KR20140027529A

KR20140027529A - Sheet having uneven pattern formed thereon and method for manufacturing the same

Info

Publication number: KR20140027529A
Application number: KR1020147002311A
Authority: KR
Inventors: 토시키 오카야스; 유키 모리; 야스타케 후지키
Original assignee: 오지 홀딩스 가부시키가이샤
Priority date: 2007-02-21
Filing date: 2007-11-07
Publication date: 2014-03-06
Also published as: KR101541288B1; KR20090125061A; KR101193615B1; CN104122612A; KR101414004B1; TWI530713B; CN102628969A; CN102176079A; TWI598638B; TW201631332A; TW201418784A; KR101541287B1; TWI518376B; CN102176079B; TWI536047B; KR101456522B1; TW201418785A; TWI536048B; WO2008102487A1; TW201418786A

Abstract

수지제의 기판과, 상기 기판 한 면에 설치된 수지제의 경질층을 구비하고, 상기 경질층의 표면에 요철패턴이 형성된 요철패턴 형성시트로, 경질층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg2와, 기판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg1와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃ 이상이고, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조방법을 제공한다. A uneven pattern forming sheet having a resin substrate and a hard layer made of resin provided on one surface of the substrate and having an uneven pattern formed on the surface of the hard layer, the glass transition temperature Tg2 of the resin constituting the hard layer; The difference (Tg2-Tg1) with the glass transition temperature Tg1 of resin which comprises a board | substrate is 10 degreeC or more, the closest pitch of an uneven | corrugated pattern is 1 micrometer or less, and the average depth of the bottom part of an uneven | corrugated pattern is the least. The present invention provides a concave-convex pattern forming sheet and a method for producing the same, wherein the concave-convex pattern forming sheet is 10% or more when the pitch is 100%.

Description

Uneven pattern forming sheet and its manufacturing method {SHEET HAVING UNEVEN PATTERN FORMED THEREON AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 광확산체에 구비되는 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴 형성 시트가 사용된 광확산체에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴이 표면에 형성된 광확산체를 제조하기 위한 틀로서 이용되는 광확산체 제조용 공정 시트 원판에 관한 것이다. 또, 본 발명은 광확산체의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a concave-convex pattern forming sheet included in the light diffusing body and a manufacturing method thereof. Moreover, this invention relates to the light-diffusion body in which the uneven | corrugated pattern formation sheet was used. Moreover, this invention relates to the process sheet original plate for light-diffusion body manufacture in which the uneven | corrugated pattern is used as a template for manufacturing the light-diffusion body formed in the surface. Moreover, this invention relates to the manufacturing method of a light-diffusion body.

본 발명은 광확산 시트 등으로서 이용되는 광학 시트 및 광확산 시트에 관한 것이다. The present invention relates to an optical sheet and a light diffusion sheet used as a light diffusion sheet and the like.

본 발명은 광원으로부터의 광을 확산시키는 확산 도광체에 관한 것이다. 또, 본 발명은 액정표시장치에 구비되는 백라이트 유닛에 관한 것이다. The present invention relates to a diffused light guide for diffusing light from a light source. The present invention also relates to a backlight unit provided in the liquid crystal display device.

본 발명은 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자에 구비되는 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴 형성 시트가 사용된 반사 방지체 및 위상차판에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 이용되는 광학소자제조용 공정 시트에 관한 것이다. The present invention relates to a concave-convex pattern forming sheet included in an optical element such as an antireflective body or a retardation plate and a manufacturing method thereof. Moreover, this invention relates to the antireflective body and retardation plate in which the uneven | corrugated pattern formation sheet was used. Moreover, this invention relates to the process sheet | seat for optical element manufacture used as a template for manufacturing the optical element which has an uneven | corrugated pattern.

본출원은 2007년 2월 21일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-040694호, 2007년 6월 7일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-151676호, 2007년 6월 7일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-151677호, 2007년 6월 7일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-151795호 및 2007년 10월 4일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-261176호에 기반하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 인용한다. This application is filed with Japanese Patent Application No. 2007-040694, filed in Japan on February 21, 2007, Japanese Patent Application No. 2007-151676, filed in Japan on June 7, 2007, and June 7, 2007. Japanese Patent Application No. 2007-151677 filed in Japan, Japanese Patent Application No. 2007-151795 filed in Japan on June 7, 2007 and Japanese Patent Application No. 2007- filed in Japan on October 4, 2007 Priority is claimed on the basis of No. 261176, the content of which is cited here.

일반적으로 광확산체로서는 물결 형상의 요철 패턴이 표면에 형성된 요철 패턴 형성 시트가 이용되고 있다. In general, an uneven pattern forming sheet having a wavy uneven pattern formed on its surface is used as the light diffuser.

예를 들면, 일본 특허 공개공보 제1998-123307호에는 요철 패턴이 형성된 광확산체로서 적어도 한 면에 복수의 돌기체가 형성된 광투과성 기판이 개시되어 있다. 일본 특허 공개공보 제1998-123307호는 상기 돌기체의 높이가 2∼20㎛이고, 상기 돌기체의 정점 사이의 간격이 1∼10㎛이며, 돌기체의 어스펙트비(aspect ratio)가 1 이상이라고 개시하고 있다. 또, 상기 일본 특허 공개공보 제1998-123307호에는 돌기체를 형성하는 방법으로서, 광투과성 기판의 표면에 KrF 엑시머 레이저 등의 에너지 빔을 조사하여 가공하는 방법이 개시되어 있다. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-123307 discloses a light transmissive substrate having a plurality of protrusions formed on at least one surface as a light diffuser having an uneven pattern. In Japanese Patent Laid-Open No. 1998-123307, the height of the projection is 2 to 20 µm, the interval between vertices of the projection is 1 to 10 µm, and the aspect ratio of the projection is 1 or more. It is started. Further, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1998-123307 discloses a method of forming a projection body by applying an energy beam such as a KrF excimer laser to a surface of a light transmissive substrate and processing the same.

일본 특허 공개공보 제2006-261064호에는 일면에 물결 형상의 요철로 이루어지는 이방성 확산 패턴이 형성된 광확산체가 개시되어 있다. 또, 상기 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에는 이방성 확산 패턴을 형성하는 방법으로서, 감광성 수지 필름에 레이저 광을 조사해서 노광 및 현상하고, 일면에 요철이 형성된 마스터 홀로그램을 형성하며, 그 마스터 홀로그램을 금형에 전사하여, 그 금형을 이용해서 수지를 형성하는 방법이 개시되어 있다. Japanese Patent Laid-Open No. 2006-261064 discloses a light diffuser having an anisotropic diffusion pattern formed of wavy irregularities on one surface thereof. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-261064 discloses a method of forming an anisotropic diffusion pattern, wherein the photosensitive resin film is exposed to light and developed by irradiating laser light, and a master hologram having irregularities formed on one surface thereof is formed, and the master hologram Is transferred to a metal mold and the resin is formed using the metal mold.

광확산성 등을 갖는 광학 시트로서, 표면에 요철이 형성된 시트가 알려져 있다. 예를 들면, 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에는 도트 형상의 돌부가 기판표면에 다수 형성된 광확산 시트가 개시되어 있다. 상기 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재된 광학 시트에서는 잉크젯에 의해 기판상에 잉크를 토출하고, 이것을 고착시킴에 따라 도트 형상의 돌부를 형성하고 있다. As an optical sheet having light diffusing property and the like, a sheet having irregularities formed on its surface is known. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-157430 discloses a light diffusion sheet in which a plurality of dot-shaped protrusions are formed on a substrate surface. In the optical sheet described in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-157430, ink is ejected onto a substrate by ink jet, and the dot-shaped protrusions are formed by fixing the ink.

미세한 물결 형상의 요철로 이루어지는 요철 패턴이 표면에 형성되어, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 가시광의 파장이하인 요철 패턴 형성 시트는 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 이용할 수 있다는 것이 알려져 있다(키쿠타, 이와타 저, "광학", 일본 광학회 발행, 제27권, 제1호, 1998년, p.12-17 참조). It is known that an uneven pattern formed of fine wavy irregularities is formed on the surface, and the uneven pattern forming sheet having the lowest pitch of the uneven patterns is less than or equal to the wavelength of visible light can be used as an optical element such as an antireflective body or a retardation plate. (See Kikuta, Iwata, "Optical", Japanese Optical Society, Vol. 27, No. 1, 1998, p. 12-17).

요철 패턴 형성 시트가 반사 방지체로서 이용할 수 있는 것은 이하의 이유에 따른다. The uneven pattern forming sheet can be used as an antireflection body for the following reasons.

시트 표면에 요철 패턴을 설치하고 있지 않은 경우에는, 시트와 공기와의 계면에 있어서의 굴절률이 급격한 변화에 의해 반사가 생긴다. 그러나, 시트 표면, 즉 공기와의 계면에 물결 형상의 요철 패턴을 설치한 경우에는, 요철 패턴의 부분에서 굴절률이 공기의 굴절률과 요철 패턴 형성 시트의 굴절률과의 사이의 값 (이하, 중간 굴절률이라고 한다) 을 나타내고, 게다가, 그 중간 굴절률이 요철 패턴의 깊이 방향으로 연속적으로 변화한다. 구체적으로는, 깊은 위치 정도, 요철 패턴 형성 시트의 굴절률에 근접한다. 이렇게 중간 굴절률이 연속적으로 변화함에 따라, 상술 한 바와 같은 계면에서의 굴절률이 급격한 변화가 일어나지 않고, 광의 반사를 억제할 수 있다. 또, 요철 패턴의 피치가 가시광의 파장 이하라면, 요철 패턴 부분으로 가시광의 회절, 즉 가시광의 간섭에 의한 착색을 야기하지 않는다. In the case where the uneven pattern is not provided on the surface of the sheet, reflection occurs due to a sudden change in the refractive index at the interface between the sheet and air. However, in the case where the wavy concave-convex pattern is provided on the surface of the sheet, that is, the interface with air, the refractive index at the portion of the concave-convex pattern is a value between the refractive index of the air and the refractive index of the concave-convex pattern forming sheet (hereinafter referred to as an intermediate refractive index). In addition, the intermediate refractive index continuously changes in the depth direction of the uneven pattern. Specifically, it is close to the deep position and the refractive index of the uneven pattern forming sheet. As the intermediate refractive index is continuously changed in this way, the refractive index at the interface as described above does not suddenly change, and the reflection of light can be suppressed. In addition, if the pitch of the uneven pattern is equal to or less than the wavelength of visible light, the uneven pattern portion does not cause visible light diffraction, that is, coloring due to interference of visible light.

또, 요철 패턴 형성 시트가 위상차판으로서 이용할 수 있는 것은, 요철 패턴의 부분에서, 굴절률이 서로 다른 공기와 요철 패턴 형성 시트가 교호로 배치된 결과, 광에 대하여 광학 이방성이 나타나기 때문이다. 또한 요철 패턴의 피치가 가시광의 파장과 같은 정도나 그 이하가 되면, 넓은 가시광 파장 영역에서 동등한 위상차를 나타내는 현상이 나타난다. Moreover, the uneven pattern forming sheet can be used as a retardation plate because, in the part of the uneven pattern, air and uneven pattern forming sheets having different refractive indices are alternately arranged, resulting in optical anisotropy with respect to light. In addition, when the pitch of the uneven pattern is equal to or less than the wavelength of visible light, a phenomenon that exhibits an equivalent phase difference in a wide visible light wavelength range appears.

이러한 요철 패턴 형성 시트의 구체 예로서는, 예를 들면, 네드 보덴(Ned Bowden) 등 저, "네이쳐(Nature)", 제393호, 1998년, p.146 에, 가열한 폴리디메틸실록산으로 이루어진 시트의 한 면에 금을 증착시켜 금속층을 형성한 후에 냉각함에 따라, 폴리디메틸실록산으로 이루어진 시트를 수축시켜, 금속층의 표면에 물결 형상의 요철 패턴을 형성시킨 시트가 제안되고 있다. As a specific example of such an uneven pattern forming sheet, for example, Ned Bowden et al., "Nature", No. 393, 1998, p. 146, the sheet of the sheet consisting of heated polydimethylsiloxane After depositing gold on one side to form a metal layer and then cooling, a sheet in which a sheet made of polydimethylsiloxane is shrunk to form a wavy concave-convex pattern on the surface of the metal layer has been proposed.

또, 일본 특허 공개 공보 제1988-301988호에는, 열수축성 합성 수지 필름의 표면에 하지층과 금속층을 순차 형성한 후, 열수축성 합성 수지 필름을 열수축시켜, 금속층의 표면에 물결 형상의 요철 패턴을 형성시킨 시트가 제안되고 있다. In Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1988-301988, after the base layer and the metal layer are sequentially formed on the surface of the heat-shrinkable synthetic resin film, the heat-shrinkable synthetic resin film is heat-shrinked to form a wavy irregular pattern on the surface of the metal layer. The formed sheet is proposed.

일본 특허 공개 공보 제2003-187503호에는, 노광 처리에 의해 체적수축하는 재료로 이루어지는 층을 형성하고, 그 층을 노광 처리하여 표면에 요철을 형성시킨 시트가 제안되고 있다. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-187503 proposes a sheet in which a layer made of a material which is volume-contracted by an exposure treatment, and the layer is exposed to light to form irregularities on its surface.

그러나, 상기 일본 특허 공개 공보 제1988-301988호, 일본 특허 공개 공보 제2003-187503호 및 네드 보덴(Ned Bowden) 등 저, "네이쳐(Nature)", 제393호, 1998년, p.146 에 기재된 요철 패턴 형성 시트는 모두 광학소자로서 뛰어난 성능을 보이는 것이 아니었다. 구체적으로는, 반사 방지체로서 이용했을 경우에는 반사율을 충분히 낮게 할 수 없고, 또, 위상차판으로서 이용했을 경우에는, 위상차를 충분히 크게 할 수 없으며, 또 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 할 수 없었다. However, in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1988-301988, 2003-187503 and Ned Bowden et al., Nature, 393, 1998, p.146 All the concavo-convex pattern-forming sheets described were not excellent in performance as optical elements. Specifically, when used as an antireflective body, the reflectance cannot be sufficiently low, and when used as a retardation plate, the phase difference cannot be sufficiently increased, and an equivalent phase difference can be generated over a wide wavelength range. There was no.

또, 요철 패턴 형성 시트를 제조하는 방법으로서 패턴 마스크를 사용하는 가시광에 의한 포토리소그라피법이 알려져 있다. 그러나, 이 방법에서는, 광학소자로서 이용할 수 있는 광의 파장 이하의 피치를 가지는 요철 패턴 형성 시트를 제조할 수 없다. 그 때문에, 보다 미세가공이 가능한 자외선 레이저 간섭법이나 전자선리소그라피법을 적용할 필요가 있다. 이들의 방법에서는, 기판 상에 형성된 레지스트층을 자외선 레이저 간섭광이나 전자선에서 노광하여 현상해서 레지스트 패턴층을 형성하고, 이 레지스트 패턴층을 마스크로 이용하여 드라이 에칭법 등에 의해 요철형상을 형성한다. 그러나, 자외선 레이저 간섭법이나 전자선 리소그라피법을 적용한 경우에는, 10cm을 넘는 넓은 영역에서의 가공이 어렵고, 대량생산에 적합하지 않다는 문제가 있었다. Moreover, the photolithographic method by the visible light using a pattern mask is known as a method of manufacturing the uneven | corrugated pattern formation sheet. However, in this method, the uneven pattern forming sheet which has a pitch below the wavelength of light which can be used as an optical element cannot be manufactured. Therefore, it is necessary to apply the ultraviolet laser interference method or electron beam lithography method which can be processed more finely. In these methods, the resist layer formed on the board | substrate is exposed and developed by ultraviolet laser interference light or an electron beam, and a resist pattern layer is formed, and an uneven shape is formed by a dry etching method etc. using this resist pattern layer as a mask. However, when the ultraviolet laser interference method or the electron beam lithography method is applied, processing in a wide area exceeding 10 cm is difficult and there is a problem that it is not suitable for mass production.

또, 일본 특허 공개 공보 제2005-279807호에는, 입자층을 기판상에 배치하여, 입자층을 에칭 마스크로서 기판표면을 드라이 에칭하는 방법이 제안되고 있다. 그러나, 이 경우라도 30cm을 넘는 넓은 영역에서의 가공이 어렵고, 대량생산에 적합하지 않다는 문제가 있었다. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-279807 proposes a method of arranging a particle layer on a substrate and dry etching the substrate surface using the particle layer as an etching mask. However, even in this case, there is a problem that processing in a wide area exceeding 30 cm is difficult and not suitable for mass production.

일본 특허 공개공보 제1998-123307호, 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에 기재의 광확산체는 충분한 광확산성을 갖는 것이다. 그러나, 상기 일본 특허 공개공보 제1998-123307호에 기재된 에너지 빔의 조사에 의한 가공 방법, 상기 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에 기재된 감광성 수지의 필름을 레이저에 의해 노광하여 현상하는 방법은 번잡하다고 하는 문제를 가지고 있었다. 또, 상기 일본 특허 공개공보 제1998-123307호, 일본 특허 공개공보 제2006-261064호의 광확산체는 확산의 이방성이 충분하다고는 할 수 없었다. The light diffusers described in Japanese Patent Laid-Open No. 1998-123307 and Japanese Patent Laid-Open No. 2006-261064 have sufficient light diffusivity. However, the processing method by irradiation of the energy beam of the said Unexamined-Japanese-Patent No. 1998-123307, and the method of exposing and developing the film of the photosensitive resin of the said Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-261064 with a laser are complicated. Had a problem to say. In addition, the light diffusing body of Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-123307 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-261064 did not have sufficient anisotropy of diffusion.

본 발명은, 상기 사정을 비추어 보아서 행해진 것으로서, 광확산체로서 이용할 수 있고, 간편하게 제조할 수 있는 요철 패턴 형성 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 광확산체로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트를 간편하게 제조할 수 있는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 확산의 이방성이 뛰어난 광확산체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 형성된 광확산체를 간편하면서 대량으로 제조할 수 있는 광확산체 제조용 공정 시트 및 광확산체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. This invention is performed in view of the said situation, It aims at providing the uneven | corrugated pattern formation sheet which can be used as a light-diffusion body, and can be manufactured easily. Moreover, it aims at providing the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet which can easily manufacture the uneven | corrugated pattern formation sheet used as a light-diffusion body. Moreover, it aims at providing the light-diffusion body excellent in the anisotropy of diffusion. In addition, the present invention provides a process sheet for producing a light diffuser and a method for producing the light diffuser, which can easily and largely manufacture a light diffuser having a least pitch and average depth uneven pattern equivalent to the uneven pattern forming sheet. For the purpose of

요철에 의해 광의 확산이나 반사를 제어하려고 하는 경우에는, 요철부끼리의 간격이 광의 파장 정도이면, 간섭에 의한 착색이 문제가 되고, 또 그 간격이 수십 ㎛을 넘으면, 휘선 등으로서 시인되는 우려가 있기 때문에, 요철부끼리의 간격을 20㎛ 이하로 하는 것이 요구된다. 그러나, 상기 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재의 광학 시트에서는, 요철부끼리의 간격이 수십 ㎛∼수백 ㎛이라면, 안정적으로 간격이 형성되지만, 20㎛ 이하에서는 희망하는 간격을 얻는 것이 어려웠다. In the case of trying to control the diffusion or reflection of light due to the unevenness, if the distance between the uneven parts is about the wavelength of light, the coloring by interference becomes a problem, and when the distance exceeds several tens of micrometers, there is a fear that it is perceived as a bright line or the like. Therefore, it is required to make the interval between the uneven parts 20 micrometers or less. However, in the optical sheet described in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-157430, if the interval between the uneven parts is several tens of micrometers to several hundred micrometers, the space is stably formed, but it is difficult to obtain the desired interval at 20 micrometers or less. .

또, 광학 시트에 있어서는, 광확산성 등의 광학특성을 균일하게 하지 않고, 소정의 위치에서 높게 또는 낮아지도록 불균일하게 할 수 있다. 예를 들면, 액정 디스플레이의 백라이트 유닛에 사용할 수 있는 도광판에서는, 그 측단면에 배치된 선상광원의 이미지가 도광판 표면에 비추어지는 것을 막는 목적으로, 그 선상광원에 가까운 출광측 표면의 광확산성을 높일 수 있다. 또, 액정 디스플레이 안에서, 복수의 선상광원이나 점상광원을 갖춘 직하형 백라이트 유닛을 이용할 경우에는, 선상광원이나 점상광원끼리의 사이에서 그 바로 위로 가까워짐에 따라서, 광확산성을 높일 수 있다. In the optical sheet, the optical characteristics such as light diffusibility can be made non-uniform and non-uniform so as to be higher or lower at a predetermined position. For example, in the light guide plate which can be used for the backlight unit of a liquid crystal display, the light-diffusion property of the light exiting side surface close to the linear light source is for the purpose of preventing the image of the linear light source arrange | positioned at the side end surface from being reflected on the light guide plate surface. It can increase. In the case of using a direct type backlight unit having a plurality of linear light sources and a point light source in a liquid crystal display, the light diffusibility can be improved as the linear light source and the point light sources come closer to each other.

표면에 요철이 형성된 광학 시트에 있어서 광학특성이 불균일하도록 조정하기 위해서는, 요철부끼리의 간격을 위치에 따라 변화시키는 것을 생각할 수 있으나, 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재된 광학 시트에서는, 요철부끼리의 간격을 20㎛ 이하로 한 뒤, 그 간격을 변화시키는 것은 어려웠다. 따라서, 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재된 광학 시트에서는, 소정의 위치에서 광학특성이 높게 또는 낮아지도록 불균일하게 하는 것이 곤란했다. In order to adjust the optical characteristic of the optical sheet having irregularities formed on the surface to be non-uniform, it is conceivable to change the distance between the uneven portions depending on the position, but in the optical sheet disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-157430 It was difficult to change the space | interval after making the space | interval of a part into 20 micrometers or less. Therefore, in the optical sheet described in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-157430, it was difficult to make the non-uniformity so that the optical characteristic becomes high or low at a predetermined position.

거기에서, 본 발명은 목적하는 광학특성(광 확산성 등)이 뛰어나고, 게다가 광학특성을 용이하게 불균일하게 할 수 있는 광학 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 목적하는 광 확산성에 뛰어나고, 또 광 확산성을 용이하게 불균일하게 할 수 있는 광확산 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. Thereby, an object of the present invention is to provide an optical sheet which is excellent in the desired optical characteristics (light diffusibility, etc.) and which can further easily make the optical characteristics uneven. Moreover, it aims at providing the light-diffusion sheet which is excellent in the target light diffusivity and can easily make a nonuniformity of light diffusivity.

일본 특허 공개공보 제1998-123307호, 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에 기재된 확산 도광체에서는, 광의 확산의 이방성이 불충분하기 때문에, 확산 도광체를 구비하는 백라이트 유닛에서는 광원으로부터의 광을 충분히 이방성 확산시킬 수 없었다. 그 때문에, 확산 도광체로부터의 출사광의 휘도가 장소에 따라 달라지고, 액정표시장치 화상의 휘도에 얼룩이 생기는 일이 있었다. In the diffusion light guides described in JP-A-1998-123307 and JP-A-2006-261064, the anisotropy of light diffusion is insufficient, so that the light from the light source is sufficiently provided in the backlight unit provided with the diffusion light-guide. Anisotropic diffusion could not be achieved. Therefore, the luminance of the emitted light from the diffused light guide varies depending on the place, and unevenness may occur in the luminance of the liquid crystal display image.

본 발명은 광원으로부터의 광을 충분히 이방성 확산시킬 수 있는 확산 도광체 및 백라이트 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a diffusion light guide and a backlight unit capable of sufficiently anisotropically diffusing light from a light source.

본 발명은 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 이용했을 때에 뛰어난 성능을 나타내는 요철 패턴 형성 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 그러한 요철 패턴 형성 시트를 간편하게, 대면적으로, 대량으로 제조할 수 있는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 반사율이 낮은 반사 방지체, 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 하는 위상차판을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 간편하게 대량으로 제조할 수 있는 광학소자제조용 공정 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of this invention is to provide the uneven | corrugated pattern formation sheet which shows the outstanding performance when used as optical elements, such as an antireflective body and a phase difference plate. Moreover, it aims at providing the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet which can manufacture such a uneven | corrugated pattern formation sheet simply and large area in large quantities. It is also an object of the present invention to provide a retardation plate having a low reflectance and a retardation plate having an equivalent phase difference over a wide wavelength range. It is another object of the present invention to provide a process sheet for manufacturing an optical element, which can easily manufacture a large amount of optical elements having the least pitch and the average depth uneven pattern equivalent to the uneven pattern forming sheet.

본 발명은 이하의 실시예들을 포함한다. The present invention includes the following embodiments.

[1] 수지제의 기판과 상기 기판의 한 면에 설치된 수지제의 경질층을 구비하고, 상기 경질층의 표면에 한 방향에 따른 요철 패턴이 형성된 요철 패턴 형성 시트로, 경질층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도(Tg2)와 기판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도(Tg1)와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃ 이상이며, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛ 이상 및 20㎛이하이고, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트. [1] A resin constituting the hard layer, comprising a resin substrate and a hard layer made of a resin provided on one surface of the substrate, the uneven pattern forming sheet having a concavo-convex pattern in one direction formed on the surface of the hard layer. The difference (Tg2-Tg1) between the glass transition temperature (Tg2) and the glass transition temperature (Tg1) of the resin constituting the substrate is 10 ° C or more, and the least pitch of the uneven pattern is 1 µm or more and 20 µm or less. And an average depth of the bottom of the uneven pattern is 10% or more when the least pitch is 100%.

[2] 수지제의 기판의 한 면에, 표면이 평평하고 두께가 0.05㎛을 넘고 5.0㎛이하인 수지제의 경질층을 설치하여 적층 시트를 형성하는 공정과, 적어도 상기 적층 시트의 경질층을 접듯이 변형시키는 공정을 가지며, 경질층을 기판을 구성하는 수지보다 유리 전이 온도가 10℃ 이상 높은 수지로 구성하는 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [2] A method for manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: forming a hard layer made of resin on one surface of a substrate made of resin and having a flat surface and a thickness of more than 0.05 μm and not more than 5.0 μm; Wherein the hard layer is made of a resin having a glass transition temperature higher by 10 占 폚 or higher than that of the resin constituting the substrate.

[3] 수지제의 기판으로 사용되는 일축 방향 가열 수축성 필름을 이용하여, 경질층을 접듯이 변형시키는 공정에서는, 적층 시트를 가열하여 일축 방향 가열 수축성 필름을 수축시키는 [2]에 기재된 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [3] The uneven pattern formation according to [2], wherein the laminated sheet is heated to shrink the uniaxial heat shrinkable film in the step of folding the hard layer using the uniaxial heat shrinkable film used as the resin substrate. Method of manufacturing the sheet.

[4] [1]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하고, 상기 요철 패턴 형성 시트의 기판 및 경질층이 투명한 것을 특징으로 하는 광확산체. [4] A light diffuser comprising the uneven pattern forming sheet according to [1], wherein the substrate and the hard layer of the uneven pattern forming sheet are transparent.

[5] 수지제의 기판과 상기 기판의 한 면에 설치된 경질층을 구비하고, 상기 경질층의 표면에 한 방향에 따른 요철 패턴이 형성된 요철 패턴 형성 시트로, 경질층이 금속 또는 금속화합물로 이루어지고, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘고 20㎛이하이고, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트.[5] An uneven pattern forming sheet having a resin substrate and a hard layer provided on one side of the substrate, wherein the uneven pattern is formed on the surface of the hard layer in one direction. The hard layer is formed of a metal or a metal compound. The lowest pitch of the uneven pattern is more than 1 µm and 20 µm or less, and the average depth of the bottom of the uneven pattern is 10% or more when the least pitch is 100%. Uneven pattern forming sheet.

[6] 경질층이 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 [5]에 기재된 요철 패턴 형성 시트.[6] The uneven pattern forming sheet according to [5], wherein the hard layer is made of metal.

[7] 경질층의 금속은 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 비스무트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것을 특징으로 하는 [5]에 기재된 요철 패턴 형성 시트. [7] The metal of the hard layer is at least selected from the group consisting of gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, palladium, lead, platinum, silicon, tin, titanium, vanadium, zinc and bismuth. It is 1 type of metal, The uneven | corrugated pattern formation sheet as described in [5] characterized by the above-mentioned.

[8] 수지제의 기판의 한 면에, 표면이 평평하고 두께 0.01㎛을 넘고 0.2㎛이하인 금속제 또는 금속화합물제의 경질층을 설치하여 적층 시트를 형성하는 공정과, 적어도 상기 적층 시트의 경질층을 접듯이 변형시키는 공정을 가지며, 경질층을 금속 또는 금속화합물로 구성하는 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트. [8] a step of forming a laminated sheet on one surface of a resin substrate by forming a hard layer of a metal or a metal compound having a flat surface, exceeding 0.01 μm in thickness and 0.2 μm or less, and at least the hard layer of the laminated sheet. The uneven pattern forming sheet which has a process of deforming so as to fold, and comprises a hard layer made of a metal or a metal compound.

[9] 수지제의 기판으로 사용되는 일축 방향 가열 수축성 필름을 이용하여 경질층을 접듯이 변형시키는 공정에서는, 적층 시트를 가열해서 일축 방향 가열 수축성 필름을 수축시키는 것을 특징으로 하는 [8]에 기재된 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [9] The step of deforming the hard layer by folding using a uniaxial heat shrinkable film used as a resin substrate, wherein the laminated sheet is heated to shrink the uniaxial heat shrinkable film. The manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet.

[10] [1], [5], 또는 [8]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하고, 상기 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 표면에 형성된 광확산체를 제조하기 위한 틀로서 이용되는 것을 특징으로 하는 광확산체 제조용 공정 시트 원판.[10] A light diffusion comprising the uneven pattern forming sheet as described in [1], [5], or [8], wherein the uneven pattern having the closest pitch and average depth equivalent to the uneven pattern forming sheet is formed on the surface. A process sheet disc for producing light diffusing body, which is used as a mold for producing a sieve.

[11] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 미경화의 경화성 수지를 도포하는 공정과, 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 갖는 광확산체의 제조 방법. [11] The step of applying the uncured curable resin to the surface on which the uneven pattern of the process sheet disc for producing a light diffusion body according to [10] is formed, and after curing the curable resin, the cured coating film is removed from the process sheet disc. The manufacturing method of the light-diffusion body which has a process of peeling.

[12] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의, 요철 패턴이 형성된 면에, 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 압력을 가하면서 가열하여 연화시킨 후 냉각하는 공정과, 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 광확산체의 제조 방법. [12] The step of bringing the sheet-shaped thermoplastic resin into contact with the surface on which the uneven pattern is formed in the process sheet original for light-diffuser production according to [10], and applying pressure to the process sheet original sheet with the sheet-shaped thermoplastic resin. And a step of cooling after heating and softening, and a step of peeling the cooled sheet-shaped thermoplastic resin from the process sheet disc.

[13] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 요철 패턴 전사용 재료를 적층 하는 공정과, 요철 패턴에 적층 한 요철 패턴 전사용 재료를 상기 공정 시트 원판으로부터 박리하여 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의, 상기 공정 시트 원판의 요철 패턴과 접하고 있던 측면에, 미경화의 경화성 수지를 도포하는 공정과, 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 광확산체의 제조 방법. [13] The step of laminating the concave-convex pattern transfer material on the surface on which the concave-convex pattern of the process sheet original plate for light diffusing body according to [10] is formed, and the concave-convex pattern transfer material laminated on the concave-convex pattern from the process sheet disc The process of peeling and manufacturing the secondary process formation, the process of apply | coating uncured curable resin to the side surface which contacted the uneven | corrugated pattern of the said process sheet original of the formation for said secondary process, and the said curable resin After hardening, it has the process of peeling the hardened coating film with the formation for secondary processes, The manufacturing method of the light-diffusion body characterized by the above-mentioned.

[14] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 요철 패턴 전사용 재료를 적층 하는 공정과, 요철 패턴에 적층한 요철 패턴 전사용 재료를 상기 공정 시트 원판으로부터 박리하여 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 상기 공정 시트 원판의 요철 패턴과 접하고 있던 측면에, 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 압력을 가하면서 가열하여 연화시킨 후 냉각하는 공정과, 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 광확산체의 제조 방법. [14] The step of laminating the concave-convex pattern transfer material on the surface on which the concave-convex pattern of the process sheet original plate for light diffusing body according to [10] is formed, and the concave-convex pattern transfer material laminated to the concave-convex pattern from the process sheet disc A step of peeling off to form a secondary-form forming product, a step of bringing a sheet-shaped thermoplastic resin into contact with the side that is in contact with the uneven pattern of the process sheet disc of the secondary-process forming product, and the sheet-like thermoplastic A light diffuser comprising the steps of: heating and softening the resin while applying pressure to the formation for the secondary process, followed by cooling; and peeling the cooled sheet-shaped thermoplastic resin from the formation for the secondary process. Method of preparation.

[15] 평탄한 한 면 또는 양면에 요철을 갖는 요철영역이 분산하여 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 시트. [15] An optical sheet, wherein irregularities having irregularities on one or both flat surfaces are dispersed and arranged.

[16] 요철영역이 불균일하게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 [15]에 기재된 광학 시트.[16] The optical sheet according to [15], wherein the uneven region is unevenly arranged.

[17] [15]에 기재된 광학 시트를 구비하는 것을 특징으로 하는 광확산 시트. [17] A light diffusion sheet comprising the optical sheet according to [15].

[18] 요철영역내의 요철의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이상 및 20㎛ 이하이고, 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철의 평균 깊이(B)의 비(A/B)가 0.1∼3.0인 것을 특징으로 하는 [17]에 기재된 광확산 시트. [18] The ratio (A / B) of the average depth (B) of concavities and convexities to the most frequent pitch (A) with the most frequent pitch (A) B) of the light diffusing sheet is 0.1 to 3.0.

[19] 요철영역이 도트 형상으로 분산되어 있는 [18]에 기재된 광확산 시트. [19] The light diffusing sheet according to [18], wherein the uneven region is dispersed in a dot shape.

[20] 사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 한 면에 형성된 투명수지층으로 이루어지는 확산 도광체로, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1.0㎛ 이상 및 20㎛이하이고, 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철의 평균 깊이(B)의 비(B/A)이 0.1∼3.0인 것을 특징으로 하는 확산 도광체. [20] A diffusion light guide comprising a transparent resin layer having a meandering wavy concave-convex pattern formed on one surface thereof, wherein the concave-convex pattern has a least pitch of 1.0 µm or more and 20 µm or less. The ratio (B / A) of the average depth B of the unevenness to A) is 0.1 to 3.0, wherein the light guide is characterized in that the.

[21] [20]에 기재된 확산 도광체와, 상기 확산 도광체의 상기 요철 패턴이 형성된 면과 반대측의 면에 대향하여 배치된 반사판과, 상기 확산 도광체 및 상기 반사판의 사이에 배치 된 광원을 구비하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛. [21] A diffuser light guide according to [20], a reflector disposed to face the surface opposite to a surface on which the uneven pattern of the diffuser is formed, and a light source disposed between the diffuser and the reflector. And a backlight unit.

[22] 청구항 20에 기재된 확산 도광체와, 상기 확산 도광체의 상기 요철 패턴이 형성된 면과 반대측의 면에 대향하여 배치된 반사판과, 상기 확산 도광체의 어느 측면에 인접한 광원을 구비하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛. [22] A diffusing light guide according to claim 20, a reflecting plate disposed opposite to a surface opposite to a surface on which the uneven pattern of the diffusing light guide is formed, and a light source adjacent to any side of the diffusing light guide. Backlight unit.

[23] 수지제의 기판과, 상기 기판 외면의 적어도 일부에 설치된 수지제의 경질층을 구비하고, 상기 경질층이 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트로, 경질층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg2와 기판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg1와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃ 이상이고, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이며, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트. [23] An uneven pattern forming sheet having a resin substrate and a resin hard layer provided on at least a portion of the outer surface of the substrate, wherein the hard layer has a wavy concave-convex pattern, wherein the resin constituting the hard layer The difference (Tg2-Tg1) between glass transition temperature Tg2 and glass transition temperature Tg1 of resin which comprises a board | substrate is 10 degreeC or more, the closest pitch of an uneven | corrugated pattern is 1 micrometer or less, and the average depth of the bottom part of an uneven | corrugated pattern The uneven | corrugated pattern formation sheet | seat characterized by the above-mentioned.

[24] 수지제의 기판 외면의 적어도 일부에, 표면이 평평한 수지제의 경질층을 설치하여 적층 시트를 형성하는 공정과, 적어도 상기 적층 시트의 경질층을 사행 변형시키는 공정을 가지며, 경질층을 기판을 구성하는 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 수지로 구성하는 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [24] a hard layer comprising a step of forming a laminated sheet by providing a hard layer of resin having a flat surface on at least a part of an outer surface of the resin substrate, and a step of meandering at least the hard layer of the laminated sheet. The manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet | seat characterized by consisting of resin whose glass transition temperature is 10 degreeC or more higher than resin which comprises a board | substrate.

[25] [23]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하는 것을 특징으로 하는 반사 방지체. [25] An antireflective body comprising the uneven pattern forming sheet according to [23].

[26] [23]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하는 위상차판. [26] A retardation plate provided with the uneven pattern forming sheet described in [23].

[27] [23]에 기재된 요철 패턴 형성 시트의 특징을 갖추고, 상기 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 이용할 수 있는 광학소자제조용 공정 시트. [27] An optical film having the features of the concave-convex pattern forming sheet described in [23], and which can be used as a frame for producing an optical element having the least pitch and average depth concave-convex pattern equivalent to the concave-convex pattern forming sheet. Process sheet for device manufacturing.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 광확산체로서 이용할 수 있고, 간편하게 제조될 수 있다. The uneven pattern forming sheet of the present invention can be used as a light diffuser and can be produced simply.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 의하면, 광확산체로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트를 간편하게 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention, the uneven | corrugated pattern formation sheet used as a light-diffusion body can be manufactured simply.

본 발명의 광확산체는 확산의 이방성이 우수하다. The light diffuser of the present invention is excellent in anisotropy of diffusion.

본 발명의 광확산체 제조용 공정 시트 및 광확산체의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 형성된 광확산체를 간편하게 대량으로 제조할 수 있다. According to the process sheet for producing a light diffuser of the present invention and the method for producing the light diffuser, the light diffuser in which the uneven pattern having the closest pitch and the average depth equivalent to the uneven pattern forming sheet can be easily produced in large quantities. .

