KR20150040031A - A Linear Type Evaporator for Controllable Evaporation - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a linear evaporation source capable of controlling an amount of material evaporation, and the linear evaporation source comprises: a crucible having an upper surface opened, and containing a depositing material inside; a guide nozzle of an asymmetric structure having a lower part connected to the crucible, and having an upper part which has an aperture in a slit shape; a shutter controlling an open area of the aperture; a driving unit moving the shutter to control the open area of the aperture; and a heater arranged on the side surface of the guide nozzle, and heating the depositing material. The invention can control an amount of material evaporation and can allow an organic thin film of a large area to be deposited by uniformly depositing thin films on a device.

Description

물질증발량 조절이 가능한 선형증발원{A Linear Type Evaporator for Controllable Evaporation} BACKGROUND ART [0002] A linear type evaporator for controllable evaporation,

본 발명은 물질증발량 조절이 가능한 선형증발원에 관한 것으로, 보다 상세하게는 슬릿 형태의 개구를 여닫는 셔터를 설치하여 슬릿의 개구되는 영역을 조절함으로써, 물질증발량을 조절할 수 있고 소자에 균일하게 박막을 증착하여 넓은 면적의 유기박막 증착이 균일하게 이루어지도록 하는 선형증발원에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a linear evaporation source capable of controlling the evaporation amount of a material, and more particularly, by providing a shutter opening and closing a slit-shaped opening to adjust an opening area of the slit, To thereby uniformly deposit a large area organic thin film.

일반적으로, 유기 소자(OLED: Organic Light Emitted Device)를 제작하는데 있어서, 가장 중요한 공정은 유기박막을 형성하는 공정이며, 이러한 유기 박막을 형성하기 위해서는 진공 증착이 주로 사용된다.Generally, in manufacturing an organic light emitting device (OLED), the most important process is a process of forming an organic thin film. In order to form such an organic thin film, vacuum deposition is mainly used.

이러한 진공 증착은 챔버 내에 글라스(glass)와 같은 기판과 파우더(powder) 형태의 원료 물질이 담긴 포인트 소스(point source) 또는 점증발원과 같은 증발원을 대향 배치하고, 증발원 내에 담긴 파우더 형태의 원료 물질을 증발시켜 증발된 원료 물질을 분사함으로써 기판의 일면에 유기 박막을 형성한다. 최근에는 기판이 대면적화됨에 따라, 포인트 소스 또는 점증발원으로 알려진 증발원 대신 대면적 기판의 박막 균일도가 확보되는 선형 증발원이 사용된다. 이러한 선형 증발원은 도가니 내에 원료 물질을 저장하고, 저장된 원료 물질을 증발시켜 기판을 향해 분사하는 서로 이격된 복수의 노즐 또는 분배공을 구비한다.Such a vacuum deposition can be achieved by disposing a substrate such as glass in a chamber and an evaporation source such as a point source or a gradual source containing a raw material material in the form of powder in opposition to each other and arranging a powdery raw material contained in the evaporation source And the organic thin film is formed on one surface of the substrate by spraying the evaporated raw material. In recent years, as the substrate becomes larger, a linear evaporation source is used in which thin film uniformity of a large-area substrate is secured instead of a point source or an evaporation source known as an increasing source. Such a linear evaporation source includes a plurality of spaced apart nozzles or dispensing holes for storing raw materials in a crucible and for evaporating the stored raw materials and injecting them toward the substrate.

이와 관련한 종래의 기술로서, 한국등록특허 제10-0758694호에는 상면은 개방되어 있고 내부에 증착용 물질을 담는 긴 형상의 도가니와, 상기 도가니의 상면을 덮고 다수의 노즐이 형성된 덮개부를 갖는 선형 증발원이 개시되어 있다. Korean Patent Registration No. 10-0758694 discloses a related art as disclosed in Korean Patent No. 10-0758694 which discloses a honeycomb structure having a long crucible having an open upper surface and containing a vapor deposition material therein and a lid portion covering the upper surface of the crucible and having a plurality of nozzles, .

