KR20140123438A - 이중층 터치 스크린 및 그의 제조 방법 - Google Patents

이중층 터치 스크린 및 그의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 투명 커버 유리; 제 1 투명 엠보싱 접착제 층; 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립되고 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하는 제 1 전도성 층; 제 2 투명 엠보싱 접착제 층; 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립되고 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하는 제 2 전도성 층으로서, 상기 제 2 전도성 스트립이 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성되는 제 2 전도성 층; 및 투과 보강 층을 포함하는 이중층 터치 스크린에 관한 것이다. 이중층 터치 스크린은 통상의 터치 스크린에서 사용되는 ITO 층을 대체하기 위해 제 1 전도성 층 및 제 2 전도성 층을 사용한다. 이 유형의 이중층 터치 스크린은 투과율 및 전도율을 보장할 수 있고, 추가의 에칭 기술 없이 더 저렴한 물질을 사용하여 비용을 감소시킬 수 있다.

Description

이중층 터치 스크린 및 그의 제조 방법{DOUBLE-LAYER TOUCH SCREEN AND METHOD FOR MAKING THE SAME}
본 발명은 광전자 분야, 특히 이중층 터치 스크린 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
터치 스크린은 터치와 같은 입력 신호를 수용하기 위한 감지 장치이다. 정보 상호작용에 새로운 모습을 제공하는 터치 스크린은 매력적이고 완전히 새로운 정보 상호작용 장치이다. 터치 스크린 기술의 개발은 국내외 정보 매체로부터 광범위한 관심을 야기시켰으며, 이로 인해 광전자 분야에서 급작스럽게 떠오르는 놀라운 첨단기술 산업이 되었다.
터치 스크린의 각 영역이 투명한 지 여부에 따라, 잉크로 코팅된 영역은 비-가시성 영역으로서 지칭될 수 있고, 잉크로 코팅되지 않은 영역은 가시성 영역으로서 지칭될 수 있다. 터치 스크린의 감지 영역은 일반적으로 가시 영역에서 설정되어 있다.
최근, 인듐 주석 산화물(ITO) 층은 터치 스크린 모듈의 중요한 구성요소이다. 비록 터치 스크린을 제조하는 기술이 엄청난 속도로 급속하게 개발되고 있지만, ITO 층을 위한 기초 제조 공정, 예컨대 투영 전기용량(projected capacitive) 스크린에서의 공정은 최근 몇년 동안 크게 변경되지 않았다. 이러한 제조 공정에서는 불가피하게도 ITO 필름을 코팅 및 패턴화해야 할 필요가 있다.
인듐은 고가의 금속 물질이고, 전도성(conductive) 층의 물질로서 ITO의 사용은 터치 스크린의 비용을 상당히 증가시킬 것이다. 또한, ITO 전도성 층을 패턴화하는 공정에서, 코팅된 전체 ITO 층은 ITO 패턴을 형성하도록 에칭이 요구된다. 이 공정에서, 다량의 ITO가 에칭되며, 이로 인해 이 귀한 금속의 심각한 폐기물, 환경 오염 및 높은 비용이 초래된다.
이에 기초하여, 상대적으로 낮은 비용의 이중층 터치 스크린을 제공하고자 한다.
이중층 터치 스크린은, 투명 커버 유리; 상기 투명 커버 유리의 하나의 표면 위에 적층되고 그 위의 격자형 제 1 홈을 한정하는 제 1 투명 엠보싱 접착제 층으로서, 상기 투명 커버 유리의 굴절률이 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 것보다 큰 제 1 투명 엠보싱 접착제 층; 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립되고 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하는 제 1 전도성 층으로서, 상기 제 1 전도성 스트립이 각각 상기 제 1 홈 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성되는 제 1 전도성 층; 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 위에 적층되고 그 위의 격자형 제 2 홈을 한정하는 제 2 투명 엠보싱 접착제 층으로서, 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 것보다 작지 않은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층; 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립되고 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하는 제 2 전도성 층으로서, 상기 제 2 전도성 스트립이 각각 상기 제 2 홈 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성되는 제 2 전도성 층; 및 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위를 커버하는 투과 보강(transmission reinforcement) 층으로서, 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 상기 투과 보강 층의 것보다 크고, 상기 투과 보강 층의 굴절률이 공기의 것보다 큰 투과 보강 층을 포함하되, 상기 제 1 방향은 상기 제 2 방향과 평행하지 않고, 상기 제 1 전도성 스트립들과 제 2 전도성 스트립은 상기 투명 커버 유리의 두께 방향으로 서로 멀리 이격되고 절연되어 있다.
일 실시양태에서, 투과 보강 층은 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지에 의해 형성될 수 있으며, 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는다.
일 실시양태에서, 열 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 50 질량부 내지 80 질량부의 중합체 수지, 10 질량부 내지 40 질량부의 용매, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 균염제(leveling agent), 0.1 질량부 내지 5 질량부의 소포제 및 0.1 질량부 내지 5 질량부의 가소제를 포함하되; 상기 중합체 수지는 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 용매는 에탄올, n-뷰탄올, 에틸렌 글리콜-뷰틸 에터, 뷰틸 아세테이트, 사이클로헥사논 및 글리시딜 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 균염제는 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 소포제는 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 가소제는 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
일 실시양태에서, 자외선 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 60 질량부 내지 80 질량부의 유기 단량체, 10 질량부 내지 30 질량부의 희석제, 0.01 질량부 내지 1 질량부의 광개시제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 안정화제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 균염제, 0.3 질량부 내지 2 질량부의 소포제 및 0.5 질량부 내지 3 질량부의 가소제를 포함하되, 상기 유기 단량체는 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 희석제는 트라이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 에톡실화 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 메톡시 모노아크릴레이트 및 에톡실화 네오펜틸 글리콜 메톡시 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 광개시제는 방향족 다이아조늄 염, 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 페로세늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 안정화제는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀, 페노티아진 및 안트라퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 균염제는 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 소포제는 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 가소제는 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
일 실시양태에서, 제 1 전도성 층의 물질은 금속 또는 이들의 합금, 탄소 나노튜브, 그래핀, 유기 전도성 중합체 또는 ITO이고; 제 2 전도성 층의 물질은 금속 또는 이들의 합금, 탄소 나노튜브, 그래핀, 유기 전도성 중합체 또는 ITO이다.
일 실시양태에서, 금속은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
일 실시양태에서, 전도성 와이어는 각각 0.2 ㎛ 내지 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고, 임의의 2개의 상호교차 전도성 와이어들의 교차 지점(intersection point)은 노드(node)를 형성하고, 임의의 2개의 인접한 노드들 사이의 거리는 50 ㎛ 내지 500 ㎛이다.
