KR20150049645A - 박막 증착 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 마스크를 기판의 일면에 밀착시키는 척킹유닛으로서, 자중에 의해 독립적으로 승강하면서 기판의 타면과 접촉하여 마스크와 자력결합되는 복수개의 마그넷 기구를 포함하는 박막 증착 장치를 개시한다.

Description

박막 증착 장치 {Thin film depositing apparatus}
본 발명의 실시예들은 증착원의 증기를 발생시켜서 대상체 표면에 박막을 형성하는 박막 증착 장치에 관한 것이다.
예컨대 유기 발광 디스플레이 장치의 박막 형성과 같은 박막 제조 공정에는 증착원의 증기를 발생시켜서 기판 표면에 달라붙게 하는 증착 공정이 많이 이용된다. 즉, 기판 위에 마스크를 대고, 증착원의 증기를 그 마스크의 개구로 통과시켜서 원하는 패턴의 박막이 기판 상에 형성되게 한다.
본 발명의 실시예들은 박막 증착 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 증착패턴이 형성된 마스크 및, 상기 마스크를 기판의 일면에 밀착시키는 척킹유닛을 포함하며, 상기 척킹유닛은 자중에 의해 독립적으로 승강하면서 상기 기판의 타면과 접촉하여 상기 마스크와 자력결합되는 복수개의 마그넷기구를 포함하는 박막 증착 장치를 개시한다.
상기 마그넷기구는, 상기 기판의 타면 측에 배치된 프레임과, 상기 프레임에 설치된 볼부싱 및, 상기 볼부싱 내에 자중으로 승강 가능하게 설치된 자석막대를 포함할 수 있다.
상기 복수개의 마그넷기구가 동일 높이에 정렬될 수 있다.
상기 복수개의 마그넷기구가 서로 다른 높이에 정렬될 수 있으며, 상기 복수개의 마그넷기구 중 상기 기판의 가장자리측에 접촉하는 것보다 중앙측에 접촉하는 것이 상기 기판과 더 가깝도록 배치될 수 있다.
상기 척킹유닛에 상기 기판을 상기 마그넷기구와 자력 결합방향과 반대방향으로 눌러주는 가압기구가 더 구비될 수 있다.
상기 가압기구는 상기 프레임에 설치된 하우징과, 상기 하우징 안에 설치된 누름핀 및, 상기 누름핀에 상기 기판을 가압하는 방향으로 탄성력을 제공하는 스프링을 포함할 수 있다.
상기 가압기구는 상기 프레임의 4귀에 설치될 수 있다.
상기 프레임을 승강시키는 프레임승강기구가 더 구비될 수 있다.
상기 프레임승강기구는 상기 프레임을 지탱하는 와이어 및, 상기 와이어를 승강시키는 구동원을 포함할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 박막 증착 장치는, 기판과 마스크가 자중에 의해 처지더라도 여러 부위에 배치된 복수개의 마그넷기구가 그 처진 형상을 따라 자중으로 승강되면서 기판과 마스크를 밀착시킬 수 있으므로, 이를 사용하면 기판과 마스크가 밀착되지 않아서 생길 수 있는 증착 불량을 효과적으로 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 박막 증착 장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 박막 증착 장치에서 기판과 마스크의 척킹유닛을 도시한 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시된 척킹유닛에서 마그넷기구를 도시한 단면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 척킹유닛에서 가압기구를 도시한 단면도이다.
도 5a 및 도 5b는 도 2에 도시된 척킹유닛의 작동 상태를 보인 도면이다.
도 6a 및 도 6b는 도 2에 도시된 척킹유닛의 변형 가능한 예를 보인 도면이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치의 구조를 개략적으로 도시한 것이다.
도시된 바와 같이 본 실시예에 따른 박막 증착 장치는 증착 대상재인 기판(200) 상에 원하는 패턴을 형성하기 위한 마스크(300)와, 상기 기판(200)과 마스크(300)를 밀착시키는 척킹유닛(100), 그리고 상기 챔버(700) 내에 증착가스를 분사하는 증착원(400) 등을 구비하고 있다. 참조부호 500과 600은 트레이와 이송롤러를 각각 나타낸다.
따라서, 챔버(700) 내에서 증착원(400)이 증착가스를 분사하면 해당 증착가스가 마스크(300)에 형성된 개구를 통과하여 기판(200)에 증착되면서 소정 패턴의 박막을 형성하게 된다.
여기서, 상기 척킹유닛(100)은 도 2에 도시된 바와 같이 복수개의 마그넷기구(110)를 구비한 구조로 이루어져 있다. 이 구조는 기판(200)과 마스크(300)가 자중에 의해 처지더라도 기판(200)과 마스크(300) 사이가 벌어지지 않고 견고히 밀착되게 해주는데 유효한 구조이다.
즉, 최근에는 기판(200)과 마스크(300)가 대형화 되면서 증착 시 자중에 의해 중앙부의 처짐이 심해지는 경우가 빈발하고 있다. 이렇게 되면 기판(200)과 마스크(300)가 밀착되지 못하고 틈새가 벌어져서 일명 섀도우(shadow)와 같은 증착 불량이 발생하기 쉽다. 그러나, 본 실시예의 척킹유닛(100)은 이러한 문제를 효과적으로 억제할 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 척킹유닛(100)에는 프레임(131)의 여러 부위에 설치된 복수개의 마그넷기구(110)가 구비되어 있다. 이들 각 마그넷기구(110)는 도 3에 도시된 바와 같이 볼부싱(112)과, 그 볼부싱(112) 안에 자중으로 승강할 수 있게 지지된 자석막대(111)를 포함하고 있다. 따라서, 볼부싱(112)이 허용하는 유격 범위 내에서 자석막대(111)는 자유롭게 승강할 수 있으며, 이 자석막대(111)의 단부에 설치된 마그넷(111a)의 자력에 이끌려서 금속재질인 마스크(300)가 기판(200)에 밀착된다.