상기와 같은 선행문헌에서는 도가니의 상면을 덮는 덮개부에 형성된 다수의 노즐을 통해 기판에 증착 물질을 직접 분사하는 구조였으므로, 도가니에서 증발된 증착 물질이 상기 노즐의 위치에 따라 불균일하게 분사되는 단점이 있었다. In the prior art described above, since the evaporation material is directly sprayed onto the substrate through the plurality of nozzles formed on the lid portion covering the upper surface of the crucible, evaporation material evaporated from the crucible is sprayed unevenly according to the position of the nozzle there was.

따라서, 균일한 유기박막의 형성이 쉽지 않은 문제와 함께 유기재료의 소비도 많은 단점이 있다.Therefore, it is not easy to form a uniform organic thin film, and consumption of organic materials is also disadvantageous.

대한민국 등록특허 제10-0758694호.Korean Patent No. 10-0758694. 대한민국 등록특허 제10-0862340호.Korean Patent No. 10-0862340.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출한 것으로서, 다수의 노즐을 생략하고 증착 물질이 증발하는 개구를 슬릿 형태로 함으로써, 증착 물질이 위치에 관계없이 균일하게 분사되어 균일한 유기박막을 형성하고, 유기재료의 소비를 줄여 물질효율을 향상시킬 수 있는 선형증발원을 제공하는데 그 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a semiconductor device, in which a plurality of nozzles are omitted and an opening through which evaporation material evaporates is formed into a slit shape, And to provide a linear evaporation source capable of reducing the consumption of organic materials and improving the material efficiency.

또한, 슬릿 형태의 개구를 여닫을 수 있는 셔터를 설치하여 개구의 간격을 조절함으로써, 물질의 증발량을 조절할 수 있는 선형증발원을 제공하는데 그 목적이 있다.It is also an object of the present invention to provide a linear evaporation source capable of adjusting the amount of evaporation of a substance by providing a shutter for opening and closing a slit-shaped opening to adjust an interval between the openings.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 상면은 개방되어 있고 내부에 증착용 물질을 담는 도가니와, 하부는 상기 도가니에 결합되고, 상부는 슬릿 형태의 개구를 갖는 비대칭 구조의 가이드 노즐과, 상기 개구의 오픈된 영역을 조절하기 위한 셔터와, 상기 셔터를 이동시켜 상기 개구의 오픈된 영역을 조절하기 위한 구동부와, 상기 가이드 노즐의 측면에 설치되어 증착 물질을 가열하기 위한 히터를 포함하는 선형증발원이 제공된다.In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided an asymmetrical guide nozzle having an open top, a crucible for containing an evaporation material therein, a lower portion coupled to the crucible, A shutter for adjusting an open area of the opening; a driving part for moving the shutter to adjust an open area of the opening; and a heater provided on a side surface of the guide nozzle for heating the evaporation material, An evaporation source is provided.

본 발명에서 상기 셔터는 상기 개구의 일측에 설치되는 제1 셔터와, 상기 개구의 타측에 설치되는 제2 셔터로 이루어질 수 있다. In the present invention, the shutter may include a first shutter provided on one side of the opening and a second shutter provided on the other side of the opening.

이 경우, 상기 제1 셔터와 제2 셔터는 상기 개구의 길이가 긴 방향으로 설치될 수 있다. In this case, the first shutter and the second shutter may be installed in a direction in which the length of the opening is long.

본 발명에서, 상기 제1 셔터와 제2 셔터는 중앙부가 폭이 넓고 양단부가 폭이 좁게 이루어지어 상기 개구를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 중앙부뿐 아니라 양단부에도 균일하게 도달하도록 할 수 있다. In the present invention, the first shutter and the second shutter may have a wide central portion and narrow both ends, so that evaporation material sprayed through the opening can uniformly reach not only the central portion but also both ends of the substrate.

또한, 상기 제1 셔터와 제2 셔터는 설치된 높낮이가 달라, 상기 구동부에 의해 셔터가 이동되면 완전히 겹치게 되어 상기 개구의 클로징이 가능하다. Further, the first shutter and the second shutter are installed at different heights, and when the shutter is moved by the driving unit, the first shutter and the second shutter are completely overlapped and the opening can be closed.