일 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층과 제 2 투명 엠보싱 접착제 층은 각각 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지에 의해 형성될 수 있고; 제 1 투명 엠보싱 접착제 층은 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층은 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖는다.
일 실시양태에서, 투명 커버 유리는 알루미노실리케이트 유리 또는 소다 석회 유리이며, 0.3 mm 내지 1.2 mm의 두께를 갖고, 투명 커버 유리의 하나의 표면 위의 Si-O 기들은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층에 결합되어 있다.
일 실시양태에서, 투명 커버 유리의 표면은 2 nm 내지 8 nm의 조도(roughness)를 갖는다.
일 실시양태에서, 이중층 터치 스크린의 제조 방법은, 투명 커버 유리를 제공하고, 상기 투명 커버 유리의 하나의 표면을 처리하는 단계; 상기 투명 커버 유리의 처리된 표면 위에 엠보싱 접착제를 코팅하여 제 1 투명 엠보싱 접착제 층을 형성하는 단계로서, 상기 투명 커버 유리의 굴절률이 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 것보다 큰 단계; 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층에 격자형 제 1 홈을 형성하고, 상기 제 1 홈 내에 전도성 물질을 충전하고, 상기 전도성 물질을 경화 또는 고형화시켜 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립된 제 1 전도성 층을 형성하는 단계로서, 상기 제 1 전도성 층이 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하고, 상기 제 1 전도성 스트립들이 각각 상기 제 1 홈 내에 수용되고 서로 상호교차하는 복수의 전도성 와이어를 포함하는 단계; 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 위에 엠보싱 접착제를 코팅하여 제 2 투명 엠보싱 접착제 층을 형성하는 단계로서, 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 것보다 작지 않은 단계; 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위에 격자형 제 2 홈을 형성하고, 상기 제 2 홈 내에 전도성 물질을 충전하고, 상기 전도성 물질을 경화 또는 고형화시켜 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립된 제 2 전도성 층을 형성하는 단계로서, 상기 제 2 전도성 층이 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하고, 상기 제 2 전도성 스트립들이 각각 상기 제 2 홈 내에 수용되고 서로 상호교차하는 복수의 전도성 와이어를 포함하고, 상기 제 2 방향이 상기 제 1 방향과 평행하지 않고, 상기 제 2 전도성 스트립들과 제 1 전도성 스트립이 상기 투명 커버 유리의 두께 방향으로 서로 멀리 이격되고 절연되어 있는 단계; 및 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위에 투과 보강 층을 형성하는 단계로서, 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 투과 보강 층의 것보다 크고, 상기 투과 보강 층의 굴절률이 공기의 것보다 큰 단계를 포함한다.
일 실시양태에서, 격자형 제 1 홈은, 격자형 제 1 리브(rib) 패턴이 형성되는 제 1 임프린트(imprint) 표면을 포함하는 제 1 임프린트 몰드(mold)를 제공하는 단계, 상기 제 1 임프린트 표면을 제 1 엠보싱 접착제 층 위에 가압하는 단계, 상기 제 1 엠보싱 접착제 층을 경화시키는 단계, 및 이어서 상기 제 1 임프린트 몰드를 제거하는 단계에 의해 형성하고; 격자형 제 2 홈은, 격자형 제 2 리브 패턴이 형성되는 제 2 임프린트 표면을 포함하는 제 2 임프린트 몰드를 제공하는 단계, 상기 제 2 임프린트 표면을 제 2 엠보싱 접착제 층 위에 가압하는 단계, 상기 제 2 엠보싱 접착제 층을 경화시키는 단계, 및 이어서 상기 제 2 임프린트 몰드를 제거하는 단계에 의해 형성한다.
일 실시양태에서, 제 1 리브 패턴 및 제 2 리브 패턴은 각각 복수의 상호교차 리브를 포함하고, 리브들은 각각 0.2 ㎛ 내지 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고, 임의의 2개 상호교차 리브들의 교차 지점은 노드를 형성하고, 임의의 2개의 인접한 노드들 사이의 거리는 50 ㎛ 내지 500 ㎛이다.
일 실시양태에서, 투과 보강 층은, 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위에 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지를 코팅하는 단계, 및 이어서 상기 수지를 경화시켜 투과 보강 층을 형성하는 단계에 의해 형성된다.
일 실시양태에서, 열 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 50 질량부 내지 80 질량부의 중합체 수지, 10 질량부 내지 40 질량부의 용매, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 균염제, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 소포제 및 0.1 질량부 내지 5 질량부의 가소제를 포함하되; 상기 중합체 수지는 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 용매는 에탄올, n-뷰탄올, 에틸렌 글리콜-뷰틸 에터, 뷰틸 아세테이트, 사이클로헥사논 및 글리시딜 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 균염제는 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 소포제는 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 가소제는 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
일 실시양태에서, 자외선 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 60 질량부 내지 80 질량부의 유기 단량체, 10 질량부 내지 30 질량부의 희석제, 0.01 질량부 내지 1 질량부의 광개시제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 안정화제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 균염제, 0.3 질량부 내지 2 질량부의 소포제 및 0.5 질량부 내지 3 질량부의 가소제를 포함하되, 상기 유기 단량체는 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 희석제는 트라이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 에톡실화 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 메톡시 모노아크릴레이트 및 에톡실화 네오펜틸 글리콜 메톡시 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 광개시제는 방향족 다이아조늄 염, 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 페로세늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 안정화제는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀, 페노티아진 및 안트라퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 균염제는 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 소포제는 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고; 상기 가소제는 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
본 발명의 이중층 터치 스크린은, 통상의 터치 스크린에서 사용되는 ITO 층을 대체하기 위해, 제 1 홈 및 제 2 홈 내에 충전된 전도성 물질들에 의해 형성되는 제 1 전도성 층 및 제 2 전도성 층을 사용한다. 이 유형의 이중층 터치 스크린은 투과율 및 전도율을 보장할 수 있으며, 추가의 에칭 기술 없이 더 저렴한 물질로 인해 비용을 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시양태에 따른 이중층 터치 스크린의 개략적 분해도이고;
도 2는 도 1에 제시된 바와 같은 이중층 터치 스크린의 단면도이고;
도 3a 내지 3d는 도 1에 제시된 바와 같은 이중층 터치 스크린의 전도성 스트립들의 기본적 격자들의 개략도이고;
도 4는 도 1에 제시된 바와 같은 이중층 터치 스크린의 측부인 투과 보강 층으로부터 입사광의 굴절을 제시하는 개략도이고;
도 5는 도 1에 제시된 바와 같은 이중층 터치 스크린을 제조하는 방법의 흐름도이고;
도 6의 (a) 내지 (h)는 도 1에 제시된 바와 같은 이중층 터치 스크린의 제조 방법에서의 다양한 단계들의 개략도이다.