본 발명의 광학 시트는 광학특성이 뛰어나고, 광학특성을 용이하게 불균일하게 할 수 있다. The optical sheet of this invention is excellent in an optical characteristic, and can make a nonuniform easily an optical characteristic.

본 발명의 광확산 시트는 광확산성이 뛰어나고, 광확산성을 용이하게 불균일하게 할 수 있다. The light-diffusion sheet of this invention is excellent in light-diffusion property, and can make non-uniformity of light-diffusion easily.

본 발명의 확산 도광체 및 백라이트 유닛에 의하면, 광원으로부터의 광을 충분히 이방성 확산시킬 수 있다. According to the diffusion light guide and the backlight unit of the present invention, the light from the light source can be sufficiently anisotropically diffused.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 적합하게 이용될 수 있다. 또, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 사용되는 광학소자 제조용 공정 시트로서도 적합하게 이용될 수 있다. The uneven pattern forming sheet of the present invention can be suitably used as an optical element such as an antireflective body or a retardation plate. Moreover, the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention can be used suitably also as a process sheet for optical element manufacture used as a frame for manufacturing the optical element which has a wavy uneven | corrugated pattern.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 표면에 미세한 요철 패턴을 용이하게 대면적으로 형성할 수 있기 때문에, 광학 소자 등에 적합하게 이용될 수 있는 요철 패턴 형성 시트를 간편하면서도 대량으로 제조할 수 있다. In the manufacturing method of the concave-convex pattern forming sheet of the present invention, since the minute concave-convex pattern can be easily formed in a large area on the surface, the concave-convex pattern forming sheet which can be suitably used for an optical element or the like can be produced easily and in large quantities. have.

본 발명의 반사 방지체는 반사율이 낮고, 성능이 우수하다. The antireflective body of the present invention is low in reflectance and excellent in performance.

본 발명의 위상차판은 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 할 수 있어 성능이 뛰어나다. The retarder of the present invention can produce an equivalent retardation over a wide wavelength range, and is excellent in performance.

본 발명의 광학소자제조용 공정 시트를 이용할 경우, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 간편하면서 대량으로 제조할 수 있다. When the process sheet for manufacturing an optical element of the present invention is used, an optical element having an uneven pattern having the closest pitch and average depth equivalent to that of the uneven pattern forming sheet can be produced simply and in large quantities.

도 1은 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 일실시 형태의 일부를 확대해서 나타낸 확대 사시도이다.
도 2는 도 1의 요철 패턴 형성 시트를, 요철 패턴의 형성 방향과 직교 방향으로 절단했을 때의 단면도이다.
도 3은 요철 패턴의 표면을 표면 광학 현미경에 의해 촬영해서 얻은 화상의, 그레이 스케일 변환 화상이다.
도 4는 도 3의 화상을 푸리에 변환한 화상이다.
도 5는 도 4의 화상에서의 원의 중심으로부터의 거리에 대한 휘도를 플롯한 그래프이다.
도 6은 도 4의 화상에 있어서의 보조선 L3상의 휘도를 플롯한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법의 일실시 형태에 있어서의 적층 시트를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 요철 패턴 형성 시트를 이용한 광확산체의 제조 방법의 일례를 설명하는 도이다.
도 9는 비교예 4에 있어서의 요철 패턴의 표면을 표면 광학 현미경에 의해 촬영해서 얻은 화상의, 그레이 스케일 변환 화상이다.
도 10은 도 9의 화상을 푸리에 변환한 화상이다.
도 11은 도 10의 화상에 있어서의 원 중심으로부터의 거리에 대한 휘도를 플롯한 그래프다.
도 12는 도 10의 화상에 있어서의 보조선 L5상의 휘도를 플롯한 그래프이다.
도 13은 본 발명의 광학 시트의 제1 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 14는 도 13에 나타낸 광학 시트를 제조할 때에 사용하는 인쇄 시트를 나타내는 단면도이다.
도 15는 인쇄 시트의 표면의 투과형 전자 현미경 사진상(像)이다.
도 16은 광학 시트의 표면의 투과형 전자 현미경 사진상이다.
도 17은 본 발명의 광학 시트의 제2 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 18은 본 발명의 광학 시트의 제3 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 19는 본 발명의 광학 시트의 제4 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 20은 본 발명의 확산 도광체의 다른 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 21은 본 발명의 백라이트 유닛의 제1 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 22는 발명의 백라이트 유닛의 제2 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 23는 발명의 요철 패턴 형성 시트의 일실시 형태의 일부를 확대해서 나타낸 확대 사시도이다.
도 24 특정 방향에 따르지 않는 요철 패턴의 표면을 원자간력 현미경에 의해 촬영해서 얻은 화상의, 그레이 스케일 변환 화상이다.
도 25는 도 24의 화상을 푸리에 변환한 화상이다.
도 26는 도 25의 화상에 있어서의 원의 중심으로부터의 거리에 대한 휘도를 플롯한 그래프이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is an expanded perspective view which expands and shows a part of one Embodiment of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention.
It is sectional drawing when the uneven | corrugated pattern formation sheet of FIG. 1 was cut | disconnected in the direction orthogonal to the formation direction of the uneven | corrugated pattern.
3 is a gray scale converted image of an image obtained by photographing the surface of the uneven pattern with a surface optical microscope.
FIG. 4 is an image obtained by Fourier transforming the image of FIG. 3.
FIG. 5 is a graph plotting luminance versus distance from the center of a circle in the image of FIG. 4.
FIG. 6 is a graph plotting the luminance on the auxiliary line L3 in the image of FIG. 4.
It is sectional drawing which shows the laminated sheet in one Embodiment of the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention.
It is a figure explaining an example of the manufacturing method of the light-diffusion body using the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention.
9 is a gray scale converted image of an image obtained by photographing the surface of the uneven pattern in Comparative Example 4 with a surface optical microscope.
FIG. 10 is an image obtained by Fourier transforming the image of FIG. 9.
FIG. 11 is a graph plotting the luminance with respect to the distance from the circle center in the image of FIG. 10.
FIG. 12 is a graph plotting the luminance on the auxiliary line L5 in the image of FIG. 10.
It is a perspective view which shows 1st Embodiment of the optical sheet of this invention.
It is sectional drawing which shows the printing sheet used when manufacturing the optical sheet shown in FIG.
Fig. 15 is a transmission electron micrograph image of the surface of a printing sheet.
16 is a transmission electron micrograph image of the surface of an optical sheet.
It is a perspective view which shows 2nd Embodiment of the optical sheet of this invention.
It is a perspective view which shows 3rd embodiment of the optical sheet of this invention.
It is a perspective view which shows 4th embodiment of the optical sheet of this invention.
20 is a cross-sectional view showing another embodiment of the diffusion light guide of the present invention.
21 is a cross-sectional view showing the first embodiment of the backlight unit of the present invention.
It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the backlight unit of this invention.
It is an enlarged perspective view which expands and shows a part of one Embodiment of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention.
It is a gray scale conversion image of the image obtained by image | photographing the surface of the uneven | corrugated pattern which does not follow a specific direction by an atomic force microscope.
FIG. 25 is an image obtained by Fourier transforming the image of FIG. 24.
FIG. 26 is a graph plotting luminance versus distance from the center of a circle in the image of FIG. 25.

1. 요철 패턴 형성 시트 1. Uneven pattern forming sheet

(요철 패턴 형성 시트-1)(Uneven Pattern Forming Sheet-1)

본 발명에 따른 요철 패턴 형성 시트의 일실시예에 대해서 설명한다. An embodiment of the uneven pattern forming sheet according to the present invention will be described.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 요철 패턴 형성 시트를 나타낸다. 본 실시예에 따른 요철 패턴 형성 시트(10)는 기판(11), 기판(11)의 일면에 형성된 경질층(12)을 구비하고, 경질층(12)은 요철 패턴(12a)을 구비한다. 1 and 2 show the uneven pattern forming sheet according to an embodiment of the present invention. The uneven pattern forming sheet 10 according to the present exemplary embodiment includes a substrate 11 and a hard layer 12 formed on one surface of the substrate 11, and the hard layer 12 includes the uneven pattern 12a.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)은 대략 한 방향에 따른 물결 형상의 요철을 구비하고, 그 물결 형상의 요철이 사행하고 있다. 또, 본 실시예에 따른 요철 패턴(12a)의 상부 선단은 둥근 모양을 하고 있다. The uneven | corrugated pattern 12a of the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 is provided with the wavy unevenness | corrugation along approximately one direction, and the wavy uneven | corrugation is meandering. Moreover, the upper end of the uneven | corrugated pattern 12a which concerns on a present Example has a round shape.

경질층(12)을 구성하는 수지(이하, '제2 수지'라고 함)의 유리 전이 온도(Tg2)와 기판(11)을 구성하는 수지(이하, '제1 수지'라고 함)의 유리 전이 온도(Tg1)과의 온도차(Tg2-Tg1)는 10℃이상이다. 특히, 상기 온도차는 바람직하게는 20℃이상이고, 더욱 바람직하게는 30℃이상이다. 상기 온도차(Tg2-Tg1)가 10℃이상임에 따라, Tg2과 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)의 사이의 온도로 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 가공할 수 있다. Tg2와 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1) 사이의 온도로 요철 패턴 형성 시트(10)를 가공하면, 기판(11)의 탄성계수가 경질층(12)의 탄성계수보다 높은 조건에서 가공할 수 있고, 그 결과, 경질층(12)에 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있다. Glass transition temperature (Tg2) of the resin constituting the hard layer 12 (hereinafter referred to as 'second resin') and glass transition of the resin constituting the substrate 11 (hereinafter referred to as 'first resin') The temperature difference Tg2-Tg1 with the temperature Tg1 is 10 degreeC or more. In particular, the said temperature difference becomes like this. Preferably it is 20 degreeC or more, More preferably, it is 30 degreeC or more. As the said temperature difference (Tg2-Tg1) is 10 degreeC or more, the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 can be easily processed at the temperature between Tg2 and the glass transition temperature Tg1 of a 1st resin. When the uneven pattern forming sheet 10 is processed at a temperature between Tg2 and the glass transition temperature Tg1 of the first resin, the elastic modulus of the substrate 11 can be processed under a condition higher than the elastic modulus of the hard layer 12. As a result, the uneven pattern 12a can be easily formed in the hard layer 12.

또, 제2 수지로 유리 전이 온도가 400℃를 넘는 수지를 사용하는 것은 경제적인 측면에서 바람직하지 않고, 유리 전이 온도가 -150℃보다 낮은 수지는 존재하지 않으므로, 제1 및 제2 수지의 유리 전이 온도차(Tg2-Tg1)는 550℃이하인 것이 바람직하고, 특히, 200℃이하인 것이 보다 바람직하다. In addition, it is not economically preferable to use resin whose glass transition temperature exceeds 400 degreeC as 2nd resin, and since the resin whose glass transition temperature is lower than -150 degreeC does not exist, it is the glass of 1st and 2nd resin. It is preferable that transition temperature difference (Tg2-Tg1) is 550 degrees C or less, and it is more preferable that it is especially 200 degrees C or less.

요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도에 있어서, 기판(11)과 경질층(12)의 탄성 계수의 차는 요철 패턴(12a)를 용이하게 형성할 수 있도록 0.01∼300GPa인 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa인 것이 보다 바람직하다. At the processing temperature at the time of manufacturing the uneven pattern forming sheet 10, it is preferable that the difference in the elastic modulus of the substrate 11 and the hard layer 12 is 0.01 to 300 GPa so that the uneven pattern 12a can be easily formed. In particular, it is more preferable that it is 0.1-10 GPa.

여기에서 말하는 가공 온도는, 예를 들면, 후술하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 있어서의 열수축시의 가열 온도이다. 그리고, 탄성계수는 JIS K 7113-1995에 준거해서 측정한 값이다. The processing temperature here is a heating temperature at the time of heat shrink in the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet mentioned later, for example. The elastic modulus is a value measured based on JIS K 7113-1995.

제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)는 -150∼300℃인 것이 바람직하고, 특히, -120∼200℃인 것이 보다 바람직하다. 유리 전이 온도가 -150℃보다 낮은 수지는 존재하지 않고, 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)가 300℃이하라면, 요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도(Tg2와 Tg1의 사이의 온도)로 용이하게 적용될 수 있기 때문이다. It is preferable that it is -150-300 degreeC, and, as for the glass transition temperature (Tg1) of 1st resin, it is more preferable that it is especially -120-200 degreeC. If a resin having a glass transition temperature of less than -150 ° C is not present and the glass transition temperature (Tg1) of the first resin is 300 ° C or less, the processing temperatures (Tg2 and Tg1) at the time of manufacturing the uneven pattern forming sheet 10 This is because it can be easily applied (temperature between).

요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도에 있어서, 제1 수지의 영율(Young's modulus)은 0.01∼100MPa인 것이 바람직하고, 0.1∼10MPa인 것이 보다 바람직하다. 제1 수지의 영율(Young's modulus)이 0.01MPa이상이라면, 기판(11)으로서 사용 가능한 굳기이며, 100MPa이하라면, 경질층(12)이 변형할 때에 경질층(12)과 함께 변형 가능한 무르기이다. At the processing temperature at the time of manufacturing the uneven pattern forming sheet 10, the Young's modulus of the first resin is preferably 0.01 to 100 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa. If the Young's modulus of the first resin is 0.01 MPa or more, the hardness can be used as the substrate 11, and if it is 100 MPa or less, it is a softness that can be deformed together with the hard layer 12 when the hard layer 12 deforms.

제1 수지로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체 등의 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌 염화 비닐, 폴리에틸렌 염화 비닐리덴, 폴리디메틸실록산 등의 실리콘 수지, 불소 수지, ABS수지, 폴리아미드, 아크릴수지, 폴리카보네이트, 폴리시클로올레핀 등의 수지가 사용될 수 있다. As the first resin, for example, polyester such as polyethylene terephthalate, polyolefin such as polyethylene or polypropylene, polystyrene resin such as styrene-butadiene block copolymer, polyethylene vinyl chloride, polyethylene vinylidene chloride, polydimethylsiloxane, etc. Resins such as silicone resins, fluororesins, ABS resins, polyamides, acrylic resins, polycarbonates, and polycycloolefins can be used.

제2 수지의 유리 전이 온도(Tg2)는 40∼400℃인 것이 바람직하고, 80∼250℃인 것이 보다 바람직하다. 제2 수지의 유리 전이 온도(Tg2)가 40℃이상이면, 요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도를 실온 또는 그 이상으로 할 수 있어서 유용하고, 유리 전이 온도(Tg2)가 400℃를 넘는 수지를 제2 수지로서 사용하는 것은 경제적인 측면에서 불필요하기 때문이다. It is preferable that it is 40-400 degreeC, and, as for the glass transition temperature (Tg2) of 2nd resin, it is more preferable that it is 80-250 degreeC. If the glass transition temperature (Tg2) of 2nd resin is 40 degreeC or more, the processing temperature at the time of manufacturing the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 can be made into room temperature or more, and it is useful, and glass transition temperature (Tg2) is 400 It is because it is unnecessary in terms of economics to use resin exceeding ° C as the second resin.

요철 패턴 형성 시트(10)를 제조할 때의 가공 온도에 있어서, 제2 수지의 영율(Young's modulus)은 0.01∼300GPa인 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa인 것이 보다 바람직하다. 제2의 수지의 영율(Young's modulus)이 0.01GPa이상이라면, 제1 수지의 가공 온도에 있어서도 충분한 굳기를 얻을 수 있고, 요철 패턴(12a)가 형성된 후 요철 패턴을 유지하는데도 충분한 굳기이며, 영율(Young's modulus)이 300GPa를 넘는 수지를 제2 수지로서 사용하는 것은 경제적인 측면에서 바람직하지 않기 때문이다. At the processing temperature at the time of manufacturing the uneven pattern forming sheet 10, the Young's modulus of the second resin is preferably 0.01 to 300 GPa, and more preferably 0.1 to 10 GPa. If the Young's modulus of the second resin is 0.01 GPa or more, sufficient hardness can be obtained even at the processing temperature of the first resin, and the hardness is sufficient to maintain the uneven pattern after the uneven pattern 12a is formed. It is because it is not economically desirable for Young's modulus) to use a resin exceeding 300 GPa as the second resin.

제1 수지의 종류에 따라 다르지만, 제2 수지로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜, 폴리스티렌, 아크릴수지, 스티렌-아크릴 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르설폰, 불소 수지 등을 사용될 수 있다. 이들 중에서도, 방오 기능을 겸비한 점에서, 불소 수지가 바람직하다. Although it depends on the kind of 1st resin, As a 2nd resin, polyvinyl alcohol, a polystyrene, an acrylic resin, a styrene-acryl copolymer, a styrene- acrylonitrile copolymer, a polyethylene terephthalate, a polybutylene terephthalate, for example. Polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethersulfone, fluororesin and the like can be used. Among these, a fluororesin is preferable at the point which has antifouling function.

기판(11)의 두께는 0.3∼500㎛인 것이 바람직하다. 기판(11)의 두께가 0.3㎛이상이라면, 요철 패턴 형성 시트(10)가 쉽게 깨지지 않을 것이고, 500㎛이하라면, 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 박형화할 수 있기 때문이다. It is preferable that the thickness of the board | substrate 11 is 0.3-500 micrometers. This is because if the thickness of the substrate 11 is 0.3 µm or more, the uneven pattern forming sheet 10 will not be easily broken. If the thickness of the substrate 11 is less than 500 µm, the uneven pattern forming sheet 10 can be easily thinned.

또, 기판(11)을 지지하기 위해서, 두께 5∼500㎛의 수지제의 지지체를 마련할 수 있다. 또, 광확산체로서 이용할 경우에는, 광확산성을 보다 높게 하기 위해서, 미세거품을 함유시킨 필름을 기판(11)에 점착해도 무방하다. Moreover, in order to support the board | substrate 11, the support body made from resin of 5-500 micrometers in thickness can be provided. Moreover, when using as a light-diffusion body, in order to make light diffusivity higher, you may stick the film which contained the microbubble to the board | substrate 11.

요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체로서 사용하는 경우, 기판(11)에는 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 무기화합물로 이루어지는 광확산제 및/또는 유기 화합물로 이루어지는 유기 광확산제를 함유시킬 수 있다. When the uneven pattern forming sheet 10 is used as a light diffusing body, the substrate 11 is made of an inorganic compound within a range that does not significantly impair optical characteristics such as light transmittance, for the purpose of further improving the light diffusing effect. The light diffusing agent and / or the organic light diffusing agent which consists of organic compounds can be contained.

무기 광확산제로서는 실리카, 화이트 카본, 탈크, 산화 마그네슘, 산화 아연, 산화 티타늄, 탄산 칼슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 유리, 마이카 등이 사용될 수 있다. As the inorganic light diffusing agent, silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, glass, mica and the like can be used.

유기 광확산제로서는 스티렌계 중합체 입자, 아크릴계 중합체 입자, 실록산계 중합체 입자 등이 사용될 수 있다. As the organic light diffusing agent, styrene polymer particles, acrylic polymer particles, siloxane polymer particles and the like can be used.

이들의 광확산제는 각각 단독으로 또는, 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. These light diffusing agents can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

광확산제의 함유량은, 광투과성을 손상하지 않기 위해, 제1 수지 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하다. It is preferable that content of a light-diffusion agent is 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of 1st resins, in order not to impair light transmittance.

또, 요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체로서 사용할 경우, 기판(11)에는 보다 확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 미세거품을 함유시킬 수 있다. 미세거품은 광의 흡수가 적어 광투과율을 저하시키지 않는다. In addition, when the uneven pattern forming sheet 10 is used as the light diffuser, the substrate 11 contains fine bubbles within a range that does not significantly impair optical characteristics such as light transmittance, for the purpose of further improving the diffusion effect. You can. The microbubbles do not absorb light and do not lower the light transmittance.

미세거품의 형성 방법으로서는, 기판(11)에 발포제를 혼입하는 방법(예를 들면, 일본 특허 공개공보 1993-212811호, 일본 특허 공개공보 1994-107842호에 공개된 방법)이나, 아크릴계 발포 수지를 발포 처리시켜 미세거품을 함유하게 하는 방법(예를 들면, 일본 특허 공개공보 2004-2812호에 공개된 방법)등이 사용될 수 있다. 또한, 미세거품은 보다 균일한 면(面)조사가 가능하다는 점에서 특정한 위치에 불균일하게 발포시키는 방법(예를 들면, 일본 특허 공개공보 2006-124499호에 공개된 방법)이 바람직하다. As a method for forming a microbubble, a method of incorporating a blowing agent into the substrate 11 (for example, a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 1993-212811 and Japanese Patent Laid-Open No. 1994-107842), or an acrylic foamed resin The method of foaming and containing a microbubble (for example, the method disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-2812) etc. can be used. In addition, a method for uniformly foaming at a specific position (for example, the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2006-124499) is preferable because the fine foam can be uniformly irradiated.

또한, 상기 광확산제와 미세발포를 병용할 수도 있다. In addition, the light diffusing agent and fine foaming may be used in combination.

경질층(12)의 두께는 0.05㎛ 이상이고, 5㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼2㎛인 것이 보다 바람직하다. 경질층의 두께가 0.05㎛ 이상이고 5㎛ 이하라면, 후술하는 바와 같이 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 제조할 수 있다. The thickness of the hard layer 12 is 0.05 micrometer or more, and it is preferable that it is 5 micrometers or less, and it is more preferable that it is 0.1-2 micrometers especially. If the thickness of the hard layer is 0.05 µm or more and 5 µm or less, the uneven pattern forming sheet 10 can be easily manufactured as described later.

또, 기판(11)과 경질층(12)의 사이에는 밀착성의 향상이나 보다 미세한 구조를 형성하기 위하여 프라이머층을 형성할 수 있다. Moreover, a primer layer can be formed between the board | substrate 11 and the hard layer 12 in order to improve adhesiveness and to form a finer structure.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛~20㎛, 바람직하게는 1㎛~10㎛다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛미만이면, 광이 투과해버리고, 20㎛을 넘으면, 광확산성이 낮아진다. The closest pitch A of the uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10 is 1 µm to 20 µm, preferably 1 µm to 10 µm. If the closest pitch A is less than 1 µm, light transmits, and if it exceeds 20 µm, light diffusivity is lowered.

요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)는, 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 10%이상 (즉, 어스펙트비 0.1이상)이며, 특히, 30%이상 (즉, 어스펙트비 0.3이상)인 것이 바람직하다. 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)10%미만이면, 요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체 제조용 공정 시트 원판으로서 이용할 경우, 광확산성이 높은 광확산체를 얻는 것이 어려워진다. The average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a is 10% or more (that is, the aspect ratio 0.1 or more), when the least pitch A is 100%. , 30% or more (ie, aspect ratio 0.3 or more). If the average depth B is less than 10% when the least pitch A is 100%, the uneven pattern forming sheet 10 is a process sheet for producing a light diffuser. When used as an original, it becomes difficult to obtain a light diffuser having high light diffusivity.

또, 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 평균 깊이(B)는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성하기 위하여 최빈(最頻) 피치(A)300%이하 (즉, 어스펙트비 3.0이하)인 것이 바람직하고, 200%이하(즉, 어스펙트비 2.0이하)인 것이 보다 바람직하다. Also, when the least pitch A is 100%, the average depth B is less than or equal to 300% of the least pitch A in order to easily form the uneven pattern 12a. It is preferable that it is aspect ratio 3.0 or less, and it is more preferable that it is 200% or less (namely, aspect ratio 2.0 or less).

여기에서, 바닥부(12b)는 요철 패턴(12a)의 요부이며, 평균 깊이(B)는, 요철 패턴 형성 시트(10)를 길이 방향에 따라 절단한 단면(도 2 참조)을 보았을 때의, 요철 패턴 형성 시트(10)전체의 면방향과 평행한 기준선(L1)으로부터 각 돌부의 정부(頂部)까지의 길이(B1, B2, B3...)의 평균치(BAV)와, 기준선(L1)으로부터 각 요부의 바닥부까지의 길이(b1, b2, b3...)의 평균치(bAV)의 차(bAV-BAV)이다. Here, the bottom part 12b is a recessed part of the uneven | corrugated pattern 12a, and the average depth B is when the cross section (refer FIG. 2) which cut | disconnected the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 along the longitudinal direction, Average value (BAV) of the lengths B1, B2, B3 ... from the reference line L1 parallel to the surface direction of the entire uneven pattern forming sheet 10 to the top of each projection, and the reference line L1. Is the difference (bAV-BAV) of the average value bAV of the lengths b1, b2, b3... From the bottom to the bottom of each recess.

상기 돌부의 정부(頂部) 및 상기 요부의 바닥부는, 경질층(12)에 있어서의 기판(11)측과 반대측의 면에 접한다. The top part of the said protrusion part and the bottom part of the said recessed part contact the surface on the opposite side to the board | substrate 11 side in the hard layer 12. As shown in FIG.

평균 깊이(B)를 측정하는 방법으로서는, 원자력 현미경에 의해 촬영한 요철 패턴의 단면의 화상에서 각 바닥부의 깊이를 측정하고, 그것들의 평균치를 구하는 방법 등이 사용될 수 있다.As a method of measuring the average depth B, the method of measuring the depth of each bottom part in the image of the cross section of the uneven | corrugated pattern image | photographed with the atomic force microscope, and calculating | requiring those average values can be used.

광확산의 이방성이 높은 광확산체를 얻기 위하여, 요철 패턴(12a)은 어느 정도 사행하고, 이웃한 돌부끼리의 피치가 요철 패턴(12a)의 방향에 따라 흩어져 있는 것이 바람직하다. 여기서, 요철 패턴(12a)의 배향 편차를 '배향도'라고 한다. 배향도가 클수록, 배향이 흩어져 있다. 이 배향도는 이하의 방법으로 구해진다. In order to obtain a light diffuser having high anisotropy of light diffusion, it is preferable that the uneven pattern 12a meanders to some extent, and that pitches of adjacent protrusions are scattered along the direction of the uneven pattern 12a. Here, the orientation deviation of the uneven pattern 12a is referred to as 'orientation degree'. The larger the degree of orientation, the more scattered the orientation. This degree of orientation is obtained by the following method.

우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일 (예를 들면, tiff형식 등)로 변환한다. 그레이·스케일의 파일 화상(도 3 참조)에서, 백도(白度)가 낮은 곳일수록 요부의 바닥부가 깊다(백도가 높을 곳일수록, 돌부의 정부가 높다)는 것을 나타낸다. 다음으로, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환한다. 도 4는 푸리에 변환 후의 화상을 나타낸다. 도 4의 화상의 중심에서 양측으로 퍼지는 백색부분은 요철 패턴(12a)의 피치 및 방향 정보를 포함한다. First, the surface of the uneven pattern is photographed by a surface optical microscope, and the image is converted into a grayscale file (for example, tiff format). In the gray-scale file image (refer to FIG. 3), the lower the whiteness, the deeper the bottom part of the recess (the higher the whiteness, the higher the projection of the protrusion). Next, the grayscale file image is Fourier transformed. 4 shows an image after Fourier transform. The white portions that spread from the center of the image of FIG. 4 to both sides include pitch and direction information of the uneven pattern 12a.

이어서, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선 'L2'을 긋고, 그 보조선 상의 휘도를 플롯(도 5 참조)한다. 도 5에 도시된 플롯의 가로축은 피치의 역수를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타내며, 빈도가 최대가 되는 값 'X'의 역수 '1/X'가 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치를 나타낸다. Subsequently, the auxiliary line 'L2' is drawn in the horizontal direction from the center of the image of FIG. 4, and the luminance on the auxiliary line is plotted (see FIG. 5). The horizontal axis of the plot shown in FIG. 5 represents the inverse of the pitch, the vertical axis represents the frequency, and the inverse '1 / X' of the value 'X' where the frequency is maximum is the least pitch of the uneven pattern 12a. Indicates.

이어서, 도 4에 있어서, 값 'X'에서 보조 선'L2'과 직교하는 보조 선 'L3'을 긋고, 그 보조 선 'L3'상의 휘도를 플롯(도 6 참조)한다. 단, 도 6의 가로축은, 각종의 요철구조와의 비교를 가능하게 하기 위해서, X의 값으로 나눈 수치를 사용한다. 도 6의 가로축은, 요철의 형성 방향(도 3에 있어서의 상하 방향)에 대한 경사의 정도를 나타내는 지표(배향성)를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타낸다. 도 6의 플롯에 있어서의 피크의 반값폭(W1)(빈도가 최대치의 반이 되는 높이에서의 피크의 폭)이 요철 패턴의 배향도를 나타낸다. 반값폭(W1)이 클수록, 사행하여 피치가 흩어져 있는 것을 나타낸다. Next, in Fig. 4, the auxiliary line 'L3' perpendicular to the auxiliary line 'L2' is drawn at the value 'X', and the luminance on the auxiliary line 'L3' is plotted (see Fig. 6). However, the horizontal axis | shaft of FIG. 6 uses the numerical value divided by the value of X in order to enable comparison with various uneven | corrugated structures. 6 represents the index (orientation) which shows the degree of inclination with respect to the uneven | corrugated formation direction (up-down direction in FIG. 3), and a vertical axis | shaft shows frequency. The half value width W1 of the peak in the plot of FIG. 6 (the width of the peak at the height where the frequency is half of the maximum value) indicates the degree of orientation of the uneven pattern. The larger the half value width W1 is, the more meandering the pitch is.

상기 배향도는 0.3∼1.0인 것이 바람직하다. 배향도가 0.3∼1.0이라면, 요철 패턴(12a)의 피치 편차가 크기 때문에, 상기 요철 패턴 형성 시트 및 상기 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용해서 얻은 광확산체의 광확산성이 보다 높아진다. 배향도가 1.0을 넘으면, 요철 패턴의 방향이 어느 정도 랜덤이 되기 때문에, 광확산성은 높아지지만, 이방성이 낮아지는 경향이 있다. It is preferable that the said orientation degree is 0.3-1.0. If the degree of orientation is 0.3 to 1.0, the pitch variation of the uneven pattern 12a is large, so that the light diffusivity of the light diffuser obtained by using the uneven pattern forming sheet and the uneven pattern forming sheet as a process sheet original is higher. If the degree of orientation exceeds 1.0, the direction of the uneven pattern becomes random to some extent, so that the light diffusivity is high, but the anisotropy tends to be low.

배향도를 0.3∼1.0로 하기 위해서는, 요철 패턴 형성 시트 제조시에 필요한 압축 응력의 작용방법을 적절히 선택하면 좋다. What is necessary is just to select suitably the method of operation of the compressive stress required at the time of manufacture of an uneven | corrugated pattern formation sheet, in order to make orientation degree 0.3-1.0.

경질층(12)을 구성하는 제2 수지의 유리 전이 온도(Tg2)와, 기판(11)을 구성하는 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃이상인 본 발명의 요철 패턴 형성 시트(10)는 후술하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 의해 얻을 수 있으므로, 간편하게 제조할 수 있다. The difference (Tg2-Tg1) between the glass transition temperature (Tg2) of the 2nd resin which comprises the hard layer 12, and the glass transition temperature (Tg1) of the 1st resin which comprises the board | substrate 11 is 10 degreeC or more. Since the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 of can be obtained by the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet mentioned later, it can manufacture easily.

또, 본 발명자가 조사한 결과, 기판(11) 및 경질층(12)이 함께 투명한 경우에는, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛이고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 상기 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상이므로, 본 발명에 따른 요철 패턴 형성 시트(10)는 충분한 광확산성을 가지고, 그 결과, 광확산체로서 이용될 수 있다. In addition, as a result of the inventor's investigation, when the substrate 11 and the hard layer 12 are transparent together, the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a is 1 µm to 20 µm, and the uneven pattern ( Since the average depth B of the bottom part 12b of 12a) is 10% or more when the least pitch A is made into 100%, the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 which concerns on this invention is sufficient. With light diffusivity, it can be used as a light diffuser as a result.

또한, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 상술한 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 요철 패턴의 돌부의 선단이 뾰족해도 무방하다. 그러나, 요철 패턴의 돌부의 형상은 확산의 이방성을 높이기 위하여 선단이 둥근 것이 바람직하다. In addition, the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention is not limited to embodiment mentioned above. For example, the tip of the protrusion of the uneven pattern of the uneven pattern forming sheet of the present invention may be sharp. However, it is preferable that the shape of the protrusions of the uneven pattern is rounded at the tip to increase the anisotropy of diffusion.

(요철 패턴 형성 시트-2)(Uneven pattern formation sheet-2)

또한, 본 발명자가 조사한 결과, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하, 특히 0.04㎛이하로 하는 경우, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)는 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상, 특히 100%이상일 때, 광학소자로서 뛰어난 성능을 발휘하는 것이 판명되었다. 구체적으로는, 요철 패턴 형성 시트(10)를 반사 방지체로서 이용한 경우에는 반사율을 낮게 할 수 있고, 또, 위상차판으로서 이용한 경우에는 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 할 수 있는 것이 판명되었다. Further, as a result of the inventor's investigation, the average depth of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a when the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a is 1 탆 or less, particularly 0.04 탆 or less. (B) was found to exhibit excellent performance as an optical element when 10% or more, especially 100% or more, when the least pitch A was 100%. Specifically, it has been found that when the uneven pattern forming sheet 10 is used as an antireflective body, the reflectance can be lowered, and when used as a phase difference plate, an equivalent phase difference can be generated over a wide wavelength range.

이는, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하로 짧고, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상인 것에 기인한다. 즉, 최빈(最頻) 피치(A)가 짧아서 가시광의 파장과 동등하거나 또는 그 이하가 되는 경우, 가시광이 요철에 의해 회절이나 산란이 생기기 어려워진다. 게다가, 평균 깊이(B)가 깊음에 따라, 중간 굴절률이 연속적으로 변화되는 부분이 두께 방향으로 길게 형성되기 때문에, 광의 반사를 억제하는 효과를 현저하게 발휘할 수 있다. 또, 최빈(最頻) 피치(A)가 짧고, 평균 깊이(B)가 깊음에 따라, 굴절률이 서로 다른 공기와 요철 패턴 형성 시트가 교호로 배치되는 부분이 두께 방향으로 길어지고, 광학 이방성을 나타내는 부분이 길어지기 때문에, 위상차를 생기게 할 수 있다. 또한, 이러한 요철 패턴(12a)에 의해 생기는 위상차는 넓은 파장영역에 걸쳐 거의 동등해진다. This is because the least pitch A of the uneven pattern 12a is shorter than 1 µm, and the average depth B is 10% or more when the least pitch A is 100%. Is caused. That is, when the closest pitch A is short and becomes equal to or less than the wavelength of visible light, visible light hardly causes diffraction or scattering due to irregularities. In addition, as the average depth B is deep, the portion where the intermediate refractive index continuously changes is formed long in the thickness direction, so that the effect of suppressing reflection of light can be remarkably exhibited. In addition, as the shortest pitch A is short and the average depth B is deep, portions where air and uneven pattern-forming sheets having different refractive indices are alternately arranged become longer in the thickness direction, thereby providing optical anisotropy. Since the part to be shown becomes long, phase difference can be produced. In addition, the retardation caused by the uneven pattern 12a becomes almost equal over a wide wavelength range.

이 경우, 경질층(12)은 기판(11)에 대하여 저굴절률인 것이, 높은 반사 방지 특성을 얻기 위하여 바람직하다. In this case, it is preferable that the hard layer 12 has a low refractive index with respect to the substrate 11 in order to obtain high antireflection characteristics.

또한, 경질층(12)의 두께는 1∼100nm인 것이 바람직하다. 경질층(12)의 두께가 1nm 이상이면, 경질층(12)에 결함이 생길 가능성이 낮아지고, 두께가 100nm이하면, 경질층(12)이 광투과성을 충분히 확보할 수 있다. Moreover, it is preferable that the thickness of the hard layer 12 is 1-100 nm. If the thickness of the hard layer 12 is 1 nm or more, the possibility of occurrence of defects in the hard layer 12 is reduced. If the thickness is 100 nm or less, the hard layer 12 can secure sufficient light transmittance.

또, 경질층(12)의 두께는 50nm이하인 것이 보다 바람직하고, 20nm이하인 것이 특히 바람직하다. 경질층(12)의 두께가 50nm이하면, 후술하는 바와 같이 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있다. Moreover, as for the thickness of the hard layer 12, it is more preferable that it is 50 nm or less, and it is especially preferable that it is 20 nm or less. When the thickness of the hard layer 12 is 50 nm or less, an uneven | corrugated pattern formation sheet can be manufactured easily as mentioned later.

또, 기판(11)과 경질층(12)의 사이에는, 밀착성의 향상이나 보다 미세한 구조를 형성하기 위하여 프라이머층을 형성할 수 있다. Further, a primer layer can be formed between the substrate 11 and the hard layer 12 in order to improve the adhesion or form a finer structure.

또한, 경질층(12)의 상부에는 수지층을 형성할 수 있다. In addition, a resin layer can be formed on the hard layer 12.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛이하, 바람직하게는 0.4㎛이하이다. 또, 최빈(最頻) 피치(A)는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성하기 위하여 바람직하게는 0.05㎛ 이상이다. The closest pitch A of the uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10 is 1 m or less, preferably 0.4 m or less. Moreover, in order to form the uneven | corrugated pattern 12a easily, the modest pitch A becomes like this. Preferably it is 0.05 micrometer or more.

요철 패턴(12a)의 각 피치(A1, A2, A3...)는 모두 최빈(最頻) 피치(A)의 ±60%의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 특히, ±30%의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하다. 각 피치가 최빈(最頻) 피치(A)의 ±60%의 범위 내에 있으면, 피치가 균일하게 되어, 광학소자로서 보다 뛰어난 성능을 발휘한다. Each of the pitches A1, A2, A3 ... of the uneven pattern 12a is preferably within the range of ± 60% of the closest pitch A, particularly within the range of ± 30%. It is more preferable. When each pitch is in the range of +/- 60% of the closest pitch A, the pitch becomes uniform, and it exhibits more excellent performance as an optical element.

또, 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하인 것을 만족한다면, 각 피치 A1, A2, A3...은최빈(最頻) 피치(A) 연속적으로 변화되어도 무방하다. In addition, as long as the least pitch A is satisfy | filled with 1 micrometer or less, each pitch A1, A2, A3 ... may change continuously the least pitch A.

