KR20140142150A - 투명 전도성 필름 - Google Patents
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Abstract
유도 영역 및 상기 유도 영역의 한 모서리에 위치된 경계 영역을 포함하는 바디, 및 상기 바디의 한 측면으로부터 연장되는 유연성 연결 컴포넌트를 포함하는 투명 기판; 상기 바디의 상기 유도 영역에 배치되며, 서로 교차되는 전도성 배선들을 포함하는, 그리드(grid)-형상의 전도성 층; 상기 바디의 상기 경계 영역에 배치되는 리드(lead) 전극을 포함하는 투명 전도성 필름으로서, 이때 상기 유연성 연결 컴포넌트의 폭은, 상기 유연성 연결 컴포넌트가 연장되는 상기 바디의 측면의 폭보다 작고, 상기 유연성 연결 컴포넌트 상에는 전도성 라인이 배치되며, 상기 그리드-형상의 전도성 층 및 상기 전도성 라인은 상기 리드 전극을 통해 전기적으로 연결되는, 투명 전도성 필름이 제공된다.
상기 유연성 연결 컴포넌트는 상기 투명 기재의 바디의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되기 때문에, 즉, 상기 유연성 연결 컴포넌트 및 상기 바디는 통합된 부분으로서 형성되기 때문에, 상기 투명 전도성 필름에 상기 유연성 연결 컴포넌트를 별도로 부착할 필요가 없으며, 이로써 접착 공정이 감소되고 생산 효율이 개선된다.
상기 유연성 연결 컴포넌트는 상기 투명 기재의 바디의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되기 때문에, 즉, 상기 유연성 연결 컴포넌트 및 상기 바디는 통합된 부분으로서 형성되기 때문에, 상기 투명 전도성 필름에 상기 유연성 연결 컴포넌트를 별도로 부착할 필요가 없으며, 이로써 접착 공정이 감소되고 생산 효율이 개선된다.
Description
본 발명은, 터치 스크린 기술 분야, 특히 투명 전도성 필름에 관한 것이다.
투명 전도성 필름은, 가시 파장밴드 내에서 우수한 전도성 및 높은 투명도를 가진 얇은 필름이다. 투명 전도성 필름은 평판 디스플레이, 광전지 디바이스, 터치 패널 및 전자기 차폐 등의 분야에서 널리 사용되고 있으며, 극히 넓은 시장 가능성을 갖고 있다.
폴리이미드 또는 폴리에스터 필름으로 이루어진 기재를 갖는 유연성 회로 기판은 탁월한 유연성을 가진 고신뢰성 인쇄 회로 기판이다. 연질 기판 또는 FPC(유연성 회로 기판)으로 약칭되는 유연성 회로 기판은 높은 배선 밀도, 경량 및 얇은 두께를 특징으로 한다. 투명 전도성 필름은 FPC를 통해 외부 회로에 연결되어, 투명 전도성 필름에 의해 감지되는 위치 신호를 프로세서로 전송하고 터치 위치를 결정하도록 할 수 있다.
그러나, 기존 투명 전도성 필름은 FPC를 통해 외부 회로에 연결될 때, FPC가 먼저 투명 전도성 필름의 리드(lead) 영역에 부착된 다음 인쇄 회로 기판(PCB)에 연결되며, 이는 낮은 생산 효율을 야기한다.
따라서, 낮은 생산 효율 문제 면에서 투명 전도성 필름을 제공할 필요가 있다.
본 발명의 투명 전도성 필름은
유도(induction) 영역 및 상기 유도 영역의 한 모서리에 위치된 경계(border) 영역을 포함하는 바디(body), 및 상기 바디의 한 측면으로부터 연장되는 유연성 연결 컴포넌트를 포함하는 투명 기판;
상기 바디의 상기 유도 영역에 배치되며, 서로 교차되는 전도성 배선들을 포함하는, 그리드(grid)-형상의 전도성 층;
상기 바디의 상기 경계 영역에 배치되는 리드(lead) 전극
을 포함하며, 이때
상기 유연성 연결 컴포넌트의 폭은, 상기 유연성 연결 컴포넌트가 연장되어 나가는 상기 바디의 측면의 폭보다 작고,
상기 유연성 연결 컴포넌트 상에는 전도성 라인이 배치되며,
상기 그리드-형상의 전도성 층 및 상기 전도성 라인은 상기 리드 전극을 통해 전기적으로 연결된다.