본 발명의 상기 목적들, 특징 및 이점을 더욱 명확하게 하기 위해, 본 발명의 특정 실시양태들은 이후 도면을 참조하여 설명한다. 다음 설명에서, 특정 세부 사항은 본 발명을 완전히 이해하기 위해 제시된다. 그러나, 본 발명은 이후 설명되는 것 이외의 다양한 방식으로 구현될 수 있고, 당업계의 숙련자는 본 발명의 개념을 벗어나지 않고 유사하게 개선시킬 수 있으며, 따라서 본 발명은 이후 개시된 특정 실시양태들에 제한되지 않는다.
도 1에 제시되는 바와 같은 실시양태에서, 이중층 터치 스크린(100)은 투명 커버 유리(10), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 1 전도성 층(30), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40), 제 2 전도성 층(50) 및 투과 보강 층(60)을 포함한다.
투명 커버 유리(10)의 굴절률은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률보다 크고, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률보다 작지 않고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률은 투과 보강 층(60)의 굴절률보다 크고, 투과 보강 층(60)의 굴절률은 공기의 굴절률보다 크다.
투명 커버 유리(10)는 알루미노실리케이트 유리 또는 소다 석회 유리일 수 있으며, 0.3 mm 내지 1.2 mm의 두께를 가질 수 있다.
이 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)을 향하는 투명 커버 유리(10)의 표면에의 Si-O 기들은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)에 결합한다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)을 향하는 투명 커버 유리(10)의 표면은 2 nm 내지 8 ㎚의 조도를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 투명 커버 유리(10)는 0.5 ㎜ 내지 0.7 ㎜의 두께를 갖는다.
도 2를 참조하면, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)은 투명 커버 유리(10)의 하나의 표면 위에 적층되고, 그 위의 격자형 제 1 홈(32)을 한정하며, 제 1 전도성 층(30)은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 내에 매립되어 있다.
제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 위에 적층되고, 그 위의 격자형 제 2 홈(52)을 한정하고, 제 2 전도성 층(50)은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 내에 매립된다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 물질은 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지일 수 있고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 물질은 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지일 수 있다.
자외선 경화성 수지는 일반적으로 예비중합체, 단량체, 광개시제 및 첨가제를 30 내지 50% : 40 내지 60% : 1 내지 6% : 0.2 내지 1%의 몰비로 포함한다. 예비중합체가 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 아크릴 수지 등으로부터 선택되는 경우; 단량체는 일작용성 단량체, 이작용성 단량체, 삼작용성 단량체 및 다작용성 단량체로부터 선택되고; 광개시제는 벤조페논, 아세토페논 등으로부터 선택되고; 첨가제는 첨가되거나 첨가되지 않을 수 있고, 일반적으로 접착제로서 사용되며, 일반적으로 사용되는 첨가제는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀 등을 포함한다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)은 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 가질 수 있고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)은 2 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은 2 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는다.
제 1 전도성 층(30)은 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하며, 제 1 전도성 스트립 각각은 제 1 홈(32) 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성된다.
제 2 전도성 층(50)은 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하며, 제 2 전도성 스트립 각각은 제 2 홈(52) 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성된다.
도 1을 참조하면, 제 1 방향은 제 2 방향과 평행하지 않고, 제 1 전도성 스트립들 및 제 2 전도성 스트립들은 투명 커버 유리(10)의 두께 방향으로 서로 멀리 이격되고 절연되어 있다.
전도성 물질은 금속, 카본 나노튜브, 그래핀, 전도성 중합체 또는 인듐 주석 산화물일 수 있다.
금속은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
전도성 와이어는 각각 0.2 ㎛ 및 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 임의의 2개의 전도성 와이어를 상호교차시키는 교차 지점은 노드를 형성하고, 임의의 2개의 인접한 노드들 사이의 거리는 50 ㎛ 내지 500 ㎛일 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 전도성 와이어는 각각 0.5 ㎛ 및 2 ㎛의 폭 및 2 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
도 3a 내지 3d는 이 실시양태에서 이중층 터치 스크린의 전도성 스트립의 기본 격자의 개략도이다. 또한, 도 3a 내지 3d로부터, 전도성 스트립을 구성하는 기본 격자는 정사각형, 마름모형(rhombus), 정육각형 등과 같은 정다각형, 또는 임의의 격자 패턴을 형성할 수 있음을 알 수 있다. 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)은 각각 제 1 축 전도성 유닛 및 제 2 축 전도성 유닛에 상응한다. 제 1 축 전도성 유닛 및 제 2 축 전도성 유닛은, 서로 절연되어 있는 제 1 축 전도성 패턴과 제 2 축 전도성 패턴으르 형성하도록 분리된다.
투과 보강 층(60)의 물질은 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지일 수 있고, 투과 보강 층(60)은 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛이다.
바람직한 실시양태에서, 투과 보강 층(60)은 1 ㎛ 내지 2 ㎛의 두께를 갖는다.
이 실시양태에서, 열 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 50 질량부 내지 80 질량부의 중합체 수지, 10 질량부 내지 40 질량부의 용매, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 균염제, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 소포제 및 0.1 질량부 내지 5 질량부의 가소제를 포함한다.
중합체 수지는 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
용매는 에탄올, n-뷰탄올, 에틸렌 글리콜-뷰틸 에터, 뷰틸 아세테이트, 사이클로헥사논 및 글리시딜 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
균염제는 수지의 레벨링 성능을 개선시키고 코팅층이 결함, 예컨대 수축 및 핀홀을 형성하는 것을 방지하는 데 사용되어서, 코팅층은 레벨을 유지할 수 있으며 개선된 광택을 갖는다. 균염제는 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
소포제는 코팅 물질의 제조와 사용 도중에 생성되는 공기 버블을 방지 및 제거하는 데 사용되며, 따라서 코팅층에서의 핀홀 형성을 방지할 수 있다. 소포제는 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다. 일 실시양태에서, 소포제는 트라이뷰틸 포스페이트 소포제, 프로필렌 글리콜 지방산 에스터 소포제 및 폴리메틸실록세인 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
가소제는 중합체 분자들의 분자간 힘들을 약화시키는 데 사용되어서 접착제의 가요성을 향상시키고 접착제의 내부 응력을 이완시키며, 이로 인해 접착제의 충격 강도를 증가시킨다. 가소제는 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
열 경화성 수지는 100 ℃ 내지 180 ℃의 열 경화 온도, 열 경화 온도에서의 5 분 내지 30 분의 경화 시간, 및 500 cps 내지 5000 cps의 점도를 갖는다.