요철 패턴(12a)의 각 깊이(B1, B2, B3,...)는 모두 평균 깊이(B)의 ±60%의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 특히, ±30%의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하다. 각 깊이가 평균 깊이(B)의 ±60%의 범위 내에 있으면, 깊이가 균일해져, 광학소자로서 보다 뛰어난 성능을 발휘한다. 또, 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 평균 깊이(B)가 10%이상이라면, 각 깊이(B1, B2, B3,...)는 평균 깊이(B)최빈(最頻) 피치(A) 연속적으로 변화되어도 무방하다. Each of the depths B1, B2, B3, ... of the uneven pattern 12a is preferably in the range of ± 60% of the average depth B, more preferably in the range of ± 30%. Do. When each depth is in the range of +/- 60% of the average depth B, the depth becomes uniform, and exhibits better performance as an optical element. When the average pitch A is 100%, if the average depth B is 10% or more, each depth B1, B2, B3, ... is the average depth (B) mode ( The pitch (A) may be changed continuously.

요철 패턴 형성 시트(10)는 후술하는 바와 같이, 반사 방지체, 위상차판 등의 광학소자나, 광학소자 제조용 공정 시트에 적용할 수 있는 이외에, 초발수 또는 초친수 시트 등에도 이용할 수 있다. The concave-convex pattern forming sheet 10 can be applied to an optical element such as an antireflective body, a retardation plate, a process sheet for manufacturing an optical element, or a superhydrophobic or superhydrophilic sheet as described later.

또한, 요철 패턴 형성 시트는 상술한 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 상술한 실시 형태에서는 경질층이 상기 요철 패턴 형성 시트의 폭 방향에 따른 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 가지고 있지만, 그 요철 패턴 이외에, 요철 패턴 형성 시트의 길이 방향에 따른 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 가질 수도 있다. 또한, 경질층이 특정한 방향에 따르지 않는 물결 형상의 요철 패턴을 다수 가질 수도 있다. 이러한 경우라도 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이면 광학소자로서 뛰어난 성능을 나타낸다. In addition, the uneven | corrugated pattern formation sheet is not limited to embodiment mentioned above. For example, in the above-described embodiment, the hard layer has a periodic wavy concave-convex pattern along the width direction of the concave-convex pattern forming sheet, but in addition to the concave-convex pattern, periodic waves along the longitudinal direction of the concave-convex pattern forming sheet It may have a concave-convex pattern. In addition, the hard layer may have a plurality of wavy concave-convex patterns that do not conform to a specific direction. Even in such a case, if the least pitch of the uneven pattern is 1 µm or less, and the average depth of the bottom portion of the uneven pattern is 10% or more when the least pitch is 100%, excellent performance as an optical element is obtained. Indicates.

돌부의 형상은 굴절률의 측면에서 선단이 뾰족한 것이 바람직하지만, 선단이 둥근 모양을 띠고 있어도 무방하다. It is preferable that the shape of the protrusion has a sharp tip in terms of the refractive index, but the tip may have a rounded shape.

요철 패턴이 특정한 방향에 따르지 않을 경우에는, 이하의 방법으로 최빈(最頻) 피치를 구한다. 우선, 원자력 현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일(예를 들면, tiff형식 등)로 변환한다. 그레이스케일의 파일 화상(도 24 참조)에서는, 백도가 낮은 곳일 수록, 요부의 바닥부가 깊다(백도가 높을수록, 돌부의 정부가 높다)는 것을 나타내고 있다. 이어서, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환한다. 도 25은 푸리에 변환 후의 화상을 나타낸다. 푸리에 변환 후의 화상은, 흰 부분의 중심에서 본 방향이 그레이 스케일의 방향성을 나타내고, 중심에서 흰 부분까지의 거리의 역수가 그레이스케일 화상의 주기를 나타내고 있다. 요철 패턴이 특정한 방향에 따르지 않을 경우에는, 도 26과 같은 흰 원이 표시된 화상이 된다. 이어서, 푸리에 변환 후의 화상에 있어서의 원의 중심에서 외측을 향한 직선 상의 보조선(L2)을 그어, 중심에서의 거리(X축)에 대한 휘도(Y축)를 플롯(도 24참조)한다. 그리고, 그 플롯에 있어서의 극대값을 나타내는 X축의 값 'r'을 읽어낸다. 이 'r'의 역수(1/r)가 최빈(最頻) 피치이다. When the uneven pattern does not follow a specific direction, the least pitch is obtained by the following method. First, the surface of the uneven pattern is photographed by an atomic force microscope, and the image is converted into a gray scale file (for example, tiff format). The grayscale file image (refer to FIG. 24) shows that the lower the whiteness is, the deeper the bottom of the recess (the higher the whiteness, the higher the projection of the protrusion). Next, the grayscale file image is Fourier transformed. 25 shows an image after Fourier transform. In the image after the Fourier transform, the direction seen from the center of the white portion indicates the directionality of the gray scale, and the reciprocal of the distance from the center to the white portion indicates the period of the grayscale image. When the uneven pattern does not follow a specific direction, an image with a white circle as shown in FIG. 26 is displayed. Subsequently, an auxiliary line L2 on a straight line is drawn outward from the center of the circle in the image after the Fourier transform, and the luminance (Y axis) with respect to the distance (X axis) at the center is plotted (see FIG. 24). And the value "r" of the X-axis which shows the maximum value in the plot is read. The inverse of this 'r' (1 / r) is the least pitch.

(요철 패턴 형성 시트-3)(Uneven pattern forming sheet-3)

경질층(12)이 금속 또는 금속화합물로 이루어지는 경우, 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 얻을 수 있다. When the hard layer 12 is made of a metal or a metal compound, the uneven pattern forming sheet 10 can be easily obtained.

금속으로서는, 영율(Young's modulus)이 과도하게 높지 않고, 용이하게 요철 패턴(12a)이 형성하기 위하여, 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 및 비스무트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 금속은 반금속도 포함한다. As a metal, Young's modulus is not excessively high, and in order to form the uneven | corrugated pattern 12a easily, gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, palladium, lead, platinum, It is preferred that it is at least one metal selected from the group consisting of silicon, tin, titanium, vanadium, zinc, and bismuth. The metal mentioned here also includes a semimetal.

금속화합물로는, 동일한 이유로, 산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 산화 마그네슘, 산화 주석, 산화 구리, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 납, 산화 규소, 불화 바륨, 불화 칼슘, 불화 마그네슘, 유화 아연, 갈륨 비소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속화합물인 것이 바람직하다. As the metal compound, for the same reason, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, copper oxide, indium oxide, cadmium oxide, lead oxide, silicon oxide, barium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, zinc emulsion, It is preferably at least one metal compound selected from the group consisting of gallium arsenide.

또한, 경질층(12)이 금속으로 이루어지는 경우에는, 층표면이 공기 중에서 산화되어 공기산화막이 형성될 수 있지만, 본 발명에서는 그러한 금속층의 표면이 공기산화된 층도 금속으로 이루어지는 층으로 간주한다. In the case where the hard layer 12 is made of metal, the surface of the layer may be oxidized in air to form an air oxide film. However, in the present invention, the layer whose surface of the metal layer is air oxidized is also regarded as a layer made of metal.

경질층(12)의 두께는 0.01㎛ 이상이고, 0.2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히, 0.02∼0.1㎛인 것이 보다 바람직하다. 경질층의 두께가 0.01㎛~0.2㎛ 이면, 후술하는 바와 같이 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있다. The thickness of the hard layer 12 is 0.01 micrometer or more, and it is preferable that it is 0.2 micrometer or less, and it is more preferable that it is especially 0.02-0.1 micrometer. If the thickness of the hard layer is 0.01 µm to 0.2 µm, the concave-convex pattern forming sheet can be easily manufactured as described later.

또한, 기판(11)과 경질층(12)의 사이에는 밀착성의 향상이나 보다 미세한 구조를 형성하기 위하여 프라이머층을 형성할 수 있다. In addition, a primer layer can be formed between the substrate 11 and the hard layer 12 in order to improve adhesion and to form a finer structure.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛~20㎛, 바람직하게는 1㎛~10㎛이다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 미만일 경우 및 20㎛을 넘는 경우에는, 요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체 제조용 공정 시트 원판으로서 이용하여도, 광확산성이 높은 광확산체를 얻는 것이 어렵다. The closest pitch A of the uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10 is 1 µm to 20 µm, preferably 1 µm to 10 µm. In the case where the closest pitch A is less than 1 μm and more than 20 μm, even if the uneven pattern forming sheet 10 is used as a process sheet original plate for manufacturing the light diffuser, the light diffuser having high light diffusivity Is difficult to get.

2. 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법 2. Manufacturing method of uneven pattern forming sheet

본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법의 일실시 형태에 대해서 설명한다. One Embodiment of the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention is described.

본 실시 형태의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법은, 도 7에 나타낸 바와 같이, 수지제의 기판인 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에, 표면이 평평한 경질층(13) (이하, '표면 평활 경질층(13)'이라고 한다)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하는 공정 (이하, 제1 공정이라고 한다)과, 가열 수축성 필름(11a)을 가열 수축시켜 적어도 적층 시트(10a)의 표면 평활 경질층(13)을 접듯이 변형시키는 공정(이하, 제2 공정이라고 한다)을 포함한다. As for the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this embodiment, as shown in FIG. 7, the hard layer 13 (hereinafter, "surface smoothing") whose surface is flat on one surface of the heat shrinkable film 11a which is a resin substrate. Hard layer 13 ') to form a laminated sheet 10a (hereinafter referred to as a first step), and heat shrinkable heat shrinkable film 11a to at least the surface of laminated sheet 10a. And a step (hereinafter referred to as a second step) of deforming the smooth hard layer 13 to be folded.

여기에서, 표면 평활 경질층(13)은 JIS B0601에 기재된 중심선 평균 거칠기가 0.1㎛ 이하인 층이다. Here, the surface smooth hard layer 13 is a layer whose center line average roughness described in JIS B0601 is 0.1 µm or less.

*제1 공정-1 * Step 1-1

제1 공정에서, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 수지제의 표면 평활 경질층(13)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 제2 수지의 용액 또는 분산 액을 스핀 코터나 바 코터 등에 의해 도포하고, 용매를 건조시키는 방법, 또는, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에, 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층 하는 방법 등이 있다. In the first step, as a method of forming the laminated sheet 10a by providing a surface smooth hard layer 13 made of resin on one surface of the heat shrinkable film 11a, for example, the heat shrinkable film 11a A surface smooth hard layer 13 prepared in advance by applying a spin coater, a bar coater or the like to a surface or a solution of a second resin on one surface and drying the solvent, or on one surface of the heat shrinkable film 11a. ) And the method of laminating.

가열 수축성 필름(11a)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 쉬링크 필름, 폴리스틸렌계 쉬링크 필름, 폴리올레핀계 쉬링크 필름, 폴리에틸렌 염화 비닐계 쉬링크 필름 등이 사용될 수 있다. As the heat shrinkable film 11a, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, a polyethylene vinyl chloride shrink film, or the like can be used.

쉬링크 필름 중에서도, 50∼70% 수축하는 것이 바람직하다. 50∼70% 수축하는 쉬링크 필름을 이용하면, 변형율을 50%이상 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛이고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10% 이상인 요철 패턴 형성 시트(10)을 용이하게 제조할 수 있다. 또한, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 100%이상인 요철 패턴 형성 시트(10)도 용이하게 제조할 수 있다. It is preferable to shrink | contract 50 to 70% also in a shrink film. When the shrink film shrinks 50 to 70%, the strain can be 50% or more, and the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a is 1 µm to 20 µm, and the uneven pattern 12a is formed. The uneven | corrugated pattern forming sheet | seat 10 which is 10% or more when the average depth B of the bottom part 12b of which makes the least pitch A 100% can be manufactured easily. Moreover, the uneven | corrugated pattern formation sheet | seat 10 which is 100% or more when the average depth B of the bottom part 12b of the uneven | corrugated pattern 12a made the least pitch A 100% is also easily manufactured. can do.

여기에서, 변형율이라는 것은 (변형전의 길이-변형후의 길이)/(변형전의 길이)×100 (%) 또는, (변형한 길이)/(변형전의 길이)×100 (%)이다. Here, the strain rate is (length before deformation-length after deformation) / (length before deformation) × 100 (%) or (deformed length) / (length before deformation) × 100 (%).

또, 이하의 공정에 의해 요철 패턴(12a)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 300%로 할 수 있다. Moreover, the average depth B of the uneven | corrugated pattern 12a can be made into 300% by making the least pitch A 100% by the following process.

가열 수축성 필름(11a)에 가열 수축성 필름(11a)보다 유리 전이 온도가 낮은 프라이머 수지층을 도포하고, 상기 프라이머 수지층 위에 표면 평활 경질층(13)을 마련한 적층 시트를 형성한다. 상기 적층 시트를 가열 수축시키는 것에 의해 요철 패턴 형성 시트를 제조한다. The primer resin layer which has a glass transition temperature lower than the heat shrinkable film 11a is apply | coated to the heat shrinkable film 11a, and the laminated sheet which provided the surface smooth hard layer 13 on the said primer resin layer is formed. The uneven pattern forming sheet is manufactured by heat shrinking the said laminated sheet.

가열 수축 후의 가열 수축성 필름(11a)을 적층 시트로부터 박리하고, 이를 다른 가열 수축성 필름을 붙여서 적층 시트를 형성한다. 이 적층 시트를 가열 수축시킴에 따라, 가열 수축성 필름 1장을 가열 수축시킨 경우보다 평균 깊이(B)를 크게 할 수 있다. 이 공정을 복수회 되풀이하는 것으로, 요철 패턴(12a)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 300%로 할 수 있다. The heat shrinkable film 11a after heat shrink is peeled from the laminated sheet, and this heat-shrinkable film is pasted to form a laminated sheet. By heat shrinking this laminated sheet, the average depth B can be made larger than the case where one heat shrinkable film is heat shrinked. By repeating this process a plurality of times, the average depth B of the uneven pattern 12a can be 300% when the least pitch A is 100%.

본 발명에서는, 표면 평활 경질층(13)의 두께를 0.05㎛~5.0㎛, 바람직하게는 0.1∼1.0㎛로 한다. 표면 평활 경질층(13)의 두께를 상기 범위로 함에 따라, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. In the present invention, the thickness of the surface smooth hard layer 13 is 0.05 µm to 5.0 µm, preferably 0.1 to 1.0 µm. By making the thickness of the surface smooth hard layer 13 into the said range, the gap pitch A of the uneven | corrugated pattern 12a can be reliably set to 1 micrometer-20 micrometers.

그러나, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 0.05㎛ 이하면, 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하가 될 수 있고, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 5.0㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수 있다. However, if the thickness of the surface smooth hard layer 13 is 0.05 µm or less, the least pitch A may be 1 µm or less, and if the thickness of the surface smooth hard layer 13 exceeds 5.0 µm, The nearest pitch A may exceed 20 μm.

또, 본 발명에서는, 표면 평활 경질층(13)을 가열 수축성 필름을 구성하는 수지(제1 수지)보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 수지(제2 수지)로 구성한다. 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도가 상기 관계에 있는 것에 의해, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. Moreover, in this invention, the surface smooth hard layer 13 is comprised from resin (2nd resin) whose glass transition temperature is 10 degreeC or more higher than resin (1st resin) which comprises a heat shrinkable film. Since the glass transition temperature of a 1st resin and the glass transition temperature of a 2nd resin are in the said relationship, the closest pitch A of the uneven | corrugated pattern 12a can be reliably set to 1 micrometer-20 micrometers. .

표면 평활 경질층(13)의 두께는 연속적으로 변화하여도 무방하다. 표면 평활 경질층(13)의 두께가 연속적으로 변하는 경우, 압축 후에 형성되는 요철 패턴(12a)의 피치 및 깊이가 연속적으로 변화한다. The thickness of the surface smooth hard layer 13 may vary continuously. When the thickness of the surface smooth hard layer 13 changes continuously, the pitch and depth of the uneven pattern 12a formed after compression change continuously.

이 제조 방법에서는, 보다 용이하게 요철 패턴(12a)을 형성할 수 있도록 하기 위하여, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)을 0.01∼300GPa로 하는 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa로 하는 것이 보다 바람직하다. In this manufacturing method, in order to form the uneven pattern 12a more easily, the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13 is preferably 0.01 to 300 GPa, particularly 0.1 to 10 GPa. It is more preferable to.

적층 시트(10a)를 변형시킬 때는 표면 평활 경질층(13)을 5%이상의 변형율로 변형시키는 것이 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 5% 이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. When deforming the laminated sheet 10a, it is preferable to deform the surface smooth hard layer 13 at a strain rate of 5% or more. When the surface smooth hard layer 13 is deformed at a strain rate of 5% or more, the average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a is easily set to the nearest pitch A of 100%. I can do it more than 10% of times.

또한, 표면 평활 경질층(13)을 50%이상의 변형율로 변형시키는 것이 보다 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 50%이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 100%이상으로 할 수 있다. In addition, it is more preferable to deform the surface smooth hard layer 13 at a strain rate of 50% or more. When the surface smooth hard layer 13 is deformed at a strain rate of 50% or more, the average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a can be easily set to the lowest pitch A of 100%. I can do it more than 100% of times.

*제1 공정-2 * Step 1-2

경질층(12)이 금속 또는 금속화합물로 이루어지는 경우, 적층 시트(10a)를 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 금속이나 금속화합물을 증착시키는 방법, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층 하는 방법 등이 있다. When the hard layer 12 consists of a metal or a metal compound, as a method of forming the laminated sheet 10a, for example, a method of depositing a metal or a metal compound on one side of the heat shrinkable film 11a, heat shrinkable There exists a method of laminating | stacking the surface smooth hard layer 13 produced previously on one surface of the film 11a.

이러한 제조 방법에 있어서, 보다 용이하게 요철 패턴(12a)를 형성하기 위하여, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)을 0.1∼500GPa로 하는 것이 바람직하고, 특히, 1∼150GPa로 하는 것이 보다 바람직하다. In such a manufacturing method, in order to more easily form the uneven pattern 12a, the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13 is preferably set to 0.1 to 500 GPa, and in particular, 1 to 150 GPa. More preferred.

표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)을 상기 범위로 하기 위해서는, 표면 평활 경질층 (13)을 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 비스무트에 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속으로 구성하는 것이 바람직하다. 또는, 표면 평활 경질층(13)을 산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 산화 마그네슘, 산화 주석, 산화 구리, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 납, 산화 규소, 불화 바륨, 불화 칼슘, 불화 마그네슘, 유화 아연, 갈륨 비소에 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속화합물로 구성하는 것이 바람직하다. In order to set the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13 to the above range, the surface smooth hard layer 13 may be formed of gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, palladium, lead, It is preferable to constitute at least one metal selected from the group consisting of platinum, silicon, tin, titanium, vanadium, zinc and bismuth. Alternatively, the surface smooth hard layer 13 is made of titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, copper oxide, indium oxide, cadmium oxide, lead oxide, silicon oxide, barium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, and emulsification. It is preferable to constitute at least one metal compound selected from the group consisting of zinc and gallium arsenide.

여기에서, 영율(Young's modulus)은 JIS Z 2280-1993의 「금속재료의 고온 영율(Young's modulus) 시험 방법」에서 온도를 23℃로 변경해서 측정한 값이다. 경질층이 금속화합물로 이루어지는 경우도 마찬가지이다. Here, Young's modulus is the value measured by changing temperature to 23 degreeC by "The high temperature Young's modulus test method of a metal material" of JIS Z 2280-1993. The same applies to the case where the hard layer is made of a metal compound.

표면 평활 경질층(13)의 두께는 0.01㎛~0.2㎛, 바람직하게는 0.02∼0.1㎛로 한다. 표면 평활 경질층(13)의 두께를 상기 범위로 한다면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. 그러나, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 0.01㎛미만이면, 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하가 될 수 있고, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 0.2㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수가 있다. The thickness of the surface smooth hard layer 13 is 0.01 µm to 0.2 µm, preferably 0.02 to 0.1 µm. If the thickness of the surface smooth hard layer 13 is in the above range, the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a can be reliably set to 1 µm to 20 µm. However, if the thickness of the surface smooth hard layer 13 is less than 0.01 μm, the least pitch A may be 1 μm or less, and if the thickness of the surface smooth hard layer 13 exceeds 0.2 μm, The closest pitch A may exceed 20 micrometers.

또, 표면 평활 경질층(13)의 두께는 연속적으로 변하여도 무방하다. 표면 평활 경질층(13)의 두께가 연속적으로 변하는 경우, 압축 후에 형성되는 요철 패턴(12a)의 피치 및 깊이가 연속적으로 변하게 된다. In addition, the thickness of the surface smooth hard layer 13 may vary continuously. When the thickness of the surface smooth hard layer 13 changes continuously, the pitch and depth of the uneven pattern 12a formed after compression change continuously.

적층 시트(10a)를 변형시킬 때는, 표면 평활 경질층(13)을 5% 이상의 변형율로 변형시키는 것이 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 5% 이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. When deforming the laminated sheet 10a, it is preferable to deform the surface smooth hard layer 13 at a strain rate of 5% or more. When the surface smooth hard layer 13 is deformed at a strain rate of 5% or more, the average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a is easily set to the nearest pitch A of 100%. I can do it more than 10% of times.

또한, 표면 평활 경질층(13)을 50% 이상의 변형율로 변형시키는 것이 보다 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 50% 이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 100%이상으로 할 수 있다. In addition, it is more preferable to deform the surface smooth hard layer 13 at a strain rate of 50% or more. When the surface smooth hard layer 13 is deformed at a strain rate of 50% or more, the average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a can be easily set to the lowest pitch A of 100%. I can do it more than 100% of times.

*제2 공정-1 * Step 2-1

제2 공정에서, 가열 수축성 필름(11a)을 열수축시킴에 따라, 표면 평활 경질층 (13)에 수축 방향에 대하여 수직방향으로 물결 형상의 요철 패턴(12a)를 형성시켜서 경질층(12)을 얻는다. In the second step, as the heat shrinkable film 11a is thermally contracted, the surface smooth hard layer 13 is formed with a wavy concave-convex pattern 12a in a direction perpendicular to the shrinkage direction to obtain a hard layer 12. .

가열 수축성 필름(11a)를 가열 수축시킬 때의 가열 방법으로서는, 열풍, 증기 또는 열수 속에 통과시키는 방법 등이 있고, 그 중에서도, 균일하게 수축시키기 위해서는 열수 속을 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method at the time of heat shrinking the heat shrinkable film 11a, there exists a method of letting it pass in a hot air, steam, or hot water, etc. Especially, in order to make it shrink uniformly, the method of passing through a hot water inside is preferable.

가열 수축성 필름(11a)을 열수축 시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 가열 수축성 필름의 종류, 목적으로 하는 요철 패턴(12a)의 피치 및 바닥부(12b)의 깊이에 따라서 적절히 선택하는 것이 바람직하다. It is preferable to select the heating temperature at the time of thermally shrinking the heat shrinkable film 11a according to the kind of heat shrinkable film to be used, the pitch of the uneven | corrugated pattern 12a made into the objective, and the depth of the bottom part 12b.

이 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 얇을수록, 그리고, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)이 낮을 수록, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 작아지고, 기판의 변형율이 높을 수록, 평균 깊이(B)가 깊어진다. 따라서, 요철 패턴(12a)을 소정의 최빈(最頻) 피치(A) 및 평균 깊이(B)로 하기 위해서는, 상기 조건을 적당히 선택 할 필요가 있다. In this manufacturing method, the thinner the thickness of the surface smooth hard layer 13 and the lower the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13, the lower the pitch of the uneven pattern 12a ( The smaller the A) and the higher the strain of the substrate, the deeper the average depth B. Therefore, in order to make the uneven | corrugated pattern 12a into predetermined | prescribed closest pitch A and average depth B, it is necessary to select the said conditions suitably.

이상 설명한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)을 구성하는 제2 수지가 가열 수축성 필름(11a)을 구성하는 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높기 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도에서는, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)이 가열 수축성 필름(11a)보다 높다. 게다가, 표면 평활 경질층(13)의 두께를 0.05㎛~5.0㎛로 하고 있기 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도로 가공할 경우, 표면 평활 경질층(13)은 두께가 늘어나기 보다도, 접히게 된다. 또, 표면 평활 경질층(13)은 가열 수축성 필름(11a)에 적층되어 있기 때문에, 가열 수축성 필름(11a)의 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 걸린다. 따라서, 본 발명에 의하면, 표면 평활 경질층(13)을 접듯이 변형시켜, 광확산체로서 성능이 뛰어난 요철 패턴 형성 시트(10)를 간편하면서 대면적으로 제조할 수 있다. In the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet demonstrated above, since 2nd resin which comprises the surface smooth hard layer 13 has a glass transition temperature 10 degreeC or more higher than 1st resin which comprises the heat shrinkable film 11a, it is 1st. At the temperature between the glass transition temperature of the resin and the glass transition temperature of the second resin, the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13 is higher than that of the heat shrinkable film 11a. Moreover, since the thickness of the surface smooth hard layer 13 is 0.05 micrometer-5.0 micrometers, when processing at the temperature between the glass transition temperature of a 1st resin and the glass transition temperature of a 2nd resin, it is a surface smooth hard layer. 13 folds rather than increases in thickness. Moreover, since the surface smooth hard layer 13 is laminated | stacked on the heat shrinkable film 11a, the stress by shrinkage of the heat shrinkable film 11a is taken uniformly as a whole. Therefore, according to the present invention, the surface smooth hard layer 13 can be deformed so as to be folded, so that the uneven pattern-forming sheet 10 having excellent performance as a light diffuser can be produced in a simple and large area.

또한, 이 제조 방법에 의하면, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 1㎛~20㎛로 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. Moreover, according to this manufacturing method, the closest pitch A of the uneven | corrugated pattern 12a can be easily set to 1 micrometer-20 micrometers, and the average depth of the bottom part 12b of the uneven | corrugated pattern 12a is carried out. (B) can be 10% or more when the least pitch (A) is 100%.

또, 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법으로서는, 아래 (1)∼(4)의 방법을 적용할 수도 있다. Moreover, the method of following (1)-(4) can also be applied as a manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet.

(1)기판(11)의 한면 전부에 표면 평활 경질층(13)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하고, 적층 시트(10a) 전체를 표면에 따른 한 방향으로 압축하는 방법. (1) A method of forming a laminated sheet (10a) by providing a surface smooth hard layer (13) on all of one surface of a substrate (11), and compressing the entire laminated sheet (10a) in one direction along the surface.

기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 미만인 경우, 적층 시트(10a)의 압축은 실온에서 하고, 기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 이상의 경우, 적층 시트(10a)의 압축은 기판(11)의 유리 전이 온도 이상이고, 표면 평활 경질층(13)의 유리 전이 온도 미만인 온도에서 한다. When the glass transition temperature of the substrate 11 is less than room temperature, compression of the laminated sheet 10a is performed at room temperature, and when the glass transition temperature of the substrate 11 is room temperature or more, compression of the laminated sheet 10a is performed by the substrate 11. It is at the temperature which is more than the glass transition temperature of and is less than the glass transition temperature of the surface smooth hard layer 13.

(2)기판(11)의 한 면의 전부에 표면 평활 경질층(13)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하고, 적층 시트(10a)를 한 방향으로 연장하며, 적층 시트(10a)를 연장 방향에 대한 직교방향으로 수축시켜서, 표면 평활 경질층(13)을 표면에 따른 한 방향으로 압축하는 방법. (2) A surface smooth hard layer 13 is provided on all of one surface of the substrate 11 to form a laminated sheet 10a, the laminated sheet 10a is extended in one direction, and the laminated sheet 10a is extended. A method of compressing the surface smooth hard layer (13) in one direction along the surface by shrinking in a direction perpendicular to the extension direction.

기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 미만인 경우, 적층 시트(10a)의 연장은 실온에서 하고, 기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 이상인 경우, 적층 시트(10a)의 연장은 기판(11)의 유리 전이 온도 이상이고, 평면 평활 경질층(13)의 유리 전이 온도 미만인 온도에서 한다. When the glass transition temperature of the substrate 11 is less than room temperature, extension of the laminated sheet 10a is performed at room temperature, and when the glass transition temperature of the substrate 11 is room temperature or more, the extension of the laminated sheet 10a is obtained by the substrate 11. The glass transition temperature is equal to or greater than and equal to or lower than the glass transition temperature of the planar smooth hard layer 13.

(3)미경화의 전리 방사선 경화성 수지에 의해 형성된 기판(11)에, 표면 평활 경질층(13)을 적층해서 적층 시트(10a)를 형성하고, 전리 방사선을 조사해서 기판 (11)을 경화시킴에 따라 수축시켜, 기판(11)에 적층된 표면 평활 경질층(13)을 표면에 따른 적어도 한 방향으로 압축하는 방법. (3) The surface smooth hard layer 13 is laminated | stacked on the board | substrate 11 formed of the uncured ionizing radiation curable resin, the laminated sheet 10a is formed, and the ionizing radiation is irradiated to harden the board | substrate 11 Shrinkage according to the method to compress the surface smooth hard layer (13) laminated on the substrate (11) in at least one direction along the surface.

(4)용매를 팽윤시켜 팽창시킨 기판(11)에, 표면 평활 경질층(13)을 적층해서 적층 시트(10a)를 형성하고, 기판(11) 안의 용매를 건조/제거함에 따라 수축시키며, 기판(11)에 적층된 표면 평활 경질층(13)을 표면에 따른 적어도 한 방향으로 압축하는 방법. (4) The surface smooth hard layer 13 is laminated on the substrate 11 in which the solvent is swollen and expanded to form a laminated sheet 10a, and shrinks as the solvent in the substrate 11 is dried / removed. A method of compressing the surface smooth hard layer (13) laminated on (11) in at least one direction along the surface.

상기 (1)의 방법에 있어서, 적층 시트(10a)를 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 기판(11)의 한 면에 수지 용액 또는 분산 액을 스핀 코터나 바 코터 등에 의해 도포하고 용매를 건조시키는 방법, 기판(11)의 한 면에 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층하는 방법 등이 있다. In the method of (1), as a method of forming the laminated sheet 10a, for example, a resin solution or dispersion is applied to one surface of the substrate 11 by a spin coater, a bar coater, or the like, and the solvent is dried. And a method of laminating the surface smooth hard layer 13 prepared in advance on one surface of the substrate 11.

적층 시트(10a) 전체를 표면에 따른 한 방향으로 압축하는 방법으로서는, 예를 들면, 적층 시트(10a)의 일단부와 그 반대측의 단부를 바이스 등에 의해 끼어서 압축하는 방법 등이 있다. As a method of compressing the whole laminated sheet 10a to one direction along the surface, the method of compressing, for example, the one end part of the laminated sheet 10a and the edge part on the opposite side is pinched by a vice or the like.

상기 (2)의 방법에 있어서, 적층 시트(10a)를 한 방향으로 연장하는 방법으로서는, 예를 들면, 적층 시트(10a)의 일단부와 그 반대측의 단부를 끌어 당겨서 연신하는 방법 등이 있다. In the method of said (2), as a method of extending | stretching the laminated sheet 10a in one direction, the method of pulling and extending | stretching the edge part of the laminated sheet 10a and the opposite side, for example is mentioned.

상기 (3)의 방법에 있어서, 전리 방사선 경화성 수지로는 자외선 경화형 수지나 전자선 경화형 수지 등이 사용될 수 있다. In the method of (3), as the ionizing radiation curable resin, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like can be used.

상기 (4)의 방법에 있어서, 용매는 제1 수지의 종류에 따라서 적절히 선택된다. 용매의 건조 온도는 용매의 종류에 따라서 적절히 선택된다. In the method of said (4), a solvent is suitably selected according to the kind of 1st resin. The drying temperature of a solvent is suitably selected according to the kind of solvent.

상기 (2)∼(4)의 방법에 있어서의 표면 평활 경질층(13)에 있어서도, 상기 (1)의 방법으로 이용하는 것과 같은 성분을 이용할 수 있고, 같은 두께로 할 수 있다. 또한, 적층 시트(10a)의 형성 방법은 상기 (1)의 방법과 동일하게 기판(11)의 한 면에 수지 용액 또는 분산액을 도포하고, 용매를 건조시키는 방법, 기판(11)의 한 면에 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층 하는 방법 등을 적용할 수 있다. Also in the surface smooth hard layer 13 in the method of said (2)-(4), the component similar to what is used by the method of said (1) can be used, and it can be set as the same thickness. In addition, the formation method of the laminated sheet 10a is the method of apply | coating a resin solution or a dispersion liquid to one side of the board | substrate 11, and drying a solvent, and the one side of the board | substrate 11 similarly to the method of said (1). The method of laminating the surface smooth hard layer 13 prepared previously, etc. can be applied.

*제2 공정-2* Step 2-2

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하로 할 경우에는, 상기 (1)의 방법에 있어서, 표면 평활 경질층(13)의 두께는 50nm 이하인 것이 바람직하고, 특히, 20nm 이하인 것이 보다 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)의 두께가 50nm이하이면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛ 이하로 할 수 있다. In the case where the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a is 1 µm or less, in the method of the above (1), the thickness of the surface smooth hard layer 13 is preferably 50 nm or less, particularly It is more preferable that it is 20 nm or less. When the thickness of the surface smooth hard layer 13 is 50 nm or less, the closest pitch A of the uneven pattern 12a can be reliably set to 1 µm or less.

또, 압축 후의 경질층(12)에 결함이 생기기 않도록, 표면 평활 경질층(13)은 1nm 이상인 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the surface smooth hard layer 13 is 1 nm or more so that a defect may not arise in the hard layer 12 after compression.

이 경우, 표면 평활 경질층(13)을 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 제2 수지로 구성한다. 표면 평활 경질층(13)을 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 제2 수지로 구성함에 따라, 압축했을 때에 기판(11)이 변형되면서 표면 평활 경질층(13)을 물결 형상으로 절곡 및 사행 변형하므로, 요철 패턴(12a)를 용이하게 형성할 수 있다. In this case, the surface smooth hard layer 13 is comprised from the 2nd resin whose glass transition temperature is 10 degreeC or more higher than 1st resin. As the surface smooth hard layer 13 is composed of a second resin having a glass transition temperature of 10 ° C. or more higher than that of the first resin, the surface smooth hard layer 13 is bent in a wave shape while the substrate 11 is deformed when compressed. And meandering deformation, so that the uneven pattern 12a can be easily formed.

이상 설명한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)을 구성하는 제2 수지가 기판(11)을 구성하는 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높기 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도에서는, 표면 평활 경질층(13)의 영률이 기판(11)의 영률보다 높다. 그 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도로 가공했을 때는, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 늘어나기 보다는 표면 평활 경질층(13)이 접히게 된다. 또한, 표면 평활 경질층(13)은 기판(11)에 적층되어 있기 때문에, 압축이나 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 걸린다. 따라서, 본 발명에 따르면, 용이하게 사행 변형시켜, 요철 패턴 형성 시트(10)를 제조할 수 있고, 광학소자로서 성능이 뛰어난 요철 패턴 형성 시트(10)를 간편하면서 대면적으로 제조할 수 있다.In the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet demonstrated above, since 2nd resin which comprises the surface smooth hard layer 13 has a glass transition temperature 10 degreeC or more higher than 1st resin which comprises the board | substrate 11, At the temperature between the glass transition temperature and the glass transition temperature of the second resin, the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13 is higher than the Young's modulus of the substrate 11. Therefore, when processing at the temperature between the glass transition temperature of a 1st resin and the glass transition temperature of a 2nd resin, the surface smooth hard layer 13 will be folded rather than increasing the thickness of the surface smooth hard layer 13. do. Moreover, since the surface smooth hard layer 13 is laminated | stacked on the board | substrate 11, the stress by compression and shrinkage | contraction is taken uniformly as a whole. Therefore, according to the present invention, the meandering pattern forming sheet 10 can be manufactured easily by meandering deformation, and the uneven pattern forming sheet 10 excellent in performance as an optical element can be produced simply and in large area.

또, 이 제조 방법에 의하면, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 짧게 할 수 있을 뿐만 아니라, 평균 깊이(B)를 깊게 할 수 있다. 구체적으로는, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 1㎛ 이하로 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. Moreover, according to this manufacturing method, not only can the shortest pitch A of the uneven pattern 12a be shortened, but also the average depth B can be deepened. Specifically, the mode A of the concave-convex pattern 12a can be easily made 1 m or less, and the average depth B of the bottom portion 12b of the concave-convex pattern 12a can be made the most. It can be set to 10% or more when the pitch A is 100%.

또한, 이 제조 방법에 의하면, 요철 패턴(12a)에 있어서의 각 피치(A1, A2, A3, …) 및 각 깊이(B1, B2, B3, ...)를 용이하게 균일하게 할 수 있다. Moreover, according to this manufacturing method, each pitch A1, A2, A3, ... in the uneven | corrugated pattern 12a, and each depth B1, B2, B3 ... can be made uniform easily.

*제2 공정-3* Step 2-3

표면 평활 경질층을 금속 또는 금속화합물을 이용해서 제조할 경우, 제2 공정에서, 가열 수축성 필름(11a)이 열수축함에 따라, 표면 평활 경질층(13)에 수축 방향에 대하여 수직방향으로 물결 형상의 요철 패턴(12a)이 형성되고, 이것이 경질층(12)이 된다. When the surface smooth hard layer is manufactured using a metal or a metal compound, in the second step, as the heat shrinkable film 11a heat shrinks, the surface smooth hard layer 13 has a wave shape perpendicular to the shrinkage direction. The uneven pattern 12a is formed, and this becomes the hard layer 12.

가열 수축성 필름(11a)을 가열 수축시킬 때의 가열 방법으로서는, 열풍, 증기 또는 열수 속에 통과시키는 방법 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 균일하게 수축시킬 수 있는 것부터, 열수에 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method at the time of heat shrinking the heat shrinkable film 11a, the method etc. which let it pass in a hot air, steam, or hot water are mentioned, Especially, since the thing which can be shrunk uniformly, the method of passing through hot water is preferable. .

가열 수축성 필름(11a)을 열수축시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 가열 수축성 필름의 종류, 목적으로 하는 요철 패턴(12a)의 피치 및 바닥부(12b)의 깊이에 따라서 적절히 선택하는 것이 바람직하다. It is preferable to select the heating temperature at the time of thermally shrinking the heat shrinkable film 11a according to the kind of heat shrinkable film to be used, the pitch of the uneven | corrugated pattern 12a made into the objective, and the depth of the bottom part 12b.