하나의 실시양태에서는, 상기 바디의 유도 영역의 표면에 제1 그리드-형상의 그루브가 한정되고, 상기 그리드-형상의 전도성 층이 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 제공된다.
하나의 실시양태에서는, 상기 바디의 경계 영역의 표면에 제2 그리드-형상의 그루브(groove)가 한정되고, 상기 제1 그리드-형상의 그루브 및 상기 제2 그리드-형상의 그루브 둘다가 상기 바디의 동일 측면 상에 위치되며, 상기 리드 전극이 상기 제2 그리드-형상 그루브에 제공되거나, 상기 리드 전극이 상기 경계 영역의 표면 상에 직접 형성된다.
하나의 실시양태에서, 상기 투명 전도성 필름은 추가로, 투명 기재 상에 배치된 접착제 층을 포함하며, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 상기 유도 영역에 상응하는 상기 접착제 층의 표면에 제1 그리드-형상의 그루브가 한정되며, 상기 그리드-형상의 전도성 층이 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 제공된다.
하나의 실시양태에서, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 상기 경계 영역에 상응하는 상기 접착제 층의 표면에 제2 그리드-형상의 그루브가 한정되며, 상기 리드 전극이 상기 제2 그리드-형상 그루브에 제공되거나, 상기 리드 전극이, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 상기 경계 영역에 상응하는 상기 접착제 층의 표면에 직접 형성된다.
하나의 실시양태에서, 상기 접착제 층의 재료는 경화성 접착제, 엠보싱된 플라스틱 또는 폴리카보네이트이다.
하나의 실시양태에서, 제1 그리드-형상의 그루브의 폭은 0.2 내지 5 ㎛이며 높이는 2 내지 6 ㎛이며 높이 대 폭의 비는 1보다 크고, 제2 그리드-형상의 그루브의 폭은 0.2 내지 5 ㎛이며 높이는 2 내지 6 ㎛이며 높이 대 폭의 비는 1보다 크다.
하나의 실시양태에서, 제1 그리드-형상의 그루브의 밑면 및/또는 제2 그리드-형상의 그루브의 밑면은 비평면 구조를 갖는다.
하나의 실시양태에서, 상기 리드 전극은 그리드-형상이거나 스트립-형상이며, 그리드-형상의 전극은 서로 교차하는 전도성 배선들에 의해 형성되고, 상기 스트립-형상의 리드 전극의 최소 폭은 10 내지 200 ㎛ 범위를 가지며, 상기 스트립-형상의 리드 전극의 높이는 5 내지 10 ㎛ 범위를 갖는다.
하나의 실시양태에서, 상기 전도성 라인은 그리드-형상이거나 스트립-형상이며, 그리드-형상의 전도성 라인은 서로 교차하는 전도성 배선들에 의해 형성된다.
하나의 실시양태에서, 상기 투명 기재의 재료는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트 또는 폴리메틸메타크릴레이트이다.
하나의 실시양태에서, 상기 전도성 와이어의 재료는 전도성 금속, 카본 나노튜브, 그라펜(graphen) 잉크 및 전도성 중합체 물질 중 하나 이상이다.
하나의 실시양태에서, 상기 투명 전도성 필름은 추가로 투명 보호 층을 포함하며, 상기 투명 보호 층은 상기 투명 기재, 그리드-형상의 전도성 층 및 리드 전극의 적어도 일부를 덮는다.
상기 투명 전도성 필름에 따르면, 상기 유연성 연결 컴포넌트는 상기 바디의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되며, 상기 유연성 연결 컴포넌트 상에 전도성 라인이 배치되고, 상기 바디의 유도 영역에 전도성 층이 배치되고, 상기 경계 영역에 리드 전극이 배치되고, 상기 리드 전극을 통해 상기 전도성 층 및 상기 전도성 라인이 전기적으로 연결된다. 따라서, 상기 유연성 연결 컴포넌트가 상기 투명 기재의 바디의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되기 때문에(즉, 상기 유연성 연결 컴포넌트 및 상기 바디는 통합된 부분으로서 형성되기 때문에), 상기 투명 전도성 필름에 상기 유연성 연결 컴포넌트를 별도로 부착할 필요가 없으며, 이로써 접착 공정이 감소되고 생산 효율이 개선된다.