그리고, 이와 같이 자중에 의해 독립적으로 승강하면서 마스크(300)와 자력결합하는 마그넷기구(110)들이 기판(200) 상의 여러 부위에 분산 배치되어 있기 때문에, 기판(200)과 마스크(300)의 처짐이 발생하더라도 그 처진 모양에 대응하여 마그넷기구(110)의 자석막대(111)가 승강하면서 마스크(300)와 결합될 수 있다.
예를 들어서, 기판(200)과 마스크(300)가 처짐이 없는 평탄한 상태라면, 도 5a와 같이 복수의 마그넷기구(110)에 설치된 자석막대(111)들도 다 같은 높이에서 기판(200)에 접촉하여 마스크(300)와 자력결합된다.
그러나, 만일 도 5b와 같이 기판(200)과 마스크(300)의 중앙부에 처짐이 발생한 상태라면, 그 처짐이 발생한 부위에 배치된 마그넷기구(110)의 자석막대(111)가 다른 부위에 비해 더 하강해서 기판(200)과 접촉하여 마스크(300)와 자력결합된다. 그러면, 비록 처짐에 의해 기판(200)과 마스크(300)에 큰 휨이 발생했지만, 그 휘어진 모양에 대응해서 여러 마그넷기구(110)들이 결합되기 때문에, 중앙의 처진 부위도 항상 기판(200)과 마스크(300) 간의 견고한 밀착 상태를 유지할 수 있게 된다.
한편, 다시 도 2를 참조하면 상기 척킹유닛(100)에는 상기 마그넷기구(110)의 자력방향과 반대방향으로 기판(200)을 눌러주는 가압기구(120)도 구비되어 있다. 이것은 마그넷기구(110)가 마스크(300)를 기판(200) 쪽으로 끌어당겨주는 힘과 반대방향으로 기판(200)을 눌러줌으로써 기판(200)과 마스크(300)가 두 힘 사이에 견고하게 클램핑되도록 해주는 기능을 수행한다.
이 가압기구(120)는 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이 프레임(131)의 4귀에 설치된 하우징(123)과, 하우징(123) 안에 승강 가능하게 설치된 누름핀(121) 및, 누름핀(121)을 기판(200) 방향으로 탄성바이어스시키는 스프링(122)을 구비하고 있다. 따라서, 이 누름핀(121)이 마그넷기구(110)의 자력에 의해 당겨오는 기판(200)을 스프링(122)의 탄성력을 이용하여 반대방향으로 밀어줌으로써, 자력과 탄성력 사이에서 기판(200)과 마스크(300)가 견고하게 클램핑되도록 해준다.
참조부호 130은 프레임승강기구를 나타낸 것으로, 프레임(131)의 고리부(132)에 결합된 와이어(133)를 구동원(134)으로 당기거나 풀어서 프레임(131)을 기판(200) 측에 접근 또는 이격시킨다.
상기와 같은 구조의 척킹유닛(100)을 갖춘 박막 증착 장치는 다음과 같이 사용될 수 있다.
우선, 기판(200)과 마스크(300)를 챔버(700) 안에 장착하고, 상기 프레임(131)을 하강시켜서 각 마그넷기구(110)의 자석막대(111)들이 기판(200)을 통해 마스크(300)와 자력 결합되게 한다. 이에 따라 마스크(300)는 기판(200)에 밀착되며, 도 5a와 같은 평탄한 상태이든, 도 5b와 같은 처짐이 발생한 상태이든 상관없이 견고한 밀착 상태를 유지할 수 있게 된다. 이때 상기 가압기구(120)의 누름핀(121)은 기판(200)의 4귀를 눌러서 클램핑해준다.
따라서, 이 상태에서 증착원(400)으로부터 증착 가스가 분출되면, 마스크(300)의 개구(미도시)를 통해 그 증착 가스가 기판(200)에 증착되면서 원하는 패턴의 박막이 형성된다. 물론, 이때 기판(200)과 마스크(300)는 상기한 본 척킹유닛(100)에 의해 처짐 발생 여부와 상관없이 견고하게 밀착되어 있기 때문에, 섀도우와 같은 증착 불량은 발생하지 않게 된다.
그러므로, 이와 같은 박막 증착 장치를 사용하면, 기판(200)과 마스크(300)가 자중에 의해 처지더라도 여러 부위에 배치된 복수개의 마그넷기구(110)가 그 처진 형상을 따라 자중으로 승강되면서 기판(200)과 마스크(300)를 밀착시킬 수 있으므로, 기판(200)과 마스크(300)가 밀착되지 않아서 생길 수 있는 증착 불량을 효과적으로 억제할 수 있다.
한편, 상기한 복수 마그넷기구(110)의 배치 구조는 다양하게 변형시킬 수도 있다. 예를 들어 도 6a와 같이 모든 마그넷기구(110)를 같은 높이로 배치해서, 자석막대(111)의 승강 높이로 처짐에 대응하게 할 수도 있고, 또는 주로 기판(200)의 중앙부가 처지므로 도 6b와 같이 아예 중앙부에 대응하는 위치의 마그넷기구(110)를 기판(200)과 적당한 높이(h)만큼 좀 더 가깝게 배치할 수도 있다. 이와 같은 다양한 변형이 가능하다.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100: 척킹유닛 110: 마그넷기구
111: 자석막대 112: 볼부싱
120: 가압기구 121: 누름핀
122: 스프링 123: 하우징
130: 프레임승강기구 131: 프레임
200: 기판 300: 마스크
400: 증착원 700: 챔버