자외선 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 60 질량부 내지 80 질량부의 유기 단량체, 10 질량부 내지 30 질량부의 희석제, 0.01 질량부 내지 1 질량부의 광개시제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 안정화제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 균염제, 0.3 질량부 내지 2 질량부의 소포제 및 0.5 질량부 내지 3 질량부의 가소제를 포함한다.
유기 단량체는, 더 우수한 유동성을 제공하기 위하여, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터와 같은 낮은 점도의 물질일 수 있다.
희석제는 접착제 용액이 감소된 점성을 갖도록 접착제 용액에 대해 희석 효과를 가지며, 이로 인해 공정에서 사용하는 데 용이하게 되며, 희석제는 또한 접착제의 가교결합을 촉진시킬 수 있다. 따라서, 희석제는 점성, 접착성, 가요성, 경도 및 경화 속도를 개선시키는 데 역할을 담당할 수 있다. 희석제는 트라이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 에톡실화 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 메톡시 모노아크릴레이트 및 에톡실화 네오펜틸 글리콜 메톡시 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
광개시제는 접착제가 자외선 광을 흡수한 후에 분해에 의해 라디칼 또는 이온을 발생시키고, 이어서 라디칼 또는 이온이 유기 단량체의 중합화 및 가교결합을 개시하여 망상조직 구조물을 형성하는 데 사용되어서, 달성 물질(achieve material)로서 작용한다. 광개시제는 방향족 다이아조늄 염, 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 페로세늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
안정화제는 저장 동안 중합화의 기회를 감소시키고 수지의 저장 안정성을 증가시킬 수 있다. 안정화제는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀, 페노티아진 및 안트라퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
자외선 경화성 수지는 400 ㎚ 미만의 경화 파장 및 500 cps 내지 5000 cps의 점도를 갖는다.
이중층 터치 스크린에 대한 빛의 표면 반사를 감소시키기 위하여, 투명 커버 유리(10), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 및 투과 보강 층(60)은 그들의 굴절률에 따라 정돈되게 적층된다. 도 4를 참고하면, 빛은 공기로부터 투과 보강 층(60), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 및 투명 커버 유리(10) 내로 순서대로 입사된다. 공기의 굴절률이 n1 = 1.0이면; 투명 커버 유리(10)의 굴절률은 n5 = 1.52, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률은 n4이고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률은 n3이고, 투과 보강 층(60)의 굴절률은 n2이며, n1, n2, n3, n4 및 n5는 빛 반사 손실을 감소시키기 위하여 조건 n1 < n2 < n3 ≤ n4 < n5를 만족해야 한다. n3 = n4는 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 및 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)이 동일한 물질에 의해 형성된 것을 나타내며, 그렇지 않으면, n3은 n4보다 작아야 한다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 및 투과 보강 층(60)은 각각 1.52 미만의 굴절률을 가져야 하며, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률보다 크지 않아야 하고, 투과 보강 층(60)의 굴절률은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 것보다 작아야 한다.
일 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 물질은 PMMA 자외선 접착제(경화 후 n4 = 1.49인 굴절률)일 수 있고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 물질은 폴리비닐 이소뷰틸 에터 자외선 접착제(경화 후 n3 = 1.44인 굴절률)일 수 있고, 투과 보강 층(60)의 물질은 열 경화성 폴리테트라플루오로에틸렌(경화 후 n2 = 1.35인 굴절률)일 수 있다. 다른 실시양태에서, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은, 다른 층의 물질이 변하지 않은 채로 잔존하면서, 또한 제 1 투명 엠보싱 접착제 층, 즉 PMMA 자외선 접착제와 동일한 물질을 가질 수 있다.
본 발명의 이중층 터치 스크린은, 종래의 터치 스크린에 사용되는 ITO 층을 교체하기 위하여, 제 1 홈(32) 및 제 2 홈(52) 내에 충전된 전도성 물질에 의해 형성된 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)을 사용한다. 이 유형의 이중층 터치 스크린은 광 투과율 및 전도율을 보장할 수 있으며, 추가적인 에칭 기술 없이 값싼 물질의 사용으로 인해 비용을 감소시킬 수 있다.
일 실시양태에서, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50) 둘다의 물질은 은이며, 이는 전도성 유닛의 전도성을 추가로 보장하기 위한 것이다.
투명 커버 유리(10), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 및 투과 보강 층(60)은, 종래의 이중층 터치 스크린보다 높은 투과율을 갖는 이중층 터치 스크린(100)을 얻기 위해, 그들의 굴절률에 따라 정돈되게 적층된다.
또한, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)을 사용하는 이러한 이중층 터치 스크린(100)은 종래의 대형 터치 패널 내의 ITO로 인한 느린 응답과 같은 문제들을 해결할 수 있다. 한편, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)이 각각 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 및 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 내에 매립되어 있기 때문에, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)이 스크래치되는 것을 방지할 수 있다.
이중층 터치 스크린(100)은 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)의 사용으로 인해 바이패스 구조를 필요로 하지 않고, 따라서, 간단한 공정에 의해 제조 될 수 있으며, 효율 및 수율을 개선시키는 데 유리하다.
제 2 전도성 층(50) 위에 코팅된 투과 보강 층(60)은 제 2 전도성 층(50)이 스크래치되는 것을 보호할 수 있다.
도 5 및 도 6의 (a) 내지 (h)에 제시된 바와 같이, 이중층 터치 스크린(100)을 제조하는 방법은 이후 기재되는 바와 같은 단계들을 포함한다.
S10에서는 투명 커버 유리(10)를 제공하고, 그의 표면을 처리한다.
도 6의 (a)에 제시된 바와 같은 투명 커버 유리(10)가 제공된 후, 그의 하나의 표면은 도 6의 (b)에 제시된 바와 같이 처리되어서 투명 커버 유리(10)를 얻을 수 있다.
상기 표면 처리는 특별히 다음과 같이 실시된다: 플라즈마 세정기(cleaner)를 사용하여 투명 커버 유리(10)를 세정 및 조면화시켜, 투명 커버 유리(10)의 표면이 2 nm 내지 8 nm의 조도를 갖고 이 표면 위의 Si-O 기는 노출되어서 투명 커버 유리(10)의 접착성을 증가시킨다.
