gap between the substrate W and the substrate W becomes a predetermined value, (Coating film) M can be formed, and the coating liquid can be applied. As a result, the moving direction of the nozzle 3 becomes the coating direction (X direction).

또한, 이 도포 장치(1)는, 도포 장치(1)의 각 부의 동작을 제어하는 제어 장치(5)를 구비하고 있고, 제어 장치(5)는 상기한 노즐(3)의 이동 외에, 도포액을 기판(W)에 토출하는 도포 동작의 제어를 행한다.The coating device 1 is provided with a control device 5 for controlling the operation of each part of the application device 1. The control device 5 is capable of controlling the operation of each part of the application device 1, To the substrate (W).

도 2는, 노즐(3) 및 상기 액 공급부 등의 구성을 설명하는 개략 설명도로, 노즐(3)을 길이 방향의 도중에서 절단하고, 그 길이 방향에 직교하는 단면에 의해 노즐 내부를 나타내고 있다. 또한, 노즐(3)의 길이 방향은, 폭 방향과 일치한다. 노즐(3)의 내부에 형성되어 있는 상기 슬릿(21)은, 그 노즐(3)의 폭 방향으로 길게, 노즐(3)의 선단[노즐(3)의 하단부]인 선단부(23)에서 개구되어 있다. 슬릿(21)의 간극량 B는, 노즐(3)의 폭 방향을 따라 일정하다. 또한, 노즐(3)의 폭 방향은, 도포 방향(X 방향)과 직교하는 수평 방향(Y 방향)이며, 슬릿(21)의 간극량 B는, 슬릿(21)을 X 방향으로 측정한 치수이다. 노즐(3) 전체는 금속제이며, 높은 열전도성을 갖고 있다.2 schematically illustrates the structure of the nozzle 3 and the liquid supply portion. The nozzle 3 is cut in the longitudinal direction, and the inside of the nozzle is shown by a cross section perpendicular to the longitudinal direction. The longitudinal direction of the nozzle 3 coincides with the width direction. The slit 21 formed inside the nozzle 3 is opened at the tip end 23 of the nozzle 3 (the lower end of the nozzle 3), which is long in the width direction of the nozzle 3 have. The gap amount B of the slit 21 is constant along the width direction of the nozzle 3. The widthwise direction of the nozzle 3 is a horizontal direction (Y direction) perpendicular to the application direction (X direction), and the gap amount B of the slit 21 is a dimension measured in the X direction of the slit 21 . The entire nozzle 3 is made of metal and has high thermal conductivity.

슬릿(21)은, 도포액의 흐름 방향인 Z 방향으로 보아 가늘고 긴 형상으로 되어 있고, 폭 방향(Y 방향)으로 길고, 도포 방향(X 방향)으로 좁다. 또한, 슬릿(21)은 노즐(3)의 내부에 형성되어 있는 매니폴드(11)와 연결되어 있다. 매니폴드(11)도, 슬릿(21)과 마찬가지로, 폭 방향으로 길게 형성되어 있다.The slit 21 has an elongated shape in the Z direction, which is the flow direction of the coating liquid, and is long in the width direction (Y direction) and narrow in the coating direction (X direction). The slit 21 is connected to the manifold 11 formed inside the nozzle 3. Like the slit 21, the manifold 11 is formed to be long in the width direction.

이 매니폴드(11) 및 슬릿(21)을 통해 도포액이 노즐(3)의 선단으로부터 토출된다. 즉, 슬릿(21)의 하단부의 개구부인 선단부(23)가 도포액의 토출구로 된다. 슬릿(21)이 개구되어 있는 노즐(3)의 선단부(23)는 수평이고, 폭 방향 전체 길이에 걸쳐 직선 형상으로 형성되어 있다.The coating liquid is discharged from the tip of the nozzle 3 through the manifold 11 and the slit 21. That is, the front end 23, which is the opening of the lower end of the slit 21, serves as a discharge port for the coating liquid. The tip end 23 of the nozzle 3, in which the slit 21 is opened, is horizontal and linearly formed over the entire length in the width direction.

또한, 노즐(3) 내에는, 도포액을 흘리기 위한 유로(10)로서, 상기 매니폴드(제1 매니폴드)(11) 및 슬릿(제1 슬릿)(21) 이외에, 이들의 상류측[탱크(9)측]에, 제2 매니폴드(12) 및 제2 슬릿(22)도 형성되어 있다. 즉, 노즐(3) 내에 형성되어 있는 유로(10)는, 도포액의 토출구를 갖는 상기 슬릿(21)인 제1 슬릿, 이 제1 슬릿(21)과 연결되는 제1 매니폴드(11), 상기 제2 매니폴드(12), 이들 제1 매니폴드(11)와 제2 매니폴드(12)를 연결하고 있는 제2 슬릿(22)을 갖고 있다. 이들의 노즐(3) 내에 있어서의 형성 위치는, 도포액이 흐르는 상류측으로부터 차례로 제2 매니폴드(12), 제2 슬릿(22), 제1 매니폴드(11), 제1 슬릿(21)이며, 이 구성에 의해, 2단 매니폴드/2단 슬릿 구조로 된다.In addition to the manifold (first manifold) 11 and the slit (first slit) 21, the upstream side of the manifold (first manifold) 11 and the slit The second manifold 12 and the second slit 22 are also formed on the second manifold side. That is, the flow path 10 formed in the nozzle 3 includes a first slit 21 as the slit 21 having a discharge port for the coating liquid, a first manifold 11 connected to the first slit 21, The second manifold 12 and the second slit 22 connecting the first manifold 11 and the second manifold 12. [ The second manifold 12, the second slit 22, the first manifold 11, the first slit 21, and the second manifold 12 are formed in the nozzle 3 in this order from the upstream side through which the coating liquid flows. . With this configuration, a two-stage manifold / two-stage slit structure is obtained.

제2 매니폴드(12)는, 노즐(3)의 폭 방향을 따라 길게 형성되어 있고, 도 3에 도시하는 바와 같이, 단면 원형의 공간에 의해 구성되어 있고, 본 실시 형태에서는, 노즐(3)의 폭 방향을 따라 단면 형상은 동일하게 되어 있다. 즉, 제2 매니폴드(12)는 원기둥 형상의 공간(구멍)으로 이루어진다.The second manifold 12 is elongated along the width direction of the nozzle 3 and is constituted by a space having a circular section in section as shown in Fig. The cross-sectional shape along the width direction is the same. That is, the second manifold 12 has a cylindrical space (hole).