도 1은 본 발명의 한 실시 모드에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 2는 본 발명의 또 하나의 실시 모드에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 3은 본 발명의 실시양태 1에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 4는 본 발명의 실시양태 2에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 5는 본 발명의 실시양태 3에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 6은 본 발명의 실시양태 4에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 7은 본 발명의 하나의 실시 모드에 따른 그리드-형상의 전도성 층의 개략적인 구조도가고;
도 8은 본 발명의 또 하나의 실시 모드에 따른 그리드-형상의 전도성 층의 개략적인 구조도가다.
도 2는 본 발명의 또 하나의 실시 모드에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 3은 본 발명의 실시양태 1에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 4는 본 발명의 실시양태 2에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 5는 본 발명의 실시양태 3에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 6은 본 발명의 실시양태 4에 따른 투명 전도성 필름의 개략적인 구조도가고;
도 7은 본 발명의 하나의 실시 모드에 따른 그리드-형상의 전도성 층의 개략적인 구조도가고;
도 8은 본 발명의 또 하나의 실시 모드에 따른 그리드-형상의 전도성 층의 개략적인 구조도가다.
투명 전도성 필름의 목적, 특성 및 이점을 더욱 명확하고 이해할 수 있도록 하기 위해, 하기 내용은 첨부된 도면을 참조로 투명 전도성 필름의 실시양태를 포괄적으로 기술한다. 하기에서는 상기 투명 전도성 필름의 포괄적인 이해를 용이하게 하기 위해 실시양태의 상세 내용이 기술된다. 그러나, 투명 전도성 필름은 본원에 기술된 실시양태 이외의 많은 방식으로 실시될 수 있다. 당분야 숙련가들은 본 발명의 원리에서 벗어남이 없이 유사한 개선을 달성할 수 있으며, 따라서 투명 전도성 필름은 하기 개시된 실시양태에 국한되지 않는다.
달리 한정되지 않으면, 본 개시내용에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들의 의미는 투명 전도성 필름 분야에서 당업자들이 이해하고 있는 의미와 동일하다. 투명 전도성 필름을 기술하는 본 명세서에서 용어들은 투명 전도성 필름을 한정하는 것이 아니라 특정 실시양태를 기술하기 위해 사용된다. 본원에 사용된 용어 "및/또는"은 하나 이상의 관련된 열거된 항목의 임의의 및 모든 조합을 포함한다.
도면 및 실시양태를 조합하여 하기에서 투명 전도성 필름을 추가로 기술한다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 투명 전도성 필름은 투명 기재(10), 전도성 층(20) 및 리드 전극(30)을 포함한다. 투명 기재(10)는 바디(110) 및, 상기 바디(110)의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되는 유연성 연결 컴포넌트(120)을 포함하며, 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)의 폭은, 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)이 연장되는 상기 바디(110)의 측면의 폭보다 작고, 상기 유연성 연결 컴포넌트 상에는 전도성 라인(122)이 배치되며, 상기 바디(110)는 유도 영역(112) 및 상기 유도 영역(112)의 모서리에 위치된 경계 영역(114)을 포함하며, 상기 바디(110)의 상기 유도 영역(112)에 전도성 층(20)이 배치되며, 전도성 층(20)은 서로 교차되는 전도성 배선들을 포함하며, 상기 전도성 배선들은 서로 교차되어 그리드(grid)-형상의 전도성 층(20)을 형성하며, 리드 전극(30)이 상기 바디(110)의 상기 경계 영역(114)에 배치되며, 상기 전도성 층(20) 및 상기 전도성 라인(122)은 리드 전극(30)을 통해 전기적으로 연결된다. 이 실시양태에 따르면, 상기 리드 전극(30) 및 상기 전도성 층(20) 둘다가 상기 투명 기재(10)의 동일 측면 상에 위치된다. 도시한 바와 같이, 도 1은 전도성 층(20)의 그리드가 측방향으로 배열되어 있는 투명 전도성 필름을 나타내고, 도시된 바와 같이, 도 2는 전도성 층(20)의 그리드가 종방향으로 배열되어 있는 투명 전도성 필름을 나타내고, 도시된 바와 같이, 도 3은 도 1 또는 도 2와 관련된 투명 전도성 필름의 단면도를 나타낸다.