투명 커버 유리(10)는 알루미노실리케이트 유리 또는 소다 석회 유리일 수 있고, 0.3 mm 내지 1.2 mm의 두께를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 투명 커버 유리(10)는 0.5 mm 내지 0.7 mm의 두께를 갖는다.
이 실시양태에서, 투명 유리 판(10)은 0.7 mm의 두께를 갖는 알루미노실리케이트 강화 유리이다.
S20에서는, 엠보싱 접착제를 투명 커버 유리(10)의 처리된 표면 위에 코팅하여 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)을 형성한다.
도 6의 (c)에 제시된 바와 같이, 투명 커버 유리(10)의 처리된 표면은 엠보싱 접착제로 코팅되어서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)으로 코팅된 투명 커버 유리(10)를 수득한다.
투명 커버 유리(10)의 굴절률은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)보다 크다. 접착제는 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지일 수 있다.
자외선 경화성 수지는 일반적으로 예비중합체, 단량체, 광개시제 및 첨가제를 각각 30 내지 50% : 40 내지 60% : 1 내지 6% : 0.2 내지 1%의 몰비로 포함한다. 예비중합체는 에폭시 아크릴레이트, 폴리우레탄 아크릴레이트, 폴리에터 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 아크릴 수지 등으로부터 선택되고; 단량체는 일작용성 단량체, 이작용성 단량체, 삼작용성 단량체 및 다작용성 단량체로부터 선택되고; 광개시제는 벤조페논, 아세토페논 등으로부터 선택되고; 첨가제는 첨가되거나 첨가되지 않을 수 있으며, 일반적으로 접착제로서 사용되며, 일반적으로 사용되는 첨가제는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀 등을 포함한다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)은 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)은 2 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는다.
이 실시양태에서, 투명 커버 유리(10)의 처리된 표면은 5 ㎛의 두께를 갖는 PMMA 자외선 접착제로 코팅되어서 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)을 형성한다.
S30에서는, 격자형 제 1 홈(32)을 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 위에 제공하고, 전도성 물질을 제 1 홈(32) 내에 충전시킨 후, 전도성 물질을 경화 또는 고형화시켜 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 내에 매립된 제 1 전도성 층(30)을 형성한다.
제 1 전도성 층(30)은 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하며, 제 1 전도성 스트립은 제 1 홈 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성된다.
도 6의 (d) 및 (e)를 참고하면, 격자형 제 1 홈(32)은 다음과 같은 단계들에 의해 형성된다: 격자형 제 1 리브(rib) 패턴(210)이 형성되는 제 1 임프린트(imprint) 표면을 포함하는 제 1 임프린트 몰드(mold)(200)를 제공하는 단계, 제 1 임프린트 표면을 제 1 엠보싱 접착제 층(20) 위에 가압하는 단계, 제 1 엠보싱 접착제 층(20)을 경화시키는 단계(hardening), 및 이어서 제 1 임프린트 몰드를 제거하는 단계.
여기서, 제 1 전도성 층(30)의 두께는 제 1 홈(32)의 깊이보다 크지 않다.
제 1 리브 패턴(210)은 복수의 상호교차 리브를 포함하고, 리브들은 각각 0.2 ㎛ 내지 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고, 임의의 2개의 상호교차 리브의 교차 지점은 노드를 형성하고, 임의의 2개의 인접한 노드들 사이의 거리는 50 ㎛ 내지 500 ㎛이다.
전도성 물질은 금속, 카본 나노튜브, 그래핀, 전도성 중합체 또는 인듐 주석 산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
금속은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.
S40에서는, 엠보싱 접착제를 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 위에 코팅하여 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(40)을 형성한다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 것보다 작지 않다.
제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은 2 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는다.
이 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 표면은 폴리비닐 이소뷰틸 에터 자외선 접착제로 5 ㎛의 두께로 코팅되어 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)을 형성한다.
엠보싱 접착제의 특정 구성성분은 앞서 기재되어 있다.
S50에서는, 격자형 제 2 홈(52)을 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 위에 제공하고, 전도성 물질을 제 2 홈(52) 내에 충전시킨 후, 전도성 물질을 경화 또는 고형화시켜 제 2 투명 접착제 층(40) 내에 매립된 제 2 전도성 층(50)을 형성한다.
제 2 전도성 층(50)은, 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하며, 제 2 전도성 스트립은 제 2 홈 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어들을 상호교차시킴으로써 형성된다.
도 1을 참조하면, 제 1 방향은 제 2 방향과 평행하지 않고, 제 1 전도성 스트립들 및 제 2 전도성 스트립들은 투명 커버 유리(10)의 두께 방향으로 서로 멀리 이격되고 절연되어 있다.
도 6의 (f) 및 (g)를 참고하면, 단계 S50에서, 격자형 제 2 홈(52)은 다음의 단계에 의해 형성된다:
격자형 제 2 리브 패턴(310)이 형성되는 제 2 임프린트 표면을 포함하는 제 2 임프린트 몰드(300)를 제공하는 단계, 제 2 임프린트 표면을 제 2 엠보싱 접착제 층(40) 위에 가압하는 단계, 제 2 엠보싱 접착제 층(40)을 경화시키는 단계, 및 이어서 제 2 임프린트 몰드(300)를 제거하는 단계.
여기서, 제 2 전도성 층(50)의 두께는 제 2 홈(52)의 깊이보다 크지 않다.
제 2 리브 패턴(310)은 복수의 상호교차 리브를 포함하고, 리브들은 각각 0.2 ㎛ 내지 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고, 임의의 2개의 상호교차 리브의 교차 지점은 노드를 형성하고, 임의의 2개의 인접한 노드들 사이의 거리는 50 ㎛ 내지 500 ㎛이다.
전도성 물질은 금속, 카본 나노튜브, 그래핀, 전도성 중합체 또는 인듐 주석 산화물일 수 있다.
금속은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
도 3a 내지 3d는 이 실시양태에 따른 이중층 터치 스크린의 전도성 스트립의 기본 격자들을 제시한다. 도 3a 내지 3d로부터, 전도성 스트립을 구성하는 기본 격자는 정사각형, 마름모형, 정육각형 등과 같은 정다각형, 또는 임의의 격자 패턴을 형성할 수 있음을 알 수 있다. 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)은 각각 제 1 축 전도성 유닛 및 제 2 축 전도성 유닛에 상응한다. 제 1 축 전도성 유닛 및 제 2 축 전도성 유닛은, 서로 절연되어 있는 제 1 축 전도성 패턴과 제 2 축 전도성 패턴을 형성하도록 분리된다.