제2 슬릿(22)은, 제2 매니폴드(12)와 제1 매니폴드(11)에 각각 개구되어 있고, 양자를 연결하는 유로로서 구성되어 있다. 제2 슬릿(22)을 도포액의 흐름 방향인 Z 방향으로 보면, 제2 슬릿(22)은 가늘고 긴 형상으로 되어 있고, 이 가늘고 긴 형상이, 도포액의 흐름 방향에 직교하는 유로 단면의 형상으로 된다. 이 유로 단면은, 폭 방향(Y 방향)으로 길고, 도포 방향(X 방향)으로 좁다. 그리고, 제2 슬릿(22)은 제2 매니폴드(12)와 동일한 폭 치수를 갖고 있다. 이에 의해, 제2 슬릿(22)에서는 도포액이, 제2 매니폴드(12)로부터 제1 매니폴드(11)를 향해 Z 방향으로 보내진다.The second slit 22 is opened in the second manifold 12 and the first manifold 11, respectively, and is constituted as a flow path connecting them. When the second slit 22 is viewed in the Z direction which is the flow direction of the coating liquid, the second slit 22 has a slender shape, and this elongated shape corresponds to the shape of the flow path cross section perpendicular to the flow direction of the coating liquid . The flow path section is long in the width direction (Y direction) and narrow in the coating direction (X direction). The second slit 22 has the same width dimension as that of the second manifold 12. Thus, in the second slit 22, the coating liquid is sent from the second manifold 12 toward the first manifold 11 in the Z direction.

제1 매니폴드(11)는, 상기한 바와 같이, 노즐(3)의 폭 방향을 따라 길게 형성되어 있고, 본 실시 형태에서는, 제1 매니폴드(11)는 제2 매니폴드(12)와 동일한 형상 및 동일한 크기로 하고 있다. 또한, 제1 매니폴드(11) 및 제2 매니폴드(12)는 후술하는 바와 같이, 도포액의 폭을 확대하는 작용(폭 방향으로 균등하게 액을 분배하는 작용)을 갖고 있지만, 제1 매니폴드(11)보다도 상류에 위치하는 제2 매니폴드(12)에 의해 도포액의 폭 확대는 거의 달성되므로, 제1 매니폴드(11)의 쪽이 제2 매니폴드(12)보다도 용적이 작아지도록 구성되어 있어도 된다.As described above, the first manifold 11 is formed to be long along the width direction of the nozzle 3. In this embodiment, the first manifold 11 is the same as the second manifold 12 Shape and the same size. As described later, the first manifold 11 and the second manifold 12 have an action of increasing the width of the coating liquid (an action of evenly distributing the liquid in the width direction) The width of the coating liquid is substantially enlarged by the second manifold 12 located upstream of the fold 11 so that the volume of the first manifold 11 is smaller than that of the second manifold 12 .

그리고, 제1 슬릿(21)은 상기한 바와 같이 노즐(3)의 폭 방향을 따라 길게 형성되어 있고, 본 실시 형태에서는, 제1 슬릿(21)은 제2 슬릿(22)과 비교하여 도포액의 흐름 방향(Z 방향)에 직교하는 유로 단면 형상이 동일하고, 동일한 폭 치수를 갖는 구성으로 되어 있다. 또한, 제1 슬릿(21) 및 제2 슬릿(22)의 유로 단면이 작아질수록 도포액의 흐름에 대한 압력 손실이 커져, 도포액이 흐르기 어려워진다. 따라서, 토탈의 압력 손실을 높게 하지 않고, 도포액을 균일하게 토출, 또한 후술하는 균온화의 효과를 알맞게 얻을 수 있도록 하기 위해, 제1 슬릿(21)은 제2 슬릿(22)보다도 도포액의 흐름 방향에 직교하는 유로 단면이 작아지도록, 특히 도포 방향(X 방향)으로 좁아지도록[슬릿(21)의 간극량 B가 작아지도록] 구성되어 있어도 된다.As described above, the first slit 21 is formed to be long along the width direction of the nozzle 3. In the present embodiment, the first slit 21 is larger than the second slit 22 in the coating liquid Sectional shape orthogonal to the flow direction (Z direction) of the flow path of the fuel cell stack 10 is the same and has the same width dimension. Further, as the cross-section of the flow path of the first slit 21 and the second slit 22 becomes smaller, the pressure loss with respect to the flow of the coating liquid becomes larger and the coating liquid hardly flows. Therefore, in order to uniformly discharge the coating liquid without increasing the total pressure loss, and to obtain the effect of uniformity to be described later, the first slit 21 is formed to have a coating liquid (The gap amount B of the slit 21 is made smaller) so that the cross section of the flow path perpendicular to the flow direction becomes smaller, particularly in the coating direction (X direction).

그리고, 펌프(8)로부터 연장되는 배관(17)은, 도 3에 도시하는 노즐(3)에 설치되어 있는 공급구(18)에 유체적으로 연통되어 있고, 이 공급구(18)로부터 제2 매니폴드(12)로 연장되는 공급 구멍(19)이 노즐(3) 내에 형성되어 있다.The pipe 17 extending from the pump 8 is in fluid communication with the supply port 18 provided in the nozzle 3 shown in Fig. A supply hole 19 extending into the manifold 12 is formed in the nozzle 3. [

그리고, 공급 구멍(19)은 제2 매니폴드(12) 내에서 개구되어 있고, 도포액은 제2 매니폴드(12)에 공급된다. 제2 매니폴드(12)에 공급된 도포액은 여기서 폭 방향으로 폭이 확대되고, 그 후, 제2 슬릿(22), 제1 매니폴드(11), 제1 슬릿(21)의 순으로 흘러, 기판(W)에 대해 토출된다.The supply hole 19 is opened in the second manifold 12, and the coating liquid is supplied to the second manifold 12. The coating liquid supplied to the second manifold 12 is expanded in width in the width direction and then flows in the order of the second slit 22, the first manifold 11, and the first slit 21 , And is discharged onto the substrate W.

본 실시 형태의 도포 장치(1)는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 탱크(9)로부터 펌프(8)에 의해 공급된 도포액을 승온시키는 승온부(30)와, 이 도포액의 온도를 균일화시키는 균온부(40)를 구비하고 있다. 균온부(40)는, 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액을 제1 슬릿(21)으로부터 토출하기 전에, 그 도포액의 온도를 균일화시킨다.As shown in Fig. 2, the coating apparatus 1 of this embodiment includes a temperature increasing section 30 for raising the temperature of the coating liquid supplied from the tank 9 by the pump 8, And a uniform temperature section 40 for uniformizing the temperature. The temperature section 40 uniformizes the temperature of the coating liquid before the coating liquid whose temperature is raised by the temperature increasing section 30 is discharged from the first slit 21.