이 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 얇고 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)이 낮을수록, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 작아지고, 기판의 변형율이 높을수록, 평균 깊이(B)가 깊어진다. 따라서, 요철 패턴(12a)을 소정의 최빈(最頻) 피치(A)와 평균 깊이(B)로 하기 위해서는, 상기 조건을 적당히 선택 할 필요가 있다. In this manufacturing method, the thinner the surface smooth hard layer 13 and the lower the Young's modulus of the surface smooth hard layer 13, the smaller the pitch A of the uneven pattern 12a is. The higher the strain of the substrate, the deeper the average depth B. Therefore, in order to make the uneven | corrugated pattern 12a into predetermined | prescribed modest pitch A and average depth B, it is necessary to select the said conditions suitably.

이상 설명한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 금속 또는 금속화합물로 이루어지는 표면 평활 경질층(13)이 가열 수축성 필름(11a)보다 영율(Young's modulus)이 현격히 크기 때문에, 가열 수축성 필름(11a)보다 단단한 표면 평활 경질층(13)을 열압축했을 때에, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 증가하기 보다는 표면 평활 경질층(13)이 접히게 된다. 게다가, 표면 평활 경질층(13)은 가열 수축성 필름(11a)에 적층되어 있기 때문에, 가열 수축성 필름(11a)의 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 걸린다. 따라서, 본 발명에 의하면, 표면 평활 경질층 (13)을 접듯이 변형시켜서, 광확산체를 제조하기 위한 공정 시트로서 성능이 뛰어난 요철 패턴 형성 시트(10)를 간편하면서 대면적으로 제조할 수 있다. In the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet demonstrated above, since the surface smooth hard layer 13 which consists of a metal or a metal compound has a much larger Young's modulus than the heat shrinkable film 11a, it is harder than the heat shrinkable film 11a. When the surface smooth hard layer 13 is thermally compressed, the surface smooth hard layer 13 is folded rather than the thickness of the surface smooth hard layer 13 is increased. Moreover, since the surface smooth hard layer 13 is laminated | stacked on the heat shrinkable film 11a, the stress by shrinkage of the heat shrinkable film 11a is taken uniformly as a whole. Therefore, according to the present invention, the surface smooth hard layer 13 can be deformed so as to be folded, so that the uneven pattern-forming sheet 10 having excellent performance can be easily and largely manufactured as a process sheet for producing the light diffusion body. .

또한, 이 제조 방법에 의하면, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를, 1㎛~20㎛로 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. Moreover, according to this manufacturing method, the closest pitch A of the uneven pattern 12a can easily be 1 micrometer-20 micrometers, and the average of the bottom part 12b of the uneven pattern 12a is easy. The depth B can be 10% or more when the least pitch A is 100%.

그러나, 종래 요철 패턴 형성용 시트를 제조하는 방법으로서, 나노임프린트용 틀의 요철 패턴을 가열해서 연화시킨 시트 형상의 열가소성 수지에 압착한 후, 이를 냉각하는 열나노임프린트법, 나노임프린트용 틀의 요철 패턴에 미경화의 전리 방사선 경화성 수지 조성물을 피복시킨 후, 전리 방사선을 조사하여 경화시키는 광나노임프린트법이 알려져 있었다. However, as a method of manufacturing a sheet for forming a pattern of concavo-convex patterns in the prior art, the thermal nanoimprint method for cooling the concave-convex pattern of the frame for nanoimprint by heating and softening it, and then cooling the concave-convex pattern of the frame for nanoimprint. After the uncured ionizing radiation curable resin composition is coated on a pattern, a photonanoimprint method for irradiating and curing the ionizing radiation has been known.

열나노임프린트법에서는 틀에 전체적으로 균일한 압력을 가하고, 열가소성 수지에 요철 패턴을 갖는 틀을 압착할 필요가 있지만, 이러한 방법에서는 틀의 면적이 커지면, 틀이 가해지는 압력이 불균일해지는 경향이 있고, 그 결과, 요철 패턴의 전사가 불균일해질 수 있었다. 따라서, 액정 TV의 디스플레이 등에 사용되는 대면적의 요철 패턴 형성 시트의 생산에 적합하다고는 할 수 없었다. In the thermal nanoimprint method, it is necessary to apply a uniform pressure to the mold as a whole and compress the mold having a concave-convex pattern on the thermoplastic resin, but in such a method, when the area of the mold is large, the pressure applied to the mold tends to be uneven. As a result, the transfer of the uneven pattern could be uneven. Therefore, it cannot be said that it is suitable for the production of a large area uneven pattern forming sheet used for a display of a liquid crystal TV.

또, 광나노임프린트법에서는, 틀과 경화한 수지와의 이형성(mold reliability)이 불충분하기 때문에, 요철 패턴의 전사가 불완전해질 수 있었다. 게다가, 틀의 사용 회수가 많아질수록 이 경향이 현저해졌다. In addition, in the photonanoimprint method, since mold release reliability between the mold and the cured resin is insufficient, transfer of the uneven pattern may be incomplete. In addition, this tendency became more pronounced as the number of uses of the mold increased.

이들 나노임프린트법과 비교하여 상술한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법은 요철 패턴의 전사를 생략할 수 있기 때문에, 나노임프린트법에서의 상기 문제점을 해소할 수 있다. Compared with these nanoimprint methods, the above-described manufacturing method of the uneven pattern forming sheet can omit the transfer of the uneven pattern, so that the above problems in the nanoimprint method can be solved.

또한, 상술한 실시 형태에서는, 기판의 한 면의 전면(全面)에 경질층을 마련했으나, 기판의 한 면의 일부에 경질층을 마련해도 무방하고, 기판의 양면의 전부에 경질층을 마련해도 무방하며, 기판의 양면의 일부에 경질층을 마련해도 무방하다. In addition, in the above-mentioned embodiment, although the hard layer was provided in the whole surface of one side of a board | substrate, you may provide a hard layer in a part of one side of a board | substrate, and may provide a hard layer in all the both surfaces of a board | substrate. The hard layer may be provided on a part of both surfaces of the substrate.

3.광확산체 3.light diffuser

본 발명에 따른 광확산체는 1㎛~20㎛의 최빈(最頻) 피치(A)를 갖는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)을 구비한다. The light diffusing body according to the present invention includes the above-mentioned concave-convex pattern forming sheet 10 having the closest pitch A of 1 μm to 20 μm.

본 발명에 따른 광확산체에 있어서, 요철 패턴 형성 시트(10)의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비할 수 있다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트(10)의 면 중 요철 패턴(12a)이 형성되어 있는 측의 면에 그 면의 오염을 방지하기 위한 불소 수지 또는 실리콘 수지를 주성분으로서 함유하는 두께 1∼5nm 정도의 방오층을 형성할 수 있다. In the light diffuser according to the present invention, another layer may be provided on one or both surfaces of the uneven pattern forming sheet 10. For example, about 1-5 nm in thickness which contains the fluorine resin or silicone resin as a main component in the surface of the surface of the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 in which the uneven | corrugated pattern 12a is formed, to prevent the surface contamination. Antifouling layer can be formed.

또, 광확산체의 기판(11)측의 면에는 투명수지제 혹은 유리제의 지지체가 구비되어 있어도 무방하다. The surface of the light diffusion body on the substrate 11 side may be provided with a transparent resin or glass support.

게다가, 기판(11)측의 면에 점착제층이 형성되어 있어도 무방하며, 기능성을 적절히 갖추기 위해서 색소를 포함해도 무방하다. In addition, an adhesive layer may be formed in the surface on the board | substrate 11 side, and a pigment | dye may be included in order to provide the functionality suitably.

상술한 요철 패턴이 표면에 형성된 요철 패턴 형성 시트(10)를 갖춘 본 발명의 광확산체는 충분한 광확산성을 갖는다. The light diffuser of the present invention having the uneven pattern forming sheet 10 having the above-mentioned uneven pattern formed on the surface has sufficient light diffusivity.

4. 광확산체 제조용 공정 시트 원판 및 광확산체의 제조 방법 4. Process sheet for manufacturing light diffuser and manufacturing method of light diffuser

본 발명의 광확산체 제조용 공정 시트 원판(이하, '공정 시트 원판'이라고 함)은 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)를 구비하고, 요철 패턴(12a)을 이하에서 상술되는 방법으로 다른 소재에 전사시킴에 따라, 상기 공정 시트 원판과 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 표면에 형성된 광확산체로서 사용가능한 요철 패턴 형성 시트를 대면적으로 대량으로 제조하기 위한 틀로서 사용될 수 있다. The process sheet disc for light diffuser manufacture of the present invention (hereinafter referred to as the "process sheet disc") is provided with the above-mentioned concave-convex pattern forming sheet 10, and the concave-convex pattern 12a is applied to another material by the method described below. By transferring, the roughest pitch and average depth uneven pattern equivalent to that of the process sheet disc can be used as a framework for producing a large amount of uneven pattern forming sheet which can be used as a light diffuser formed on the surface. have.

공정 시트 원판은 요철 패턴 형성 시트(10)을 지지하기 위한 수지제 또는 금속제의 지지체를 더 구비해도 무방하다. The process sheet original plate may further include a resin or metal support for supporting the uneven pattern-forming sheet 10.

공정 시트 원판을 이용해서 광확산체를 제조하는 구체적인 방법으로는, 예를 들면, 아래 (a)∼(c)의 방법을 들 수 있다. As a specific method of manufacturing a light-diffusion body using a process sheet original plate, the method of (a)-(c) below is mentioned, for example.

(a)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포 하는 공정 및 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 포함하는 방법. (여기에서, 전리 방사선이라는 것은 통상 자외선 또는 전자선이지만, 본 발명에서는 가시광선, X선, 이온선 등도 포함한다.) (a) Process of apply | coating uncured ionizing radiation curable resin to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original was formed, and irradiating ionizing radiation to harden the said curable resin, and then peeling off the hardened coating film from a process sheet disc How to include. (Herein, ionizing radiation is usually ultraviolet rays or electron beams, but the present invention also includes visible light, X-rays, ion rays, etc.)

(b)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정 및 상기 액상 열경화성 수지를 가열하여 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 포함하는 방법. (b) Process of applying uncured liquid thermosetting resin to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate was formed, and the process of peeling a hardened coating film from a process sheet disc, after heating and hardening the said liquid thermosetting resin. .

(c)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 압력을 가하면서 가열해서 이를 연화시킨 후 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 포함하는 방법. (c) a step of bringing the sheet-shaped thermoplastic resin into contact with the surface on which the uneven pattern of the step sheet original plate is formed, a step of heating the sheet-shaped thermoplastic resin while applying pressure to the step sheet disk to soften it and then cooling it; And a step of peeling the cooled sheet-shaped thermoplastic resin from the process sheet disc.

또, 공정 시트 원판을 이용해서 2차 공정용 형성물을 제작하고, 그 2차 공정용 형성물을 이용해서 광확산체를 제조할 수도 있다. 2차 공정용 형성물으로는, 예를 들면, 2차 공정 시트가 사용될 수 있다. 또, 2차 공정용 형성물로는 공정 시트 원판을 둥글게 해서 원통의 안쪽에 점착하고, 그 원통의 안쪽에 롤을 삽입한 상태로 도금하며, 원통으로부터 롤을 꺼내서 얻은 도금 롤이 사용될 수 있다. Moreover, the secondary-process formation can be produced using a process sheet original board, and a light-diffusion body can also be manufactured using the formation for a secondary process. As the formation for the secondary process, for example, a secondary process sheet can be used. As the secondary process formation, a plating roll obtained by rounding a process sheet disc to stick to the inside of the cylinder, plating with the roll inserted into the cylinder, and removing the roll from the cylinder may be used.

2차 공정용 형성물을 이용하는 구체적인 방법으로, 아래 (d)∼(f)의 방법을 들 수 있다. As a specific method of using the formation for secondary processes, the method of following (d)-(f) is mentioned.

(d)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 니켈 등의 금속 도금을 행하여 도금층(요철 패턴 전사용 재료)을 적층 하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 이어서, 2차 공정용 형성물의 요철 패턴과 접하고 있는 측의 면에, 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하는 공정과, 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 포함하는 방법. (d) a step of laminating a plating layer (material for transferring concave-convex pattern) by performing metal plating such as nickel on the surface on which the concave-convex pattern of the process sheet original is formed, and peeling the plating layer from the process sheet disc to form a metal secondary process. After the step of producing water, and then the step of applying the uncured ionizing radiation-curable resin to the surface of the side in contact with the concave-convex pattern of the formation for secondary process, and the ionizing radiation to cure the curable resin And the process of peeling the hardened coating film with the formation for secondary processes.

(e)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 도금층(요철 패턴 전사용 재료)을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철 패턴과 접하고 있는 측의 면에 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정과, 가열에 의해 상기 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 포함하는 방법. (e) a step of laminating a plating layer (concave-convex pattern transfer material) on the surface on which the uneven pattern of the step sheet disc is formed, and a step of peeling the plated layer from the step sheet disc to produce a metal secondary forming product; After hardening the said resin by the process of apply | coating uncured liquid thermosetting resin to the surface of the side which contact | connects the uneven | corrugated pattern of the said formation for secondary processes, and heating, a hardened coating film is peeled off by the formation for secondary processes Method comprising the step of doing.

(f)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 도금층(요철 패턴 전사용 재료)을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철 패턴과 접하고 있는 측의 면에 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 압력을 가하면서 가열해서 연화시킨 후, 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 포함하는 방법. (f) a step of laminating a plating layer (concave-convex pattern transfer material) on the surface on which the uneven pattern of the step sheet disc is formed, and a step of peeling the plated layer from the step sheet disc to produce a metal secondary forming product; And a step of bringing a sheet-shaped thermoplastic resin into contact with a surface of the side in contact with the uneven pattern of the secondary process formation, and softening by heating the sheet-shaped thermoplastic resin while applying pressure to the secondary process formation. Thereafter, the method includes a step of cooling, and a step of peeling the cooled sheet-shaped thermoplastic resin with the secondary-form forming product.

상기 (a)의 방법을 구체적으로 설명한다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 우선, 웹 형상의 공정 시트 원판(110)의 요철 패턴(112a)이 형성된 면에 코터(120)에 의해 미경화의 액상 전리 방사선 경화성 수지(112c)를 도포한다. 그 다음에, 상기 경화성 수지를 도포한 공정 시트 원판(110)을 롤(130)을 이용하여 가압함으로써, 상기 경화성 수지를 공정 시트 원판(110)의 요철 패턴(112a) 내부에 충전한다. 그 후, 전리 방사선 조사 장치(140)에 의해 전리 방사선을 조사하고, 경화성 수지를 가교·경화시킨다. 그리고, 경화 후의 전리 방사선 경화성 수지를 공정 시트 원판(110)으로부터 박리시킴으로써 웹 형상의 광확산체(150)를 제조할 수 있다. The method of said (a) is demonstrated concretely. As shown in FIG. 8, first, the uncured liquid ionizing radiation curable resin 112c is apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern 112a of the web-shaped process sheet original 110 was formed by the coater 120. As shown in FIG. Next, by pressing the process sheet original plate 110 coated with the curable resin using the roll 130, the curable resin is filled into the concave-convex pattern 112a of the process sheet original plate 110. Thereafter, the ionizing radiation is irradiated by the ionizing radiation irradiation device 140 to crosslink and cure the curable resin. And the web-shaped light-diffusion body 150 can be manufactured by peeling the ionizing radiation curable resin after hardening from the process sheet original plate 110. FIG.

상기 (a)의 방법에 있어서, 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에는 이형성(mold releasability)을 부여할 목적으로, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포하기 전에, 실리콘 수지, 불소 수지 등으로 이루어지는 층을 1∼10nm정도의 두께로 마련해도 무방하다. In the method of (a), before the uncured ionizing radiation curable resin is applied to the surface on which the uneven pattern of the process sheet disc is formed, a mold releasability is formed, a silicone resin, a fluorine resin, or the like is formed. You may provide a layer in thickness of about 1-10 nm.

공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포하는 코터로는 T 다이코터, 롤 코터, 바 코터 등이 사용될 수 있다. As the coater for applying the uncured ionizing radiation curable resin to the surface on which the uneven pattern of the process sheet original plate is formed, a T die coater, a roll coater, a bar coater, or the like may be used.

미경화의 전리 방사선 경화성 수지로는 에폭시 아크릴레이트, 에폭시화 오일아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스텔아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 비닐/아크릴레이트, 폴리엔/아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트, 폴리에틸렌 부타디엔, 폴리스티릴메틸메타크릴레이트 등의 프레폴리머, 지방족아크릴레이트, 지환식아크릴레이트, 방향족아크릴레이트, 수산기함유아크릴레이트, 알릴기함유아크릴레이트, 글리시딜기함유아크릴레이트, 카르복시기함유아크릴레이트, 할로겐함유아크릴레이트 등의 모노머 중에서 선택되는 1종류 이상의 성분을 함유하는 것이 사용될 수 있다. 미경화의 전리 방사선 경화성 수지는 용매 등으로 희석하는 것이 바람직하다. Uncured ionizing radiation curable resins include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, silicone acrylic Prepolymers such as acrylate, polyethylene butadiene, polystyrylmethylmethacrylate, aliphatic acrylate, alicyclic acrylate, aromatic acrylate, hydroxyl group-containing acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxyl group-containing acrylic One containing one or more kinds of components selected from monomers such as acrylate and halogen-containing acrylate can be used. The uncured ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like.

또한, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지에는 불소 수지, 실리콘 수지 등을 첨가해도 무방하다. Moreover, you may add a fluororesin, a silicone resin, etc. to uncured ionizing radiation curable resin.

미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 자외선에 의해 경화할 경우, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지에 아세트페논류, 벤조페논류 등의 광중합 개시제를 첨가하는 것이 바람직하다. When the uncured ionizing radiation curable resin is cured by ultraviolet rays, it is preferable to add photopolymerization initiators such as acetphenones and benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resins.

미경화의 액상전리 방사선 경화성 수지를 도포한 후에는, 수지 또는 유리 등으로 이루어지는 기판을 서로 붙인 후에 전리 방사선을 조사해도 무방하다. 전리 방사선의 조사는 기판, 공정 시트 원판 중 전리 방사선 투과성을 갖는 어느 하나로부터 수행하면 된다. After applying the uncured liquid ionizing radiation curable resin, the ionizing radiation may be irradiated after the substrates made of resin or glass are bonded together. Irradiation of the ionizing radiation may be performed from any one having an ionizing radiation permeability among the substrate and the process sheet disc.

경화 후, 전리 방사선 경화성 수지 시트의 두께는 0.1∼100㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다. 경화 후의 전리 방사선 경화성 수지 시트의 두께가 0.1㎛ 이상이면, 충분한 강도를 확보할 수 있고, 100㎛이상이면, 충분한 가요성을 확보할 수 있다. After hardening, it is preferable that the thickness of an ionizing radiation curable resin sheet shall be about 0.1-100 micrometers. Sufficient intensity | strength can be ensured that the thickness of the ionizing radiation curable resin sheet after hardening is 0.1 micrometer or more, and sufficient flexibility can be ensured that it is 100 micrometers or more.

상기 도 8에 나타낸 방법에서는, 공정 시트 원판이 웹 형상이었지만, 낱장의 시트여도 무방하다. 낱장의 시트를 이용할 경우, 낱장의 시트를 평판 형상의 틀로서 사용하는 스탬프법, 낱장의 시트를 롤에 감아서 원통 형상의 틀로서 사용하는 롤 인 프린트법 등이 사용될 수 있다. 또한, 사출 성형기의 틀 안쪽에 낱장의 공정 시트 원판을 배치시켜도 무방하다. In the method shown in the said FIG. 8, although the process sheet original was a web form, a sheet may be sufficient. In the case of using a single sheet, a stamping method using the single sheet as a flat frame, a roll-in printing method of winding the single sheet on a roll and using it as a cylindrical frame can be used. Moreover, you may arrange the sheet process sheet disc inside a frame of an injection molding machine.

그러나, 이들 낱장의 시트를 이용하는 방법에 있어서, 광확산체를 대량 생산하기 위해서는, 요철 패턴을 형성하는 공정을 다수회 되풀이할 필요가 있다. 전리 방사선 경화성 수지와 공정 시트 원판과의 이형성(mold releasability)이 낮은 경우, 요철 패턴을 형성하는 공정을 다수회 되풀이했을 때에 요철 패턴에 막힘이 생기고, 요철 패턴의 전사가 불완전해지는 경향이 있다. However, in the method using these sheets, it is necessary to repeat the process of forming the uneven pattern a plurality of times in order to mass-produce the light diffuser. When the mold releasability between the ionizing radiation curable resin and the process sheet original is low, clogging occurs in the uneven pattern and the transfer of the uneven pattern tends to be incomplete when the process of forming the uneven pattern is repeated many times.

이에 대하여, 도 8에 나타낸 방법에서는, 공정 시트 원판이 웹 형상이기 때문에, 대면적으로 연속적으로 요철 패턴을 형성할 수 있고, 요철 패턴 형성 시트의 반복 사용 횟수가 적어도 필요한 양의 광확산체를 단시간에 제조할 수 있다. On the other hand, in the method shown in FIG. 8, since the process sheet original plate has a web shape, a concave-convex pattern can be continuously formed in a large area, and a light diffusing body having a quantity of at least the required number of repeated use of the concave-convex pattern forming sheet is required for a short time. It can manufacture in.

상기 (b) 및 (e)의 방법에 있어서, 액상 열경화성 수지로서는, 예를 들면, 미경화의 멜라민 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지 등이 사용될 수 있다. In the methods (b) and (e), as the liquid thermosetting resin, for example, an uncured melamine resin, urethane resin, epoxy resin, or the like can be used.

또, 상기 (b)의 방법에 있어서의 경화 온도는 공정 시트 원판의 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 경화 온도가 공정 시트 원판의 유리 전이 온도 이상이면, 경화시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 가능성이 있기 때문이다. Moreover, it is preferable that the hardening temperature in the method of said (b) is lower than the glass transition temperature of a process sheet original plate. It is because there exists a possibility that the uneven | corrugated pattern of a process sheet original plate may deform | transform at the time of hardening if hardening temperature is more than the glass transition temperature of a process sheet original plate.

상기 (c) 및 (f)의 방법에 있어서, 열가소성 수지로서는, 예를 들면, 아크릴수지, 폴리올레핀, 폴리에스테르 등이 사용될 수 있다. In the above methods (c) and (f), for example, an acrylic resin, polyolefin, polyester or the like can be used as the thermoplastic resin.

시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 가압할 때의 압력은 1∼100MPa인 것이 바람직하다. 가압할 때의 압력이 1MPa이상이면, 요철 패턴을 높은 정밀도로 전사시킬 수 있고, 100MPa이하면, 과도한 가압을 막을 수 있다. It is preferable that the pressure at the time of pressing a sheet-like thermoplastic resin to the secondary process formation is 1-100 MPa. If the pressure at the time of pressurization is 1 MPa or more, the uneven pattern can be transferred with high precision, and if it is 100 MPa or less, excessive pressurization can be prevented.

또, 상기 (c)의 방법에 있어서, 열가소성 수지의 가열 온도는 공정 시트 원판의 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 가열 온도가 공정 시트 원판의 유리 전이 온도 이상이면, 가열시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 가능성이 있기 때문이다. Moreover, in the method of said (c), it is preferable that the heating temperature of a thermoplastic resin is lower than the glass transition temperature of a process sheet original plate. It is because there exists a possibility that the uneven | corrugated pattern of a process sheet original plate may deform | transform at the time of heating, if heating temperature is more than the glass transition temperature of a process sheet original plate.

요철 패턴을 높은 정밀도로 전사하기 위하여, 가열후의 냉각 온도는 열가소성 수지의 유리 전이 온도 미만인 것이 바람직하다. In order to transfer uneven | corrugated pattern with high precision, it is preferable that the cooling temperature after heating is less than the glass transition temperature of a thermoplastic resin.

상기 (a)∼(c)의 방법 중에서도, 가열을 생략할 수 있고, 공정 시트 원판의 요철 패턴의 변형을 방지할 수 있다는 점에서, 전리 방사선 경화성 수지를 사용하는 (a)의 방법이 바람직하다. The method of (a) which uses ionizing radiation curable resin is preferable at the point which heating can be abbreviate | omitted and the deformation | transformation of the uneven | corrugated pattern of a process sheet disc can be prevented also in the method of said (a)-(c). .

상기 (d)∼(f)의 방법에 있어서는, 금속제의 2차 공정용 형성물의 두께를 50∼500㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다. 금속제의 2차 공정용 형성물의 두께가 50㎛이상이면, 2차 공정용 형성물이 충분한 강도를 가지고, 500㎛이하면, 충분한 가요성을 확보할 수 있다. In the method of said (d)-(f), it is preferable to make thickness of the metal secondary process formation about 50-500 micrometers. If the thickness of the metal secondary process formation is 50 micrometers or more, the secondary process formation will have sufficient strength, and if it is 500 micrometers or less, sufficient flexibility can be ensured.

상기 (d)∼(f)의 방법에서는, 열에 의한 변형이 작은 금속제 시트를 공정 시트로서 이용하기 위해, 요철 패턴 형성 시트용의 재료로서 전리 방사선 경화성 수지, 열경화성 수지, 열가소성 수지 모두 사용할 수 있다. In the method of said (d)-(f), in order to use a metal sheet with a small deformation | transformation by heat as a process sheet | seat, all of an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin can be used as a material for an uneven | corrugated pattern formation sheet.

상기 (a)∼(f)의 방법으로 제조된 요철 패턴 형성 시트를 광확산체로서 사용할 경우, 광확산 효과를 더욱 향상시키기 위하여 요철 패턴 형성 시트에 무기화합물로 이루어지는 광확산제, 유기 화합물로 이루어지는 유기 광확산제 혹은 미세거품을 함유시킬 수 있다. In the case where the uneven pattern forming sheet manufactured by the method (a) to (f) is used as the light diffusing body, in order to further improve the light diffusing effect, the uneven pattern forming sheet comprises a light diffusing agent comprising an inorganic compound and an organic compound. It can contain an organic light diffusing agent or a microbubble.

또한, 상기 (d)∼(f)에서는 공정 시트 원판의 요철 패턴을 금속에 전사시켜 2차 공정용 형성물을 얻었지만, 수지에 전사시켜 2차 공정용 형성물을 얻어도 무방하다. 그 경우에 사용할 수 있는 수지로서는, 예를 들면, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리설폰, (a)의 방법에 사용되는 전리 방사선 경화성 수지 등이 사용될 수 있다. 전리 방사선 경화성 수지를 이용할 경우에는, 상기 (a)의 방법과 동일하게, 전리 방사선 경화성 수지를 도포, 경화, 박리하여 2차 공정용 형성물을 얻는다. In addition, in the said (d)-(f), although the uneven | corrugated pattern of a process sheet disc was transferred to metal, the secondary process formation was obtained, You may transfer to resin and obtain the secondary process formation. As the resin that can be used in that case, for example, polycarbonate, polyacetal, polysulfone, ionizing radiation curable resin used in the method of (a) and the like can be used. When using an ionizing radiation curable resin, an ionizing radiation curable resin is apply | coated, hardened, and peeled similarly to the method of said (a), and the formation for secondary processes is obtained.

상술한 바와 같이 하여 얻은 광확산체에는 요철 패턴이 형성된 면과 반대인 면에 점착제층을 마련해도 무방하다. 또, 요철 패턴이 형성된 면과 반대측의 면에 요철 패턴을 더 형성해도 무방하다. In the light diffuser obtained as described above, an adhesive layer may be provided on the surface opposite to the surface on which the uneven pattern is formed. Moreover, you may further form an uneven | corrugated pattern in the surface on the opposite side to the surface in which the uneven | corrugated pattern was formed.

또, 공정 시트 원판으로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트 또는 2차 공정용 형성물을 박리하지 않고 보호층으로서 이용하다가 광확산체의 사용 직전에 보호층을 박리해도 좋다. Moreover, while using as a protective layer, without peeling the uneven | corrugated pattern formation sheet used as a process sheet original plate, or the formation for secondary processes, you may peel a protective layer immediately before use of a light-diffusion body.

상술한 제조 방법에 의해 제조된 광확산체는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)와 같은 요철 패턴을 포함하기 때문에, 요철의 배향이 흩어져 있어서, 확산의 이방성이 뛰어난다. Since the light diffusing body manufactured by the above-mentioned manufacturing method contains the same uneven | corrugated pattern as the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 mentioned above, the uneven | corrugated orientation is scattered and it is excellent in the anisotropy of diffusion.

광확산체에 있어서는, 요철 패턴 형성 시트의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비해도 무방하다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트의 요철 패턴이 형성되고 있는 측의 면에, 그 면의 오염을 방지하기 위한 불소 수지 또는 실리콘 수지를 주성분으로서 함유하는 두께 1∼5nm 정도의 방오층을 형성할 수 있다. In the light diffusion body, another layer may be provided on one side or both sides of the uneven pattern forming sheet. For example, an antifouling layer having a thickness of about 1 to 5 nm containing a fluorine resin or a silicone resin as a main component can be formed on the surface of the uneven pattern forming sheet on which the uneven pattern is formed. have.

또, 광확산체의 요철 패턴이 형성되지 않은 측의 면에는, 투명 수지제 혹은 유리제의 지지체를 구비할 수 있다. Moreover, the surface of the side in which the uneven | corrugated pattern of a light-diffusion body is not formed can be provided with the support made of transparent resin or glass.

5. 광학 시트5. Optical sheet

5-1. 제1 실시 형태 5-1. First embodiment

본 발명의 광학 시트의 제1 실시 형태에 대해서 설명한다. 1st Embodiment of the optical sheet of this invention is described.

도 13은 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 13에서는, 설명을 용이하게 하기 위해서, 요철영역(212)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 13 shows the optical sheet of the present embodiment. In addition, in FIG. 13, in order to make description easy, the uneven | corrugated area | region 212 is expanded and at the same time, the arrangement is shown sparsely.

본 실시 형태의 광학 시트(210a)는 길이방향의 일단(α)에 광원(330)을 배치시키는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것으로서, 평탄한 한 면(211)에는, 외형이 타원 형상의 요철영역(212)이 광학 시트(210a)의 길이방향의 일단(α)로부터 상기 일단(α)에 대향하는 타단(β)을 향함에 따라서 점차로 조밀해지도록 형성되어 있다. 상기 요철영역(212)은 도트 형상으로 분산하여 배치되어 있다. 한편, 본 발명에 있어서, 평탄이라는 것는 JIS B0601에 기재된 중심선평균 거칠기가 0.1㎛ 이하인 것을 의미한다. 또, 요철영역은 JIS B0601에 기재된 중심선평균 거칠기가 0.1㎛을 넘고, 바람직하게는, 0.5㎛ 이상이다. The optical sheet 210a of this embodiment can be used as a light-diffusion sheet for arranging the light source 330 at one end α in the longitudinal direction. The flat sheet 211 has an elliptic uneven region having an external shape. 212 is formed so as to become denser gradually from one end α in the longitudinal direction of the optical sheet 210a toward the other end β opposite to the one end α. The uneven areas 212 are arranged in a dot shape. In addition, in this invention, flat means that the centerline average roughness described in JIS B0601 is 0.1 micrometer or less. In addition, the uneven region has a centerline average roughness described in JIS B0601 of more than 0.1 µm, preferably 0.5 µm or more.

*요철영역* Uneven Area

요철영역(12)은 요철 패턴을 갖는 영역이다. 본 실시 형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 요철영역(12)의 표면에 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)이 형성되어 있다. The uneven region 12 is a region having an uneven pattern. In this embodiment, as shown in FIG. 1, the wavy concave-convex pattern 12a meandering on the surface of the concave-convex region 12 is formed.

광확산 시트로 이용되는 본 실시 형태의 광학 시트(210a)에서는, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛인 것이 바람직하고, 특히, 1㎛~10㎛인 것이 보다 바람직하다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛미만이면, 가시광의 파장 이하가 되어 가시광이 요철 패턴(12a)에서 굴절하지 않고 광이 투과해 버리고, 20㎛를 넘으면 확산의 이방성이 낮아져서 휘도에 얼룩을 발생시키기 쉬운 경향이 있다. In the optical sheet 210a of this embodiment used as a light-diffusion sheet, it is preferable that the closest pitch A of the uneven | corrugated pattern 12a is 1 micrometer-20 micrometers, Especially 1 micrometer-10 micrometers It is more preferable that is. If the pitch A is less than 1 μm, the light becomes less than the wavelength of visible light, and the visible light does not refract in the uneven pattern 12a, and light passes therethrough. If it exceeds 20 μm, the anisotropy of diffusion is lowered and the luminance is uneven. Tends to be easily generated.

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철 패턴의 평균 깊이(B)의 비교(B/A, 이하, '어스펙트비'라고 함)는 0.1∼3.0인 것이 바람직하다. 어스펙트비가 0.1미만이면, 원하는 광학특성이 얻을 수 없다. 한편, 어스펙트비가 3.0보다 커지면, 광학 시트(210a)의 제조에서 요철 패턴(12a)을 형성하는 것이 어려워지는 경향이 있다. It is preferable that the comparison (B / A, hereinafter, referred to as 'aspect ratio') of the average depth B of the uneven pattern to the most frequent pitch A of the uneven pattern 12a is 0.1 to 3.0. . If the aspect ratio is less than 0.1, desired optical characteristics cannot be obtained. On the other hand, when the aspect ratio is larger than 3.0, it is difficult to form the uneven pattern 12a in the manufacture of the optical sheet 210a.

여기에서, 평균 깊이(B)라는 것는 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이이다. Here, the average depth B is the average depth of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a.

또, 바닥부(12b)라는 것는 요철 패턴(12a)의 요부의 극소점이며, 평균 깊이(B)는 요철영역(12)을 단경 방향에 따라 절단한 단면(도 2 참조)을 보았을 때의, 광학 시트(10a) 전체의 면방향과 평행한 기준선(L1)으로부터 각 돌부의 정부까지의 길이(B1, B2, B3...)의 평균치(BAV)와, 기준선(L1)으로부터 각 요부의 바닥부까지의 길이(b1, b2, b3...)의 평균치(bAV)와의 차(bAV-BAv)이다. Moreover, the bottom part 12b is the minimum point of the recessed part of the uneven | corrugated pattern 12a, and the average depth B is when the cross section which cut | disconnected the uneven | corrugated area | region 12 along the short diameter direction (refer FIG. 2), Average value BAV of the lengths B1, B2, B3 ... from the reference line L1 parallel to the plane direction of the entire optical sheet 10a to the top of each projection, and the bottom of each recess from the reference line L1. It is the difference (bAV-BAv) from the average value bAV of the lengths b1, b2, b3 ... to the negative.

평균 깊이(B)를 측정하는 방법으로서는, 원자간력 현미경에 의해 촬영한 요철 패턴(12a)의 단면의 화상에서 각 바닥부(12b)의 깊이를 측정하고, 그것들의 평균치를 구하는 방법 등이 사용될 수 있다. As a method of measuring the average depth B, a method of measuring the depth of each bottom portion 12b in an image of a cross section of the uneven pattern 12a taken by an atomic force microscope, and calculating the average of them, etc. may be used. Can be.

본 실시 형태와 같이 요철 패턴(12a)이 한 방향에 따르고 있을 경우, 사행이라는 것는 이하의 방법으로 구해지는 요철 패턴의 배향도가 0.3이상이 되는 것을 의미한다. 이 배향도는 요철 패턴의 배향의 편차의 지표이며, 그 값이 클수록 요철 패턴의 배향이 흩어져 있는 것을 나타낸다. When the uneven pattern 12a is in one direction as in the present embodiment, "meandering" means that the degree of orientation of the uneven pattern determined by the following method is 0.3 or more. This degree of orientation is an index of the deviation of the alignment of the uneven pattern, and the larger the value, the more the orientation of the uneven pattern is scattered.

상기 배향도가 0.3 미만이면, 요철 패턴(12a)의 배향의 편차가 작아지기 때문에 광의 확산성이 작아진다. When the said degree of orientation is less than 0.3, since the deviation of the orientation of the uneven | corrugated pattern 12a becomes small, the diffusivity of light becomes small.

또한, 배향도는 1.0이하인 것이 바람직하다. 배향도가 1.0을 넘으면, 요철 패턴(12a)의 방향이 어느 정도 랜덤이 되기 때문에, 광확산성은 높아지지만 이방성이 낮아지는 경향이 있다. Moreover, it is preferable that orientation degree is 1.0 or less. If the degree of orientation exceeds 1.0, the direction of the uneven pattern 12a becomes random to some extent, so that the light diffusivity is high but the anisotropy tends to be low.

배향도를 0.3이상으로 하기 위해서는, 예를 들면, 후술하는 제조에 있어서, 가열 수축성 필름과 요철영역 형성용 돌부를 적절히 선택하여야 한다. In order to make the degree of orientation 0.3 or more, for example, in the production described later, the heat shrinkable film and the protrusions for forming the uneven region should be appropriately selected.

또, 배향도가 0.3 이상인 요철 패턴이 한 표면에 형성된 금형을 이용해서 투명 수지를 형성하는 방법을 이용해도 무방하다. Moreover, you may use the method of forming a transparent resin using the metal mold | die formed in the uneven | corrugated pattern with an orientation degree 0.3 or more on one surface.

광학 시트(210a)의 한 면의 면적에 대한 요철영역(212)의 면적비율은, 원하는 광확산성에 따라 다르지만, 30∼100%인 것이 바람직하다. 요철영역(212)의 면적비율이 30%이상이면, 충분한 광확산성을 발휘한다. Although the area ratio of the uneven | corrugated area | region 212 with respect to the area | region of one surface of the optical sheet 210a changes with desired light diffusivity, it is preferable that it is 30 to 100%. If the area ratio of the uneven region 212 is 30% or more, sufficient light diffusivity is exhibited.

*광학 시트의 구성 재료* Constituent material of optical sheet

광학 시트(210a)는 가시광의 투과율이 높은(구체적으로는, 가시광의 전 광선투과율이 85%이상) 투명수지로 이루어진다. The optical sheet 210a is made of a transparent resin having a high transmittance of visible light (specifically, a total light transmittance of visible light of 85% or more).

또, 광학 시트(10a)에는 내열성, 내광성을 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 해치지 않는 범위 내에서, 첨가제를 함유시킬 수 있다. 첨가제로는 광안정제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 윤활제, 광확산제 등이 사용될 수 있다. 그 중에서도 광안정제를 첨가하는 것이 바람직하고, 그 첨가량은 투명수지 100질량부에 대하여 0.03∼2.0질량부인 것이 바람직하다. 광안정제의 첨가량이 0.03질량부 이상이면, 그 첨가 효과를 충분히 발휘할 수 있지만, 2.0질량부를 넘으면, 과도한 양이 되어 불필요한 비용의 상승을 초래한다. In addition, the optical sheet 10a can contain an additive within the range of not impairing optical properties such as light transmittance, for the purpose of improving heat resistance and light resistance. As the additive, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a light diffusing agent, or the like may be used. Especially, it is preferable to add a light stabilizer, and it is preferable that the addition amount is 0.03-2.0 mass parts with respect to 100 mass parts of transparent resins. If the addition amount of the light stabilizer is 0.03 parts by mass or more, the addition effect can be sufficiently exhibited. If it exceeds 2.0 parts by mass, it becomes an excessive amount and causes an unnecessary increase in cost.