Claims (10)

  1. 증착패턴이 형성된 마스크 및, 상기 마스크를 기판의 일면에 밀착시키는 척킹유닛을 포함하며,
    상기 척킹유닛은 자중에 의해 독립적으로 승강하면서 상기 기판의 타면과 접촉하여 상기 마스크와 자력결합되는 복수개의 마그넷기구를 포함하는 박막 증착 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마그넷기구는,
    상기 기판의 타면 측에 배치된 프레임과, 상기 프레임에 설치된 볼부싱 및, 상기 볼부싱 내에 자중으로 승강 가능하게 설치된 자석막대를 포함하는 박막 증착 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 복수개의 마그넷기구가 동일 높이에 정렬되는 박막 증착 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 복수개의 마그넷기구가 서로 다른 높이에 정렬되는 박막 증착 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 복수개의 마그넷기구 중 상기 기판의 가장자리측에 접촉하는 것보다 중앙측에 접촉하는 것이 상기 기판과 더 가깝도록 배치된 박막 증착 장치.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 척킹유닛에 상기 기판을 상기 마그넷기구와 자력 결합방향과 반대방향으로 눌러주는 가압기구가 더 구비된 박막 증착 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 가압기구는 상기 프레임에 설치된 하우징과, 상기 하우징 안에 설치된 누름핀 및, 상기 누름핀에 상기 기판을 가압하는 방향으로 탄성력을 제공하는 스프링을 포함하는 박막 증착 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 가압기구는 상기 프레임의 4귀에 설치된 박막 증착 장치.
  9. 제 2 항에 있어서,
    상기 프레임을 승강시키는 프레임승강기구가 더 구비된 박막 증착 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 프레임승강기구는,
    상기 프레임을 지탱하는 와이어 및, 상기 와이어를 승강시키는 구동원을 포함하는 박막 증착 장치.
KR1020130130457A 2013-10-30 2013-10-30 박막 증착 장치 KR102270080B1 (ko)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180056990A (ko) * 2016-11-21 2018-05-30 한국알박(주) 막 증착 장치 및 방법
KR101979116B1 (ko) * 2017-11-21 2019-05-15 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
CN109972084A (zh) * 2017-12-27 2019-07-05 佳能特机株式会社 成膜装置、成膜方法、以及电子设备的制造方法
KR20220031519A (ko) * 2020-09-04 2022-03-11 캐논 톡키 가부시키가이샤 캐리어, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102490886B1 (ko) * 2015-10-16 2023-01-25 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 인장 용접 장치
KR102481383B1 (ko) * 2016-02-02 2022-12-27 삼성디스플레이 주식회사 레이저 가공장치 및 이를 이용한 레이저 가공방법
JP6919145B2 (ja) * 2017-08-09 2021-08-18 株式会社飯沼ゲージ製作所 マスク製造装置及びマスク製造方法
CN107502859B (zh) * 2017-08-23 2019-08-06 京东方科技集团股份有限公司 用于掩膜板的对位装置、蒸镀设备及对位方法
US11818944B2 (en) * 2020-03-02 2023-11-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Deposition system for high accuracy patterning
JP7113861B2 (ja) * 2020-03-13 2022-08-05 キヤノントッキ株式会社 マスク取付装置、成膜装置、マスク取付方法、成膜方法、電子デバイスの製造方法
KR20220004893A (ko) * 2020-07-03 2022-01-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005281746A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Seiko Epson Corp 蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器
KR20070090018A (ko) * 2005-03-24 2007-09-04 미쯔이 죠센 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법 및 유기 ｅｌ 소자의 제조 방법
KR100762695B1 (ko) * 2006-05-09 2007-10-01 삼성에스디아이 주식회사 유기물 증착장치
JP2008059757A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Canon Inc 有機発光表示装置の製造方法
JP2009277655A (ja) * 2008-05-15 2009-11-26 Samsung Mobile Display Co Ltd 有機電界発光表示装置の製造装置及び製造方法
KR20100024945A (ko) * 2007-12-27 2010-03-08 캐논 아네르바 가부시키가이샤 처리장치, 전자방출소자 및 유기 ｅｌ 디스플레이의 생산방법