승온부(30)는, 1개 또는 복수의 승온 유닛(31)을 구비하고 있고, 본 실시 형태에서는, 3개의 승온 유닛(31)을 구비하고 있다. 승온 유닛(31) 각각은, 상기 배관(17)과 접속되어 배관(17)으로부터 보내지는 도포액이 흐르는 유로(32), 이 유로(32)를 흐르는 도포액을 가열하는 히터, 히터의 전부 또는 일부를 덮는 단열재 등을 구비하고 있다. 이들 승온 유닛(31)은 유로(32)의 길이 방향으로 연속하여 설치되어 있고, 또한 노즐(3)에 인접하여 설치되어 있다. 각 승온 유닛(31)은 유로(32)를 외측으로부터 가열함으로써, 그 유로(32)의 내부를 흐르는 도포액에 열을 전달하여, 승온시킨다.The temperature increasing section 30 includes one or a plurality of heating units 31. In the present embodiment, three heating units 31 are provided. Each of the heating units 31 is connected to the piping 17 through a flow path 32 through which the coating liquid sent from the piping 17 flows, a heater for heating the coating liquid flowing through the flow path 32, And a heat insulating material covering a part thereof. The temperature increasing units 31 are provided continuously in the longitudinal direction of the flow path 32 and are provided adjacent to the nozzles 3. Each heating unit 31 heats the flow path 32 from the outside to transfer heat to the coating liquid flowing in the flow path 32 to raise the temperature.

각 승온 유닛(31)의 히터는 제어 장치(5)에 의해 제어되어 있고, 승온부(30)는 상온 T0에 있는 도포액을, 예를 들어 30∼50℃의 소요 온도 T1까지 승온시킨다. 소요 온도 T1은, 기판(W) 및 도포액의 종류나 점도, 도포액의 토출량 등의 도포 사양에 따라 결정된다. 또한, 도포액의 온도를 소요 온도 T1까지 효율적으로 승온시키기 위해, 본 실시 형태에서는, 부족한 승온 유닛(31)을 추가하거나, 또는 과잉의 승온 유닛(31)의 제거를 행할 수 있다. 즉, 도포액의 온도를 소요 온도 T1까지 승온시키기 위해 필요한 열량을 승온부(30)가 가질 수 있도록, 승온 유닛(31)의 수를 변경 가능한 구성으로 하고 있다. 그리고, 승온시킨 도포액은, 유로(32)와 접속되어 있는 공급구(18)로부터 노즐(3) 내부로 보내진다.The heater of each heating unit 31 is controlled by the control unit 5 and the heating unit 30 raises the temperature of the coating liquid at the normal temperature T0 to a required temperature T1 of, for example, 30 to 50 占 폚. The required temperature T1 is determined according to the application specifications such as the type and viscosity of the substrate W and the coating liquid, and the discharge amount of the coating liquid. Further, in order to efficiently raise the temperature of the coating liquid to the required temperature T1, in the present embodiment, it is possible to add a deficient heating unit 31 or to remove the excess heating unit 31 in the present embodiment. That is, the number of the temperature-raising units 31 can be changed so that the temperature-raising unit 30 can have a heat amount required for raising the temperature of the coating liquid to the required temperature T1. The heated coating liquid is sent to the inside of the nozzle 3 from the supply port 18 connected to the flow path 32.

균온부(40)는, 노즐(3)을 가열하는 가열 수단과, 노즐(3) 내부에 도포액이 흐르는 유로의 일부로서 형성되어 있는 열전달용 유로를 구비하고 있다. 본 실시 형태에 관한 가열 수단은, 복수의 히터(41)(분할 히터)로 이루어지고, 열전달용 유로는, 제2 슬릿(22)으로 이루어진다.The uniforming section 40 includes a heating means for heating the nozzle 3 and a heat transfer passage formed as part of a flow passage through which the coating liquid flows in the nozzle 3. [ The heating means according to the present embodiment is composed of a plurality of heaters 41 (divided heaters), and the heat transfer passage is composed of the second slits 22.

각 히터(41)는 노즐(3)을 가열함으로써, 노즐(3) 내부에 형성되어 있는 유로(10)를 흐르는 도포액에 열을 부여한다. 각 히터(41)는 제어 장치(5)에 의해 제어되어 있고, 균온부(40)는 승온부(30)에 의해 소요 온도 T1까지 승온시킨 도포액의 온도를, 노즐(3)의 폭 방향(Y 방향)에 걸쳐 균일화(이하, 균온화라고도 함)시키는 기능을 갖고 있다.Each heater 41 applies heat to the coating liquid flowing through the flow path 10 formed in the nozzle 3 by heating the nozzle 3. [ Each of the heaters 41 is controlled by the control device 5 and the temperature of the uniformed part 40 is raised by the temperature increasing part 30 to the required temperature T1 in the width direction of the nozzle 3 Y direction) (hereinafter also referred to as " uniform gauging ").

균온부(40)에서는, 도포액을 균온화하기 위해, 히터(41)는 노즐(3)의 폭 방향(Y 방향)을 따라 나란히 복수 설치되어 있다. 또한, 노즐(3)을 X 방향 양측 사이에 끼우도록 하고, 히터(41)는 노즐(3)에 장착되어 있다.A plurality of heaters 41 are arranged side by side along the width direction (Y direction) of the nozzles 3 in order to uniformize the coating liquid. Further, the nozzle 3 is sandwiched between both sides in the X direction, and the heater 41 is mounted on the nozzle 3. [

또한, 노즐(3)의 각 부, 특히 제2 슬릿(22)의 양측에 있는 벽부(14)에는 온도 센서(도시하지 않음)가 설치되어 있고, 이 온도 센서의 검지 신호에 기초하여, 제어 장치(5)는, 양측의 벽부(14)가 Y 방향을 따라 균일한 온도로 되도록, 나아가서는 노즐(3)이 전체적으로 균일한 온도로 되도록 개개의 히터(41)를 제어한다. 이에 의해, 노즐(3)[벽부(14)]을 폭 방향(Y 방향) 전체 길이에 걸쳐 동일한 온도로 유지하는 것이 가능해진다.A temperature sensor (not shown) is provided at each portion of the nozzle 3, particularly at the wall portion 14 on both sides of the second slit 22, and based on the detection signal of the temperature sensor, The control unit 5 controls the individual heaters 41 so that the wall portions 14 on both sides are uniform in temperature along the Y direction and further the nozzle 3 becomes a uniform temperature as a whole. This makes it possible to maintain the nozzle 3 (wall portion 14) at the same temperature over the entire length in the width direction (Y direction).

