KR20150043104A - 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법 - Google Patents

인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판은 절연층, 절연층의 일면으로부터 함몰되도록 형성된 제1 비아, 절연층의 타면으로부터 함몰되도록 형성된 제2 비아 및 절연층 내부에 형성되며 제1 비아 및 제2 비아와 접합되는 회로 패턴을 포함할 수 있다.

Description

인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법{PRINTED CIRCUIT BOARD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법에 관한 것이다.
최근 전자제품은 다기능화 및 고속화의 추세가 빠른 속도로 진행되고 있다. 이런 추세에 대응하기 위해서 반도체 칩 및 반도체 칩이 실장되는 인쇄회로기판도 매우 빠른 속도로 발전하고 있다. 이와 같은 인쇄회로기판은 경박단소화, 미세 회로화, 우수한 전기적 특성, 고신뢰성, 고속 신호전달 등이 요구된다.
종래에는 내부에 코어층을 삽입하여 인쇄회로기판의 휨 현상(Warpage)을 방지하는 코어 기판이 주로 사용되어 왔다.(미국공개특허 제20040058136호) 그러나 코어 기판은 두께가 두껍고 신호처리시간이 길다.
또한, 스마트 기기 등의 전자 제품의 박형화에 따라 실장되는 제품들 역시 박형화가 요구되고 있다.
본 발명의 일 측면은 캐리어 기판을 이용한 초박형의 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 측면은 딤플 발생을 방지할 수 있는 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 측면은 회로 패턴 상부에 비아를 형성함으로써, 회로 패턴이 에칭 공정에 의해서 소실되는 것을 방지할 수 있는 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 절연층, 절연층의 일면으로부터 함몰되도록 형성된 제1 비아, 절연층의 타면으로부터 함몰되도록 형성된 제2 비아 및 절연층 내부에 형성되며 제1 비아 및 제2 비아와 접합되는 회로 패턴을 포함하는 인쇄회로기판이 제공된다.
제2 비아는 제1 비아보다 더 깊게 함몰될 수 있다.
제1 비아 및 회로 패턴은 시드층을 더 포함하며, 시드층은 제1 비아의 측면과 제1 비아와 접합되는 회로 패턴의 일면에서 절연층과 접촉되는 부분에 형성될 수 있다.
제2 비아의 함몰 깊이는 제1 비아의 시드층 두께 이상일 수 있다.
절연층은 감광성 절연재로 형성될 수 있다.
절연층은 솔더 레지스트로 형성될 수 있다.
제1 비아, 제2 비아 및 회로 패턴은 전도성 금속으로 형성될 수 있다.
제1 비아 및 회로 패턴은 전도성 금속으로 형성되며, 제2 비아는 전도성 페이스트로 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 캐리어 기판에 제1 비아홀이 패터닝된 제1 절연층을 형성하는 단계, 제1 절연층에 회로 패턴홀이 패터닝된 도금 레지스트를 형성하는 단계, 제1 비아홀 및 회로 패턴홀에 전도성 물질을 형성하여 제1 비아 및 회로 패턴을 형성하는 단계, 도금 레지스트를 제거하는 단계, 회로 패턴을 매립하며, 회로 패턴에 제2 비아홀이 위치하도록 패터닝된 제2 절연층을 형성하는 단계, 제2 비아홀에 전도성 물질을 형성하는 제2 비아를 형성하는 단계 및 캐리어 기판을 제거하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판 제조 방법이 제공된다.
제1 절연층 및 제2 절연층은 감광성 절연재로 형성될 수 있다.
제1 절연층 및 제2 절연층은 솔더 레지스트로 형성될 수 있다.
제1 절연층을 형성하는 단계 이후에, 제1 절연층 및 제1 비아홀에 시드층을 형성하는 단계 및 도금 레지스트를 제거하는 단계 이후에, 도금 레지스트 제거로 노출된 시드층을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
캐리어 기판을 제거하는 단계 이후에, 캐리어 기판 제거로 노출된 시드층을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
시드층을 제거하는 단계에서, 제2 비아가 에칭되어 제거된 시드층 두께 이상으로 제거될 수 있다.
시드층을 제거하는 단계에서, 제1 비아는 제1 절연층에 함몰되며, 제2 비아는 제2 절연층에 함몰되도록 형성될 수 있다.
제1 절연층을 형성하는 단계에서, 제1 절연층은 캐리어 기판의 일면 또는 양면에 형성될 수 있다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법은 캐리어 기판을 이용하여 초박형의 인쇄회로기판을 형성할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법은 회로 패턴 형성 시 발생하는 딤플을 방지할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법은 회로 패턴의 상부에 비아를 형성함으로써, 회로 패턴이 에칭 공정에 의해서 소실되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 예시도이다.
도 2 내지 도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판 제조 방법을 나타낸 예시도이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, "제1", "제2", "일면", "타면" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. 이하, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판에 관한 것이다.
도 1을 참조하면, 인쇄회로기판(100)은 1층의 회로 패턴을 갖는 단층 회로 기판일 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판(100)은 절연층(110), 제1 비아(150), 회로 패턴(140) 및 제2 비아(160)를 포함할 수 있다.
절연층(110)은 통상적으로 층간 절연소재 또는 솔더 레지스트로 사용되는 복합 고분자 수지일 수 있다. 예를 들어, 절연층(110)은 프리프레그, ABF(Ajinomoto Build up Film) 및 FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 등의 에폭시계 수지로 형성될 수 있다. 또한, 절연층(110)은 기판 또는 필름의 형태로 형성될 수 있다. 또한, 절연층(110)은 감광성 절연재로 형성될 수 있다. 그러나 절연층(110)을 형성하는 물질 및 절연층(110)의 형태를 상술한 바로 한정되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 실시 예에 따른 절연층(110)은 회로 기판 분야에서 층간 절연 소재 또는 솔더 레지스트로 사용되는 재질 및 형태 중 어느 것도 적용될 수 있다.
본 발명의 실시 예에서, 절연층(110)은 제1 비아(150), 회로 패턴(140) 및 제2 비아(160)를 매립할 수 있다.
제1 비아(150)는 절연층(110)의 일면에 형성될 수 있다. 또한, 제1 비아(150)는 절연층(110)의 일면으로부터 함몰되도록 형성될 수 있다. 제1 비아(150)는 측면에 시드층(120)이 더 형성될 수 있다. 즉, 제1 비아(150)는 무전해 도금법으로 형성된 시드층(120)과 전해 도금법으로 형성 도금층(130)을 포함할 수 있다. .
본 발명의 실시 예에서, 제1 비아(150)는 절연층(110)의 일면으로부터 시드층(120)의 두께 이상의 깊이를 갖도록 함몰될 수 있다.
회로 패턴(140)은 제1 비아(150)의 타면에 형성될 수 있다. 즉, 회로 패턴(140)은 절연층(110) 내부에 매립되도록 형성될 수 있다. 회로 패턴(140)의 일면에 시드층(120)이 더 형성될 수 있다. 여기서 회로 패턴(140)의 일면은 제1 비아(150)의 타면과 접합되는 면이고, 시드층(120)이 형성된 부분은 절연층(110)과 접촉되는 부분이다. 즉, 회로 패턴(140)은 무전해 도금법으로 형성된 시드층(120)과 전해 도금법으로 형성 도금층(130)을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에서, 회로 패턴(140)의 일면은 제1 비아(150)와 접합되며, 타면은 제2 비아(160)와 접합될 수 있다.
제1 비아(150)와 회로 패턴(140)은 구리와 같은 전도성 금속으로 형성될 수 있다. 그러나 제1 비아(150)와 회로 패턴(140)의 재질이 구리로 한정되는 것은 아니다. 제1 비아(150)와 회로 패턴(140)은 회로 기판 분야에서 사용되는 전도성 금속 중 어느 것도 적용될 수 있다.
제2 비아(160)는 회로 패턴(140)의 타면에 형성될 수 있다. 또한, 제2 비아(160)는 절연층(110)의 타면으로부터 함몰되도록 형성될 수 있다. 제2 비아(160)는 전도성 금속 또는 전도성 페이스트로 형성될 수 있다. 여기서 전도성 금속과 전도성 페이스트는 회로 기판 분야의 전도성 금속과 전도성 페이스트 중 어느 것도 적용될 수 있다. 여기서, 제2 비아(160)는 회로 패턴(140)에 형성되어, 회로 패턴(140)에 딤플이 발생하였을 때, 딤플 공간을 채워주는 역할을 수행할 수 있다. 즉, 제2 비아(160)는 회로 패턴(140)이 딤플이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제2 비아(160)는 회로 패턴(140)에 형성되어 외부 공정 환경으로부터 회로 패턴(140)이 소실되는 것을 방지하는 역할을 수행할 수 있다.
본 발명의 실시 예에서, 제2 비아(160)는 절연층(110)의 타면으로부터 제1 비아(150)의 함몰 깊이보다 더 깊게 함몰될 수 있다. 즉, 제2 비아(160) 역시 시드층(120)의 두께 이상의 깊이를 갖도록 함몰될 수 있다.
도 2 내지 도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 인쇄회로기판 제조 방법에 관한 것이다.
도 2를 참조하면, 캐리어 기판(200)에 제1 절연층(111)을 형성할 수 있다.
캐리어 기판(200)은 동박 적층판 구조일 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 캐리어 기판(200)은 캐리어 절연층(210), 캐리어 금속층(220) 및 시드 금속층(230)으로 형성될 수 있다. 캐리어 기판(200)은 캐리어 절연층(210)의 양면에 캐리어 금속층(220)과 시드 금속층(230)이 차례대로 적층된 구조일 수 있다. 캐리어 절연층(210)은 에폭시 수지 또는 에폭시 수지에 보강재가 함침된 것일 수 있다. 예를 들어 캐리어 절연층(210)은 프리프레그로 형성될 수 있다. 또한, 캐리어 금속층(220) 및 시드 금속층(230)은 구리와 같은 금속으로 형성될 수 있다. 캐리어 금속층(220)과 시드 금속층(230)은 추후 서로 분리될 수 있다. 캐리어 금속층(220)이 캐리어 절연층(210), 캐리어 금속층(220) 및 시드 금속층(230)으로 구성된 것은 본 발명의 실시 예로 캐리어 기판(200)의 구조가 이에 한정되는 것은 아니다. 캐리어 기판(200)은 회로 기판 분야에서 사용되는 캐리어 기판 중 어느 것도 될 수 있다.
본 발명의 실시 예에서 캐리어 기판(200)을 사용함으로써, 초박판인 단층의 인쇄회로기판을 제작할 때 얇은 두께에 의해 발생하는 문제점을 해결할 수 있다. 즉, 캐리어 기판(200)을 적용하여 공정 중에 인쇄회로기판이 항상 일정 이상의 두께를 유지할 수 있다. 따라서, 초박형 인쇄회로기판을 제작할 때, 인쇄회로기판이 얇아 장비에 걸리거나 찢어지는 등의 파손 없이 공정을 진행할 수 있다.
이와 같이 형성된 캐리어 기판(200)의 양면에 제1 절연층(111)이 형성될 수 있다. 제1 절연층(111)은 통상적으로 층간 절연소재 또는 솔더 레지스트로 사용되는 복합 고분자 수지일 수 있다. 예를 들어, 제1 절연층(111)은 프리프레그, ABF(Ajinomoto Build up Film) 및 FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 등의 에폭시계 수지로 형성될 수 있다. 또한, 제1 절연층(111)은 감광성 절연재로 형성될 수 있다. 그러나 제1 절연층(111)의 재질은 이에 한정되는 것은 아니며, 회로 기판 분야에서 층간 절연 소재 또는 솔더 레지스트로 사용되는 재질 중 어느 것도 적용될 수 있다.
제1 절연층(111)은 제1 비아홀(112)을 포함할 수 있다. 제1 비아홀(112)은 제1 절연층(111)을 관통하는 형태로 형성될 수 있다.
예를 들어, 제1 비아홀(112)과 대응되는 개구부를 포함하는 에칭 레지스트를 제1 절연층(111)에 형성한 후, 에칭을 수행하여 제1 비아홀(112)을 형성할 수 있다. 또는 제1 절연층(111)이 감광성 절연재로 형성된 경우, 노광 및 현상을 수행하여 제1 비아홀(112)을 형성할 수 있다.
도 3을 참조하면, 시드층(120)을 형성할 수 있다.
시드층(120)은 제1 절연층(111) 및 제1 비아홀(112)에 형성될 수 있다. 시드층(120)은 구리와 같은 전도성 금속으로 형성될 수 있다. 시드층(120)의 재질은 구리로 한정되는 것은 아니며, 회로 기판 분야에서 사용되는 전도성 금속 중 어느 것도 적용될 수 있다. 시드층(120)은 무전해 도금 방법으로 형성될 수 있다. 시드층(120)이 형성되는 방법은 무전해 도금 방법뿐만 아니라 스퍼터링(Sputtering) 등과 같이 공지된 시드층 형성 방법 중 어느 것도 적용될 수 있다.
도 4를 참조하면, 시드층(120)에 도금 레지스트(300)를 형성할 수 있다.
도금 레지스트(300)는 개구부(301)를 포함할 수 있다. 도금 레지스트(300)의 개구부(301)는 회로 패턴(미도시)이 형성될 영역이 노출되도록 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 도금 레지스트(300)의 개구부(301)는 제1 절연층(111)의 제1 비아홀(112) 상에 형성될 수 있다.
도 5를 참조하면, 도금층(130)이 형성될 수 있다.
도금층(130)은 제1 절연층(111)의 제1 비아홀(112)과 도금 레지스트(300)의 개구부(301)에 형성될 수 있다. 도금층(130)은 구리와 같은 전도성 금속으로 형성될 수 있다. 도금층(130)의 재질은 구리로 한정되는 것은 아니며, 회로 기판 분야에서 사용되는 전도성 금속 중 어느 것도 적용될 수 있다. 또한, 도금층(130)은 전해 도금 방법으로 형성될 수 있다. 이때, 시드층(120)은 도금층(130) 형성을 위한 인입선 역할을 할 수 있다.
도 6을 참조하면, 도금 레지스트(도 6의 300) 및 시드층(120)을 제거할 수 있다.
우선, 도금 레지스트(도 6의 300)를 제거할 수 있다. 이후에 도금 레지스트(도 6의 300)가 제거되어 노출된 시드층(120)을 에칭할 수 있다. 시드층(120)을 제거하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 당업계에 공지된 통상의 방법에 의해서 수행될 수 있다. 예를 들어 시드층(120)은 퀵 에칭 방법 또는 플레시 에칭 방법에 의해서 에칭될 수 있다.
이와 같이 시드층(120)을 제거하여 회로 패턴(140) 및 제1 비아(150)가 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서 회로 패턴(140)은 제1 절연층(111) 상에 형성된 시드층(120)과 도금층(130)으로 구성될 수 있다.
또한, 제1 비아(150)는 제1 절연층(111)에 매립된 시드층(120)과 도금층(130)으로 형성될 수 있다. 도 6에서는 제1 비아(150)가 도금층(130)과 도금층(130)의 측면과 하면을 둘러싸는 시드층(120)으로 형성됨이 도시되었다. 그러나 제1 비아(150)의 하면에 형성된 시드층(120)은 추후 제거될 수 있다.
도 7을 참조하면, 제2 절연층(115)이 형성될 수 있다.
제2 절연층(115)은 회로 패턴(140)을 둘러싸도록 형성될 수 있다.
제2 절연층(115)은 통상적으로 층간 절연소재 또는 솔더 레지스트로 사용되는 복합 고분자 수지일 수 있다. 예를 들어, 제2 절연층(115)은 프리프레그, ABF(Ajinomoto Build up Film) 및 FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 등의 에폭시계 수지로 형성될 수 있다. 또한, 제2 절연층(115)은 감광성 절연재로 형성될 수 있다. 그러나 제2 절연층(115)의 재질은 이에 한정되는 것은 아니며, 회로 기판 분야에서 층간 절연 소재 또는 솔더 레지스트로 사용되는 재질 중 어느 것도 적용될 수 있다.
제2 절연층(115)에는 제2 비아홀(116)이 형성될 수 있다. 제2 비아홀(116)은 추후 제2 비아(미도시)가 형성될 영역에 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 제2 비아홀(116)은 회로 패턴(140) 상에 형성될 수 있다.
제1 절연층(111)과 제2 절연층(115)은 동일한 재질로 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에 따른 제1 절연층(111)과 제2 절연층(115)은 도 1에 도시된 절연층(도 1의 110)이 될 수 있다.
도 8을 참조하면, 제2 비아(160)를 형성할 수 있다.
제2 비아(160)는 제2 비아홀(116)을 충전함으로써 형성될 수 있다. 제2 비아(160)는 구리와 같은 전도성 금속으로 형성될 수 있다. 여기서, 제2 비아(160)의 재질은 구리로 한정되는 것은 아니며, 회로 기판 분야에서 사용되는 전도성 금속 중 어느 것도 적용될 수 있다. 또한, 제2 비아(160)는 전도성 페이스트 또는 전도성 잉크로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시 예에서, 제2 비아(160)가 회로 패턴(140) 상에 형성된 제2 비아홀(116)에 충전되는 방식으로 형성될 수 있다. 제2 비아(160)가 제2 비아홀(116)에 충전되어 형성됨에 따라 회로 패턴(140)에 딤플(Dimple)이 형성되는 것을 방지할 수 있다. 따라서 별도로 회로 패턴(140)의 딤플 발생 방지를 위한 별도의 공정(전처리, 노광, 현상, 박리 등)을 생략할 수 있어, 생산 비용 및 시간을 감소할 수 있다.
도 9를 참조하면, 캐리어 기판(200)을 제거할 수 있다.
캐리어 기판(200)의 캐리어 금속층(220)과 시드 금속층(230)을 분리할 수 있다. 캐리어 금속층(220)과 시드 금속층(230)을 분리함에 따라 캐리어 기판(200)의 양면에 형성된 인쇄회로기판(100)이 캐리어 기판(200)과 분리될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따라 캐리어 기판(200)을 이용함으로써, 단층인 인쇄회로기판(100)이 2개가 동시에 형성될 수 있다.
도 10을 참조하면, 시드 금속층(230)을 제거할 수 있다.
캐리어 기판(도 9의 200)으로부터 분리된 인쇄회로기판(100)은 시드 금속층(230)이 부착된 상태일 수 있다. 인쇄회로기판(100)에 부착된 시드 금속층(230)을 에칭하여 제거할 수 있다. 이때, 제2 비아(160)는 시드 금속층(230)이 에칭될 때, 에칭 공정으로부터 회로 패턴(140)을 보호할 수 있다. 회로 패턴(140) 상에 제2 비아(160)가 형성되어 있으므로, 회로 패턴(140) 대신 제2 비아(160)가 에칭 공정 환경에 노출될 수 있다. 금속 시드층(230)이 에칭될 때, 제2 비아(160)는 회로 패턴(140)을 보호하며, 외부로 노출된 면이 에칭될 수 있다. 여기서, 제2 비아(160)는 시드 금속층(230)의 두께만큼 에칭될 수 있다. 따라서, 제2 비아(160)는 제2 절연층(115)으로부터 함몰된 구조가 될 수 있다.
도 10에서는 2개의 인쇄회로기판(100) 중에서 한 개만을 도시하였다. 미도시된 인쇄회로기판(100) 역시 도 10에 도시된 인쇄회로기판(100)과 동일한 공정이 수행됨으로 도면 및 설명을 생략하도록 한다.
도 11을 참조하면, 시드층(120)을 제거할 수 있다.
시드 금속층(도 10의 230)이 제거된 후, 제1 비아(150)의 시드층(120)이 노출될 수 있다. 이와 같이 외부로 노출된 제1 비아(150)의 시드층(120)을 에칭하여 제거할 수 있다. 시드층(120)이 제거됨에 따라 제1 비아(150)는 제1 절연층(111)으로부터 함몰된 구조가 될 수 있다. 이때, 제2 비아(160)는 시드층(120) 에칭 공정으로부터 회로 패턴(140)을 보호할 수 있다. 회로 패턴(140) 상에 제2 비아(160)가 형성되어 있으므로, 회로 패턴(140) 대신 제2 비아(160)가 에칭 공정 환경에 노출될 수 있다. 따라서, 시드층(120)이 에칭될 때, 제2 비아(160)는 회로 패턴(140)을 보호하며, 외부로 노출된 면이 에칭될 수 있다. 여기서, 제2 비아(160)는 제1 비아(150)의 시드층(120)의 두께만큼 에칭될 수 있다.
이와 같이, 제2 비아(160)가 회로 패턴(140) 상에 형성됨으로써, 시드 금속층(230) 및 시드층(120)과 같은 에칭 공정으로부터 회로 패턴(140)이 소실되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 회로 패턴(140)의 소실을 방지하여 신뢰성 있는 인쇄회로기판(100)을 형성할 수 있다.
도 10 및 도 11의 공정을 통해서, 인쇄회로기판(100)은 일면에 시드층(120)의 두께만큼 함몰된 제1 비아(150)가 형성될 수 있다. 또한, 인쇄회로기판(100)은 타면에 시드층(120)과 시드 금속층(230)의 두께만큼 함몰된 제2 비아(160)가 형성될 수 있다. 즉, 제1 비아(150)와 제2 비아(160)의 함몰 깊이는 시드 금속층(230)의 두께만큼의 편차가 있을 수 있다.
본 발명의 실시 예에서, 인쇄회로기판이 캐리어 기판의 양면에 형성됨을 예시로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 캐리어 기판의 구조 및 당업자의 선택에 따라 캐리어 기판의 일면에만 형성될 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
100: 인쇄회로기판
110: 절연층
111: 제1 절연층
112: 제1 비아홀
115: 제2 절연층
116: 제2 비아홀
120: 시드층
130: 도금층
140: 회로 패턴
150: 제1 비아
160: 제2 비아
200: 캐리어 기판
210: 캐리어 절연층
220: 캐리어 금속층
230: 시드 금속층
300: 도금 레지스트
301: 개구부

Claims (16)

  1. 절연층;
    상기 절연층의 일면으로부터 함몰되도록 형성된 제1 비아;
    상기 절연층의 타면으로부터 함몰되도록 형성된 제2 비아; 및
    상기 절연층 내부에 형성되며 상기 제1 비아 및 제2 비아와 접합되는 회로 패턴;
    을 포함하는 인쇄회로기판.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제2 비아는 상기 제1 비아보다 더 깊게 함몰되는 인쇄회로기판.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 비아 및 회로 패턴은 시드층을 더 포함하며, 상기 시드층은 상기 제1 비아의 측면과 상기 제1 비아와 접합되는 상기 회로 패턴의 일면에서 상기 절연층과 접촉되는 부분에 형성되는 인쇄회로기판.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제2 비아의 함몰 깊이는 상기 제1 비아의 시드층 두께 이상인 인쇄회로기판.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 절연층은 감광성 절연재로 형성되는 인쇄회로기판.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 절연층은 솔더 레지스트로 형성되는 인쇄회로기판.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 비아, 제2 비아 및 회로 패턴은 전도성 금속으로 형성되는 인쇄회로기판.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 비아 및 회로 패턴은 전도성 금속으로 형성되며, 상기 제2 비아는 전도성 페이스트로 형성되는 인쇄회로기판.
  9. 상기 캐리어 기판에 제1 비아홀이 패터닝된 제1 절연층을 형성하는 단계;
    상기 제1 절연층에 회로 패턴홀이 패터닝된 도금 레지스트를 형성하는 단계;
    상기 제1 비아홀 및 회로 패턴홀에 전도성 물질을 형성하여 제1 비아 및 회로 패턴을 형성하는 단계;
    상기 도금 레지스트를 제거하는 단계;
    상기 회로 패턴을 매립하며, 상기 회로 패턴에 제2 비아홀이 위치하도록 패터닝된 제2 절연층을 형성하는 단계;
    상기 제2 비아홀에 전도성 물질을 형성하는 제2 비아를 형성하는 단계; 및
    상기 캐리어 기판을 제거하는 단계;
    를 포함하는 인쇄회로기판 제조 방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제1 절연층 및 제2 절연층은 감광성 절연재로 형성되는 인쇄회로기판 제조 방법.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 제1 절연층 및 제2 절연층은 솔더 레지스트로 형성되는 인쇄회로기판 제조 방법.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 제1 절연층을 형성하는 단계 이후에, 상기 제1 절연층 및 제1 비아홀에 시드층을 형성하는 단계; 및
    상기 도금 레지스트를 제거하는 단계 이후에, 상기 도금 레지스트 제거로 노출된 시드층을 제거하는 단계;
    를 더 포함하는 인쇄회로기판 제조 방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 캐리어 기판을 제거하는 단계 이후에,
    상기 캐리어 기판 제거로 노출된 상기 시드층을 제거하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판 제조 방법.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 시드층을 제거하는 단계에서,
    상기 제2 비아가 에칭되어 상기 제거된 시드층 두께 이상으로 제거되는 인쇄회로기판 제조 방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 시드층을 제거하는 단계에서,
    상기 제1 비아는 상기 제1 절연층에 함몰되며, 상기 제2 비아는 상기 제2 절연층에 함몰되도록 형성되는 인쇄회로기판 제조 방법.
  16. 청구항 9에 있어서,
    상기 제1 절연층을 형성하는 단계에서,
    상기 제1 절연층은 상기 캐리어 기판의 일면 또는 양면에 형성되는 인쇄회로기판 제조 방법.
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