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6451114B1 (en) * 1999-04-22 2002-09-17 Quality Microcircuits Corporation Apparatus for application of chemical process to a workpiece
KR100861267B1 (ko) 2002-04-29 2008-10-01 엘지디스플레이 주식회사 메탈 마스크
KR100838065B1 (ko) * 2002-05-31 2008-06-16 삼성에스디아이 주식회사 박막증착기용 고정장치와 이를 이용한 고정방법
KR100563619B1 (ko) 2004-03-11 2006-03-22 주식회사 야스 자석을 이용한 마스크의 고정장치
KR100994017B1 (ko) 2007-12-12 2010-11-11 주식회사 엘지화학 마스크를 이용한 패턴의 제조방법
JP2010196126A (ja) * 2009-02-26 2010-09-09 Canon Inc 真空蒸着装置の重石板およびそれを用いた真空蒸着装置
KR101649905B1 (ko) 2009-12-07 2016-08-23 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치의 증착장치
US20120237682A1 (en) * 2011-03-18 2012-09-20 Applied Materials, Inc. In-situ mask alignment for deposition tools
KR101951222B1 (ko) 2011-08-16 2019-04-25 엘지디스플레이 주식회사 트레이 및 증착 시스템

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005281746A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Seiko Epson Corp 蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器
KR20070090018A (ko) * 2005-03-24 2007-09-04 미쯔이 죠센 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법 및 유기 ｅｌ 소자의 제조 방법
KR100762695B1 (ko) * 2006-05-09 2007-10-01 삼성에스디아이 주식회사 유기물 증착장치
JP2008059757A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Canon Inc 有機発光表示装置の製造方法
KR20100024945A (ko) * 2007-12-27 2010-03-08 캐논 아네르바 가부시키가이샤 처리장치, 전자방출소자 및 유기 ｅｌ 디스플레이의 생산방법
JP2009277655A (ja) * 2008-05-15 2009-11-26 Samsung Mobile Display Co Ltd 有機電界発光表示装置の製造装置及び製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180056990A (ko) * 2016-11-21 2018-05-30 한국알박(주) 막 증착 장치 및 방법
KR101979116B1 (ko) * 2017-11-21 2019-05-15 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
CN109972084A (zh) * 2017-12-27 2019-07-05 佳能特机株式会社 成膜装置、成膜方法、以及电子设备的制造方法
KR20220031519A (ko) * 2020-09-04 2022-03-11 캐논 톡키 가부시키가이샤 캐리어, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법

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