이 균온부(40)에 의하면, 히터(41)에 의해 노즐(3)[벽부(14)]을 균일한 온도로 유지하고, 열전달용 유로인 제2 슬릿(22)을 흐르는 도포액의 온도를, 노즐(3)[벽부(14)]의 온도에 근접시킴으로써 도포액을 균온화하는 것이 가능해진다. 즉, 노즐(3)[벽부(14)]의 온도와, 도포액의 온도를 동일한 온도로 하도록 열전달이 행해진다.The temperature of the coating liquid flowing through the second slit 22 which is the heat transfer passage is set to be the temperature of the nozzle 3 (the wall portion 14) is maintained at a uniform temperature by the heater 41, , And the temperature of the nozzle 3 (wall portion 14) is brought close to the temperature of the nozzle 3, the coating liquid can be uniformed. That is, heat transfer is performed so that the temperature of the nozzle 3 (wall portion 14) and the temperature of the coating liquid become the same.

이와 같이, 제2 슬릿(22)은, 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액을 흘리는 유로이며, 도포액의 흐름 방향(Z 방향)에 직교하는 유로 단면이 일방향인 X 방향으로 좁아져 있는 열전달용 유로이고, 히터(41)에 의해 발생시킨 열을, 노즐(3)[양측의 벽부(14)]을 통해, 이 제2 슬릿(22)(열전달용 유로)을 흐르는 도포액으로 X 방향으로 전달시켜, 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액의 온도를 도포액 내부까지 균일화시킨다.As described above, the second slit 22 is a flow path through which the coating liquid heated by the temperature increasing section 30 flows, and the flow path cross section perpendicular to the flow direction (Z direction) of the coating liquid is narrowed in the one direction X direction And the heat generated by the heater 41 is transferred to the heat transfer passage through the nozzle 3 (the wall portion 14 on both sides) and the coating liquid flowing through the second slit 22 (heat transfer passage) in the X direction And the temperature of the coating liquid whose temperature is raised by the temperature increasing unit 30 is uniformed to the inside of the coating liquid.

또한, 「도포액의 흐름 방향(Z 방향)에 직교하는 유로 단면이 일방향인 X 방향으로 좁아져 있다」라 함은, 유로의 X 방향의 단면 치수가 작게 되어 있는 것이며, 다시 바꾸어 말하면, 제2 슬릿(22)의 간극량이 작게 되어 있는 것을 의미한다.The term " the cross section of the flow passage perpendicular to the flow direction (Z direction) of the coating liquid is narrowed in the X direction as one direction " means that the cross-sectional dimension of the flow passage in the X direction is small. In other words, Quot; means that the gap amount of the slit 22 is small.

상기한 바와 같이, 히터(41) 및 제어 장치(5)에 의해, 노즐(3) 중 적어도 제2 슬릿(22)의 주위 벽부(14)를 노즐(3)의 폭 방향으로 균일한 온도로 하고, 이 벽부(14)로부터, 제2 슬릿(22)(열전달용 유로)을 흐르는 도포액에 대해 도포액의 흐름 방향에 직교하는 유로 단면이 좁아져 있는 X 방향에 대해, 열전달을 행하게 한다. 이에 의해, X 방향으로 얇아져 있는 도포액에 대해 열전달되게 되므로, 도포액 내의 열전도에 의해 X 방향으로 온도 분포가 발생하지 않는다. 즉, 도포액의 내부까지 균온화된다.As described above, the peripheral wall portion 14 of at least the second slit 22 of the nozzle 3 is made uniform in the width direction of the nozzle 3 by the heater 41 and the control device 5 And heat transfer is made from the wall portion 14 to the coating liquid flowing through the second slit 22 (heat transfer passage) in the X direction in which the flow path cross section perpendicular to the flow direction of the coating liquid is narrowed. As a result, the coating liquid thinned in the X direction is heat-transferred, so that the temperature distribution in the X direction is not generated by the heat conduction in the coating liquid. That is, even the inside of the coating liquid is uniformed.

또한, 승온부(30)의 유로(32)나 제2 매니폴드(12)와 같은 비교적 유로 단면이 큰 부분에서는, 유로 단면 외측의 벽면으로부터 도포액에 열전달되어도, 유로 단면 내에 있는 도포액의 외측부로부터 중앙부까지 열전도되기 어려워, 도포액이 균온화되기 어렵다.In the portion of the flow path 32 of the temperature-rising section 30 or the second manifold 12 having a comparatively large flow path section, even if heat is transferred from the wall surface outside the flow path end face to the coating liquid, So that the coating liquid is hardly uniformized.

이에 대해, 제2 슬릿(22)에 있어서, 간극량을 작게 함으로써, 도포액의 온도를 보다 내부까지 균일화할 수 있다. 예를 들어, 제2 슬릿(22)을 통과하는 도포액의 온도를, ±0.2℃의 범위 내에 균일화할 수 있다.On the other hand, by reducing the gap amount in the second slit 22, the temperature of the coating liquid can be uniformed to the inside. For example, the temperature of the coating liquid passing through the second slit 22 can be made uniform within a range of 占 0.2 占 폚.

또한, 제2 매니폴드(12)는, 제2 슬릿(22)의 상류측에 있어, 공급 구멍(19)으로부터 유입되는 도포액을 저류하여 폭 방향으로 폭을 확대하는 확대 공간 유로로서 존재하고, 제2 슬릿(22)으로부터 제1 매니폴드(11)를 향해 폭 방향으로 균일하게 도포액을 보내는 데 공헌하고 있다. 또한, 이 제2 매니폴드(12)는 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액의 온도를 유지하는 역할도 한다.The second manifold 12 is present on the upstream side of the second slit 22 as an enlarged space flow path for storing the coating liquid flowing from the supply hole 19 and enlarging the width in the width direction, Contributes to uniformly distributing the coating liquid from the second slit 22 toward the first manifold 11 in the width direction. The second manifold 12 also serves to maintain the temperature of the coating liquid that has been heated by the temperature increasing unit 30. [

또한, 제1 슬릿(21) 내를 흐르는 도포액에 대해서도, 히터(41)로부터의 열을 노즐(3) 내에서 받을 수 있으므로, 제2 슬릿(22)과 마찬가지로, 도포액을 내부까지 균온화시키는 기능을 갖고 있지만, 제1 슬릿(21) 및 제1 매니폴드(11)는 주로 다른 기능을 발휘시키기 위해 설치되어 있다.Since the heat from the heater 41 can be received in the nozzle 3 with respect to the coating liquid flowing in the first slit 21 as well as the second slit 22, But the first slit 21 and the first manifold 11 are mainly provided for exerting different functions.