또, 광학 시트(210a)에는, 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학 특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 무기화합물로 이루어지는 무기광확산제, 유기 화합물로 이루어지는 유기광확산제를 함유시킬 수 있다. In addition, the optical sheet 210a includes an inorganic light diffuser made of an inorganic compound and an organic light diffuser made of an organic compound within the range of not significantly impairing optical properties such as light transmittance, for the purpose of further improving the light diffusion effect. It can contain an agent.

무기광 확산제로는 실리카, 화이트 카본, 탈크, 산화 마그네슘, 산화 아연, 산화 티타늄, 탄산 칼슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 규산 칼슘, 규산 마그네슘, 규산 알루미늄, 규산 알루미늄화 나트륨, 규산아연, 유리, 마이카 등이 사용될 수 있다. Inorganic light diffusing agents include silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, sodium silicate, zinc silicate, glass, mica And the like can be used.

유기광확산제로는 스티렌계 중합입자, 아크릴계 중합입자, 실록산계 중합 입자, 폴리아미드계 중합입자 등이 사용될 수 있다. 이들의 광확산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용될 수 있다. As the organic light diffusing agent, styrene polymer particles, acrylic polymer particles, siloxane polymer particles, polyamide polymer particles, or the like may be used. These light diffusing agents can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또, 뛰어난 광산란 특성을 얻기 위해서, 이들의 광확산제는 페탈 또는 구정(spherocrystal) 형상 등의 다공질구조로 할 수도 있다. Moreover, in order to acquire the outstanding light-scattering characteristic, these light-diffusion agents can also be made into porous structures, such as a petal or a spherocrystal shape.

광확산제의 함유량은, 광투과성을 감소시키지 않기 위해, 투명수지 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하다. It is preferable that content of a light-diffusion agent is 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of transparent resins, in order not to reduce light transmittance.

또한, 광학 시트(210a)에는, 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 미세거품을 함유시킬 수 있다. 미세거품은 광의 흡수가 적어 광투과율을 저하시키기 않는다. In addition, the optical sheet 210a can contain fine bubbles within a range that does not significantly impair optical characteristics such as light transmittance for the purpose of further improving the light diffusion effect. The microbubbles have a low absorption of light and do not lower the light transmittance.

미세거품의 형성 방법으로서는, 광학 시트(210a)에 발포제를 혼입하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 1993-212811호 공보, 일본 특허 공개공보 1994-107842호 공보에 공개된 방법)이나, 아크릴계 발포 수지를 발포 처리시켜 미세거품을 함유하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 2004-2812호 공보에 공개된 방법)등을 적용할 수 있다. 또한, 미세거품은 보다 균일한 면조사가 가능해지도록 특정한 위치에 불균일하게 발포시키는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 2006-124499호 공보에 공개된 방법)이 바람직하다. As a method of forming a fine foam, the method of mixing a foaming agent in the optical sheet 210a (for example, the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 1993-212811, the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 1994-107842), and the acryl type The method of foaming a foamed resin and containing a microbubble (for example, the method disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-2812) etc. can be applied. In addition, a method in which the microbubbles are foamed unevenly at a specific position so as to enable more uniform surface irradiation (for example, a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2006-124499) is preferable.

한편, 상기 광확산제와 미세발포를 병용할 수도 있다. On the other hand, the light diffusing agent and fine foaming may be used in combination.

*광학 시트의 두께 * Thickness of optical sheet

광학 시트(10a)의 두께는 0.02∼3.0mm이 바람직하고, 0.05∼2.5mm이 보다 바람직하고, 0.1∼2.0mm이 특히 바람직하다. 광학 시트(10a)의 두께가 0.02mm미만이면, 요철 패턴(12a)의 깊이보다도 작을 수 있기 때문에 적당하지 않고, 3.0mm보다도 두꺼우면 광학 시트(10a)의 질량이 커지기 때문에 취급하기 어려워지는 문제점이 있다. 0.02-3.0 mm is preferable, as for the thickness of the optical sheet 10a, 0.05-2.5 mm is more preferable, 0.1-2.0 mm is especially preferable. If the thickness of the optical sheet 10a is less than 0.02 mm, it may be smaller than the depth of the concave-convex pattern 12a, and is not suitable. If the thickness of the optical sheet 10a is larger than 3.0 mm, the mass of the optical sheet 10a becomes large. have.

광학 시트(210a)는 2층 이상의 수지층으로 구성되어 있어도 무방하다. 광학 시트(10a)가 2층 이상의 층으로 구성되고 있는 경우도, 광학 시트(210a)의 두께는 0.02∼3.0mm인 것이 바람직하다. The optical sheet 210a may be comprised from two or more resin layers. Also in the case where the optical sheet 10a is composed of two or more layers, the thickness of the optical sheet 210a is preferably 0.02 to 3.0 mm.

*사용 방법*How to use

상기 광학 시트(210a)는 광확산 시트로서 이용될 수 있다. 구체적으로는, 광학 시트(210a)는 일단(α)에 광원(330)을 인접시켜 사용된다. 광학 시트(210a)의 일단(α)에 광원(330)을 배치시킴에 따라, 광학 시트(210a) 내부를 통해 광이 전파된다. 또, 광학 시트(210a) 안을 전파한 광은 요철영역(212)에서 확산되고, 요철영역(212)이 형성된 측의 면을 통해 출사한다. 게다가, 요철영역(212)은 일단(α)로부터 타단(β)을 향함에 따라 점차로 조밀해지는 패턴으로 배치되어 있기 때문에, 타단(β)을 향함에 따라서 광의 출사량이 많아진다. 일반적으로, 광학 시트(210a) 안을 전파하는 광의 강도는 광원(330)으로부터 멀어짐에 따라서 약해지지만, 타단(β)을 향함에 따라서 광의 출사량이 많아지므로, 광학 시트(210a)로부터 출사되는 광의 강도를 균일하게 할 수 있다. The optical sheet 210a may be used as a light diffusion sheet. Specifically, the optical sheet 210a is used with the light source 330 adjacent to one end α. As the light source 330 is disposed at one end α of the optical sheet 210a, light propagates through the inside of the optical sheet 210a. In addition, the light propagated in the optical sheet 210a diffuses in the uneven region 212 and exits through the surface on the side where the uneven region 212 is formed. In addition, since the uneven region 212 is arranged in a pattern gradually densified from one end α to the other end β, the amount of light output increases as it goes toward the other end β. In general, the intensity of light propagating in the optical sheet 210a weakens as it moves away from the light source 330. However, since the amount of light emitted increases toward the other end β, the intensity of the light emitted from the optical sheet 210a is increased. It can be made uniform.

광학 시트(120a)를 사용할 때는, 광원(330)으로부터의 광의 이용 효율을 높이기 위해서, 요철영역(212)을 갖지 않는 면에 반사판을 설치하는 것이 바람직하다. When using the optical sheet 120a, in order to raise the utilization efficiency of the light from the light source 330, it is preferable to provide a reflecting plate in the surface which does not have the uneven area | region 212. FIG.

이상 설명한 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)는 요철영역(212)의 표면에 형성된 요철 패턴(12a)에 의해 광확산성을 발휘한다. 또, 요철영역(212)을 광학 시트(210a)의 길이방향의 타단(β)측에서 갈수록 조밀해지는 패턴으로 배치하여 길이방향의 타단(β)측으로 갈수록 광확산성이 높아지도록 하고 있다. 이렇게, 광학 시트(210a)는 요철영역(212)사이의 간격에 의해 광확산성을 조정할 수 있기 때문에, 소망하는 위치에서 소망하는 광확산성을 용이하게 얻을 수 있다. The optical sheet 210a of the first embodiment described above exhibits light diffusibility by the uneven pattern 12a formed on the surface of the uneven region 212. Further, the uneven region 212 is arranged in a pattern that becomes denser toward the other end β in the longitudinal direction of the optical sheet 210a, so that light diffusivity becomes higher toward the other end β in the longitudinal direction. In this way, since the optical diffusing property can be adjusted by the interval between the uneven regions 212, the optical sheet 210a can easily obtain the desired light diffusing property at a desired position.

*제조 방법* Manufacturing method

광학 시트(210a)를 제조하는 방법의 예에 대해서 설명한다. An example of the method of manufacturing the optical sheet 210a is demonstrated.

(제1 제조 방법) (First manufacturing method)

제1 제조 방법은 가열 수축성 필름을 이용하여 광학 시트(210a)를 제조하는 방법이다. The first manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 210a using a heat shrinkable film.

즉, 제1 제조 방법은 가열 수축성 필름의 한 면에, 표면이 평평한 수지제의 요철영역 형성용 돌부를 인쇄해서 인쇄 시트를 형성하는 공정(이하, 제1 공정이라고 한다)과, 가열 수축성 필름을 가열 수축시켜 인쇄 시트의 적어도 요철영역 형성용 돌부를 접듯이 변형시키는 공정(이하, 제2 공정이라고 한다)을 이용하여 광학 시트(210a)로 사용되는 요철 패턴 형성 시트를 제조하는 방법이다. That is, a 1st manufacturing method prints on one surface of a heat shrinkable film the resin uneven | corrugated area formation protrusion of a flat surface, and forms a printing sheet (henceforth a 1st process), and a heat shrinkable film It is a method of manufacturing the uneven | corrugated pattern formation sheet used for the optical sheet 210a using the process (it is called a 2nd process hereafter) which deform | transforms at least the uneven | corrugated area formation protrusion of a printing sheet by folding.

*제1 공정 * First process

제1 공정에서, 도 14 및 도 15에 나타낸 바와 같이, 가열 수축성 필름(13)의 한 면에 요철영역 형성용 돌부(14)를 인쇄하는 방법으로는, 예를 들면, 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 오프셋 인쇄, 잉크젯 인쇄 등이 적용될 수 있다. In the first step, as shown in Figs. 14 and 15, as a method of printing the uneven region forming protrusions 14 on one surface of the heat shrinkable film 13, for example, screen printing, gravure printing, Offset printing, inkjet printing and the like can be applied.

가열 수축성 필름(13)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 쉬링크 필름, 폴리스티렌계 쉬링크 필름, 폴리올레핀계 쉬링크 필름, 폴리에틸렌 염화 비닐계 쉬링크 필름 등이 사용될 수 있다. As the heat shrinkable film 13, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, a polyethylene vinyl chloride shrink film, or the like can be used.

가열 수축성 필름(213)은 50∼70% 수축하는 것이 바람직하다. 50∼70% 수축하는 쉬링크 필름을 이용하면, 변형율을 50% 이상으로 할 수 있어서, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛이고, 어스펙트비가 0.1 이상인 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있다. It is preferable that the heat shrinkable film 213 shrinks 50 to 70%. When 50-70% shrinking shrink film is used, the strain can be 50% or more, the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a is 1 µm to 20 µm, and the aspect ratio is 0.1. The above-mentioned uneven | corrugated pattern formation sheet can be manufactured easily.

여기서, 변형율이라는 것은 "(변형전의 길이-변형후의 길이)/(변형전의 길이)×100 (%)" 또는, "(변형한 길이)/ (변형전의 길이)×100 (%)"이다. Here, the strain is "(length before deformation-length after deformation) / (length before deformation) x 100 (%)" or "(deformed length) / (length before deformation) x 100 (%)".

요철영역 형성용 돌부(214)는 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성하기 위하여 가열 수축성 필름(213)을 구성하는 수지(제1 수지)보다 10도 이상 높은 유리 전이 온도를 갖는 수지(제2 수지)로 구성한다. The uneven region forming protrusion 214 has a glass transition temperature of 10 degrees or more higher than that of the resin (first resin) constituting the heat shrinkable film 213 in order to easily form a wavy wavy uneven pattern 12a. It consists of resin (2nd resin).

제2 수지로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜, 폴리스티렌, 아크릴수지, 스티렌-아크릴 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르설폰, 불소 수지 등이 사용될 수 있다. As the second resin, for example, polyvinyl alcohol, polystyrene, acrylic resin, styrene-acryl copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, poly Ethersulfone, fluororesin and the like can be used.

요철영역 형성용 돌부(214)의 표면은, 소망하는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있도록, JIS B0601에 기재된 중심선 평균 거칠기 0.1㎛ 이하로 한다. The surface of the convex-convex region forming protrusion 214 is made to have a centerline average roughness of 0.1 μm or less described in JIS B0601 so that the desired concave-convex pattern 12a can be easily formed.

또, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께는 0.05∼5.0㎛으로 하는 것이 바람직하고, 0.1∼1.0㎛으로 하는 것이 보다 바람직하다. 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께가 상기 범위라면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. 그러나, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께를 0.05㎛ 미만으로 하면 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하가 될 수 있고, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께가 5.0㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수 있다. In addition, the thickness of the protrusions 214 for forming the uneven region is preferably 0.05 to 5.0 µm, more preferably 0.1 to 1.0 µm. If the thickness of the uneven | corrugated area | region formation protrusion 214 is the said range, the closest pitch A of the uneven | corrugated pattern 12a can be reliably set to 1 micrometer-20 micrometers. However, if the thickness of the uneven region forming protrusion 214 is less than 0.05 μm, the closest pitch A may be 1 μm or less, and the thickness of the uneven region forming protrusion 214 is 5.0 μm. If it exceeds, the closest pitch A may exceed 20 micrometers.

또한, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께는 일정하지 않아도 무방하다. 예를 들면, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께는 한 방향에 따라 연속적으로 두터워지거나, 얇아져도 무방하다. In addition, the thickness of the uneven | corrugated area formation protrusion 214 does not need to be constant. For example, the thickness of the uneven region forming protrusion 214 may be continuously thickened or thinned in one direction.

또, 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있도록, 요철영역 형성용 돌부(214)의 영율(Young's modulus)을 0.01∼300GPa로 하는 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa로 하는 것이 보다 바람직하다. In addition, the Young's modulus of the convex-convex region forming protrusion 214 is preferably 0.01 to 300 GPa so that the meandering wavy concave-convex pattern 12a can be easily formed, and in particular, 0.1 to 10 GPa. It is more preferable to do.

*제2 공정 Second process

제2 공정에서, 가열 수축성 필름(213)을 열수축 시킴에 따라, 요철영역 형성용 돌부(214)의 수축 방향에 대하여 수직한 방향으로 물결 형상의 요철 패턴(12a)를 형성시켜, 요철영역(212)을 얻는다(도 16참조). In the second step, as the heat shrinkable film 213 is thermally contracted, the wavy concave-convex pattern 12a is formed in a direction perpendicular to the contraction direction of the convex-convex region forming protrusion 214, thereby forming the concave-convex region 212. ) (See Fig. 16).

가열 수축성 필름(2)을 가열 수축할 때의 가열 방법으로서는, 열풍, 증기 또는 열수 속을 통과시키는 방법 등이 있고, 그 중에서도, 균일에 수축하기 위하여 열수에 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method at the time of heat shrinking the heat shrinkable film 2, the method etc. which let a hot air, steam, or a hot water pass through are passed, and the method of making it pass through hot water especially in order to shrink uniformly is preferable.

이 제조 방법에서는, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께가 얇고 요철영역형성용 돌부(214)의 영율(Young's modulus)이 낮을수록, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 작아지고, 가열 수축성 필름의 변형율이 높을수록, 평균 깊이(B)가 깊어진다.In this manufacturing method, the thinner the thickness of the uneven region forming protrusion 214 and the lower the Young's modulus of the uneven region forming protrusion 214, the lower the pitch A of the uneven pattern 12a. Becomes small, and the higher the strain rate of the heat shrinkable film, the deeper the average depth B.

상기 제1 제조 방법에서는, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도에서, 요철영역 형성용 돌부(214)의 영율(Young's modulus)이 가열 수축성 필름(213)의 영률보다 높아진다. 따라서, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도로 가공했을 때, 요철영역 형성용 돌부(214)는 두께가 늘어나기보다는 접히게 된다. 게다가, 요철영역 형성용 돌부(214)는 가열 수축성 필름(213)에 적층 되어 있기 때문에, 가열 수축성 필름(213)의 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 분포된다. 따라서, 가열 수축성 필름(213)을 수축시켜서 요철 영역 형성용 돌부(214)를 접듯이 변형시킴으로써 요철영역(212)를 형성할 수 있다. 따라서, 상기 제조 방법에 의하면, 광학 시트(210a)로 사용되는 요철 패턴 형성 시트를 얻을 수 있다. In the first manufacturing method, at a temperature between the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin, the Young's modulus of the protrusions 214 for forming the uneven region is determined by the heat shrinkable film 213. It is higher than Young's modulus. Therefore, when processing at the temperature between the glass transition temperature of a 1st resin and the glass transition temperature of a 2nd resin, the uneven | corrugated area formation protrusion 214 is folded rather than increasing thickness. In addition, since the uneven region forming protrusion 214 is laminated on the heat shrinkable film 213, the stress due to shrinkage of the heat shrinkable film 213 is uniformly distributed throughout. Therefore, the uneven region 212 can be formed by shrinking the heat shrinkable film 213 and deforming the uneven region forming protrusion 214 to be folded. Therefore, according to the said manufacturing method, the uneven | corrugated pattern formation sheet used for the optical sheet 210a can be obtained.

상기한 바와 같이 하여 얻은 요철 패턴 형성 시트는 그대로 광학 시트(210a)로서 이용될 수 있다. 그 경우, 가열 수축성 필름(213)과 요철영역형성용 돌부(214)에 의해 광학 시트(210a)가 형성된다. The concave-convex pattern forming sheet obtained as described above can be used as the optical sheet 210a as it is. In this case, the optical sheet 210a is formed by the heat shrinkable film 213 and the uneven region forming protrusion 214.

(제2 제조 방법) (Second manufacturing method)

제2 제조 방법은, 제1 제조 방법으로 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용하여 광학 시트(210a)를 제조하는 방법이다. A 2nd manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 210a using the uneven | corrugated pattern formation sheet obtained by the 1st manufacturing method as a process sheet original plate.

공정 시트 원판은 낱장 형상이어도 무방하고, 연속한 시트 형상인 웹 형상이어도 무방하다. The process sheet original may have a sheet shape, or may have a continuous sheet-like web shape.

제2 제조 방법의 구체적인 방법으로서는, 예를 들면, 아래 (a)∼(c)의 방법을 들 수 있다. As a specific method of a 2nd manufacturing method, the method of the following (a)-(c) is mentioned, for example.

(a)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포하는 공정과, 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 갖는 방법. 여기에서, 전리 방사선과는, 통상, 자외선 또는 전자선이지만, 본 발명에서는, 가시광선, X선, 이온 선 등도 포함한다. (a) Process of apply | coating uncured ionizing radiation curable resin to the surface in which the uneven | corrugated area | region of the process sheet original plate was formed, and irradiating an ionizing radiation to harden the said curable resin, and then peeling a hardened coating film from a process sheet original plate How to have a process. Here, the ionizing radiation department is usually an ultraviolet ray or an electron beam, but the present invention also includes visible light, X-rays, ion rays, and the like.

(b)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에, 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정과, 가열하여 상기 액상 열경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (b) a step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the surface on which the uneven region of the step sheet disc is formed; and heating and curing the liquid thermosetting resin, and then peeling the cured coating film from the process sheet disc. How to.

(c)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 시트 형상의 투명 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 투명 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 압력을 가하면서 가열해서 연화시킨 후, 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 투명 열가소성 수지를 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (c) The step of contacting the sheet-shaped transparent thermoplastic resin with the surface on which the uneven | corrugated area | region of the process sheet original plate was formed, and the said sheet-shaped transparent thermoplastic resin heated and softened by applying pressure to a process sheet original, and then cooling. And a step of peeling the cooled sheet-like transparent thermoplastic resin from the process sheet disc.

또, 공정 시트 원판을 이용해서 2차 공정용 형성물을 제작하고, 그 2차 공정용 형성물을 이용해서 광학 시트(10a)를 제조할 수도 있다. 2차 공정용 형성물을 이용하는 구체적인 방법으로, 아래 (d)∼(f)의 방법을 들 수 있다. Moreover, the secondary sheet formation can be produced using a process sheet original board, and the optical sheet 10a can also be manufactured using the formation for secondary processing. As a specific method of using the formation for secondary processes, the method of following (d)-(f) is mentioned.

(d)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 니켈 등의 금속 도금을 행하여 도금층을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 2차 공정용 형성물의 요철영역과 접하고 있는 측의 면에 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하는 공정과, 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (d) a step of laminating a plating layer by performing metal plating such as nickel on the surface on which the uneven region of the step sheet disc is formed, and a step of peeling the plated layer from the step sheet disc to produce a metal secondary forming product; The step of applying the uncured ionizing radiation-curable resin to the surface of the side in contact with the uneven region of the secondary process formation, and irradiating the ionizing radiation to cure the curable resin, then the cured coating film is formed for the secondary process A method comprising the step of peeling from water.

(e)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 도금층을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철영역과 접하고 있는 측의 면에 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정과, 가열에 의해 상기 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (e) a step of laminating a plating layer on the surface on which the uneven region of the step sheet disc is formed, a step of peeling the plated layer from the step sheet disc to produce a metal secondary process formation, and the formation for the secondary step And a step of applying an uncured liquid thermosetting resin to a surface of the side in contact with the uneven region, and a step of peeling the cured coating film from the secondary-process forming product after curing the resin by heating.

(f)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 도금층을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철영역으로 접하고 있는 측의 면에 시트 형상의 투명열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 투명열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 압력을 가하면서 가열해서 연화시킨 후, 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 투명열가소성 수지를 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (f) a step of laminating a plating layer on a surface on which the uneven region of the process sheet original plate is formed, a step of peeling the plating layer from the process sheet original plate to produce a metal secondary process formation, and the formation for the secondary process A step of bringing the sheet-shaped transparent thermoplastic resin into contact with the surface of the side in contact with the uneven region, and heating and softening the sheet-shaped transparent thermoplastic resin by applying pressure to the formation for the secondary process, followed by cooling; And a process of peeling off the cooled sheet-like transparent thermoplastic resin from the formation for secondary processes.

상기 (a)의 방법의 구체적인 예에 대해서 설명한다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 우선, 웹 형상의 공정 시트 원판(110)의 요철영역(112a)이 형성된 면에 코터(120)에 의해 미경화의 액상전리 방사선 경화성 수지(112c)를 도포한다. 그 다음에, 상기 경화성 수지를 도포한 공정 시트 원판(110)을 롤(130)을 이용하여 가압하여 상기 경화성 수지를 공정 시트 원판(110)의 요철영역(112a) 내부에 충전한다. 그 후, 전리 방사선조사 장치(140)에 의해 전리 방사선을 조사하고, 경화성 수지를 가교·경화시킨다. 그리고, 경화 후의 전리 방사선경화성 수지를 공정 시트 원판 (110)으로부터 박리시킴으로써 웹 형상의 광학 시트(210a)를 제조할 수 있다. The specific example of the method of said (a) is demonstrated. As shown in Fig. 8, first, the uncured liquid ionizing radiation curable resin 112c is applied to the surface on which the uneven region 112a of the web-shaped process sheet original 110 is formed by the coater 120. Next, the process sheet original plate 110 coated with the curable resin is pressed using a roll 130 to fill the curable resin inside the uneven region 112a of the process sheet original plate 110. Thereafter, the ionizing radiation is irradiated by the ionizing radiation irradiation device 140 to crosslink and cure the curable resin. And the web-shaped optical sheet 210a can be manufactured by peeling the ionizing radiation curable resin after hardening from the process sheet original plate 110. As shown in FIG.

상기 (a)의 방법에 있어서, 공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에는 이형성(mold releasability)을 부여할 목적으로, 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하기 전에, 실리콘 수지, 불소 수지 등으로 이루어지는 층을 1∼10nm 정도의 두께로 마련해도 무방하다. In the method (a), before the uncured ionizing radiation-curable resin is applied to the surface on which the uneven region of the process sheet disc is formed, a mold releasability is formed. You may provide a layer in thickness of about 1-10 nm.

공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하는 코터로는 T다이 코터, 롤 코터, 바 코터 등이 사용될 수 있다. A T die coater, a roll coater, a bar coater, or the like may be used as a coater for applying the uncured ionizing radiation-curable resin to the surface on which the uneven region of the process sheet disc is formed.

미경화의 전리 방사선경화성 수지로는 에폭시 아크릴레이트, 에폭시화 오일 아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스텔아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 비닐/아크릴레이트, 폴리엔/아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트, 폴리에틸렌 부타디엔, 폴리스티릴메틸메타크릴레이트등의 프레폴리머, 지방족아크릴레이트, 지환식아크릴레이트, 방향족아크릴레이트, 수산기함유아크릴레이트, 알릴기함유아크릴레이트, 글리시딜기함유아크릴레이트, 카르복시기함유아크릴레이트, 할로겐함유아크릴레이트등의 모노머 중에서 선택되는 1종류 이상의 성분을 함유하는 것이 사용될 수 있다. 미경화의 전리 방사선경화성 수지는 용매 등으로 희석하는 것이 바람직하다. Uncured ionizing radiation curable resins include epoxy acrylates, epoxidized oil acrylates, urethane acrylates, unsaturated polyesters, polyester acrylates, polyether acrylates, vinyl / acrylates, polyene / acrylates, and silicone acrylics. Prepolymers such as acrylate, polyethylene butadiene, polystyrylmethylmethacrylate, aliphatic acrylate, alicyclic acrylate, aromatic acrylate, hydroxyl group-containing acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxyl group-containing acrylic One containing one or more kinds of components selected from monomers such as acrylate and halogen-containing acrylate can be used. The uncured ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like.

또, 미경화의 전리 방사선경화성 수지에는 불소 수지, 실리콘 수지 등을 첨가해도 무방하다. In addition, a fluorine resin, a silicone resin, or the like may be added to the uncured ionizing radiation curable resin.

미경화의 전리 방사선경화성 수지를 자외선에 의해 경화할 경우, 미경화의 전리 방사선경화성 수지에 아세트페논류, 벤조페논류 등의 광중합 개시제를 첨가하는 것이 바람직하다. When the uncured ionizing radiation curable resin is cured by ultraviolet rays, it is preferable to add photopolymerization initiators such as acetphenones and benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resins.

상기 (d)의 구체적인 방법은, 상기 (a)의 방법에 있어서의 공정 시트 원판을 상기 공정 시트 원판을 이용해서 제작한 2차 공정용 형성물로 변경한 것 이외에는 상기(a)의 방법과 같다. The specific method of said (d) is the same as the method of said (a) except having changed the process sheet original in the method of said (a) into the formation for secondary processes produced using the said process sheet original. .

또, 상기 (b)의 방법에 있어서의 경화 온도는 공정 시트 원판 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 경화 온도가 공정 시트 원판 유리 전이 온도 이상이면, 경화시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 우려가 있기 때문이다. Moreover, it is preferable that the hardening temperature in the method of said (b) is lower than a process sheet original glass transition temperature. It is because there exists a possibility that the uneven | corrugated pattern of a process sheet original plate may deform | transform at the time of hardening, if hardening temperature is more than a process sheet original glass transition temperature.

상기 (c) 및 (f)의 방법에 있어서의 투명 열가소성 수지로는 예를 들면, 스티렌-메틸메타크릴레이트 공중합체(MS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스티렌(PS), 시클로올레핀폴리머(COP), 폴리카보네이트(PC), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), PET-G, 폴리에테르설폰(PES), 폴리에틸렌 염화 비닐(PVC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등의 수지가 사용될 수 있다. 이들 중에서도, 형성 가공의 관점에서는, MS, PMMA, PS, COP, PC가 바람직하고, 흡습성 및 비용의 관점에서는, MS 가운데 스티렌 함유율이 30∼90질량%인 것이 더욱 바람직하다. As a transparent thermoplastic resin in the method of said (c) and (f), styrene-methylmethacrylate copolymer (MS), polymethylmethacrylate (PMMA), polystyrene (PS), cycloolefin, for example Polymer (COP), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), PET-G, polyethersulfone (PES), polyethylene vinyl chloride (PVC), polyethylene terephthalate (PET) Resins can be used. Among these, MS, PMMA, PS, COP, and PC are preferable from a viewpoint of forming process, and it is more preferable that styrene content is 30-90 mass% in MS from a viewpoint of hygroscopicity and cost.

이들의 투명 열가소성 수지는 단층 혹은 다층구조를 가질 수도 있다. 예를 들면, PS층의 양면에 PMMA층을 마련한 3층 구조의 투명 열가소성 수지 등이 사용될 수 있다. These transparent thermoplastic resins may have a single layer or a multilayer structure. For example, a transparent thermoplastic resin having a three-layer structure in which a PMMA layer is provided on both surfaces of the PS layer can be used.

게다가, 상기 투명열가소성 수지의 표면에 고굴절률의 수지를 설치한 것을 사용할 수도 있다. 고굴절률의 수지로는, 예를 들면, 플루오렌계 에폭시 화합물, 플루오렌계 아크릴레이트화합물, 플루오렌계 폴리에스테르(OKP), 폴리메틸페닐실란(PMPS), 폴리디페닐실란(PDPS)등이 사용될 수 있다. Moreover, what provided the resin of high refractive index on the surface of the said transparent thermoplastic resin can also be used. As the high refractive index resin, for example, a fluorene epoxy compound, a fluorene acrylate compound, fluorene polyester (OKP), polymethylphenylsilane (PMPS), polydiphenylsilane (PDPS) or the like can be used. Can be.

상기 (c)의 방법에 있어서의 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 가압할 때의 압력 및 상기 (f)의 방법에 있어서의 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 가압할 때의 압력은 1∼100MPa인 것이 바람직하다. 가압시의 압력이 1MPa 이상이면, 요철 패턴을 높은 정밀도로 전사시킬 수 있고, 100MPa 이하면 과도한 가압을 막을 수 있다. When pressurizing the sheet-shaped thermoplastic resin in the method of (c) to the process sheet original plate and when pressing the sheet-shaped thermoplastic resin in the method of the above (f) to the secondary-process forming product. The pressure is preferably 1 to 100 MPa. If the pressure at the time of pressurization is 1 MPa or more, the uneven | corrugated pattern can be transferred with high precision, and if it is 100 MPa or less, excessive pressurization can be prevented.

또, 상기 (c)의 방법에 있어서의 열가소성 수지의 가열 온도는 공정 시트 원판 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 가열 온도가 공정 시트 원판 유리 전이 온도 이상이면, 가열시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 우려가 있기 때문이다. Moreover, it is preferable that the heating temperature of the thermoplastic resin in the method of said (c) is lower than the process sheet original glass transition temperature. It is because there exists a possibility that the uneven | corrugated pattern of a process sheet original plate may deform | transform at the time of heating, if heating temperature is more than a process sheet original glass transition temperature.

가열 후의 냉각 온도는, 요철 패턴을 높은 정밀도로 전사 할 수 있도록, 열가소성 수지의 유리 전이 온도 미만인 것이 바람직하다. It is preferable that the cooling temperature after heating is less than the glass transition temperature of a thermoplastic resin so that the uneven | corrugated pattern can be transferred with high precision.

(제3 제조 방법) (Third Manufacturing Method)

제3 제조 방법은 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 수지제의 층 표면에 설치된 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용하여 광학 시트(210a)를 제조하는 방법이다. The third manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 210a by using the uneven pattern forming sheet having the uneven region of metal or metal compound formed on the surface of the resin layer as a process sheet disc.

금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트는 수지제의 요철영역 형성용 돌부를 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역 형성용 돌부로 바꾸고, 요철영역 형성용 돌부를 인쇄 대신 증착에 의해 형성하는 것을 제외하면 제3 제조방법은 제1 제조 방법과 동일하다. The uneven pattern forming sheet provided with the uneven region of metal or metal compound is formed by changing the uneven region forming protrusion of resin into the uneven region forming protrusion of metal or metal compound, and forming the uneven region forming protrusion by vapor deposition instead of printing. Except for doing this, the third manufacturing method is the same as the first manufacturing method.

즉, 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법은 가열 수축성 필름의 한 면에 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부를 진공 증착해서 증착 시트를 형성하는 공정과, 가열 수축성 필름을 가열 수축시켜 적어도 증착 시트의 요철영역형성용 돌부를 접듯이 변형시키는 공정을 구비하는 방법이다. That is, the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet provided with the uneven | corrugated area | region of the metal or the metal compound is provided with the process of forming a vapor deposition sheet by vacuum-depositing the uneven | corrugated area | region formation protrusion of the metal or metal compound on one side of a heat shrinkable film, A heat shrinkable film is heat shrinked to at least deform the protrusions for forming the uneven areas of the deposition sheet.

이 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부의 영율(Young's modulus)이 가열 수축성 필름의 영율(Young's modulus)보다 현격히 크기 때문에, 열압축했을 때에 두께가 늘어나기보다는 접히게 된다. 그 결과, 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트를 얻을 수 있다. 한편, 이 요철 패턴 형성 시트의 요철영역은 광학 시트(210a)의 요철영역과 같다. In the manufacturing method of the uneven pattern forming sheet, since the Young's modulus of the uneven region forming protrusions of the metal or the metal compound is significantly larger than the Young's modulus of the heat shrinkable film, the thickness increases when thermally compressed. Rather than folded. As a result, the uneven pattern forming sheet provided with the uneven region can be obtained. In addition, the uneven | corrugated area | region of this uneven | corrugated pattern formation sheet is the same as the uneven | corrugated area | region of the optical sheet 210a.

제3 제조 방법에 있어서의 요철영역형성용 돌부를 구성하는 금속으로는, 보다 용이하게 요철 패턴(12a)가 형성하기 위하여, 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 비스무트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 금속은 반금속도 포함한다. As a metal which comprises the uneven | corrugated area formation protrusion in a 3rd manufacturing method, in order to form the uneven | corrugated pattern 12a more easily, gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, It is preferably at least one metal selected from the group consisting of palladium, lead, platinum, silicon, tin, titanium, vanadium, zinc and bismuth. The metal mentioned here also includes a semimetal.

금속화합물로서는, 동일한 이유로, 산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 산화 마그네슘, 산화 주석, 산화 구리, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 납, 산화 규소, 불화 바륨, 불화 칼슘, 불화 마그네슘, 유화 아연, 갈륨 비소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속화합물인 것이 바람직하다. As the metal compound, for the same reason, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, copper oxide, indium oxide, cadmium oxide, lead oxide, silicon oxide, barium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, zinc emulsion and gallium It is preferably at least one metal compound selected from the group consisting of arsenic.

요철영역형성용 돌부의 표면은, 소망하는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있도록 하기 위하여, JIS B0601에 기재된 중심선 평균 거칠기를 0.1㎛ 이하로 한다. In order to make it possible to easily form the desired uneven | corrugated pattern 12a, the surface of the uneven | corrugated area formation protrusion part shall be 0.1 micrometer or less in the centerline average roughness described in JIS B0601.

금속제 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부의 두께는 0.01∼0.2㎛으로 하는 것이 바람직하고, 0.05∼0.1㎛으로 하는 것이 보다 바람직하다. 요철영역형성용 돌부의 두께가 상기 범위라면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. 그러나, 요철영역형성용 돌부의 두께를 0.01㎛미만으로 하면 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하가 될 수 있고, 0.2㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수 있다. The thickness of the protrusions for forming the uneven areas of the metal or the metal compound is preferably 0.01 to 0.2 µm, more preferably 0.05 to 0.1 µm. If the thickness of the uneven region forming protrusions is within the above range, the closest pitch A of the uneven pattern 12a can be reliably set to 1 µm to 20 µm. However, if the thickness of the uneven region forming protrusions is less than 0.01 µm, the minimum pitch A may be 1 µm or less. If the thickness exceeds 0.2 µm, the minimum pitch A is 20 µm. Can go beyond

게다가, 요철영역형성용 돌부의 두께는 일정하지 않아도 무방하며, 예를 들면, 한방향에 따라 연속적으로 두터워지거나, 얇아져도 무방하다. In addition, the thickness of the uneven region forming protrusions may not be constant, and may be, for example, thickened or thinned continuously in one direction.

가열 수축성 필름에 금속 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부를 증착할 때는, 가열 수축성 필름의 표면에 형성하려고 하는 요철영역형성용 돌부와 같은 패턴으로 개구한 마스크를 탑재해 둔다. When depositing the uneven | corrugated area formation protrusion of a metal or a metal compound on a heat shrinkable film, the mask which opened in the same pattern as the uneven | corrugated area | region formation protrusion which is going to form on the surface of a heat shrinkable film is mounted.

가열 수축성 필름을 가열 수축시킬 때의 가열 방법으로서는 열풍, 증기 또는 열수 속을 통과시키는 방법 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 균일하게 수축시키기 위하여, 열수 속을 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method at the time of heat shrinking a heat shrinkable film, the method etc. which pass a hot air, steam, or a hot water flow are mentioned, Especially, the method of letting a heat flow through a hot water in order to shrink | contract uniformly is preferable.

제3 제조 방법의 구체적인 방법으로서는, 제2 제조 방법의 (a)∼(f)의 방법에 있어서, 공정 시트 원판으로 이용되는 제2 수지제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트를 대신하여, 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트를 이용하는 방법을 들 수 있다. As a specific method of a 3rd manufacturing method, in the method of (a)-(f) of a 2nd manufacturing method, it replaces with the uneven | corrugated pattern formation sheet in which the uneven | corrugated area of 2nd resin used as a process sheet original plate was provided. Or the method of using the uneven | corrugated pattern formation sheet provided with the uneven | corrugated area | region made from a metal compound is mentioned.

(제4 제조 방법) (Fourth manufacturing method)

제4 제조 방법은 금형과 상기 금형을 가열 냉각하는 가열 냉각 수단과 상기 금형을 가압하는 가압 수단을 구비하는 형성 장치를 이용하여, 미형성의 투명열가소성 수지로 광학 시트(10a)를 제조하는 방법이다. 제4 제조 방법으로 사용하는 투명열가소성 수지로서는, 제2 제조 방법으로 이용한 것과 같은 것을 들 수 있다. A 4th manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 10a with an unformed transparent thermoplastic resin using the forming apparatus provided with a metal mold | die, the heating cooling means for heat-cooling the said metal mold | die, and the pressurizing means which pressurizes the said metal mold | die. . As transparent thermoplastic resin used by a 4th manufacturing method, the same thing as what was used by the 2nd manufacturing method is mentioned.

구체적으로, 제4 제조 방법에서는 우선, 투명열가소성 수지의 펠렛 또는 분체를 금형 내에 충전하고, 가열 냉각 수단에 의해 금형을 가열함과 동시에 가압 수단에 의해 금형 안을 가압한다. 그 다음에, 가열 냉각 수단에 의해 금형 안을 냉각하고, 그 후, 가압을 정지하여 광학 시트(210a)를 얻는다. Specifically, in the fourth manufacturing method, first, the pellet or powder of the transparent thermoplastic resin is filled into the mold, the mold is heated by the heating and cooling means, and the inside of the mold is pressed by the pressing means. Then, the inside of the mold is cooled by the heating and cooling means, and then pressurization is stopped to obtain the optical sheet 210a.

이 제조 방법에서, 금형으로는 광학 시트(210a)의 출사면에 접하는 면에 사행하는 물결 형상의 요철 패턴을 형성된 것을 이용한다. 예를 들면, 금형으로는 제1∼제3 제조 방법의 요철 패턴 형성 시트를 한 면에 부착한 것, 레이저 조사 등에 의해 한 면에 사행하는 물결 형상의 요철 패턴을 형성한 것 등이 이용될 수 있다. In this manufacturing method, as a metal mold | die, what formed the wavy concavo-convex pattern meandering to the surface which contact | connects the exit surface of the optical sheet 210a is used. For example, the mold having the uneven pattern forming sheet of the first to third manufacturing methods attached to one side, and the wavy uneven pattern meandering on one side by laser irradiation or the like can be used. have.

제4 제조 방법에서의 형성 방법으로서는, 예를 들면, 프레스 형성법, 사출 성형법 등이 적용될 수 있다. As the forming method in the fourth manufacturing method, for example, a press forming method, an injection molding method, or the like can be applied.

상술한 제1∼제4 제조 방법에 의해 얻은 광학 시트(210a)는 그대로 이용해도 무방하고, 투명수지제 또는 유리제의 보강용 기판에 접착제를 통해서 서로 붙여서 이용하여도 무방하다. The optical sheet 210a obtained by the above-mentioned 1st-4th manufacturing method may be used as it is, and may be used by sticking together to the board | substrate for reinforcement made of transparent resin or glass via an adhesive agent.

이상 설명한 광학 시트(210a)의 제조 방법에서는, 평탄한 한 면에 요철영역(212)을 광학 시트(210a)의 길이방향의 타단(β)측으로 갈수록 조밀해지는 패턴으로 형성하는 것이 용이하다. 따라서, 길이방향의 타단(β)측으로 갈수록 광확산성이 높은 광학 시트(210a)를 용이하게 얻을 수 있다. In the manufacturing method of the optical sheet 210a demonstrated above, it is easy to form the uneven | corrugated area | region 212 in a pattern becoming denser toward the other end (beta) side of the longitudinal direction of the optical sheet 210a on one flat surface. Therefore, the optical sheet 210a which has high light diffusivity can be easily obtained toward the other end (beta) side of a longitudinal direction.

5-2. 제2 실시 형태 5-2. Second Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. 2nd Embodiment of the optical sheet of this invention is described.

도 17은 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 17에 있어서도, 설명을 용이하게 하기 위해서, 요철영역(215)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 17 shows the optical sheet of the present embodiment. In addition, also in FIG. 17, in order to make description easy, the uneven | corrugated area | region 215 is expanded, and the arrangement | positioning is shown sparse at the same time.

본 실시 형태의 광학 시트(210b)는 길이방향의 일단(α)에 인접하게 광원(330)을 배치시키는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것으로서, 평탄한 한 면(211)에, 광학 시트(210b)의 폭 방향을 따라 형성된 띠 형상의 요철영역(215)이 광학 시트(210b)의 길이방향의 일단(α)으로부터 타단(β)을 갈수록 점차로 조밀해지는 패턴으로 분산되어서 배치되어 있다. The optical sheet 210b of this embodiment can be used as a light-diffusion sheet which arrange | positions the light source 330 adjacent one end (alpha) of a longitudinal direction, and has the flat surface 211 of the optical sheet 210b. The strip | belt-shaped uneven | corrugated area | region 215 formed along the width direction is arrange | positioned by disperse | distributing in the pattern becoming gradually denser toward the other end (beta) from the end (alpha) of the longitudinal direction of the optical sheet 210b.

이렇게 요철영역(215)을 배치함으로써, 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)와 동일한 방식으로, 광학 시트(210b)의 타단(β)측으로 갈수록 광확산성을 높게 할 수 있다. By arrange | positioning the uneven | corrugated area | region 215 in this way, light diffusivity can be made high toward the other end (beta) side of the optical sheet 210b in the same manner as the optical sheet 210a of 1st Embodiment.

제2 실시 형태의 요철영역(215)의 요철 패턴은 제1 실시 형태의 요철영역 (12)의 요철 패턴(12a)과 동일하다. 광학 시트(210b)의 한 면의 면적에 대한 요철영역 (215)의 면적 비율도 제1 실시 형태에서의 면적비율과 같다. The uneven pattern of the uneven region 215 of the second embodiment is the same as the uneven pattern 12a of the uneven region 12 of the first embodiment. The area ratio of the uneven region 215 to the area of one surface of the optical sheet 210b is also the same as the area ratio in the first embodiment.

제2의 실시 형태의 광학 시트(210b)는 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)의 제조 방법과 같은 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. The optical sheet 210b of the second embodiment can be manufactured by a manufacturing method such as the manufacturing method of the optical sheet 210a of the first embodiment.

5-3. 제3 실시 형태 5-3. Third Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제3 실시 형태에 대해서 설명한다. A third embodiment of the optical sheet of the present invention will be described.

도 18은 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 18에 있어서도, 설명을 쉽게 하기 위해서, 요철영역(216)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 18 shows the optical sheet of the present embodiment. In addition, also in FIG. 18, in order to make description easy, the uneven | corrugated area | region 216 is expanded and the arrangement | positioning is shown sparse at the same time.

본 실시 형태의 광학 시트(210c)는 길이방향의 일단(α)에 인접하게 광원(330)을 배치시키는 광확산 시트로 이용할 수 있는 것으로서, 평탄한 한 면(211)에 광학 시트(210c)의 길이방향에 따른 띠 형상의 부분(216a)과 폭방향에 따른 띠 형상의 부분 (16b)로 구성된 망 형상의 요철영역(216)이 분산되어 배치된다. 요철영역(216) 중, 광학 시트(210c)의 폭방향에 따른 부분(216b)은 광학 시트(210c)의 길이방향의 일단(α)로부터 타단(β)을 향함에 따라 점차로 조밀하게 배치된다. The optical sheet 210c of the present embodiment can be used as a light diffusion sheet for arranging the light source 330 adjacent to one end α in the longitudinal direction, and the length of the optical sheet 210c on one flat surface 211. The mesh-shaped concave-convex region 216 composed of the strip-shaped portion 216a along the direction and the strip-shaped portion 16b along the width direction is distributed and disposed. In the uneven region 216, the portion 216b along the width direction of the optical sheet 210c is gradually densely arranged toward the other end β from one end α in the longitudinal direction of the optical sheet 210c.

제3 실시 형태의 요철영역(216)의 요철 패턴은 제1 실시 형태의 요철영역 (212)의 요철 패턴(12a)과 같다. 광학 시트(210c)의 한 면의 면적에 대한 요철영역 (216)의 면적 비율도 제1 실시 형태에서의 면적 비율과 같다. The uneven pattern of the uneven region 216 of the third embodiment is the same as the uneven pattern 12a of the uneven region 212 of the first embodiment. The area ratio of the uneven region 216 to the area of one surface of the optical sheet 210c is also the same as the area ratio in the first embodiment.

제3 실시 형태의 광학 시트(210c)는 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)의 제조 방법과 같은 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. The optical sheet 210c of the third embodiment can be manufactured by a manufacturing method such as the manufacturing method of the optical sheet 210a of the first embodiment.

5-4. 제4 실시 형태 5-4. Fourth Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제4 실시 형태에 대해서 설명한다. 4th Embodiment of the optical sheet of this invention is described.

도 19는 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 19에 있어서도, 설명을 쉽게 하기 위해서, 요철영역(217)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 19 shows the optical sheet of the present embodiment. In addition, also in FIG. 19, in order to make description easy, the uneven | corrugated area | region 217 is enlarged and the arrangement | positioning is sparsely shown at the same time.

본 실시 형태의 광학 시트(210d)는 요철영역(217)이 형성되어 있지 않은 측의 면(C)에 선 형상의 광원(330)이 배치되는 광확산 시트로서 이용될 수 있다. 또, 이 광학 시트(210d)에는, 평탄한 한 면(211)에는, 광원(330)에 가까울 수록 조밀해지도록 타원형상의 요철영역(217)이 분산되어서 배치된다. The optical sheet 210d of the present embodiment can be used as a light diffusion sheet in which the linear light source 330 is disposed on the surface C on the side where the uneven region 217 is not formed. Moreover, in this optical sheet 210d, the elliptical uneven | corrugated area | region 217 is disperse | distributed and arrange | positioned on one flat surface 211 so that it may become denser as it approaches the light source 330. FIG.

본 실시 형태에서는, 광원(330)으로부터의 광이 광학 시트(210d)에 불균일하게 입사하지만, 요철영역(217)이 강한 광이 도달하는 부분일수록 조밀하게 배치되어 있기 때문에, 광을 확산시키면서 출사시킬 수 있다. 그 때문에, 광학 시트(210d)로부터 출사하는 광의 강도를 균일하게 할 수 있다. In the present embodiment, the light from the light source 330 is unevenly incident on the optical sheet 210d. However, since the uneven region 217 is arranged more densely in the area where the strong light reaches, the light is emitted while diffusing the light. Can be. Therefore, the intensity of the light emitted from the optical sheet 210d can be made uniform.

제4 실시 형태의 요철영역(217)의 요철 패턴은 제1 실시 형태의 요철영역 (212)의 요철 패턴(12a)과 같다. 광학 시트(210d)의 한 면의 면적에 대한 요철영역 (217)의 면적 비율도 제1 실시 형태에서의 면적 비율과 같다. The uneven pattern of the uneven region 217 of the fourth embodiment is the same as the uneven pattern 12a of the uneven region 212 of the first embodiment. The area ratio of the uneven region 217 to the area of one surface of the optical sheet 210d is also the same as the area ratio in the first embodiment.

제4 실시 형태의 광학 시트(210d)는 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)의 제조 방법과 같은 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. The optical sheet 210d of the fourth embodiment can be manufactured by the same manufacturing method as the manufacturing method of the optical sheet 210a of the first embodiment.

5-5. 기타의 실시 형태 5-5. Other embodiment

또한, 본 발명의 광학 시트는, 상술한 실시 형태의 것에 한정되지 않는다. In addition, the optical sheet of this invention is not limited to the thing of embodiment mentioned above.

예를 들면, 상술한 제1 실시 형태, 제4 실시 형태에 있어서, 요철영역의 외형이 타원형상이었지만, 원형상, 구형상 등이어도 무방하다. For example, in the above-described first and fourth embodiments, the outer shape of the uneven region is elliptical, but may be circular, spherical, or the like.

또, 본 발명의 광학 시트에 있어서, 요철영역은 랜덤으로 형성되어 있어도 무방하다. In addition, in the optical sheet of the present invention, the uneven region may be formed at random.

또, 요철영역의 요철 패턴은 사행하고 있지 않아도 무방하고, 직선 형상으로 형성되어도 무방하다. Moreover, the uneven | corrugated pattern of an uneven | corrugated area | region may not be meandering, and may be formed in linear form.

또, 요철영역은 광학 시트의 양면에 형성되어도 무방하다. In addition, the uneven region may be formed on both surfaces of the optical sheet.

또, 광학 시트는 보강용 기판에 의해 보강되어도 무방하다. In addition, the optical sheet may be reinforced by a substrate for reinforcement.

6. 확산 도광체 6. Diffuse light guide

본 발명의 확산 도광체의 일실시 형태에 대해서 설명한다. An embodiment of the diffusion light guide of the present invention will be described.

도 1은 본 실시 형태의 확산 도광체를 나타낸다. 본 실시 형태의 확산 도광체(10)는 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)이 한 방향의 면에 형성된 투명수지층(11)으로 이루어진 것이다. 본 실시 형태에 있어서의 투명수지층(11)의 다른 쪽의 면(이면)은 요철 패턴이 형성되어 있지 않은 편평한 면이다. 1 shows a diffusion light guide of the present embodiment. The diffused light guide 10 of this embodiment consists of the transparent resin layer 11 in which the meandering wave-shaped uneven | corrugated pattern 12a was formed in the surface of one direction. The other surface (rear surface) of the transparent resin layer 11 in this embodiment is a flat surface in which the uneven | corrugated pattern is not formed.

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛~20㎛, 바람직하게는 1㎛~10㎛이다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛미만이면, 가시광의 파장 이하가 되어 가시광이 요철에서 굴절하지 않고 광이 투과해버리고, 20㎛을 넘으면, 확산의 이방성이 낮아져 휘도에 얼룩이 생기기 쉬워진다. The closest pitch A of the uneven pattern 12a is 1 µm to 20 µm, preferably 1 µm to 10 µm. If the pitch A is less than 1 μm, the light becomes less than the wavelength of visible light and the light is transmitted without refraction of visible light in the unevenness. If it exceeds 20 μm, the anisotropy of diffusion becomes low, and the luminance tends to be uneven. .

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철의 평균 깊이(B)의 비(B/A, 이하, 어스펙트비라고 한다)는 0.1∼3.0이다. 어스펙트비가 0.1미만이면, 확산의 이방성이 낮아져 휘도에 얼룩이 생기기 쉬워진다. 한편, 어스펙트비가 3.0보다 커지면, 확산 도광체(10)의 제조에서 요철 패턴(12a)을 형성하는 것이 어려워진다. The ratio (B / A, hereinafter referred to as an aspect ratio) of the average depth B of the unevenness with respect to the modest pitch A of the unevenness pattern 12a is 0.1 to 3.0. If the aspect ratio is less than 0.1, the anisotropy of the diffusion becomes low, and staining tends to occur easily. On the other hand, when the aspect ratio is larger than 3.0, it becomes difficult to form the uneven pattern 12a in the manufacture of the diffusion light guide 10.

여기에서, 평균 깊이(B)라는 것은 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이이다. 또, 바닥부(12b)라는 것은 요철 패턴(12a)의 요부의 극소값이며, 평균 깊이(B)는 확산 도광체(10)를 길이 방향에 따라 절단한 단면(도 2참조)을 보았을 때, 확산 도광체(10) 전체의 면방향과 평행한 기준선(L1)로부터 각 돌부의 정부까지의 길이(B1, B2, B3...)의 평균치(BAV)와, 기준선(L1)로부터 각 요부의 바닥부까지의 길이(b1, b2, b3...)의 평균치(bAV)와의 차(bAV-BAV)이다. Here, the average depth B is the average depth of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a. In addition, the bottom part 12b is the minimum value of the recessed part of the uneven | corrugated pattern 12a, and the average depth B is a diffusion | diffusion when you see the cross section (refer FIG. 2) which cut | disconnected the diffuser light guide 10 along the longitudinal direction. Average value BAV of the lengths B1, B2, B3 ... from the reference line L1 parallel to the plane direction of the entire light guide 10 to the top of each projection, and the bottom of each recess from the reference line L1. It is the difference (bAV-BAV) from the average value bAV of the lengths (b1, b2, b3 ...) to the negative.

평균 깊이(B)를 측정하는 방법으로서는, 원자력 현미경에 의해 촬영한 요철 패턴(12a)의 단면의 화상에서 각 바닥부(12b)의 깊이를 측정하고, 그것들의 평균치를 구하는 방법 등을 이용할 수 있다. As a method of measuring the average depth B, the method of measuring the depth of each bottom part 12b in the image of the cross section of the uneven | corrugated pattern 12a image | photographed with the atomic force microscope, and calculating | requiring those average values can be used. .

본 발명에 있어서의 사행이라는 것은, 이하의 방법으로 구해지는 요철의 배향도가 0.3이상이 되는 것을 의미한다. 이 배향도는 요철의 배향의 편차의 지표이며, 그 값이 클수록, 배향이 흩어져 있는 것을 나타낸다. By meandering in this invention, the orientation degree of the unevenness calculated | required by the following method means 0.3 or more. This degree of orientation is an index of the deviation of the unevenness of the unevenness, and the larger the value, the more the orientation is scattered.

배향도를 구하기 위해서는, 우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일(예를 들면, tiff형식 등)로 변환한다. 그레이스케일의 파일 화상(도 3 참조)에서는 백도(白度)가 낮은 곳일수록, 요부의 바닥부가 깊은(백도가 높은 곳일 수록, 돌부의 정부가 높다) 것을 나타낸다. 그 다음, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환한다. 도 4는 푸리에 변환 후의 화상을 나타낸다. 도 4의 화상의 중심에서 양측으로 퍼지는 백색부분은 요철 패턴(12a)의 피치 및 방향의 정보를 포함한다. In order to obtain the degree of orientation, first, the surface of the uneven pattern is photographed by a surface optical microscope, and the image is converted into a grayscale file (for example, tiff format). In the grayscale file image (see FIG. 3), the lower the whiteness, the deeper the bottom of the recess (the higher the whiteness, the higher the projection of the protrusion). Then, the grayscale file image is Fourier transformed. 4 shows an image after Fourier transform. The white portions that spread from the center of the image of FIG. 4 to both sides contain information of the pitch and direction of the uneven pattern 12a.

이어서, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조 선(L2)을 긋고, 그 보조 선 상의 휘도를 플롯(도 5참조)한다. 도 5에 도시된 플롯의 가로축은 피치를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타내며, 빈도가 최대가 되는 값 'X'가 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치를 나타낸다. Subsequently, the auxiliary line L2 is drawn in the horizontal direction from the center of the image of FIG. 4, and the luminance on the auxiliary line is plotted (see FIG. 5). The horizontal axis of the plot shown in FIG. 5 represents the pitch, the vertical axis represents the frequency, and the value 'X' where the frequency is the maximum represents the modest pitch of the uneven pattern 12a.

그 다음, 도 4에 있어서, 보조 선(L2)과 값 'X'의 부분에서 직교하는 보조 선(L03)을 긋고, 그 보조 선(L3) 상의 휘도를 플롯(도 6참조)한다. 단, 도 6의 가로축은 각종의 요철구조와의 비교를 가능하게 하기 위해서, 'X'의 값으로 나눈 수치로 사용한다. 도 6의 횡축은 요철의 형성 방향(도 3에 있어서의 상하 방향)에 대한 경사의 정도를 나타내는 지표(배향성)를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타낸다. 도 6의 플롯에 있어서의 피크의 반값폭(W1)(빈도가 최대치의 반이 되는 높이에서의 피크의 폭)이 요철 패턴의 배향도를 나타낸다. 반값폭(W1)이 클 수록, 사행하여 배향이 흩어져 있는 것을 나타낸다. Next, in FIG. 4, the auxiliary line L03 orthogonal to the auxiliary line L2 and the value 'X' is drawn, and the luminance on the auxiliary line L3 is plotted (see FIG. 6). However, the horizontal axis of FIG. 6 is used as the numerical value divided by the value of "X" in order to enable comparison with various uneven | corrugated structures. 6 represents the index (orientation) which shows the degree of inclination with respect to the uneven | corrugated formation direction (up-down direction in FIG. 3), and a vertical axis | shaft shows frequency. The half value width W1 of the peak in the plot of FIG. 6 (the width of the peak at the height where the frequency is half of the maximum value) indicates the degree of orientation of the uneven pattern. The larger the half value width W1 is, the more the meandering and scattering of the orientation are shown.

상기 배향도가 0.3미만이면, 요철 패턴(12a)의 배향의 편차가 작기 때문에 광 확산의 이방성이 작아진다. If the orientation degree is less than 0.3, the anisotropy of light diffusion is small because the variation in the orientation of the uneven pattern 12a is small.

또, 배향도는 1.0이하인 것이 바람직하다. 배향도가 1.0을 넘으면, 요철 패턴의 방향이 어느 정도 랜덤이 되기 때문에, 광확산성은 높아지지만, 이방성이 낮아지는 경향이 있다. Moreover, it is preferable that orientation degree is 1.0 or less. If the degree of orientation exceeds 1.0, the direction of the uneven pattern becomes random to some extent, so that the light diffusivity is high, but the anisotropy tends to be low.

배향도를 0.3이상으로 하기 위해서는, 예를 들면, 후술하는 제조에 있어서, 가열 수축성 필름과 표면이 평평한 경질층을 적절히 선택하면 좋다. 예를 들면, 가열 수축성 필름의 수축률이 높을수록, 혹은, 표면이 평평한 경질층의 영율(Young's modulus)이 작을수록, 배향성이 커진다. 이 제조 방법에 의해 얻어진 확산 도광체(10)는 2층의 수지층으로 구성된다. In order to make an orientation degree 0.3 or more, in manufacture mentioned later, for example, what is necessary is just to select suitably the heat shrinkable film and the hard layer on which the surface was flat. For example, the higher the shrinkage of the heat shrinkable film, or the smaller the Young's modulus of the hard layer having the flat surface, the greater the orientation. The diffused light guide 10 obtained by this manufacturing method is composed of two resin layers.

또, 배향도가 0.3 이상의 요철 패턴이 일표면에 형성된 금형을 이용해서 투명수지를 형성하는 방법을 이용해도 무방하다. 이 제조 방법에 의해 얻어진 확산 도광체(10)은 1층의 수지층으로 구성된다. Moreover, you may use the method of forming a transparent resin using the metal mold | die with which the uneven | corrugated pattern of 0.3 or more of orientation degree was formed in one surface. The diffused light guide 10 obtained by this manufacturing method is composed of one resin layer.

또, 상기한 바와 같이 푸리에 변환을 이용해서 구한 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 평균 피치와 동등해진다. As described above, the least pitch of the uneven pattern obtained by using the Fourier transform becomes equal to the average pitch.

투명수지층(11)은 가시광의 투과율이 높은(구체적으로는, 가시광의 전 광선투과율이 85%) 투명수지에 의해 구성된다. The transparent resin layer 11 is made of transparent resin having high visible light transmittance (specifically, 85% of the total light transmittance of visible light).

또, 투명수지층(11)은, 내열성, 내광성을 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 해치지 않는 범위 내에서, 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제로서는 광안정제, 자외선흡수제, 산화 방지제, 윤활제, 광확산제 등이 사용될 수 있다. 이중에서도, 광안정제를 첨가하는 것이 바람직하고, 그 첨가량은 투명수지 100질량부에 대하여 0.03∼2.0질량부인 것이 바람직하다. 광안정제의 첨가량이 0.03질량부 이상이면, 그 첨가 효과를 충분히 발휘할 수 있고, 2.0질량부를 넘으면, 과도량이 되어 불필요한 비용의 상승을 초래한다. Moreover, the transparent resin layer 11 can contain an additive in the range which does not impair optical characteristics, such as light transmittance, for the purpose of improving heat resistance and light resistance. As the additive, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, light diffusing agents and the like can be used. Among these, it is preferable to add a light stabilizer, and it is preferable that the addition amount is 0.03-2.0 mass parts with respect to 100 mass parts of transparent resins. If the addition amount of the light stabilizer is 0.03 parts by mass or more, the addition effect can be sufficiently exhibited. If it is more than 2.0 parts by mass, it becomes an excessive amount and causes an unnecessary increase in cost.

또, 투명수지층(11)에는 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 무기화합물로 이루어지는 무기광확산제, 유기 화합물로 이루어지는 유기광확산제를 함유시킬 수 있다. In addition, the transparent resin layer 11 includes an inorganic light diffuser made of an inorganic compound and an organic light diffuser made of an organic compound within the range of not significantly impairing optical properties such as light transmittance for the purpose of further improving the light diffusion effect. It can contain an agent.

무기광확산제로는 실리카, 화이트 카본, 탈크, 산화 마그네슘, 산화 아연, 산화 티타늄, 탄산 칼슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 규산 칼슘, 규산 마그네슘, 규산 알루미늄, 규산 알루미늄화 나트륨, 규산아연, 유리, 마이카 등이 사용될 수 있다. Inorganic light diffusing agents include silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, sodium silicate, zinc silicate, glass, mica And the like can be used.

유기광확산제로서는 스티렌계 중합 입자, 아크릴계 중합 입자, 실록산계 중합 입자, 폴리아미드계 중합 입자 등이 사용될 수 있다. 이들의 광확산제는 각각 단독으로, 또는, 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. As the organic light diffusing agent, styrene polymerized particles, acrylic polymer particles, siloxane polymer particles, polyamide polymer particles and the like can be used. These light diffusing agents can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

또, 이들의 광확산제는 뛰어난 광산란 특성을 얻기 위해서, 페탈 또는 구정(spherocrystal) 형상 등의 다공질구조로 할 수도 있다. Moreover, in order to acquire the outstanding light-scattering characteristic, these light-diffusion agents can also be made into porous structures, such as a petal or a spherocrystal shape.

광확산제의 함유량은, 광투과성을 감소시키지 않기 위하여, 투명수지 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하다. It is preferable that content of a light-diffusion agent is 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of transparent resins, in order not to reduce light transmittance.

또한, 투명수지층(11)에는, 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적에서, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 미세거품을 함유시킬 수 있다. 미세거품은 광의 흡수가 적어 광투과율을 저하시키지 않는다. In addition, the transparent resin layer 11 can contain a microbubble in the range which does not significantly impair optical characteristics, such as light transmittance, in order to improve the light-diffusion effect more. The microbubbles do not absorb light and do not lower the light transmittance.

미세거품의 형성 방법으로서는, 투명수지층(11)에 발포제를 혼입하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 1993-212811호 공보, 일본 특허 공개공보 1994-107842호 공보에 공개된 방법)이나, 아크릴계 발포 수지를 발포 처리시켜 미세거품을 함유하게 하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 2004-2812호 공보에 공개된 방법)등이 사용될 수 있다. 또한 미세거품은, 보다 균일한 면조사가 가능해지도록, 특정한 위치에 불균일하게 발포시키는 것(예를 들면, 일본 특허 공개공보 2006-124499호 공보에 공개된 방법)이 바람직하다. Examples of the method of forming fine bubbles include a method of incorporating a foaming agent into the transparent resin layer 11 (for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1993-212811 and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1994-107842) (For example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-2812) or the like may be used, in which an acrylic foam resin is foamed to contain fine foam. In addition, it is preferable that the microbubbles be unevenly foamed at a specific position so as to enable more uniform surface irradiation (for example, the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2006-124499).

투명수지층(11)의 두께는 0.02∼3.0mm이 바람직하고, 0.05∼2.5mm이 보다 바람직하고, 0.1∼2.0mm이 특히 바람직하다. 투명수지층(11)의 두께가 0.02mm미만이면, 요철 패턴의 깊이보다도 작을 수 있기 때문에 적당하지 않고, 3.0mm보다도 두꺼우면 확산 도광체(10)의 질량이 커지기 때문에 취급하기 어려워질 우려가 있다. 0.02-3.0 mm is preferable, as for the thickness of the transparent resin layer 11, 0.05-2.5 mm is more preferable, 0.1-2.0 mm is especially preferable. If the thickness of the transparent resin layer 11 is less than 0.02 mm, it may be smaller than the depth of the concave-convex pattern, so it is not suitable. If the thickness of the transparent resin layer 11 is larger than 3.0 mm, the mass of the diffused light guide 10 may be difficult to handle. .

투명수지층(11)은 2층 이상의 수지층으로 구성되어 있어도 무방하다. 투명수지층(11)이 2층 이상의 층으로 구성되는 경우에도 투명수지층(11)의 두께는 0.02∼3.0mm인 것이 바람직하다. The transparent resin layer 11 may be comprised from two or more resin layers. Even when the transparent resin layer 11 is composed of two or more layers, the thickness of the transparent resin layer 11 is preferably 0.02 to 3.0 mm.

*제조방법 * Manufacturing method

상기 광학 시트의 제조 방법과 같은 제조 방법으로 제조할 수 있다. It can manufacture with the manufacturing method similar to the manufacturing method of the said optical sheet.

*기능 *function

상술한 확산 도광체(10)는 광의 이방 확산성을 가지고 있다. 구체적으로, 확산 도광체(10)의 요철 패턴(12a)이 형성되지 않은 측의 면(이면)측에 광원을 설치한 경우에는 광원으로부터 발생된 광은 이면을 통하여 확산 도광체(10)로 입사하고, 확산 도광체(10)안을 통해서 요철면에 도달한다. 여기에서, 요철면에 입사각이 0도 이상 임계각 미만의 각도로 도달한 광은 굴절하면서 확산 도광체(10)의 밖으로 출사한다. 확산 도광체(10) 안을 지나는 광의 방향은 일방향이 아니기 때문에, 확산 도광체(10)의 요철면과 광의 각도는 일정하지 않고, 폭넓은 각도로 광이 굴절하게 된다. 또한 요철은 사행하여 배향이 흩어져 있기 때문에, 광 확산의 이방성이 높아진다. The diffusion light guide 10 described above has anisotropic diffusion of light. Specifically, in the case where the light source is provided on the surface (rear side) side of the side where the uneven pattern 12a of the diffused light conductor 10 is not formed, the light generated from the light source enters the diffused light guide 10 through the rear surface. Then, the concave-convex surface is reached through the diffusion light guide 10. Here, the light reaching the uneven surface at an angle of 0 degrees or more below the critical angle exits the diffused light guide 10 while refracting. Since the direction of light passing through the diffused light guide 10 is not one direction, the angle between the uneven surface of the diffused light guide 10 and the light is not constant, and the light is refracted at a wide angle. Moreover, since unevenness | corrugation meanders and an orientation is scattered, the anisotropy of light diffusion becomes high.

한편, 요철면에 대하여 임계각 이상의 각도로 도달한 광은 전반사해서 다시 확산 도광체(10) 안을 진행하지만, 그 후, 요철면에 임계각 미만으로 도달했을 때에 출사한다. 또, 입사각이 0도의 각도로 도달한 광은 굴절하지 않고 그대로 확산 도광체(10)의 밖으로 출사한다. On the other hand, the light reached at an angle equal to or greater than the critical angle with respect to the uneven surface passes through the diffusion light guide 10 again, and then emits light when the uneven surface reaches below the critical angle. In addition, the light which reaches the angle of incidence at an angle of 0 degrees exits the diffusion light guide 10 without being refracted.

또, 확산 도광체(10)의 일측면측에 광원을 설치한 경우에도, 상기와 같은 식으로, 확산 도광체(10)안을 통하여, 입사각이 0도 이상이고, 임계각 미만의 각도로 도달한 광이, 굴절하면서 확산 도광체의 밖으로 출사한다. 여기서, 요철은 사행하여 배향에 편차가 있기 때문에, 광 확산의 이방성은 높아진다. In addition, even when a light source is provided on one side of the diffusion light guide 10, the light has reached the angle of incidence greater than or equal to 0 degrees and less than the critical angle through the diffusion light guide 10 in the same manner as described above. This exits the diffusion light guide while refracting. Here, since the unevenness meanders and the orientation varies, the anisotropy of light diffusion is increased.

또한, 본 발명의 확산 도광체는 상술한 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 투명수지층의 이면측에 광원을 배치할 경우, 광의 입사 효율을 향상시키기 위해서, 투명 수지층의 이면에 반사 방지 기능을 갖는 미세한 물결 형상의 요철이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 여기에서, 미세한 물결 형상의 요철은 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 동시에, 어스펙트비가 0.1 이상인 것이 바람직하다. 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘거나, 어스펙트비가 0.1을 넘으면, 반사 방지 기능을 얻을 수 없기 때문이다. In addition, the diffusing light guide of this invention is not limited to embodiment mentioned above. For example, when arranging a light source on the rear surface side of the transparent resin layer, in order to improve the incident efficiency of light, it is preferable that fine wavy irregularities having an antireflection function are formed on the rear surface of the transparent resin layer. Here, it is preferable that the fine wave-shaped unevenness | corrugation has a closest pitch of 1 micrometer or less, and simultaneously has an aspect ratio of 0.1 or more. This is because the antireflection function cannot be obtained when the closest pitch exceeds 1 µm or the aspect ratio exceeds 0.1.

상기 미세한 물결 형상의 요철은 광확산용의 요철 패턴과 함께 투명수지층의 이면에 형성될 수 있다. 예를 들면, 확산 도광체를 프레스 형성이나 사출 성형에 의해 제조할 때에, 금형으로 이용되는 투명수지층의 출사면(표면)측에 접하는 면에 광확산용의 요철 패턴이 형성되고, 투명수지층의 입사면 (이면)측에 접하는 면에 미세한 물결 형상의 요철 패턴이 형성된 것을 이용하는 방법을 적용할 수 있다. The fine wavy concavities and convexities may be formed on the rear surface of the transparent resin layer together with the concave-convex pattern for light diffusion. For example, when the diffusion light guide is manufactured by press forming or injection molding, an uneven pattern for light diffusion is formed on the surface of the transparent resin layer used for the mold in contact with the exit surface (surface) side, and the transparent resin layer The method using the thing in which the fine wavy concavo-convex pattern was formed in the surface which contacts the incident surface (back surface) side of can be applied.

또, 상기 미세한 물결 형상의 요철은 광확산용의 요철 패턴과는 달리 투명수지층의 이면에 형성해도 무방하다. 예를 들면, 미세한 물결 형상의 요철 패턴이 형성된 필름을 투명수지층의 이면측에 접착제를 통해서 첨부해도 무방하다. The fine wavy concave-convex may be formed on the back surface of the transparent resin layer, unlike the concave-convex pattern for light diffusion. For example, you may attach the film in which the fine wavy concavo-convex pattern was formed to the back surface side of the transparent resin layer through an adhesive agent.

또, 광확산의 이방성을 보다 높이기 위해, 미세거품을 함유한 필름을 입사면측 또는 출사면측에 첨부해도 무방하다. 도 20에 나타낸 바와 같이, 미세거품을 함유한 필름(317)을 입사면측에 첨부할 경우, 광원(330)으로부터의 광을 효율적으로 이용하기 위해서, 광원(330)의 광이 강하게 닿는 부분(317a)에서는 미세거품의 함유량을 많게 하고, 그 이외의 부분(317b)에서는 미세거품의 함유량을 적게, 또는, 함유하지 않게 하는 것이 바람직하다. Moreover, in order to improve the anisotropy of light-diffusion more, you may attach the film containing a fine bubble to the entrance surface side or the emission surface side. As shown in FIG. 20, when attaching the film 317 containing a microbubble to the incident surface side, in order to use the light from the light source 330 efficiently, the part 317a which the light of the light source 330 hits strongly ), It is preferable to increase the content of the fine bubbles, and to reduce the content of the fine bubbles in the other portion 317b or to not contain it.

본 발명의 확산 도광체는 일단에서부터 타단을 향해 두께가 점차 얇아지도록 형성되어도 무방하다. 상기와 같은 확산 도광체에서는 두꺼운 쪽의 측면에 광원이 배치된다. The diffusion light guide of the present invention may be formed so as to become thinner gradually from one end to the other end. In such a diffused light guide, a light source is disposed on the thick side.

본 발명의 확산 도광체는 사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 한 면에 형성되고 있는 것이 설명되었지만, 요철 패턴이 반드시 한 면에만 형성되어 있는 것에 한정되는 것은 아니다. 즉, 투명수지층의 다른 한 쪽 면에도 사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 형성될 수 있다. The diffusing light guide of the present invention has been described in which a meandering wavy concave-convex pattern is formed on one side, but the concave-convex pattern is not necessarily limited to that formed on only one side. That is, a wavy concave-convex pattern may be formed on the other side of the transparent resin layer.

7. 백라이트 유닛7. Backlight Unit

7-1. 제1 실시 형태 7-1. First embodiment

본 발명의 백라이트 유닛의 제1 실시 형태에 대해서 설명한다. A first embodiment of the backlight unit of the present invention will be described.

도 21은 본 실시 형태의 백라이트 유닛을 나타낸다. 본 실시 형태의 백라이트 유닛(100)은 소위 직하형의 것으로, 확산 도광체(310)와 확산 도광체(310)의 요철 패턴이 형성된 면(표면315)에 대향하는 면(이면316)에 마부보게 배치된 반사판(320)과, 확산 도광체(310) 및 반사판(320)의 사이에 배치 된 복수의 광원 (330, 330…)을 구비한다. 또, 확산 도광체(310)의 표면(315)측에는 확산 필름(340), 프리즘 시트(350), 휘도상승필름(360)이 순차로 적층되어 있다. 21 shows the backlight unit of this embodiment. The backlight unit 100 of the present embodiment is of a so-called direct type, and faces the surface (back surface 316) opposite to the surface (surface 315) on which the uneven pattern of the diffused light guide 310 and the diffused light guide 310 is formed. And a reflecting plate 320 arranged, and a plurality of light sources 330, 330... Disposed between the diffusing light guide 310 and the reflecting plate 320. Further, the diffusion film 340, the prism sheet 350, and the brightness increasing film 360 are sequentially stacked on the surface 315 side of the diffusion light guide 310.

광원(330)으로서는, 예를 들면, 냉음극관, 발광 다이오드 등이 사용될 수 있다. As the light source 330, for example, a cold cathode tube, a light emitting diode, or the like can be used.

반사판(320)으로는, 예를 들면, 표면이 경면 형상인 금속판, 또는, 그러한 금속판을 구비한 적층판 등이 사용될 수 있다. As the reflecting plate 320, for example, a metal plate having a mirror surface, or a laminated plate having such a metal plate may be used.

확산 필름(340)으로는, 예를 들면, 투명한 입자를 함유하는 수지 필름 등이 사용될 수 있다. 확산 필름(340)은 확산 도광체보다 출사한 광을 더욱 확산시킨다. As the diffusion film 340, for example, a resin film containing transparent particles may be used. The diffusion film 340 diffuses the light emitted more than the diffusion light guide.

프리즘 시트(350)으로는, 예를 들면, 한 면에 원추 형상 또는 각뿔 형상의 돌기가 규칙적으로 다수 형성된 수지 시트 (예를 들면, 스미토모 쓰리엠사制 상품명비큐이티BEF III)등을 들 수 있다. 프리즘 시트(350)는, 확산 필름(340)에서 출사한 광의 진행 방향을 면에 대하여 수직방향으로 변경한다. As the prism sheet 350, for example, a resin sheet (for example, Sumitomo 3M Co., Ltd. BICQI BEF III) having a large number of conical or pyramidal protrusions formed on one surface thereof may be mentioned. The prism sheet 350 changes the advancing direction of the light emitted from the diffusion film 340 in the direction perpendicular to the plane.

휘도상승 필름(360)로서는, 예를 들면, 광의 프라이머리파(P파)만을 통과시키고, 세컨더리파(S파)를 반사하는 시트(예를 들면, 스미토모 쓰리엠사制 상품명 비큐이티DBEF-D400)등을 들 수 있다. As the brightness increasing film 360, for example, a sheet which passes only the primary wave (P wave) of light and reflects the secondary wave (S wave) (e.g., Sumitomo 3M Corporation control brand vicuity DBEF-D400), etc. Can be mentioned.

7-2. 제2 실시 형태 7-2. Second Embodiment

본 발명의 백라이트 유닛의 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. A second embodiment of the backlight unit of the present invention will be described.

도 22는 본 실시 형태의 백라이트 유닛을 나타낸다. 본 실시 형태의 백라이트 유닛(200)은 소위 에지 라이트형의 것으로서, 확산 도광체(310)와, 확산 도광체 (310)의 요철 패턴이 형성된 면(표면315)에 대향하는 면(이면316)과 마주보게 배치된 반사판(320)과, 확산 도광체(310)의 일측면에 배치 된 광원(330)을 구비한다. 또, 확산 도광체(310)의 표면(315)측에는 확산 필름(340), 프리즘 시트(350), 휘도상승필름(360)이 순차로 적층되어 있다. 22 shows the backlight unit of this embodiment. The backlight unit 200 of the present embodiment is a so-called edge light type, and has a surface (side surface 316) facing the diffused light guide 310 and the surface (surface 315) on which the uneven pattern of the diffused light guide 310 is formed. The reflective plate 320 is disposed to face each other, and the light source 330 is disposed on one side of the diffusion light guide 310. Further, the diffusion film 340, the prism sheet 350, and the brightness increasing film 360 are sequentially stacked on the surface 315 side of the diffusion light guide 310.

본 실시 형태에 이용되는 확산도광체(310), 반사판(320), 광원(330), 확산 필름(340), 프리즘 시트(350) 및 휘도상승필름(360)은 제1 실시 형태와 동일하다. The diffusing light guide 310, the reflecting plate 320, the light source 330, the diffusing film 340, the prism sheet 350, and the luminance increasing film 360 used in the present embodiment are the same as in the first embodiment.

사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 형성된 확산 도광체(310)를 구비하는 상기 실시 형태의 백라이트 유닛(100)에서는, 광원(330)으로부터 발생한 광이 확산 도광체 (310)의 요철면에서 높은 이방성을 갖고 확산한다. 따라서, 백라이트 유닛(100, 200)을 구비하는 액정표시장치는 화상에 얼룩이 생기기 것을 방지할 수 있다. In the backlight unit 100 of the above-described embodiment including the diffused light guide 310 having a meandering wavy concave-convex pattern, the light generated from the light source 330 has high anisotropy at the uneven surface of the diffused light guide 310. And spread. Therefore, the liquid crystal display device including the backlight units 100 and 200 can prevent the image from being uneven.

8. 반사 방지체 8. Anti-reflective body

본 발명의 반사 방지체는 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하인 요철 패턴(12a)을 구비하는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)를 포함한다. The antireflective body of this invention contains the above-mentioned uneven | corrugated pattern formation sheet 10 provided with the uneven | corrugated pattern 12a whose closest pitch A is 1 micrometer or less.

본 발명의 반사 방지체에 있어서는, 요철 패턴 형성 시트(10)의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비해도 무방하다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)이 형성되어 있는 측의 면에, 그 면이 오염되는 것을 방지하기 위해서, 불소 수지 또는 실리콘 수지를 주성분으로서 함유하는 두께 1∼5nm 정도의 방오층을 갖추어도 무방하다. In the antireflective body of this invention, you may provide another layer in the one surface or both surfaces of the uneven | corrugated pattern formation sheet 10. FIG. For example, in order to prevent the surface from being contaminated on the surface on the side where the uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10 is formed, a thickness of 1 to 5 nm containing fluorine resin or silicone resin as a main component You may have an antifouling layer.

본 발명의 반사 방지체는 요철 패턴 형성 시트(10)의 물결 형상의 요철 패턴(12a)의 부분에서 공기의 굴절률과 요철 패턴 형성 시트(10)의 굴절률(기판(11의) 굴절률)의 사이의 중간굴절률을 갖고, 그 중간굴절률이 연속적으로 변화한다. 또한 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하이고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상이다. 이로부터, 광의 반사율을 특히 낮게 할 수 있고, 구체적으로는, 반사율을 거의 0%로 할 수 있다. 이는, 상술한 바와 같이, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하로 짧은데다, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 깊어져서, 중간굴절률이 연속적으로 변화하는 부분이 두께 방향으로 길어져, 광의 반사를 억제하는 효과를 현저하게 발휘할 수 있기 때문이다. The antireflective body of the present invention is provided between the refractive index of the air and the refractive index (of the substrate 11) of the uneven pattern forming sheet 10 in the portion of the wavy uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10. It has an intermediate refractive index, and the intermediate refractive index changes continuously. In addition, the least-pitched pitch A of the uneven pattern 12a is 1 µm or less, and the average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a is the shortest pitch A. It is more than 10% when we made 100%. From this, the reflectance of the light can be made particularly low, and specifically, the reflectance can be made almost 0%. As described above, the least pitch A of the uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10 is shorter than 1 µm, and the average depth B is the shortest pitch. This is because the portion in which (A) is made 100% deeper than 10% and the intermediate refractive index continuously changes in the thickness direction can be exerted significantly in suppressing the reflection of light.

이러한 반사 방지체는, 예를 들면, 액정표시 패널이나 플라즈마 디스플레이 등의 화상표시장치, 발광 다이오드의 발광부 선단, 태양 전지 패널의 표면 등에 부착될 수 있다. Such an antireflection body may be attached to, for example, an image display device such as a liquid crystal display panel or a plasma display, a tip of a light emitting portion of a light emitting diode, a surface of a solar cell panel, or the like.

화상표시장치에 부착한 경우에는, 조명의 화면 반사를 방지할 수 있기 때문에 화상의 시인성이 향상된다. 발광 다이오드의 발광부 선단에 부착된 경우에는, 광의 취출 효율이 향상된다. 태양 전지 패널의 표면에 부착한 경우에는, 광의 취출량이 많아지기 때문에, 태양 전지의 발전 효율이 향상된다. When it is attached to an image display device, since the reflection of the screen of the illumination can be prevented, the visibility of the image is improved. When attached to the tip of the light emitting portion of the light emitting diode, the light extraction efficiency is improved. When it adheres to the surface of a solar cell panel, since the extraction amount of light increases, the power generation efficiency of a solar cell improves.

9. 위상차판 9. Phase difference plate

본 발명의 위상차판은 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하인 요철 패턴(12a)을 구비하는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)을 포함한다. 단, 요철의 방향은 랜덤이 아니라, 일방향을 따른다. The retardation plate of the present invention includes the above-mentioned concave-convex pattern forming sheet 10 having a concave-convex pattern 12a having a least pitch A of 1 μm or less. However, the uneven direction is not random but follows one direction.

본 발명의 위상차판에 있어서도, 상기 반사 방지체와 같은 식으로, 요철 패턴 형성 시트(10)의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비해도 무방하다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)가 형성되어 있는 측의 면에 방오층을 구비해도 무방하다. Also in the phase difference plate of this invention, you may provide the other layer in one surface or both surfaces of the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 similarly to the said anti-reflective body. For example, you may provide an antifouling layer in the surface by the side in which the uneven | corrugated pattern 12a of the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 is formed.

본 발명의 위상차판은 위상차를 발생시키는 효과를 현저히 발휘할 수 있다. 이것은, 상술한 바와 같이, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하로 짧은데다, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 깊기 때문에, 굴절률이 서로 다른 공기와 요철 패턴 형성 시트(10)가 교호적으로 배치되는 부분이 두께 방향으로 길어지고, 광학 이방성을 나타내는 부분이 길어지기 때문이다. 게다가, 요철 패턴의 피치가 가시광의 파장과 같은 정도이거나 그 이하일 경우에는, 넓은 가시광 파장 영역에 걸쳐 동등한 위상차를 생기게 할 수 있다. The phase difference plate of this invention can exhibit the effect which produces retardation remarkably. As described above, the least pitch A of the uneven pattern 12a of the uneven pattern forming sheet 10 is shorter than 1 µm, and the average depth B is the lowest pitch. Since the depth is 10% or more when (A) is 100%, the portion where the air and the uneven pattern-forming sheet 10 having different refractive indices are alternately arranged becomes longer in the thickness direction, and the portion showing optical anisotropy Because it is longer. In addition, when the pitch of the uneven pattern is about the same as or less than the wavelength of visible light, it is possible to produce an equal phase difference over a wide visible light wavelength region.

(광학소자제조용 공정 시트)(Process Sheet for Optical Device Manufacturing)

본 발명의 광학소자제조용 공정 시트(이하, '공정 시트'라 함)는 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하인 요철 패턴(12a)을 구비하는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)를 포함하는 것으로서, 요철 패턴을 이하에 나타낸 바와 같은 방법으로 다른 소재에 전사시킴에 따라, 상기 공정 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 가지고, 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 사용 가능한 요철 패턴 형성 시트를 대면적으로 대량으로 제조하기 위한 틀로서 이용할 수 있다. The process sheet for manufacturing an optical element of the present invention (hereinafter referred to as a "process sheet") includes the above-mentioned uneven pattern forming sheet 10 having an uneven pattern 12a having a least pitch A of 1 µm or less. It includes and includes the uneven pattern of the nearest pitch and average depth equivalent to the process sheet, by transferring the uneven pattern to another material in the manner as shown below, and the optical The uneven pattern forming sheet which can be used as an element can be used as a mold for producing a large amount in a large area.

공정 시트를 이용해서 공학소자를 제조하는 구체적인 방법은 상기 광학 시트의 방법과 같다. The specific method of manufacturing an engineering element using a process sheet is the same as that of the said optical sheet.

실시예 1 Example 1

이하의 예의 영율(Young's modulus)은 인장 시험기(테스터 산업사制 TE-7001)를 이용하고, JIS K 7113-1995에 준거해서 측정한 값이다. 특히 온도를 기재하지 않은 경우에는 23℃에 있어서의 영율(Young's modulus) 값이다. The Young's modulus of the following examples is the value measured based on JISK71113-1995 using the tensile tester (Tester Industrial Co., Ltd. TE-7001). In particular, when temperature is not described, it is a Young's modulus value in 23 degreeC.

(실시예 1) (Example 1)

일축방향으로 열수축하고, 두께가 50㎛이며, 영율(Young's modulus)이 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식회사制 히시페트 LX-60S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 200nm이 되도록 코터를 이용하여 도포함으로써 경질층을 형성하여 적층 시트를 얻었다. Heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Mitsubishi Resin Co., Ltd. Hisipet LX-60S, glass transition temperature of 70 ° C.) having heat shrinkage in the uniaxial direction, thickness of 50 μm, and Young's modulus of 3 GPa. Polymethyl methacrylate (Polymer Source Co., Ltd. P4831-MMA, glass transition temperature 100 degreeC) diluted in toluene was apply | coated to cotton using a coater so that thickness might be 200 nm, the hard layer was formed, and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 80℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 40%로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 60%로 변형시키고), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 80 ° C. for 1 minute and thermally contracted to 40% of its length before heating (ie, to be deformed at a strain rate of 60%), thereby causing periodic waves along the direction perpendicular to the direction of shrinkage of the hard layer. Uneven | corrugated pattern formation sheet (light diffuser) which has a uneven | corrugated pattern of a shape was obtained.

한편, 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름 및 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 80℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, Young's modulus in 80 degreeC of the polyethylene terephthalate agent heat shrinkable film and the said polymethyl methacrylate was 50 Mpa and 1 GPa, respectively.

(실시예 2)(Example 2)

톨루엔에 희석한 폴리스티렌(폴리머 소스 주식 회사制 PS, 유리 전이 온도 100℃)을 도포한 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 식으로 하여 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. An uneven pattern-forming sheet (light diffuser) was obtained in the same manner as in Example 1 except that polystyrene (Polymer Source Co., Ltd. PS, glass transition temperature 100 ° C.) diluted in toluene was applied.

한편, 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름 및 상기 폴리스티렌의 80℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, Young's modulus at 80 degreeC of the polyethylene terephthalate agent heat shrinkable film and the said polystyrene was 50 Mpa and 1 GPa, respectively.

(실시예 3)(Example 3)

폴리스티렌의 도포 두께를 1㎛로 한 것을 제외하고는 실시예 2과 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The uneven patterned sheet (light diffuser) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating thickness of the polystyrene was 1 μm.

(실시예 4)(Example 4)

적층 시트를 70℃로 1분간 가열하는 것에 의해, 가열 전의 길이의 90%로 열수축시킨(즉, 변형율 10%로 변형시킨) 것을 제외하고는 실시예 2와 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The uneven pattern-forming sheet was formed in the same manner as in Example 2 except that the laminated sheet was heated at 70 ° C. for 1 minute to be thermally contracted (ie, deformed at a strain of 10%) to 90% of its length before heating. Diffuser).

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 공정 시트 원판으로 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산체를 얻었다. The light-diffusion body was obtained in the following manner using the uneven | corrugated pattern formation sheet (light diffuser) obtained by Example 1 as a process sheet original plate.

즉, 실시예 1에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 넣는 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 도포했다. That is, the uncured ultraviolet curable resin composition which put the epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and the benzophenone system photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate obtained by Example 1 was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면 중 공정 시트 원판과 접하고 있지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩시키고, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition which is not in contact with a process sheet original plate, and pressurized.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 경화시켰고, 그 경화물을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured ultraviolet curable resin composition, and the cured product was peeled from the process sheet disc to obtain a light diffuser.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 공정 시트 원판으로 이용하고, 아래와 같은 방식으로 광학소자를 얻었다. The uneven pattern formation sheet (light diffuser) obtained in Example 1 was used as a process sheet original plate, and the optical element was obtained by the following method.

즉, 실시예 1에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 니켈 도금을 하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 도포했다. That is, nickel plating was carried out to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate obtained by Example 1 was formed, the nickel plating was peeled off, and the secondary process sheet which is 200 micrometers in thickness was obtained. The uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone type photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하고 있지 않은 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩시켜, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface which is not in contact with a secondary process sheet among the surfaces of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition, and it pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured ultraviolet curable resin composition, and the cured product was peeled off from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(실시예 7)(Example 7)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열경화성수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 6과 같은 식으로 하여 광확산체를 얻었다. A light diffusing body was obtained in the same manner as in Example 6, except that a thermosetting epoxy resin was used instead of the ultraviolet curable resin composition, and the thermosetting resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 6과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 뒤, 냉각·고화시키고, 이를 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. In the same manner as in Example 6, a secondary process sheet having a thickness of 200 μm was obtained. The 50-micrometer-thick polymethyl methacrylate film was piled up on the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet was formed, and it heated. The polymethyl methacrylate film and the secondary process sheet softened by heating were pressurized on both sides, and then cooled and solidified, which was peeled off from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

폴리스티렌의 도포 두께를 6㎛로 한 것을 제외하고는 실시예 2와 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The uneven patterned sheet (light diffuser) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating thickness of polystyrene was set to 6 µm.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

폴리스티렌의 도포 두께를 40nm로 한 것을 제외하고는 실시예 2와 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The uneven patterned sheet (light diffuser) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the coating thickness of the polystyrene was 40 nm.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트LX-60S의 대신 동(同)히시페트LX-10S(영율(Young's modulus)3GPa)를 이용한 것 및 그 적층 시트를 70℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 97%로 수축시킨(즉, 변형율 3%에 변형시킨) 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. Mitsubishi Resin Co., Ltd. Controlled by Hishipet LX-10S (Young's modulus 3GPa) instead of Hispet LX-60S, and the laminated sheet was heated at 70 ° C. for 1 minute before heating. A concave-convex pattern forming sheet (light diffuser) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the sheet was shrunk to 97% of its length (that is, deformed at 3% of strain).

(비교예 4)(Comparative Example 4)

일본 특허 공개공보 2006-261064호에 나타난 이방성확산 패턴의 제조 방법을 이용해서 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. The uneven pattern forming sheet | seat was obtained using the manufacturing method of the anisotropic diffusion pattern shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-261064.

즉, 레이저광을 확산해서 투과하는 우유빛 유리와 같은 확산판이 끼워진 폭 1mm, 길이 10cm의 슬릿을 갖는 차폐판과, 시판하고 있는 감광성 수지가 100㎛의 두께로 도포된 감광성 필름판을 서로의 간격이 1m이고 판끼리 평행하도록 설치했다. In other words, a shielding plate having a slit having a width of 1 mm and a length of 10 cm sandwiched with a diffusion plate such as milky glass that diffuses and transmits laser light, and a photosensitive film plate coated with a commercially available photosensitive resin with a thickness of 100 μm are separated from each other. It was 1m and it installed so that boards might be parallel.

그 다음에, 파장 514nm의 아르곤 레이저를 상기 차폐판측에서 조사하고, 상기 슬릿을 빠져 나가서 우유빛 유리에 의해 확산된 아르곤 레이저광를 이용하여 감광성 필름판상의 감광성 수지를 노광하였다. Next, an argon laser having a wavelength of 514 nm was irradiated from the shielding plate side, and the photosensitive resin on the photosensitive film plate was exposed using an argon laser light that passed through the slit and was diffused by milky glass.

상기에 나타낸 바와 같은 노광을 되풀이하여, 감광성 필름판 전면(全面)의 감광성 수지를 노광하였다. 그리고, 노광된 감광성 필름을 현상하고, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The exposure as shown above was repeated, and the photosensitive resin of the whole photosensitive film plate whole surface was exposed. And the exposed photosensitive film was developed and the uneven | corrugated pattern formation sheet (light diffuser) was obtained.

한편, 비교예 4에 있어서의 그레이스케일 파일 변환 화상을 도 9에 나타내었고, 그레이스케일 파일 화상의 푸리에 변환 화상을 도 10에 나타내었다. 또, 도 10의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선(L4)을 긋고, 그 보조선(L4) 상의 휘도를 플롯하여 도 11에 나타낸다. 또한, 도 10에 있어서, 보조선(L4)과 값 'Y'의 부분에서 직교하는 보조선(L5)을 긋고, 그 보조 선(L5) 상의 휘도를 플롯하여 도 12에 나타내었다. On the other hand, the grayscale file converted image in the comparative example 4 is shown in FIG. 9, and the Fourier transform image of a grayscale file image is shown in FIG. In addition, the auxiliary line L4 is drawn in the horizontal direction from the center of the image of FIG. 10, and the luminance on the auxiliary line L4 is plotted and shown in FIG. In Fig. 10, the auxiliary line L5 orthogonal to the auxiliary line L4 and the value 'Y' is drawn, and the luminance on the auxiliary line L5 is plotted and shown in Fig. 12.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

가열 수축성 필름 대신 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 5GPa의 2축 연장폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(테이진(帝人) 주식 회사制 G2)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 얻는 것을 시도했다. 그러나, 물결 형상의 요철 패턴이 형성되지 않아서, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻을 수 없었다. Concave-convex pattern in the same manner as in Example 1, except that a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (Teijin Co., Ltd. G2) having a thickness of 50 μm and a Young's modulus of 5 GPa was used instead of the heat shrinkable film. It tried to obtain the formation sheet (light diffuser). However, the wavy concave-convex pattern was not formed, so that the concave-convex pattern forming sheet (light diffuser) could not be obtained.

(비교예 6) (Comparative Example 6)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 쉬링크 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트LX-10S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에 영율(Young's modulus)이 2MPa인 폴리디메틸실록산(신에츠화학공업(信越化學工業) 주식 회사 KS847T, 유리 전이 온도 -120℃)와 백금촉매(신에츠화학공업(信越化學工業) 주식 회사 CAT-PL-50T)를 톨루엔에 희석한 분산액을 바 코터법에 의해 두께가 200nm이 되도록 도포하여 경질층을 형성함으로써 적층 시트를 얻었다. Heat shrinkable shrink film made of polyethylene terephthalate with a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa uniaxially contracted (Hispetite LX-10S, Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature 70 ° C) Polydimethylsiloxane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KS847T, Glass Transition Temperature -120 ° C) and Platinum Catalyst (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) CAT-PL- The laminated sheet was obtained by apply | coating the dispersion liquid which diluted 50T) to toluene so that it might become thickness 200nm by the bar coater method, and formed a hard layer.

그 다음에, 그 적층 시트를 100℃로 1분간 가열하여 열수축 시킴에 따라, 요철 패턴 형성 시트를 얻으려고 했으나, 경질층을 접듯이 변형시킬 수 없었고, 물결 형상의 요철 패턴은 형성되지 않았다. Then, as the laminated sheet was heated to 100 ° C. for 1 minute to be heat shrinkable, an uneven pattern forming sheet was attempted to be obtained, but the hard layer could not be folded to be folded, and no wavy uneven pattern was formed.

실시예 1∼8 및 비교예 1∼6의 요철 패턴 형성 시트의 광확산체의 표면을, 원자력 현미경(일본 비코사制 나노스코프 III)에 의해 촬영했다. The surface of the light-diffusion body of the uneven | corrugated pattern formation sheet of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-6 was image | photographed with the atomic force microscope (Biko Corp. nanoscope III).

실시예 1∼8 및 비교예 1∼4의 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 원자력 현미경 화상에서 요철 패턴의 깊이를 10군데에서 측정하고, 그것들을 평균하여 평균 깊이를 구했다. In the uneven pattern forming sheet of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-4, the depth of the uneven | corrugated pattern was measured in ten places by the atomic force microscope image, and averaged them to obtain the average depth.

또, 요철 패턴의 배향도를 아래와 같이 하여 구하였다. Moreover, the orientation degree of the uneven | corrugated pattern was calculated | required as follows.

우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일로 변환했다(도 3 참조). 그 다음에, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환했다. 도 4에 푸리에 변환 후의 화상이 도시된다. 그 다음에, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선(L2)을 긋고, 그 보조선 상의 휘도를 플롯(도 5 참조)했다. 그 다음에, 도 5에 있어서, 보조선(L2)과 값 'X' (최빈(最頻) 피치의 역수)의 부분에서 직교하는 보조선(L3)을 긋고, 그 보조선(L3) 상의 휘도를 플롯(도 6 참조)했다. 그리고, 도 6의 플롯에 있어서, 피크의 반값폭(W1)로부터 요철 패턴의 배향도를 구하였다. 그것들의 값을 표 1에 나타낸다. First, the surface of an uneven | corrugated pattern was image | photographed by the surface optical microscope, and the image was converted into the file of gray scale (refer FIG. 3). Then, the grayscale file image was Fourier transformed. 4 shows an image after Fourier transform. Next, the auxiliary line L2 was drawn in the horizontal direction from the center of the image of FIG. 4, and the luminance on the auxiliary line was plotted (see FIG. 5). Next, in Fig. 5, the auxiliary line L3 orthogonal to the auxiliary line L2 and the value 'X' (inverse of the least pitch) is drawn, and the luminance on the auxiliary line L3 is drawn. Was plotted (see FIG. 6). And in the plot of FIG. 6, the orientation degree of the uneven | corrugated pattern was calculated | required from the half value width W1 of a peak. Those values are shown in Table 1.

또, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치 및 바닥부의 평균 깊이로부터, 광확산체로서의 적성을 이하의 기준으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 1에 나타낸다. Moreover, the aptitude as a light-diffusion body was evaluated based on the following references | standards from the least pitch of an uneven pattern and the average depth of a bottom part. The evaluation results are shown in Table 1.

○: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이며, 배향도가 0.3∼1.0이어서,광확산체로서 적합하다. (Circle): The gap pitch of the uneven | corrugated pattern is 1 micrometer-20 micrometers, and the average depth is 10% or more when the mode pitch is 100%, and orientation degree is 0.3-1.0, and it is a light-diffusion body Suitable as.

△: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘거나, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이거나, 혹은 배향도가 0.3미만이어서, 광확산체로서 반드시 적합하지 않다. (Triangle | delta): The least pitch of an uneven | corrugated pattern exceeds 1 micrometer or 20 micrometers, or the average depth is less than 10%, or the orientation degree is less than 0.3 when the least pitch is 100%, It is not necessarily suitable as a light diffuser.

×: 요철 패턴을 형성할 수 없다 ×: Uneven pattern cannot be formed

요철패턴의
평균피치(㎛)Uneven pattern
Average pitch (㎛) 요철패턴의
평균깊이(㎛)Uneven pattern
Average Depth (㎛) 깊이/피치
(%)Depth / pitch
(%) 배향도Orientation 평가evaluation 실시예 1Example 1 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 2Example 2 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 3Example 3 1010 1010 100100 0.30.3 OO 실시예 4Example 4 22 0.40.4 2020 0.30.3 OO 실시예 5Example 5 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 6Example 6 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 7Example 7 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 8Example 8 22 22 100100 0.30.3 OO 비교예 1Comparative Example 1 6060 6060 100100 0.30.3 △△ 비교예 2Comparative Example 2 0.40.4 0.40.4 100100 0.30.3 △△ 비교예 3Comparative Example 3 22 0.180.18 99 0.30.3 △△ 비교예 4Comparative Example 4 55 66 120120 0.160.16 △△ 비교예 5Comparative Example 5 요철 패턴을 형성하지 않음Does not form uneven patterns XX 비교예 6Comparative Example 6 요철 패턴을 형성하지 않음Does not form uneven patterns XX

적층 시트의 표면 평활 경질층을 접듯이 변형시킨 실시예 1∼8에서는 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있었다. In Examples 1-8 in which the surface smooth hard layer of the laminated sheet was folded so as to be folded, the uneven pattern-forming sheet could be easily produced.

게다가, 실시예 1∼8의 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서, 광확산체로서 적합하였다. 실시예 1∼4에서, 상기와 같은 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이를 얻을 수 있었던 것은, 표면 평활 경질층의 두께가 0.05㎛~5㎛이고, 그 변형율을 10% 이상으로 했기 때문이다. In addition, the uneven | corrugated pattern formation sheet of Examples 1-8 has the minimum pitch of the uneven | corrugated pattern of 1 micrometer-20 micrometers, and the 10 when the average depth of a bottom part made the least pitch 100%. It was more than%, and was suitable as a light-diffusion body. In Examples 1-4, the closest pitch and average depth as mentioned above were obtained because the thickness of the surface smooth hard layer was 0.05 micrometer-5 micrometers, and the strain was 10% or more.

또, 실시예 1에서 얻은 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 공정 시트로서 이용한 실시예 5∼8의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)과 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광확산체를 간편하게 제조할 수 있었다. In addition, according to the manufacturing methods of Examples 5 to 8 using the concavo-convex pattern forming sheet (light diffusing body) obtained in Example 1 as a process sheet, the most frequent pitch and the pitch equal to those of the concavo-convex pattern forming sheet It was possible to easily manufacture an optical diffuser having an irregular pattern of an average depth.

이에 대하여, 비교예 1 및 2에서는, 표면 평활 경질층의 두께가 0.05㎛이하 혹은 5㎛을 넘었기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트(광확산체)는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘었다. 또, 비교예 3에서는, 변형율을 3%로 했기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이었다. 또, 비교예 4에서는 배향도가 0.3미만이었다. 이들 비교예 1∼4는 광확산체로서 적합하지 않았다. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since the thickness of the surface smooth hard layer exceeded 0.05 µm or less or 5 µm, the obtained uneven pattern forming sheet (light diffuser) had the least pitch of the uneven pattern 1 It was less than or equal to 20 µm. Moreover, in the comparative example 3, since the deformation rate was 3%, the obtained uneven | corrugated pattern formation sheet was less than 10% when the average depth of the bottom part of the uneven | corrugated pattern made the least pitch 100%. In Comparative Example 4, the degree of orientation was less than 0.3. These comparative examples 1-4 were not suitable as a light-diffusion body.

또, 수지층으로 2축 연장 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 이용한 비교예 5 및 제1 수지보다 제2 수지의 유리 전이 온도가 낮은 적층 시트를 이용한 비교예 6의 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층이 접듯이 변형되지 않았기 때문에, 요철 패턴이 형성되지 않았다. Moreover, in the manufacturing method of the comparative example 5 which used the biaxially-extended polyethylene terephthalate film as the resin layer, and the laminated sheet with the glass transition temperature of the 2nd resin lower than the 1st resin, the surface smooth hard layer is folded. Since it was not deformed, no uneven pattern was formed.

이하의 예에 있어서의 영율(Young's modulus)은 인장 시험기 (오리엔테크 주식 회사制 텐시론RTC-1210)을 이용하고, JIS Z 2280-1993의 「금속재료의 고온 영율(Young's modulus) 시험 방법」에서 온도를 23도로 변경해서 측정한 값이다. 경질층이 금속화합물로 이루어진 경우에도 마찬가지이다. The Young's modulus in the following examples is a tensile tester (Orientech Co., Ltd. Tensilon RTC-1210), and in JIS Z 2280-1993 "High-temperature Young's modulus test method of metal materials" Measured by changing the temperature to 23 degrees. The same applies to the case where the hard layer is made of a metal compound.

(실시예 9) (Example 9)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 X-10S)의 한 면에, 영율(Young's modulus)이 70GPa인 알루미늄을 두께가 0.05㎛이 되도록 진공증착시킴으로써 표면 평활 경질층을 형성하여 적층 시트를 얻었다. On one side of a polyethylene terephthalate heat shrinkable film (Hispett X-10S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa heat shrinking in one direction, Young's modulus The surface smooth hard layer was formed by vacuum-depositing aluminum which is 70 GPa so that thickness may be 0.05 micrometer, and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 100℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 40%로 열수축시키고 (즉, 변형율 60%로 변형시키고), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직하는 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. The laminated sheet was then heated to 100 ° C. for 1 minute to heat shrink to 40% of its length prior to heating (ie, to be strained at 60% strain) and periodically wave along the direction in which the hard layer is perpendicular to the shrinking direction. The uneven pattern forming sheet which has the uneven pattern of shape was obtained.

이어서, 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하고, 아래와 같이하여 광확산체를 얻었다. Subsequently, the light-diffusion body was obtained as follows using the uneven | corrugated pattern formation sheet as a process sheet original plate.

즉, 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, the uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone type photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트 원판과 접하지 않는 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Subsequently, a 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed on the surface of the coating film of the uncured ultraviolet curable resin composition which was not in contact with the process sheet disc, and was pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여 미경화의 자외선경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured ultraviolet curable resin, and the cured product was peeled from the process sheet disc to obtain a light diffuser.

(실시예 10) (Example 10)

실시예 9의 방법에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산체를 얻었다. Using the uneven pattern-forming sheet obtained by the method of Example 9 as a process sheet original plate, a light diffuser was obtained in the following manner.

즉, 실시예 9에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 니켈 도금을 실시하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, nickel plating was performed to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate obtained by Example 9 was formed, the nickel plating was peeled off, and the secondary process sheet of 200 micrometers in thickness was obtained. The uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone type photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet | seat was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선 경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하지 않는 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하고, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface which is not in contact with a secondary process sheet among the surfaces of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition, and it pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여, 미경화의 경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured curable resin, and the cured product was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(실시예 11)(Example 11)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하였고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열변화성 에폭시 수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 10과 같은 식으로 해서 광확산체를 얻었다. A heat-diffusing epoxy resin was used in place of the UV-curable resin composition, and a light-diffusing body was obtained in the same manner as in Example 10 except that the heat-modifying epoxy resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet light.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 10과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 후, 냉각·고착화시키고, 고착화한 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. In the same manner as in Example 10, a secondary process sheet having a thickness of 200 μm was obtained. The 50-micrometer-thick polymethyl methacrylate film was piled up on the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet was formed, and it heated. After pressing the polymethyl methacrylate film and the secondary process sheet softened by heating on both sides, it cooled and fixed, and the polymethyl methacrylate film which solidified was peeled from the secondary process sheet, and obtained the light-diffusion body.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

알루미늄을 두께가 0.3㎛이 되도록 진공증착한 것을 제외하고는 실시예 9과 같은 식으로 해서 광확산체를 얻었다. A light diffusion body was obtained in the same manner as in Example 9 except that the aluminum was vacuum deposited so as to have a thickness of 0.3 μm.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

알루미늄을 두께가 0.01㎛이 되도록 진공증착한 것을 제외하고는 실시예 9과 같은 식으로 하여 광확산체를 얻었다. A light diffuser was obtained in the same manner as in Example 9 except that the aluminum was vacuum deposited so as to have a thickness of 0.01 μm.

(비교예 9) (Comparative Example 9)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S)의 한 면에, 영율(Young's modulus) 70GPa의 알루미늄을 두께가 0.05㎛이 되도록 진공증착시킴으로써 표면 평활 경질층을 형성하여 적층 시트를 얻었다. On one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Hispett LX-10S, Mitsubishi Resin Co., Ltd.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa, which is thermally contracted in one axial direction, the Young's modulus 70 GPa. Of aluminum was vacuum-deposited to a thickness of 0.05 mu m to form a surface smooth hard layer to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 70℃로 1분간 가열하고, 가열 전의 길이의 97%로 수축시킨(즉, 변형율 3%로 변형시킨) 것을 제외하고는 실시예 9과 같은 식으로 하여 광확산체를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 70 ° C. for 1 minute, and shrunk to 97% of its length before heating (ie, deformed at 3% strain), and was diffused in the same manner as in Example 9 Got.

실시예 9∼12 및 비교예 7∼9의 요철 패턴 형성 시트의 광확산체의 표면을 원자간력 현미경(일본 비코사制 나노 스코프 III)에 의해 촬영했다. The surface of the light-diffusion body of the uneven | corrugated pattern formation sheet of Examples 9-12 and Comparative Examples 7-9 was image | photographed with the atomic force microscope (Japan Biko Corporation nanoscope III).

실시예 9∼12 및 비교예 7∼9의 요철 패턴 형성 시트에서는, 원자력 현미경 화상에서 요철 패턴의 깊이를 10군데에서 측정하였고, 그것들을 평균하여 평균 깊이를 구했다. In the uneven | corrugated pattern formation sheets of Examples 9-12 and Comparative Examples 7-9, the depth of the uneven | corrugated pattern was measured in ten places in an atomic force microscope image, and averaged them to calculate | require the average depth.

또, 요철 패턴의 배향도를 아래와 같이 하여 구했다. Moreover, the orientation degree of the uneven | corrugated pattern was calculated | required as follows.

우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일로 변환했다(도 3 참조). 그 다음에, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환했다. 도 4는 푸리에 변환후의 화상을 나타낸다. 그 다음에, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선(L2)을 긋고, 그 보조선 상의 휘도를 플롯(도 5 참조)했다. 그 다음에, 도 5에 있어서, 보조선(L2)과 값 'X' (최빈(最頻) 피치의 역수)의 부분에서 직교하는 보조선(L3)을 긋고, 그 보조선(L3) 상의 휘도를 플롯(도 6 참조)했다. 그리고, 도 6의 플롯에 있어서, 피크의 반값폭(W1)으로부터 요철 패턴의 배향도를 구했다. First, the surface of an uneven | corrugated pattern was image | photographed by the surface optical microscope, and the image was converted into the file of gray scale (refer FIG. 3). Then, the grayscale file image was Fourier transformed. 4 shows an image after Fourier transform. Next, the auxiliary line L2 was drawn in the horizontal direction from the center of the image of FIG. 4, and the luminance on the auxiliary line was plotted (see FIG. 5). Next, in Fig. 5, the auxiliary line L3 orthogonal to the auxiliary line L2 and the value 'X' (inverse of the least pitch) is drawn, and the luminance on the auxiliary line L3 is drawn. Was plotted (see FIG. 6). And in the plot of FIG. 6, the orientation degree of the uneven | corrugated pattern was calculated | required from the half value width W1 of a peak.

그것들의 값을 표 2에 나타낸다. Those values are shown in Table 2.

또, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치 및 바닥부의 평균 깊이로부터, 광확산체로서의 적성을 이하의 기준으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 2에 나타낸다. Moreover, the aptitude as a light-diffusion body was evaluated based on the following references | standards from the least pitch of an uneven pattern and the average depth of a bottom part. The evaluation results are shown in Table 2.

○: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이며, 배향도가 0.3∼1.0이어서, 광확산체로서 적합함. (Circle): The least pitch of an uneven | corrugated pattern is 1 micrometer-20 micrometers, and an average depth is 10% or more when the least pitch is made into 100%, the orientation degree is 0.3-1.0, and it is a light-diffusion body Suitable as

△: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘거나, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이거나, 혹은 배향도가 0.3미만이어서, 광확산체로서 반드시 적합한 것은 아님. (Triangle | delta): The least pitch of an uneven | corrugated pattern exceeds 1 micrometer or 20 micrometers, or the average depth is less than 10%, or the orientation degree is less than 0.3 when the least pitch is 100%, Not necessarily suitable as light diffuser.

×: 요철 패턴을 형성할 수 없음. X: Uneven | corrugated pattern cannot be formed.

요철 패턴의
평균피치(㎛)Uneven pattern
Average pitch (㎛) 요철 패턴의
평균깊이(㎛)Uneven pattern
Average Depth (㎛) 깊이/피치
(%)Depth / pitch
(%) 배향도Orientation 평가evaluation 실시예 9Example 9 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 실시예 10Example 10 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 실시예 11Example 11 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 실시예 12Example 12 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 비교예 7Comparative Example 7 3030 3030 100100 0.30.3 △△ 비교예 8Comparative Example 8 0.60.6 0.60.6 100100 0.30.3 △△ 비교예 9Comparative Example 9 3.03.0 0.270.27 99 0.30.3 △△

적층 시트의 표면 평활 경질층을 접듯이 변형시켜 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용한 실시예 9∼12에서는, 요철 패턴을 갖는 광확산체를 용이하게 제조할 수 있었다. 특히, 실시예 9∼12로 얻은 광확산체는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서, 광확산체로서 적합하였다. 실시예 9∼12에서, 상기와 같은 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이를 얻을 수 있었던 것은, 표면 평활 경질층의 두께가 0.01㎛~0.2㎛이고, 변형율을 10%이상으로 했기 때문이다. In Examples 9 to 12 in which the uneven pattern-forming sheet obtained by folding the surface smooth hard layer of the laminated sheet as a folding sheet was used as a process sheet original plate, a light diffuser having an uneven pattern was easily produced. In particular, the light diffusing body obtained in Examples 9 to 12 had a mode pitch of 1 µm to 20 µm with a concave-convex pattern, and an average depth of 10 at the bottom of the mode with 100% of the mode pitch. It was more than%, and was suitable as a light-diffusion body. In Examples 9-12, the closest pitch and average depth as mentioned above were obtained because the thickness of the surface smooth hard layer was 0.01 micrometer-0.2 micrometer, and the strain rate was 10% or more.

이에 대하여, 비교예 7 및 8에서는, 표면 평활 경질층 두께가 0.01㎛이하 혹은 0.2㎛을 넘기 때문에, 얻어진 광확산체는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘었다. 또, 비교예 9에서는, 변형율을 3%로 했기 때문에, 얻어진 광확산체는 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이었다. 또, 비교예 10에서는 배향도가 0.3미만이었다. 이것들은, 반드시 광확산체로서 적합한 것은 아니다. On the other hand, in Comparative Examples 7 and 8, since the surface smooth hard layer thickness exceeded 0.01 micrometer or less and 0.2 micrometer, the obtained light-diffusion body had the least pitch of an uneven | corrugated pattern 1 micrometer or less or 20 micrometers. Moreover, in the comparative example 9, since the strain rate was 3%, the obtained light-diffusion body was less than 10% when the average depth of the bottom part of the uneven | corrugated pattern made the least pitch 100%. In Comparative Example 10, the degree of orientation was less than 0.3. These are not necessarily suitable as light diffusers.

(실시예 13) (Example 13)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리스티렌(폴리머 소스 주식 회사제 PS, 유리 전이 온도 100℃)을 요판 인쇄기 (마츠오산업(松尾産業) 주식 회사制 K프린팅푸르퍼)에 의해, 지름 50㎛이며 두께 500nm인 도트 형상으로 인쇄하여 인쇄 시트를 얻었다. On one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Mitsubishi Resin Co., Ltd., Hishipet LX-60S, glass transition temperature 70 ° C.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa that is thermally contracted in the uniaxial direction. Polystyrene (PS made by Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature 100 ° C.) diluted in toluene was converted into a dot shape having a diameter of 50 μm and a thickness of 500 nm by a gravure printing machine (Matsuo Industries Co., Ltd. K printing purper). It printed and obtained the printing sheet.

도트의 패턴은, 폭 5cm×길이 10cm의 범위에서, 그 길이방향의 일단으로부터 타단을 향해서 도트 면적비율이 0∼100%의 범위에서 1cm마다 10%씩 증가하는 그라데이션 패턴으로 하였다. 한편, 도트 면적 비율 0%은 완전히 인쇄되어 있지 않은 것을 나타내고, 100%은 전면(全面)인쇄된 것을 나타낸다. The pattern of dots was made into the gradient pattern which increases by 10% every 1 cm in the range of 0-100% of dot area ratios from the end of the longitudinal direction to the other end in the range of 5 cm width x 10 cm length. On the other hand, 0% of the dot area ratio indicates not to be completely printed, and 100% indicates that the entire surface is printed.

그 다음에, 그 인쇄 시트를 80℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 40%으로 열수축시켰다(즉, 변형율 60%로 변형시켰다). 80℃에 있어서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름의 영율(Young's modulus)(50MPa)보다, 폴리스티렌의 영율(Young's modulus) (1GPa)쪽이 높다. 그 때문에, 열수축시에 도트는 접히듯이 변형하고, 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 형성했다. 이에 의해, 평탄한 한 면에 요철영역이 형성된 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. The printed sheet was then heated to 80 ° C. for 1 minute to heat shrink to 40% of its length prior to heating (ie, to be strained to 60% strain). At 80 ° C, Young's modulus (1GPa) of polystyrene is higher than Young's modulus (50 MPa) of the heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate. Therefore, the dot deforms so as to be folded at the time of thermal contraction, and forms a periodic wave-shaped uneven pattern along the direction perpendicular to the shrinkage direction. This obtained the uneven | corrugated pattern formation sheet in which the uneven | corrugated area | region was formed in one flat surface.

이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 5㎛이고, 아스펙트비는 1이며, 배향도는 0.3이었다. In this uneven | corrugated pattern formation sheet, the closest pitch of the uneven | corrugated pattern of the uneven | corrugated area | region was 5 micrometers, the aspect ratio was 1, and the orientation degree was 0.3.

얻어진 요철 패턴 형성 시트의 광확산성을 조사했더니, 수축 방향에 대하여 수직한 방향보다도 평행한 방향에서 강하게 광을 확산시키는 이방확산성을 가지고 있었다. 또, 광확산성은 요철영역의 면적비율이 커지는 방향을 따라 점차적으로 증가했다. 이러한 실시예 13의 요철 패턴 형성 시트는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것이다. When the light diffusivity of the obtained uneven | corrugated pattern formation sheet was examined, it had anisotropic diffusivity which diffuses light strongly in the direction parallel to the direction perpendicular | vertical to a shrinkage direction. In addition, light diffusivity gradually increased along the direction in which the area ratio of the uneven region increased. The uneven pattern forming sheet of Example 13 can be used as a light diffusion sheet.

(실시예 14)(Example 14)

미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S 대신 2축 방향으로 가열 수축하는 두께 25㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 PX-40S)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 13과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. 이 요철 패턴 형성 시트의 한 면에는, 특정한 방향을 따르지 않는 물결 형상의 요철 패턴이 형성되어 있었다. Mitsubishi Resin Co., Ltd.Hispett Polyethylene terephthalate shrink film (Mitsubishi Resin Co., Ltd.) with thickness of 25㎛, Young's modulus 3GPa, heat shrinkage in biaxial direction instead of LH-60S Except having used PET PX-40S), it carried out similarly to Example 13, and obtained the uneven | corrugated pattern formation sheet. On one surface of the uneven pattern forming sheet, a wavy uneven pattern was not formed along a specific direction.

이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 5㎛이고, 아스펙트비는 1이었다. In this uneven | corrugated pattern formation sheet, the closest pitch of the uneven | corrugated pattern of an uneven | corrugated area | region was 5 micrometers, and the aspect ratio was 1.

실시예 14의 요철 패턴 형성 시트의 광학특성을 조사했더니, 등방적인 광확산성을 가지고 있었다. 따라서, 실시예 14의 요철 패턴 형성 시트는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것이다. When the optical properties of the uneven patterned sheet of Example 14 were examined, they had isotropic light diffusivity. Therefore, the uneven | corrugated pattern formation sheet of Example 14 can be used as a light-diffusion sheet.

(실시예 15)(Example 15)

도트를 잉크젯 프린터(후지(富士) 필름 주식 회사 다이매틱스 매터리얼 프린터DMP-2831)에 의해 인쇄한 것을 제외하고는 실시예 13과 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. 이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 5㎛이고, 아스펙트비는 1이며, 배향도는 0.3이었다. The uneven patterned sheet was obtained in the same manner as in Example 13 except that the dots were printed by an inkjet printer (Fuji Film Corporation Dymatics Material Printer DMP-2831). In this uneven | corrugated pattern formation sheet, the closest pitch of the uneven | corrugated pattern of the uneven | corrugated area | region was 5 micrometers, the aspect ratio was 1, and the orientation degree was 0.3.

얻어진 요철 패턴 형성 시트의 광학특성을 조사한 결과, 실시예 13과 같은 이방 확산성을 가지고 있었다. 따라서, 실시예 15의 요철 패턴 형성 시트는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것이다. As a result of examining the optical characteristics of the obtained uneven pattern forming sheet, it had the same anisotropic diffusivity as in Example 13. Therefore, the uneven | corrugated pattern formation sheet of Example 15 can be used as a light-diffusion sheet.

(실시예 16)(Example 16)

실시예 13의 방법에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산 시트를 얻었다. The light-diffusion sheet was obtained in the following manner using the uneven | corrugated pattern formation sheet obtained by the method of Example 13 as a process sheet original plate.

즉, 실시예 13에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, an uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, a 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone-based photoinitiator is applied to the surface on which the uneven pattern of the process sheet disc obtained in Example 13 is formed. did.

이어서, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트 원판과 접하지 않은 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition which was not in contact with a process sheet original, and pressurized.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여 미경화의 자외선경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured ultraviolet curable resin, and the cured product was peeled off from the process sheet disc to obtain a light diffusion sheet.

얻어진 광확산 시트는, 실시예 13의 광확산 시트와 같은 요철영역을 가지고, 같은 광확산성을 갖는 것이었다. The obtained light-diffusion sheet had the same uneven region as the light-diffusion sheet of Example 13, and had the same light-diffusion property.

(실시예 17)(Example 17)

즉, 실시예 13에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 니켈 도금을 하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, nickel plating was performed on the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate obtained by Example 13 was formed, the nickel plating was peeled off, and the secondary process sheet which is 200 micrometers in thickness was obtained. The uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone type photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet | seat was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed and pressed to the surface which is not in contact with the secondary process sheet among the surfaces of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition.

이어서, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여, 미경화의 경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured curable resin, and the cured product was peeled off from the secondary process sheet to obtain a light diffusion sheet.

(실시예 18)(Example 18)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열변화성 에폭시 수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 17과 같은 식으로 해서 광확산 시트를 얻었다. A light-diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 17, except that a heat-changeable epoxy resin was used instead of the ultraviolet-curable resin composition, and the heat-changeable epoxy resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

(실시예 19)(Example 19)

실시예 17과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 후, 냉각·고착화시키고, 고착화한 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. In the same manner as in Example 17, a secondary process sheet having a thickness of 200 μm was obtained. The 50-micrometer-thick polymethyl methacrylate film was piled up on the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet was formed, and it heated. After pressing the polymethyl methacrylate film and the secondary process sheet softened by heating on both sides, it cooled and fixed, and the polymethyl methacrylate film which solidified was peeled from the secondary process sheet, and obtained the light-diffusion sheet.

(실시예 20) (Example 20)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 도트 형상의 개구부(공경50㎛)가 다수 형성된 마스크를 탑재하였다. On one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Mitsubishi Resin Co., Ltd., Hishipet LX-10S, glass transition temperature of 70 ° C.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa heat shrinking in the uniaxial direction, The mask in which many dot-shaped opening parts (50 micrometers in diameter) were formed was mounted.

마스크의 개구부의 패턴은, 폭 5cm×길이 10cm의 범위 안에서, 그 길이방향의 일단으로부터 타단을 향해서 개구부 면적비율이 0∼100%의 범위에서 1cm마다 10%씩 증가하는 그라데이션 패턴으로 형성되었다. 한편, 개구부 면적 0%은 개구하지 않고 있는 것을 나타내고, 100%은 전면(全面) 개구하고 있는 것을 나타낸다. The pattern of the opening part of the mask was formed in a gradient pattern in which the opening area ratio was increased by 10% every 1 cm in the range of 0 to 100% from one end in the longitudinal direction to the other end in the range of 5 cm in width x 10 cm in length. On the other hand, 0% of the opening area represents no opening, and 100% represents the entire opening.

그 다음에, 가열 수축성 필름의 한 면에 마스크를 탑재한 상태로, 영율(Young's modulus)이 70GPa인 알루미늄을 두께가 0.05㎛이 되도록 진공증착시켜, 증착 시트 얻었다. Subsequently, while a mask was mounted on one surface of the heat shrinkable film, aluminum having a Young's modulus of 70 GPa was vacuum deposited so as to have a thickness of 0.05 µm, thereby obtaining a vapor deposition sheet.

이 때, 가열 수축성 필름의 한 면에는 알루미늄의 도트가 형성된다. 그 도트 패턴은, 폭 5cm×길이 10cm의 범위에, 길이방향의 일단으로부터 타단을 향해서 도트 면적비율이 0∼100%의 범위에서 1cm마다 10%씩 증가하는 그라데이션 패턴이 된다. 한편, 도트면적 비율 0%은 완전히 증착되어 있지 않은 것을 나타내고, 100%은 전면(全面)에 증착된 것을 나타낸다. At this time, aluminum dots are formed on one surface of the heat shrinkable film. The dot pattern is a gradient pattern in which the dot area ratio increases by 10% every 1 cm in the range of 5 cm width x 10 cm length from one end in the longitudinal direction to the other end in the range of 0 to 100%. On the other hand, 0% of the dot area ratio indicates not to be completely deposited, and 100% represents that the entire surface is deposited.

그 다음에, 그 증착 시트를 100℃로 1분간 가열하여 가열 전의 길이의 40%로 열수축시켰다(즉, 변형율 60%으로 변형시켰다). 열수축 시에 도트는 접히듯이 변형되고, 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 형성하였다. 이에 의해, 한 면에 요철영역을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. The vapor deposition sheet was then heated to 100 ° C. for 1 minute to heat shrink to 40% of its length before heating (ie, to be strained to 60% strain). During thermal contraction, the dots deformed as if they were folded, forming periodic wavy irregularities along the direction perpendicular to the shrinkage direction. This obtained the uneven | corrugated pattern formation sheet which has an uneven area | region on one side.

이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 3㎛이고, 아스펙트비는 1이며, 배향도는 0.3이었다. In this uneven | corrugated pattern formation sheet, the closest pitch of the uneven | corrugated pattern of the uneven | corrugated area | region was 3 micrometers, the aspect ratio was 1, and the orientation degree was 0.3.

이어서, 얻어진 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산 시트를 얻었다. Subsequently, the light-diffusion sheet was obtained in the following manner using the obtained uneven | corrugated pattern formation sheet as a process sheet original plate.

즉, 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 도포했다. That is, the uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone type photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate was formed.

그 다음으로, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트 원판과 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 증첩하여, 가압하였다. Next, a 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was folded and pressed to the surface which is not in contact with a process sheet original among the surfaces of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition.

얻어진 광확산 시트의 광학특성을 조사했더니, 실시예 13과 같은 이방확산성을 가지고 있었다. When the optical properties of the obtained light diffusing sheet were examined, they had the same anisotropic diffusion as in Example 13.

(실시예 21)(Example 21)

미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S 대신 2축 방향으로 가열 수축하는 두께 25㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 PX-40S)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 20과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. 이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 3㎛이고, 아스펙트비는 1이었다. Mitsubishi Resin Co., Ltd.Hispett Polyethylene terephthalate shrink film (Mitsubishi Resin Co., Ltd.) with thickness of 25㎛, Young's modulus 3GPa, heat shrinkage in biaxial direction instead of LH-60S Except having used PET PX-40S), it carried out similarly to Example 20, and obtained the uneven | corrugated pattern formation sheet. In this uneven | corrugated pattern formation sheet, the closest pitch of the uneven | corrugated pattern of an uneven | corrugated area | region was 3 micrometers, and the aspect ratio was one.

그 다음에, 이 요철 패턴 형성 시트를 이용하여, 실시예 20과 같은 식으로 하여, 광확산 시트를 얻었다. 실시예 21의 광확산 시트의 광학특성을 조사했더니, 이방적인 광확산성을 가지고 있었다. Next, using this uneven | corrugated pattern formation sheet, it carried out similarly to Example 20, and obtained the light-diffusion sheet. When the optical properties of the light diffusion sheet of Example 21 were examined, they had anisotropic light diffusion.

(실시예 22)(Example 22)

실시예 20의 방법에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산 시트를 얻었다. The light-diffusion sheet was obtained in the following manner using the uneven | corrugated pattern formation sheet obtained by the method of Example 20 as a process sheet original plate.

즉, 실시예 20에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 니켈 도금을 실시하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포하였다. That is, nickel plating was performed to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet original plate obtained in Example 20 was formed, the nickel plating was peeled off, and the secondary process sheet which is 200 micrometers in thickness was obtained. The uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone system photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하고, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface which is not in contact with a secondary process sheet among the surfaces of the coating film of an uncured ultraviolet curable resin composition, and it pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여 미경화의 경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured curable resin, and the cured product was peeled off from the secondary process sheet to obtain a light diffusion sheet.

얻어진 광확산 시트는 실시예 20의 광확산 시트와 같은 요철영역을 가지며, 같은 광확산성을 갖는 것이었다. The obtained light diffusing sheet had the same uneven region as in the light diffusing sheet of Example 20, and had the same light diffusing property.

(실시예 23)(Example 23)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열변화성 에폭시 수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 22와 같은 식으로 해서 광확산 시트를 얻었다. A light-diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 22, except that a heat-changeable epoxy resin was used instead of the ultraviolet-curable resin composition, and the heat-changeable epoxy resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

얻어진 광확산 시트는 실시예 20의 광확산 시트와 같은 요철영역을 가지고, 같은 광확산성을 갖는 것이었다. The obtained light-diffusion sheet had the same uneven region as the light-diffusion sheet of Example 20, and had the same light-diffusion property.

(실시예 24)(Example 24)

실시예 22와 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하고, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 후, 냉각·고착화시키고, 고착화한 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. In the same manner as in Example 22, a secondary process sheet having a thickness of 200 μm was obtained. The 50-micrometer-thick polymethyl methacrylate film was piled up on the surface in which the uneven | corrugated pattern of this secondary process sheet was formed, and it heated. After pressing the polymethyl methacrylate film and the secondary process sheet softened by heating on both sides, it cooled and fixed, and the polymethyl methacrylate film which solidified was peeled from the secondary process sheet, and obtained the light-diffusion sheet.

한 면에 요철영역이 혼재한 실시예 13∼24의 광학 시트에서는, 요철영역의 요철 패턴에 의해 광이 확산하기 때문에, 광확산성이 뛰어나다. 또, 상기 광학 시트에서는 요철영역이 길이방향의 타단측에서 조밀하게 배치되어 있기 때문에, 길이 방향의 타단측에서 광확산성이 높다. In the optical sheets of Examples 13 to 24 in which uneven areas are mixed on one surface, light diffuses due to the uneven patterns of the uneven areas, which is excellent in light diffusing property. Moreover, in the said optical sheet, since the uneven area | region is densely arrange | positioned at the other end side of a longitudinal direction, light diffusivity is high on the other end side of a longitudinal direction.

이하의 예에 있어서의 영율(Young's modulus)은 인장 시험기 (테스터 산업사制 TE-7001)을 이용하여, JIS K 7113-1995에 준거해서 측정한 값이다. 특히 온도를 기재하고 있지 않은 경우에는 23℃에 있어서의 영율(Young's modulus) 값이다. The Young's modulus in the following examples is the value measured based on JISK71113-1995 using the tensile tester (TE-7001 by the tester industry company). In particular, when temperature is not described, it is a Young's modulus value in 23 degreeC.

(실시예 25) (Example 25)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 스핀 코트법에 의해 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. Toluene on one side of polyethylene terephthalate shrinklink film (Hispett LX-60S, Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature of 70 ° C.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa heat shrinking in one direction. Polymethyl methacrylate (Polymer Source Co., Ltd. P4831-MMA, glass transition temperature 100 degreeC) diluted in the coating was apply | coated by the spin coat method so that thickness might be 12 nm, the hard layer was formed and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 80℃로 1분간 가열하여 가열 전의 길이의 40%로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 60%로 변형시킴으로써), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 80 ° C. for 1 minute and thermally contracted to 40% of its length before heating (ie, to be deformed at a strain rate of 60%), thereby causing periodic waves along the direction perpendicular to the direction of shrinkage of the hard layer. The uneven pattern forming sheet which has the uneven pattern of shape was obtained.

한편, 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름 및 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 80℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, Young's modulus at 80 ° C of the polyethylene terephthalate shrink film and the polymethyl methacrylate was 50 MPa and 1 GPa, respectively.

(실시예 26) (Example 26)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-61S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 물에 희석한 폴리비닐알콜(주식 회사 쿠라레 제PVA105, 유리 전이 온도 85℃)을 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one side of a polyethylene terephthalate shrinklink film (Hispett LX-61S, Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature of 70 ° C.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa that is thermally contracted in the uniaxial direction. The polyvinyl alcohol (PVA105 by Kuraray Co., Ltd., 85 degreeC of glass transition temperature) diluted in the coating was apply | coated so that thickness might be 12 nm, the hard layer was formed and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 75℃로 1분간 가열하여 가열 전의 길이의 50%로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 50%로 변형시킴으로써), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 75 ° C. for 1 minute and thermally contracted to 50% of its length before heating (ie, deformed at a strain rate of 50%), thereby causing periodic waves along the direction perpendicular to the shrinkage direction. The uneven pattern forming sheet which has the uneven pattern of shape was obtained.

한편, 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름 및 상기 폴리비닐알콜의 75℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각, 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, Young's modulus at 75 ° C. of the polyethylene terephthalate shrink film and the polyvinyl alcohol was 50 MPa and 1 GPa, respectively.

(실시예 27) (Example 27)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트LX-61S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 불소 수지(주식 회사티 앤드 케이制 나노스B)를 두께가 12㎛이 되도록 증착, 고착화함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. Fluoride on one side of a polyethylene terephthalate shrink link film (Hispett LX-61S, Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature of 70 ° C) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa thermally contracted in the uniaxial direction. The resin (Co., Ltd. and K. nanos B) was vapor-deposited and fixed so that thickness might be 12 micrometers, the hard layer was formed and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 75℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 50%으로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 50%로 변형시킴으로써), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 75 ° C. for 1 minute and thermally contracted to 50% of its length before heating (that is, deformed at 50% of strain), thereby causing periodic waves along the direction perpendicular to the shrinkage direction. The uneven pattern forming sheet which has the uneven pattern of shape was obtained.

(실시예 28)(Example 28)

영율(Young's modulus) 2MPa인 폴리디메틸실록산으로 이루어지는 두께 5mm의 시트를 인장 장치에 의해 2배의 길이가 될 때까지 인장하고, 그 상태로 고정했다. 그리고, 그 상태로, 상기 시트의 한 면에 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. A sheet having a thickness of 5 mm made of polydimethylsiloxane having a Young's modulus of 2 MPa was stretched by a tensioning device until it was twice as long and fixed in that state. In this state, a hard layer was formed by applying polymethyl methacrylate (Polymer Source Co., Ltd. P4831-MMA, glass transition temperature 100 ° C.) diluted in toluene on one side of the sheet to a thickness of 12 nm. A laminated sheet was obtained.

그 다음에, 인장을 멈추고, 그 적층 시트를 인장 전의 길이로 되돌아가게 함에 따라, 경질층을 변형율 50%로 압축하고, 경질층이 압축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, as the tension is stopped and the laminated sheet is returned to the length before tensioning, the hard layer is compressed at a strain rate of 50%, and the periodic wavy concave-convex pattern along the direction perpendicular to the compression direction is obtained. The uneven | corrugated pattern formation sheet which had a was obtained.

(실시예 29)(Example 29)

영율(Young's modulus) 2MPa의 폴리디메틸실록산으로 이루어진 두께 5mm의 시트의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one side of a sheet of 5 mm thick consisting of Young's modulus 2 MPa polydimethylsiloxane, polymethyl methacrylate (Polymer Source Co., Ltd. P4831-MMA, glass transition temperature 100 ° C) diluted in toluene was 12 nm thick. By apply | coating so that a hard layer was formed and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 인장 장치에 의해 적층 시트를 5배의 길이까지 인장함에 따라, 인장 방향의 법선방향의 길이를 50% 수축시키고 (즉, 변형율 50%로 변형시키고), 경질층이 인장 방향에 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, as the laminated sheet is stretched to a length of 5 times by the tensioning device, the normal length in the tensile direction is shrunk by 50% (ie, deformed at 50% strain), and the hard layer is stretched along the tensile direction. An uneven pattern forming sheet having a periodic wavy uneven pattern was obtained.

(비교예 10)(Comparative Example 10)

폴리메틸메타크릴레이트를 두께가 60nm이 되도록 도포한 것을 제외하고는 실시예 25과 같은 식으로 하여 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. The uneven patterned sheet was obtained in the same manner as in Example 25 except that the polymethyl methacrylate was applied so that the thickness was 60 nm.

(비교예 11)(Comparative Example 11)

쉬링크 필름 대신 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 5GPa인 2축 연장 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(테이진(帝人) 주식 회사제 G2)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 25과 같은 식으로 하여 요철 패턴 공정용 시트를 얻는 것을 시도했다. 그러나, 물결 형상의 요철 패턴이 형성되지 않았고, 요철 패턴 공정용 시트가 얻을 수 없었다. The uneven pattern process was carried out in the same manner as in Example 25 except that a biaxially-extended polyethylene terephthalate film (G2 manufactured by Teijin Co., Ltd.) having a thickness of 50 µm and a Young's modulus of 5 GPa instead of a shrink film was used. Tried to get a sheet for However, the wavy concave-convex pattern was not formed, and the sheet for the concave-convex pattern step could not be obtained.

(비교예 12) (Comparative Example 12)

일축방향으로 열수축하고 두께 50㎛이며 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 표면 평활 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. Polymethylmethol diluted in toluene on one side of a polyethylene terephthalate shrink link film (Hispett LX-10S, Mitsubishi Resin Co., Ltd.) with heat shrinkage in a uniaxial direction of 50 µm and a Young's modulus of 3 GPa. The surface smooth hard layer was formed by apply | coating acrylate (Polymer Source Co., Ltd. P4831-MMA, glass transition temperature 100 degreeC) so that thickness may be 12 nm, and obtained the laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 70℃에서 1분간 가열하고, 가열 전의 길이의 97%로 수축시켜(즉, 변형율 3%로 변형시켜), 요철 패턴 공정용 시트를 얻은 것을 제외하고는 실시예 25과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. The laminated sheet was then heated at 70 ° C. for 1 minute and shrunk to 97% of its length prior to heating (ie, deformed at a strain of 3%) to obtain a sheet for an uneven pattern process, except that Example 25 was obtained. In the same manner as in the above, an uneven pattern forming sheet was obtained.

(비교예 13) (Comparative Example 13)

일축방향으로 열수축하고 두께 50㎛이며 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 영율(Young's modulus)이 2MPa인 폴리디메틸실록산(신에츠 화학공업(信越化學工業) 주식 회사 KS847T, 유리 전이 온도-120℃)와 백금촉매(신에츠화학공업(信越化學工業) 주식 회사 PS-1)을 톨루엔에 희석한 분산 액을 스핀 코트법에 의해 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. Young's modulus on one side of a polyethylene terephthalate shrinklink film (Mitsubishi Resin Co., Ltd., Hishipet LX-10S, glass transition temperature of 70 ° C), heat shrinked in one direction, 50 µm thick and Young's modulus 3GPa Polydimethylsiloxane (Young's modulus) of 2 MPa (KS847T, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., glass transition temperature -120 ° C) and platinum catalyst (PS-1, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) The hardened layer was formed by apply | coating the dispersion liquid diluted in to so that thickness might be set to 12 nm by the spin coat method, and the laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 100℃로 1분간 가열하고, 열수축시키는 것에 의해, 요철 패턴 형성 시트를 얻으려고 했지만, 경질층이 사행 변형하지 않았고, 그 결과, 물결 형상의 요철 패턴은 형성되지 않았다. Subsequently, the laminated sheet was heated at 100 ° C. for 1 minute and thermally contracted to obtain an uneven pattern forming sheet, but the hard layer did not meander deformation, and as a result, no wavy uneven pattern was formed. .

(실시예 30)(Example 30)

실시예 25에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광학소자를 얻었다. Using the uneven pattern forming sheet obtained in Example 25 as a process sheet, an optical element was obtained in the following manner.

즉, 실시예 25에 의해 얻은 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합 개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포하였다. That is, the uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone type photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet obtained by Example 25 was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트와 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface of the uncoated ultraviolet curable resin composition which was not in contact with a process sheet, and was pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 경화시키고, 그 경화물을 공정 시트로부터 박리하여 광학소자를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured ultraviolet curable resin composition, and the cured product was peeled off from the process sheet to obtain an optical element.

(실시예 31)(Example 31)

즉, 실시예 25에 의해 얻은 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 니켈 도금을 실시하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛의 니켈 도금 시트를 얻었다. 이 니켈 도금 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포하였다. That is, nickel plating was performed to the surface in which the uneven | corrugated pattern of the process sheet obtained by Example 25 was formed, the nickel plating was peeled off, and the nickel plating sheet of 200 micrometers in thickness was obtained. The uncured ultraviolet curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and a benzophenone system photoinitiator was apply | coated to the surface in which the uneven | corrugated pattern of this nickel plating sheet was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 니켈 도금 시트와 접하지 않은 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Next, the 50-micrometer-thick triacetyl cellulose film was superposed | superposed on the surface of the uncoated ultraviolet curable resin composition which was not contacted with the nickel plating sheet, and was pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 경화시키고, 그 경화물을 니켈 도금 시트로부터 박리하여 광학소자를 얻었다. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the triacetyl cellulose film to cure the uncured ultraviolet curable resin composition, and the cured product was peeled off from the nickel plated sheet to obtain an optical element.

(실시예 32)(Example 32)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열경화성수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 31과 같은 식으로 해서 광학소자를 얻었다. An optical device was obtained in the same manner as in Example 31, except that a thermosetting epoxy resin was used instead of the UV curable resin composition, and the thermosetting resin was cured by heating instead of irradiating with UV.

(실시예 33)(Example 33)

실시예 11과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 니켈 도금 시트를 얻었다. 이 니켈 도금 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 니켈 도금 시트를 양측에서 가압한 뒤, 냉각·고착화시키고, 니켈 도금 시트로부터 박리하여 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. In the same manner as in Example 11, a nickel plated sheet having a thickness of 200 μm was obtained. The 50-micrometer-thick polymethyl methacrylate film was piled up on the surface in which the uneven | corrugated pattern of this nickel plating sheet was formed, and it heated. The polymethyl methacrylate film and the nickel plated sheet softened by heating were pressed from both sides, and then cooled and fixed, and peeled from the nickel plated sheet to obtain an uneven pattern forming sheet.

실시예 25∼33, 비교예 10∼13의 요철 패턴 형성 시트의 광학소자의 표면을 원자력 현미경(일본 비코사制 나노 스코프 III)에 의해 촬영했다. The surface of the optical element of the uneven | corrugated pattern formation sheet of Examples 25-33 and Comparative Examples 10-13 was image | photographed with the atomic force microscope (Nipco Corp. nanoscope III).

실시예 25∼33, 비교예 10∼13의 요철 패턴 형성 시트의 광학소자에서는 원자간력 현미경 화상에서 요철 패턴의 깊이를 10군데에서 측정하고, 그것들을 평균하여 평균 깊이를 구했다. In the optical elements of the uneven pattern-forming sheets of Examples 25 to 33 and Comparative Examples 10 to 13, the depth of the uneven pattern was measured at ten places in an atomic force microscope image, and the average depth was obtained by averaging them.

그것들의 값을 표 3에 나타낸다. Their values are shown in Table 3.

또, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치 및 바닥부의 평균 깊이로부터, 광학소자로서의 적성을 이하의 기준으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 3에 나타낸다. Moreover, the aptitude as an optical element was evaluated based on the following references | standards from the least pitch of an uneven | corrugated pattern, and the average depth of a bottom part. The evaluation results are shown in Table 3.

○: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서 광학소자로서 적합함. (Circle): It is suitable as an optical element because the closest pitch of an uneven | corrugated pattern is 1 micrometer or less, and the average depth is 10% or more when the closest pitch is 100%.

×: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘거나, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이어서 광학소자로서 적합하지 않음. X: The least pitch of an uneven | corrugated pattern exceeds 1 micrometer, or less than 10% when an average depth makes the least pitch 100%, and is not suitable as an optical element.

요철패턴의
피치(㎛)Uneven pattern
Pitch (μm) 요철패턴 최심부의
깊이(㎛)Uneven pattern deepest part
Depth (μm) 깊이/피치(%)Depth / Pitch (%) 평가evaluation 실시예 25Example 25 280280 250250 8989 OO 실시예 26Example 26 280280 230230 8282 OO 실시예 27Example 27 300300 250250 8282 OO 실시예 28Example 28 280280 230230 8282 OO 실시예 29Example 29 280280 230230 8282 OO 비교예 10Comparative Example 10 11001100 700700 6464 XX 비교예 11Comparative Example 11 요철패턴을 형성하지 않음Does not form uneven pattern XX 비교예 12Comparative Example 12 300300 2828 99 XX 비교예 13Comparative Example 13 요철패턴을 형성하지 않음Does not form uneven pattern XX 실시예 30Example 30 280280 250250 8989 OO 실시예 31Example 31 280280 250250 8989 OO 실시예 32Example 32 280280 250250 8989 OO 실시예 33Example 33 280280 250250 8989 OO

제1 수지제의 기판의 한 면에 제1 수지의 유리 전이 온도보다 10℃이상 높은 유리 전이 온도를 가지는 제2 수지로 이루어지는 경질층이 설치된 적층 시트를 사행 변형시킨 실시예 25∼29, 비교예 10, 12의 제조 방법에서, 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있었다. 또, 실시예 25∼29에서 얻은 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서 광학소자로서 알맞은 것이었다. 실시예 25∼29에서, 상기와 같은 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이를 얻을 수 있던 것은 표면 평활 경질층의 두께가 50nm 이하이고, 변형율을 50% 이상으로 했기 때문이다. Examples 25-29 and comparative examples which meanderedly deformed the laminated sheet provided with the hard layer which consists of 2nd resin which has a glass transition temperature 10 degreeC or more higher than the glass transition temperature of 1st resin on one surface of the board | substrate made of 1st resin. In the manufacturing methods of 10 and 12, the uneven | corrugated pattern formation sheet | seat could be manufactured easily. In addition, the uneven | corrugated pattern formation sheet obtained in Examples 25-29 is 10% when the least pitch of an uneven | corrugated pattern is 1 micrometer or less, and the average depth of a bottom part makes the said least pitch 100%. The above was suitable as an optical element. In Examples 25 to 29, the closest pitch and average depth as described above were obtained because the thickness of the surface smooth hard layer was 50 nm or less and the strain was 50% or more.

또, 실시예 25에서 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트로서 이용한 실시예 30∼33의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 간편하게 제조할 수 있었다. In addition, according to the manufacturing methods of Examples 30 to 33, wherein the uneven pattern forming sheet obtained in Example 25 was used as a process sheet, an optical element having a mode with an uneven pattern having the closest pitch and average depth equivalent to that of the uneven pattern forming sheet was obtained. It was easy to manufacture.

한편, 비교예 10에서는, 표면 평활 경질층 두께가 50nm을 넘기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘었다. 또, 비교예 12에서는, 변형율을 3%로 했기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이었다. 이것들은 반드시 광학소자로서 알맞은 것은 아니다. On the other hand, in the comparative example 10, since the surface smooth hard layer thickness exceeded 50 nm, the obtained pitch of the uneven | corrugated pattern formation sheet exceeded 1 micrometer. Moreover, in Comparative Example 12, since the strain rate was 3%, the obtained uneven | corrugated pattern formation sheet was less than 10% when the average depth of the bottom part of the uneven | corrugated pattern made the least pitch 100%. These are not necessarily suitable as optical elements.

이에 대하여, 수지층으로서 2축연장 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 이용한 비교예 11 및 제1 수지보다 제2 수지의 유리 전이 온도가 낮은 적층 시트를 이용한 비교예 13의 제조 방법에서는 표면 평활 경질층이 사행 변형하지 않았기 때문에, 요철 패턴이 형성되지 않았다. In contrast, in the manufacturing method of Comparative Example 11 using a biaxially extending polyethylene terephthalate film as the resin layer and Comparative Example 13 using a laminated sheet having a lower glass transition temperature of the second resin than the first resin, the surface smooth hard layer deformed meandering. Since it did not, the uneven | corrugated pattern was not formed.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 광확산체로서 이용할 수 있고, 간편하게 제조될 수 있는 것이다. 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 의하면, 광확산체로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트를 간편하게 제조할 수 있다. The uneven pattern forming sheet of this invention can be used as a light-diffusion body, and can be manufactured simply. According to the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention, the uneven | corrugated pattern formation sheet used as a light-diffusion body can be manufactured simply.

본 발명의 광확산체는, 확산의 이방성이 뛰어나다. 본 발명의 광확산체 제조용 공정 시트 및 광확산체의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 형성된 광확산체를 간편하면서 대량으로 제조할 수 있다. The light diffuser of the present invention is excellent in anisotropy of diffusion. According to the process sheet for producing a light diffusing body of the present invention and the method for producing the light diffusing body, a light diffusing body having an uneven pattern having the closest pitch and average depth equivalent to the uneven pattern forming sheet can be produced in a simple and large amount. have.

본 발명의 광학 시트는 광학특성에 뛰어날 뿐만 아니라 광학특성을 용이하게 불균일하게 할 수 있다.The optical sheet of the present invention can not only be excellent in optical characteristics but also make the optical characteristics easily non-uniform.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 적절히 이용될 수 있다. 또, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 사용되는 광학소자제조용 공정 시트로서도 적절히 이용될 수 있다. The uneven pattern forming sheet of the present invention can be suitably used as an optical element such as an antireflection member or a retardation plate. Moreover, the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention can be used suitably also as a process sheet for optical element manufacture used as a frame for manufacturing the optical element which has a wavy uneven | corrugated pattern.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art various modifications and changes of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below It will be appreciated that it can be changed.

Claims

The uneven | corrugated area | region which has unevenness | corrugation in the flat one side or both surfaces is disperse | distributed, The optical sheet characterized by the above-mentioned.

The method of claim 1,
And the uneven regions are non-uniformly arranged.

A light-diffusing sheet comprising the optical sheet according to claim 1.

The method of claim 3, wherein
The least pitch A of the unevenness in the uneven region is 1 µm or more and 20 µm or less, and the ratio A of the average depth B of the irregularities to the least pitch A is A. / B) is a light diffusion sheet, characterized in that 0.1 to 3.0.

5. The method of claim 4,
Wherein the uneven regions are dispersed in a dot shape.

In a diffused light guide made of a transparent resin layer in which a meandering wave-like concavo-convex pattern is formed on one side,
(B / A) of the average depth (B) of the concavities and convexities of the concavo-convex pattern to the most frequent pitch (A), wherein the minimum pitch of the concave- Is 0.1 to 3.0.

The diffusion light guide according to claim 6;
A reflection plate disposed opposite to a surface of the diffusion light conductor opposite to the surface on which the concave-convex pattern is formed; And
And a light source disposed between the diffusion light guide and the reflection plate.

The diffusion light guide according to claim 6;
A reflection plate disposed opposite to a surface of the diffusion light conductor opposite to the surface on which the concave-convex pattern is formed; And
And a light source disposed adjacent to one side of the diffusion light-guiding members.