KR20150043910A - 피부 각질제거용 화장료 조성물 - Google Patents

피부 각질제거용 화장료 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20150043910A
KR20150043910A KR20130122914A KR20130122914A KR20150043910A KR 20150043910 A KR20150043910 A KR 20150043910A KR 20130122914 A KR20130122914 A KR 20130122914A KR 20130122914 A KR20130122914 A KR 20130122914A KR 20150043910 A KR20150043910 A KR 20150043910A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cosmetic composition
weight
emulsion stabilizer
phage
polyol
Prior art date
Application number
KR20130122914A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101960286B1 (ko
Inventor
정민우
김영준
유용희
Original Assignee
주식회사 엘지생활건강
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지생활건강 filed Critical 주식회사 엘지생활건강
Priority to KR1020130122914A priority Critical patent/KR101960286B1/ko
Publication of KR20150043910A publication Critical patent/KR20150043910A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101960286B1 publication Critical patent/KR101960286B1/ko

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/72Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/96Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing materials, or derivatives thereof of undetermined constitution
    • A61K8/97Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing materials, or derivatives thereof of undetermined constitution from algae, fungi, lichens or plants; from derivatives thereof
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q19/00Preparations for care of the skin
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q19/00Preparations for care of the skin
    • A61Q19/10Washing or bathing preparations

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • Botany (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Mycology (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

본 발명은 스크럽제, 폴리올 및 유화안정화제를 포함하는 고형의 피부 각질제거용 화장료 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명의 피부 각질제거용 화장료 조성물은 조성물 총 중량 대비 스크럽제 5 내지 70 중량%, 폴리올 10 내지 70 중량% 및 유화안정화제 3 내지 20 중량% 포함한다. 본 발명의 피부 각질제거용 화장료 조성물은 상 안정성 및 사용감이 우수하다. 특히, 본 발명의 화장료 조성물은 유화안정화제로서 피이지-150 디스테아레이트, 세테아레스-20 또는 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트를 포함함으로써, 화장료를 피부에 도포할 때 체온에 의해 녹아 펴발림성이 좋게 하고, 폴리올 내에서 스크럽제의 응집을 막아 상을 안정화 시켜준다.

Description

피부 각질제거용 화장료 조성물{Cosmetic composition for exfoliating skin}
본 발명은 산뜻한 사용감을 가진 고형성상의 화장료로서, 사용 시 체온에 녹아 쉽게 펴발리는 피부 각질제거용 화장료 조성물에 관한 것이다.
피부 최외각에 위치한 각질층의 가장 중요한 기능은 외부로부터의 다양한 자극에 대한 피부 및 신체를 보호하는 것이다. 각질층의 구성은 케라틴이라 불리는 단백질, 지방, 수용성 물질 및 수분으로 이루어져 있다. 피부 속에서 성장하는 피부세포는 각질층으로 올라오면서 각질세포를 형성하고, 생성과 탈락을 반복한다. 이러한 과정을 각질 턴오버(turnover)라고 하는데 나이가 들수록 또는 자외선이나 스트레스와 같은 외부의 자극으로부터 이 각질 턴오버가 정상적인 주기로 떨어져 나가지 못하는 되는 과각화 현상이 나타나게 된다. 이러한 과각화된 각질층으로 인하여 피부톤이 일정하지 않고, 피부가 거칠고 칙칙하게 보이게 되고, 화장이 고르지 않게 된다.
이러한 문제점들을 해결하기 위하여 다양한 각질제거용 화장료들이 개발되고 있다. 각질제거용 화장료를 크게 구분하면 각질을 제거하는 방법에 따라 화학적 각질제거용 화장료 및 물리적 각질제거용 화장료로 나눌 수 있다.
화학적 각질제거 방법으로는 알파하이드록시산(AHA; Alpha hydroxyl acid) 또는 베타하이드록시산(BHA; Beta hydroxy acid) 등 화학물질로 각질을 녹여 제거하는 것이다. AHA나 BHA를 사용할 경우, pH가 낮은 상태에서 활성을 나타내므로 피부에 자극을 일으키거나 화학적인 피부 부작용이 나타날 수 있다.
물리적 각질제거 방법은 여러 형태의 스크럽(scrub) 등을 제형 내에 첨가한 화장료를 피부와 마찰을 발생시켜 각질을 탈리시키는 것으로, 화학적인 각질제거 제형보다 화학적인 피부 부작용은 없지만 입자크기가 크고 거친 스크럽을 사용하게 되어 물리적인 자극감을 느낄 수 있다.
통상적으로 사용되는 스크럽으로는 폴리에칠렌과 같은 합성원료와 셀룰로오스, 만난, 호두 껍질, 복숭아씨 또는 살구씨와 같은 단단한 씨를 갈아서 만든 천연 스크럽제와 소금, 설탕, 칼슘클로라이드, 알루미늄옥사이드, 소듐바이카보네이트와 같은 결정을 이루는 스크럽제가 사용되고 있다.
대한민국 특허출원 제10-2010-0064435호에는 스크럽제로서 소금을 정제수 베이스에 과포화시켜서 안정화하였고, 대한민국 특허출원 제10-2009-0070880호에는 스크럽제로서 설탕을 오일과 오일 증점제를 사용하여 비수계 분산 안정화하였다. 정제수에 녹는 스크럽제인 설탕과 소금을 정제수 베이스에 분산시킬 경우, 반드시 과포화 시켜야 하고, 카르복시비닐폴리머 또는 산탄검, 카라기난검, 셀룰로오스검 등의 분산 안정화제를 사용하여야 하는데 뜨임성과 펴발림성이 부족하여 피부에 자극이 될 수 있다. 스크럽제를 오일 베이스에 분산시킬 경우, 경도가 높아서 제조가 쉽지 않고, 고온에서 오일이 표면에 배어 나오는 문제로 인해 개봉 시 오일이 흘러내리는 문제가 생길 수 있고, 물로 씻었을 때 오일 잔여감이 남을 수 있다.
또한, 대한민국 특허출원 제10-2010-0043792호에는 에탄올과 오일 혼합 베이스에 안정화제로 폴리비닐알코올 또는 폴리비닐피롤리돈을 사용하여 안정화하였으나, 사용량이 많아짐에 따라 점도가 높고 끈적임이 강하게 되고, 사용량을 줄이면 점도가 낮아져 피부 위에서 흘러내리는 문제점이 있다.
또한, 대한민국 특허출원 제10-2011-0067863에서는 폴리올 베이스에 안정화제로 카르복시비닐중합체 또는 아크릴레이트 공중합체 또는 아크릴레이트와 탄소수 10 내지 30의 알킬아크릴레이트와의 가교공중합체를 스크럽의 분산 안정화제로 사용하였다. 스크럽제의 분산 안정화를 위하여 수용성 아크릴계 점증제의 사용량이 많아지게 되어 끈적끈적하고 늘어나며, 펴발림성이 나빠져 마사지감이 나쁜 단점이 있다.
이러한 피부 각질제거용 화장료 제형의 안정성을 강화하려는 연구는 활발하게 진행되고 있지만, 화장료 내 스크럽제가 잘 분산되어 상 안정성이 우수하면서 사용감 또한 확보하고자 하는 연구의 진행 상황은 아직까지 미비한 상태이다.
따라서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 스크럽제의 함유로 인한 상의 불안정성을 없애고, 사용 시 쉽게 펴발리고, 오일 잔여감이 없으며, 충분한 보습감 및 유연성을 제공하는 피부 각질제거용 화장료 조성물을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 스크럽제, 폴리올 및 유화안정화제를 포함하는 피부 각질제거용 화장료 조성물을 제공한다.
본 발명자들은 피부 각질제거용 화장료 조성물의 상 안정성 및 사용감을 증진시키기 위해 연구하던 중, 하기의 스크럽제, 폴리올 및 유화안정화제를 특정한 조성비로 포함하는 피부 각질제거용 화장료 조성물은 상 안정성 및 사용감이 현저하게 우수한 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
이하 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명은 조성물 총 중량 대비 스크럽제 5 내지 70 중량%, 폴리올 10 내지 70 중량% 및 유화안정화제 3 내지 20 중량%를 포함하는 피부 각질제거용 화장료 조성물을 제공한다.
본 발명의 피부 각질 제거용 화장료 조성물은 피부의 각질을 제거하는 역할을 하는 스크럽제를 포함한다. 바람직하게는, 상기 스크럽제는 피부에 자극이 적고 부드러운 사용감을 주기 위해, 입자의 크기가 작고 표면이 매끄러운 구형체인 것이 사용될 수 있다. 상기 스크럽제는 예를 들어, 소금, 설탕, 셀룰로오스, 만난, 황토 등의 천연물 소재; 살구씨가루, 팥가루, 검은콩가루, 송화가루, 백봉령가루, 호두껍질분말, 원두커피분말 등의 식물 소재; 폴리에칠렌, 폴리스틸렌 등의 합성 소재; 및 알루미나 분말, 칼슘카보네이트, 소듐바이카보네이트, 마그네슘옥사이드, 실리카, 산화티탄 등의 광물 소재로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들의 혼합물이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 스크럽제는 본 발명의 조성물 총 중량 대비 5 내지 70 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 25 내지 50 중량%로 포함될 수 있다. 상기 스크럽제가 5 중량% 미만으로 포함되는 경우 각질제거를 위한 목적으로 쓰는 스크럽제의 효능을 충분히 가질 수 없다. 상기 스크럽제가 70 중량%를 초과하여 포함될 경우 스크럽제와 함께 기타 성분이 다량 포함되어 제품의 안정성이 나빠지고, 화장료 조성물의 분산이 용이하지 않으며, 마사지 시 뻑뻑한 롤링감으로 인하여 피부자극이 유발될 가능성이 높다.
본 발명의 각질 제거용 화장료 조성물은 기존의 각질제거용 화장료에 주로 쓰이는 알코올, 극성 또는 비극성 오일 대신 폴리올을 포함한다. 화장료 조성물에 알코올이 포함될 경우 화학적 피부 자극이 발생하고, 오일이 단순 분산되어 포함된 경우 제형의 고온 안정성이 나쁘며 세정력이 떨어져 오일 잔여감이 피부에 남는 문제점이 발생한다. 반면, 본 발명의 각질 제거용 화장료 조성물은 폴리올을 포함함으로써 세정 시 물에 쉽게 분산되기 때문에 잔여감이 남지 않고, 피부에 도톰하게 롤링되어 자극을 줄여주며, 피부 마사지 시 일시적 열감에 의하여 피부결 사이사이의 노폐물을 제거할 수 있다.
상기 폴리올은 화장료에 통상적으로 사용되는 글리세린, 디글리세린, 부틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜, 프로판디올, 펜틸렌글라이콜, 피이지-6 및 피이지-8 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들의 혼합물이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 폴리올은 본 발명의 조성물 총 중량 대비 10 내지 70 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 30 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 상기 폴리올이 10 중량% 미만으로 포함되는 경우, 스크럽제와 함께 기타 성분의 다량 사용으로 인하여 제품의 안정성이 나빠지고, 70 중량%를 초과하여 포함될 경우, 유화안정화제에 의한 점도 형성이 약하여 제형화가 어려울 수 있다.
본 발명의 각질 제거용 화장료 조성물은 폴리올에 점도를 부여하기 위해 유화안정화제를 포함한다. 기존의 화장료 조성물은 폴리올의 점도를 증가시키기 위해서 폴리비닐알코올 또는 카르복시비닐폴리머 등의 합성 폴리머가 포함되는데, 합성 폴리머가 포함될 경우 제형의 사용감이 끈적하고 퍼짐성이 나쁜 단점이 있다. 반면, 본 발명의 화장료 조성물은 유화안정화제를 포함함으로써 사용 시 체온에 녹아 쉽게 퍼지므로, 합성 폴리머와 달리 끈적하지 않고 펴발림성이 좋다. 또한, 상기 유화안정화제는 폴리올 내에서 스크럽제의 응집을 막아주고 적절한 경도를 제공하여, 스크럽제의 침전을 막고 안정화 시켜준다.
상기 유화안정화제는 화장료에 통상적으로 사용되는 피이지-150 디스테아레이트, 피이지-90 디이소스테아레이트, 폴리글리세릴-10 베헤네이트/에이코사디오에이트, 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트, 세테아레스-20, 올레스-20, 세테스-20, 글리세릴 스테아레이트, 피이지-100 스테아레이트, 세테아릴 알코올, 세테아릴 글루코사이드, 포타슘 카보머, 피이지-8 비즈왁스 및 실리카 실릴레이트 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들의 혼합물이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 목적상 화장료 조성물의 안정한 상을 유지하기 위해 유화안정화제로 피이지-150 디스테아레이트, 세테아레스-20 또는 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
상기 유화안정화제는 본 발명의 조성물 총 중량 대비 3 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 5 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 유화안정화제가 3 중량% 미만으로 포함되는 경우, 스크럽제의 경도 상승 효과가 미미하여 스크럽제의 침전을 일으킬 수 있다. 상기 유화안정화제가 20 중량%를 초과하여 포함될 경우, 제형 내 스크럽제의 분산이 용이하지 않고 경도가 너무 높아져 사용감이 떨어진다.
본 발명은 상기 폴리올은 피이지-8이고, 상기 유화안정화제는 피이지-150 디스테아레이트, 세테아레스-20, 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물을 제공한다. 이러한 성분들과 해당 함량으로 이루어진 화장료 조성물의 경우, 피부 안정성, 롤링감, 열감 등의 사용감 및 상 안정성의 측면에서 더욱 바람직하다.
또한, 본 발명은 조성물 총 중량 대비 소듐바이카보네이트 5 내지 70 중량%, 피이지-8 또는 글리세린 10 내지 70 중량%, 피이지-150 디스테아레이트 1 내지 10 중량%, 세테아레스-20 1 내지 10 중량% 및 향료를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물을 제공한다. 이러한 성분들과 해당 함량으로 이루어진 화장료 조성물의 경우, 화장료 제형의 상 안정성 및 사용감 등의 측면에서 더욱 바람직하다.
본 발명의 각질 제거용 화장료 조성물은 상기 성분 외에 화장료에 통상적으로 사용되는 성분, 예를 들어, 보습제, 방부제, 점증제, 계면활성제, 색소 또는 향료 등이 포함될 수 있으며, 필요에 따라 함량을 정할 수 있다. 또한, 본 발명의 각질 제거용 화장료 조성물은 정제수를 포함할 수 있으며, 이는 상기 성분들을 제외한 잔량으로 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 각질제거용 화장료는 자(jar)타입의 용기에 담을 수 있는 정도의 경도가 바람직하다. 경도가 너무 낮으면 고온 안정성이 나빠지고, 경도가 너무 높으면 손으로 떠서 쓰기 어렵게 된다.
본 발명의 화장료 조성물은 고온에서도 상 안정성이 우수하다. 또한, 본 발명의 화장료 조성물은 쉽게 덜어 쓸 수 있고 피부에 잘 도포되어 마사지가 용이하고 씻김성이 좋아 사용감이 우수하다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 실시예 등을 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
실험예 1. 폴리올 유화안정화제 스크리닝
피이지-8은 피부안정성이 우수하고, 글리세린에 비해 롤링감이 좋으며, 물에 닿았을 경우, 열감 효과를 줄 수 있어, 본 실험에서는 폴리올로 피이지-8을 선정하였다. 폴리올과 유화안정화제와의 친화성을 보기 위해서 원료를 스크리닝 하였다.
조성물 총 중량 대비 피이지-8 90 중량%, 유화안정화제 10 중량%를 80℃로 가온하여 완전히 녹인 후, 상온에 1시간 정치하여 냉각시켜 투명성, 경도 등을 측정하여 그 결과를 표 1에 정리하였다. 하기 표 1에 피이지-8에 유화안정화제 사용 시 실온에서의 안정도를 나타내었다.
유화안정화제 명칭 투명성 안정도
피이지-150 디스테아레이트(PEG-150 Distearate) 투명 안정
폴리글리세릴-10베헤네이트/에이코사디오에이트
(Polyglyceryl-10 Behenate/Eicosadioate)
불투명 표면에서 분리 일어남
피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트
(PEG-60 Glyceryl Isostearate)
투명 경도 낮음.
세테아레스-20(Ceteareth-20) 투명 경도 높음.
글리세릴 스테아레이트(Glyceryl Stearate) 불투명 석출 발생
글리세릴 스테아레이트, 피이지-100 스테아레이트(Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate) 불투명 석출 발생
세테아릴 알코올, 세테아릴 글루코사이드
(Cetearyl Alcohol, Cetearyl Glucoside)
불투명 경도 높음. 석출 발생
포타슘 카보머(Potassium carbomer) 불투명 경도 높음. 석출 발생
피이지-8 비즈왁스(PEG-8 Beeswax) 불투명 경도 낮음. 석출 발생
실리카 실릴레이트 (Silica Silylate) 불투명 경도 낮음. 표면 분리
상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이 실온에서 피이지-8에 유화안정화제의 종류에 따라 표면에 피이지-8이 표면에 배어 나오거나, 유화안정화제가 석출되는 현상이 발생했다. 이는 유화안정화제와 피이지-8과의 용해도와 구조적인 특성 등에 의한 것으로, 제형의 안정도를 고려하여 유화안정화제를 선정하는 것이 바람직하다는 것을 알 수 있다. 본 실험을 통해 피이지-150 디스테아레이트, 세테아레스-20 또는 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트가 화장료 조성물의 가장 안정한 상을 유지시켜 줌을 알 수 있었다.
또한, 사용하는 폴리올의 종류에 따라 유화안정화제의 투명성, 안정성 정도가 다르나, 폴리올의 점도가 낮은 경우 형성되는 제형의 점도가 낮은 것이 일반적이다.
각질 제거용 조성물의 제조
상기 실험예에서 선택된 유화안정화제 및 스크럽제를 사용하여 각질 제거용 화장료 조성물을 제조하였다. 하기 표 2의 조성으로 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 6을 제조하였다. 본 발명의 스크럽제로 소듐바이카보네이트를 사용하고 실시예의 신규한 유화안정화제와 비교예의 기존의 폴리올의 점증을 위해 사용되는 기존의 원료를 사용하여 그 물성을 비교하였다.
<제조 방법>
실시예 1 내지 3과 비교예 5 내지 6은 폴리올에 유화안정화제를 넣고 75℃까지 가온하여 완전히 용해시키고 스크럽제를 넣어 충분히 분산시킨 후 40℃에서 용기에 배출하면 표면이 단단한 고형밤 성상의 제형이 형성된다. 비교예 1 내지 4는 실온에서 폴리올에 유화안정화제를 분산시키면서 투입하고 스크럽제를 투입하여 점도를 형성하였다.
성분명 실시예 비교예
1 2 3 1 2 3 4 5 6
피이지-8 To 100 - To 100 To 100 - To 100 - To 100 -
글리세린 - To 100 20.0 - To 100 - To 100 - To 100
세테아레스-20 5.0 5.0 5.0 - - - - - -
피이지-150 디스테아레이트 5.0 5.0 5.0 - - - - - -
포타슘카보머 - - - 1.0 1.0 - - - -
실리카 시릴레이트 - - - - - 5.0 5.0 - -
폴리글리세릴-10 베헤네이트/에이코사디오에이트 - - - - - - - 5.0 5.0
폴리소르베이트 20 - - - 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0
향료 적량 적량 적량 적량 적량 적량 적량 적량 적량
소듐바이카보네이트 40.0 40.0 40.0 40.0 40.0 40.0 40.0 40.0 40.0
실험예 2. 상 안정성 평가
상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 6의 피부 각질제거용 화장료 조성물에 대하여 상 안정성을 평가하였다. 구체적으로, 25℃ 및 45℃에서 4주 동안 보관하면서 상(phase)의 분리 여부를 육안으로 관찰하였다. 상 안정성 평가 결과를 하기 표 3에 나타냈으며, 평가 방법은 하기와 같다.
평가 방법
○ : 양호
Χ : 불안정
항목 실시예 비교예
1 2 3 1 2 3 4 5 6
실온 Χ
45℃ 보관 Χ Χ Χ Χ Χ
상기 표 3의 상 안정성 평가에 있어서, 25℃ 4주 경시 견본의 경우, 비교예 1을 제외한 실시예 및 비교예 모두 안정함을 보였지만, 45℃ 4주 경시 견본의 경우 실시예 1 내지 3과 비교예 2를 제외하고는 모두 표면에 액이 배어 나오는 현상이 발생되었다. 본 발명에 따른 실시예 1 내지 3이 비교예의 조성물에 비해 우수한 경시적 안정성을 나타내었으며, 특히 고온에서 우수한 안정성을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.
실험예 3. 사용감 평가
상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 6의 피부 각질제거용 화장료 조성물에 대하여 20 ~ 40세 여성 20명을 대상으로 도포성, 마사지 용이성, 씻김성, 각질 제거력 및 사용 후 만족도를 조사하였다.
일반적인 각질제거용 제품의 사용방법에 따라 상기 각질제거용 화장료 조성물로 얼굴을 마사지한 후, 도포성, 마사지 용이성, 씻김성에 대하여, ‘우수하다’, ‘나쁘다’ 중 한가지를 선택하도록 하였으며, 사용 후 만족도는 전반적인 제형의 만족도를 조사하였다. 조사 결과를 하기와 같은 방법으로 정리하여 표 4에 나타냈다.
평가 방법
◎ : 20명 중 15명 이상이 「우수하다」 라고 회답.
○ : 20명 중 10 ~ 14명 이상이 「우수하다」 라고 회답.
△ : 20명 중 6 ~ 9명 이상이 「우수하다」 라고 회답.
Χ : 20명 중 5명 이하가 「우수하다」 라고 회답.
- : 무응답
항목 실시예 비교예
1 2 3 1 2 3 4 5 6
도포성 -
마사지 용이성 -
씻김성 -
만족도 -
상기 표 4에 나타나는 바와 같이, 본 발명의 피부 각질제거용 화장료 조성물은 비교예에 비해 전반적으로 동일하거나 우월한 사용감을 보였으며, 특히, 비교예에 비해 탁월한 도포성과 마사지 용이성을 갖고 있고, 씻김성도 우수하여 비교예 대비 사용 후 만족도에서 높은 평가를 받았다.
위의 표 3과 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 상 안정성, 도포성, 마사지 용이성, 씻김성 및 사용 후 만족도 조사에서 실시예 1 내지 3 이 비교예 1 내지 6 보다 실온 및 고온에서 안정도가 향상되었고, 사용 시 피부 각질제거용 화장료로서의 감성품질도 우수함을 확인하였다. 이는 본 발명이 피부 각질제거용 화장료로서 기존의 제형에 비해 탁월한 사용감을 가짐을 의미한다.

Claims (7)

  1. 조성물 총 중량 대비 스크럽제 5 내지 70 중량%, 폴리올 10 내지 70 중량% 및 유화안정화제 3 내지 20 중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 스크럽제는 천연물 소재, 식물 소재, 광물 소재 및 합성 소재로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 폴리올은 글리세린, 디글리세린, 부틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜, 프로판디올, 펜틸렌글라이콜, 피이지-6 및 피이지-8로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 유화안정화제는 피이지-150 디스테아레이트, 피이지-90 디이소스테아레이트, 폴리글리세릴-10 베헤네이트/에이코사디오에이트, 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트, 세테아레스-20, 올레스-20, 세테스-20, 글리세릴 스테아레이트, 피이지-100 스테아레이트, 세테아릴 알코올, 세테아릴 글루코사이드, 포타슘 카보머, 피이지-8 비즈왁스 및 실리카 실릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 유화안정화제는 피이지-150 디스테아레이트, 세테아레스-20, 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 폴리올은 피이지-8이고, 상기 유화안정화제는 피이지-150 디스테아레이트, 세테아레스-20, 피이지-60 글리세릴 이소스테아레이트 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
  7. 조성물 총 중량 대비 소듐바이카보네이트 5 내지 70 중량%, 피이지-8 또는 글리세린 10 내지 70 중량%, 피이지-150 디스테아레이트 1 내지 10 중량%, 및 세테아레스-20 1 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 각질제거용 화장료 조성물.
KR1020130122914A 2013-10-15 2013-10-15 피부 각질제거용 화장료 조성물 KR101960286B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130122914A KR101960286B1 (ko) 2013-10-15 2013-10-15 피부 각질제거용 화장료 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130122914A KR101960286B1 (ko) 2013-10-15 2013-10-15 피부 각질제거용 화장료 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150043910A true KR20150043910A (ko) 2015-04-23
KR101960286B1 KR101960286B1 (ko) 2019-03-20

Family

ID=53036316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130122914A KR101960286B1 (ko) 2013-10-15 2013-10-15 피부 각질제거용 화장료 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101960286B1 (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190048920A (ko) 2017-10-31 2019-05-09 코스맥스 주식회사 피부 각질 제거용 화장료 조성물
KR20200140005A (ko) 2019-06-05 2020-12-15 (주)아모레퍼시픽 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물
KR20210049609A (ko) * 2019-10-25 2021-05-06 코스맥스 주식회사 고마쥬 타입 각질제거용 수분산 스틱형 화장료 조성물
KR20210001620U (ko) 2020-01-06 2021-07-14 장미경 메이크업 세정효과 및 각질제거 효과가 뛰어난 고마쥬 젤 타입 클렌징 화장료 조성물의 제조방법
KR20210112937A (ko) * 2020-03-06 2021-09-15 주식회사 금수 스크럽 화장료 조성물 및 이의 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110051392A (ko) * 2009-11-10 2011-05-18 코스맥스 주식회사 피부 각질 박리용 화장료 조성물
KR20130010984A (ko) * 2011-07-20 2013-01-30 주식회사 제닉 구증구포 분말을 포함하는 화장료 조성물 및 이의 제조방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110051392A (ko) * 2009-11-10 2011-05-18 코스맥스 주식회사 피부 각질 박리용 화장료 조성물
KR20130010984A (ko) * 2011-07-20 2013-01-30 주식회사 제닉 구증구포 분말을 포함하는 화장료 조성물 및 이의 제조방법

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190048920A (ko) 2017-10-31 2019-05-09 코스맥스 주식회사 피부 각질 제거용 화장료 조성물
KR20200140005A (ko) 2019-06-05 2020-12-15 (주)아모레퍼시픽 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물
KR20210049609A (ko) * 2019-10-25 2021-05-06 코스맥스 주식회사 고마쥬 타입 각질제거용 수분산 스틱형 화장료 조성물
KR20210001620U (ko) 2020-01-06 2021-07-14 장미경 메이크업 세정효과 및 각질제거 효과가 뛰어난 고마쥬 젤 타입 클렌징 화장료 조성물의 제조방법
KR20210112937A (ko) * 2020-03-06 2021-09-15 주식회사 금수 스크럽 화장료 조성물 및 이의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR101960286B1 (ko) 2019-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101960286B1 (ko) 피부 각질제거용 화장료 조성물
JP5687848B2 (ja) 洗浄剤組成物
US20100015187A1 (en) Macro-sized lipid capsule emulsion composition and cosmetic composition containing the same
KR101687599B1 (ko) 보습력이 우수한 저자극성의 세정용 화장료 조성물
KR102127674B1 (ko) 실리콘-프리 및 피이지-프리의 워터 드롭 고형타입 유중수형 화장료 조성물 및 이의 제조방법
KR20150082791A (ko) 다기능 클렌징 화장료 조성물
KR20130055069A (ko) 재결정 입자를 갖는 수중유 유화 조성물 및 이를 포함하는 화장료 조성물
KR20180133170A (ko) 오일 고함유 세정제의 거품력을 향상시킨 클렌징 화장료 조성물
CN107737028A (zh) 一种温和的三层卸妆液及其制备方法
JP2010235514A (ja) 液状クレンジング用組成物
KR100849100B1 (ko) 피부 각질 제거용 화장료 조성물 및 그의 제조방법
KR102269198B1 (ko) 피부 각질 박리용 배니싱 크림 화장품 조성물 및 이의 제조 방법
KR20200049151A (ko) 실리콘 분체를 안정화시킨 무 계면활성제의 수중유형 화장료 조성물
KR101859674B1 (ko) 알약 형태의 화장료 조성물
KR101984165B1 (ko) 클렌징 겸용 피부 각질 제거용 화장료 조성물
KR102029652B1 (ko) 피부 각질 제거용 화장료 조성물
JP5153352B2 (ja) クレンジング化粧料組成物
CN110664687B (zh) 护肤型净颜卸妆膏及其制备方法
WO2021129796A1 (zh) 易卸妆的皮肤用打底化妆品
KR20220043697A (ko) 배 건조 파우더의 제조방법, 이에 의해 제조된 배 건조 파우더 및 그 용도
KR20140040001A (ko) 저융점 버터 또는 왁스를 포함하는 화장료 조성물
KR20160121723A (ko) 액정 클렌징 조성물의 제조방법
CN113226482A (zh) 凝胶状化妆品
KR101008703B1 (ko) 각질제거용 화장료 조성물
KR102668504B1 (ko) 메이크업 제거 및 각질 제거용 고마쥬 타입 화장료 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant