KR20150006098A - Substrate separating apparatus and method for separating substrate using the same - Google Patents

Substrate separating apparatus and method for separating substrate using the same Download PDF

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Abstract

Provided are a substrate separating apparatus and a method for separating substrates using the same. Provided are a display plate and a method of manufacturing a liquid crystal display device using the display plate. The substrate separating apparatus according to an embodiment of the present invention comprises: a laser emitting unit which emits a first laser in a first direction; a beam splitter which is arranged to be displaced from the laser emitting unit in the first direction; and an optical reflection mirror which is arranged to be displaced from the beam splitter in the first direction.

Description

기판 분리 장치 및 이를 이용한 기판 분리 방법{SUBSTRATE SEPARATING APPARATUS AND METHOD FOR SEPARATING SUBSTRATE USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate separating apparatus and a substrate separating method using the substrate separating apparatus.

본 발명은 기판 분리 장치 및 이를 이용한 기판 분리 방법에 대한 것으로 보다 상세하게는 제1 기판과 제2 기판을 분리하는 기판 분리 장치 및 이를 이용한 기판 분리 방법을 제공하는 것이다. The present invention relates to a substrate separating apparatus and a substrate separating method using the same, and more particularly, to a substrate separating apparatus for separating a first substrate and a second substrate, and a substrate separating method using the same.

최근 표시 장치 시장은 대면적이 용이하고 박형 및 경량화가 가능한 평판 디스플레이(flat panel display, FPD)위주로 급속히 변화하고 있다.Recently, the display device market is rapidly changing, mainly in flat panel displays (FPD), which are large in size and can be made thin and light.

이러한 평판 디스플레이에는 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD), 플라스마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP), 유기 발광 표시 장치(organic light emitting display, OLED) 등이 있다. 그러나 기존의 액정 표시 장치, 플라스마 다스플레이 패널, 유기 발광 표시 장치 등은 유리 기판을 사용하기 때문에 유연성이 떨어져 응용과 용도에 한계가 있다.Such flat panel displays include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting display (OLED). However, conventional liquid crystal display devices, plasma-less play panels, organic light-emitting display devices, and the like use a glass substrate and thus have low flexibility and applications and applications.

따라서 최근 유리 기판 대신에 플라스틱, 호일 등과 같이 유연성 있는 재료의 기판을 사용하여 구부러질 수 있게 제조된 플렉서블 표시 장치가 차세대 표시 장치로 활발히 개발되고 있다.Therefore, a flexible display device which can be bent by using a substrate of a flexible material such as plastic, foil or the like instead of a glass substrate has recently been actively developed as a next-generation display device.

플렉서블 디스플레이는 가요성 기판을 필요로 한다. 그런데, 일반적으로 알려진 가요성 기판은 내열성의 한계 때문에 기존 유리 기판용 패널 제작 공정에 유리 기판 대신 투입되어 적용되기가 쉽지 않은 것으로 알려져 있다. 이에, 유리 기판을 베이스로 하여 패널을 형성한 후, 이후 유리 기판을 제거함으로써, 패널에 가요성을 부여하는 방법들이 연구되고 있다.Flexible displays require flexible substrates. However, it is known that generally known flexible substrates are difficult to be applied to a glass substrate for a conventional panel manufacturing process due to limitations of heat resistance. Accordingly, methods for imparting flexibility to the panel by removing the glass substrate after forming the panel using the glass substrate as a base are being studied.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 기판의 분리와 세정을 동시에 수행할 수 있는 기판 분리 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a substrate separating apparatus capable of simultaneously performing separation and cleaning of a substrate.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 기판의 분리와 세정을 동시에 수행할 수 있는 기판 분리 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a substrate separation method capable of simultaneously performing separation and cleaning of a substrate.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing the same.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치는 제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 레이저 조사부, 레이저 조사부와 제1 방향을 따라 이격되어 배치되는 빔 스플리터, 상기 빔 스플리터와 제1 방향을 따라 이격되어 배치되는 광 반사 미러를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate separation apparatus including a laser irradiation unit for irradiating a first laser in a first direction, And a light reflection mirror disposed apart from the beam splitter in the first direction.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 기판 분리 방법은 제1 기판 및 제1 기판에 부착된 제2 기판을 포함하는 기판 결합체를 분리하는 방법으로서, 제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 단계, 제1 레이저를 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저와 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저로 분리하는 단계, 제2 레이저 또는 제3 레이저의 진행 방향을 전환시키는 단계 및 제2 레이저 및 제3 레이저를 기판 결합체에 조사하는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate separation method for separating a substrate assembly including a first substrate and a second substrate attached to a first substrate, the method comprising: Separating the first laser into a second laser traveling in a first direction and a third laser traveling in a second direction different from the first direction, switching the traveling direction of the second laser or the third laser, And irradiating the substrate combination with the second laser and the third laser.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.The embodiments of the present invention have at least the following effects.

즉, 기판의 분리와 세정을 동시에 수행할 수 있다. That is, the separation and cleaning of the substrate can be performed simultaneously.

또한, 기판의 분리와 세정을 동시에 수행함으로써, 공정 효율성을 향상시킬 수 있다. In addition, by performing the separation and cleaning of the substrate at the same time, the process efficiency can be improved.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the specification.

도 1은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 분리 장치의 블록도이다.
도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에서 레이저가 제1 기판의 타면이 조사되는 것을 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 몇몇 실시예에서 제1 기판의 일면에 레이저가 조사되는 것을 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치의 부분 평면도이다.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치의 동작을 설명하기 위한 단면도이다.
도 9는 도 4의 본 발명의 일실시예에 따른 기판 결합체의 변형예에 따른 기판 결합체의 단면도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.
도 12 본 발명의 다른 실시예에 따른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 블록도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 방법의 흐름도이다.
1 is a block diagram of a substrate separation apparatus according to some embodiments of the present invention.
2 is a cross-sectional view illustrating that the laser is irradiated on the other side of the first substrate in some embodiments of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating that a laser is irradiated on one surface of a first substrate in some embodiments of the present invention.
4 is a cross-sectional view of a substrate separator according to an embodiment of the present invention.
5 is a partial plan view of a substrate separation apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 to 8 are sectional views for explaining the operation of the substrate separating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a substrate combination according to a modification of the substrate combination according to the embodiment of FIG. 4;
10 is a cross-sectional view of a substrate separation apparatus according to another embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view of a substrate separator according to another embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view of a substrate separation apparatus according to another embodiment of the present invention.
13 is a block diagram of a substrate separation apparatus according to another embodiment of the present invention.
14 is a cross-sectional view of a substrate separator according to another embodiment of the present invention.
15 is a cross-sectional view of a substrate separator according to another embodiment of the present invention.
16 is a flowchart of a method of separating a substrate according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.It will be understood that when an element or layer is referred to as being "on" of another element or layer, it encompasses the case where it is directly on or intervening another element or intervening layers or other elements. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 분리 장치의 블록도이다. 1 is a block diagram of a substrate separation apparatus according to some embodiments of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 분리 장치(100)는 제1 기판(41) 및 제1 기판(41)에 부착된 제2 기판(42)을 포함하는 기판 결합체(40)를 분리하는 기판 분리 장치(100)로서, 제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 레이저 조사(10)부, 제1 레이저를 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저(52)와 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저(53)로 분리하는 레이저 분리부(20) 및 제2 레이저(52) 또는 제3 레이저(53)의 진행 방향을 전환시키는 방향 전환부(30)를 포함한다.1, a substrate separation apparatus 100 according to some embodiments of the present invention includes a substrate assembly 40 including a first substrate 41 and a second substrate 42 attached to the first substrate 41, A second laser (52) for advancing a first laser in a first direction; a second laser (52) for advancing a second laser in a second direction; and a second laser And a direction switching unit 30 for switching the proceeding direction of the second laser 52 or the third laser 53 do.

기판 결합체(40)는 제1 기판(41) 및 제1 기판(41)에 부착된 제2 기판(42)을 포함한다. The substrate assembly 40 includes a first substrate 41 and a second substrate 42 attached to the first substrate 41.

제1 기판(41)은 내열성 및 투과성을 가진 물질, 예컨대 투명 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 제1 기판(41)은 제2 기판(42)과 부착되어 제2 기판(42)이 공정 중에 휘거나 뒤틀리지 않도록 고정하는 역할을 할 수 있다. The first substrate 41 may be made of a material having heat resistance and transparency, for example, transparent glass or plastic. The first substrate 41 may be attached to the second substrate 42 to fix the second substrate 42 so that it does not warp or distort during the process.

제1 기판(41)과 부착되는 제2 기판(42)을 가요성을 갖는 기판일 수 있다. 예를 들어, 제2 기판(42)은 캡톤(kapton), 폴리에테르술폰 (polyethersulphone, PES), 폴리카보네이트 (polycarbonate, PC), 폴리이미드 (polyimide, PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate, PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트 (polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리아릴레이트(polyacrylate, PAR) 및 섬유 강화 플라스틱(fiber reinforced plastic: FRP) 등으로 이루어진 군 중에서 선택되는 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.The second substrate 42 attached to the first substrate 41 may be a flexible substrate. For example, the second substrate 42 may be formed of one or more materials selected from the group consisting of Kapton, polyethersulphone (PES), polycarbonate (PC), polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET) And at least one material selected from the group consisting of polyethylene naphthalate (PEN), polyacrylate (PAR), and fiber reinforced plastic (FRP).

도면에 도시하지는 않았지만, 제1 기판(41)과 제2 기판(42)사이에 접착층(도시하지 않음)이 개재될 수 있다. 접착층은 광투과성 물질로 이루어질 수 있으며, 특정 파장의 레이저를 통과시키는 투과도를 갖고 유리 전이 온도(glass transition temperature)가 220 ℃ 이상인 내열 특성을 가질 수 있다. 예를 들어, 접착층은 실리콘(silicone) 또는 아크릴(acryl) 계열의 고분자 접착제 등을 포함할 수 있다.Although not shown in the drawing, an adhesive layer (not shown) may be interposed between the first substrate 41 and the second substrate 42. The adhesive layer may be made of a light-transmitting material, and may have a heat transmission characteristic with a glass transition temperature of 220 ° C or higher, having a transmittance that allows a laser of a specific wavelength to pass therethrough. For example, the adhesive layer may include a silicone adhesive or a polymer adhesive of the acryl base.

레이저 조사부(10)는 제1 방향으로 제1 레이저(51)를 조사할 수 있다. 레이저로는 예컨대 엑시머 계열의 레이저가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The laser irradiation unit 10 can irradiate the first laser 51 in the first direction. As the laser, for example, an excimer laser may be used, but the present invention is not limited thereto.

레이저 조사부(10)는 제1 레이저(51)의 파장 및 세기 등을 조절하는 제어부(도시하지 않음)를 더 포함할 수 있다.The laser irradiation unit 10 may further include a controller (not shown) for controlling the wavelength and intensity of the first laser 51.

제1 레이저(51)는 조사 대상에 선형(linear)으로 조사될 수 있다. 이에 대해서는 후술하기로 한다.The first laser 51 may be irradiated linearly to the object to be irradiated. This will be described later.

레이저 분리부(20)는 레이저 조사부(10)에의해 조사되는 제1 레이저(51)를 분리하는 역할을 한다. 레이저 분리부(20)는 제1 레이저(51)를 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)로 분리할 수 있다. 이 경우, 제2 레이저(52)의 세기와 제3 레이저(53)의 세기를 합한 값은 제1 레이저(51)의 세기보다 작거나 실질적으로 같을 수 있다. The laser separation unit 20 serves to separate the first laser 51 irradiated by the laser irradiation unit 10. The laser separation unit 20 can separate the first laser 51 into a second laser 52 and a third laser 53. [ In this case, the sum of the intensity of the second laser 52 and the intensity of the third laser 53 may be less than or substantially equal to the intensity of the first laser 51.

제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 진행 방향은 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 제2 레이저(52)는 제1 레이저(51)와 같은 제1 방향으로 진행하고, 제3 레이저(53)는 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행할 수 있다. 예시적인 실시예에서 제1 방향과 제2 방향은 서로 수직할 수 있다. 다만, 제1 방향과 제2 방향이 이루는 각은 이에 제한되는 것은 아니며, 제1 방향과 제2 방향은 서로 예각을 이루거나, 둔각을 이룰 수 있다. The traveling directions of the second laser 52 and the third laser 53 may be different from each other. For example, the second laser 52 may proceed in a first direction, such as the first laser 51, and the third laser 53 may proceed in a second direction, which is different from the first direction. In an exemplary embodiment, the first direction and the second direction may be perpendicular to each other. However, the angle formed by the first direction and the second direction is not limited thereto, and the first direction and the second direction may form an acute angle with each other or an obtuse angle.

레이저 분리부(20)가 레이저를 분리하는 방식은 제한되지 않는다. 예시적인 실시예에서 레이저 분리부(20)는 제1 레이저(51)의 일부를 투과시키고, 제1 레이저(51)의 일부를 반사시키는 방식으로 레이저를 분리할 수 있다. 즉, 레이저 분리부(20)를 투과한 제1 레이저(51)는 제2 레이저(52)가 되어 제1 방향으로 진행하고, 레이저 분리부(20)에 의해 반사된 제1 레이저(51)는 제3 레이저(53)가 되어 제2 방향으로 진행할 수 있다. 예시적인 실시예에서 레이저 분리부(20)은 빔 스플리터를 포함할 수 있다.The manner in which the laser separation unit 20 separates the laser is not limited. In the exemplary embodiment, the laser separation unit 20 can separate the laser in such a manner that it transmits a part of the first laser 51 and reflects a part of the first laser 51. [ That is, the first laser 51 transmitted through the laser separation unit 20 becomes the second laser 52 and proceeds in the first direction, and the first laser 51 reflected by the laser separation unit 20 The third laser 53 can proceed in the second direction. In an exemplary embodiment, the laser separation unit 20 may include a beam splitter.

방향 전환부(30)는 제2 레이저(52) 또는 제3 레이저(53)의 진행 방향을 전환시킬 수 있다. 예시적인 실시예에서 방향 전환부(30)는 광 반사 미러를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 몇몇 실시예에서 방향 전환부(30)는 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저(52)를 제1 방향과 상이한 제3 방향으로 진행시킬 수 있다. 이 경우, 제1 방향과 제3 방향은 수직할 수 있으나 제1 방향과 제3 방향이 이루는 각이 이에 제한되는 것은 아니다. The direction switching unit 30 can switch the traveling direction of the second laser 52 or the third laser 53. [ In the exemplary embodiment, the redirecting section 30 may include a light reflecting mirror. Also, in some embodiments of the present invention, the redirecting unit 30 may advance the second laser 52 traveling in the first direction in a third direction different from the first direction. In this case, the first direction and the third direction may be perpendicular, but the angle formed by the first direction and the third direction is not limited thereto.

방향 전환부(30)에 의해 제2 레이저(52) 또는 제3 레이저(53)의 진행방향이 전환되면, 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 동일 평면을 향해 조사될 수 있다. 즉, 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40)의 서로 다른 영역에 동시에 또는 순차적으로 조사될 수 있다. 이에 대한 구체적인 설명은 후술하기로 한다.When the direction of the second laser 52 or the third laser 53 is switched by the direction switching unit 30, the second laser 52 and the third laser 53 can be irradiated toward the same plane . That is, the second laser 52 and the third laser 53 can be irradiated to different regions of the substrate combining body 40 simultaneously or sequentially. A detailed description thereof will be described later.

이하, 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른 기판 분리 장치(100)의 동작에 대해 설명한다. Hereinafter, the operation of the substrate separating apparatus 100 according to some embodiments of the present invention will be described.

기판 결합체(40)의 전 영역에 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)를 조사하기 위해 방향 전환부(30), 레이저 분리부(20) 및 레이저 조사부(10)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나와 기판 결합체(40)는 상대 이동할 수 있다. 설명의 편의를 위해 이하에서는 기판 결합체(40)가 이동하는 것을 예시하여 설명하기로 한다.A laser separation unit 20 and a laser irradiation unit 10 for irradiating the entire region of the substrate combination body 40 with the second laser 52 and / And the substrate combination 40 can be moved relative to each other. For convenience of explanation, the movement of the substrate combination body 40 will be described below.

기판 결합체는 제2 레이저(52) 또는 제3 레이저(53)의 조사 방향과 대향되게 배치되어 직선 운동할 수 있다. 기판 결합체(40)가 직선 운동하기 위하여 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 기판 분리 장치(100)는 기판 결합체(40)를 직선 운동 시키는 구동부(도시하지 않음)를 더 포함할 수 있다.The substrate combination can be arranged so as to face the irradiation direction of the second laser 52 or the third laser 53 and perform a linear motion. The substrate separating apparatus 100 according to some embodiments of the present invention may further include a driving unit (not shown) for linearly moving the substrate combining body 40 so that the substrate combining body 40 moves linearly.

앞서 설명한 바와 같이 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40)의 서로 다른 영역에 조사될 수 있다. 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40) 상에 선형(linear)으로 조사될 수 있다. 즉, 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 라인 빔(Line Beam)일 수 있으며, 따라서, 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40) 상에 정의되는 선분에 에너지를 가할 수 있다. 제2 레이저(52)에 의해 기판 결합체(40) 상에 정의되는 선분과 제3 레이저(53)에 의해 기판 결합체(40) 상에 정의되는 선분은 평행할 수 있다. 또한, 기판 결합체(40)는 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)에 의해 정의되는 선분에 수직한 방향으로 이동할 수 있다. As described above, the second laser 52 and the third laser 53 can be irradiated to different regions of the substrate combining body 40. The second laser 52 and the third laser 53 may be linearly irradiated onto the substrate combination 40. That is, the second laser 52 and the third laser 53 may be a line beam, so that the second laser 52 and the third laser 53 are defined on the substrate combination 40 Energy can be applied to the line segment. The line segment defined on the substrate combining body 40 by the second laser 52 and the line segment defined on the substrate combining body 40 by the third laser 53 may be parallel. Further, the substrate combination 40 can move in a direction perpendicular to a line segment defined by the second laser 52 and the third laser 53. [

제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40)가 이동함에 따라 기판 결합체(40)의 일측에서 타측까지 조사될 수 있다. 예시적인 실시예에서 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)의 일면에 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사될 수 있다. 제2 레이저(52)가 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사되고, 제3 레이저(53)가 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사되는 예시적인 실시예에서 기판 결합체(40)의 이동에 따라 제2 레이저(52)는 순차적으로 제1 기판(41) 일면(401)의 전 영역에 제3 레이저(53)는 순차적으로 제1 기판(41) 타면(402)의 전 영역에 조사될 수 있다. The second laser 52 and the third laser 53 can be irradiated from one side of the substrate bonding body 40 to the other side as the substrate bonding body 40 moves. The second laser 52 may be irradiated on one side of the first substrate 41 and the third laser 53 may be irradiated on the other side 402 of the first substrate 41 in the exemplary embodiment. In the exemplary embodiment in which the second laser 52 is irradiated on one side 401 of the first substrate 41 and the third laser 53 is irradiated on the other side 402 of the first substrate 41, The second laser 52 sequentially moves the third laser 53 to the entire area of the first surface 41a of the first substrate 41 and then the second laser 52 sequentially moves the first substrate 41 The entire area can be inspected.

제3 레이저는 제1 기판의 타면을 세정하는 역할을 수행하는 세정 레이저일 수 있다. 제3 레이저가 기판을 세정하는 방식을 설명하기 위해 도 2가 참조된다. The third laser may be a cleaning laser that performs a function of cleaning the other surface of the first substrate. Reference is made to Figure 2 to illustrate the manner in which the third laser cleans the substrate.

도 2는 본 발명의 몇몇 실시예에서 레이저가 제1 기판의 타면이 조사되는 것을 나타내는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사되는 제3 레이저(53)는 제1 기판(41) 타면(402) 상에 배치되는 파티클(particle)(43)을 제거할 수 있다. 즉, 기판 결합체(40)가 이동함에 따라 제1 기판(41) 타면(402)에 위치한 파티클(43)과 제3 레이저(53)가 접하게 되면, 제3 레이저(53)의 에너지에 의해 파티클(43)이 분해됨으로써, 제1 기판(41) 타면(402)에 존재하는 파티클(43)이 제거될 수 있다. 2 is a cross-sectional view illustrating that the laser is irradiated on the other side of the first substrate in some embodiments of the present invention. 2, the third laser 53 irradiating the other surface 402 of the first substrate 41 removes the particles 43 disposed on the other surface 402 of the first substrate 41 can do. That is, when the particle 43 located on the other surface 402 of the first substrate 41 and the third laser 53 come into contact with each other as the substrate combination 40 moves, the energy of the third laser 53 causes the particles The particles 43 existing on the other surface 402 of the first substrate 41 can be removed.

즉, 제2 레이저는 제1 기판과 제2 기판을 분리시키는 탈착 레이저일 수 있다. 제2 레이저가 기판을 분리시키는 방식을 설명하기 위해 도 3이 참조된다.That is, the second laser may be a desorption laser for separating the first substrate and the second substrate. Reference is made to Figure 3 to illustrate the manner in which the second laser separates the substrate.

도 3은 본 발명의 몇몇 실시예에서 제1 기판의 일면에 레이저가 조사되는 것을 나타내는 단면도이다. 도 3을 참조하면, 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)의 타면(402)을 투과하여 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사될 수 있다. 제1 기판(41)의 일면에 조사되는 제2 레이저(53)는 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시킬 수 있다. 본 명세서에서 "제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시킨다"함은 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 공간적으로 이격시키는 것뿐만 아니라 제1 기판(41)과 제2 기판(42) 사이의 결합력을 저하시키거나 제거하는 것을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예에서 기판 결합체(41) 상에 제3 레이저(53)가 조사되고 이에 따라 순차적으로 제2 레이저(52)가 조사될 수 있다. 즉, 제3 레이저(53)에 의해 제1 기판(41)의 타면(402)이 세정되고, 세정된 영역에 제2 레이저(52)가 조사될 수 있다. 제3 레이저(53)가 제1 기판(41)의 타면(402)을 세정하고, 제2 레이저(52)가 제3 레이저(53)를 따라 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사됨으로써, 기판 결합체(40)의 세정과 탈착이 실질적으로 동시에 수행되고, 이에 따라 별도의 세정 공정이 생략되어 기판 분리 공정의 효율성이 향상될 수 있다. 3 is a cross-sectional view illustrating that a laser is irradiated on one surface of a first substrate in some embodiments of the present invention. Referring to FIG. 3, the second laser 52 may be irradiated to one surface 401 of the first substrate 41 through the second surface 402 of the first substrate 41. The second laser 53 irradiated on one surface of the first substrate 41 can separate the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other. In the present specification, "separating the first substrate 41 and the second substrate 42" means not only spatially separating the first substrate 41 and the second substrate 42, but also separating the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other, And reducing or eliminating the bonding force between the first substrate 42 and the second substrate 42. In an exemplary embodiment, a third laser 53 may be irradiated onto the substrate combination 41 and subsequently the second laser 52 may be irradiated. That is, the other surface 402 of the first substrate 41 is cleaned by the third laser 53, and the second laser 52 can be irradiated to the cleaned area. The third laser 53 cleans the other surface 402 of the first substrate 41 and the second laser 52 irradiates the one surface 401 of the first substrate 41 along the third laser 53 The cleaning and desorption of the substrate combination 40 can be performed substantially simultaneously, whereby the efficiency of the substrate separation process can be improved by omitting a separate cleaning process.

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 더욱 구체적인 실시예들에 대해 설명하기로 한다. Hereinafter, more specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치의 부분 평면도이다. 도 6 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치의 동작을 설명하기 위한 단면도이다. 4 is a cross-sectional view of a substrate separator according to an embodiment of the present invention. 5 is a partial plan view of a substrate separation apparatus according to an embodiment of the present invention. 6 to 8 are sectional views for explaining the operation of the substrate separating apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치(101)는 제1 방향으로 제1 레이저(51)를 조사하는 레이저 조사부(11), 레이저 조사부(11)와 제1 방향을 따라 이격되어 배치되는 빔 스플리터(21), 상기 빔 스플리터(21)와 제1 방향을 따라 이격되어 배치되는 광 반사 미러(31)를 포함한다.4, a substrate separating apparatus 101 according to an embodiment of the present invention includes a laser irradiating unit 11 for irradiating a first laser 51 in a first direction, a laser irradiating unit 11 for irradiating the laser irradiating unit 11 in a first direction A beam splitter 21 disposed to be spaced apart from the beam splitter 21, and a light reflection mirror 31 disposed apart from the beam splitter 21 in the first direction.

레이저 조사부(11)는 제1 방향으로 제1 레이저(51)를 조사할 수 있다. 레이저로는 예컨대 엑시머 계열의 레이저가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The laser irradiation unit 11 can irradiate the first laser 51 in the first direction. As the laser, for example, an excimer laser may be used, but the present invention is not limited thereto.

제1 방향은 지면과 평행한 방향일 수 있다. 제1 방향으로 조사되는 제1 레이저(51)는 레이저 조사부(11)와 제1 방향을 따라 이격된 빔 스플리터(21)에 도달할 수 있다. The first direction may be a direction parallel to the paper surface. The first laser 51 irradiated in the first direction can reach the beam splitter 21 spaced apart from the laser irradiation unit 11 along the first direction.

빔 스플리터(21)는 제1 레이저(51)를 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)로 분리할 수 있다. 이 경우, 제2 레이저(52)의 세기와 제3 레이저(53)의 세기를 합한 값은 제1 레이저(51)의 세기보다 작거나 실질적으로 같을 수 있다. 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 진행 방향은 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 제2 레이저(52)는 제1 레이저(51)와 같은 제1 방향으로 진행하고, 제3 레이저(53)는 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행할 수 있다. The beam splitter 21 can separate the first laser 51 into the second laser 52 and the third laser 53. [ In this case, the sum of the intensity of the second laser 52 and the intensity of the third laser 53 may be less than or substantially equal to the intensity of the first laser 51. The traveling directions of the second laser 52 and the third laser 53 may be different from each other. For example, the second laser 52 may proceed in a first direction, such as the first laser 51, and the third laser 53 may proceed in a second direction, which is different from the first direction.

빔 스플리터는(21) 제1 레이저(51)의 일부를 투과시키고, 제1 레이저(51)의 일부를 반사시키는 방식으로 레이저를 분리할 수 있다. 즉, 빔 스플리터(21)를 투과한 제1 레이저(51)는 제2 레이저(52)가 되어 제1 방향으로 진행하고, 빔 스플리터(21)에 의해 반사된 제1 레이저(51)는 제3 레이저(53)가 되어 제2 방향으로 진행할 수 있다. 예시적으로 제1 방향과 제2 방향은 수직일 수 있으나, 제1 방향과 제2 방향이 이루는 각은 이에 제한되지 않는다. 빔 스플리터(21)를 투과한 제2 레이저(52)는 빔 스플리터(21)와 제1 방향을 따라 이격된 광 반사 미러(31)에 도달할 수 있다. The beam splitter 21 can separate the laser in such a manner that a part of the first laser 51 is transmitted and a part of the first laser 51 is reflected. That is, the first laser beam 51 transmitted through the beam splitter 21 becomes the second laser beam 52 and proceeds in the first direction. The first laser beam 51 reflected by the beam splitter 21 passes through the third The laser 53 can be made to proceed in the second direction. Illustratively, the first direction and the second direction may be vertical, but the angle formed by the first direction and the second direction is not limited thereto. The second laser 52 transmitted through the beam splitter 21 can reach the beam splitter 21 and the light reflection mirror 31 spaced apart from the beam splitter 21 in the first direction.

광 반사 미러(31)는 제2 레이저(52)의 진행 방향을 제1 방향과 상이한 제3 방향으로 전환시킬 수 있다. 제1 방향과 제3 방향은 서로 수직할 수 있으나, 제1 방향과 제3 방향이 이루는 각은 이에 제한되지 않는다. The light reflection mirror 31 can switch the traveling direction of the second laser 52 to a third direction that is different from the first direction. The first direction and the third direction may be perpendicular to each other, but the angle formed by the first direction and the third direction is not limited thereto.

제1 방향으로 진행하는 제2 레이저(52)가 광 반사 미러(31)에 의해 제3 방향으로 전환됨으로써, 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)는 동일 평면을 향해 진행할 수 있다. The second laser 52 traveling in the first direction is switched to the third direction by the light reflecting mirror 31 so that the second laser 52 and the third laser 53 can proceed toward the same plane.

예시적인 실시예에서 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 진행 방향은 실질적으로 평행할 수 있다.In the exemplary embodiment, the traveling direction of the second laser 52 and the third laser 53 may be substantially parallel.

기판 결합체(40)상에 조사되는 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 초점 깊이(Depth of focus)는 서로 상이할 수 있다. 즉, 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사되고, 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사될 수 있다. The depth of focus of the second laser 52 and the third laser 53 irradiated on the substrate combination body 40 may be different from each other. That is, the second laser 52 may be irradiated to one surface 401 of the first substrate 41, and the third laser 53 may be irradiated to the other surface 402 of the first substrate 41.

빔 스플리터(21)에 의해 반사된 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사될 수 있다. 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사되는 제3 레이저(53)는 제1 기판(41) 상에 존재하는 파티클(43)을 제거할 수 있다. 즉, 제3 레이저(53)의 에너지에 의해 제3 레이저(53)에 닿은 파티클(43)이 분해됨으로써, 제1 기판(41) 타면(402)에 존재하는 파티클(43)이 제거될 수 있다. 즉, 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)을 세정하는 세정 레이저일 수 있다.The third laser 53 reflected by the beam splitter 21 can be irradiated to the other surface 402 of the first substrate 41. [ The third laser 53 irradiating the other surface 402 of the first substrate 41 can remove the particles 43 existing on the first substrate 41. [ That is, the particles 43 that are in contact with the third laser 53 are decomposed by the energy of the third laser 53, so that the particles 43 existing on the other surface 402 of the first substrate 41 can be removed . That is, the third laser 53 may be a cleaning laser that cleans the other surface 402 of the first substrate 41.

광 반사 미러(31)에 의해 반사된 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)의 타면(402)을 투과하여 제1 기판(41)의 일면에 조사될 수 있다. 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사되는 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시킬 수 있다. 본 명세서에서 "제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시킨다"함은 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 공간적으로 이격시키는 것뿐만 아니라 제1 기판(41)과 제2 기판(42) 사이의 결합력을 저하시키거나 제거하는 것을 포함할 수 있다. 즉, 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시키는 탈착 레이저일 수 있다.The second laser 52 reflected by the light reflection mirror 31 may be transmitted through the other surface 402 of the first substrate 41 and irradiated to one surface of the first substrate 41. The second laser 52 irradiating the one surface 401 of the first substrate 41 can separate the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other. In the present specification, "separating the first substrate 41 and the second substrate 42" means not only spatially separating the first substrate 41 and the second substrate 42, but also separating the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other, And reducing or eliminating the bonding force between the first substrate 42 and the second substrate 42. That is, the second laser 52 may be a desorption laser for separating the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치에서 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40) 상에 선형(linear)으로 조사될 수 있다. Referring to FIG. 5, the second laser 52 and the third laser 53 in the substrate separating apparatus according to an embodiment of the present invention may be irradiated linearly on the substrate combining body 40.

제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40) 상에 정의되는 선분에 에너지를 가할 수 있다. 즉, 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)는 라인 빔(Line Beam)일 수 있다. The second laser 52 and the third laser 53 can apply energy to the line segment defined on the substrate combination 40. That is, the second laser 52 and the third laser 53 may be a line beam.

제2 레이저(52)에 의해 기판 결합체(40) 상에 정의된 선분과 제3 레이저(53)에 의해 기판 결합체(40) 상에 정의된 선분은 일정 간격 이격되어 배치될 수 있다. 다만, 앞서 설명한 바와 같이 이 경우에도 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 초점 깊이는 다를 수 있다. The line segment defined on the substrate combination body 40 by the second laser 52 and the line segment defined on the substrate combination body 40 by the third laser 53 may be arranged at a predetermined interval. However, as described above, the focal depths of the second laser 52 and the third laser 53 may also be different in this case as well.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치(101)의 동작에 대해 설명한다. Hereinafter, the operation of the substrate separating apparatus 101 according to the embodiment of the present invention will be described.

앞서 설명한 바와 같이 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)와 기판 결합체(40)는 서로 상대 운동할 수 있다. 도 6 내지 도 8은 기판 결합체가 x축 방향으로 이동하는 것을 예시한다. As described above, the second laser 52 and the third laser 53 and the substrate combination 40 can move relative to each other. 6 to 8 illustrate the movement of the substrate combination in the x-axis direction.

도면에 도시하지는 않았지만, 기판 결합체(40)가 이동하기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치(101)는 기판 결합체(40)를 이동시키는 구동부(도시하지 않음)를 더 포함할 수 있다. 구동부는 예컨대, 모터(motor)나 액츄에이터(actuator)를 포함할 수 있다. Although not shown in the drawing, the substrate separating apparatus 101 according to an embodiment of the present invention may further include a driving unit (not shown) for moving the substrate combining body 40 so that the substrate combining body 40 moves . The driving unit may include, for example, a motor or an actuator.

기판 결합체(40)는 도 6 내지 도 8에서 도시된 바와 같이 x축 음의 방향으로 직선 운동할 수 있다. 기판 결합체는 일정한 속도를 가지고 이동할 수 있다. The substrate combination body 40 can linearly move in the x-axis negative direction as shown in Figs. The substrate combination can move at a constant speed.

도 6을 참조하면, 기판 결합체(40)는 빔 스플리터(21)에 의해 제2 방향으로 조사되는 제3 레이저(53)를 향해 이동할 수 있다. Referring to FIG. 6, the substrate joining body 40 can move toward the third laser 53 which is irradiated in the second direction by the beam splitter 21.

도 7을 참조하면, 기판 결합체(40)가 계속적으로 이동함에 따라 기판 결합체(40)의 일측이 제3 레이저(53)에 닿을 수 있다. 기판 결합체(40)의 일측이 제3 레이저(53)에 닿은 상태에서 기판 결합체(40)는 계속적으로 이동할 수 있다. 기판 결합체(40)가 계속적으로 이동함에 따라 선형 형상을 갖는 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40)의 타면에 순차적으로 조사될 수 있다. Referring to FIG. 7, as the substrate bonding body 40 moves continuously, one side of the substrate bonding body 40 can contact the third laser 53. The substrate joining body 40 can continuously move while one side of the substrate joining body 40 is in contact with the third laser 53. [ As the substrate bonding body 40 continuously moves, the third laser 53 having a linear shape can be sequentially irradiated to the other surface of the substrate bonding body 40.

도 6을 참조하면, 기판 결합체(40)는 제2 레이저(52)를 향하여 계속적으로 이동할 수 있다. 기판 결합체(40)가 계속적으로 이동함에 따라 기판 결합체(40)의 일측이 제2 레이저(52)에 닿을 수 있다. 기판 결합체(40)의 일측이 제2 레이저(52)에 닿은 상태에서 기판 결합체(40)는 계속적으로 이동할 수 있다. 기판 결합체(40)가 계속적으로 이동함에 따라 선형 형상을 갖는 제2 레이저(52)는 제1 기판(40)의 타면(402)을 투과하여 제1 기판(41)의 일면(401)에 순차적으로 조사될 수 있다.Referring to FIG. 6, the substrate joining body 40 can continuously move toward the second laser 52. As the substrate bonding body 40 continuously moves, one side of the substrate bonding body 40 can touch the second laser 52. The substrate combining body 40 can continuously move while one side of the substrate combining body 40 is in contact with the second laser 52. [ The second laser 52 having a linear shape passes through the second surface 402 of the first substrate 40 and is sequentially transferred onto one surface 401 of the first substrate 41 Can be investigated.

앞서 설명한 바와 같이 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)상의 파티클(43)을 제거하여 제1 기판(41) 타면(402)을 세정할 수 있다. 제3 레이저(53)에 의해 세정된 영역상에 제2 레이저(52)가 조사됨으로써, 제1 기판(41)의 타면(402)에 존재하는 파티클(43)이 제2 레이저(52)의 에너지의 일부를 흡수함으로써 발생할 수 있는 기판 탈착 불량 현상을 방지할 수 있다. 또한, 제3 레이저(53)에 의한 세정과 제2 레이저(52)에 의한 탈착이 실질적으로 거의 동시에 진행됨으로써, 별도의 세정 공정 없이 기판 분리 공정을 진행할 수 있으며, 이에 따라 공정 시간이 단축되고, 공정 효율성이 증대될 수 있다.The third laser 53 can clean the other surface 402 of the first substrate 41 by removing the particles 43 on the second surface 402 of the first substrate 41 as described above. The particles 43 existing on the other surface 402 of the first substrate 41 are irradiated with the energy of the second laser 52 by the irradiation of the second laser 52 on the area cleaned by the third laser 53, It is possible to prevent a substrate detachment failure phenomenon that may occur by absorbing a part of the substrate. In addition, since the cleaning by the third laser 53 and the desorption by the second laser 52 proceed substantially at the same time, the substrate separation process can be performed without a separate cleaning process, thereby shortening the process time, Process efficiency can be increased.

이하, 본 발명의 다른 실시예들에 대해 설명한다. 이하의 실시예에서 이미 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조 번호로서 지칭하며, 중복 설명은 생략하거나 간략화하기로 한다.Hereinafter, other embodiments of the present invention will be described. In the following embodiments, the same components as those already described are referred to as the same reference numerals, and redundant description will be omitted or simplified.

도 9는 도 4의 본 발명의 일실시예에 따른 기판 결합체의 변형예에 따른 기판 결합체의 단면도이다. FIG. 9 is a cross-sectional view of a substrate combination according to a modification of the substrate combination according to the embodiment of FIG. 4;

도 9는 기판 결합체(45)가 박막 트랜지스터 어레이와 상부 보호 필름을 더 포함하는 경우를 예시한다. 9 illustrates a case where the substrate combination 45 further includes a thin film transistor array and a top protective film.

박막 트랜지스터 어레이(48)는 제2 기판(42) 상에 형성될 수 있다. 박막 트랜지스터 어레이(48)는 행렬 방향으로 배열된 복수의 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 제2 기판(42) 상에는 게이트 라인(도시하지 않음) 및 데이터 라인(도시하지 않음) 등과 같은 신호 배선이 형성되고, 이들을 통해 각 박막 트랜지스터에 게이트 신호 및 데이터 신호를 인가될 수 있다. 제2 기판(42) 상에는 각 화소 별로 화소 전극(도시하지 않음)이 형성되고, 각 화소 전극은 박막 트랜지스터를 통해 화소 전압 또는 전류를 인가받을 수 있다. The thin film transistor array 48 may be formed on the second substrate 42. The thin film transistor array 48 may include a plurality of thin film transistors arranged in a matrix direction. Signal lines such as gate lines (not shown) and data lines (not shown) are formed on the second substrate 42, and gate signals and data signals can be applied to the thin film transistors through these. On the second substrate 42, a pixel electrode (not shown) is formed for each pixel, and each pixel electrode can receive a pixel voltage or a current through the thin film transistor.

박막 트랜지스터 어레이(48) 상에는 상부 보호 필름(49)이 형성될 수 있다. 상부 보호 필름(49)은 제2 기판(42)을 완전히 덮을 수 있다. An upper protective film 49 may be formed on the thin film transistor array 48. The upper protective film 49 may completely cover the second substrate 42. [

상부 보호 필름(49)은 제1 기판(41)을 분리한 이후에 제2 기판(42)이 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않도록 고정하는 역할을 한다. 따라서, 제1 기판(41)을 분리한 이후에 제1 기판(41) 없이도 제2 기판(42)의 취급이 용이해져 뒤따르는 하부 필름(도시하지 않음) 부착 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있다. The upper protective film 49 serves to fix the second substrate 42 so that the second substrate 42 can be easily bent or distorted after the first substrate 41 is separated. Therefore, after the first substrate 41 is separated, the second substrate 42 can be easily handled without the first substrate 41, and the subsequent process of attaching the lower film (not shown) can proceed more precisely and stably have.

예시적인 실시예에서, 제1 기판(41)은 제2 기판(42)보다 크고, 그에 따라 제1 기판(41)은 제2 기판(42)과 중첩되지 않는 영역(이하, "미중첩 영역"이라 함)을 포함할 수 있다. 제1 기판(41)의 상기 미중첩 영역은 제1 기판(41)의 테두리를 따라 배치될 수 있다. 상부 보호 필름(49)은 제2 기판(42)의 일면 및 측면을 완전히 덮도록 배치될 수 있다. 상부 보호 필름(49)의 말단은 제1 기판(41)의 미중첩 영역 상에 접할 수 있다. 나아가, 상부 보호 필름(49)은 제2 기판(42)의 측면에 접할 수 있다. The first substrate 41 is larger than the second substrate 42 so that the first substrate 41 is not overlapped with the second substrate 42 (hereinafter referred to as the "non-overlapping region" Quot;). The non-overlapping regions of the first substrate 41 may be disposed along the rim of the first substrate 41. The upper protective film 49 may be disposed so as to completely cover one side and the side surface of the second substrate 42. The end of the upper protective film 49 may be in contact with the non-overlapping area of the first substrate 41. [ Further, the upper protective film 49 may be in contact with the side surface of the second substrate 42.

상부 보호 필름(49)은 상부 보호 필름으로서 폴리에틸렌나프탈레이트 (polyethylenenaphthalate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 폴리 카보네이트 (polycarbonate), 폴리에테르술폰(Polyethersulfone) 등의 고분자 물질이나 스테인레스 강(SUS:Stainless Steel) 등을 포함하는 메탈 호일(Metal foil) 등이 적용될 수 있다.The upper protective film 49 may be formed of a polymer material such as polyethylenenaphthalate, polyethylene terephthalate, polycarbonate or polyethersulfone as an upper protective film or a polymer material such as stainless steel (SUS: A metal foil including a metal foil or the like may be applied.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.10 is a cross-sectional view of a substrate separation apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치는 레이저 조사부(11)가 기판 결합체(40) 상부에 배치되어 기판 결합체(40)를 향해 레이저를 조사하는 점이 도 2의 실시예와 다른 점이다.10, the substrate separating apparatus according to another embodiment of the present invention differs from the embodiment of FIG. 2 in that the laser irradiation unit 11 is disposed on the substrate coupling body 40 and irradiates the laser beam toward the substrate coupling body 40 .

앞서 설명한 바와 같이 레이저 조사부(11)는 제1 방향을 향해 제1 레이저(51)를 조사할 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(102)에서 제1 방향은 도 10에서 y축 음의 방향일 수 있다. As described above, the laser irradiation unit 11 can irradiate the first laser 51 toward the first direction. In the substrate separating apparatus 102 according to another embodiment of the present invention, the first direction may be a y-axis negative direction in FIG.

제1 방향으로 조사되는 제1 레이저(51)는 레이저 조사부(11)와 제1 방향을 따라 이격된 빔 스플리터(21)에 도달할 수 있다. The first laser 51 irradiated in the first direction can reach the beam splitter 21 spaced apart from the laser irradiation unit 11 along the first direction.

빔 스플리터(21)는 제1 레이저(51)의 일부를 투과시키고, 제1 레이저(51)의 일부를 반사시키는 방식으로 레이저를 분리할 수 있다. 즉, 빔 스플리터(21)를 투과한 제1 레이저(51)는 제2 레이저(52)가 되어 제1 방향으로 진행하고, 빔 스플리터(21)에 의해 반사된 제1 레이저(51)는 제3 레이저(53)가 되어 제2 방향으로 진행할 수 있다. 예시적으로 제1 방향과 제2 방향은 수직일 수 있으나, 제1 방향과 제2 방향이 이루는 각은 이에 제한되지 않는다. 빔 스플리터(21)에 의해 반사된 제3 레이저(53)는 빔 스플리터(21)와 제2 방향을 따라 이격된 광 반사 미러(31)에 도달할 수 있다.The beam splitter 21 can separate the laser in such a manner as to transmit a part of the first laser 51 and reflect a part of the first laser 51. [ That is, the first laser beam 51 transmitted through the beam splitter 21 becomes the second laser beam 52 and proceeds in the first direction. The first laser beam 51 reflected by the beam splitter 21 passes through the third The laser 53 can be made to proceed in the second direction. Illustratively, the first direction and the second direction may be vertical, but the angle formed by the first direction and the second direction is not limited thereto. The third laser 53 reflected by the beam splitter 21 can reach the beam reflecting mirror 31 separated from the beam splitter 21 in the second direction.

광 반사 미러(31)는 제3 레이저(53)의 진행 방향을 제2 방향과 상이한 제3 방향으로 전환시킬 수 있다. 이 경우, 제1 방향과 제3 방향은 서로 평행할 수 있으나, 제1 방향과 제3 방향이 이루는 각은 이에 제한되지 않는다.The light reflection mirror 31 can switch the traveling direction of the third laser 53 to a third direction different from the second direction. In this case, the first direction and the third direction may be parallel to each other, but the angle formed by the first direction and the third direction is not limited thereto.

제2 방향으로 진행하는 제3 레이저(53)가 광 반사 미러(31)에 의해 제3 방향으로 전환됨으로써, 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)는 동일 평면을 향해 진행할 수 있다. The third laser 53 traveling in the second direction is switched to the third direction by the light reflecting mirror 31 so that the second laser 52 and the third laser 53 can proceed toward the same plane.

기판 결합체(40)상에 조사되는 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 초점 깊이(Depth of focus)는 서로 상이할 수 있다. 즉, 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사되고, 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사될 수 있다.The depth of focus of the second laser 52 and the third laser 53 irradiated on the substrate combination body 40 may be different from each other. That is, the second laser 52 may be irradiated to one surface 401 of the first substrate 41, and the third laser 53 may be irradiated to the other surface 402 of the first substrate 41.

광 반사 미러(31)에 의해 반사된 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사될 수 있다. 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사되는 제3 레이저(53)는 제1 기판(41) 상에 존재하는 파티클(43)을 제거할 수 있다. 즉, 제3 레이저(53)의 에너지에 의해 제3 레이저(53)에 닿은 파티클(43)이 분해됨으로써, 제1 기판(41) 타면(402)에 존재하는 파티클(43)이 제거될 수 있다. 즉, 제3 레이저(53)는 제1 기판(41)의 타면(402)을 세정하는 세정 레이저일 수 있다.The third laser 53 reflected by the light reflecting mirror 31 can be irradiated to the other surface 402 of the first substrate 41. [ The third laser 53 irradiating the other surface 402 of the first substrate 41 can remove the particles 43 existing on the first substrate 41. [ That is, the particles 43 that are in contact with the third laser 53 are decomposed by the energy of the third laser 53, so that the particles 43 existing on the other surface 402 of the first substrate 41 can be removed . That is, the third laser 53 may be a cleaning laser that cleans the other surface 402 of the first substrate 41.

빔 스플리터(21)를 투과한 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)의 타면(402)을 투과하여 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사될 수 있다. 제1 기판(41)의 일면에 조사되는 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시킬 수 있다. 본 명세서에서 "제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시킨다"함은 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 공간적으로 이격시키는 것뿐만 아니라 제1 기판(41)과 제2 기판(42) 사이의 결합력을 저하시키거나 제거하는 것을 포함할 수 있다. 즉, 제2 레이저(52)는 제1 기판(41)과 제2 기판(42)을 분리시키는 탈착 레이저일 수 있다.The second laser 52 transmitted through the beam splitter 21 may be transmitted through the second surface 402 of the first substrate 41 and irradiated onto one surface 401 of the first substrate 41. The second laser 52 irradiated on one surface of the first substrate 41 can separate the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other. In the present specification, "separating the first substrate 41 and the second substrate 42" means not only spatially separating the first substrate 41 and the second substrate 42, but also separating the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other, And reducing or eliminating the bonding force between the first substrate 42 and the second substrate 42. That is, the second laser 52 may be a desorption laser for separating the first substrate 41 and the second substrate 42 from each other.

본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(102)의 동작 방식은 앞서 도 6 내지 도 8에서 설명한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 장치(101)의 동작과 실질적으로 동일할 수 있다. 따라서, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.The operation of the substrate separating apparatus 102 according to another embodiment of the present invention may be substantially the same as the operation of the substrate separating apparatus 101 according to the embodiment of the present invention described above with reference to FIGS. Therefore, a detailed description thereof will be omitted.

도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.11 is a cross-sectional view of a substrate separator according to another embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(103)는 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)가 기판 결합체(40)의 상면과 수직한 면으로부터 일정 각도 기울어져 조사되는 점이 도 4의 실시예와 다른 점이다.11, the substrate separating apparatus 103 according to another embodiment of the present invention is configured such that the second laser 52 and / or the third laser 53 are moved from a plane perpendicular to the upper surface of the substrate combining body 40 Differs from the embodiment of Fig. 4 in that the light is angled and tilted.

광 반사 미러(31) 및/또는 빔 스플리터(21)에 의해 반사되는 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)는 기판 결합체(40)의 상면과 수직한 면으로부터 일정 각도 기울어져 조사될 수 있다. 설명의 편의상 제2 레이저(52)가 기판 결합체(40) 상면과 수직한 면과 이루는 각도를 제1 각(θ1), 제3 레이저(53)가 기판 결합체(40) 상면과 수직한 면과 이루는 각도를 제2 각(θ2)으로 지칭하기로 한다.The second laser 52 and / or the third laser 53 reflected by the light reflecting mirror 31 and / or the beam splitter 21 are inclined at a certain angle from the plane perpendicular to the upper surface of the substrate combining body 40 Can be investigated. The angle formed by the second laser 52 with the plane perpendicular to the upper surface of the substrate combining body 40 is defined as a first angle? 1 and the angle formed by the third laser 53 perpendicular to the upper surface of the substrate combining body 40 The angle is referred to as a second angle? 2.

제1 각(θ1)과 제2 각(θ2)은 0도 보다 크고 10도 보다 작거나 같을 수 있다. 다만, 제1 각(θ1)과 제2 각(θ2)의 크기는 이에 제한되는 것은 아니다. The first angle? 1 and the second angle? 2 may be greater than 0 degrees and less than or equal to 10 degrees. However, the sizes of the first angle? 1 and the second angle? 2 are not limited thereto.

제2 레이저(52)의 진행 방향과 제3 레이저(53)의 진행 방향이 평행한 예시적인 실시예에서 제1 각(θ1)과 제2 각(θ2)이 실질적으로 동일할 수 있음은 자명하다고 할 것이다.It is obvious that the first angle? 1 and the second angle? 2 may be substantially the same in the exemplary embodiment in which the traveling direction of the second laser 52 and the traveling direction of the third laser 53 are parallel something to do.

제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)가 기판 결합체(40)의 상면과 수직한 면으로부터 일정 각도 기울어져 조사되는 경우, 기판 결합체(40)에 의해 반사되어 나오는 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)가, 빔 스플리터(21) 및/또는 광 반사 미러(31)로부터 나오는 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)를 간섭하여 공정의 효율성을 떨어뜨리는 현상을 방지할 수 있다. When the second laser 52 and / or the third laser 53 are irradiated at a certain angle from the plane perpendicular to the upper surface of the substrate combining body 40, 52 and / or the third laser 53 interfere with the second laser 52 and / or the third laser 53 emanating from the beam splitter 21 and / or the light reflecting mirror 31, Can be prevented.

도 12 본 발명의 다른 실시예에 따른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.12 is a cross-sectional view of a substrate separation apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(104)는 복수의 기판 결합체(40a, 40b)를 투입하여, 기판 분리 장치(104)를 동작시키는 점이 도 4의 실시예와 다른 점이다. 12, the substrate separating apparatus 104 according to another embodiment of the present invention operates the substrate separating apparatus 104 by inputting a plurality of substrate assemblies 40a and 40b, It is different.

빔 스플리터(21)와 빔 스플리터(21)로부터 제1 방향으로 이격되어 배치되는 광 반사 미러(31)의 거리는 도 4의 실시예에 비해 상대적으로 길거나 짧을 수 있다. 빔 스플리터(21)와 광 반사 미러(31)의 거리가 도 4의 실시예에 비해 길어지는 경우, 제2 레이저(52)와 제3 레이저(53)의 이격 거리도 도 4의 실시예에 비해 커질 수 있다.The distance between the beam splitter 21 and the light reflection mirror 31 disposed in the first direction from the beam splitter 21 may be relatively long or short as compared with the embodiment of FIG. When the distance between the beam splitter 21 and the light reflecting mirror 31 is longer than that in the embodiment of Fig. 4, the distance between the second laser 52 and the third laser 53 is also smaller than that in the embodiment of Fig. Can be large.

빔 스플리터(21)와 광 반사 미러(31)의 거리가 상대적으로 커지는 경우, 복수의 기판 결합체를 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(104)에 투입할 수 있다. 설명의 편의상 도 12에서 왼쪽에 배치된 기판 결합체를 제1 기판 결합체(40a), 오른쪽에 배치된 기판 결합체를 제2 기판 결합체(40b)로 지칭하기로 한다.When the distance between the beam splitter 21 and the light reflecting mirror 31 is relatively large, a plurality of substrate assemblies can be put into the substrate separating apparatus 104 according to another embodiment of the present invention. For convenience of explanation, the substrate combination disposed on the left side in FIG. 12 will be referred to as a first substrate combination body 40a, and the substrate combination disposed on the right side will be referred to as a second substrate combination body 40b.

제1 기판 결합체(40a)와 제2 기판 결합체(40b)는 일직선 상에 정렬되어 도 12에서 x축 음의 방향으로 진행할 수 있다. 제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)는 일정한 속도로 이동할 수 있다. The first substrate bonding body 40a and the second substrate bonding body 40b may be aligned in a straight line and proceed in the x-axis negative direction in FIG. The first substrate bonding body 40a and the second substrate bonding body 40b can move at a constant speed.

제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)는 빔 스플리터(21)에 의해 제2 방향으로 조사되는 제3 레이저(53)를 향해 이동할 수 있다. 제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)가 계속적으로 이동함에 따라 제1 기판 결합체(40a)의 일측이 제3 레이저(53)에 닿을 수 있다. 제1 기판 결합체(40a)의 일측이 제3 레이저에 닿은 상태에서 제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)는 계속적으로 이동할 수 있다. 제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)가 계속적으로 이동함에 따라 선형 형상을 갖는 제3 레이저(53)는 제1 기판 결합체(40a)의 제1 기판(41a) 타면에 순차적으로 조사될 수 있다.The first substrate combination body 40a and the second substrate combination body 40b can move toward the third laser 53 which is irradiated in the second direction by the beam splitter 21. [ One side of the first substrate coupling body 40a can contact the third laser 53 as the first substrate coupling body 40a and the second substrate coupling body 40b continue to move. The first substrate bonding body 40a and the second substrate bonding body 40b can continuously move while one side of the first substrate bonding body 40a is in contact with the third laser. As the first substrate bonding body 40a and the second substrate bonding body 40b are continuously moved, the third laser 53 having a linear shape is sequentially transferred onto the other surface of the first substrate 41a of the first substrate bonding body 40a Can be investigated.

제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)가 계속적으로 이동함에 따라 제2 기판 결합체(40b)의 일측이 제3 레이저(53)에 닿을 수 있다. 제1 기판 결합체(40a) 및 제2 기판 결합체(40b)가 계속적으로 이동하면, 제1 기판 결합체(40a)에는 제2 레이저(52)가 조사되고 제2 기판 결합체(40b)에는 제3 레이저(53)가 조사될 수 있다. 즉, 제1 기판 결합체(40a) 제1 기판(41a)의 일면에 제 2 레이저(52)가 조사되고, 제2 기판 결합체(40b)의 제1 기판(41b) 타면에 제3 레이저(53)가 조사될 수 있다.One side of the second substrate bonding body 40b can contact the third laser 53 as the first substrate bonding body 40a and the second substrate bonding body 40b continue to move. When the first substrate bonding body 40a and the second substrate bonding body 40b are continuously moved, the first substrate bonding body 40a is irradiated with the second laser 52 and the second substrate bonding body 40b is irradiated with the third laser 53 may be examined. That is, the second laser 52 is irradiated to one surface of the first substrate 41a of the first substrate coupling body 40a and the third laser 53 is irradiated to the other surface of the first substrate 41b of the second substrate coupling body 40b. Can be examined.

제2 기판 결합체(40b)의 일측이 제2 레이저(52)에 닿은 상태에서 제2 기판 결합체(40b)는 계속적으로 이동할 수 있으며, 제2 레이저(52)가 제2 기판 결합체(40b)의 일면에 조사될 수 있다. The second substrate bonding body 40b can continuously move while one side of the second substrate bonding body 40b is in contact with the second laser 52 and the second laser bonding body 40b can move continuously on one surface Lt; / RTI >

이와 같이, 복수개의 기판 결합체를 동시에 투입하여 기판 분리 공정을 수행하는 경우, 공정에 걸리는 시간을 단축하여 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다. As described above, when a plurality of substrate assemblies are simultaneously injected to perform the substrate separating process, the time required for the process can be shortened and the efficiency of the process can be improved.

도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 블록도이다. 13 is a block diagram of a substrate separation apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치는 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)의 초점을 조절하는 초점 조절부(60)를 더 포함하는 점이 도 4의 실시예와 다른 점이다.13, the substrate separating apparatus according to another embodiment of the present invention further includes a focus adjusting unit 60 for adjusting the focus of the second laser 52 and / or the third laser 53 4 is different from the embodiment of FIG.

본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(105)는 제2 레이저(52) 및/또는 제3 레이저(53)의 초점을 조절하는 초점 조절부(60)를 더 포함할 수 있다. 초점 조절부(60)는 적어도 하나의 광학계를 포함할 수 있다.The substrate separating apparatus 105 according to another embodiment of the present invention may further include a focus adjusting unit 60 that adjusts the focus of the second laser 52 and / or the third laser 53. The focus adjusting section 60 may include at least one optical system.

도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.14 is a cross-sectional view of a substrate separator according to another embodiment of the present invention.

도 14를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(106)는 광 반사 미러(31)와 기판 결합체(40) 사이에 배치되는 제1 광학계(61)와 빔 스플리터(21)와 기판 결합체(40) 사이에 배치되는 제2 광학계(62)를 포함하는 점이 도 4의 실시예와 다른 점이다. 제1 광학계(61) 및 제2 광학계(62)는 제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)의 초점을 조절할 수 있다. 즉, 제1 광학계(61)는 제1 광학계(61)를 지나는 제2 레이저(52)가 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사되도록 제2 레이저(52)의 초점을 조절할 수 있으며, 제2 광학계(62)는 제2 광학계(62)를 지나는 제3 레이저(53)가 제1 기판(40)의 타면(402)에 조사되도록 제3 레이저(53)의 초점을 조절할 수 있다.14, a substrate separating apparatus 106 according to another embodiment of the present invention includes a first optical system 61 disposed between a light reflecting mirror 31 and a substrate combining body 40, a beam splitter 21, And the second optical system 62 disposed between the substrate assemblies 40 is different from the embodiment of FIG. The first optical system 61 and the second optical system 62 can adjust the focus of the second laser 52 and the third laser 53. That is, the first optical system 61 can adjust the focus of the second laser 52 so that the second laser 52 passing through the first optical system 61 is irradiated on one surface 401 of the first substrate 41 The second optical system 62 can adjust the focus of the third laser 53 so that the third laser 53 passing through the second optical system 62 is irradiated on the other surface 402 of the first substrate 40.

도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치의 단면도이다.15 is a cross-sectional view of a substrate separator according to another embodiment of the present invention.

도 15를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(107)는 레이저 조사부(11)와 빔 스플리터(21) 사이에 배치되는 광학계(63)를 포함하는 점이 도 4의 실시예와 다른 점이다. 15, the substrate separating apparatus 107 according to another embodiment of the present invention includes the optical system 63 disposed between the laser irradiating unit 11 and the beam splitter 21, It is different.

본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 분리 장치(107)에서 광학계(63)는 레이저 조사부(11)와 제1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다. In the substrate separating apparatus 107 according to another embodiment of the present invention, the optical system 63 may be disposed apart from the laser irradiation unit 11 in the first direction.

광학계(63)가 레이저 조사부(11)와 빔 스플리터(21) 사이에 배치되는 경우, 광학계(63)는 광학계(63)를 지나는 제1 레이저(51)가 세정 및/또는 탈착에 적합한 에너지를 갖도록 제1 레이저(51)를 조절할 수 있다. When the optical system 63 is disposed between the laser irradiation unit 11 and the beam splitter 21, the optical system 63 is arranged such that the first laser 51 passing through the optical system 63 has energy suitable for cleaning and / The first laser 51 can be adjusted.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 방법에 대해 설명하기로 한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 방법은 앞서 설명한 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른 기판 분리 장치에 의해 실시될 수 있다. 설명의 편의상, 도 4 내지 도 8 또는 도시한 구성 요소와 실질적으로 동일한 구성 요소는 동일 부호로 나타내고 중복 설명은 생략하기로 한다. Hereinafter, a method of separating a substrate according to an embodiment of the present invention will be described. A method of separating a substrate according to an embodiment of the present invention may be performed by a substrate separating apparatus according to some embodiments of the present invention described above. For the sake of convenience of description, substantially the same constituent elements as those of the constituent elements shown in Figs. 4 to 8 are denoted by the same reference numerals and duplicate explanation will be omitted.

도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 방법의 흐름도이다.16 is a flowchart of a method of separating a substrate according to an embodiment of the present invention.

도 16을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 방법은 제1 기판 및 제1 기판에 부착된 제2 기판을 포함하는 기판 결합체를 분리하는 방법으로서, 제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 단계(s10), 제1 레이저를 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저와 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저로 분리하는 단계(s20), 제2 레이저 또는 제3 레이저의 진행 방향을 전환시키는 단계(s30) 및 제2 레이저 및 제3 레이저를 기판 결합체에 조사하는 단계(s40)를 포함한다. Referring to FIG. 16, a method of separating a substrate according to an embodiment of the present invention includes separating a substrate assembly including a first substrate and a second substrate attached to the first substrate, (S20) of separating the first laser into a second laser which advances in a first direction and a third laser which advances in a second direction which is different from the first direction, a step (s20) of irradiating the second laser or the third laser (S30) of turning the traveling direction of the first laser and the third laser (s30) and irradiating the substrate combination with the second laser and the third laser (s40).

제1 레이저(51)를 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저(52)와 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저(53)로 분리하는 단계는 제1 레이저(51)의 일부를 투과시키고, 제1 레이저(51)의 일부를 반사시키는 단계를 포함할 수 있다. The step of separating the first laser 51 into the second laser 52 proceeding in the first direction and the third laser 53 proceeding in the second direction different from the first direction may be performed by a part of the first laser 51 , And reflecting a part of the first laser 51. [0035]

제2 레이저(52) 및 제3 레이저(53)를 기판 결합체(40)에 조사하는 단계는 제2 레이저(52)를 제1 기판(41)의 일면(401)에 조사하고, 제3 레이저(53)를 제1 기판(41)의 타면(402)에 조사하는 단계를 포함할 수 있다.The step of irradiating the second laser 52 and the third laser 53 to the substrate combination body 40 may be performed by irradiating the second laser 52 onto one surface 401 of the first substrate 41 and irradiating the third laser 53 to the other surface 402 of the first substrate 41. [0051] FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 분리 방법은 제1 레이저(51) 또는 제2 레이저(52) 초점을 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of separating a substrate according to an embodiment of the present invention may further include adjusting the focus of the first laser 51 or the second laser 52. [

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

10, 11: 레이저 조사부
20: 레이저 분리부
30: 방향 전환부
51: 제1 레이저
52: 제2 레이저
53: 제3 레이저
40: 기판 결합체
41: 제1 기판
42: 제2 기판
21: 빔 스플리터
31: 광 반사 미러
60: 초점 조절부
61, 62, 63: 광학계
10, 11: laser irradiation unit
20: laser separation unit
30:
51: first laser
52: second laser
53: Third laser
40: substrate combination
41: first substrate
42: second substrate
21: beam splitter
31: light reflecting mirror
60:
61, 62, 63: optical system

Claims (20)

제1 기판 및 상기 제1 기판에 부착된 제2 기판을 포함하는 기판 결합체를 분리하는 기판 분리 장치로서,
제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 레이저 조사부;
상기 제1 레이저를 상기 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저와 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저로 분리하는 레이저 분리부;
상기 제2 레이저 또는 상기 제3 레이저의 방향을 전환시키는 방향 전환부를 포함하는 기판 분리 장치.
A substrate separating apparatus for separating a substrate combination including a first substrate and a second substrate attached to the first substrate,
A laser irradiation unit for irradiating the first laser in the first direction;
A laser separator for separating the first laser into a second laser traveling in the first direction and a third laser traveling in a second direction different from the first direction;
And a direction changing unit for changing the direction of the second laser or the third laser.
제1 항에 있어서,
상기 레이저 분리부는 상기 제2 레이저를 제1 방향으로 투과시키고, 상기 제1 레이저의 일부를 상기 제1 방향과 상이한 상기 제2 방향으로 반사시키는 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the laser separator transmits the second laser in a first direction and reflects a part of the first laser in the second direction different from the first direction.
제1 항에 있어서,
상기 제2 레이저는 상기 제1 기판의 일면에 조사되고, 상기 제3 레이저는 상기 제1 기판의 타면에 조사되는 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second laser is irradiated on one surface of the first substrate and the third laser is irradiated on the other surface of the first substrate.
제3 항에 있어서,
상기 제2 레이저와 상기 제3 레이저는 상기 기판 결합체 상면과 수직한 면으로부터 일정 각도 기울어져 조사되는 기판 분리 장치.
The method of claim 3,
Wherein the second laser and the third laser are irradiated while being inclined at a predetermined angle from a plane perpendicular to the upper surface of the substrate combination body.
제1 항에 있어서,
상기 방향 전환부는 상기 제2 레이저의 방향을 상기 제1 방향과 상이한 제3 방향으로 전환시키는 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
And the direction changing unit switches the direction of the second laser in a third direction different from the first direction.
제5 항에 있어서,
상기 제3 방향과 상기 제2 방향은 서로 평행한 기판 분리 장치.
6. The method of claim 5,
And the third direction and the second direction are parallel to each other.
제1 항에 있어서,
상기 방향 전환부는 상기 제3 레이저의 방향을 상기 제2 방향과 상이한 제3 방향으로 전환시키는 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
And the direction changing unit switches the direction of the third laser in a third direction different from the second direction.
제7 항에 있어서,
상기 제1 방향과 상기 제3 방향은 서로 평행한 기판 분리 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein the first direction and the third direction are parallel to each other.
제1 항에 있어서,
상기 제1 레이저, 상기 제2 레이저 또는 상기 제3 레이저의 초점을 조절하는 초점 조절부를 더 포함하는 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a focus adjusting section for adjusting a focus of the first laser, the second laser, or the third laser.
제9 항에 있어서,
상기 초점 조절부는 제2 레이저의 초점을 조절하는 제1 광학계와 상기 제3레이저의 초점을 조절하는 제2 광학계를 포함하는 기판 분리 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the focus adjusting section includes a first optical system for adjusting the focus of the second laser and a second optical system for adjusting the focus of the third laser.
제1 항에 있어서,
상기 방향 전환부는 광 반사 미러를 포함하는 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the redirecting unit includes a light reflecting mirror.
제1 항에 있어서,
상기 제2 레이저는 제1 기판과 제2 기판을 분리하는 탈착 레이저이고, 상기 제3 레이저는 제1 기판의 타면을 세정하는 세정 레이저인 기판 분리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second laser is a desorption laser for separating the first substrate and the second substrate, and the third laser is a cleaning laser for cleaning the other surface of the first substrate.
제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 레이저 조사부;
상기 레이저 조사부와 제1 방향으로 일정 간격 이격되어 배치되며, 상기 제1 레이저를 상기 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저와 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저로 분리하는 레이저 분리부;
상기 레이저 분리부와 제1 방향 또는 제2 방향으로 일정 간격 이격되어 배치되어, 상기 제2 레이저 또는 상기 제3 레이저의 방향을 전환시키는 광 반사 미러를 포함하는 기판 분리 장치.
A laser irradiation unit for irradiating the first laser in the first direction;
A laser which is spaced apart from the laser irradiation part in a first direction by a predetermined distance and which separates the first laser into a second laser which advances in the first direction and a third laser which advances in a second direction different from the first direction, Separator;
And a light reflection mirror disposed at a predetermined distance from the laser separation unit in the first direction or the second direction and switching the direction of the second laser or the third laser.
제14 항에 있어서,
상기 레이저 조사부와 제1 방향으로 일정 간격 이격되어 배치되는 광학계를 더 포함하는 기판 분리 장치.
15. The method of claim 14,
And an optical system disposed at a predetermined distance from the laser irradiation unit in the first direction.
제14 항에 있어서,
상기 광 반사 미러는 상기 제2 레이저의 진행 방향을 상기 제1 방향과 상이한 제3 방향으로 전환시키고, 상기 광 반사 미러와 제3 방향으로 일정 간격 이격되어 배치되는 제1 광학계 및 상기 레이저 분리부와 제2 방향으로 일정 간격 이격되어 배치되는 제2 광학계를 더 포함하는 기판 분리 장치.
15. The method of claim 14,
Wherein the light reflecting mirror includes a first optical system that is arranged to be spaced apart from the light reflecting mirror in a third direction by switching the traveling direction of the second laser in a third direction different from the first direction, And a second optical system disposed at a predetermined distance in a second direction.
제14 항에 있어서,
상기 제2 레이저는 탈착 레이저이고, 상기 제3 레이저는 세정 레이저인 기판 분리 장치.
15. The method of claim 14,
Wherein the second laser is a desorption laser and the third laser is a cleaning laser.
제1 기판 및 상기 제1 기판에 부착된 제2 기판을 포함하는 기판 결합체를 분리 하는 방법으로서, 제1 방향으로 제1 레이저를 조사하는 단계;
상기 제1 레이저를 상기 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저와 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저로 분리하는 단계;
상기 제2 레이저 또는 상기 제3 레이저의 진행 방향을 전환시키는 단계; 및
상기 제2 레이저 및 상기 제3 레이저를 상기 기판 결합체에 조사하는 단계를 포함하는 기판 분리 방법.
A method of separating a substrate combination comprising a first substrate and a second substrate attached to the first substrate, the method comprising: irradiating a first laser in a first direction;
Separating the first laser into a second laser traveling in the first direction and a third laser traveling in a second direction different from the first direction;
Switching the traveling direction of the second laser or the third laser; And
And irradiating the second laser and the third laser to the substrate combination.
제17 항에 있어서,
상기 제1 레이저를 상기 제1 방향으로 진행하는 제2 레이저와 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 진행하는 제3 레이저로 분리하는 단계는 상기 제1 레이저의 일부를 투과시키고, 상기 제1 레이저의 일부를 반사시키는 단계를 포함하는 기판 분리 방법.
18. The method of claim 17,
Separating the first laser into a second laser traveling in the first direction and a third laser traveling in a second direction different from the first direction transmits a portion of the first laser, To reflect a portion of the substrate.
제17 항에 있어서,
상기 제2 레이저 및 상기 제3 레이저를 상기 기판 결합체에 조사하는 단계는 상기 제2 레이저를 상기 제1 기판의 일면에 조사하고, 상기 제3 레이저를 상기 제1 기판의 타면에 조사하는 단계를 포함하는 기판 분리 방법.
18. The method of claim 17,
The step of irradiating the second laser and the third laser to the substrate combination includes irradiating the second laser onto one surface of the first substrate and irradiating the third laser onto the other surface of the first substrate Lt; / RTI >
제17 항에 있어서,
상기 제1 레이저, 상기 제2 레이저 또는 상기 제3 레이저의 초점을 조절하는 단계를 더 포함하는 기판 분리 방법.
18. The method of claim 17,
Further comprising adjusting the focus of the first laser, the second laser or the third laser.
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