한편, 본 발명의 개구는 중앙부가 폭이 좁고 양단부가 폭이 넓게 이루어지어 상기 개구를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 중앙부뿐 아니라 양단부에도 균일하게 도달하도록 할 수 있다. In the meantime, the opening of the present invention has a narrow central portion and a wide width at both ends, so that the evaporation material sprayed through the opening can uniformly reach not only the center portion but also both end portions of the substrate.

본 발명에서, 상기 가이드 노즐의 개구는 기판의 폭에 대응되는 길이로 이루어지는 것이 바람직하다. In the present invention, it is preferable that the opening of the guide nozzle has a length corresponding to the width of the substrate.

또한, 상기 히터는 상기 가이드 노즐의 측면에 설치되는 시즈 히터(Sheath Heater)로 될 수 있으며, 상기 도가니는 원통형 또는 타원형으로 이루어지고, 상기 가이드 노즐의 하부는 상기 도가니의 형상과 동일하게 이루어질 수 있다. The heater may be a sheath heater installed on a side surface of the guide nozzle. The crucible may be cylindrical or elliptical, and the lower portion of the guide nozzle may have the same shape as the crucible .

본 발명에 있어서, 상기 구동부는 필요한 동력을 발생시키는 양방향 모터와, 상기 양방향 모터에서 발생되는 동력을 상기 셔터에 전달시켜 주는 동력전달수단과, 상기 양방향 모터에 소정의 제어신호를 발생시킴과 동시에 모터의 구동을 차단시키는 제어부로 구성될 수 있다.In the present invention, the driving unit may include a bi-directional motor for generating a required power, a power transmission unit for transmitting power generated by the bidirectional motor to the shutter, and a control unit for generating a predetermined control signal to the bi- And a control unit for interrupting the driving of the vehicle.

상기와 같은 본 발명에 의하면, 다수의 노즐을 생략하고 증착 물질이 증발하는 개구를 슬릿 형태로 함으로써, 증착 물질이 위치에 관계없이 균일하게 분사되어 균일한 유기박막을 형성하고, 유기재료의 소비를 줄여 물질효율을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, since the plurality of nozzles are omitted and the opening through which the evaporation material evaporates is formed into a slit shape, the evaporation material is uniformly sprayed regardless of the position to form a uniform organic thin film, The material efficiency can be improved.

또한, 슬릿 형태의 개구를 여닫을 수 있는 셔터를 설치하여 개구의 간격을 조절함으로써, 물질의 증발량을 조절할 수 있는 효과가 있다.Further, by providing a shutter that opens and closes the slit-shaped opening, the amount of evaporation of the substance can be controlled by adjusting the distance between the openings.

도 1은 본 발명의 선형증발원의 구성을 전체적으로 보인 정면도이다.
도 2는 본 발명의 셔터와 가이드 노즐을 도시한 평면도이다.
도 3은 도 2에서의 A-A선 단면도이다.
도 4는 도 2에서의 B-B선 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예로서, 가이드 노즐을 도시한 평면도이다.
도 6 내지 도 7은 본 발명의 또 다른 실시예로서, 셔터를 도시한 평면도이다. 1 is a front view showing the entire construction of a linear evaporation source of the present invention.
2 is a plan view showing the shutter and guide nozzle of the present invention.
3 is a sectional view taken along line AA in Fig.
4 is a sectional view taken along line BB in Fig.
5 is a plan view showing a guide nozzle according to another embodiment of the present invention.
6 to 7 are plan views showing a shutter as another embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. It is provided to let you know.

도 1은 본 발명의 선형증발원의 구성을 전체적으로 보인 정면도이고, 도 2는 본 발명의 셔터와 가이드 노즐을 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2에서의 A-A선 단면도이고, 도 4는 도 2에서의 B-B선 단면도이다. 2 is a plan view showing a shutter and a guide nozzle of the present invention, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross- Fig.