즉, 제1 매니폴드(11)는 제2 슬릿(22)에 의해 도포액의 내부까지 균온화되어 점도도 균일해진 도포액을 일단 저류할 수 있고, 특히 제1 슬릿(21)에 의해 유로가 좁아짐으로써, 제1 매니폴드(11) 내를 도포액으로 가득 찬 상태로 할 수 있다. 이에 의해, 제1 매니폴드(11) 내의 도포액 압력[제1 매니폴드(11) 내의 압력]을 균일화시켜, 제1 슬릿(21)으로부터 토출시키는 도포액의 압력을, 노즐(3)의 폭 방향 전체 길이에 걸쳐 균일화시켜, 폭 방향의 토출 정밀도를 높게 할 수 있다.In other words, the first manifold 11 can be uniformly distributed to the inside of the coating liquid by the second slit 22, and once the coating liquid having a uniform viscosity can be stored, The inside of the first manifold 11 can be filled with the coating liquid. The pressure of the coating liquid in the first manifold 11 (the pressure in the first manifold 11) is made uniform and the pressure of the coating liquid discharged from the first slit 21 is made equal to the width of the nozzle 3 Uniformity over the entire length of the direction, and the ejection accuracy in the width direction can be increased.

이와 같이, 제2 슬릿(22)은 열전달용 유로이며, 이 열전달용 유로는, 도포액의 토출구를 갖는 도포액 토출용 유로인 제1 슬릿(21)과는 기능적으로 다른 유로이다. 즉, 열전달용 유로인 제2 슬릿(22)은, 도포액 토출용의 제1 슬릿(21)과는 다른 역할을 하는 유로이다. 그리고, 제2 슬릿(22)과 제1 슬릿 사이에, 도포액을 저류하여 폭 방향으로 폭을 확대하는 확대 공간 유로로서 상기 제1 매니폴드(11)가 개재되어 있다.As described above, the second slit 22 is a heat transfer passage, and the heat transfer passage is a flow path that is functionally different from the first slit 21 which is the coating solution discharge passage having the discharge port of the coating solution. That is, the second slit 22, which is the heat transfer passage, is a flow path different from the first slit 21 for discharging the coating liquid. The first manifold 11 is interposed between the second slit 22 and the first slit as an enlarged space flow path for storing the coating liquid and enlarging the width in the width direction.

이상의 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 의하면, 점도가 비교적 높은 도포액을 기판(W)에 대해 도포하는 경우라도, 탱크(9)로부터 공급된 도포액을 승온부(30)에 의해 승온시킴으로써, 제1 슬릿(21)으로부터 토출되는 도포액의 점도를 낮출 수 있어, 배관(17)의 단면적 및 슬릿(21)의 간극량 B를 크게 하지 않아도, 흐르는 도포액의 저항을 작게 하는 것이 가능해진다.According to the coating device 1 of the present embodiment as described above, even when the coating liquid having a relatively high viscosity is applied to the substrate W, the coating liquid supplied from the tank 9 is heated by the temperature- The viscosity of the coating liquid discharged from the first slit 21 can be lowered and the resistance of the flowing coating liquid can be reduced without increasing the cross sectional area of the pipe 17 and the gap amount B of the slits 21 It becomes.

또한, 제1 슬릿(21)으로부터 토출되는 도포액에, 그 제1 슬릿(21)의 길이 방향에 대해 온도차(온도 불균일)가 발생되어 있는 경우에는, 점도 불균일이 발생하므로 기판(W) 상의 도막의 두께에 불균일이 발생해 버리지만, 본 발명에 따르면, 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액을 제1 슬릿(21)으로부터 토출하기 전에, 균온부(40)에 의해, 이 도포액의 온도를 균일화시키므로, 점도가 낮은 값으로 균일해짐으로써, 기판(W) 상에 균일한 두께의 도막을 형성할 수 있다. 이 결과, 도막을 기판(W) 상에 고정밀도로 균일하게 형성하는 것이 가능해진다. 또한 도포액의 온도를 높여 점도를 낮춤으로써, 보다 고속으로 도포를 실시할 수 있게 되고, 그 결과, 도막을 기판(W) 상에 고정밀도로 균일하게, 또한 고속으로 형성하는 것이 가능해진다.When a temperature difference (temperature unevenness) is generated in the coating liquid discharged from the first slit 21 in the longitudinal direction of the first slit 21, unevenness of viscosity occurs, The temperature of the coating liquid is raised by the temperature-rising section 40 before the coating liquid which has been heated by the temperature-rising section 30 is discharged from the first slit 21 in accordance with the present invention, By making the temperature uniform, the viscosity becomes uniform to a low value, and a coating film having a uniform thickness can be formed on the substrate W. As a result, it becomes possible to uniformly form the coating film on the substrate W with high accuracy. Further, by increasing the temperature of the coating liquid and lowering the viscosity, it is possible to perform coating at a higher speed, and as a result, it becomes possible to form the coating film on the substrate W with high accuracy and uniformity at high speed.

특히 본 실시 형태에서는, 균온부(40)는 히터(41)와, 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액을 흘리는 유로이며, 도포액의 흐름 방향(Z 방향)에 직교하는 유로 단면이 X 방향으로 좁아져 있는 제2 슬릿(22)(열전달용 유로)을 갖고 있고, 히터(41)에 의해 발생시킨 열을, 제2 슬릿(22)을 흐르는 도포액의 내부까지 전달시키고, 승온부(30)에 의해 승온시킨 도포액의 온도를 내부까지 균일화시켜, 그것에 의해 도포액의 내부까지 균일한 점도를 실현하고 있다.Particularly, in the present embodiment, the temperature-rising section 40 is a flow path for flowing the coating liquid which is heated by the heater 41 and the temperature increasing section 30, and the flow path cross section perpendicular to the flow direction (Z direction) And the heat generated by the heater 41 is transmitted to the inside of the coating liquid flowing through the second slit 22 and the temperature of the heated slit 22 30, the temperature of the coating liquid is uniformed to the inside, thereby realizing a uniform viscosity up to the inside of the coating liquid.