S60에서는, 투과 보강 층(60)을 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 위에 형성한다.
도 6의 (h)를 참고하면, 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지는 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 위에 코팅된 후, 경화되어 투과 보강 층(60)을 형성한다.
제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률은 투과 보강 층(60)의 것보다 크고, 투과 보강 층(60)의 굴절률은 공기의 것보다 더 크다.
투과 보강 층(60)의 물질은 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지일 수 있으며, 투과 보강 층은 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 투과 보강 층(60)은 1 ㎛ 내지 2 ㎛의 두께를 갖는다.
이 실시양태에서, 열 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 50 질량부 내지 80 질량부의 중합체 수지, 10 질량부 내지 40 질량부의 용매, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 균염제, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 소포제 및 0.1 질량부 내지 5 질량부의 가소제를 포함한다.
중합체 수지는 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
용매는 에탄올, n-뷰탄올, 에틸렌 글리콜-뷰틸 에터, 뷰틸 아세테이트, 사이클로헥사논 및 글리시딜 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
균염제는 수지의 레벨링 성능을 개선시키고 코팅층이 결함, 예컨대 수축 및 핀홀을 형성하는 것을 방지하는 데 사용되어서, 코팅층은 레벨을 유지할 수 있으며 개선된 광택을 갖는다. 균염제는 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
소포제는 코팅 물질의 제조와 사용 도중에 생성되는 공기 버블을 방지 및 제거하는 데 사용되며, 따라서 코팅층에서의 핀홀 형성을 방지할 수 있다. 소포제는 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다. 일 실시양태에서, 소포제는 트라이뷰틸 포스페이트 소포제, 프로필렌 글리콜 지방산 에스터 소포제 및 폴리메틸실록세인 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
가소제는 중합체 분자들의 분자간 힘들을 약화시키는 데 사용되어서 접착제의 가요성을 향상시키고 접착제의 내부 응력을 이완시키며, 이로 인해 접착제의 충격 강도를 증가시킨다. 가소제는 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
이러한 열 경화성 수지는 100 ℃ 내지 180 ℃의 열 경화 온도, 열 경화 온도에서의 5 분 내지 30 분의 경화 시간, 및 500 cps 내지 5000 cps의 점도를 갖는다.
자외선 경화성 수지는 100 질량부를 기준으로 60 질량부 내지 80 질량부의 유기 단량체, 10 질량부 내지 30 질량부의 희석제, 0.01 질량부 내지 1 질량부의 광개시제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 안정화제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 균염제, 0.3 질량부 내지 2 질량부의 소포제 및 0.5 질량부 내지 3 질량부의 가소제를 포함한다.
유기 단량체는, 더 우수한 유동성을 제공하기 위하여, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터와 같은 낮은 점도의 물질일 수 있다.
한편, 희석제는 접착제 용액이 감소된 점성을 갖도록 접착제 용액에 대해 희석 효과를 가지며, 이로 인해 공정에서 사용하는 데 용이하게 되며, 희석제는 또한 접착제의 가교결합을 촉진시킬 수 있다. 따라서, 희석제는 점성, 접착성, 가요성, 경도 및 경화 속도를 개선시키는 데 역할을 담당할 수 있다. 희석제는 트라이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 에톡실화 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 메톡시 모노아크릴레이트 및 에톡실화 네오펜틸 글리콜 메톡시 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
광개시제는 접착제가 자외선 광을 흡수한 후에 분해에 의해 라디칼 또는 이온을 발생시키고, 이어서 라디칼 또는 이온이 유기 단량체의 중합화 및 가교결합을 개시하여 망상조직 구조물을 형성하는 데 사용되어서, 달성 물질로서 작용한다. 광개시제는 방향족 다이아조늄 염, 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 페로세늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
안정화제는 저장 동안 중합화의 기회를 감소시키고 수지의 저장 안정성을 증가시킬 수 있다. 안정화제는 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀, 페노티아진 및 안트라퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
자외선 경화성 수지는 400 ㎚ 미만의 경화 파장 및 500 cps 내지 5000 cps의 점도를 갖는다.
이중층 터치 스크린에 대한 빛의 표면 반사를 감소시키기 위하여, 투명 커버 유리(10), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 및 투과 보강 층(60)은 그들의 굴절률에 따라 정돈되게 적층된다. 도 4를 참고하면, 빛은 공기로부터 투과 보강 층(60), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 및 투명 커버 유리(10) 내로 순서대로 입사된다. 공기의 굴절률이 n1 = 1.0이면; 투명 커버 유리(10)의 굴절률은 n5 = 1.52, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률은 n4이고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률은 n3이고, 투과 보강 층(60)의 굴절률은 n2이며, n1, n2, n3, n4 및 n5는 빛 반사 손실을 감소시키기 위하여 조건 n1 < n2 < n3 ≤ n4 < n5를 만족해야 한다. n3 = n4는 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 및 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)이 동일한 물질에 의해 형성된 것을 나타내며, 그렇지 않으면, n3은 n4보다 작아야 한다.
제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 및 투과 보강 층(60)은 각각 1.52 미만의 굴절률을 가져야 하며, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 굴절률은 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 굴절률보다 크지 않아야 하고, 투과 보강 층(60)의 굴절률은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 것보다 작아야 한다.
일 실시양태에서, 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20)의 물질은 PMMA 자외선 접착제(경화 후 n4 = 1.49인 굴절률)일 수 있고, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)의 물질은 폴리비닐 이소뷰틸 에터 자외선 접착제(경화 후 n3 = 1.44인 굴절률)일 수 있고, 투과 보강 층(60)의 물질은 열 경화성 폴리테트라플루오로에틸렌(경화 후 n2 = 1.35인 굴절률)일 수 있다. 다른 실시양태에서, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40)은, 다른 층의 물질이 변하지 않은 채로 잔존하면서, 또한 제 1 투명 엠보싱 접착제 층, 즉 PMMA 자외선 접착제와 동일한 물질을 가질 수 있다.
본 발명의 이중층 터치 스크린은, 종래의 터치 스크린에 사용되는 ITO 층을 교체하기 위하여, 제 1 홈(32) 및 제 2 홈(52) 내에 충전된 전도성 물질에 의해 형성된 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)을 사용한다. 이 유형의 이중층 터치 스크린은 광 투과율 및 전도율을 보장할 수 있으며, 추가적인 에칭 기술 없이 값싼 물질의 사용으로 인해 비용을 감소시킬 수 있다.
일 실시양태에서, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50) 둘다의 물질은 은이며, 이는 전도성 유닛의 전도성을 추가로 보장하기 위한 것이다.
투명 커버 유리(10), 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20), 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 및 투과 보강 층(60)은, 종래의 이중층 터치 스크린보다 높은 투과율을 갖는 이중층 터치 스크린(100)을 얻기 위해, 그들의 굴절률에 따라 정돈되게 적층된다.
또한, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)을 사용하는 이러한 이중층 터치 스크린(100)은 종래의 대형 터치 패널 내의 ITO로 인한 느린 응답과 같은 문제들을 해결할 수 있다. 한편, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)이 각각 제 1 투명 엠보싱 접착제 층(20) 및 제 2 투명 엠보싱 접착제 층(40) 내에 매립되어 있기 때문에, 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)이 스크래치되는 것을 방지할 수 있다.
이중층 터치 스크린(100)은 제 1 전도성 층(30) 및 제 2 전도성 층(50)의 사용으로 인해 바이패스 구조를 필요로 하지 않고, 따라서, 간단한 공정에 의해 제조 될 수 있으며, 효율 및 수율을 개선시키는 데 유리하다.
제 2 전도성 층(50) 위에 코팅된 투과 보강 층(60)은 제 2 전도성 층(50)이 스크래치되는 것을 보호할 수 있다.
상기 실시양태들은 단지 특정 세부사항으로 본 발명의 일부 구현 모드들을 기재하고 있지만, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 본 발명에 대한 다양한 변형과 개선이 본 발명의 개념으로부터 벗어나지 않고서 당업계의 숙련자에 의해 이루어질 수 있으며, 이러한 변형과 개선은 본 발명의 범위 내에 속하는 것임을 인식해야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구범위에 따라야 한다.

Claims (16)

  1. 투명 커버 유리;
    상기 투명 커버 유리의 하나의 표면 위에 적층되고 격자형 제 1 홈을 한정하는 제 1 투명 엠보싱 접착제 층으로서, 상기 투명 커버 유리의 굴절률이 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률보다 큰 제 1 투명 엠보싱 접착제 층;
    상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립되고 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하는 제 1 전도성 층으로서, 상기 제 1 전도성 스트립이 각각 상기 제 1 홈 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어를 상호교차시킴으로써 형성되는 제 1 전도성 층;
    상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 위에 적층되고 격자형 제 2 홈을 한정하는 제 2 투명 엠보싱 접착제 층으로서, 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률보다 작지 않은 제 2 투명 엠보싱 접착제 층;
    상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립되고 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하는 제 2 전도성 층으로서, 상기 제 2 전도성 스트립이 각각 상기 제 2 홈 내에 충전된 전도성 물질을 경화 또는 고형화시킴으로써 형성되는 전도성 와이어를 상호교차시킴으로써 형성되는 제 2 전도성 층; 및
    상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위를 커버하는 투과 보강(transmission reinforcement) 층으로서, 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 상기 투과 보강 층의 굴절률보다 크고, 상기 투과 보강 층의 굴절률이 공기의 굴절률보다 큰 투과 보강 층
    을 포함하되;
    상기 제 1 방향이 상기 제 2 방향과 평행하지 않고, 상기 제 1 전도성 스트립과 제 2 전도성 스트립이 상기 투명 커버 유리의 두께 방향으로 서로 멀리 이격되고 절연되어 있는
    이중층 터치 스크린.
  2. 제 1 항에 있어서,
    투과 보강 층의 물질이 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지이고, 상기 투과 보강 층이 0.5 ㎛ 내지 5 ㎛의 두께를 갖는 이중층 터치 스크린.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 열 경화성 수지가 100 질량부를 기준으로 50 질량부 내지 80 질량부의 중합체 수지, 10 질량부 내지 40 질량부의 용매, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 균염제, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 소포제 및 0.1 질량부 내지 5 질량부의 가소제를 포함하되;
    상기 중합체 수지가 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 용매가 에탄올, n-뷰탄올, 에틸렌 글리콜-뷰틸 에터, 뷰틸 아세테이트, 사이클로헥사논 및 글리시딜 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 균염제가 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 소포제가 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 가소제가 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인
    이중층 터치 스크린.
  4. 제 2 항에 있어서,
    자외선 경화성 수지가 100 질량부를 기준으로 60 질량부 내지 80 질량부의 유기 단량체, 10 질량부 내지 30 질량부의 희석제, 0.01 질량부 내지 1 질량부의 광개시제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 안정화제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 균염제, 0.3 질량부 내지 2 질량부의 소포제 및 0.5 질량부 내지 3 질량부의 가소제를 포함하되;
    상기 유기 단량체가 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 희석제가 트라이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 에톡실화 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 메톡시 모노아크릴레이트 및 에톡실화 네오펜틸 글리콜 메톡시 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 광개시제가 방향족 다이아조늄 염, 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 페로세늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 안정화제가 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀, 페노티아진 및 안트라퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 균염제가 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 소포제가 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 가소제가 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인
    이중층 터치 스크린.
  5. 제 1 항에 있어서,
    제 1 전도성 층의 물질이 금속 또는 이의 합금, 탄소 나노튜브, 그래핀, 유기 전도성 중합체 또는 인듐 주석 산화물(ITO)이고;
    제 2 전도성 층의 물질이 금속 또는 이의 합금, 탄소 나노튜브, 그래핀, 유기 전도성 중합체 또는 ITO인
    이중층 터치 스크린.
  6. 제 5 항에 있어서,
    금속이 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 이중층 터치 스크린.
  7. 제 1 항에 있어서,
    제 1 및 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 전도성 와이어가 각각 0.2 ㎛ 내지 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고;
    임의의 2개의 전도성 와이어를 상호교차시키는 교차 지점이 노드(node)를 형성하고;
    임의의 2개의 인접한 노드 사이의 거리가 50 ㎛ 내지 500 ㎛인
    이중층 터치 스크린.
  8. 제 1 항에 있어서,
    제 1 투명 엠보싱 접착제 층과 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 물질이 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지이고;
    상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층이 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고;
    상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층이 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖는
    이중층 터치 스크린.
  9. 제 1 항에 있어서,
    투명 커버 유리가 알루미노실리케이트 유리 또는 소다 석회 유리이고, 0.3 mm 내지 1.2 mm의 두께를 갖고;
    상기 투명 커버 유리의 하나의 표면 위의 Si-O 기가 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층에 결합되는
    이중층 터치 스크린.
  10. 제 1 항에 있어서,
    투명 커버 유리의 하나의 표면이 2 nm 내지 8 nm의 조도(roughness)를 갖는 이중층 터치 스크린.
  11. 투명 커버 유리를 제공하고, 상기 투명 커버 유리의 하나의 표면을 처리하는 단계;
    상기 투명 커버 유리의 처리된 표면 위에 엠보싱 접착제를 코팅하여 제 1 투명 엠보싱 접착제 층을 형성하는 단계로서,
    상기 투명 커버 유리의 굴절률이 제 1 투명 엠보싱 접착제 층보다 큰 단계;
    상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 위에 격자형 제 1 홈을 형성하고, 상기 제 1 홈 내에 전도성 물질을 충전하고, 상기 전도성 물질을 경화 또는 고형화시켜 상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립된 제 1 전도성 층을 형성하는 단계로서,
    상기 제 1 전도성 층이 제 1 방향을 따라 연장되는 복수의 제 1 전도성 스트립을 포함하고, 상기 제 1 전도성 스트립이 각각 상기 제 1 홈 내에 수용되고 서로 상호교차하는 복수의 전도성 와이어를 포함하는 단계;
    제 1 투명 엠보싱 접착제 층 위에 엠보싱 접착제를 코팅하여 제 2 투명 엠보싱 접착제 층을 형성하는 단계로서,
    상기 제 1 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률보다 작지 않은 단계;
    상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위에 격자형 제 2 홈을 형성하고, 상기 제 2 홈 내에 전도성 물질을 충전하고, 상기 전도성 물질을 경화 또는 고형화시켜 상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 내에 매립된 제 2 전도성 층을 형성하는 단계로서,
    상기 제 2 전도성 층이 제 2 방향을 따라 연장되는 복수의 제 2 전도성 스트립을 포함하고, 상기 제 2 전도성 스트립이 각각 상기 제 2 홈 내에 수용되고 서로 상호교차하는 복수의 전도성 와이어를 포함하고, 상기 제 2 방향이 상기 제 1 방향과 평행하지 않고, 상기 제 2 전도성 스트립과 제 1 전도성 스트립이 상기 투명 커버 유리의 두께 방향으로 서로 멀리 이격되고 절연되어 있는 단계; 및
    상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위에 투과 보강 층을 형성하는 단계로서,
    상기 제 2 투명 엠보싱 접착제 층의 굴절률이 투과 보강 층의 굴절률보다 크고, 상기 투과 보강 층의 굴절률이 공기의 굴절률보다 큰 단계
    를 포함하는 이중층 터치 스크린의 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    격자형 제 1 홈이, 격자형 제 1 리브(rib) 패턴이 형성되는 제 1 임프린트(imprint) 표면을 포함하는 제 1 임프린트 몰드(mold)를 제공하는 단계, 상기 제 1 임프린트 표면을 제 1 엠보싱 접착제 층 위에 가압하는 단계, 상기 제 1 엠보싱 접착제 층을 경화시키는 단계, 및 이어서 상기 제 1 임프린트 몰드를 제거하는 단계에 의해 형성되고;
    격자형 제 2 홈이, 격자형 제 2 리브 패턴이 형성되는 제 2 임프린트 표면을 포함하는 제 2 임프린트 몰드를 제공하는 단계, 상기 제 2 임프린트 표면을 제 2 엠보싱 접착제 층 위에 가압하는 단계, 상기 제 2 엠보싱 접착제 층을 경화시키는 단계, 및 이어서 상기 제 2 임프린트 몰드를 제거하는 단계에 의해 형성되는
    이중층 터치 스크린의 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    제 1 리브 패턴 및 제 2 리브 패턴이 각각 복수의 상호교차 리브를 포함하고;
    상기 리브가 각각 0.2 ㎛ 내지 5 ㎛의 폭 및 1 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖고;
    임의의 2개의 상호교차 리브의 교차 지점이 노드를 형성하고;
    임의의 2개의 인접한 노드 사이의 거리가 50 ㎛ 내지 500 ㎛인
    이중층 터치 스크린의 제조 방법.
  14. 제 11 항에 있어서,
    투과 보강 층이, 제 2 투명 엠보싱 접착제 층 위에 열 경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지를 코팅하는 단계, 및 이어서 상기 수지를 경화시켜 투과 보강 층을 형성하는 단계에 의해 형성되는, 이중층 터치 스크린의 제조 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    열 경화성 수지가 100 질량부를 기준으로 50 질량부 내지 80 질량부의 중합체 수지, 10 질량부 내지 40 질량부의 용매, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 균염제, 0.1 질량부 내지 5 질량부의 소포제 및 0.1 질량부 내지 5 질량부의 가소제를 포함하되;
    상기 중합체 수지가 폴리에스터 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 용매가 에탄올, n-뷰탄올, 에틸렌 글리콜-뷰틸 에터, 뷰틸 아세테이트, 사이클로헥사논 및 글리시딜 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 균염제가 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 소포제가 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 가소제가 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인
    이중층 터치 스크린의 제조 방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    자외선 경화성 수지가 100 질량부를 기준으로 60 질량부 내지 80 질량부의 유기 단량체, 10 질량부 내지 30 질량부의 희석제, 0.01 질량부 내지 1 질량부의 광개시제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 안정화제, 0.2 질량부 내지 2 질량부의 균염제, 0.3 질량부 내지 2 질량부의 소포제 및 0.5 질량부 내지 3 질량부의 가소제를 포함하되;
    상기 유기 단량체가 아크릴산 에스터, 에폭시 수지 및 비닐 에터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 희석제가 트라이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 에톡실화 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 메톡시 모노아크릴레이트 및 에톡실화 네오펜틸 글리콜 메톡시 모노아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 광개시제가 방향족 다이아조늄 염, 방향족 설포늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 페로세늄 염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 안정화제가 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 2,6-다이-t-뷰틸 메틸 페놀, 페노티아진 및 안트라퀴논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 균염제가 폴리아크릴레이트, 셀룰로오스 아세테이트 뷰티레이트, 나이트로셀룰로스 및 폴리비닐 뷰티랄로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 소포제가 포스페이트 소포제, 지방산 에스터 소포제 및 실리콘 소포제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고;
    상기 가소제가 프탈산 에스터, 다이이소노닐 프탈레이트, 다이이소데실 프탈레이트 및 트라이멜리트산 에스터로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인
    이중층 터치 스크린의 제조 방법.
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