본 발명은 진공 챔버에서 유기재료를 증발시켜 기판(G)에 증착시킬 때 균일한 유기박막의 형성이 이루어지도록 하는 것으로, 본 발명의 선형증발원은 상면이 개방되어 있고 내부에 증착용 물질을 담는 도가니(10)와, 하부는 상기 도가니(10)에 결합되고, 상부는 슬릿(Slit) 형태의 개구(22)를 갖는 비대칭 구조의 가이드 노즐(Guide Nozzle)(20)과, 상기 개구(22)의 오픈된 영역을 조절하기 위한 셔터(30)와, 상기 셔터(30)를 이동시켜 상기 개구(22)의 오픈된 영역을 조절하기 위한 구동부(도시안함)와, 상기 가이드 노즐(20)의 측면에 설치되어 증착 물질을 가열하기 위한 히터(40)를 포함한다. A linear evaporation source of the present invention has a top surface opened and a crucible for holding an evaporation material therein. The evaporation source of the organic thin film is formed by vaporizing an organic material in a vacuum chamber and depositing the organic material on the substrate (G) (Guide Nozzle) 20 having an asymmetric structure having a lower portion connected to the crucible 10 and an upper portion having a slit-shaped opening 22, (Not shown) for adjusting the open area of the opening 22 by moving the shutter 30 and a driving part (not shown) for adjusting the open area of the opening 22, And a heater 40 installed to heat the deposition material.

상기 도가니(10)는 원통형 또는 타원형의 형상을 갖도록 형성되며, 상기 가이드 노즐(20)은 그 하부가 상기 도가니(10)의 형상과 동일하게 이루어지어 도가니(10)에 결합되며, 상부는 슬릿(Slit) 형태의 개구(22)를 갖는 형상이다. The crucible 10 is formed to have a cylindrical or elliptical shape and the lower portion of the guide nozzle 20 has the same shape as the crucible 10 and is coupled to the crucible 10, Slit-shaped openings 22.

즉, 본 발명의 가이드 노즐(20)은 하부가 원통형 또는 타원형의 도가니(10)에 끼워질 수 있도록 하되 그 상부를 오므려 길게 개구(22)를 형성시킨 것으로, 마치 헤어드라이어의 캡과 같은 형태를 갖게 되고, 이로 인하여 도가니(10)에서의 증착 물질이 기판(G)에 균일하게 증착될 수 있다. 즉, 종래의 복수개의 노즐을 생략하고 물질 증발 부분이 뚫려 있어 도가니(10)에서의 증착 물질이 고르게 분사되어 균일한 유기박막을 형성하도록 하는 것이다. That is, the guide nozzle 20 according to the present invention has a lower portion that can be fitted in a cylindrical or elliptical crucible 10, So that the evaporation material in the crucible 10 can be uniformly deposited on the substrate G. [ That is, the conventional evaporator is omitted because a plurality of nozzles are omitted and the evaporation material in the crucible 10 is uniformly sprayed to form a uniform organic thin film.

본 발명에서, 상기 가이드 노즐(20)의 개구(22)는 기판(G)의 폭에 대응되는 길이로 이루어지는 것이 바람직하다. 이와 같은 가이드 노즐(20)의 형상으로 인해 도가니(10)에서의 증착 물질을 기판(G)의 전면에 균일하게 증착할 수 있다. In the present invention, the opening 22 of the guide nozzle 20 preferably has a length corresponding to the width of the substrate G. Due to the shape of the guide nozzle 20, the evaporation material in the crucible 10 can be uniformly deposited on the entire surface of the substrate G. [

한편, 본 발명의 선형증발원은 상기 개구(22)의 오픈된 영역을 조절하기 위한 셔터(30)가 구비되는데, 상기 셔터(30)는 상기 개구(22)의 일측에 설치되는 제1 셔터(32)와, 상기 개구(22)의 타측에 설치되는 제2 셔터(34)로 이루어질 수 있다. The linear evaporation source of the present invention is provided with a shutter 30 for adjusting the open area of the opening 22. The shutter 30 includes a first shutter 32 And a second shutter 34 provided on the other side of the opening 22. [

본 발명에서의 상기 셔터(30)는 상기 개구(22)의 오픈된 영역을 조절하기 위해 여닫히는 것으로, 한 개의 셔터로 이루어지어 상기 개구(22)를 여닫을 수 있도록 구성할 수도 있으나, 본 발명에서는 상기 개구(22)의 양측에 2개의 셔터(32)(34)를 설치하여 상기 개구(22)의 중심선을 기준으로 셔터(30)가 여닫히는 구성을 갖는다. The shutter 30 according to the present invention may be configured to open and close the opening 22 by adjusting the shutter 30 so as to adjust the open area of the opening 22. However, Two shutters 32 and 34 are provided on both sides of the opening 22 so that the shutter 30 is opened and closed based on the center line of the opening 22.

이 경우, 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)는 도 2에서 보는 바와 같이, 상기 개구(22)의 길이가 긴 방향으로 설치되는 것이 바람직하다. In this case, as shown in FIG. 2, the first shutter 32 and the second shutter 34 are preferably installed such that the length of the opening 22 is long.

본 발명의 일실시예에서, 상기 개구(22)는 장공 형상으로 이루어지고, 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)는 직사각형 형상의 판재로 이루어지어 상기 개구(22)를 여닫도록 구성한다. The first shutter 32 and the second shutter 34 are formed of a rectangular plate so as to open the opening 22, .

본 발명에서 상기 셔터(30)를 이동시키기 위한 구동부는 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)를 수평방향으로 슬라이딩 이동시키는 것으로, 예를 들어, 필요한 동력을 발생시키는 양방향 모터(도시안함)와, 상기 양방향 모터에서 발생되는 동력을 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)에 각각 전달시켜 주는 동력전달수단과, 상기 양방향 모터에 소정의 제어신호를 발생시킴과 동시에 모터의 구동을 차단시키는 제어부로 구성될 수 있다. In the present invention, the driving unit for moving the shutter 30 slides the first shutter 32 and the second shutter 34 in the horizontal direction. For example, the driving unit may include a bidirectional motor A power transmission means for transmitting the power generated by the bidirectional motor to the first shutter 32 and the second shutter 34, and a control means for generating a predetermined control signal to the bidirectional motor, And a control unit for interrupting the driving of the vehicle.

여기서, 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)의 상대위치를 전기적인 신호로 검출하여 상기 제어부에 전송시켜 주는 위치감지센서가 더 포함될 수 있다. The position sensor may further include a position sensor for detecting a relative position between the first shutter 32 and the second shutter 34 as an electrical signal and transmitting the electrical signal to the controller.

이와 같은 상기 구동부는 상기 위치감지센서로부터 출력되는 위치검출신호에 의거하여 상기 양방향 모터를 구동하여 상기 셔터(30)를 여닫도록 구성할 수 있다. The driving unit may be configured to drive the bidirectional motor to open the shutter 30 based on a position detection signal output from the position sensor.

본 발명에서는 상기 동력전달수단으로, 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)에는 롤러를 설치하고, 상기 양방향 모터의 구동축과 상기 롤러를 체인으로 연결하여, 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)가 슬라이딩될 수 있게 할 수 있다. In the present invention, as the power transmission means, a roller is provided for the first shutter 32 and the second shutter 34, the drive shaft of the bidirectional motor is connected to the roller by a chain, and the first shutter 32, And the second shutter 34 can be slid.

또한, 상기 동력전달수단으로, 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)의 하면에는 래크기어를 형성시키고, 상기 양방향 모터의 구동축에는 상기 래크기어에 맞물리는 피니언 기어를 설치하여, 상기 양방향 모터의 회전에 의해 상기 제1 셔터(32)와 제2 셔터(34)를 여닫도록 구성할 수 있다. Further, as the power transmission means, a raceway gear is formed on the lower surface of the first shutter 32 and the second shutter 34, and a pinion gear meshing with the raiser gear is provided on the drive shaft of the bidirectional motor , And the first shutter (32) and the second shutter (34) can be opened and closed by the rotation of the bidirectional motor.

본 발명에서는 상기 구동부의 구성을 이에 한정하지 않으며, 2개의 판재를 수평방향으로 여닫을 수 있는 구성이라면, 통상의 것이 적용가능하다.In the present invention, the configuration of the driving unit is not limited to this, and a common one is applicable as long as the two plate members can be opened and closed in the horizontal direction.

한편, 상기 히터(40)는 상기 가이드 노즐(20)의 측면에 설치되어 가이드 노즐(20)을 통과하여 배출되는 증착 물질을 가열하여 기화시킨다. The heater 40 is installed on a side surface of the guide nozzle 20 and heats and vaporizes the evaporated material discharged through the guide nozzle 20.

본 발명에서, 상기 히터(40)는 시즈 히터(Sheath Heater)로 이루어질 수 있다. 시즈 히터는 금속 보호관에 전열선을 코일 모양으로 내장하고 절연 분말인 산화마그네슘을 넣어 함께 충진하여 열선과 보호관을 절연한 관 모양의 히터로서, 외부의 물리적인 충격에도 견고하고 전기 열에너지의 효율성을 높이면서 다양한 모양으로 사용자의 용도와 형태로 적합하게 가공을 할 수 있는 장점이 있다.In the present invention, the heater 40 may be a sheath heater. The sheath heater is a tubular heater in which a heating wire is embedded in a metal protection tube in the shape of a coil, and magnesium oxide, which is an insulating powder, is charged to insulate the heating wire and the protective tube. The heater is also resistant to external physical impact, It is advantageous that it can be suitably processed according to the purpose and shape of the user in various shapes.

즉, 본 발명에서의 가이드 노즐(20)은 하부가 원통형 또는 타원형의 도가니(10)에 끼워질 수 있도록 하되 그 상부를 오므려 길게 개구(22)를 형성시킨 것으로, 마치 헤어드라이어의 캡과 같은 형태를 갖게 되므로, 상기 히터(40)는 다양한 모양으로 가공이 용이한 시즈 히터를 사용하여 상기 가이드 노즐(20)의 측면을 전체적으로 감쌀 수 있는 형상으로 하는 것이다. That is, the guide nozzle 20 according to the present invention has a lower portion that can be fitted into a cylindrical or elliptical crucible 10, The heater 40 has a shape that can cover the entire side surface of the guide nozzle 20 by using a sheath heater which can be easily processed in various shapes.

이와 같은 본 발명의 일실시예는 상기 히터(40)를 통해 증착 물질이 기화되도록 가이드 노즐(20)을 충분히 가열할 수 있으며, 기화된 증착 물질이 증발하는 슬릿 형태의 개구(22)를 셔터(30)로 여닫을 수 있도록 함으로써, 증착 물질이 위치에 관계없이 균일하게 분사되어 균일한 유기박막을 형성하고 물질의 증발량을 조절할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the guide nozzle 20 can be sufficiently heated to evaporate the evaporation material through the heater 40, and the slit-shaped opening 22 through which the vaporized evaporation material evaporates can be shut- 30), the evaporation material can be uniformly sprayed regardless of its position, so that a uniform organic thin film can be formed and the evaporation amount of the material can be controlled.

도 5는 본 발명의 다른 실시예로서, 본 발명의 가이드 노즐(120)의 다른 예를 도시한 평면도이다. 5 is a plan view showing another example of the guide nozzle 120 of the present invention as another embodiment of the present invention.

상기 가이드 노즐(120)은 하부가 원통형 또는 타원형의 도가니(10)에 끼워질 수 있도록 하고, 그 상부를 오므려 길게 개구(22)를 형성시키되, 상기 개구(122)는 중앙부가 폭이 좁고 양단부가 폭이 넓게 이루어지어 마치 아령의 형상을 갖도록 형성된 것이다. The guide nozzle 120 has an opening 122 formed at a lower portion thereof so as to be fitted in a cylindrical or elliptical crucible 10 and an upper portion of the guide nozzle 120, Is formed so as to have the shape of a dumbbell.

이와 같은 형상의 개구(122)는 기판에 균일한 박막을 얻기 위한 것으로, 상기 개구(122)를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 양단부에 많은 량으로 방사가 이루어지게 되므로, 기판이 넓더라도 균일한 두께로 유기재료를 증착시킬 수 있게 된다.The opening 122 having such a shape is used for obtaining a uniform thin film on the substrate. Since a large amount of evaporation material sprayed through the opening 122 is radiated to both ends of the substrate, even if the substrate is wide, It becomes possible to deposit the organic material with a thickness of about 10 mu m.