이와 같이, 도포액의 흐름 방향에 직교하는 유로 단면이 좁아지는 제2 슬릿(22)을 도포액이 흐를 때, 열전달이 행해지므로, 도포를 행하게 하기 직전의 도포액 온도를 균일화할 수 있고, 그것에 의해 도포액의 점도를 낮게 내부까지 균일화하는 것이 가능해진다.As described above, since the heat transfer is performed when the coating liquid flows through the second slit 22 in which the flow path cross section perpendicular to the flow direction of the coating liquid is narrowed, the temperature of the coating liquid immediately before coating is made uniform, The viscosity of the coating liquid can be lowered to the inside.

그리고, 노즐(3)에 있어서 도포액의 온도를 균일화시키고, 그것에 의해 낮고 균일한 점도로 도포액이 제1 슬릿(21)으로부터 토출되어, 그 결과 고속으로 도막을 형성하는 것이 가능해진다.Then, the temperature of the coating liquid is uniformized in the nozzle 3, whereby the coating liquid is discharged from the first slit 21 with a low and uniform viscosity, and as a result, a coating film can be formed at a high speed.

그리고, 이 도포 장치(1)에 의해, 기판(W)에 대해 도포액을 도포하는 도포 방법은, 탱크(9)로부터 공급된 도포액을 승온시키고, 이 승온시킨 도포액을 제1 슬릿(21)으로부터 토출하기 전에, 이 도포액의 온도를 균일화시키는 방법이다. 특히, 본 실시 형태에서는, 히터(41)에 의해 발생시킨 열을, 열전달용 유로인 제2 슬릿(22)을 흐르는 도포액으로 전달하고, 승온시킨 도포액의 온도와 점도를 균일화시킨다.The application method of applying the application liquid to the substrate W by the application device 1 is a method in which the application liquid supplied from the tank 9 is heated and the applied liquid is heated by the first slit 21 , The temperature of the coating liquid is made uniform. Particularly, in the present embodiment, the heat generated by the heater 41 is transferred to the coating liquid flowing through the second slit 22 serving as the heat transfer passage, and the temperature and viscosity of the coating liquid obtained by heating are made uniform.

또한, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 의하면, 승온부(30)에 의해, 도포액의 온도를 상온보다도 높임으로써, 그 점도를 저하시켜, 슬릿 폭이 작은 제1 슬릿(21)으로부터의 도포액의 저압 토출이 가능해지고, 높은 도포 속도로 얇은 막 두께에 의한 도포액의 도포가 가능해진다. 또한, 도포 속도를 높이기 위해서는, 노즐(3)의 이동 속도를 높게 하면서, 펌프(8)로부터의 도포액의 공급 속도를 높게 하면 된다.According to the coating device 1 of the present embodiment, the temperature of the coating liquid is made higher than the room temperature by the temperature increasing section 30 to lower the viscosity thereof, and the first slit 21 having a small slit width It becomes possible to dispense the coating liquid at a high coating speed with a thin film thickness. In order to increase the coating speed, the supply speed of the coating liquid from the pump 8 may be increased while the moving speed of the nozzle 3 is increased.

또한, 이 도포 장치(1)에 의하면, 펌프(8), 탱크(9) 및 펌프(8)로부터 승온부(30)까지의 배관에 히터를 설치하고 있지 않으므로, 탱크(9) 등을 포함하는 전체에 히터를 설치한 경우의 설비보다도, 코스트(이니셜 코스트 및 러닝 코스트)의 저감화가 가능해진다.Since the heater 8 is not provided in the piping from the pump 8 to the heating section 30 to the tank 8 and the tank 9 and the tank 9 and the like, The cost (the initial cost and the running cost) can be reduced as compared with the facilities in the case where the heaters are installed in the whole.

또한, 본 실시 형태에서는, 균온부(40)가 구비하고 있는 가열 수단은, 복수로 분할되어 있는 분할 히터(41)로 이루어지고, 제어 장치(5)에 의해 각 히터(41)의 출력이 개별적으로 제어되므로, 노즐(3)의 폭 방향의 각 부분에 있어서 방열의 특성이 다른 경우라도, 노즐(3)을 균일한 온도로 유지하는 것이 가능해진다.In the present embodiment, the heating means provided in the temperature-rising section 40 is composed of a plurality of divided heaters 41, and the control device 5 causes the output of each heater 41 to be individually It is possible to maintain the nozzle 3 at a uniform temperature even when the characteristics of heat dissipation are different in each part in the width direction of the nozzle 3. [

또한, 승온부(30)에 의해, 도포액의 온도를 높임으로써 용존 공기의 발포가 발생해도, 노즐(3) 내의 유로(10)[제2 매니폴드(12)]의 상부에 에어 배출 구멍(도시하지 않음)을 형성하고, 이곳으로부터 승온부(30) 내에서 발생한 기포를 배출하도록 해도 된다.Even if the foaming of the dissolved air is caused by raising the temperature of the coating liquid by the temperature increasing section 30, the air discharge hole (the second manifold 12) is formed in the upper part of the flow path 10 (second manifold 12) And bubbles generated in the temperature rising section 30 may be discharged therefrom.

금회 개시한 실시 형태는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것이 아니다. 본 발명의 권리 범위는, 상술한 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 청구범위에 기재된 구성과 균등한 범위 내에서의 모든 변경이 포함된다.The presently disclosed embodiments are illustrative and not restrictive in all respects. The scope of rights of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but includes all modifications within the scope of equivalents to the constitution described in the claims.

예를 들어, 상술한 실시 형태에서는, 고정 상태에 있는 스테이지(2)(도 1 참조)에 대해 노즐(3)가 이동함으로써 도포 동작이 행해지는 경우에 대해 설명하였지만, 이와는 반대로, 고정 상태에 있는 노즐(3)에 대해 기판(W)을 적재한 스테이지(2)가 이동함으로써 도포 동작이 행해지도록 구성한 도포 장치여도 된다.For example, in the above-described embodiment, the case where the coating operation is performed by moving the nozzle 3 with respect to the fixed stage 2 (see Fig. 1) has been described. Conversely, The coating apparatus may be configured so that the coating operation is performed by moving the stage 2 on which the substrate W is mounted with respect to the nozzle 3. [

또한, 상기 실시 형태에서는, 노즐(3) 내에, 2단 매니폴드 구조, 2단 슬릿 구조를 형성한 경우에 대해 설명하였지만, 매니폴드 및 슬릿은, 다단이면 되고, 3단 이상이어도 된다. 그리고, 가장 하류측의 제1 매니폴드 및 가장 하류측의 제1 슬릿은, 도포액을 안정적으로 토출시키는 기능을 주로 갖고 있고, 이것보다도 상류측[펌프(8)측]의 매니폴드 및 슬릿은, 균온화의 기능을 갖고 있다.In the above embodiment, the case where the two-stage manifold structure and the two-stage slit structure are formed in the nozzle 3 has been described. However, the manifold and the slit may be multi-stage or three-stage or more. The first manifold on the most downstream side and the first slit on the most downstream side mainly have a function of stably discharging the coating liquid. The manifolds and slits on the upstream side (on the side of the pump 8) , And has a function of uniformity.

또한, 각 매니폴드의 폭 방향에 직교하는 단면에서의 형상은, 원형 외에, 반원, 다각형, 1/4원과 직각 삼각형을 조합한 것 등, 어떠한 형상이어도 된다. 또한 매니폴드의 폭 방향에 직교하는 단면 형상은, 폭 방향을 따라 바꾸어도 된다. 이 경우, 폭 방향의 중앙부의 단면적을 양단부의 단면적보다도 크게 하는 것이 바람직하다.The shape of the cross section perpendicular to the width direction of each manifold may be any shape other than a circle, such as a semi-circle, a polygon, a combination of a ¼ circle and a right-angled triangle. The sectional shape perpendicular to the width direction of the manifold may be changed along the width direction. In this case, the cross-sectional area of the central portion in the width direction is preferably larger than the cross-sectional area of both ends.

또한, 상기 실시 형태에서는, 균온부(40)에 있어서, 히터(41)를 노즐(3)의 측면에 장착하는 경우에 대해 설명하였지만, 히터(41)는 노즐(3)의 상부 등에도 장착되어 있어도 된다.Although the heater 41 is mounted on the side surface of the nozzle 3 in the temperature increasing section 40 in the above embodiment, the heater 41 is also mounted on the upper portion of the nozzle 3 or the like .

1 : 도포 장치
3 : 노즐
9 : 탱크
11 : 제1 매니폴드(확대 공간 유로)
12 : 제2 매니폴드
21 : 제1 슬릿(슬릿)
22 : 제2 슬릿(열전달용 유로)
23 : 선단부
30 : 승온부
40 : 균온부
41 : 히터(가열 수단)
W : 기판1: Coating device
3: Nozzle
9: Tank
11: First manifold (enlarged space flow path)
12: Second manifold
21: First slit (slit)
22: second slit (heat transfer passage)
23:
30:
40:
41: heater (heating means)
W: substrate

Claims (5)

도포액을 저류하는 탱크와, 이 탱크로부터 공급된 도포액을 토출하는 슬릿이 형성되어 있는 노즐을 구비하고, 당해 슬릿으로부터 도포액을 토출함으로써 기판에 대해 도포액을 도포하는 도포 장치이며,
상기 탱크로부터 공급된 상기 도포액을 승온시키는 승온부와,
상기 승온부에 의해 승온시킨 도포액을 상기 슬릿으로부터 토출하기 전에, 당해 도포액의 온도를 균일화시키는 균온부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 도포 장치.There is provided a coating apparatus for coating a coating liquid on a substrate by discharging the coating liquid from the slit, comprising a tank for storing the coating liquid and a nozzle having slits for discharging the coating liquid supplied from the tank,
A temperature raising unit for raising the temperature of the coating liquid supplied from the tank,
And a temperature section for uniformizing the temperature of the coating liquid before the coating liquid which has been heated by the temperature rising section is discharged from the slit. 제1항에 있어서,
상기 균온부는, 가열 수단과, 상기 승온부에 의해 승온시킨 도포액을 흘리는 유로이며, 도포액의 흐름 방향에 직교하는 유로 단면이 적어도 일방향으로 좁아져 있는 열전달용 유로를 갖고, 상기 가열 수단에 의해 발생시킨 열을, 상기 열전달용 유로를 흐르는 도포액에 전달시켜, 상기 승온부에 의해 승온시킨 도포액의 온도를 균일화시키는, 도포 장치.The method according to claim 1,
Wherein the temperature section has a heating means and a heat transfer passage having a passage cross section perpendicular to the flow direction of the coating liquid narrowed in at least one direction, And the generated heat is transferred to the coating liquid flowing through the heat transfer passage so that the temperature of the coating liquid heated by the temperature rising unit is made uniform. 제2항에 있어서,
상기 열전달용 유로는, 상기 슬릿과는 다른 유로이며,
상기 열전달용 유로와 상기 슬릿 사이에는, 도포액을 저류하는 확대 공간 유로가 형성되어 있는, 도포 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the heat transfer passage is a flow passage different from the slit,
Wherein an enlarged space flow path for storing a coating liquid is formed between the heat transfer passage and the slit. 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 노즐 내에, 제1 슬릿으로 되는 상기 슬릿, 이 제1 슬릿과 연결되는 제1 매니폴드, 제2 매니폴드, 이들 제1 매니폴드와 제2 매니폴드를 연결하고 있는 제2 슬릿이 형성되어 있고,
상기 제2 슬릿이 상기 열전달용 유로로서 상기 노즐 내에 형성되고,
상기 가열 수단은, 상기 노즐을 가열하는, 도포 장치.The method according to claim 2 or 3,
In the nozzle, a slit serving as a first slit, a first manifold connected to the first slit, a second manifold, and a second slit connecting the first manifold and the second manifold are formed ,
The second slit is formed in the nozzle as the heat transfer passage,
And the heating means heats the nozzle. 탱크로부터 공급된 도포액을 토출하는 슬릿이 형성되어 있는 노즐을 구비한 도포 장치에 의해 행해지고, 당해 슬릿으로부터 도포액을 토출함으로써 기판에 대해 도포액을 도포하는 도포 방법이며,
상기 탱크로부터 공급된 상기 도포액을 승온시키고,
이 승온시킨 도포액을 상기 슬릿으로부터 토출하기 전에, 당해 도포액의 온도를 균일화시키는 것을 특징으로 하는, 도포 방법.The coating liquid is applied to the substrate by discharging the coating liquid from the slit by a coating apparatus having a nozzle provided with a slit for discharging the coating liquid supplied from the tank,
The temperature of the coating liquid supplied from the tank is raised,
Wherein the temperature of the coating liquid is made uniform before discharging the heated coating liquid from the slit.
KR1020157006929A 2012-09-24 2013-09-12 Coating device and coating method KR102110628B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-209288 2012-09-24
JP2012209288A JP6125783B2 (en) 2012-09-24 2012-09-24 Coating apparatus and coating method
PCT/JP2013/074610 WO2014045982A1 (en) 2012-09-24 2013-09-12 Coating device and coating method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150060704A true KR20150060704A (en) 2015-06-03
KR102110628B1 KR102110628B1 (en) 2020-05-13