상기 투명 전도성 필름에 따르면, 유연성 연결 컴포넌트(120)는 상기 바디(110)의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되며, 상기 유연성 연결 컴포넌트(120) 상에 전도성 라인(122)이 배치되며, 상기 바디(110)의 상기 유도 영역(112)에 전도성 층(20)이 배치되며, 상기 리드 전극(30)이 상기 바디(110)의 상기 경계 영역(114)에 배치되며, 상기 전도성 층(20) 및 상기 리드 전극(30) 둘다가 상기 투명 기재(10)의 동일 측면 상에 위치되며, 상기 전도성 층(20) 및 상기 전도성 라인(122)이 리드 전극(30)을 통해 전기적으로 연결된다. 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)은 상기 투명 기재(10)의 바디(110)의 한 측면으로부터 연장함으로써 형성되기 때문에, 즉, 상기 유연성 연결 컴포넌트(120) 및 상기 바디(110)가 통합된 부분으로서 형성되기 때문에, 상기 투명 전도성 필름에 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)을 별도로 부착할 필요가 없으며, 이로써 접착 공정이 감소되고 생산 효율이 개선되고, 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)과 외부 디바이스 간의 연결이 접착을 통해 또는 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)의 말단 부분에 수(male) 말단 또는 암(female) 말단을 제공하는 것에 의한 직접적인 플러그-인(plug-in) 연결을 통해 실현될 수 있다.
하나의 실시양태에서, 상기 투명 기재(10)의 재료는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC) 또는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)일 수 있다. 이 실시양태에서, 기재(113)의 재료는 테레프탈레이트이고, 바람직하게는 투명 절연 물질이다.
도 3 내지 도 4를 참조하면, 실시양태 3 및 4에 따라, 상기 바디(110)의 유도 영역(112)의 표면에 제1 그리드-형상의 그루브가 한정되고, 전도성 층(120)이 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 제공된다. 상기 바디(110)의 유도 영역(112)의 표면 상에, 그리드-형상의 전도성 층(20)에 상응하는 그래픽 엠포싱-판을 사용함으로써 엠보싱을 통해 제1 그리드-형상의 그루브가 형성되며, 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 전도성 물질이 충전되고 소결을 통해 고화되어 서로 교차하는 전도성 배선을 형성하며, 따라서 그리드-형상의 전도성 층(20)이 형성된다. 따라서, 전도성 층(20)은, 제1 그리드-형상의 그루브에 전도성 물질을 충전함으로써 예비-설정된 패턴을 수득할 수 있으며, 이때 상기 제1 그리드-형상의 그루브는 그래픽 에칭을 사용하기보다는 엠보싱 몰드를 통해 1단계로 형성될 수 있고, 이로써 공정을 간단화하고 생산 효율을 개선할 수 있다. 특히, ITO가 전도성 물질로 사용되는 경우, 에칭이 없기 때문에 물질 낭비가 감소되며, 또한 비용이 절감된다. 상기 제1 그리드-형상의 그루브는 전도성 층(20)을 형성하기에 적합하며, 따라서 상기 전도성 물질은 전통적인 ITO에 국한되지 않으며, 따라서 이용가능한 전도성 물질에 대한 옵션이 커진다. 이는 추가로 투명 전도성 필름의 두께를 감소시키고 투명 전도성 필름의 광 투과도를 증가시킬 수 있으며, 이때 투명 전도성 필름의 가시광 투과도는 86% 이상이다.
하나의 실시양태에서, 전도성 층(20)의 그리드는 서로 교차하는 전도성 배선들에 의해 형성된다. 전도성 배선들은, 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 충전된 전도성 물질을 고화시킴으로써 형성된다. 전도성 층(20)의 재료는 전도성 금속, 카본 나노튜브, 그라펜 잉크 및 전도성 중합체 물질 중 하나 이상일 수 있다. 전도성 금속은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 아연, 또는 이들 중 둘 이상의 합금 중 하나를 포함할 수 있다. 상기 실시양태에서, 전도성 물질은 나노-은 잉크이며, 이때 은 잉크의 고체 함량은 35%이고, 이는 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 충전되고 소결후 고체의 유연성의 은 배선이 된다. 소결 온도는 150℃로 선택될 수 있다. 전도성 층(20)의 물질이 전기전도체이기만 하면 상응하는 기능이 실현될 수 있음을 주지하여야 한다.
도 3을 참조하면, 실시양태 1에서, 상기 바디(110)의 경계 영역(114)의 표면에 제2 그리드-형상의 그루브가 한정되고, 상기 제1 그리드-형상의 그루브 및 상기 제2 그리드-형상의 그루브 둘다가 상기 바디(110)의 동일 측면 상에 위치되며, 리드 전극(30)이 상기 제2 그리드-형상 그루브에 제공된다. 상기 제2 그리드-형상의 그루브에 전도성 물질이 충전되고 고화되어 그리드-형상의 리드 전극(30)을 형성하며, 상기 리드 전극(30)은 서로 교차하는 전도성 배선을 포함한다. 상기 전도성 층(20) 및 상기 전도성 라인(122)는 리드 전극(30)을 통해 전기적으로 연결되어, 상기 유도 영역에 의해 검출된 터치 신호를 상기 전도성 라인(122)으로 전달한다. 상기 제2 그리드-형상의 그루브의 기능 및 상기 제1 그리드-형상의 그루브의 기능은 상술한 바와 같이 동일하며, 이를 반복하지 않는다. 비용 절감을 위해, 전도성 배선의 재료는 전도성 금속일 수 있으며, 상기 전도성 금속은 은 또는 구리일 수 있다.
도 4를 참조하면, 실시양태 2에서, 리드 전극(30)은 상기 바디(110)의 경계 영역(114)의 표면에 직접 형성될 수 있다. 상기 리드 전극(30) 및 상기 전도성 층(20)은 상기 바디(110)의 동일한 측면 상에 있다. 여기서, 상기 리드 전극(30)은, 스트립-형상의 리드 전극(30)을 형성하도록, 스크린 인쇄 또는 잉크젯 인쇄에 의해 형성될 수 있다. 상기 스트립-형상의 리드 전극(30)의 최소 폭은 10 내지 200 ㎛ 일 수 있으며, 높이는 5 내지 10 ㎛일 수 있다.
하나의 실시양태에서, 상기 전도성 라인(122)는 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)에 함입된다(embedded). 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)에는 제3 그리드-형상의 그루브(도시되지 않음)가 구비되며, 상기 제3 그리드-형상의 그루브에 전도성 라인(122)이 제공된다. 상기 제3 그리드-형상의 그루브에 전도성 물질이 충전되고 고화되어 그리드-형상의 전도성 라인(122)를 형성하며, 상기 전도성 라인(122)은 서로 교차하는 전도성 배선들을 포함한다. 상기 실시양태에서, 상기 전도성 층(20)과 상기 전도성 라인(122)를 리드 전극을 통해 전기적으로 연결하기 위해, 상기 제1 그리드-형상의 그루브, 상기 제2 그리드-형상의 그루브 및 상기 제3 그리드-형상의 그루브는 모두 상기 바디(110)의 동일한 측면 상에 존재한다. 다른 실시양태에서, 상기 전도성 라인(122)은 또한 상기 유연성 연결 컴포넌트(120)의 표면 상에 직접 형성될 수 있으며, 상기 전도성 라인(122)은 스트립-형상이다. 상기 제3 그리드-형상의 그루브의 기능 및 상기 제1 그리드-형상의 그루브의 기능은 상술한 바와 같이 동일하며, 이를 반복하지 않는다. 비용 절감을 위해, 전도성 배선의 재료는 전도성 금속일 수 있으며, 상기 전도성 금속은 은 또는 구리일 수 있다.
설명의 편의를 위해, 상기 제1 그리드-형상의 그루브, 상기 제2 그리드-형상의 그루브 및 상기 제3 그리드-형상의 그루브는, 달리 언급되지 않으면 모두 일반적으로 그리드-형상의 그루브로 칭해진다. 도 3을 참조하면, 상기 그리드-형상의 그루브의 밑면은 비평면 구조를 갖는다. 상기 그리드-형상의 그루브의 밑면의 상기 비평면 구조의 형상은 단일 V 형상 또는 단일 원형 아크 형상일 수 있으며, 상기 비평면 구조의 형상은 또한 많은 V 형태로 구성된 규칙적 지그재그 형상, 많은 원형 아크 형태로 구성된 웨이브 형상 또는 V 형태와 원형 아크 형태로 구성된 비평면 구조일 수도 있다. 물론, 상기 비평면 구조는, 상기 그리드-형상의 그루브의 밑면이 편평하지 않다면, 다른 형상일 수 있다. 상기 비평면 구조의 두께 방향의 변동 폭은 500 nm 내지 1000 nm 이다. 상기 전도성 물질은 충전되기 전에 액체이기 때문에, 액체 전도성 물질이 상기 그리드-형상의 그루브에 충전되는 경우, 상기 그리드-형상의 그루브의 밑면의 비-평탄성은, 액체 전도성 물질이 상기 그리드-형상의 그루브의 밑면과 접촉하는 경우에 생성되는 장력을 분산하여, 장력으로 인해 상기 액체 전도성 물질이 볼 형상 또는 거의 볼 형상의 구조로 수축하는 것을 피하고, 소결 후 전도성 물질 내에 형성될 볼 형상 또는 거의 볼 형상이 서로 분리될 가능성을 줄이고, 소결 후 전도성 물질 내부의 접속성을 개선하고, 투명 전도성 필름의 전도성 성능을 보장하는데 유리하다.
상기 전도성 물질은 3차원(3D)의 이방성(aeolotropic) 물질에 속하기 때문에, 상기 층 표면 방향에 평행한 방향에서의 그의 열 팽창 계수는 상기 층 표면 방향에 수직인 방향에서의 값보다 작다. 따라서, 상기 전도성 물질을 상기 그리드-형상의 그루브에 충전한 후 소결할 때, 상기 그리드-형상의 그루브의 깊이가 그의 폭보다 작으면, 상기 층 표면 방향에 수직인 방향에서 너무 큰 인장 응력이 발생될 수 있으며, 이는 상기 전도성 물질이 깨어지게 할 수 있다. 따라서, 그리드-형상의 그루브의 높이 대 폭의 비는 1보다 크게 설정될 수 있고, 상기 그리드-형상의 그루브의 폭은 0.2 내지 5 ㎛일 수 있고, 높이는 2 내지 6 ㎛ 일 수 있다.
상기 그리드-형상의 그루브의 그리드 형상은 규칙적(regular) 그리드 또는 랜덤(random) 그리드일 수 있다. 상기 그리드-형상의 그루브에 상기 전도성 물질이 충전된 후, 규칙적 그리드 또는 랜덤 그리드의 전도성 층(20), 리드 전극(30) 및 전도성 라인(122)가 형성될 수 있다. 도시된 바와 같이 도 7은 규칙적 그리드의 전도성 층(20)을 나타낸다. 도시된 바와 같이 도 8은 랜덤 그리드의 전도성 층(20)을 나타낸다. 상기 그리드-형상의 그루브의 그리드는 많은 그리드 유닛을 포함하며, 규칙적 그리드는 모든 그리드 유닛의 그리드 사이클이 동일함을 나타내고, 그리드 사이클은 각각의 그리드 유닛의 크기를 나타낸다. 따라서, 투명 전도성 필름이 다른 디스플레이 디바이스, 특히 비교적 작은 디스플레이 스크린을 가진 디스플레이 디바이스에 부착되는 경우, 픽쳐의 고장이 디스플레이되는 것을 피할 수 있다.
랜덤 그리드는, 두개 이상의 그리드 유닛의 그리드 사이클이 다름을 나타낸다. 투명 전도성 필름이 다른 디스플레이 디바이스에 부착되는 경우, 모이레 프린지(moire fringe)의 생성이 피해진다. 모이레 프린지는 광학 현상으로서, 이는 일정 각도 및 진동수에서 두 개의 라인 또는 두 개의 물체 간의 간섭의 가시적인 결과이다. 인간의 눈이 상기 두 개의 라인 또는 두 개의 물체를 구별할 수 없는 경우, 단지 간섭 패턴만이 보여질 수 있으며, 그러한 광학 현상이 모이레 프린지이다. 전도성 층(20)의 그리드 유닛의 형상은 마름모, 장방형, 평행사변형, 곡선 부등변사각형 또는 다각형일 수 있다. 곡선 부등변사각형은 4개의 곡선을 갖고 두 개의 반대쪽 곡선이 동일한 형상 및 곡선 배향을 갖는다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 실시양태 3 및 4에서, 투명 전도성 필름은 또한, 투명 기재(10) 상에 배치된 접착제 층(40)을 포함하며, 제1 그리드-형상의 그루브가, 상기 투명 기재(10)로부터 떨어져 있고 유도 영역(112)에 상응하는 상기 접착제 층(40)의 표면에 한정되며, 전도성 층(20)이 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 제공된다. 상기 접착제 층(40)은 상기 투명 기재(10)의 표면 상에 코팅되며, 상기 그리드-형상의 전도성 층(20)에 상응하는 그래픽 엠보싱-판을 사용함으로써, 상기 투명 기재(10)로부터 떨어져 있고 유도 영역(112)에 상응하는 상기 접착제 층(40)의 표면을 엠보싱하는 것을 통해 상기 제1 그리드-형상의 그루브를 형성하며, 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 전도성 물질을 충전하여 전도성 층(20)을 형성한다. 상기 접착제 층(40)은 절연 및 패턴 형성을 위해 사용될 수 있다.
하나의 실시양태에서, 상기 접착제 층(40)의 재료는 경화성 접착제, 엠보싱된 플라스틱 또는 폴리카보네이트일 수 있다.
도 5를 참조하면, 실시양태 3에서, 제2 그리드-형상의 그루브가, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 경계 영역(114)에 상응하는 접착제 층(40)의 표면에 한정되며, 리드 전극(30)이 상기 제2 그리드-형상의 그루브에 제공된다. 상기 제2 그리드-형상의 그루브에 전도성 물질을 충전하고 고화하여 그리드-형상의 리드 전극(30)을 형성하며, 상기 리드 전극(30)은 서로 교차하는 전도성 배선들을 포함한다. 상기 전도성 층(20) 및 상기 전도성 라인(122)는 리드 전극(30)을 통해 전기적으로 연결되어, 상기 유도 영역에 의해 검출된 터치 신호를 전도성 라인(122)으로 전달한다.
도 6을 참조하면, 실시양태 4에서, 상기 투명 기재(10)로부터 떨어져 있고 경계 영역(114)에 상응하는 접착제 층(40)의 표면에 리드 전극(30)이 직접 형성될 수 있다. 리드 전극(30) 및 상기 전도성 층(20)은 상기 접착제 층(40)의 동일한 측면 상에 위치된다. 여기서, 상기 리드 전극(30)은, 스트립-형상의 리드 전극(30)을 형성하도록, 스크린 인쇄 또는 잉크젯 인쇄에 의해 형성될 수 있다. 상기 스트립-형상의 리드 전극(30)의 최소 폭은 50 내지 200 ㎛일 수 있으며, 높이는 5 내지 10 ㎛일 수 있다.
하나의 실시양태에서, 상기 투명 전도성 필름은 추가로 투명 보호 층(도시하지 않음)을 포함할 수 있으며, 상기 투명 보호 층은 상기 투명 기재(10), 전도성 층(20) 및 리드 전극(30)의 적어도 일부를 덮는다. 상기 투명 보호 층의 재료는 자외선 경화성 접착제(UV 접착제), 엠보싱된 플라스틱 또는 폴리카보네이트일 수 있다. 상기 투명 보호 층은 상기 투명 전도성 필름 상에 배치되어 전도성 물질이 산화되는 것을 효율적으로 방지한다.
전술한 실시양태는 단지 본 발명의 몇 가지의 실시 모드를 구체적으로 기술하는 것일 뿐, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다. 당분야의 숙련가들은 본 발명의 개념에서 벗어나지 않고 변형 및 변경을 달성할 수 있으며, 이러한 변형 및 변경 모두 본 발명의 보호 범위내에 드는 것이다. 따라서, 본 발명의 보호 범위는 첨부된 청구범위에 따라야 한다.
Claims (13)
- 유도(induction) 영역 및 상기 유도 영역의 한 모서리에 위치된 경계(border) 영역을 포함하는 바디(body), 및 상기 바디의 한 측면으로부터 연장되는 유연성 연결 컴포넌트를 포함하는 투명 기판;
상기 바디의 상기 유도 영역에 배치되며, 서로 교차되는 전도성 배선들을 포함하는, 그리드(grid)-형상의 전도성 층;
상기 바디의 상기 경계 영역에 배치되는 리드(lead) 전극
을 포함하는 투명 전도성 필름으로서,
상기 유연성 연결 컴포넌트의 폭은, 상기 유연성 연결 컴포넌트가 연장되어 나가는 상기 바디의 측면의 폭보다 작고,
상기 유연성 연결 컴포넌트 상에는 전도성 라인이 배치되며,
상기 그리드-형상의 전도성 층 및 상기 전도성 라인은 상기 리드 전극을 통해 전기적으로 연결되는, 투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
상기 바디의 유도 영역의 표면에 제1 그리드-형상의 그루브(groove)가 한정되고, 상기 그리드-형상의 전도성 층이 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 제공되는, 투명 전도성 필름. - 제 2 항에 있어서,
상기 바디의 경계 영역의 표면에 제2 그리드-형상의 그루브가 한정되고,
상기 제1 그리드-형상의 그루브 및 상기 제2 그리드-형상의 그루브 둘다가 상기 바디의 동일 측면 상에 위치되며,
상기 리드 전극이 상기 제2 그리드-형상 그루브에 제공되거나, 상기 리드 전극이 상기 경계 영역의 표면 상에 직접 형성되는,
투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
투명 전도성 필름은 추가로, 투명 기재 상에 배치된 접착제 층을 포함하며,
제1 그리드-형상의 그루브가, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 상기 유도 영역에 상응하는 상기 접착제 층의 표면에 한정되며,
상기 그리드-형상의 전도성 층이 상기 제1 그리드-형상의 그루브에 제공되는, 투명 전도성 필름. - 제 4 항에 있어서,
제2 그리드-형상의 그루브가, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 상기 경계 영역에 상응하는 상기 접착제 층의 표면에 한정되고,
상기 리드 전극이 상기 제2 그리드-형상 그루브에 제공되거나, 상기 리드 전극이, 상기 투명 기재로부터 떨어져 있고 상기 경계 영역에 상응하는 상기 접착제 층의 표면 상에 직접 형성되는,
투명 전도성 필름. - 제 4 항에 있어서,
상기 접착제 층의 재료가 경화성 접착제, 엠보싱된 플라스틱 또는 폴리카보네이트인, 투명 전도성 필름. - 제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 제1 그리드-형상의 그루브의 폭이 0.2 내지 5 ㎛이며 높이는 2 내지 6 ㎛이며 높이 대 폭의 비는 1보다 크고,
상기 제2 그리드-형상의 그루브의 폭은 0.2 내지 5 ㎛이며 높이는 2 내지 6 ㎛이며 높이 대 폭의 비는 1보다 큰, 투명 전도성 필름. - 제 7 항에 있어서,
상기 제1 그리드-형상의 그루브의 밑면 및/또는 제2 그리드-형상의 그루브의 밑면이 비평면 구조를 갖는, 투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
상기 리드 전극이 그리드-형상이거나 스트립-형상이며,
상기 그리드-형상의 전극이, 서로 교차하는 전도성 배선들에 의해 형성되고,
상기 스트립-형상의 전극이, 최소 폭은 10 내지 200 ㎛이며 높이는 5 내지 10 ㎛인, 투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
상기 전도성 라인이 그리드-형상이거나 스트립-형상이며,
상기 그리드-형상의 전도성 라인이, 서로 교차하는 전도성 배선들에 의해 형성되는, 투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
상기 투명 기재의 재료가 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트 또는 폴리메틸메타크릴레이트인, 투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
상기 전도성 와이어의 재료가 전도성 금속, 카본 나노튜브, 그라펜 잉크 및 전도성 중합체 물질 중 하나 이상인, 투명 전도성 필름. - 제 1 항에 있어서,
상기 투명 전도성 필름이 추가로 투명 보호 층을 포함하며,
상기 투명 보호 층은 상기 투명 기재, 그리드-형상의 전도성 층 및 리드 전극의 적어도 일부를 덮는, 투명 전도성 필름.
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