한편, 도 6 내지 도 7은 본 발명의 또 다른 실시예로서, 셔터를 도시한 평면도이다. 6 to 7 are plan views showing a shutter as another embodiment of the present invention.

본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 제1 셔터(132)와 제2 셔터(134)는 중앙부가 폭이 넓고 양단부가 폭이 좁게 이루어지어 상기 개구를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 중앙부뿐 아니라 양단부에도 균일하게 도달하도록 할 수 있다. The first shutter 132 and the second shutter 134 may have a wide central portion and a narrow width at both ends so that the deposition material injected through the opening may be formed not only at the central portion of the substrate, It is possible to uniformly reach both ends.

즉, 상기 개구가 장공 형상일 경우, 상기 개구를 통해 분출되는 증착 물질의 증착량을 조절하기 위하여, 상기 제1 셔터(132)와 제2 셔터(134)의 형상을 중앙부가 폭이 넓고 양단부가 폭이 좁게 하여, 상기 개구의 오픈된 모양이 중앙부보다 양단부가 더 넓게 이루어지도록 한 것이다. That is, when the opening is in the shape of a long hole, the first shutter 132 and the second shutter 134 are formed so that the central portion is wide and the both ends So that the opening of the opening is made wider at both ends than at the center.

이와 같은 제1 셔터(132)와 제2 셔터(134)는 상기 개구를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 중앙부뿐 아니라 양단부에도 균일하게 도달하여, 박막의 균일성을 높일 수 있도록 한다.The first shutter 132 and the second shutter 134 uniformly reach the substrate at both ends as well as at the center of the substrate so that the uniformity of the thin film can be increased.

또한, 상기 제1 셔터(132)와 제2 셔터(134)는 설치된 높낮이가 달라, 상기 구동부에 의해 셔터가 이동되면 도 7에서와 같이, 완전히 겹치게 되어 상기 개구의 클로징이 가능하도록 구성된다. In addition, when the shutter is moved by the driving unit, the first shutter 132 and the second shutter 134 are installed at different heights, and the shutter is completely overlapped as shown in FIG. 7 so that the opening can be closed.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation in the embodiment in which said invention is directed. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the scope of the appended claims.

10: 도가니 20: 가이드 노즐(Guide Nozzle)
22: 개구 30: 셔터
32: 제1 셔터 34: 제2 셔터
40: 히터10: Crucible 20: Guide Nozzle
22: aperture 30: shutter
32: first shutter 34: second shutter
40: heater

Claims (10)

상면은 개방되어 있고 내부에 증착용 물질을 담는 도가니;
하부는 상기 도가니에 결합되고, 상부는 슬릿 형태의 개구를 갖는 비대칭 구조의 가이드 노즐;
상기 개구의 오픈된 영역을 조절하기 위한 셔터;
상기 셔터를 이동시켜 상기 개구의 오픈된 영역을 조절하기 위한 구동부; 및
상기 가이드 노즐의 측면에 설치되어 증착 물질을 가열하기 위한 히터;
를 포함하는 선형증발원.A crucible having an open top and containing evaporation material therein;
An asymmetrical guide nozzle having a lower portion coupled to the crucible and an upper portion having a slit-shaped opening;
A shutter for adjusting an open area of the opening;
A driving unit for moving the shutter to adjust an open area of the opening; And
A heater installed on a side surface of the guide nozzle for heating the deposition material;
/ RTI > 청구항 1에 있어서,
상기 셔터는 상기 개구의 일측에 설치되는 제1 셔터와,
상기 개구의 타측에 설치되는 제2 셔터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 선형증발원.The method according to claim 1,
The shutter includes a first shutter installed on one side of the opening,
And a second shutter provided on the other side of the opening. 청구항 2에 있어서,
상기 제1 셔터와 제2 셔터는 상기 개구의 길이가 긴 방향으로 설치되는 것을 특징으로 하는 선형증발원. The method of claim 2,
Wherein the first shutter and the second shutter are installed in a long direction of the opening. 청구항 3에 있어서,
상기 제1 셔터와 제2 셔터는 중앙부가 폭이 넓고 양단부가 폭이 좁게 이루어지어 상기 개구를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 중앙부뿐 아니라 양단부에도 균일하게 도달하도록 하는 선형증발원.The method of claim 3,
Wherein the first shutter and the second shutter have a wide central portion and narrow both ends so that evaporation material sprayed through the opening can reach the central portion of the substrate as well as both ends thereof uniformly. 청구항 4에 있어서,
상기 제1 셔터와 제2 셔터는 설치된 높낮이가 달라, 상기 구동부에 의해 셔터가 이동되면 완전히 겹치게 되어 상기 개구의 클로징이 가능한 것을 특징으로 하는 선형증발원.The method of claim 4,
Wherein the first shutter and the second shutter are installed at different heights, and when the shutter is moved by the driving unit, the first shutter and the second shutter are completely overlapped to close the opening. 청구항 1에 있어서,
상기 개구는 중앙부가 폭이 좁고 양단부가 폭이 넓게 이루어지어 상기 개구를 통해 분사되는 증착물질이 기판의 중앙부뿐 아니라 양단부에도 균일하게 도달하도록 하는 선형증발원.The method according to claim 1,
Wherein the center of the opening has a narrow width and both ends have a wide width so that the evaporation material sprayed through the opening uniformly reaches not only the center portion but also both ends of the substrate. 청구항 1에 있어서,
상기 가이드 노즐의 개구는 기판의 폭에 대응되는 길이로 이루어지는 것을 특징으로 하는 선형증발원. The method according to claim 1,
And the opening of the guide nozzle has a length corresponding to the width of the substrate. 청구항 1에 있어서,
상기 히터는 상기 가이드 노즐의 측면에 설치되는 시즈 히터(Sheath Heater)인 것을 특징으로 하는 선형증발원.The method according to claim 1,
Wherein the heater is a sheath heater installed on a side surface of the guide nozzle. 청구항 1에 있어서,
상기 도가니는 원통형 또는 타원형으로 이루어지고,
상기 가이드 노즐의 하부는 상기 도가니의 형상과 동일하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 선형증발원.The method according to claim 1,
The crucible may be cylindrical or elliptical,
And the lower portion of the guide nozzle is formed in the same shape as the crucible. 청구항 1에 있어서,
상기 구동부는 필요한 동력을 발생시키는 양방향 모터와, 상기 양방향 모터에서 발생되는 동력을 상기 셔터에 전달시켜 주는 동력전달수단과, 상기 양방향 모터에 소정의 제어신호를 발생시킴과 동시에 모터의 구동을 차단시키는 제어부로 구성되는 것을 특징으로 하는 선형증발원.

The method according to claim 1,
The driving unit includes a bidirectional motor that generates a required power, a power transmission unit that transmits power generated by the bidirectional motor to the shutter, and a control unit that generates a predetermined control signal to the bidirectional motor, And a control unit.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040084057A (en) * 2003-03-26 2004-10-06 (주)네스디스플레이 Apparatus for making thin film
KR100758694B1 (en) 2006-05-24 2007-09-13 세메스 주식회사 Linear type evaporator for manufacturing elements of organic semiconductor device
KR100862340B1 (en) 2007-08-16 2008-10-13 세메스 주식회사 Linear evaporator for manufacturing thin film of organic light emitting diodes(oled)
KR20130016485A (en) * 2011-08-08 2013-02-18 지제이엠 주식회사 Nozzle of point source

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040084057A (en) * 2003-03-26 2004-10-06 (주)네스디스플레이 Apparatus for making thin film
KR100758694B1 (en) 2006-05-24 2007-09-13 세메스 주식회사 Linear type evaporator for manufacturing elements of organic semiconductor device
KR100862340B1 (en) 2007-08-16 2008-10-13 세메스 주식회사 Linear evaporator for manufacturing thin film of organic light emitting diodes(oled)
KR20130016485A (en) * 2011-08-08 2013-02-18 지제이엠 주식회사 Nozzle of point source

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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