Family

ID=50341296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157006929A KR102110628B1 (en) 2012-09-24 2013-09-12 Coating device and coating method

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6125783B2 (en)
KR (1) KR102110628B1 (en)
CN (1) CN104661759B (en)
TW (1) TWI594806B (en)
WO (1) WO2014045982A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170112323A (en) * 2016-03-31 2017-10-12 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 Dynamic 3D lamination system can be coated for right angle and curved surface pattern
CN108698073A (en) * 2016-02-26 2018-10-23 东丽工程株式会社 Apparatus for coating and coating method
KR20200011038A (en) 2020-01-10 2020-01-31 장신 Seedling growth dedicated port and seedling growth method using the dedicated port

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5735161B1 (en) * 2014-07-08 2015-06-17 中外炉工業株式会社 Coating apparatus and method for improving the same
CN104668150B (en) * 2015-03-09 2017-07-07 浙江长兴森大竹木制品有限公司 A kind of pouring proscenia of automatic flow coating machine
JP6385864B2 (en) * 2015-03-18 2018-09-05 株式会社東芝 Nozzle and liquid supply device
JP6655479B2 (en) * 2016-06-22 2020-02-26 東レ株式会社 Coating device and coating device
CN113926666B (en) * 2020-06-29 2023-03-10 上海德沪涂膜设备有限公司 Slit coating film forming method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000157906A (en) 1998-11-25 2000-06-13 Canon Inc Sheet coating method and sheet coating device and production of color filter
JP2003154302A (en) * 2001-11-21 2003-05-27 Dainippon Printing Co Ltd Coating device
JP2003170098A (en) * 2001-12-06 2003-06-17 Shimadzu Corp Slit coater
JP2005028212A (en) * 2003-07-07 2005-02-03 Seiko Epson Corp Method and equipment for discharging droplet, device and manufacturing method therefor, and electronic equipment
JP2009082791A (en) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd Die coater, mouth piece for die coater, die-coating method employing die coater, and optical element and liquid crystal display prepared by using die coater

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4374647B2 (en) * 1999-04-05 2009-12-02 凸版印刷株式会社 Coating device
JP2001009342A (en) * 1999-06-28 2001-01-16 Dainippon Printing Co Ltd Die head
JP2001029861A (en) * 1999-07-21 2001-02-06 Dainippon Printing Co Ltd Die head
JP2003159557A (en) * 2001-11-27 2003-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd Coating method and coating equipment
JP2006175415A (en) * 2004-12-24 2006-07-06 Sony Corp Die head, coater and method of producing cell electrode
JP2007190456A (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Manufacturing apparatus for laminated body
TW200831189A (en) * 2007-01-17 2008-08-01 Himax Display Inc Coating apparatus and nozzle
JP5138058B2 (en) * 2011-03-07 2013-02-06 東レ株式会社 Cleaning member and applicator cleaning method, cleaning device, and display member manufacturing method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000157906A (en) 1998-11-25 2000-06-13 Canon Inc Sheet coating method and sheet coating device and production of color filter
JP2003154302A (en) * 2001-11-21 2003-05-27 Dainippon Printing Co Ltd Coating device
JP2003170098A (en) * 2001-12-06 2003-06-17 Shimadzu Corp Slit coater
JP2005028212A (en) * 2003-07-07 2005-02-03 Seiko Epson Corp Method and equipment for discharging droplet, device and manufacturing method therefor, and electronic equipment
JP2009082791A (en) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd Die coater, mouth piece for die coater, die-coating method employing die coater, and optical element and liquid crystal display prepared by using die coater

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108698073A (en) * 2016-02-26 2018-10-23 东丽工程株式会社 Apparatus for coating and coating method
KR20170112323A (en) * 2016-03-31 2017-10-12 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 Dynamic 3D lamination system can be coated for right angle and curved surface pattern
KR20200011038A (en) 2020-01-10 2020-01-31 장신 Seedling growth dedicated port and seedling growth method using the dedicated port

Also Published As

Publication number Publication date
TWI594806B (en) 2017-08-11
JP6125783B2 (en) 2017-05-10
JP2014061501A (en) 2014-04-10
KR102110628B1 (en) 2020-05-13
WO2014045982A1 (en) 2014-03-27
CN104661759B (en) 2017-11-28
CN104661759A (en) 2015-05-27
TW201420211A (en) 2014-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150060704A (en) Coating device and coating method
JP5702223B2 (en) Film coating nozzle, coating apparatus and coating method
CN108698073B (en) Coating device and coating method
TWI530330B (en) An action element, device, and method for applying a layer of adhesive material onto a substrate
WO2020145204A1 (en) Apparatus and method for producing electrode plate for battery
JP6479596B2 (en) Ink ejection apparatus and ink ejection method
US10232399B2 (en) Slot coater having fluid control unit
CN106605320B (en) Apparatus for manufacturing battery electrode plate
KR20160033026A (en) Coating machine, coating device, and coating method
CN110997159B (en) Coating device and coating method
JP2016067974A (en) Coating applicator and coating method
JP2013056478A (en) Inkjet printer and ink circulation control method thereof
JP2017183010A (en) Manufacturing apparatus of battery polar plate
JPWO2008149652A1 (en) Coating device
JP2018114487A (en) Coating apparatus and coating method
KR20190019054A (en) Applicator and applicator
JP5518814B2 (en) Printer and printer control method
JP2009028685A (en) Die coating device
JP2015116543A (en) Storage device, storage method, coating applicator and coating method
JP6960111B2 (en) Coating equipment
US11717887B2 (en) Methods and systems for condensing a vapor on a powder bed
JP6188525B2 (en) Coating device
JP2024078873A (en) Coating Equipment
JP2010063972A (en) Coating machine and coating liquid applying method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant